JPS5827986Y2 - エアロゾル噴霧器 - Google Patents
エアロゾル噴霧器Info
- Publication number
- JPS5827986Y2 JPS5827986Y2 JP1977063173U JP6317377U JPS5827986Y2 JP S5827986 Y2 JPS5827986 Y2 JP S5827986Y2 JP 1977063173 U JP1977063173 U JP 1977063173U JP 6317377 U JP6317377 U JP 6317377U JP S5827986 Y2 JPS5827986 Y2 JP S5827986Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- valve chamber
- control chamber
- chamber
- pressurizing gas
- pressure
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Lift Valve (AREA)
- Nozzles (AREA)
- Containers And Packaging Bodies Having A Special Means To Remove Contents (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本案は有効液を加圧用ガスと一緒に噴霧するにあたり、
一定の時間、または量づつの間欠的な噴霧を行わせるよ
うにしたエアロゾル噴霧器に関するものである。
一定の時間、または量づつの間欠的な噴霧を行わせるよ
うにしたエアロゾル噴霧器に関するものである。
周知のように、エアロゾル噴霧器は耐圧容器内に有効液
と加圧用ガスとを充填しその頂部のトップ・ボタンを押
すことによってステム内の通路を弁室に連通させ、耐圧
容器の底部からディップ・チューブ、弁室、ステムを経
てトップボタンの噴口から噴霧させるもので、トップ、
ボタンを押している限り原則として噴霧が継続し、また
トップ・ボタンを繰返し押すことによりほぼ連続的に噴
霧できる構造となっている。
と加圧用ガスとを充填しその頂部のトップ・ボタンを押
すことによってステム内の通路を弁室に連通させ、耐圧
容器の底部からディップ・チューブ、弁室、ステムを経
てトップボタンの噴口から噴霧させるもので、トップ、
ボタンを押している限り原則として噴霧が継続し、また
トップ・ボタンを繰返し押すことによりほぼ連続的に噴
霧できる構造となっている。
このため加圧用ガスがアルコール、Ｌ、Ｐ、Ｇのような
可撚性のときは大量に噴霧するときわめて危険である。
可撚性のときは大量に噴霧するときわめて危険である。
また、使用場所によって噴霧器を倒立して噴霧させると
ディップ・チューブの先端が加圧用ガス中に露出して加
圧用ガスのみが噴出させられることがあり、圧縮ガスを
使用しているときはこれが浪費されて以後の噴霧に支障
を来すという欠点があった。
ディップ・チューブの先端が加圧用ガス中に露出して加
圧用ガスのみが噴出させられることがあり、圧縮ガスを
使用しているときはこれが浪費されて以後の噴霧に支障
を来すという欠点があった。
本案はディップ・チューブと弁室との間に遊動部材を内
蔵させた制御室を設は且つ弁室と制御室とを絞り通路で
接続したことにより前述の諸欠点を除去し安全な噴霧が
行えるようにしたものである。
蔵させた制御室を設は且つ弁室と制御室とを絞り通路で
接続したことにより前述の諸欠点を除去し安全な噴霧が
行えるようにしたものである。
以下本案の実施例を図面に就いて説明すると、１は耐圧
容器の頂端のマウンテン・キャップ、２および３はその
内側に重ねてかしめ固着したステム・ラバーおよびハウ
ジング、４はステム、５はステム４の上端部に装着した
トップ・ボタン、６はハウジング３の上部に形成されて
いる弁室、７は弁室６に内蔵したステム押上げ用のばね
、８はディップ・チューブを示している。
容器の頂端のマウンテン・キャップ、２および３はその
内側に重ねてかしめ固着したステム・ラバーおよびハウ
ジング、４はステム、５はステム４の上端部に装着した
トップ・ボタン、６はハウジング３の上部に形成されて
いる弁室、７は弁室６に内蔵したステム押上げ用のばね
、８はディップ・チューブを示している。
ハウジング３の弁室６の下方には中心部に通孔９を有す
る係止段部１０を経て制御室１１が形成されその下端部
にテ゛イツプ・チューブ８が接続されている。
る係止段部１０を経て制御室１１が形成されその下端部
にテ゛イツプ・チューブ８が接続されている。
制御室１１には外側周面円錐形の頭部１２ ａと円筒形
の裾部１２ ｂとからなり適当数の導孔１２Ｃ・・・・
・・を頭部１２ａと裾部１２ ｂとに設けた遊動部材１
２が緩く内蔵され、係止段部１０の下面は頭部１２ ａ
を密着させる円錐形の傾斜面１０ ａに形成されている
。
の裾部１２ ｂとからなり適当数の導孔１２Ｃ・・・・
・・を頭部１２ａと裾部１２ ｂとに設けた遊動部材１
２が緩く内蔵され、係止段部１０の下面は頭部１２ ａ
を密着させる円錐形の傾斜面１０ ａに形成されている
。
また、制御室１１の中間部と弁室６とは紋り通路１３に
よって連通し、その弁室６への開口端にフィルタ１４を
設けたものである。
よって連通し、その弁室６への開口端にフィルタ１４を
設けたものである。
このように構成した本実施例は不使用時には遊動部材１
２が制御室１１の底に沈降していて耐圧容器内の有効液
と加圧用ガスとはディップ・チューブ８、導孔１２ Ｃ
を通ってハウジング３の内部の弁室６と制御室１１とに
充満している。
２が制御室１１の底に沈降していて耐圧容器内の有効液
と加圧用ガスとはディップ・チューブ８、導孔１２ Ｃ
を通ってハウジング３の内部の弁室６と制御室１１とに
充満している。
トップ・ボタン５を、ばね７の力に抗して押下げるとス
テム・ラバー２によって閉塞されているステム４の通路
４ａが弁室６と連通させられ、有効液と加圧用ガスとは
通路４ａよりトップ・ボタン５の噴口５ａへ達して噴霧
される。
テム・ラバー２によって閉塞されているステム４の通路
４ａが弁室６と連通させられ、有効液と加圧用ガスとは
通路４ａよりトップ・ボタン５の噴口５ａへ達して噴霧
される。
このため弁室６と制御室１１の圧力が低下するのでディ
ップ・チューブ８を通って遊動部材１２の下面に作用す
る耐圧容器内の圧力により遊動部材１２が上昇してその
頭部１２ ａが係止段部１０に密着し、弁室６の圧力が
ほぼ大気圧に低下したとき噴霧が停止するに至る。
ップ・チューブ８を通って遊動部材１２の下面に作用す
る耐圧容器内の圧力により遊動部材１２が上昇してその
頭部１２ ａが係止段部１０に密着し、弁室６の圧力が
ほぼ大気圧に低下したとき噴霧が停止するに至る。
この間において紋り通路１３を通って弁室６に加圧用ガ
スが導入されるが少量であるので大気に開放された弁室
６の圧力を回復させるには至らず、且つ噴口５ａからは
ごく少量づつしか噴霧されないため実質的に噴霧が終っ
たことを認識できる。
スが導入されるが少量であるので大気に開放された弁室
６の圧力を回復させるには至らず、且つ噴口５ａからは
ごく少量づつしか噴霧されないため実質的に噴霧が終っ
たことを認識できる。
このときトップ・ボタン５を釈放すると通路４ａが閉塞
されるので絞り通路１３を通って供給される加圧用ガス
により弁室６の圧力が次第に回復し、制御室１１の圧力
とほは゛平衡するに至ったとき遊動部材１２は自重で落
下して制御室１１の底に置かれ、その導孔１２ Ｃを通
って更に有効液と加圧用ガスが制御室１１と弁室６に補
給され次の噴霧が可能な状態となる。
されるので絞り通路１３を通って供給される加圧用ガス
により弁室６の圧力が次第に回復し、制御室１１の圧力
とほは゛平衡するに至ったとき遊動部材１２は自重で落
下して制御室１１の底に置かれ、その導孔１２ Ｃを通
って更に有効液と加圧用ガスが制御室１１と弁室６に補
給され次の噴霧が可能な状態となる。
倒立させて噴霧させるときは遊動部材１２が係止段部１
０に密着するので弁室６の有効液と加圧用ガスのみが噴
霧されることとなり、制御室１１は耐圧容器内と平衡し
ているので加圧用ガスのみが制御室１１へ送られ更に噴
霧されるという不都合がない。
０に密着するので弁室６の有効液と加圧用ガスのみが噴
霧されることとなり、制御室１１は耐圧容器内と平衡し
ているので加圧用ガスのみが制御室１１へ送られ更に噴
霧されるという不都合がない。
尚、絞り通路１３はハウジング４の外部に設ける代りに
遊動部材１２に形威し或いはこの導孔１２ Ｃの一部で
代用してもよいことは勿論であり、更に遊動部材１２を
軽比重材料で作るときは導孔は不要である。
遊動部材１２に形威し或いはこの導孔１２ Ｃの一部で
代用してもよいことは勿論であり、更に遊動部材１２を
軽比重材料で作るときは導孔は不要である。
また、フィルタ１４は制御室１１から絞り通路１３を通
って加圧用ガスのみを弁室６に導入させるため設けたが
、使用しなくても機能上差支えない。
って加圧用ガスのみを弁室６に導入させるため設けたが
、使用しなくても機能上差支えない。
以上のように本案はディップ・チューブと弁室とを直結
することなくその間に制御室を設けて弁室と連通或いは
遮断する遊動部材を内蔵させると共にこの弁室と制御室
とを絞り通路にて連通したものであるから、トップ・ボ
タンを押して噴霧を行い弁室と制御室の圧力が低下した
ときに遊動部材がその前後の圧力差によって移動し弁室
と制御室とを遮断するに至り、従ってテ゛イツプ・チュ
ーブと弁室とは遮断されて有効液と加圧用ガスとは予め
弁室と制御室とに充満した量だけが噴霧されることとな
り、トップ・ボタンを押しつづけてもほぼ一定の時間ま
たは量の噴霧が行われるのであって、遊動部材は圧力差
で移動するのでトップボタンを従来と全く同じ力で押し
て噴霧できるのである。
することなくその間に制御室を設けて弁室と連通或いは
遮断する遊動部材を内蔵させると共にこの弁室と制御室
とを絞り通路にて連通したものであるから、トップ・ボ
タンを押して噴霧を行い弁室と制御室の圧力が低下した
ときに遊動部材がその前後の圧力差によって移動し弁室
と制御室とを遮断するに至り、従ってテ゛イツプ・チュ
ーブと弁室とは遮断されて有効液と加圧用ガスとは予め
弁室と制御室とに充満した量だけが噴霧されることとな
り、トップ・ボタンを押しつづけてもほぼ一定の時間ま
たは量の噴霧が行われるのであって、遊動部材は圧力差
で移動するのでトップボタンを従来と全く同じ力で押し
て噴霧できるのである。
また、絞り通路は加圧用ガスを少量ずつしか弁室へ導入
させないので、トップ・ボタンを押しつづけても加圧用
ガスは噴口からごとく少量ずつしか噴霧されず危険でな
いばかりか、実質的な噴霧が終ったことを容易に認識さ
せることができ、且つトップ・ボタンを釈放したときは
この絞り通路を通る加圧用ガスによって弁室の圧力を徐
々に回復させるものであり、従ってこれにより実質的な
連続噴霧が不可能となり且つ成る時間を経過したときに
次の噴霧を可能ならしめるのである。
させないので、トップ・ボタンを押しつづけても加圧用
ガスは噴口からごとく少量ずつしか噴霧されず危険でな
いばかりか、実質的な噴霧が終ったことを容易に認識さ
せることができ、且つトップ・ボタンを釈放したときは
この絞り通路を通る加圧用ガスによって弁室の圧力を徐
々に回復させるものであり、従ってこれにより実質的な
連続噴霧が不可能となり且つ成る時間を経過したときに
次の噴霧を可能ならしめるのである。
そして、有効液と加圧用ガスとの混合物の比重に応じて
遊動部材の材質９寸法、形状を定めると共に絞り通路の
有効径を定めることにより噴霧の間隔を任意に設定でき
、且つ弁室と制御室の容積によって一回当りの噴霧量を
任意に設定できるもので、可燃性の加圧用ガスまたは有
毒の有効液を連続的に大量に集中噴霧させることなく少
量づつ不連続に噴霧してその危険性を軽減できるのであ
る。
遊動部材の材質９寸法、形状を定めると共に絞り通路の
有効径を定めることにより噴霧の間隔を任意に設定でき
、且つ弁室と制御室の容積によって一回当りの噴霧量を
任意に設定できるもので、可燃性の加圧用ガスまたは有
毒の有効液を連続的に大量に集中噴霧させることなく少
量づつ不連続に噴霧してその危険性を軽減できるのであ
る。
更に本案によると、倒立して噴霧する場合、倒立させた
とき遊動部材が速かに弁室側に移動するため制御室が耐
圧容器内と圧力的に平衡して居り、従ってテ゛イツプ・
チューブ先端が加圧用ガス中に露出しても加圧用ガスが
制御室へ送られ更に噴霧されるということがなく、この
ため加圧用ガスとして圧縮ガスを使用してもこれが浪費
されて以後の噴霧に支障を来すことがない等のすぐれた
効果を有するものである。
とき遊動部材が速かに弁室側に移動するため制御室が耐
圧容器内と圧力的に平衡して居り、従ってテ゛イツプ・
チューブ先端が加圧用ガス中に露出しても加圧用ガスが
制御室へ送られ更に噴霧されるということがなく、この
ため加圧用ガスとして圧縮ガスを使用してもこれが浪費
されて以後の噴霧に支障を来すことがない等のすぐれた
効果を有するものである。
図面は本案の実施例を示す縦断面図である。
１・・・・・・マウンテン・キャップ、３・・・・・・
ハウジング、４・・・・・・ステム、４ａ・・・・・・
通路、５・・・・・・トップ・ボタン、６・・・・・・
弁室、８・・・・・・ディップ・チューブ、１０・・・
・・・係止段部、１１・・・・・・制御室、１２・・・
・・・遊動部材、１３・・・・・・絞り通路。
ハウジング、４・・・・・・ステム、４ａ・・・・・・
通路、５・・・・・・トップ・ボタン、６・・・・・・
弁室、８・・・・・・ディップ・チューブ、１０・・・
・・・係止段部、１１・・・・・・制御室、１２・・・
・・・遊動部材、１３・・・・・・絞り通路。
Claims (1)
- ステム４の通路４ａとステム４が押下げられたとき連通
する弁室６の下方に係止段部１０を経て制御室１１を設
けると共に、この制御室１１の下端部にテ゛イツプ・チ
ューブ８を接続し、噴霧時に上下の差圧で上方へ移動し
係止段部１０に接して弁室６と制御室１１とを遮断する
遊動部材１２を制御室１１に内蔵させ、更に弁室６と制
御室１１とを絞り通路１３にて連通したエアロゾル噴霧
器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1977063173U JPS5827986Y2 (ja) | 1977-05-17 | 1977-05-17 | エアロゾル噴霧器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1977063173U JPS5827986Y2 (ja) | 1977-05-17 | 1977-05-17 | エアロゾル噴霧器 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS53157423U JPS53157423U (ja) | 1978-12-09 |
| JPS5827986Y2 true JPS5827986Y2 (ja) | 1983-06-17 |
Family
ID=28966118
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1977063173U Expired JPS5827986Y2 (ja) | 1977-05-17 | 1977-05-17 | エアロゾル噴霧器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5827986Y2 (ja) |
-
1977
- 1977-05-17 JP JP1977063173U patent/JPS5827986Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS53157423U (ja) | 1978-12-09 |
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