JPS5819774U - 液処理装置 - Google Patents

液処理装置

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Publication number
JPS5819774U
JPS5819774U JP11283081U JP11283081U JPS5819774U JP S5819774 U JPS5819774 U JP S5819774U JP 11283081 U JP11283081 U JP 11283081U JP 11283081 U JP11283081 U JP 11283081U JP S5819774 U JPS5819774 U JP S5819774U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
movable body
plate portion
chamber
liquid processing
processing equipment
Prior art date
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Pending
Application number
JP11283081U
Other languages
English (en)
Inventor
毛利 幹生
秋草 誠
Original Assignee
日本電気ホームエレクトロニクス株式会社
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Publication date
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Priority to JP11283081U priority Critical patent/JPS5819774U/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第1図はこの考案の一実施例の半導体製造装置の斜視図
、第2図および第3図はこの考案の半導体製造装置の使
用要領および動作を説明する異なる姿勢の断面図である
。 1・・・・・・半導体製造装置、2・・・・・・可動体
、3・・・・・・支持体、4・・・・・・天板部、5.
6・・・・・・側板部、7・・・・・・仕切板部、8・
・・・・・第1室、9・・・・・・第2室、10・・・
・・・軸、12・・・・・・底板部、13.14・・・
・・・側板部、15・・・・・・溝部、16・・・・・
・気体供給部(管)、17・・・・・・キャリヤ、18
.20・・・・・・泡、19・・・・・・気体。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 被処理物を支持する可動体と、この可動体を揺動自在に
    軸支する支持体とを有し、前記可動体が天板部と、両側
    板部と、天板部の下面中央部から延びる仕切板部と、前
    記仕切板部によって区画された第1室および第2室とを
    備え、前記支持体が前記可動体の揺動動作に応じて前記
    第1室または第2室に交互に気体を供給する気体供給部
    を備えている液処理装置。
JP11283081U 1981-07-27 1981-07-27 液処理装置 Pending JPS5819774U (ja)

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JP11283081U JPS5819774U (ja) 1981-07-27 1981-07-27 液処理装置

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JP11283081U JPS5819774U (ja) 1981-07-27 1981-07-27 液処理装置

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JPS5819774U true JPS5819774U (ja) 1983-02-07

Family

ID=29907144

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