JPS58184249A - Dynodes for secondary-electron multiplier - Google Patents
Dynodes for secondary-electron multiplierInfo
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- JPS58184249A JPS58184249A JP5985382A JP5985382A JPS58184249A JP S58184249 A JPS58184249 A JP S58184249A JP 5985382 A JP5985382 A JP 5985382A JP 5985382 A JP5985382 A JP 5985382A JP S58184249 A JPS58184249 A JP S58184249A
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- H01J43/04—Electron multipliers
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- H01J43/22—Dynodes consisting of electron-permeable material, e.g. foil, grid, tube, venetian blind
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- Common Detailed Techniques For Electron Tubes Or Discharge Tubes (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は二次電子増倍管のダイノード、さらに詳しく言
えば、ダイノードを構成する薄板の配列rl)
に改良を施した二次電子増倍管のダイノードに関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a dynode of a secondary electron multiplier tube, and more specifically, to a dynode of a secondary electron multiplier tube in which the arrangement of thin plates constituting the dynode is improved.
以下この明細書において、ダイノードを構成する薄板と
は、すくなくとも−面が二次電子放出能力を有する単一
の薄板を指称し、この薄板複数枚によりダイノードの基
本単位が形成されるというように用いる。また二次電子
増倍管の管の主軸に直交するように配列された1以上の
ダイノードにより当該二次電子増倍管の二次電子増倍器
が形成されるというように使用することにする。Hereinafter, in this specification, the term "thin plate constituting a dynode" refers to a single thin plate whose at least one side has the ability to emit secondary electrons, and the basic unit of the dynode is formed by a plurality of these thin plates. . In addition, the secondary electron multiplier of the secondary electron multiplier is formed by one or more dynodes arranged perpendicularly to the main axis of the tube of the secondary electron multiplier. .
二次電子増倍管は、一般的に真空の管状の容器に、第1
に電子源、続いて一連のダイノードよりなる二次電子増
倍管、最後に電子捕集電極(コレクタ)を含んでいる。A secondary electron multiplier tube is generally placed in a vacuum tubular container.
It contains an electron source, followed by a secondary electron multiplier consisting of a series of dynodes, and finally an electron collecting electrode (collector).
これ等の電極は管の主軸に沿って略前記順序で配置され
ている。この二次電子増倍管の動作時には前記主軸に沿
って電子を加速する電場を発生するためこれらの電極に
適当な電圧がかけられる。このとき電子源から放出され
た電子は管軸に沿った順に各ダイオードに衝突しその都
度増倍されてコレクタで捕集される。These electrodes are arranged along the main axis of the tube in substantially the order described above. During operation of the secondary electron multiplier, appropriate voltages are applied to these electrodes in order to generate an electric field that accelerates electrons along the principal axis. At this time, the electrons emitted from the electron source collide with each diode in order along the tube axis, are multiplied each time, and collected by the collector.
(2)
二次電子放出として、バネシャン形と呼ばれるものが知
られている。バネシャン形の二次電子放出電極の各ダイ
ノードは矩形の薄板から構成され、それらの長辺は管の
主軸に直角であり、短辺は同じ軸に対して傾斜させられ
ている。そして連続する2つのダイノードは管軸に対し
て反対の方向に傾斜するように配置されている。通常は
各ダイノードの電子が入射する側に、当該ダイノードと
同じ電位が与えられている網状電極が設けられている。(2) A type of secondary electron emission known as the Vanesian type is known. Each dynode of the spring-shaped secondary electron emitting electrode consists of a rectangular thin plate, the long sides of which are perpendicular to the main axis of the tube and the short sides inclined to the same axis. Two consecutive dynodes are arranged so as to be inclined in opposite directions with respect to the tube axis. Usually, a mesh electrode is provided on the side of each dynode on which electrons are incident, to which the same potential as that of the dynode is applied.
以下まず従来のバネシャン形二次電子増倍器について例
を挙げて説明する。Hereinafter, a conventional springsian type secondary electron multiplier will be explained by giving an example.
第1図は従来のバネシャン形のダイノードの断面の一部
を拡大して示した図である。図において、11.12は
相対的に前段にあるダイノードを形成する薄板である紙
面にはその薄板の短辺の断面が示されている。各薄板は
二次電子増倍管の主軸に対して45度傾斜させられてい
る。また図において21.22は相対的に後苧にあるダ
イノードを形成する薄板である。このダイノードの薄板
21.22は前記前段のダイノードの薄板11,12と
は反対方向に45度傾斜させられている。なお各薄板は
同一形状であって薄板の短辺の長さは3.5mmである
。従来のバネシャン形のダイノードにおいては前記ダイ
ノードを形成する薄板の二次電子増倍管の主軸に直交す
る方向のピッチdとダイノードの前記二次電子増倍管の
主軸方向の厚さt (前記例ではt=3.5xO,7=
2.45)との比d/lは略1であった。FIG. 1 is an enlarged view of a part of a cross section of a conventional spring-shaped dynode. In the figure, reference numerals 11 and 12 are thin plates forming a dynode located at a relatively earlier stage.A cross section of the short side of the thin plate is shown in the paper. Each thin plate is inclined at 45 degrees to the main axis of the secondary electron multiplier. Further, in the figure, reference numerals 21 and 22 indicate thin plates forming a dynode located relatively at the rear. The thin plates 21, 22 of this dynode are inclined at 45 degrees in the opposite direction to the thin plates 11, 12 of the preceding dynode. Note that each thin plate has the same shape, and the length of the short side of the thin plate is 3.5 mm. In a conventional spring shan type dynode, the pitch d in the direction perpendicular to the main axis of the thin plate secondary electron multiplier tube forming the dynode and the thickness t of the dynode in the direction of the main axis of the secondary electron multiplier tube (the example above) Then t=3.5xO, 7=
2.45) was approximately 1.
前段のダイノード1と後段のダイノード2との間には1
00ボルトの電圧がかけられており、この電圧により電
子に二次電子を放出するための衝突エネルギーが与えら
れる。1 between the front stage dynode 1 and the rear stage dynode 2
A voltage of 0.00 volts is applied, and this voltage gives the electrons collision energy to emit secondary electrons.
前記のようなダイノードに二次電子増倍管の主軸に平行
に電子が入射するとすればd/l−1で隙間がないので
、総ての電子はいずれかの薄板に必ず衝突する。このよ
うなダイノードの形状を光学的に不透明または単に不透
明ということにする。If electrons are incident on the above-mentioned dynode parallel to the main axis of the secondary electron multiplier tube, there is no gap at d/l-1, so all the electrons will definitely collide with one of the thin plates. The shape of such a dynode is referred to as optically opaque or simply opaque.
しかし、従来のベネシ′1キン形のダイノードでは、そ
のダイノードから放出された二次電子が次段へ(3)
到達して衝突する率は次の理由によって極めて低い。す
なわち前段のダイノードに近い部分から放出した電子は
、前段ダイノードによる電界によって第1図矢印al
a’lに示すように再び当該ダイノードに戻される。ダ
イノード−板の中央部附近で放出した電子の一部は極め
て弱い電界のため第1図b1 b2に示すように同一ダ
イノードの隣接する薄板に衝ヌする。これらの電子のも
つエネルギは実質的に低くて二次電子を放出しない。However, in the conventional Beneshkin-type dynode, the rate at which the secondary electrons emitted from the dynode reach the next stage and collide with each other is extremely low for the following reason. In other words, the electrons emitted from the part close to the previous stage dynode are moved by the electric field caused by the previous stage dynode in the direction indicated by the arrow al in Fig. 1.
It is returned to the dynode as shown in a'l. Because of the extremely weak electric field, some of the electrons emitted near the center of the dynode plate impinge on adjacent thin plates of the same dynode, as shown in FIGS. 1b and 1b. These electrons have substantially low energy and do not emit secondary electrons.
本発明の目的は薄板表面で発生した二次電子を次段のダ
イノードに効率良く到達させることができる二次電子増
倍管のダイノードを提供することにある。An object of the present invention is to provide a dynode for a secondary electron multiplier tube that can efficiently cause secondary electrons generated on the surface of a thin plate to reach the next stage dynode.
前記目的を達成するために本発明による二次電子増倍管
のダイノードは、二次電子増倍管の主軸に直交して配置
され、前記二次電子増倍管の二次電子増倍器を形成す名
二次電子倍増管のダイノードにおいて、前記ダイノード
を形成するために前記主軸に対して傾けて配置される複
数枚の薄板間の前記主軸に直交する方向のピッチをdと
し、前(5)
(4)
記ダイノードの主軸方向の厚さをtとするときそれ等の
間に1.5≦d/l≦1.75の関係が成立するように
構成されている。To achieve the above object, the dynode of the secondary electron multiplier according to the present invention is arranged perpendicularly to the main axis of the secondary electron multiplier, and the dynode of the secondary electron multiplier of the secondary electron multiplier is In the dynode of a secondary electron multiplier tube, d is the pitch in the direction perpendicular to the main axis between a plurality of thin plates arranged at an angle with respect to the main axis to form the dynode, and the front (5 ) (4) When the thickness of the dynode in the main axis direction is t, the dynode is configured such that the relationship of 1.5≦d/l≦1.75 holds between them.
前記構成によればダイノードで発生した二次電子の次段
ダイノードの移送効率を向上させることができ、本発明
の目的は完全に達成できる。According to the above structure, it is possible to improve the transfer efficiency of the secondary electrons generated in the dynode to the next stage dynode, and the object of the present invention can be completely achieved.
以下図面等を参照して本発明による二次電子増倍管のダ
イノードをさらに詳しく説明する。The dynode of the secondary electron multiplier according to the present invention will be explained in more detail below with reference to the drawings and the like.
第2図は本発明によるバネシャン形ダイノードの断面の
一部を拡大して示した図である。すくなくとも電子が入
射する面が二次電子放出能力を持つ薄板31および32
はn段目のダイノード3の一部を構成する薄板である。FIG. 2 is an enlarged view of a part of the cross section of a spring shan-type dynode according to the present invention. Thin plates 31 and 32 at least on which the electrons are incident have the ability to emit secondary electrons.
is a thin plate that constitutes a part of the n-th stage dynode 3.
同様に薄板4142はn+1段目のダイノード4を構成
する薄板である。Similarly, the thin plate 4142 is a thin plate that constitutes the n+1-th stage dynode 4.
本発明によるバネシャン形ダイノードは、ダイノードを
構成する薄板の管の主軸に平行な面におけるピッチdと
薄板の管軸方向の距@1との地を1゜5〜1.75の範
囲に選んである。In the spring shan-type dynode according to the present invention, the pitch d of the thin plates constituting the dynode in a plane parallel to the main axis of the tube and the distance @1 in the tube axis direction of the thin plates are selected in the range of 1°5 to 1.75. be.
このようなダイノードは入射する電子から見て、(6)
一部に幾何光学的に透明な部分が生じる。すなわち当該
ダイノードを形成する薄板に接することなく通過して、
より後段のダイノードに直接衝突し得るように見える。When viewed from the incident electrons, such a dynode (6) has a geometrically optically transparent part. In other words, it passes through the thin plate forming the dynode without touching it,
It appears that it may directly collide with a later stage dynode.
しかし、このことは以下の理由から問題にならない。前
段から放出された電子はある程度の集束性をもって抜け
にくいように当該段のダイノードに入射する。However, this is not a problem for the following reasons. Electrons emitted from the previous stage enter the dynode of the relevant stage with a certain degree of convergence so that they are difficult to escape.
前段からの二次電子は前段のダイノードの薄板と同じピ
ッチをもつ分布で当該段に入射すること、および連続す
る2つのダイノードの薄板の傾斜が管軸に対して反対の
方向に傾斜していることから次の対策を採用できる。The secondary electrons from the previous stage enter the stage with a distribution having the same pitch as the thin plates of the previous stage dynode, and the slopes of the thin plates of two consecutive dynodes are tilted in opposite directions with respect to the tube axis. Therefore, the following measures can be taken.
すなわち前段のダイノードの薄板の直下から薄板の配列
の方向へ適当な距離だけずらすことによって当該段に入
射する電子の大部分がダイノードの薄板に衝突するよう
にすることができる。That is, by shifting the dynode by an appropriate distance from directly below the thin plate of the dynode in the preceding stage in the direction of the arrangement of the thin plates, most of the electrons incident on that stage can be made to collide with the thin plate of the dynode.
また、本発明によるダイノードは、放出した電子が前段
ダイノードの電界によって当該ダイノードに戻されるよ
うな電子を放出す本部分および隣接する薄板に衝突する
ような電子を放出する部分が小さいか、若しくは存在し
ない。In addition, the dynode according to the present invention has a main part that emits electrons such that the emitted electrons are returned to the dynode by the electric field of the preceding dynode, and a part that emits electrons that collides with the adjacent thin plate. do not.
この理由を図面を参照して定性的に説明する。The reason for this will be explained qualitatively with reference to the drawings.
第3図Aは従来のバネシャン形ダイノードの断面の一部
を拡大した電極および電界を示す説明図である。網状電
極10は、ダイノード1すなわちダイノード1の薄板1
1.12と同電位である。FIG. 3A is an explanatory diagram showing an electrode and an electric field, which is a partially enlarged cross-section of a conventional spring shan type dynode. The mesh electrode 10 is connected to the dynode 1, that is, the thin plate 1 of the dynode 1.
It has the same potential as 1.12.
網状電極20は次段ダイノード(図示してない)と同電
位すなわちダイノード1より100ボルト高い、薄板1
1と12の間隔が狭いので網状電極20による電界は上
記間隔へ入り込めない。他方、前段ダイノード(図示し
てない)による電界が網状電極10の間隙を通してダイ
ノードの薄板12の前段ダイノードに近い部分の表面付
近13に放出電子を押し戻すような電界を作る。The mesh electrode 20 is connected to the thin plate 1 at the same potential as the next dynode (not shown), i.e. 100 volts higher than the dynode 1.
Since the interval between 1 and 12 is narrow, the electric field generated by the mesh electrode 20 cannot penetrate into the interval. On the other hand, the electric field generated by the front dynode (not shown) creates an electric field that pushes the emitted electrons back through the gap between the mesh electrodes 10 to the surface area 13 of the thin plate 12 of the dynode near the front dynode.
この電界は極めて弱いが放出電子の初速エネルギも極め
て小さいので押し戻される可能性が生じる。Although this electric field is extremely weak, the initial velocity energy of the emitted electrons is also extremely small, so there is a possibility that they will be pushed back.
ダイノード薄板12の中央部附近は前段ダイノードおよ
び後段ダイノードによる電界の影響がない。The vicinity of the center of the thin dynode plate 12 is not affected by the electric field caused by the front-stage dynode and the rear-stage dynode.
また放出電子の初速度の主な成分はダイノード12の表
面に垂直であるから、ここから放出した電(iン
子は隣接するダイノード11へ衝突する可能性が大きい
。Furthermore, since the main component of the initial velocity of the emitted electrons is perpendicular to the surface of the dynode 12, there is a high possibility that the electrons emitted from this will collide with the adjacent dynode 11.
第3図はB本発明によるバネシャン形ダイノードの断面
の一部を拡大した電極および電界を示す図である。網状
電極30はダイノード3の薄板31゜32と同電位であ
る。網状電極4oはダイノード3より100ボルト高い
薄板31と32の間隙は広いので網状電極40による電
界が薄板31と32の間隙に入り込む。このため薄板3
2の中央部附近から放出した二次電子は矢印dのような
軌道を通って次段ダイノード(図示してない)へ入射す
る。さらに網状電極40による電界によって薄板32の
前段ダイノード(図示してない)に近い部分の表面付近
にまで影響して前段ダイノード(図示してない)による
電界が網状電極20を通してダイノードの薄板の前段ダ
イノードに近い部分の表面に二次電子を押し戻すような
電界をつくることができない。FIG. 3 is a partially enlarged view of the electrode and electric field of the spring shan-type dynode according to the present invention. The mesh electrode 30 is at the same potential as the thin plates 31, 32 of the dynode 3. Since the gap between the thin plates 31 and 32 of the mesh electrode 4o, which is 100 volts higher than the dynode 3, is wide, the electric field generated by the mesh electrode 40 enters the gap between the thin plates 31 and 32. Therefore, thin plate 3
The secondary electrons emitted from around the center of the dynode 2 pass through a trajectory as indicated by the arrow d and enter the next stage dynode (not shown). Furthermore, the electric field generated by the mesh electrode 40 affects the surface of the thin plate 32 near the front dynode (not shown), and the electric field from the front dynode (not shown) passes through the mesh electrode 20 to the front dynode of the thin plate of the dynode. It is not possible to create an electric field that pushes the secondary electrons back to the surface near the surface.
次に実験結果を参照して、定量的な説明を行なう。本件
発明者等は、先に第1図において説明しく9)
(8)
た従来のダイノードの主軸に平行な方向の薄板のピッチ
dのみを次第に増加させて、従来のものと、二次電子の
次段への到達度を比較した。Next, a quantitative explanation will be given with reference to experimental results. The inventors of the present invention gradually increased only the pitch d of the thin plates in the direction parallel to the main axis of the conventional dynode (9) (8) as previously explained in FIG. The degree to which they reached the next stage was compared.
横軸を(d/l)とし、縦軸ηは次のようにした。The horizontal axis is (d/l), and the vertical axis η is as follows.
(a/1)=1のとき(第4図中のp点)の次段への到
達をη1とし、任意のd=dにのときの到達度ηXとす
るとのη=ηX/η1とする。Let η1 be the arrival at the next stage when (a/1) = 1 (point p in Figure 4), and let ηX be the degree of arrival when d = d, so η = ηX/η1. .
第4図からd/lが1.0 (d/l=lは従来のダイ
ノード)から1.5までは上記率ηは単調に増大し、d
/lが1.5から1.7までの間でη〉2となることが
判る。その中で1.64で最大となった。d/lが1.
7より大きくなると、前記ηは減少する。これは前述の
電界による効果はd/lが1.5から1.75の間で飽
和するのに対しd/lが1.5から1.75を越えると
入射する電子からみてダイノードの薄板の部分より透明
な部分が大きくなり、ダイノードに衝突せず増幅される
ことなく、ダイノードを抜ける電子が増加することによ
ると考えられる。From Fig. 4, when d/l is from 1.0 (d/l = l is a conventional dynode) to 1.5, the above ratio η increases monotonically, and d
It can be seen that η>2 when /l is between 1.5 and 1.7. Among them, it was the highest at 1.64. d/l is 1.
When it becomes larger than 7, the η decreases. This is because the effect of the electric field mentioned above is saturated when d/l is between 1.5 and 1.75, but when d/l exceeds 1.5 to 1.75, the thin plate of the dynode is This is thought to be due to the fact that the transparent part becomes larger than the other part, and the number of electrons passing through the dynode increases without colliding with the dynode and being amplified.
以上詳しく説明したように本発明による二次型(10)
子増倍管のダイノードは、(d/l)を1.5から1.
75にすることにより、従来装置よりも2倍以上の次段
への到達度が得られた。As explained in detail above, the dynode of the secondary type (10) child multiplier according to the present invention has (d/l) of 1.5 to 1.
75, it was possible to reach the next stage more than twice as much as the conventional device.
第1図は従来の二次電子増倍管のダイノードを示す略図
、第2図は本発明によや二次電子増倍管のダイノードの
実施例を示す略図である。
第3図は薄板の間隔を広げた場合の電界の変化の説明す
るための略図であって、同図(A)は従来のダイノード
、同図(B)は本発明によるダイノードについて示した
ものである。
第4図はダイノードの薄板の管軸に平行な方向のピッチ
dを変化させた場合の次段への二次電子到達度の変化を
示すグラフである。
1、 2. 3. 4・・・ダイノード11.12,2
1,22,31,32,41゜42・・・薄板
・)
特許出願人 浜松テレビ株式会社
代理人 弁理士 井 ノ ロ 壽
(11)
ス・ 1 し1
)−−−−+
1.、 、 、、lQ
A+
、 、 、 、 、 =、、−、−2o
71w、 −−、cl−−−一一一
010800.J勿
00..9180.ζ40
3l−4
(A’) 、 (B)〆
′A′4図
1
.1
手続補正書
昭和57年 7月 9日
昭和57年特 許 願第59853号
2、発明の名称
二次電子増倍管のダイノード
3、補正する者
事件とのtall系 特許出願人住所
名 称 浜松テレビ株式会社
4、代 理 人
1
明細書 □
補正の内容(特願昭57−59853)(1)特許請求
の範囲を以下のとおり補正する。
「2、特許請求の範囲
+11 二次電子増倍管の主軸に直交して配置され、
前記二次電子増倍管の二次電子増倍器を形成す蚤lイノ
ードにおいて、前記ダイノードを形成するために前記主
軸に対して傾けて配置される複数枚の薄板間の前記主軸
に直交する方向のピッチをdとし、前記ダイノードの主
軸方向の厚さをtとするときそれ等の間の以下の関係が
成立するように構成したことを特徴とする二次電子増倍
管のダイノード。
記
1、5≦d/l≦1.75
(2)前記d/lは1.64である特許請求の範囲第1
項記載の二次電子場W!:1.:、管のダイノード。」
(2)明細書第2頁第13行目の「二次電子増倍管」を
「二次電子増倍器」に補正する。
(1)
(3)明細書第3頁第1行目の「二次電子放出」を「ダ
イノードの1種」に補正する。
(4)明細書第3頁第2行目から同第3行目の「二次電
子放出電極の各」を削除する。
(5)明細書第3頁第3行目の「ダイノートは矩形の・
・・」を[ダイノードは複数の矩形の・・」に補正する
。
(6)明細書第3頁第11行目の「ヘネシャン形二次電
子増倍器」を「バネシャン形のダイノードの形成する二
次電子増倍器」に補正する。
(7)明細書第5頁第4行目のra 1 a 2Jを[
al、a2Jに補正する。
(8)明細書第5頁第7行目のrblb2Jを「bl、
b2Jに補正する。
(9)明細書第5頁第17行目の「二次電子倍増管の」
を削除する。
(10)明細書第6頁第9行目の「バネシャン形ダイノ
ード」を「バネシャン形のダイノード」に補正する。
(11)明細書第6頁第18行目の[距離tとの(2)
地を」を「距離tとの比を」に補正する。
(12)明細書第7頁第8行目の「二次電子」を「電子
」に補正する。
(13)明細書第8頁第3行目の[バネシャン形ダイノ
ード」を「バネシャン形のダイノード」に補正する。
(14)明細書第8頁第9行目の「間隔」を「間隙」に
補正する。
(15)明細書第8頁第10行目の「間隔」を「間隙」
に補正する。
(16)明細書第8頁第17行目の「ダイノード薄板」
を「ダイノードの薄板1に補正する。
(17)明細書第9頁第3行目の「第3図はB本発明に
よるバネシャン形ダイノード」を「第3図Bは本発明に
よるバネシャン形のダイノード」に補正する。
(18)明細書第10頁第7行目の「・・・とするとの
」を「・・・とじて、」に補正する。
以 上
(3)FIG. 1 is a schematic diagram showing a dynode of a conventional secondary electron multiplier tube, and FIG. 2 is a schematic diagram showing an embodiment of a dynode of a secondary electron multiplier tube according to the present invention. FIG. 3 is a schematic diagram for explaining the change in electric field when the spacing between the thin plates is widened; FIG. 3 (A) shows a conventional dynode, and FIG. 3 (B) shows a dynode according to the present invention. be. FIG. 4 is a graph showing changes in the degree of arrival of secondary electrons to the next stage when the pitch d of the thin plate of the dynode in the direction parallel to the tube axis is changed. 1, 2. 3. 4... Dynode 11.12,2
1, 22, 31, 32, 41゜42...thin plate) Patent applicant Hamamatsu Television Co., Ltd. Agent Patent attorney Hisashi Inoro (11) S. 1 shi 1) ------+ 1. , , , , lQ A+ , , , , , =, , -, -2o
71w, --, cl---111010800. JM00. .. 9180. ζ40 3l-4 (A'), (B)〆'A'4Figure 1. 1 Procedural amendment July 9, 1981 Patent Application No. 59853 2 Title of invention Dynode 3 of secondary electron multiplier tube Tall system with amended person case Patent applicant address name Name Hamamatsu Television Corporation 4, Agent 1 Description □ Contents of amendment (Japanese Patent Application No. 57-59853) (1) The scope of claims is amended as follows. "2. Claim +11 Arranged perpendicularly to the main axis of the secondary electron multiplier,
In the dynode forming the secondary electron multiplier of the secondary electron multiplier tube, the dynode is perpendicular to the main axis between a plurality of thin plates arranged at an angle with respect to the main axis to form the dynode. A dynode of a secondary electron multiplier tube, characterized in that the dynode of a secondary electron multiplier is constructed so that the following relationship holds true when the pitch in the direction is d and the thickness in the main axis direction of the dynode is t. 1, 5≦d/l≦1.75 (2) Claim 1, wherein the d/l is 1.64.
Secondary electron field W! :1. :, tube dynode. ”
(2) "Secondary electron multiplier" on page 2, line 13 of the specification is corrected to "secondary electron multiplier." (1) (3) "Secondary electron emission" in the first line of page 3 of the specification is corrected to "a type of dynode." (4) Delete "each of the secondary electron emitting electrodes" from the second line to the third line of page 3 of the specification. (5) “Dynote is rectangular.
..." is corrected to "The dynode is a plurality of rectangles...". (6) "Henneshan-type secondary electron multiplier" on page 3, line 11 of the specification is corrected to "Secondary electron multiplier formed by Hennesshan-type dynodes." (7) ra 1 a 2J on page 5, line 4 of the specification [
Correct to al, a2J. (8) rblb2J on page 5, line 7 of the specification is “bl,
Correct to b2J. (9) “Secondary electron multiplier” on page 5, line 17 of the specification
Delete. (10) Correct "Banesha type dynode" on page 6, line 9 of the specification to "Banesha type dynode". (11) In the 18th line of page 6 of the specification, "(2) Ground with distance t" is corrected to "ratio with distance t". (12) "Secondary electron" on page 7, line 8 of the specification is corrected to "electron". (13) Correct "Banesha-type dynode" in the third line of page 8 of the specification to "Banesha-type dynode." (14) "Gap" on page 8, line 9 of the specification is corrected to "gap". (15) "Interval" on page 8, line 10 of the specification is "gap"
Correct to. (16) “Dynode thin plate” on page 8, line 17 of the specification
(17) In the third line of page 9 of the specification, ``Figure 3 is a spring shan type dynode according to the present invention'' is changed to ``Figure 3 B is a spring shan type dynode according to the present invention''. ”. (18) In the 7th line of page 10 of the specification, "...and toto" is amended to "...tojito." Above (3)
Claims (2)
前記二次電子増倍管の二次電子増倍器を形成する二次電
子倍増管のダイノードに書いて、前記ダイノードを形成
するために前記主軸に対して傾けて配置される複数枚の
薄板間の前記主軸に直交する方向のピッチをdとし、前
記ダイノードの主軸方向の厚さをtとするときそれ等の
間の以下の関係が成立するように構成したことを特徴と
する二次電子増倍管のダイノード。 記 1、5≦d/l≦1.75(1) Arranged perpendicular to the main axis of the secondary electron multiplier,
Between a plurality of thin plates arranged at an angle with respect to the main axis to form the dynode, written on the dynode of the secondary electron multiplier that forms the secondary electron multiplier of the secondary electron multiplier. A secondary electron multiplier characterized in that the secondary electron multiplier is configured such that the pitch in the direction perpendicular to the principal axis of the dynode is d, and the thickness of the dynode in the principal axis direction is t, the following relationship holds between them: Double tube dynode. Note 1, 5≦d/l≦1.75
項記載の二次電子増倍管のダイノード。(2) Claim 1, wherein the d/l is 1.64.
The dynode of the secondary electron multiplier tube described in .
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5985382A JPS5947426B2 (en) | 1982-04-09 | 1982-04-09 | Secondary electron multiplier dynode |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5985382A JPS5947426B2 (en) | 1982-04-09 | 1982-04-09 | Secondary electron multiplier dynode |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58184249A true JPS58184249A (en) | 1983-10-27 |
JPS5947426B2 JPS5947426B2 (en) | 1984-11-19 |
Family
ID=13125162
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5985382A Expired JPS5947426B2 (en) | 1982-04-09 | 1982-04-09 | Secondary electron multiplier dynode |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5947426B2 (en) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6313517U (en) * | 1986-07-12 | 1988-01-28 |
-
1982
- 1982-04-09 JP JP5985382A patent/JPS5947426B2/en not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5947426B2 (en) | 1984-11-19 |
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