JPS58173157A - Stabilized synthetic resin composition - Google Patents

Stabilized synthetic resin composition

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JPS58173157A
JPS58173157A JP5631282A JP5631282A JPS58173157A JP S58173157 A JPS58173157 A JP S58173157A JP 5631282 A JP5631282 A JP 5631282A JP 5631282 A JP5631282 A JP 5631282A JP S58173157 A JPS58173157 A JP S58173157A
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compound
copolymer
synthetic resin
vinyl
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ウイリアム・イ−・ライスナ−
Motonobu Minagawa
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Yutaka Nakahara
豊 中原
Jun Nishimura
純 西村
Riyouji Kimura
凌治 木村
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Abstract

PURPOSE:To provide the titled resin compsn. having excellent light resistance, by incorporating a polymer obtd. by polymerizing an unsaturated compd. having a specified substd. piperidyl group. CONSTITUTION:A (co)polymer (or its hydrogenated product) obtd. by polymerizing an unsaturated compd. having a 2,2,6,6-tetramethylpiperidyl group of the formula [wherein R1 is hydrogen, oxygen, alkyl, acyl; R2 is hydrogen; R3 is hydroxyl group (R2 and R3 may be combined together to form a single bond) n is 0,1]such as 2,2,6,6-tetramethyl-4-vinyl-1,2,5,6-tetrahydropyridine, is used as a stabilizer. 0.001-5pts.wt. said polymer is blended with 100pts.wt. synthetic resin such as polyolefin or vinyl chloride resin.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、耐光性の改善さ゛れた合成樹脂組成物、評し
くけ、2,2,6.6−チトラメチルピペリジル基を有
する特定の不飽和化合物の重合体若しくは共1合体、ま
たはそれらの水素化物を含有せしめてなる耐光性の改≠
された合成樹脂組成物に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention provides a synthetic resin composition with improved light resistance, a polymer or copolymer of a specific unsaturated compound having a 2,2,6,6-titramethylpiperidyl group. 1, or a hydride thereof to improve light resistance≠
The present invention relates to a synthetic resin composition.

ポリエチレン、ポリプロピレン、AB]1tlJ1、ポ
リ塩化ビニル婢の1合体は一般に光の幼果に対し敏感で
あり、その作用により劣化し、変色あるいFi強度の低
下等を引き起こし、長期の使用に耐えないことが知られ
ている。
A combination of polyethylene, polypropylene, AB]1tlJ1, and polyvinyl chloride is generally sensitive to light exposure and deteriorates due to its effects, causing discoloration or a decrease in Fi strength, and cannot withstand long-term use. It is known.

そこでこの光による1合体の劣化を防止するため鑞二、
従来から種々の安定剤が用いられてきたが、従来用いら
れてきた光安定剤はその安定化効果が不充分であり、ま
た安定剤自体が熱あるいは醇化に対して不安定であった
り、水等の#削によって重合体から抽出されやすいもの
が多く、さらに重合体に膚色を与えるものが多い寺の欠
点を持っており、1合体を長期にわたって安定化するこ
とができなかった。
Therefore, in order to prevent the deterioration of the unitary unit due to this light, Reiji,
Various stabilizers have been used in the past, but the stabilizing effect of conventionally used light stabilizers is insufficient, and the stabilizers themselves are unstable against heat or liquefaction, or are susceptible to water. Many of them are easily extracted from the polymer by #cutting, and furthermore, many of them give a skin color to the polymer, which makes it impossible to stabilize the monomer for a long period of time.

これら従来用いられてきた光安定剤の中でもヒンダード
ピペリジン系の化合物はそれ自体が非盾色性でありまた
紫外線吸収剤としてではなく、消光剤として作用するな
どの特駆を有しており、近年特に注目されている。
Among these conventionally used light stabilizers, hindered piperidine compounds are themselves non-shielding and have special properties such as acting not as ultraviolet absorbers but as quenchers. It has received particular attention in recent years.

しかしながら、従来知られているピペリジン禾の化合物
は光安定化能が不充分でおり、また弾発性が大きかった
り、水によって重合体から各局に抽出されてしまったり
、あるいは重合体との相溶性に劣りブルーム等の原因と
なるなどの欠点もあった。
However, conventionally known piperidine compounds have insufficient photostabilizing ability, have high elasticity, are extracted locally from the polymer by water, or have poor compatibility with the polymer. However, it also had disadvantages such as causing bloom etc.

これらの欠点を解消するために、最近高分子−のヒンダ
ードピペリジン化合物を用いることが従業されている。
In order to overcome these drawbacks, the use of high-molecular hindered piperidine compounds has recently been attempted.

例えば%開昭52−125608号公報にはヒンダード
ピペリジル−ビニルエーテルの重合体が〜従業され、特
開昭52−141,885号公報にはヒンダードピペリ
ジル基を有するポリエステル等の重合体が従来され、特
開昭54−21489号公着及び特開昭54−7118
5号公報にはヒンダードピペリジルJi4iする(メタ
)アクリレート憲合体が従業され、又、特開昭55−1
57612号公輸にはヒンダードピペリジル基を有する
マレイン酸エステル−オレフィン共重合体が開示されて
いる。
For example, JP-A-52-125608 discloses a polymer of hindered piperidyl vinyl ether, and JP-A-52-141,885 discloses a polymer such as polyester having a hindered piperidyl group. , JP-A-54-21489 and JP-A-54-7118
Publication No. 5 discloses a (meth)acrylate combination of hindered piperidyl Ji4i, and JP-A No. 55-1
Publication No. 57612 discloses a maleic acid ester-olefin copolymer having a hindered piperidyl group.

しかしながら、これらの重合体を用いる場合は、安定剤
の揮発性は低減されるもののエーテル結合あるいはエス
テル結合を有する為に耐水性が劣るものが多くその安定
化効果は充分ではなく、また安定化される高分子物質と
の相溶性に劣り、プルーム等の原因となる欠点があり、
さらシュ改良することが必要であった。
However, when these polymers are used, although the volatility of the stabilizer is reduced, many have poor water resistance due to having ether bonds or ester bonds, and their stabilizing effect is not sufficient, and the stabilizing effect is not sufficient. It has the disadvantage of poor compatibility with polymeric substances and causes plumes, etc.
It was necessary to improve the dryness.

本発明者等は、かかる現状に鑑み鋭意検討を重ねた結果
、2,2,6.6−テト2メチルピペリジル基を有する
特定の不飽和化合物の(共)3に合体を用いることによ
り、上記の欠点が全て解消し得ることを見い出し本発明
に到達した。
As a result of intensive studies in view of the current situation, the present inventors have determined that the above-mentioned The present invention was achieved by discovering that all of the drawbacks of the above can be overcome.

卸ち、本発明・は、合成樹脂100重量部に対し、次の
一般式(1)で表わされる化合物の単独重合体若しくは
共重合体、またはそれらの水素化物0.001〜5重量
部を含有せしめてなる安定化合成樹脂組成物を提供する
ものである。
The present invention contains 0.001 to 5 parts by weight of a homopolymer or copolymer of a compound represented by the following general formula (1), or a hydride thereof, per 100 parts by weight of a synthetic resin. The present invention provides a stabilized synthetic resin composition comprising:

(式中、R1は水素原子、酸素遊離基、アルキル基ある
いはアシル基を示し、 R2は水素原子を下し、R5は
水酸基を示し、ま九はR2とR5は一緒になって単結合
を示し、nFiOまたは1を示す。) 以下、本発明の組成物について肝述する。
(In the formula, R1 represents a hydrogen atom, an oxygen radical, an alkyl group, or an acyl group, R2 represents a hydrogen atom, R5 represents a hydroxyl group, and R2 and R5 together represent a single bond. , nFiO or 1) Below, the composition of the present invention will be described in detail.

本発明で用いられる、前記一般式(1)で表わされる化
合物において、R1で衣ゎされるアルキA基としては、
例えばメチル、エチル、プロピル、インプロビル、ブチ
ル、アミル、ヘキシル、−・ブチル、オクチル、2−エ
チルヘキシル、ノニル、デシル、ドデシル、オクタデシ
ル、ベンジル、フェニルエチル、2−ヒドロキシエチル
、2−ヒドロキシプロピル、2−ヒドロキシエチル、2
.3−エポキシプロビルなどがあけられ、−アシル基と
して′轄、例えばアセチル、プロピオニル、ブチロイル
、アクリロイル、メタクリロイル、オクタノイル、ベン
ゾイル々どかあけられる。
In the compound represented by the general formula (1) used in the present invention, the alkyl A group represented by R1 is:
For example, methyl, ethyl, propyl, improvil, butyl, amyl, hexyl, -butyl, octyl, 2-ethylhexyl, nonyl, decyl, dodecyl, octadecyl, benzyl, phenylethyl, 2-hydroxyethyl, 2-hydroxypropyl, -Hydroxyethyl, 2
.. 3-Epoxyprobyl, etc. are opened, and -acyl groups such as acetyl, propionyl, butyroyl, acryloyl, methacryloyl, octanoyl, benzoyl, etc. are opened.

従って、本発明で光安定剤として用いられる(共)電合
体の中間原料として用いられる、前記一般式(1)で表
わされる化合物の代表例としては次の懺−1に示す化合
物があげられる。尚、宍  −1 これらの前記一般式(1)で表わされる化合物のうち、
R2が水素原子で、R5が水酸基である化合物は、2,
2,6.6−テトラメチル−4−ピペリドンあるいは1
−置換−2,2,6,6−チトラメテル=4−ピペリド
ンと、ビニルマグネシウムブロマイドあるいはアリルマ
グネシウムブロマイドとを反応させることにより容易に
合成することができ、またR2とR5が一緒になって単
結合を示す化合物は、対応する、R2が水素原子で、R
5が水酸基である化合物を脱水することにより容易に合
成することができる。また、R1が水素原子以外の基で
ある化合物は、対応する、R1が水1g原子である化合
物と、アルキルハライド、ホルマリン及びギ敏、過酸化
物あるいはアシルハライドとを反応させることによって
も容易&:合成することができる。
Therefore, representative examples of the compound represented by the general formula (1), which is used as an intermediate raw material for the (co)electrolyte used as a light stabilizer in the present invention, include the compounds shown in Table 1 below. In addition, Shishi-1 Among these compounds represented by the above general formula (1),
A compound in which R2 is a hydrogen atom and R5 is a hydroxyl group is 2,
2,6,6-tetramethyl-4-piperidone or 1
-Substituted-2,2,6,6-titramethel=4-piperidone can be easily synthesized by reacting with vinylmagnesium bromide or allylmagnesium bromide, and R2 and R5 together form a single bond. The corresponding compound in which R2 is a hydrogen atom and R
It can be easily synthesized by dehydrating a compound in which 5 is a hydroxyl group. Compounds in which R1 is a group other than a hydrogen atom can also be easily prepared by reacting a corresponding compound in which R1 is a water atom with an alkyl halide, formalin, peroxide, peroxide, or acyl halide. :Can be synthesized.

次に表−1に示した、紡記一般式(1)で表わされる化
合物の合成例を示す。
Next, a synthesis example of the compound represented by the general formula (1) shown in Table 1 will be shown.

合成例1 2.2,6.6−テトラメチル−4−ヒドロキシ−4−
ビニルピペリジン(表−1、ム1化合物)の合成 金楓マグネシウム46.5 f、 20%臭化ビニル−
テトラヒドロフラン溶液25?及びヨウ本0.01Fを
とり、窒素ガス気流下DCに冷却し。
Synthesis Example 1 2.2,6.6-tetramethyl-4-hydroxy-4-
Synthesis of vinylpiperidine (Table 1, Mu1 compound) Gold maple magnesium 46.5f, 20% vinyl bromide-
Tetrahydrofuran solution 25? Then, a temperature of 0.01F was taken, and the temperature was cooled to DC under a stream of nitrogen gas.

なから攪拌した。0℃櫨シュちながら20チ巣化ビニル
−テトラヒドロフラン溶液1000fを滴下し、滴下終
了後0℃で1時間、5〜10℃でさらに50分間攪拌し
た。これC2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリ
ドン77.5 tを加え、還流下1時間攪拌し、冷却後
、・飽和塩化アンモニウム水溶液500−を加えて50
分間攪拌[7た後、30%NaOH水溶液300−を加
え強塩基性とした。次いで、有機層をとり、脱溶媒し、
得られた粉末をn−へキサンで再結晶し−C融点58〜
60℃の白色粉末の生成物65.Stを慢だ。
I stirred it from scratch. While stirring at 0°C, 1000 f of a 20% vinyl-tetrahydrofuran solution was added dropwise, and after the addition was completed, the mixture was stirred at 0°C for 1 hour and at 5-10°C for an additional 50 minutes. To this was added 77.5 t of C2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidone, stirred for 1 hour under reflux, and after cooling, added 500 t of saturated ammonium chloride aqueous solution and
After stirring for 7 minutes, 30% NaOH aqueous solution was added to make it strongly basic. Then, take the organic layer, remove the solvent,
The obtained powder was recrystallized from n-hexane to -C melting point 58~
Product as white powder at 60°C 65. St is arrogant.

この生成物は、赤外分光分析の結果920cm−’、1
0!+5cm  及び50803−1にビニル基による
吸収があり、また次に示す元素分析の結果から目的物で
あることを確認した。
As a result of infrared spectroscopic analysis, this product was 920 cm-', 1
0! +5cm and 50803-1 had absorption due to vinyl groups, and the results of the elemental analysis shown below confirmed that they were the desired product.

元素分析     C(4)  H(4)  N←)測
定値      72.02  11.57  7.5
8計算値      72.15  11,48  7
.65(C11H21NOとして) 合成例2 2.2,6.6−テトラメチル−4−ビニル−1,2゜
5.6−チトラヒドロビリジン(表−1、ム2化合物)
の合成 合成例1で得られた化合物14.6 f、p−)ルエン
スルホンWR21,5tおよびトルエン5〇−をとり、
共沸で水を除きながら、4時間加熱攪拌した。冷却後、
20チNhOH水溶液100−を加え強塩基性とした。
Elemental analysis C(4) H(4) N←) Measured value 72.02 11.57 7.5
8 Calculated value 72.15 11,48 7
.. 65 (as C11H21NO) Synthesis Example 2 2.2,6.6-tetramethyl-4-vinyl-1,2゜5.6-titrahydrobiridine (Table 1, Mu2 compound)
Synthesis of Compound 14.6 obtained in Synthesis Example 1 Taking f, p-) luenesulfone WR21,5t and toluene 50-,
The mixture was heated and stirred for 4 hours while removing water azeotropically. After cooling,
A 20% NhOH aqueous solution (100%) was added to make it strongly basic.

次いで、有機層をとり、減圧下に脱溶媒して液状の生成
物を得た。これをTHFlso−に溶解し、セライト処
理して淡黄色液体の生成物を得た。
Next, the organic layer was taken and the solvent was removed under reduced pressure to obtain a liquid product. This was dissolved in THFlso- and treated with Celite to obtain a pale yellow liquid product.

この生成物は、赤外分光分析の結果1600cm−1及
び1640css−”に共役ジエンに基づく吸収があり
、ま友次に示す元素分析の結果から目的物であることを
確認した。
As a result of infrared spectroscopic analysis, this product had absorption based on conjugated diene at 1600 cm-1 and 1640 css-'', and it was confirmed that it was the desired product based on the results of elemental analysis shown by Mayuji.

元素分析     C(至)  H(彌  N(イ)#
j定値     79.90  11.57  8.5
5ir算値     80.flo   11.52 
 8.48(C11H19Nとして) 合成例3 1.2,2,6.6−ベンタメチルー4−ヒドロキノ−
4−ビニルピペリジン(衣−1、l販5化合物)の合成 合成例1で得られた化合物18.3tを57%ホルマリ
ンf6+&17.02に溶解し、50〜600で88%
ギ鈑10.4fを滴下した。滴下終了後、還流下10時
間撹拌した。冷却後、20チNaOH水沼練100−に
注ぎ、生成した固体をe別、水洗、乾燥して融点68〜
71℃の白色粉床の11成吻19.Ofを得た。
Elemental analysis C (To) H (Mi) N (I) #
j constant value 79.90 11.57 8.5
5ir calculated value 80. flo 11.52
8.48 (as C11H19N) Synthesis Example 3 1.2,2,6.6-bentamethyl-4-hydroquino-
Synthesis of 4-vinylpiperidine (Clothing-1, 5 compounds on sale) 18.3t of the compound obtained in Synthesis Example 1 was dissolved in 57% formalin f6+&17.02, and the concentration was 88% at 50-600.
A total of 10.4 f. After the dropwise addition was completed, the mixture was stirred under reflux for 10 hours. After cooling, pour into 20 liters of NaOH Mizunuma Neri 100-, separate the formed solid, wash with water, and dry to give a melting point of 68~
11 growth of white powder bed at 71℃ 19. I got Of.

この生成物は、赤外分光分析の結果2800Cσi’−
1付近に>N−CH31=よる2本の鋭い吸収がめり、
また次にボj元素分析の結果から目的物であることを確
認した。
As a result of infrared spectroscopy, this product was found to be 2800Cσi'-
There are two sharp absorptions near 1 due to >N-CH31=,
Next, we confirmed that it was the desired product based on the results of elemental analysis.

7c素分析     C(1)  H(鉤  N(動り
41j定イー1        75.21    1
1.62   7.06d「鼻イーi        
 ys、 1o    11.6B    y、 11
(012H2,[)として) 合成例4 1.2,2,6.6−ベンタメチルー4−ビニル−1゜
2.5.6−チトラヒドロピリジン(表−1、A4化合
物)の合成 合成例5で得られ良化合物109.p−トルエンスルホ
ン酸15.4tおヨヒトルエン40mをとり、共沸で水
を除きながら4時間加熱攪拌した。冷却後、20 % 
NaOH水fi4液5o−を加え強塩基性とした。次い
で有機層を減圧下蒸留して沸点94℃/ I S mH
fの微黄色液体の生成物を得た。
7c elementary analysis C (1) H (hook N (movement 41j constant E 1 75.21 1
1.62 7.06d “nose i
ys, 1o 11.6B y, 11
(012H2, [)) Synthesis Example 4 Synthesis of 1.2,2,6.6-bentamethyl-4-vinyl-1゜2.5.6-titrahydropyridine (Table 1, A4 compound) Synthesis Example 5 Good compound obtained 109. 15.4 t of p-toluenesulfonic acid and 40 ml of toluene were taken and heated and stirred for 4 hours while removing water azeotropically. After cooling, 20%
NaOH water fi4 solution 5o- was added to make it strongly basic. The organic layer was then distilled under reduced pressure to a boiling point of 94°C/IS mH.
A slightly yellow liquid product of f was obtained.

この生成物は、赤外分光分析の結果161h”1及び1
660 cwt−1に共役ジエンシュよる吸収があり、
また次に示す元素分析の結岸がら目的物であることを確
認した。
As a result of infrared spectroscopy, this product was found to be 161h”1 and 1
660 cwt-1 has absorption by a conjugated diench,
In addition, the following elemental analysis confirmed that it was the target substance.

元素分析 C(9)  H(憧  N(イ) 測定値   80.38 11,80 7.82計算値
   80.45 11.73 7.82(C12H2
1Nとして) 合成例5 2.2,6.6−ブトラメチル−4−ヒドロキシ−4−
アリルピペリジン(表−1,45化合vI/J)の合成 アリルマグネシウムブロマイド145.3 f及びテト
ラヒドロフラン500dの溶液に、2,2,6.6−テ
トラメチル−4−ピペリドン46.5f’に7Juえ還
流下2時間攪拌した。冷却後、飽和塩化アンモニウム水
溶液300−を加えて50分間撹拌した後、50%Na
OH水溶液200−を加えて独−基柱とした。次いで、
有機層をとり、脱溶媒[1、得られた粉末をn−へキサ
ンで再結晶して白色粉末の生成物55.29を得た。
Elemental analysis C (9) H (Aspiration N (I) Measured value 80.38 11,80 7.82 Calculated value 80.45 11.73 7.82 (C12H2
1N) Synthesis Example 5 2.2,6.6-butramethyl-4-hydroxy-4-
Synthesis of allylpiperidine (Table 1, 45 compounds vI/J) To a solution of 145.3f allylmagnesium bromide and 500d of tetrahydrofuran was added 7Ju to 46.5f' of 2,2,6.6-tetramethyl-4-piperidone. The mixture was stirred under reflux for 2 hours. After cooling, 300% of saturated ammonium chloride aqueous solution was added and stirred for 50 minutes, then 50% Na
A 200% OH aqueous solution was added to form a base pillar. Then,
The organic layer was taken and the solvent was removed [1].The obtained powder was recrystallized with n-hexane to obtain a white powder product 55.29.

この生成物は、赤外分光分析の結果1640tqn”’
にビニル基による鋭い吸収があシ、また3500ffi
−1に水酸基による幅広い吸収があり、また次に示す元
素分析の結果から目的物であることを確認した。
As a result of infrared spectroscopy, this product was found to be 1640tqn"'
There is a sharp absorption due to vinyl groups, and 3500ffi
-1 had a wide range of absorption due to hydroxyl groups, and the results of the elemental analysis shown below confirmed that it was the desired product.

測定値    72.95 11.79 7.07ti
t算値    73.10 11.68 7.11(C
12)125NOとして) 合成例6 2.2.6.6−テトラメチル−4−アリル−1゜2.
5.6−チトラヒドロピリジン(表−1、A6化合物)
の合成 合成例5で得られた化合物y、9t、 p −)ルエン
スルホン酸11?及びトルエン50sdをとり、共沸で
水を除きながら4時間加熱攪拌した。
Measured value 72.95 11.79 7.07ti
Calculated value of t 73.10 11.68 7.11 (C
12) as 125NO) Synthesis Example 6 2.2.6.6-tetramethyl-4-allyl-1°2.
5.6-Titrahydropyridine (Table-1, A6 compound)
Synthesis of Compound y, 9t, p-)luenesulfonic acid 11? obtained in Synthesis Example 5 Then, 50 sd of toluene was taken, and the mixture was heated and stirred for 4 hours while removing water azeotropically.

冷却後、20 % NaOH水溶液50−を加え強塩基
性とした。次いで、有械Jdをとり、減圧下に脱浴媒後
セライト処理して淡黄色液体の生成物を得た。
After cooling, 50% of a 20% NaOH aqueous solution was added to make it strongly basic. Next, Yukai Jd was taken, and after removing the bathing medium under reduced pressure, it was treated with Celite to obtain a pale yellow liquid product.

この生成物は、赤外分光分析の結果3300cml付近
の吸収が消失しておシ、また次に示す元素分析の結果か
ら目的物であることを確認した。
As a result of infrared spectroscopic analysis, the absorption of this product around 3300 cmL disappeared, and it was confirmed that the product was the desired product based on the results of elemental analysis shown below.

元素分析 C(イ)  ■(1)  N(イ) 測定値    80.52 1L84 7.’64It
算値    80.45 11.7!l  7.82(
C12)121Nとして) 合成例7 1,2,2,6.6−ベンタメチルー4−ヒドロキン−
4−アリルピペリジン(表−1、&7化合m>の合成 合成例5で得られた化合物11.8t’を用い、合成例
5と同様にしてN−メチル化して淡黄色液体の生成物倉
得た。
Elemental analysis C (a) ■(1) N (a) Measured value 80.52 1L84 7. '64It
Calculated value 80.45 11.7! l 7.82 (
C12) as 121N) Synthesis Example 7 1,2,2,6.6-bentamethyl-4-hydroquine-
Synthesis of 4-allylpiperidine (Table 1, &7 Compound m>) Compound 11.8t' obtained in Synthesis Example 5 was N-methylated in the same manner as in Synthesis Example 5 to obtain a pale yellow liquid product. Ta.

この生成物は、赤外分光分析の結果2800rm”’付
近に>N−CI(、による2本の鋭い吸収があり、また
次に示す元素分析の結果から目的物で多ることを確認し
た。
As a result of infrared spectroscopic analysis, this product had two sharp absorptions due to >N-CI (,) near 2800 rm'', and it was confirmed that it was the target product based on the results of elemental analysis shown below.

元素分析 C(4)  H(1)  N(%) 6i1j 定イ」自c           75.8
2    11.94    15.57It:JI 
イ11          73.93   11.8
5   6.64(C15M25NOとして) 合成例8 1.2,2,6.6−ベンタメチルー4−アリル−1゜
2.5.6−ケトンヒドロピリジン(表−1,48化合
物)の合成 合成例7で得られた化合物4.6f、p−トルエンスル
ホン酸5.8?及びトルエン50d’iとり、共沸で水
を除きながら20時間加熱攪拌した。冷却後、20%N
aOH水溶液60−を加え残塩2a!i性とした。次い
で壱機層をとり、脱溶媒後、減圧下に蒸領して沸点10
0℃/13agmHgO微黄色液体の生成物を得た。
Elemental analysis C (4) H (1) N (%) 6i1j ``tai'' self c 75.8
2 11.94 15.57It:JI
I11 73.93 11.8
5 6.64 (as C15M25NO) Synthesis Example 8 Synthesis of 1.2,2,6.6-bentamethyl-4-allyl-1°2.5.6-ketone hydropyridine (Table 1, 48 compounds) Synthesis Example 7 Compound 4.6f obtained with p-toluenesulfonic acid 5.8? Then, 50 d'i of toluene was added, and the mixture was heated and stirred for 20 hours while removing water azeotropically. After cooling, 20%N
Add 60- of aOH aqueous solution and remaining salt 2a! It was made i-sexual. Next, take the first layer, remove the solvent, and evaporate under reduced pressure to reduce the boiling point to 10.
A product was obtained as a slightly yellow liquid at 0°C/13agmHgO.

この生成物は、赤外分光分析の結果5500αの水酸基
による吸収が消失しており、また次に示す元素分析の結
果から目的物であることff:離れB し7 た。
As a result of infrared spectroscopic analysis, the absorption by the hydroxyl group at 5500α disappeared, and from the results of the elemental analysis shown below, it was determined that this product was the desired product.

測定値    80.72 12.05 7.25計鼻
@     80,84 11.92 7゜25(C1
3H23Nとして) 合成例9 2.2,6,6−チトラノテルー4−アリル−1゜2.
5.6−テトラヒドロピリジン−1−メキシル(表−1
、&9化合物)の合成 合成例6で得られた化合物5.6t、タングステン酸ナ
トリウム20Tq、  メタノール20rILt及び3
0%過酸化水素水溶ffts−をとり、・室部で24時
間攪拌した後、水冷しながら炭酸カリウムを加えて飽和
させ、寥温で2時間撹拌した。
Measured value 80.72 12.05 7.25 meter nose @ 80,84 11.92 7°25 (C1
3H23N) Synthesis Example 9 2.2,6,6-titranoter-4-allyl-1°2.
5.6-tetrahydropyridine-1-mexyl (Table 1
, &9 compounds) 5.6t of the compound obtained in Synthesis Example 6, 20Tq of sodium tungstate, 20rILt of methanol, and 3
A 0% aqueous hydrogen peroxide solution was taken and stirred for 24 hours in a room. Potassium carbonate was added to saturate the mixture while cooling with water, and the mixture was stirred at room temperature for 2 hours.

次いで、反応液をエーテルで抽出後、脱溶媒して淡橙色
液体の生成物を得た。
Next, the reaction solution was extracted with ether and the solvent was removed to obtain a pale orange liquid product.

この生成物は、紫外分光分析の粕米24(1+m+にN
−0・による吸収があり、また次(二示す元素分析の結
果から目的物であることを確−した。
This product was analyzed by ultraviolet spectroscopy.
There was an absorption of -0., and from the results of elemental analysis shown in the following (2), it was confirmed that it was the desired product.

元素分析 C■  H←)  N(イ) 測定値    68.62 9.65 6.70it算
値    、68.57 9,52 6.67(C1゜
H2oNO2として) 本発明において光安定剤として用いられる電合体は、前
記一般式(1)で表わされる不飽和化合物の単独東合体
若しくは共重合し得る他の小飽和モノマーとの共重合体
、またはそれらの水系化物であシ、例えば、前記一般式
(1)で表わされる不飽和化合物(及び他の不飽和モノ
マー)をアニオン重合させ、あるいは1機過酸化物また
はアゾニトリル化合物を開始剤として重合させ、その後
必要に応じて水素化することにより各局鑑二合成するこ
とができる。
Elemental analysis C H The coalescence may be a homopolymerization of the unsaturated compound represented by the general formula (1), a copolymer with other copolymerizable small saturated monomers, or an aqueous compound thereof. For example, the unsaturated compound represented by the general formula (1) The unsaturated compound represented by 1) (and other unsaturated monomers) is anionically polymerized, or polymerized using a single peroxide or azonitrile compound as an initiator, and then hydrogenated as necessary. Can be synthesized.

本発明において使用できる他の不飽和モノマーとしては
、例えばエチレン、プロピレン、ブテン−1、イソブチ
レン、ヘキセン、オクテン、デセン、トチセン、テトラ
デセン、ヘキサデセン、オフタテセン、エイコセン、ス
チレン、α−メチル−スチレン、シクロヘキセン、ブタ
ジェン、塩化ビニル、アクリルニトリル、メチルビニル
ケトン、メチルビニルエーテル、酢酸ビニル、アクリル
酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、アクリル酸メチル
、アクリル酸ブチル、メタクリル酸メチル、マレイン酸
ジメチル、マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジプチル、
2゜2.6,6−テト2メチル−4−ピペリジル−ビニ
ルエーテル、1,2,2,6.6−ベンタメチルー4−
ピペリジル−ビニルエーテル、2,2,6.6− テト
ツメチル−4−ピペリジル−アリルエーテル、1.2,
2,6.6−ベンタメチルー4−ピペリジル−アリルエ
ーテル、アクリル酸2,2,6,6−テトラメチル−4
−ピペリジル、アクリル酸−1+2.2゜6.6−ベン
タメチルー4−ピペリジル、8,8,10.10−テト
ラメチル−9−アブ−3−エチル−1,5〜ジオキサス
ピロ[S、S:]−6−ウン1ツルメチルアクリレート
、メタクリル酸−1,2゜2.6.6− ペンタメチル
−4−ピペリジル、マレイン酸ビス(1,2,2,6,
6−ベンタメチルー4−ピペリジル)、フマル酸ビス(
1,2,2,6,6−ベンタメチルー4−ピペリジル)
、ビス(81”lν。
Other unsaturated monomers that can be used in the present invention include, for example, ethylene, propylene, butene-1, isobutylene, hexene, octene, decene, totycene, tetradecene, hexadecene, oftatecene, eicosene, styrene, α-methyl-styrene, cyclohexene, Butadiene, vinyl chloride, acrylonitrile, methyl vinyl ketone, methyl vinyl ether, vinyl acetate, acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride, methyl acrylate, butyl acrylate, methyl methacrylate, dimethyl maleate, diethyl maleate, maleic acid diptyl,
2゜2.6,6-teto2methyl-4-piperidyl-vinyl ether, 1,2,2,6.6-bentamethyl-4-
Piperidyl-vinyl ether, 2,2,6.6-tetotsumethyl-4-piperidyl-allyl ether, 1.2,
2,6,6-bentamethyl-4-piperidyl-allyl ether, 2,2,6,6-tetramethyl-4 acrylate
-piperidyl, acrylic acid-1+2.2゜6.6-bentamethyl-4-piperidyl, 8,8,10.10-tetramethyl-9-ab-3-ethyl-1,5-dioxaspiro[S,S:]- 6-un1 methyl acrylate, methacrylic acid-1,2゜2.6.6-pentamethyl-4-piperidyl, maleate bis(1,2,2,6,
6-bentamethyl-4-piperidyl), bisfumarate (
1,2,2,6,6-bentamethyl-4-piperidyl)
, bis(81”lν.

10.10−ペンタメチル−9−アザ−5−エテル−1
,5−ジオキサスピロ[s、s]−s−ラン1シルメチ
ル)フマレート尋が6げらiる。
10.10-Pentamethyl-9-aza-5-ether-1
, 5-dioxaspiro[s,s]-s-ranylmethyl)fumarate 6 g.

前記−゛般式(Dで表わされる化合物と上記他の不飽和
モノマーとのモル比は10:0〜1:9の範囲から適宜
違択される。
The molar ratio of the compound represented by the general formula (D) and the other unsaturated monomer is selected from the range of 10:0 to 1:9.

本兄明において用いられる、前記一般式(1)で表わさ
れる不飽和化合物の(共)1合体は、イの分子量が50
0〜10,000のものが好ましい。
The (co)monomerized unsaturated compound represented by the general formula (1) used in the present invention has a molecular weight of 50
0 to 10,000 is preferred.

本発明において光安定−11として用いられる、前記一
般式(1)で表わされる化合物の(共)重合体の代表例
を次の表−2に示す。
Representative examples of the (co)polymer of the compound represented by the general formula (1), which is used as photostable-11 in the present invention, are shown in Table 2 below.

次に本発明で用いられる、前記一般式(1)で表わされ
る化合物の(共)重合体の具体的な合成例を示す。
Next, a specific synthesis example of the (co)polymer of the compound represented by the general formula (1) used in the present invention will be shown.

合成例1O lI&4化合物(表−1)の単独重合体(表−2、安定
剤D)の合成 乾燥テトラヒドロフラン1〇−及び15%ブチルリチウ
ムヘキサン溶液1.7mをとり、窒素ガス気流下にA4
化合物3.6fを滴下した。滴下後室温で7時間攪拌し
た。次いで、反応液をメタノール20〇−中に注ぎ、生
成した沈澱をP別、粍燥して白色粉末の生成物を得た。
Synthesis Example 1 Synthesis of homopolymer (Table 2, Stabilizer D) of lI & 4 compound (Table 1) 1.7 m of dry tetrahydrofuran 10- and 15% butyllithium hexane solution was taken and placed in A4 under a nitrogen gas stream.
Compound 3.6f was added dropwise. After the addition, the mixture was stirred at room temperature for 7 hours. Next, the reaction solution was poured into 200 methanol, and the resulting precipitate was separated from P and dried to obtain a white powder product.

この生成物の軟化点は145〜155℃1分子量は1,
750であった。
The softening point of this product is 145-155℃, the molecular weight is 1,
It was 750.

合成例11 ム4化合物(表−1)の単独重合体(表−2、安定剤E
)の合成 A4化合物4.Of、ジクミルパーオキサイド0.04
F及びトルエン6dをとり、還流下6時間攪拌した。次
いで、トルエンを榴去後テトラヒドロフラン60mを加
え、セライト濾過した稜メタノール200−中に注ぎ、
生成しFled体をP別、乾燥して白色粉末の生成物を
得た。この生成物の軟化点は215〜225℃、分子量
は4.500であった。
Synthesis Example 11 Homopolymer of Mu4 Compound (Table-1) (Table-2, Stabilizer E
) Synthesis of A4 compound 4. Of, dicumyl peroxide 0.04
F and 6 d of toluene were taken and stirred under reflux for 6 hours. Next, after removing the toluene, 60ml of tetrahydrofuran was added, and the mixture was poured into 200ml of methanol filtered through Celite.
The produced Fled body was separated from P and dried to obtain a white powder product. This product had a softening point of 215-225°C and a molecular weight of 4.500.

合成例12 安定削go水素化物(表−2、安定@F)C)合成 合成例11で得られた重合体1.Ofをナト2ヒドロフ
ラン10d(二溶解し、エタノール2d、5−パラジウ
ム−カーボン0.1fを加え、オートクレーブに入れ、
水素圧180 K4/−で6時間150℃に加熱した。
Synthesis Example 12 Stable reduced go hydride (Table 2, Stable@F) C) Synthesis Polymer obtained in Synthesis Example 11 1. Dissolve the sodium in 10 d of hydrofuran (2 d), add 2 d of ethanol, 0.1 f of 5-palladium-carbon, and place in an autoclave.
It was heated to 150° C. for 6 hours under a hydrogen pressure of 180 K4/−.

次いで、反応液をセライト濾過した後メタノール10〇
−中に注ぎ、白色粉末の生成物を得九。この生成物の軟
化点は215〜225℃、分子量は4500〜4600
であった。また、NMRによる分析の結果二重結合が消
滅していることが確認された。
Next, the reaction solution was filtered through celite and poured into 100 methanol to obtain a white powder product. The softening point of this product is 215-225°C, and the molecular weight is 4500-4600.
Met. Furthermore, as a result of NMR analysis, it was confirmed that the double bond had disappeared.

本発明は、前記一般式(1)で表わされる不飽和化合物
の単独重合体若しくは共重合体、またはそれらの水嵩化
物を合成樹脂6二添加してその耐光性を改善す為もので
あ〕、その添加量は、通常、合成−9100重量部に対
しo、 o o t〜5重量部、好重しくは0.01〜
3重量部である。
The present invention is for improving the light resistance of a synthetic resin by adding a homopolymer or copolymer of an unsaturated compound represented by the general formula (1), or a hydrated product thereof to a synthetic resin. The amount added is usually o, o o t to 5 parts by weight, preferably 0.01 to 5 parts by weight, per 100 parts by weight of synthesis-9.
It is 3 parts by weight.

本発明1:*−ける耐光性改善の対象となる合成樹脂と
しては、例えは、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
ブテン、ポリ−5−メチルブテン、などのα−オレフィ
ン重合体またはエチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレ
ン−プロピレン共重合体などのポリオレフィンおよびこ
れらの共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリ臭化ビニル、ボ
リフフ化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、塩素化ポリエチ
レン、塩素化ポリプロピレン、ポリフッソ化ビニリデン
、臭素化ポリエチレン、塩化ゴム、塩化ビニル−酢酸ビ
ニル共重合体、塩化ビニル−エチレン共重合体、塩化ビ
ニル−プロピレン共重合体、塩化ビニル−エチレン共重
合体、塩化ビニル−イソブチレン共重合体、塩化ビニル
−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−スチレン−無
水!レイン酸三元共重合体、塩化ビニル−スチレン−7
クリロニトリル共重合体、塩化ビ′ニルーブタジェン共
重合体、塩化ビニル−イソプレン共重合体、塩化ビニル
−塩素化プロピレン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリ
デン−酢酸ビニル三元共重合体、塩化ビニル−アクリル
酸エステル共重合体、塩化ビニル−マレイン酸エステル
共m合体、tx化化工ニルメタクリル酸エステル共重合
体、塩化ビニル−アクリロニトリル共重合体、内部可塑
化ポリ塩化ビニルなどの含へロゲン合成樹脂、石油樹脂
、クマロン樹脂、ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、アク
リル樹脂、スチレンと他の単量体(例えば無水マレイン
酸、ブタジェン、アクリロニトリルなど)との共重合体
、アクリロニトリル−ブタジェン−スチレン共重合体、
アクリル酸エステル−ブタジェン−スチレン共重合体、
メタクリル酸エステル−ブタジェン−スチレン共重合体
、ポリメチルメタクリレートなどのメタクリレ−)4H
1、ホ!jビニルアルコール、ポリビニルホルマール、
ポリビニルブチラール、直鎖ボリスステル、ポリフェニ
レンオキシド、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリア
セタール、ポリウレタン、HL繊維素樹脂、あるいはフ
ェノール樹脂、ユリア樹脂、メラ定ン樹脂、エポキシ樹
脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂などを挙
げることができる。更に、インプレンゴム、ブタジェン
ゴム、アクリロニトリル−ブタジェン共重合ゴム、スチ
レン−ブタジェン共重合ゴムなどのゴム類やこれらの樹
脂のブレンド品であってもよい。
Invention 1: *- Examples of the synthetic resins to be improved in light resistance include α-olefin polymers such as polyethylene, polypropylene, polybutene, poly-5-methylbutene, or ethylene-vinyl acetate copolymers; Polyolefins such as ethylene-propylene copolymers and their copolymers, polyvinyl chloride, polyvinyl bromide, polyvinyl fluoride, polyvinylidene chloride, chlorinated polyethylene, chlorinated polypropylene, polyvinylidene fluoride, brominated polyethylene, chlorinated Rubber, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, vinyl chloride-ethylene copolymer, vinyl chloride-propylene copolymer, vinyl chloride-ethylene copolymer, vinyl chloride-isobutylene copolymer, vinyl chloride-vinylidene chloride copolymer Combined, vinyl chloride-styrene-anhydrous! Leic acid terpolymer, vinyl chloride-styrene-7
Acrylonitrile copolymer, vinyl chloride-butadiene copolymer, vinyl chloride-isoprene copolymer, vinyl chloride-chlorinated propylene copolymer, vinyl chloride-vinylidene chloride-vinyl acetate terpolymer, vinyl chloride-acrylic Acid ester copolymer, vinyl chloride-maleate ester copolymer, tx chemical engineering nyl methacrylate ester copolymer, vinyl chloride-acrylonitrile copolymer, herogen-containing synthetic resin such as internally plasticized polyvinyl chloride, petroleum resins, coumaron resins, polystyrene, polyvinyl acetate, acrylic resins, copolymers of styrene and other monomers (e.g. maleic anhydride, butadiene, acrylonitrile, etc.), acrylonitrile-butadiene-styrene copolymers,
Acrylic ester-butadiene-styrene copolymer,
Methacrylic acid ester-butadiene-styrene copolymer, methacrylate such as polymethyl methacrylate) 4H
1. Ho! j Vinyl alcohol, polyvinyl formal,
Mention may be made of polyvinyl butyral, linear boris ester, polyphenylene oxide, polyamide, polycarbonate, polyacetal, polyurethane, HL cellulose resin, or phenolic resin, urea resin, meladen resin, epoxy resin, unsaturated polyester resin, silicone resin, etc. can. Further, rubbers such as imprene rubber, butadiene rubber, acrylonitrile-butadiene copolymer rubber, styrene-butadiene copolymer rubber, and blends of these resins may also be used.

また、過酸化物あるいは放射線等によって架橋させた架
橋ポリエチレン叫の架橋重合体及び発泡側によって発泡
させた発泡ポリスチレン等の発泡電合体も包含される。
Also included are crosslinked polymers such as crosslinked polyethylene crosslinked by peroxide or radiation, and foamed polymers such as foamed polystyrene foamed by the foaming side.

本発明の組成物にさらにフェノール系の抗酸化剤を添加
すること(:よって酸化安定性を改善することができる
。これらのフェノール系抗酸化剤としてはたとえば、2
,6−ジー第3ブチル−p−クレゾール、2.6−ジフ
ェニル−4−オクトキシフェノール、ステアリル−(S
、S−ジ−メチル−4−ヒドロキシベンジル)チオグリ
コレート、ステアリル−β−(4−ヒドロキシ−,5,
5−ジー第3ブチルフエニル)プロピオネート、ジステ
アリル−5,5−ジー第5ブチル−4−ヒドロキシベン
ジルホスホネート、2,4.6− )リス(5′。
By further adding a phenolic antioxidant to the composition of the present invention, the oxidative stability can be improved. Examples of these phenolic antioxidants include 2
, 6-di-tert-butyl-p-cresol, 2,6-diphenyl-4-octoxyphenol, stearyl-(S
, S-di-methyl-4-hydroxybenzyl)thioglycolate, stearyl-β-(4-hydroxy-,5,
5-di-tert-butylphenyl)propionate, distearyl-5,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzylphosphonate, 2,4.6-)lis(5').

♂−ジー第5ブチルー4′−ヒドロキシベンジルチオ)
−1,5,5−)リアジン、ジステアリル(4−ヒドロ
*シーS−メfルー5 J15ブチル)ベンジルアロネ
ート、2,2−メチレンビス(4−メチル−6−第5ブ
チルフエノール)、4,4−メチレンビス(2゜6−ジ
ー第3ブチルフエノール)、 2,2′−メチレンビス
(6−(1−メチルシクロヘキシル)p−クレゾール〕
、ビス〔3,5−ビス(4−ヒドロキシ−3−第3ブチ
ルフエニル)ブチリックアシドコグリコールエステル、
4 、4’−ブチリデンビス(6−第3ブチル−m−ク
レゾール)、2,2′−エチリデンビス(4,6−ジー
第5ブチルフエノ−A/)、2./−エチリデンビス(
4−第2ブチル−6−第3ブチルフエノール)、1,1
.3−)リス(2−メチル−4−ヒドロ、dPクシ−−
第3ブチルフエニル)ブタン、ビス〔2−第5ブチル−
4−メチル−6−(2−ヒドロキシ−3−11,5〕f
ルー5−メチルベンジル)フェニル〕テレフタレート、
1,3.5−)リス(2,6−ヅメデル−3−ヒドロキ
シ−4−第3ブチル)ベンジルイソシアヌレ−)、1,
5.5−トリス(5,5−ジー第5ブチル−4−ヒドロ
キシベンシル)−2,4,6−)リスチルベンゼン、テ
トラキス〔メチレン−5−(S、S−ジー第3ブチル−
4−ヒドロキシフェニル)プロピオネートコメタン、1
,3.5−)リス(5,5−ジー第5ブチル−4−ヒド
ロキシベンジル)イソシアヌレート、1,5.5−1リ
ス((5$5−ジー 第!!ブチルー4−ヒドロキシフ
ェニル)プロピオニルオキシエチル〕イソシアヌレート
、2−オクチルチオ−4,6−ジ(4−ヒドロキシ−3
,5−ジー第3ブチル)フェノ午シー1゜5.5−トリ
アジン、4.!−チオビス(6−第5ブチル−m−クレ
ゾール)などのフェノール類及び4,4−ブチリデンビ
ス(2−第3ブチル−5−メチル7゛エノール)の炭酸
オリゴエステル(例えば重合[2= 5 * ’ e 
5 p 6−7 v 8 # 9 。
♂-di-5-butyl-4'-hydroxybenzylthio)
-1,5,5-) riazine, distearyl (4-hydro*C-S-mef-5 J15 butyl)benzyl aronate, 2,2-methylenebis(4-methyl-6-5-butylphenol), 4 , 4-methylenebis(2゜6-di-tert-butylphenol), 2,2'-methylenebis(6-(1-methylcyclohexyl) p-cresol)
, bis[3,5-bis(4-hydroxy-3-tert-butylphenyl)butyric acid coglycol ester,
4,4'-butylidenebis(6-tert-butyl-m-cresol), 2,2'-ethylidenebis(4,6-di-5-butylpheno-A/),2. /-ethylidene bis(
4-Sec-butyl-6-tert-butylphenol), 1,1
.. 3-) Lis(2-methyl-4-hydro, dPx--
tert-butylphenyl)butane, bis[2-5-butyl-
4-methyl-6-(2-hydroxy-3-11,5]f
5-methylbenzyl)phenyl terephthalate,
1,3.5-)lis(2,6-dumedel-3-hydroxy-4-tert-butyl)benzyl isocyanurate), 1,
5.5-Tris(5,5-di-tert-butyl-4-hydroxybencyl)-2,4,6-) listylbenzene, tetrakis[methylene-5-(S,S-di-tert-butyl-
4-Hydroxyphenyl)propionate comethane, 1
, 3.5-) lis(5,5-di-5-5-butyl-4-hydroxybenzyl) isocyanurate, 1,5.5-1 lis((5$5-di-5-butyl-4-hydroxyphenyl)propionyl [oxyethyl] isocyanurate, 2-octylthio-4,6-di(4-hydroxy-3
, 5-di-tert-butyl) phenol, 5.5-triazine, 4. ! - Phenols such as thiobis(6-5-butyl-m-cresol) and carbonic acid oligoesters of 4,4-butylidenebis(2-tert-butyl-5-methyl 7'enol) (e.g. polymerization [2=5*' e
5 p 6-7 v 8 #9.

10など)などの多価フェノール炭酸オリゴエステル類
があげられる。
Examples include polyhydric phenol carbonate oligoesters such as 10).

本発明の組成物C:さらに硫黄系の抗酸化剤を加えてそ
の酸化安定性の改善をはかることもできる。これらの硫
黄系抗酸化剤としては、例えばジラウリル−、ジオリス
チル−、ジステアリル−などのジアルキルチオシクロビ
オネート及びブチル−、オクチル−、ラウリル−、ステ
アリル−などのアルキルチオプロピオン酸の多価アルコ
ール(例えばグリセリン、トリメチロールエタン、トリ
メチロールプロパン、ペンタエリスリトール、トリスヒ
ドロキシエチルイソシアヌレート)のエステル(例えば
ペンタエリスリトールテトララウリルチオプ四ビオネー
ト)があげられる。
Composition C of the present invention: It is also possible to further add a sulfur-based antioxidant to improve its oxidative stability. These sulfur-based antioxidants include, for example, dialkylthiocyclobionates such as dilauryl, diolistyl, and distearyl, and polyhydric alcohols of alkylthiopropionic acids such as butyl, octyl, lauryl, and stearyl. Examples include esters of glycerin, trimethylolethane, trimethylolpropane, pentaerythritol, trishydroxyethyl isocyanurate (eg, pentaerythritol tetralaurylthioptetrabionate).

本発明の組成物に、さらにホスファイト等の含リン化合
物を添加することによって、耐光性及び耐熱性を改善す
る仁とができる。この含すン化合物としては、例えばト
リオクチルホスファイト、トリラウリルホスファイト、
トリデシルホスファイト、オクチル−ジフェニルホスフ
ァイト、トリス(2,4−ジー第5ブチルフエニル)ホ
スファイト、トリフェニルホスファイト、トリス(ブト
キシエチル)ホスファイト、トリス(ノニルフェニル)
ホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホ
スファイト、テトラ(トリデシル) −1s 1 # 
′5− )リス(2−メチル−5−第3ブチル−4−ヒ
ドロ中ジフェニル)ブタンジホスファイト、テトラ(0
12〜15a合アルキル)−4,4’−イソプロピリデ
ンジフェニルジホスファイト、テトラ(トリデシル)−
4,4’−ブチリデンビス(5−メチル−6−第3ブチ
ルフエノール)ジホスファイト、トリス(5,5−ジー
第3ブチル−4−ヒドロ午ジフェニル)ホスファイト、
トリス(モノ・ジ混合ノニルフェニル)ホスファイト、
水素化−4、4’−イソプロピリデンジフェノールポリ
ホスファイト、ビス(オクチルフェニル)・ビー第5ブ
チルフエノール)〕111,6−ヘキサンジオールジホ
スファイト、フェニル・4,4−イソプロピリデンジフ
ェノール・ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス
(2,4−ジー第3ブチルフエニル)ペンタエリスリト
ールジホスファイト、ビス(2,6−ジー第5ブチル−
4−メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファ
イト、トリス(:4,4’−イソ7’0ビリデンビス(
2−第5ブチルフエノール)〕ホスファイト、フェニル
・ジイソデシルホスファイト、シ(ノニルフェニル)ペ
ンタエリスリトールジホスファイト、トリス(1,s−
ジーステアロイルオ午ジイソプロピル)ホスファイF、
’*’−イソプ四ビリデンビス(2−第5ブチルフエノ
ール)・シ(ノニルフェニル)ホスファイト、9.10
−ジー八イドロー9−オキサー10−7オス7アフエナ
ンスレンー10−オキサイド、ナト2I?ス(2,4−
ジー第3ブチルフエニル)−4,4−ピフエニレンジホ
スホナイトなどがあげられる。
By further adding a phosphorus-containing compound such as phosphite to the composition of the present invention, a compound that improves light resistance and heat resistance can be obtained. Examples of the containing compound include trioctyl phosphite, trilauryl phosphite,
Tridecyl phosphite, octyl-diphenyl phosphite, tris(2,4-di-5-butylphenyl) phosphite, triphenyl phosphite, tris(butoxyethyl) phosphite, tris(nonylphenyl)
Phosphite, distearyl pentaerythritol diphosphite, tetra(tridecyl)-1s 1 #
'5-) Lis(diphenyl in 2-methyl-5-tert-butyl-4-hydro)butane diphosphite, tetra(0
12-15a alkyl)-4,4'-isopropylidene diphenyl diphosphite, tetra(tridecyl)-
4,4'-butylidene bis(5-methyl-6-tert-butylphenol) diphosphite, tris(5,5-di-tert-butyl-4-hydro-diphenyl) phosphite,
tris(mono-dimixed nonylphenyl) phosphite,
Hydrogenated-4,4'-isopropylidene diphenol polyphosphite, bis(octylphenyl)/bi-5-butylphenol)]111,6-hexanediol diphosphite, phenyl/4,4-isopropylidene diphenol/ Pentaerythritol diphosphite, bis(2,4-di-tert-butyl phenyl) pentaerythritol diphosphite, bis(2,6-di-tert-butyl-
4-methylphenyl)pentaerythritol diphosphite, tris(:4,4'-iso7'0pylidene bis(
2-5th butylphenol)] phosphite, phenyl diisodecyl phosphite, cy(nonylphenyl)pentaerythritol diphosphite, tris(1,s-
di-stearoyl (diisopropyl) phosphite F,
'*'-Isoptetrapylidene bis(2-5th butylphenol) cy(nonylphenyl)phosphite, 9.10
- G8 Hydro9 - Oxer 10-7 Male 7 Affenance Lane - 10 - Oxide, Nato 2I? (2,4-
Examples include di-tert-butylphenyl)-4,4-pyphenylene diphosphonite.

不発明の組成物に他の光安定剤を添加することによって
その耐光性をさらに改善することができる。これらの光
安定剤としては、例えば、2−ヒドロヤシ−4−メトキ
シベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−n−オクトキ
シベンゾフェノン、2,2′−ジ−ヒドロキシ−4−メ
トキシベンゾフェノン、2,4−ジヒドロキシベンゾフ
ェノン等のヒドロキシベンゾフェノン類、2−(2’−
とドロ午シー(−1−ブチル−5′−メチルフェニル)
−5−クロロベンゾトリアゾール、2− (/−ヒドロ
キシ−13−ジーを一ブチルフェニル)−5−クロロベ
ンツトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−5−メチ
ルフェニル)ペンツトリアゾール、2−(2’−ヒドロ
キシ−3’、5’−シーt−アミルフェニル)ベンゾト
リアゾール等のベンゾトリアゾール類、フェニルサリシ
レー)、p−t−プチルフェニルサリシレート、2,4
−ジ−t−ブチルフェニル−3,5−ジ−t−ブチル−
4−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル−5,5−
ジ−t−ブチル−4−ヒドロヤシベンゾエート等のベン
ゾエート類、2,2′−チオビス(4−t −オクチル
フェノール) Nl塩、〔2,2′−チオビス(4−1
−オクチルフェノラート))−n−ブチルアミンNi 
−(s e s−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベン
ジル)ホスホン酸モノエチルエステルNi塩等のニッケ
ル化合物類、α−シアノ−I−メチル−β−(p−メト
午ジフェニル)アクリル類メチル等の置換アクリロニト
リル類及びN−2−エチルフェニル−d−2−エトキシ
−5−第3ブチルフエニルシユウ酸ジアミ)”、N−2
−エチルフェニル−付−2−エトキシフェニルシュウ酸
ジアミド勢のシュウ酸ジアニリド類があげられる。
By adding other light stabilizers to the composition of the invention, its lightfastness can be further improved. Examples of these light stabilizers include 2-hydroac-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-n-octoxybenzophenone, 2,2'-di-hydroxy-4-methoxybenzophenone, and 2,4-dihydroxybenzophenone. Hydroxybenzophenones such as benzophenone, 2-(2'-
and dorogoshi (-1-butyl-5'-methylphenyl)
-5-chlorobenzotriazole, 2-(/-hydroxy-13-di-butylphenyl)-5-chlorobenzotriazole, 2-(2'-hydroxy-5-methylphenyl)penztriazole, 2-(2' Benzotriazoles such as -hydroxy-3',5'-sheet-t-amylphenyl)benzotriazole, phenylsalicylate), pt-butylphenylsalicylate, 2,4
-di-t-butylphenyl-3,5-di-t-butyl-
4-Hydroxybenzoate, hexadecyl-5,5-
Benzoates such as di-t-butyl-4-hydroyacibenzoate, 2,2'-thiobis(4-t-octylphenol) Nl salt, [2,2'-thiobis(4-1
-octylphenolate))-n-butylamine Ni
Nickel compounds such as -(se s-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl)phosphonic acid monoethyl ester Ni salt, α-cyano-I-methyl-β-(p-methodiphenyl)acrylic methyl substituted acrylonitriles such as N-2-ethylphenyl-d-2-ethoxy-5-tert-butylphenyl oxalic acid diamide), N-2
-Ethylphenyl-attached -2-ethoxyphenyl oxalic acid dianilides.

その他必要に応じて、本発明組成物は重金属不活性化剤
、造核剤、金属石けん、有機錫化合物、可塑剤、エポキ
シ化合物、顔料、充填剤、発泡剤、帯電防止剤、難燃剤
、溝削、加工助削等を包含させることができる。
In addition, if necessary, the composition of the present invention may contain heavy metal deactivators, nucleating agents, metal soaps, organotin compounds, plasticizers, epoxy compounds, pigments, fillers, blowing agents, antistatic agents, flame retardants, grooves, etc. It can include machining, machining assistance, etc.

次に本発明を実施例によって具体的に説明する。しかし
ながら、本発明はこれらの実施例によって限定されるも
のではない。
Next, the present invention will be specifically explained with reference to Examples. However, the present invention is not limited to these examples.

実施例1 ポリプロピレン            100  ]
L量部安定削(表−s)          0.5上
記配合にて厚さ0.5mのプレスシートを作成し、高圧
水銀ランプを用いて耐光性試験を行なった。また80℃
の熱水に15時間浸漬後のシートについても耐光性試験
を行なった。その結果を表−3に示す。
Example 1 Polypropylene 100]
Stable cutting of L amount part (Table s) 0.5 A press sheet with a thickness of 0.5 m was prepared using the above formulation, and a light resistance test was conducted using a high-pressure mercury lamp. Also 80℃
A light resistance test was also conducted on the sheet after being immersed in hot water for 15 hours. The results are shown in Table-3.

表         3 実施例2 通常O安定削は樹脂の高温加工時に揮発、分解等により
その効果が着るしく失なわれることが知られている。
Table 3 Example 2 It is known that the effect of normal O-stable cutting is gradually lost due to volatilization, decomposition, etc. during high-temperature processing of resin.

本実施例では押し出し加工を繰り返し行なうことにより
^温加工による影響を確かめた。
In this example, the influence of hot processing was confirmed by repeatedly performing extrusion processing.

次の配合によシ樹脂と添加剤をミキサーで5分間混合し
良後、押し出し機でフンパウンドを作成した。(シリン
ダー温WIL250℃、240℃、ヘッドダイス塩[2
50℃、回転数zorpm)押し出しを5回繰り返し行
なった後このコンパウンドを用いて試験片を射出成形機
で作成した。
According to the following formulation, the resin and additives were mixed in a mixer for 5 minutes, and then a powder was prepared using an extruder. (Cylinder temperature WIL 250℃, 240℃, head die salt [2
After extrusion was repeated 5 times at 50° C. and rotational speed zorpm, test pieces were made using an injection molding machine using this compound.

(シリンダ一温度240℃、ノズル温度250℃、射出
圧a 7 s Ktt/cd ) 得られ九試験片を用いて高圧水銀ランプで耐光性試験を
行なった。を九、押し出し1回のも・のについても同様
に試験した。その結果を表−4に示す。
(Cylinder temperature: 240° C., nozzle temperature: 250° C., injection pressure: a 7 s Ktt/cd) Using the nine test pieces obtained, a light resistance test was conducted using a high-pressure mercury lamp. 9. The same test was carried out on the one extruded once. The results are shown in Table 4.

く配 合〉 エチレン−プロピレン共重合樹脂   100  重量
部ステアリン酸カルシウム             
0.2 *i1部ステアリルーβ−5.5−ジー第3ブ
チル−4−0,1ヒドロキシフエニルグロビオネート ジラ9リルチオジグロピオネート        0.
2安定剛(表−4)         0.2表   
−4 ポリエチレン           1001に都Ca
−ステアレート           1.0テトラキ
ス〔メチレン−5−(s、s−ジー第5ブチル−4−ヒ
ドロキシフェニル)プ   0.10ビオネート〕メタ
ン ジステアリルチオジプロピオネート0.3安定削(表−
s)        o・2上記配合物を混線後プレス
して犀さO*5smのシートを作成した。このシートを
用いてウェザオフ−ター中で耐光性を測定し、脆化する
までの時間を測定した。その結果を表−5に示す。
Blend> Ethylene-propylene copolymer resin 100 parts by weight Calcium stearate
0.2 *i1 part stearyl β-5.5-di-tert-butyl-4-0,1 hydroxyphenylglobionate di9lylthiodiglobionate 0.
2 stable stiffness (Table-4) 0.2 table
-4 Polyethylene 1001
- Stearate 1.0 Tetrakis [methylene-5-(s,s-di-5-butyl-4-hydroxyphenyl)p 0.10 Bionate] Methanedistearylthiodipropionate 0.3 Stable cutting (Table-
s) o.2 The above blend was mixed and pressed to create a sheet of rhinoceros O*5sm. Using this sheet, the light resistance was measured in a weather oven, and the time until it became brittle was measured. The results are shown in Table-5.

表    −5 実施例4 エチレン−酢酸ビニルコホリマ−100!1tlH2,
6−ジー第5ブチ/I/−p−クレゾール0.1Ca−
ステアレート            0.1Zn−ス
テルート            0.1ジイソデシル
フエニルホスフアイト     0.2安定削(表−6
)        0.2上記配合物をロール上150
Cで混線後、140℃でプレスシート(厚さ0.4om
)を作成した。このシートをウェザオフ−ター中で5o
Table-5 Example 4 Ethylene-vinyl acetate copolymer-100!1tlH2,
6-G 5th butyl/I/-p-cresol 0.1Ca-
Stearate 0.1 Zn-Sterate 0.1 Diisodecyl phenyl phosphite 0.2 Stable cutting (Table 6
) 0.2 Roll 150 of the above formulation
After crosstalk at C, press sheet (thickness 0.4 om) at 140℃
)It was created. Place this sheet in a weather oven for 5o.
.

時間照射後の抗侵力残率を測定した。その結果を表−6
に示す。
The residual rate of anti-aggressive power after time irradiation was measured. Table 6 shows the results.
Shown below.

表          6 実施例5 ポリ塩化ビニル          100 重量部ジ
オクチルフタレート         48エポキシ化
大豆油            2トリスノニルフエニ
ルホスフアイト     0.2Ca−ステアレート1
.0 Zn−ステアレート0.1 安定剤(表−7)        0.3上記間合物を
ロール上で混r疎し厚さ1■のシートを作成した。この
シートを用いウエザオフ−ター中での耐光性試験を行な
った。その結果を表−7に示す。
Table 6 Example 5 Polyvinyl chloride 100 Parts by weight Dioctyl phthalate 48 Epoxidized soybean oil 2 Trisnonylphenyl phosphite 0.2 Ca-stearate 1
.. 0 Zn-stearate 0.1 Stabilizer (Table 7) 0.3 The above mixture was mixed on a roll to form a sheet with a thickness of 1 inch. A light resistance test in a weather offter was conducted using this sheet. The results are shown in Table-7.

表       7 実施例6 ABS樹脂            100 重量部4
.4′−ブチリデンビス(2−第50,1ブチル−m−
クレゾール) 安定剤(表−8)        0.5上記間合物を
ロール練り後プレスして厚さ5■のシートを作成した。
Table 7 Example 6 ABS resin 100 parts by weight 4
.. 4'-Butylidene bis(2-50,1-butyl-m-
Cresol) Stabilizer (Table 8) 0.5 The above mixture was kneaded with a roll and then pressed to form a sheet with a thickness of 5 cm.

このシートを用いウエザオメーターで800時間照射後
の抗張力残本を測定した。その結果を表−8に示す。
Using this sheet, the tensile strength remaining after 800 hours of irradiation was measured using a weatherometer. The results are shown in Table-8.

表         8 実施例7 ポリウレタン樹脂(旭電化1!U−1oo)   1o
 o  東1iNB&−ステプレート        
    0.7Zn−ステアレート0.5 2.6−ジー第3ブチル−p−クレゾール   0.1
安定剤(表−9)        0.5上記配合物を
70℃で5分間ロール上で混練し、120℃5分間プレ
スして厚さ0.5閣のシートを作成し友。このシート全
フェードメーターにて30時間照射後の伸び残率を測定
した。
Table 8 Example 7 Polyurethane resin (Asahi Denka 1!U-1oo) 1o
o East 1iNB&-Stepplate
0.7 Zn-stearate 0.5 2.6-di-tert-butyl-p-cresol 0.1
Stabilizer (Table 9) 0.5 The above blend was kneaded on a roll at 70°C for 5 minutes and pressed at 120°C for 5 minutes to form a sheet with a thickness of 0.5 mm. The remaining elongation rate of this sheet after 30 hours of irradiation was measured using a total fade meter.

その結果を表−9に示す。The results are shown in Table-9.

表           9 第1頁の続き 0発 明 者 木村凌治 浦和市白幡五丁目2番13号アデ カ・アーガス化学株式会社内Table 9 Continuation of page 1 0 shots Akira Ryoji Kimura Ade, 5-2-13 Shirahata, Urawa City Within Ka Argus Chemical Co., Ltd.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 合成樹脂100重食部に対し、次の一般式(,1)で表
わされる化合物の単独重合体若しくは共1合体、または
それらの水素化物0.、001〜5車菫部を含有せしめ
てなる安定化合成樹脂組成セフ。 (式中、R1は水素原子、酸素遊離基、アルキル基ある
いはアシル基を示し、R2は水素原子を示し、R5は水
酸基を示し、またはR2とR5N −緒になって単結合
を示し、nは0または1を示す。)
[Scope of Claims] Per 100 parts of synthetic resin, 0.0 parts of a homopolymer or copolymer of a compound represented by the following general formula (1), or a hydride thereof, is added. , 001-5 A stabilized synthetic resin composition containing violet parts. (In the formula, R1 represents a hydrogen atom, an oxygen radical, an alkyl group, or an acyl group, R2 represents a hydrogen atom, R5 represents a hydroxyl group, or R2 and R5N - together represent a single bond, and n represents a single bond. (Indicates 0 or 1.)
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