JPS58166621U - 半導体レ−ザ−ビ−ム光学装置 - Google Patents

半導体レ−ザ−ビ−ム光学装置

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JPS58166621U
JPS58166621U JP2630883U JP2630883U JPS58166621U JP S58166621 U JPS58166621 U JP S58166621U JP 2630883 U JP2630883 U JP 2630883U JP 2630883 U JP2630883 U JP 2630883U JP S58166621 U JPS58166621 U JP S58166621U
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JP
Japan
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semiconductor laser
optical device
laser beam
beam optical
slit
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Pending
Application number
JP2630883U
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English (en)
Inventor
博 花田
浅野　宣行
吉岡　征四郎
葛西　正直
Original Assignee
キヤノン株式会社
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図〜第６図は本考案の各１態様の説明図であり、第
１図は記録層にパターンビームを照射する態様、−第２
図は撮像管にパターンビームを照射する態様、第３図は
シリンダータイプのオリジナルパターンを用いた場合の
態様、第４図および第５図はレーザービームの走査方法
の各態様、並びに第６図はタイプライタ−として実施し
た場合の態様をそれぞれ示す。第７図は第６図の実施態
様を説明するための第６図の部分拡大図を示す。 １．４１および５１・・・半導体レーザー、２・・・接
合部、３・・・レーザービーム、４・・・光学系、５・
・・走査方向、７・・・字母板、８・・・図形パターン
、９・・・パターンビーム、１０・・・光学系、１１・
・・走査方向、１３・・・照射部、１５および３７・・
・記録層、２１および３１・・・半導体レーザーヘッド
、２２・・・文字板、２７・・・撮像管、３２・・・シ
リンダー文字板、４４・・・ミラー、４８・・・オリジ
ナルパターン、５４・・・透明体、６１・・・記録紙。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. スリット状ビーム光束を放射する半導体レーザを有し、
    前記スリット状ビーム光束をスリット状のままオリジナ
    ルパターン上に照射するとともにスリット状ビーム光束
    の長手方向とほぼ直角方向・にオリジナルパターンを走
    査することを特徴とする半導体レーザービーム光学装置
    。
JP2630883U 1983-02-24 1983-02-24 半導体レ−ザ−ビ−ム光学装置 Pending JPS58166621U (ja)

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JPS58166621U true JPS58166621U (ja) 1983-11-07

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ID=30038266

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