JPS58163944A - Manufacture of lithographic original plate requiring no dampening water - Google Patents

Manufacture of lithographic original plate requiring no dampening water

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Publication number
JPS58163944A
JPS58163944A JP4781182A JP4781182A JPS58163944A JP S58163944 A JPS58163944 A JP S58163944A JP 4781182 A JP4781182 A JP 4781182A JP 4781182 A JP4781182 A JP 4781182A JP S58163944 A JPS58163944 A JP S58163944A
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JP
Japan
Prior art keywords
layer
silicone rubber
plate
dampening water
rubber layer
Prior art date
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Pending
Application number
JP4781182A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Satoshi Matsumoto
聰 松本
Norio Kawabe
川辺 紀雄
Masao Iwamoto
昌夫 岩本
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Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
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Filing date
Publication date
Application filed by Toray Industries Inc filed Critical Toray Industries Inc
Priority to JP4781182A priority Critical patent/JPS58163944A/en
Publication of JPS58163944A publication Critical patent/JPS58163944A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/09Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/092Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers characterised by backside coating or layers, by lubricating-slip layers or means, by oxygen barrier layers or by stripping-release layers or means

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

PURPOSE:To enhance the original image reproducing power of a lithographic original plate requiring no dampening water and the adhesive strength of the plate to an original image by applying a soln. of a polymer nondispersible in water to the uppermost layer of the plate and by drying it to form an uneven coating. CONSTITUTION:A photosensitive layer which is photoset or photosolubilized by irradiating active light is formed on a substrate such as a plastic film or an Al plate, and a silicone rubber layer is formed on the photosensitive layer. A soln. of a polymer nondispersible in water is applied to the uppermost layer by means of a wheeler or the like and dried to form an uneven coating having about 0.1-200mum thickness. Thus, the desired lithographic original plate requiring no dampening water is obtd. The polymer soln. is prepared by graft- polymerizing >=2 kinds of vinyl monomers such as acrylic acid and 2-hydroxyethyl methacrylate in an org. dispersion medium such as hexane or toluene.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は湿し水不要平版印刷原版の製造方法に関するも
のであり、特に原画像の再現性および原画(ポジないし
ネガフィルム)との密着性に優れた湿し水不要平版印刷
原版の製造方法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a method for producing a lithographic printing original plate that does not require dampening water, and in particular has excellent reproducibility of the original image and adhesion to the original image (positive or negative film) and does not require dampening water. The present invention relates to a method for producing a lithographic printing original plate.

シリコーンゴム層を最上層に有する湿し水不要平版材は
9例えば特公昭44−23042.特公昭46−160
44号、特公昭51−17081号、特開昭48−94
5o5号などに数多く提案されている。
A planographic material having a silicone rubber layer as the top layer and requiring no dampening water is disclosed in 9, for example, Japanese Patent Publication No. 44-23042. Special Public Service 1977-160
No. 44, JP 51-17081, JP 48-94
Many proposals have been made in issues such as 5o5.

また、シリコーンゴム層を感光性画像形成層(以下感光
層と呼ぶ)の下に有する湿し水不要平版材は9例えば特
公昭44−25042号、特公昭471− 2361号、特開昭49−82402号、特開昭50−
16155号、特開昭55−849!19号などに提案
されている。
In addition, lithographic materials that do not require dampening water and have a silicone rubber layer under a photosensitive image forming layer (hereinafter referred to as photosensitive layer) are disclosed in 9, for example, Japanese Patent Publication No. 44-25042, Japanese Patent Publication No. 471-2361, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 1987-49- No. 82402, Japanese Unexamined Patent Publication No. 1973-
No. 16155, Japanese Patent Application Laid-Open No. 55-849!19, etc.

さらに、シリコーンゴム層自体に感光性を保持させた湿
し水不要平版材も提案されている。
Furthermore, a lithographic plate material that does not require dampening water and in which the silicone rubber layer itself retains photosensitivity has been proposed.

これらの湿し水不要平版材に画像を形成するために9通
常原画を通して活性光線による露光がおこなわれるが、
原画を忠実に再現するためには。
In order to form images on these lithographic materials that do not require dampening water, exposure to active light is usually performed through the original image.
To faithfully reproduce the original painting.

該平版上面に原画を完全に密着させることが必要であっ
た。このため、一般的にはゴムシートと圧着ガラスの間
に、該平版材と原画とを重ねて配置し、ゴムシートと圧
着ガラスの間を真空にして密着させる方法(以下真空密
着法と呼ぶ)が用いられてきた。
It was necessary to bring the original picture into complete contact with the upper surface of the planographic plate. For this reason, the general method is to place the lithographic material and the original image between the rubber sheet and the pressure-bonded glass, and create a vacuum between the rubber sheet and the pressure-bonded glass to bring them into close contact (hereinafter referred to as the vacuum adhesion method). has been used.

しかしながら、従来のシリコーンゴム層を最上層に有す
る湿し水不要平版材の表面は、非常に平滑で、かつシリ
コーンゴムが非常に密着性が良好であるため、いったん
原画フィルムとシリコーンゴム層が密着すると密着部分
は強固に固定されて   ゛しまい、原画フィルムとシ
リコーンゴム層との間−り− に気泡が入ったような場合、真空密着法により該平版材
の周辺部より空気を吸引しても入った気泡を除去すると
とが困難である。従って、該平版材の全面にわたり原画
を完全に密着させるには、特に版サイズが大きい場合、
非常に長い時間が必要とされ、極端な場合にはいくら時
間をかけても密着しないことさえあった。
However, the surface of conventional planographic materials that do not require dampening water and has a silicone rubber layer as the top layer is very smooth, and the silicone rubber has very good adhesion, so once the original film and silicone rubber layer are in close contact with each other, As a result, the adhesion area becomes firmly fixed, and if air bubbles appear between the original film and the silicone rubber layer, even if air is sucked from the periphery of the planographic material using the vacuum adhesion method, It is difficult to remove the trapped air bubbles. Therefore, in order to completely adhere the original image to the entire surface of the planographic material, especially when the plate size is large,
A very long time was required, and in extreme cases, no matter how much time was spent, the film would not adhere properly.

また、シリコーンゴム層を感光層の下に有する湿し水不
要平版材の場合でも、程度の差こそあれ同様の問題があ
った。
Further, even in the case of planographic materials that do not require dampening water and have a silicone rubber layer under the photosensitive layer, similar problems occur to a lesser extent.

このように真空密着に多大な時間を要することとは、製
版作業の効率を低下させ、極めて不経済であったばかり
でなく、原画の密着が不十分なまま露光をおこなった場
合、原画を忠実に再現することができないという致命的
な問題があった。
The fact that vacuum adhesion takes a long time not only reduces the efficiency of the plate-making process and is extremely uneconomical, but also makes it difficult to faithfully reproduce the original image if exposure is performed without sufficient adhesion to the original image. The fatal problem was that it could not be reproduced.

この問題を解決するために1版面にポリエステル、ポリ
オレフィンなどのプラスチックフィルムをラミネートす
ることも提案されている。しかしながら9版面にプラス
チックフィルムをラミネートすると、原画との真空密着
性が若干向上するものの不十分であること、さらに版面
にプラスチックフィルムを設ける際に、シリコーンゴム
層または感光層との間に異物や空気をはさみ込み易いな
どの技術的困難さがあったり、経済的に不利であるとい
った問題点があった。
In order to solve this problem, it has been proposed to laminate a plastic film made of polyester, polyolefin, or the like on one plate surface. However, when a plastic film is laminated on the plate surface, the vacuum adhesion with the original image improves slightly, but it is insufficient.Furthermore, when the plastic film is placed on the plate surface, there may be foreign matter or air between the silicone rubber layer or the photosensitive layer. There were problems such as technical difficulties such as easy pinching and economical disadvantages.

さらに版面にプラスチックフィルムを設ケると。Furthermore, a plastic film is placed on the plate surface.

露光時に原画と感光層との距離が大きくなり、理想的な
平行光線が得られていない現行の露光機では、いわゆる
焼きぼけを生じ易く原画に忠実な画像が再現し難いとい
う問題もあった。
The distance between the original image and the photosensitive layer increases during exposure, and current exposure machines that do not provide ideal parallel light rays tend to cause so-called blurring, making it difficult to reproduce images that are faithful to the original image.

また、露光により分解して窒素ガスを放出するタイプの
感光層を用いた場合、原画と版面との間に露光時に発生
したガスがたまり、原画を押し上げてしまい、このため
原画の密着不良が生じ、焼きぼけを生じてしまう。
In addition, when using a type of photosensitive layer that decomposes upon exposure and releases nitrogen gas, the gas generated during exposure accumulates between the original image and the printing plate, pushing the original image upward, resulting in poor adhesion of the original image. , causing burnout.

同様にかかる感光層でかつ、シリコーンゴム層または感
光層上にプラスチックフィルムを設けた場合も露光によ
り発生したガスがプラスチックフイ   )ルムを押し
あげ、原画との距離を大きくシ、焼きほけを生じるとい
う同様な問題がある。
Similarly, if a silicone rubber layer or a plastic film is provided on the photosensitive layer, the gas generated by exposure will push up the plastic film, increasing the distance from the original image and causing fading. I have a similar problem.

このような問題点を改善するために、たとえばシリコー
ンゴム層を最上層とする湿し水不要平版印刷原版のシリ
コーンゴム層の表面に不揮発性成分を含有する溶液もし
くは分散液を噴霧することにより、シリコーンゴム層上
に凹凸を設けてなる湿し水不要平版印刷原版が提案され
ている(特開昭56−27150)。ここに提案された
湿し水不要平版印刷原版は、原図との真空密着に関して
はかなりの効果が期待できるものの、たとえば均一な凹
凸をシリコーンゴム層表面に形成するということは熟練
度を必要とするものであり、また凹凸が形成されていな
いシリコーンゴム層の表面においては、場合によって、
シリコーンゴム層が破損されてしまうなどの問題点が存
在し、さらに改善が要望されていた。
In order to improve such problems, for example, by spraying a solution or dispersion containing a non-volatile component onto the surface of the silicone rubber layer of a lithographic printing original plate that does not require dampening water and has a silicone rubber layer as the uppermost layer, A lithographic printing original plate that does not require dampening water and has a silicone rubber layer with unevenness has been proposed (Japanese Patent Laid-Open No. 56-27150). The lithographic printing original plate proposed here that does not require dampening water can be expected to be quite effective in terms of vacuum adhesion to the original image, but it requires skill to form, for example, uniform irregularities on the surface of the silicone rubber layer. In some cases, on the surface of the silicone rubber layer where no unevenness is formed,
There were problems such as damage to the silicone rubber layer, and further improvements were desired.

本発明者らは上記の問題点を解決する優れた品質の湿し
水不要平版印刷原版について鋭意検討し、j た結果、以下に述べる本発明に到達した。
The inventors of the present invention have conducted extensive studies on a lithographic printing original plate that does not require dampening water and has excellent quality that solves the above problems, and as a result of these studies, they have arrived at the present invention described below.

すなわち本発明は、湿し水不要平版印刷原版の最上層に
非水分散ポリマー溶液を塗布、乾燥して。
That is, in the present invention, a non-aqueous dispersion polymer solution is applied to the top layer of a lithographic printing original plate that does not require dampening water, and then dried.

5− 凹凸を有する被覆層を設けることを特徴とする湿し水不
要平版印刷原版の製造方法に関するものである。
5- This relates to a method for producing a lithographic printing original plate that does not require dampening water and is characterized by providing a coating layer having irregularities.

本発明の湿し水不要平版印刷原版の最上層上に塗布され
る非水分散ポリマ溶液は版材を構成する成分に、物理的
、化学的に悪影響を与えることなく、シかも現像時に容
易に除去されうるものであって、かつ使用される現像液
と反応しないものであれば使用可能である。
The non-aqueous dispersion polymer solution applied to the top layer of the lithographic printing original plate that does not require dampening water of the present invention does not have any physical or chemical adverse effects on the components that make up the plate material, and easily prevents stains during development. Any material that can be removed and does not react with the developer used can be used.

本発明に用いられる非水分散ポリマー溶液とはたとえば
9次のようなビニル単量体から得られるポリマーと有機
分散媒とからなるものである。また上記ポリマー溶液に
は、必要に応じて分散安定剤などを添加することも可能
である。
The non-aqueous dispersion polymer solution used in the present invention is composed of a polymer obtained from a 9-order vinyl monomer and an organic dispersion medium. Further, it is also possible to add a dispersion stabilizer and the like to the polymer solution as necessary.

本発明に有効なポリマーを与える単量体としては′、た
とえばアクリル酸、アクリル酸n−ブチル。
Examples of monomers that provide polymers useful in the present invention include acrylic acid and n-butyl acrylate.

(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸メチル
、メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸ラウリル、メ
タクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸2−ヒドロキ
シエチル、メタクリル酸2−6− エチルヘキシル、γ−メタクリルオキシプロピルトリメ
トキシシラン、スチレンなどを挙げることができる。こ
れらの単量体は2種以上を用いてグラフト重合させたポ
リマーとして用いられる。
(meth)ethyl acrylate, methyl (meth)acrylate, isobutyl methacrylate, lauryl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-6-ethylhexyl methacrylate, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, Examples include styrene. Two or more of these monomers are used as a graft-polymerized polymer.

中でも一方が分散ポリマー、他方が可溶性ポリマーとな
るような組合せのポリマーは本発明に特に有効である。
Among these, a combination of polymers in which one is a dispersion polymer and the other is a soluble polymer is particularly effective in the present invention.

本発明に用いられる有機分散媒は用いるポリマーの種類
によって異なるが、たとえば9次のようなものを挙げる
ことができる。
The organic dispersion medium used in the present invention varies depending on the type of polymer used, but examples include the following.

(1)脂肪族炭化水素類 ヘキサン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、”
アイソパーE″(エッソ化学■製品)など。
(1) Aliphatic hydrocarbons hexane, cyclohexane, methylcyclohexane,
Isopar E'' (Esso Chemical product) etc.

(2)  芳香族炭化水素類 ベンゼン、トルエン、キシレンナト。(2) Aromatic hydrocarbons benzene, toluene, xylene nat.

(3)  その他 酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、テト
ラヒドロフラン、メタノール、プロパツール、エタノー
ル、フタノール、エチルカルピトール、ブチルカルピト
ール、エチルセロソルフ。
(3) Other ethyl acetate, butyl acetate, cellosolve acetate, tetrahydrofuran, methanol, propatool, ethanol, phthanol, ethyl calpitol, butyl calpitol, ethyl cellosolve.

ブチルセロソルブなど。butyl cellosolve etc.

これらの有機分散媒は1種のみならず2種以上を混合し
て用いることも可能である。
These organic dispersion media can be used not only alone, but also as a mixture of two or more.

本発明に用いられる非水分散ポリマー溶液の製造に際し
ては、公知の方法が用いられる。
A known method is used to produce the non-aqueous dispersion polymer solution used in the present invention.

このようにして調整された非水分散ポリマー溶液を用い
て、湿し水不要平版印刷原版の最上層に塗布し、乾燥す
ることにより、凹凸を有する被覆層が湿し水不要平版印
刷原版上に形成される。
The non-aqueous dispersion polymer solution prepared in this way is applied to the top layer of the lithographic printing original plate that does not require dampening water and is dried, thereby forming a coating layer with irregularities on the lithographic printing original plate that does not require dampening water. It is formed.

塗布に際しては、たとえばホエラ、バーコーター、スリ
ットダイコーターなど各種の塗布装置を定されないが他
の版材性能をそこなわない範囲ならいずれも適用可能で
ある。たとえば、温度が20゛Cなら経済的に可能な時
間まで、150°Cなら5〜10秒などである。   
              1このようにして、凹凸
を有する被覆層ができるわけであるが、かかる被覆層の
厚さとしては01〜200μの範囲、より好ましくは0
1〜50μの範囲が選ばれる。被覆層が薄すぎる場合は
、原画との密着性と版面の保護の点で問題を生じる。
For coating, various coating devices such as a wheller, bar coater, slit die coater, etc. are not specified, but any coating device can be used as long as it does not impair the performance of other plate materials. For example, if the temperature is 20°C, it may be for as long as economically possible, and if the temperature is 150°C, it may be for 5 to 10 seconds.
1 In this way, a coating layer with unevenness is formed, and the thickness of this coating layer is in the range of 0.01 to 200 μm, more preferably 0.01 μm to 200 μm.
A range of 1 to 50μ is selected. If the coating layer is too thin, problems will arise in terms of adhesion to the original image and protection of the printing plate.

一方、厚すぎる場合は、原画の再現性の点で問題を生じ
たりする。
On the other hand, if it is too thick, problems may arise in terms of reproducibility of the original image.

本発明の凹凸を有する被覆層はその表面が微小に粗化さ
れているものである。すなわち、その表面粗度としては
、J工S  B  061−1976の5にいうH8L
A(中心線表面粗さ)表示で0.05〜100μ。
The surface of the uneven coating layer of the present invention is slightly roughened. That is, the surface roughness is H8L as specified in J.
A (center line surface roughness) is 0.05 to 100μ.

好ましくは01〜20μの範囲のものである。Preferably it is in the range of 01 to 20μ.

HOI、A  カ” 05μより小さくなるに従って真
空密着時間の短縮効果がなくなり、逆に100μより大
きくなると原画フィルムと該平版材との距離が大きくな
り過ぎて焼きぼけ等を生じ、十分な画像再現性が得られ
ない。
HOI, A" As the value becomes smaller than 05μ, the effect of shortening the vacuum adhesion time disappears. On the other hand, when it becomes larger than 100μ, the distance between the original film and the planographic material becomes too large, causing blurring and other problems, resulting in insufficient image reproducibility. is not obtained.

ここでいう微小に粗化とは9例えば被覆層表面の凹凸、
すなわち、隣接する凸部から凸部までの平均距離は0.
5〜2000μのようなものをい恒」二記平均距離が約
05μより短くなるに従って真空密着時間短縮化の効果
が少なくなり、逆に約9− 2000μより長くなるに従って原画フィルムと該平版
材との密着が不十分となり易く、十分な画像が再現でき
ない。
The minute roughening referred to here means 9, for example, irregularities on the surface of the coating layer.
That is, the average distance from adjacent convex parts is 0.
As the average distance becomes shorter than about 05μ, the effect of shortening the vacuum adhesion time decreases, and conversely, as the distance becomes longer than about 9-2000μ, the distance between the original film and the planographic material decreases. Adhesion tends to be insufficient, and sufficient images cannot be reproduced.

また9本発明の凹凸の形状は特に制限されるものではな
く1例えば、塗布液の組成あるいは塗布方法などによっ
てそれぞれ異なった形状を示す。
Furthermore, the shape of the unevenness of the present invention is not particularly limited, and may have different shapes depending on, for example, the composition of the coating liquid or the coating method.

形状と表面粗度は、すべてが同一のものであってもよい
し9種々のものが混ざりあったものでもよい。
The shape and surface roughness may all be the same or may be a mixture of various shapes.

本発明の方法が適用される湿し水不要平版印刷原版は、
基板に裏打ちされた感光性シリコーンゴム層を有するも
のであってもよいし、またシリコーンゴム層下に必要な
らば接着層を介して基板に裏打ちされた公知の感光層を
有するようなものであってもよい。また感光層の下に必
要ならば接着層を介して基板に裏打ちされたシリコーン
ゴム層を有するようなものであってもよい。
The lithographic printing original plate that does not require dampening water to which the method of the present invention is applied is:
It may have a photosensitive silicone rubber layer lined to the substrate, or it may have a known photosensitive layer lined to the substrate via an adhesive layer if necessary under the silicone rubber layer. It's okay. Further, a silicone rubber layer may be provided below the photosensitive layer and backed to the substrate via an adhesive layer, if necessary.

またかかる構成の平版印刷原版の上にプラスチックフィ
ルムを設けたものにも適用される。
It is also applicable to a planographic printing original plate having such a structure with a plastic film provided thereon.

以下に上記の湿し水不要平版印刷版を構成する−1 口
− 基板、感光性を有するシリコーンゴム層、感光層および
シリコーンゴム層について説明する。
The substrate, photosensitive silicone rubber layer, photosensitive layer, and silicone rubber layer constituting the above-mentioned dampening water-less lithographic printing plate will be described below.

基板としては、厚さが約10μ〜2 mm 、好ましく
は約50〜500μの紙、プラスチックフィルムもしく
はシート、金属板などが適当であるが。
Suitable substrates include paper, plastic films or sheets, metal plates, etc. with a thickness of about 10 .mu.m to 2 mm, preferably about 50 .mu.m to 500 .mu.m.

ゴム弾性を有する基板、シリンダー状の基板を用いても
良い。
A substrate having rubber elasticity or a cylindrical substrate may also be used.

感光性シリコーンゴム層はシリコーンゴム層そのものが
感光性のものであって、この場合には感光層は不要であ
る。感光性シリコーンゴムとしては、ジメチルポリシロ
キサンの末端OH基にγ−メタクリルオキシプロビルト
リメトキシ、シラン。
The photosensitive silicone rubber layer itself is photosensitive, and in this case, no photosensitive layer is required. As the photosensitive silicone rubber, γ-methacryloxyprobyltrimethoxy and silane are added to the terminal OH group of dimethylpolysiloxane.

あるいはモノシンナモイルジェトキシシランを脱アルコ
ール縮合させた化合物、またポリジオルガノシロキサン
にビスアジド化合物を添加、あるいはアクリロイルクロ
リドやp−アジドベンゾエートを反応させた化合物など
をあげることができる。
Alternatively, examples include compounds obtained by dealcoholing condensation of monocinnamoyljethoxysilane, compounds obtained by adding a bisazide compound to polydiorganosiloxane, or compounds obtained by reacting acryloyl chloride or p-azidobenzoate.

また、シリコーンゴムに公知の感光性物質を混合した感
光性シリコーンゴム層を使用することも・  できる。
It is also possible to use a photosensitive silicone rubber layer prepared by mixing silicone rubber with a known photosensitive substance.

感光層は活性な光線を照射することにより光硬化または
先回溶化する性質を有する層である。その厚さは任意で
あるが、好ましくは約100μ以下であり、さらに好ま
しくは約0.5〜10μのものがさらに有用である。
The photosensitive layer is a layer that has the property of being photocured or pre-solubilized by irradiation with active light. Although its thickness is arbitrary, it is preferably about 100 microns or less, more preferably about 0.5 to 10 microns.

感光性物質としては1次のような構成のものが適当であ
る。
As the photosensitive material, one having the following first-order structure is suitable.

(1)沸点100°C以上で、室温で不揮発性の不飽和
モノマあるいはそれらのオリゴマと光増感剤、熱重合禁
止剤と、必要ならば室温での形態保持性を与えるための
充填材および若干の添加物を含む組成物。
(1) An unsaturated monomer or oligomer thereof with a boiling point of 100°C or higher and non-volatile at room temperature, a photosensitizer, a thermal polymerization inhibitor, and if necessary, a filler to provide shape retention at room temperature and Composition containing some additives.

不飽和モノマとしては、エチレングリコールジ(メタ)
アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アク
リレート、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒ
ドロキシプロピル(メタ)アクリレート、グリシジル(
メタ)アクリレート、1−クロロ−2−ヒドロキシエチ
ル()メタ)アクリレート、ジメチルアミンエチル(メ
タ)アクリレートなどの一連のアクリル酸エステル、メ
タアクリル酸エステル類、エチレンビスアクリルアミド
、N−メチロールアクリルアミド、メトキシメチルアク
リルアミドなどのアクリルアミド誘導体、トリアリルシ
アヌレート、トリアリルフォスフェート、ジアリルフタ
レート、ジアリルマレートなどのアリルアルコールノエ
ステル、その他スチレ/誘導体、ケイ皮酸誘導体などを
使用することができる。
As an unsaturated monomer, ethylene glycol di(meth)
Acrylate, polyethylene glycol di(meth)acrylate, hydroxyethyl(meth)acrylate, hydroxypropyl(meth)acrylate, glycidyl(
A series of acrylic esters such as meth)acrylate, 1-chloro-2-hydroxyethyl(meth)acrylate, dimethylamine ethyl(meth)acrylate, methacrylic esters, ethylenebisacrylamide, N-methylolacrylamide, methoxymethyl Acrylamide derivatives such as acrylamide, allyl alcohol noesters such as triallyl cyanurate, triallyl phosphate, diallyl phthalate, diallyl maleate, other styrene/derivatives, cinnamic acid derivatives, etc. can be used.

光増感剤としては、ベンゾフェノン誘導体。Benzophenone derivatives are used as photosensitizers.

ベンゾイン誘導体、アントラキノン誘導体、アルデヒド
、ケトン、イオウ化合物、 /%ロゲン化合物、あるい
はメチレンブルー、リボフラビンなどの染料が使用でき
る。
Benzoin derivatives, anthraquinone derivatives, aldehydes, ketones, sulfur compounds, /%rogen compounds, or dyes such as methylene blue and riboflavin can be used.

熱重合禁止剤としては、ハイドロキノン誘導体。Hydroquinone derivatives are used as thermal polymerization inhibitors.

フェノール誘導体、ニトロ置換ベンゼン、第6級アミン
、フェノチアジン誘導体が用いられる。
Phenol derivatives, nitro-substituted benzenes, quaternary amines, and phenothiazine derivatives are used.

充填剤あるいは添加物としては、コロイダルシリカ、炭
酸カルシウム、炭酸マグネシウム。
Fillers or additives include colloidal silica, calcium carbonate, and magnesium carbonate.

酸化鉄などの無機物の微細な粉末、ポリ酢酸ビニル、ポ
リ(メタ)アクリル酸エステル、分子13− 量数千のポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニ
ル、ポリ塩化ビニリデンなどのビニルポリマ、硬化前の
レゾールフェノール系、尿素系、メラミン系、エポキシ
系、不飽和ポリエステル系樹脂などがあげられる。
Fine powders of inorganic substances such as iron oxide, polyvinyl acetate, poly(meth)acrylic acid esters, vinyl polymers such as polyethylene, polypropylene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, etc. with a molecular weight of several thousand, resole phenolics before curing , urea-based, melamine-based, epoxy-based, unsaturated polyester-based resins, etc.

(2)  光硬化性ジアゾ樹脂あるいはアジド樹脂と必
要ならば光増感剤と若干の充填材添加物。
(2) Photocurable diazo resin or azide resin and if necessary a photosensitizer and some filler additives.

光硬化性ジアゾ樹脂としては、パラジアゾフェニルアミ
ン、パラジアゾモノエテルアニリン。
Examples of photocurable diazo resins include paradiazophenylamine and paradiazomonoetheraniline.

パラジアゾベンジルエチルアニリンなどのジアゾ系アミ
ンとホルムアルデヒドとの縮合物の塩化亜鉛複塩をあげ
ることができる。
Examples include zinc chloride double salts of condensates of diazo amines such as paradiazobenzylethylaniline and formaldehyde.

光硬化性アジド樹脂としては、ポリビニルアルコールの
アジドフタル酸エステル、あるいはアジド安息香酸エス
テル、スチレン−無水マレイン酸共重合体と、芳香族ア
ジド系アルコール。
Examples of the photocurable azide resin include azidophthalic ester of polyvinyl alcohol, azidobenzoic ester, styrene-maleic anhydride copolymer, and aromatic azido alcohol.

例、tばβ−(4−アジドフェノール)エタノールのエ
ステルなどがあげられる。
Examples include ester of β-(4-azidophenol)ethanol.

光増感剤、充填材、添加物としては(1)の例であげた
も・のを使用できる。
As the photosensitizer, filler, and additives, those listed in the example (1) can be used.

14− (3)  オルトキノンジアジド類とノボラック樹脂を
組合せた感光性物質。
14- (3) A photosensitive material that combines orthoquinone diazides and novolak resin.

本発明において、さらに好ましい感光性物質はオルトキ
ノンジアジド類とノボラック樹脂を組み合せた感光性物
質である。
In the present invention, a more preferred photosensitive material is a photosensitive material that combines orthoquinone diazides and novolak resin.

本発明に用いられるシリコーンゴム層は1通常約05〜
100μ、好ましくは約0.5〜30μの厚みを有し0
次のようなくり返し単位を有する分子量数千〜数十刃の
線状有機ポリシロキサンを主成分とする。
The silicone rubber layer used in the present invention usually has a
100μ, preferably about 0.5 to 30μ thick and 0
The main component is a linear organic polysiloxane with a molecular weight of several thousand to several tens of blades and having the following repeating units.

ここでRは炭素数1〜10のアルキル基あるいはフェニ
ル基であり、Rの60%以上がメチル基であるもの好ま
しい。このような線状有機ポリシロキサンは有機過酸化
物を添加して熱処理等を施すことにより、まばらに架橋
しシリコーンゴムとすることも可能である。
Here, R is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or a phenyl group, and preferably 60% or more of R is a methyl group. Such a linear organic polysiloxane can be sparsely crosslinked to form a silicone rubber by adding an organic peroxide and subjecting it to heat treatment.

シリコーンゴム層には、−また架橋剤が添加される。架
橋剤としては、いわゆる室温(低温)硬化型のシリコー
ンゴムに使われるものとして、アセトキシシラン、ケト
オキシムシラン、アルコキシシラン、アミノシラン、ア
ミドシランなどがあり。
A crosslinking agent is also added to the silicone rubber layer. Crosslinking agents used in so-called room temperature (low temperature) curing silicone rubber include acetoxysilane, ketoxime silane, alkoxysilane, aminosilane, and amidosilane.

通常線状有機ポリシロキサンとして末端が水酸基である
ものとくみ合せて、各々脱酢酸型、脱オキシム型、脱ア
ルコール型、親アミン型。脱アミド型のシリコーンゴム
となる。これらのシリコーンゴムには、さらに触媒とし
て少量の有機スズ化合物等が添加されるのが一般的であ
る。
These are usually linear organic polysiloxanes that end in hydroxyl groups, and are of the acetate-free type, oxime-free type, alcohol-dealing type, and amine-philic type, respectively. It becomes a deamidated silicone rubber. Generally, a small amount of an organic tin compound or the like is further added as a catalyst to these silicone rubbers.

もし必要があれば感光層またはシリコーンゴム層と基板
との間の接着性向上あるいは、ハレーション防止のため
に基板と感光層またはシリコーンゴム層との間にアンカ
ーコート層を設けたり、感光層とシリコーンゴム層との
間の接着性向上のために接着層を設けることも有用であ
る。
If necessary, an anchor coat layer may be provided between the substrate and the photosensitive layer or silicone rubber layer to improve the adhesion between the photosensitive layer or silicone rubber layer and the substrate, or to prevent halation. It is also useful to provide an adhesive layer to improve adhesion to the rubber layer.

本発明の湿し水不要平版印刷原版の画像形成にu、t−
アK Hyr< iゎ、い、ようよ、84.61された
感光性のシリコーンゴムを用い9画像露光後可溶部を現
像液により除去するか、シリコーンゴム層の下に必要な
らば接着層を介して基板に裏打ちされた公知の感光層を
設け、露光後画線部のシリコーンゴム層を、その下の感
光層と共に現像除去するか、もしくはシリコーンゴム層
のみを除去するか、基板に裏打ちされたシリコーンゴム
層の上に必要ならば接着層を介して公知の感光層を設け
、露光後非画線部の感光層を現像除去すればよい。
U, t-
AK Hyr After exposure, the silicone rubber layer in the image area is developed and removed together with the underlying photosensitive layer, or only the silicone rubber layer is removed. If necessary, a known photosensitive layer may be provided on the silicone rubber layer with an adhesive layer interposed therebetween, and after exposure, the photosensitive layer in non-image areas may be removed by development.

本発明の湿し水不要平版印刷原版を用いることにより、
原画との密着性が向上し密着に要する時間が大幅に短縮
できる。さらに画像を忠実に再現することが可能になっ
た。
By using the lithographic printing original plate that does not require dampening water of the present invention,
The adhesion to the original image is improved and the time required for adhesion can be significantly shortened. Furthermore, it has become possible to faithfully reproduce images.

またシリコーンゴム層または感光層上に設けられた被覆
層は1画像露光後の現像時などには極めて容易に除去す
ることが可能で、印刷時の成性能に悪影響を及ぼすこと
はない。
Further, the coating layer provided on the silicone rubber layer or the photosensitive layer can be removed very easily during development after exposure to one image, and does not adversely affect the forming performance during printing.

さらに、シリコーンゴム層または感光層上に設けられる
被覆層は、溶液を塗布、乾燥することにより形成される
連続性を有する被覆層であり、傷つきやすいシリコーン
ゴム層または感光層を保護17− する効果を有するのみならず、露光時に感光層から気体
(窒素ガスなど)を発生するような版材に適用した場合
には1本発明法の被覆層は発生された気体が通過しやす
く、従ってこの気体発生による真空密着不良を防止する
という効果も期待できる。
Furthermore, the coating layer provided on the silicone rubber layer or photosensitive layer is a continuous coating layer formed by applying and drying a solution, and has the effect of protecting the easily damaged silicone rubber layer or photosensitive layer. When applied to a plate material that not only has a It can also be expected to have the effect of preventing poor vacuum adhesion caused by this.

以下、実施例により本発明をさらに詳しく説明する。Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples.

実施例1.比較例1 住友軽金属■製の化成処理アルミ板(厚さ3o。Example 1. Comparative example 1 Chemically treated aluminum plate manufactured by Sumitomo Light Metal ■ (thickness 3o).

μ)に次の組成の感光層を乾燥厚さ約1.2μになるよ
うに塗設した。
A photosensitive layer having the following composition was coated on the substrate (μ) to a dry thickness of about 1.2μ.

(a)  フェノールノボラック樹脂(住友ベークライ
ト製:スミレジンPR50235)のナフトキノン−1
,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル(エステル化
度44チ) を施した。
(a) Naphthoquinone-1 of phenol novolac resin (Sumitomo Bakelite: Sumiresin PR50235)
, 2-diazide-5-sulfonic acid ester (degree of esterification: 44 degrees).

(a)  トーレシリコーン製5H−78119− 100重量部 (b)  γ−アミノプロピルトリエトキシシラン4重
量部 この版を50(2)×50■の大きさに切り出し。
(a) 100 parts by weight of 5H-78119 manufactured by Toray Silicone (b) 4 parts by weight of γ-aminopropyltriethoxysilane This plate was cut into a size of 50 (2) x 50 cm.

この版のシリコーンゴム層の上に非水分散ポリマ溶液A
を0ツソ化学■製脂肪族炭化水素系溶媒)”アイソパー
E”で固形分濃度100重量部希釈した後、ホエラで塗
布し、100°Cで60秒乾燥して厚さ66μ、平均凹
凸05μ(H(IA表示)の被覆層を形成した。
Non-aqueous dispersion polymer solution A was applied onto the silicone rubber layer of this plate.
After diluting the solid content to 100 parts by weight with "Isopar E" (an aliphatic hydrocarbon solvent manufactured by 0 Tsuso Kagaku ■), it was coated with a wheal and dried at 100°C for 60 seconds to give a thickness of 66 μm and an average unevenness of 05 μm ( A coating layer of H (indicated by IA) was formed.

次にこのようにして作成した湿し水不要平版印刷原版に
50チの網点面積率を有する原画(ネガフィルム)を重
ねて9通常の手法で真空密着させたところ30秒で完全
に密着した。続いて露光。
Next, an original image (negative film) having a halftone dot area ratio of 50 cm was layered on the lithographic printing original plate that did not require dampening water, and the original image (negative film) having a dot area ratio of 50 cm was superimposed on the original plate created in this manner and the vacuum was adhered using the usual method, and the adhesion was complete in 30 seconds. . Next is exposure.

現像したところ良好な網点が再現された。またシリコー
ンゴム層上の被覆層は現像時に完全に除去されていた。
When developed, good halftone dots were reproduced. Further, the coating layer on the silicone rubber layer was completely removed during development.

一方、比較としてシリコーンゴム層上に被覆層を設けな
い湿し水平板印刷原版を用いて、上記と同様にして原画
を真空密着させたところ9版全面にわたって原画とシリ
コーンゴム層間に気泡が生じ、20分にわたって吸引を
続けてもこの気泡が消えることはなかった。続いてこの
状態で露光し。
On the other hand, for comparison, when a dampened horizontal plate printing original plate without a coating layer on the silicone rubber layer was used and the original image was vacuum-adhered in the same manner as above, air bubbles were generated between the original image and the silicone rubber layer over the entire surface of the 9th plate. Even after continued suction for 20 minutes, the bubbles did not disappear. Next, expose in this state.

エタノールで現像したところ、気泡が生じて原画との密
着が十分でなかった部分に再現された網点は焼きぼけに
より良好な形状ではなかった。
When developed with ethanol, the halftone dots reproduced in areas where air bubbles were generated and did not adhere well to the original image were not in good shape due to blurring.

なお、非水分散ポリマー溶液Aは次のようにして作成し
た。
In addition, the non-aqueous dispersion polymer solution A was created as follows.

ラウリルメタクリレート50gを”アイソパーE”(エ
ッソ化学■製脂肪族系炭化水素溶媒)100g中で、過
酸化ベンゾイル1gを重合開始剤として80’c、6時
間反応させる。次いで、ここで得られる反応溶液に対し
て更に、スチレン50gと過酸化ベンゾイル1gを約1
時間かけて滴下し、その後80°c、6時間反応させる
ことにより。
50 g of lauryl methacrylate is reacted in 100 g of "Isopar E" (aliphatic hydrocarbon solvent manufactured by Esso Kagaku ■) at 80'C for 6 hours using 1 g of benzoyl peroxide as a polymerization initiator. Next, approximately 1 g of styrene and 1 g of benzoyl peroxide were added to the reaction solution obtained here.
By dropping it over time and then reacting at 80°C for 6 hours.

乳白色の非水分散ポリマー溶液を作成した。A milky white non-aqueous dispersion polymer solution was prepared.

実施例2.比較例2 厚さ0.3 mm’のアルミ板上に、厚さ0.25 m
m、シ   )ヨアAゴム硬度70のニトリルゴム層を
設けた基板上に次の組成を有する固形分10重量%溶液
(溶媒はエタノール)を塗布し、80°0熱風中で乾燥
し厚さ6μの感光層を設けた。
Example 2. Comparative Example 2 A 0.25 m thick film was placed on a 0.3 mm thick aluminum plate.
m, c) Yor A Rubber A 10% solids solution (solvent: ethanol) having the following composition was applied onto a substrate provided with a nitrile rubber layer with a hardness of 70, and dried in 80°0 hot air to a thickness of 6 μm. A photosensitive layer was provided.

(a)  メタクリル酸メチル/アクリル酸メチル/ア
クリル酸の5o15o/2oの共重合体50重量部 (b)  メタクリル酸グリシジル4モルトキシリレン
ジアミン1モルの付加反応物 48重量部(C)  ミ
ヒラー氏ケトン       2重量部この感光層の上
に次の組成を有するシリコーンゴム組成物の10重量%
n−ヘキサン溶液を塗布し、50°C熱風中で乾燥し、
厚さ2μのシリコーンゴム層を設けた。
(a) 50 parts by weight of a 5o15o/2o copolymer of methyl methacrylate/methyl acrylate/acrylic acid (b) 48 parts by weight of an addition reaction product of 4 moles of glycidyl methacrylate and 1 mole of xylylene diamine (C) Michler's ketone 2 parts by weight 10% by weight of a silicone rubber composition having the following composition on this photosensitive layer:
Apply n-hexane solution, dry in 50°C hot air,
A silicone rubber layer with a thickness of 2 μm was provided.

(a)  ポリジメチルシロキサン(分子量約8万)1
00重量部 (b)  メチルトリアセトキシシラン  5重量部(
C)  酢酸ジブチルスズ      0.2重量部こ
のようにして得られた湿し水不要平版印刷原版を50 
an X 30 rnの大きさに切り出し、この版のシ
リコーンゴム層の上に非水分散ポリマ溶液Bを“アイソ
パーE”(エッソ化学■製脂肪族炭化21− 水素系溶媒)/トルエン、、、、2:1(重量比)で固
形分濃度20チに希釈した後、バーコーター(≠12)
で塗布し、100°0で30秒乾燥して厚さ36μ、平
均凹凸1.0μ(HOLA表示)の被覆層を形成した。
(a) Polydimethylsiloxane (molecular weight approximately 80,000) 1
00 parts by weight (b) Methyltriacetoxysilane 5 parts by weight (
C) Dibutyltin acetate 0.2 parts by weight
An X 30 rn size was cut out, and the non-aqueous dispersion polymer solution B was placed on the silicone rubber layer of this plate in "Isopar E" (aliphatic carbide 21-hydrogen solvent manufactured by Esso Chemical ■)/toluene. After diluting with a 2:1 (weight ratio) to a solid content concentration of 20%, use a bar coater (≠12)
The coating layer was coated at 100° and dried for 30 seconds to form a coating layer with a thickness of 36 μm and an average unevenness of 1.0 μm (indicated by HOLA).

このようにして作成した湿し水不要平版印刷原版に面積
率10%、150線の網点画像を有するポジフィルムを
重ねて、真空密着したところ約20秒で完全に真空密着
した。続いて露光、エタノールをしみこませた綿パッド
でこすることにより現像したところ焼はけのない原画に
忠実な網点画像が得られた。また、設けた被覆層は現像
時に完全に除去されていた。
A positive film having an area ratio of 10% and a halftone dot image of 150 lines was superimposed on the lithographic printing original plate which did not require dampening water and was vacuum-adhered to the film, and the film was completely vacuum-adhered in about 20 seconds. Subsequently, the image was exposed to light and developed by rubbing with a cotton pad soaked with ethanol, resulting in a halftone image faithful to the original image with no burn marks. Further, the provided coating layer was completely removed during development.

一方、比較のためにシリコーンゴム層上に非水分散ポリ
マの被覆層を設けない湿し水不要平版印刷原版を用いて
同様の操作を行なったところ、真空密着の際に20分に
わたって吸引を続けてもポジフィルムとシリコーンゴム
層との間に生じた気泡は消えなかった。続いて露光、現
像したところ気泡を生じていた部分の網点は焼きぼけに
より形状がくずれていた。
On the other hand, for comparison, when we performed the same operation using a lithographic printing original plate that did not require dampening water and did not have a coating layer of non-aqueous dispersible polymer on the silicone rubber layer, suction was continued for 20 minutes during vacuum contact. However, air bubbles formed between the positive film and the silicone rubber layer did not disappear. Subsequent exposure and development revealed that the halftone dots in the areas where the bubbles had occurred had lost their shape due to blurring.

なお、非水分散ポリマ溶液Bは次のようにして作成した
Note that the non-aqueous dispersion polymer solution B was created as follows.

メタクリル酸2−エチルヘキシル2ogを”アイソパー
E″(エッソ化学■製、脂肪族系炭化水素溶媒)/トル
エンー3/1(重量比)100g中で、過酸化ベンゾイ
ル1gを重合開始剤として90°0,6時間反応させる
。次いで、ここで得られる反応溶液に、さらにスチレン
70g、γ−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシ
ラン10g、過酸化ベンゾイル1gを約1時間かけて滴
下し、その後90°0.6時間反応させて、乳白色の非
水分散ポリマ溶液を作成した。
2 og of 2-ethylhexyl methacrylate was added to 100 g of "ISOPAR E" (manufactured by Esso Chemical ■, aliphatic hydrocarbon solvent)/toluene-3/1 (weight ratio) at 90°0, using 1 g of benzoyl peroxide as a polymerization initiator. Allow to react for 6 hours. Next, 70 g of styrene, 10 g of γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, and 1 g of benzoyl peroxide were added dropwise to the reaction solution obtained here over a period of about 1 hour, and the reaction was then carried out at 90° for 0.6 hours to form a milky white product. A non-aqueous dispersion polymer solution was prepared.

実施例6 ブラシ研磨加工したアルミ板上にトーレシリコーン■シ
リコーン・プライマ「sn  4o94プライマ」を1
μの厚さで塗布した。その上に東芝シリコーン■g、n
Tvシリコーンガムディスパージョン[yg  308
5Jをn−へブタンで希釈し、さらにベンゾインエチル
エーテルを固型分に対して3重量係添加した溶液を塗布
し風乾して、厚さ5μのシリコーンゴム層をもうけた。
Example 6 One coat of Toray silicone silicone primer “sn 4o94 primer” was applied on a brush-polished aluminum plate.
It was applied to a thickness of μ. On top of that, Toshiba silicone g, n
Tv silicone gum dispersion [yg 308
A solution prepared by diluting 5J with n-hebutane and adding 3 parts by weight of benzoin ethyl ether to the solid content was applied and air-dried to form a silicone rubber layer with a thickness of 5 μm.

一方、厚さ9μの東し■製ポリエチレンテレフタレート
フィルム「ルミラー」上に次の組成を有する厚さ2μの
光重合性接着層をもうけた。
On the other hand, a 2 μm thick photopolymerizable adhesive layer having the following composition was formed on a 9 μm thick polyethylene terephthalate film “Lumirror” manufactured by Toshi.

(a)  グリシジルメタクリレート4モルとキシリレ
ンジアミン1モルの付加反応物 95重量% (b)  ベンゾインメチルエーテル   5重量係次
に、これらをカレンダーローラーを用いて。
(a) 95% by weight of an addition reaction product of 4 moles of glycidyl methacrylate and 1 mole of xylylene diamine (b) 5% by weight of benzoin methyl ether Next, these were added using a calender roller.

シリコーンゴム層の表面と光重合性接着層の表面とが密
着するようにして圧着し、しかる後に光重合性接着層あ
るいはポリエチレンテレフタレートフィルム上に実施例
1で用いたと同じ非水分散ポリマ溶液Aを”アイソパー
E″(エッソ化学■製脂肪族系炭化水素溶媒)で固形分
濃度7重量係に希釈してからホエラーで塗布し、90“
0で35秒乾燥してシリコーンゴム層上に厚さ3μ、平
均口    )凸05μ(Hol、A 表示)の被覆層
を設けた。
The surface of the silicone rubber layer and the surface of the photopolymerizable adhesive layer are pressed together so that they are in close contact with each other, and then the same non-aqueous dispersion polymer solution A used in Example 1 is applied onto the photopolymerizable adhesive layer or the polyethylene terephthalate film. After diluting the solid content with "Isopar E" (an aliphatic hydrocarbon solvent manufactured by Esso Chemical ■) to a solid content of 7 parts by weight, apply it with a Whaler and apply it to 90"
After drying at 0 for 35 seconds, a coating layer having a thickness of 3 μm and an average convexity of 05 μm (Hol, indicated by A) was provided on the silicone rubber layer.

このようにして得られた。湿し水不要平版印刷原版に、
ネガフィルムをあてがい、真空密着させて高圧水銀灯(
ORCジェットライ)3000.距離1m)を用いて、
2分間照射した。変性エタノールで洗浄して、未露光部
の光重合性接着層を溶出せしめたところ、良好な画像が
再現された。
Obtained in this way. For lithographic printing plates that do not require dampening water,
Apply a negative film, place it in vacuum, and expose it to a high-pressure mercury lamp (
ORC Jet Li) 3000. using a distance of 1 m),
It was irradiated for 2 minutes. When the photopolymerizable adhesive layer in the unexposed area was eluted by washing with denatured ethanol, a good image was reproduced.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)湿し水不要平版印刷原版の最上層に非水分散ポリ
マー溶液を塗布、乾燥して、凹凸を有する被覆層を設け
ることを特徴とする湿し水不要平版印刷原版の製造方法
(1) A method for producing a lithographic printing original plate that does not require dampening water, characterized in that a non-aqueous dispersion polymer solution is applied to the uppermost layer of the lithographic printing original plate that does not require dampening water, and is dried to provide a coating layer having irregularities.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62223747A (en) * 1986-03-25 1987-10-01 Toyobo Co Ltd Image forming plate
JPH01257949A (en) * 1988-04-08 1989-10-16 Konica Corp Damping-waterless planographic printing plate material
JPH03179446A (en) * 1989-12-08 1991-08-05 Konica Corp Production of damping waterless planographic printing plate material
JPH04328748A (en) * 1991-04-30 1992-11-17 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive copying material and processing method thereof

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5124307A (en) * 1974-07-24 1976-02-27 Fuji Photo Film Co Ltd KANKOSEI INSATSUBANNO SEIZOHO
JPS5555343A (en) * 1978-10-20 1980-04-23 Toray Ind Inc Waterless lithographic printing original plate
JPS5627150A (en) * 1979-08-13 1981-03-16 Toray Ind Inc Damping water nonrequiring lithographic original plate and its preparation

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5124307A (en) * 1974-07-24 1976-02-27 Fuji Photo Film Co Ltd KANKOSEI INSATSUBANNO SEIZOHO
JPS5555343A (en) * 1978-10-20 1980-04-23 Toray Ind Inc Waterless lithographic printing original plate
JPS5627150A (en) * 1979-08-13 1981-03-16 Toray Ind Inc Damping water nonrequiring lithographic original plate and its preparation

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62223747A (en) * 1986-03-25 1987-10-01 Toyobo Co Ltd Image forming plate
JPH01257949A (en) * 1988-04-08 1989-10-16 Konica Corp Damping-waterless planographic printing plate material
JPH03179446A (en) * 1989-12-08 1991-08-05 Konica Corp Production of damping waterless planographic printing plate material
JPH04328748A (en) * 1991-04-30 1992-11-17 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive copying material and processing method thereof

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