JPS58163559U - スパツタリングタ−ゲツト - Google Patents
スパツタリングタ−ゲツトInfo
- Publication number
- JPS58163559U JPS58163559U JP5919882U JP5919882U JPS58163559U JP S58163559 U JPS58163559 U JP S58163559U JP 5919882 U JP5919882 U JP 5919882U JP 5919882 U JP5919882 U JP 5919882U JP S58163559 U JPS58163559 U JP S58163559U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sputtering target
- target
- sputtering
- recorded
- purity target
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
第１図Ａは従来のスパッタリングターゲットの断面図、
同図Ｂはその平面図、第２図はこの考案の一実施例を示
すスパッタリングターゲットの断面図である。 １１・・・スパッタ面、２１・・・高純度ターゲット、
２２・・・低純度ターゲット。
同図Ｂはその平面図、第２図はこの考案の一実施例を示
すスパッタリングターゲットの断面図である。 １１・・・スパッタ面、２１・・・高純度ターゲット、
２２・・・低純度ターゲット。
Claims (1)
- 高純度ターゲットと低純度ターゲットとからなる２層構
造を有することを特徴とするスパッタリングターゲット
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5919882U JPS58163559U (ja) | 1982-04-23 | 1982-04-23 | スパツタリングタ−ゲツト |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5919882U JPS58163559U (ja) | 1982-04-23 | 1982-04-23 | スパツタリングタ−ゲツト |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58163559U true JPS58163559U (ja) | 1983-10-31 |
Family
ID=30069521
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5919882U Pending JPS58163559U (ja) | 1982-04-23 | 1982-04-23 | スパツタリングタ−ゲツト |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58163559U (ja) |
-
1982
- 1982-04-23 JP JP5919882U patent/JPS58163559U/ja active Pending
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