JPS58126877A - Azetidinone compound or its salt and their preparation - Google Patents

Azetidinone compound or its salt and their preparation

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JPS58126877A
JPS58126877A JP57234998A JP23499882A JPS58126877A JP S58126877 A JPS58126877 A JP S58126877A JP 57234998 A JP57234998 A JP 57234998A JP 23499882 A JP23499882 A JP 23499882A JP S58126877 A JPS58126877 A JP S58126877A
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group
salt
amino
compound
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Takao Takatani
高谷 隆男
Masayoshi Murata
正好 村田
Toshiyuki Chiba
敏行 千葉
Atsushi Kuno
敦司 久野
Akiteru Yoshioka
吉岡 明昭
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Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
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Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
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Abstract

NEW MATERIAL:The compound of formulaI(R<1> is H, amino, etc.; R<2> is H, lower aliphatic hydrocarbon group, etc.) and its pharmacologically permissible salt. EXAMPLE:3-[ 2-( 5-Amino-1,2,4-thiadiazol-3-yl )-2-( 1-carboxylato-1-methyl-ethoxyimino)acetamido]-2-oxoazetidine-1-sulfonic acid disodium salt (syn isomer). USE:Antibacterial agent. PROCESS:The compound of formulaIcan be prepared e.g. by reacting the compound of formula II or its reactive derivative at the amino group or its salt with the compound of formula III or its reactive derivative at the carboxyl group or its salt.

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は3−アシルアミノアゼチジノン誘導体および
医薬として許容さnるその塩類に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION This invention relates to 3-acylaminoazetidinone derivatives and pharmaceutically acceptable salts thereof.

さらに詳しくは、この発明は抗菌活性?有する3−アシ
ルアミノアセチジノン誘導体およヒ医薬として許容され
るその塩類およびそれらのtea法、それらケ含有して
なる医薬組成物ならびに人および動物の感染症治療にお
ける医薬としてのそれらの使用法に関する。
For more details, see Does this invention have antibacterial activity? 3-acylaminoacetidinone derivatives and pharmaceutically acceptable salts thereof, their tea methods, pharmaceutical compositions containing them, and their use as pharmaceuticals in the treatment of infectious diseases in humans and animals. .

すなわち、この発明の一つの目的は、多くの病原菌に対
して活性を示す3−アシルアミノアセチジノン誘導体り
一よび医薬として許容されるその塩me提供することに
おる。
That is, one object of the present invention is to provide a 3-acylaminoacetidinone derivative that exhibits activity against many pathogenic bacteria and a pharmaceutically acceptable salt thereof.

この発明の別の目的は、8−アシルアミノアゼチジノン
および医薬として許容さnるその塩類の製窃法ケ提供す
ることにある。
Another object of this invention is to provide a method for making 8-acylaminoazetidinone and pharmaceutically acceptable salts thereof.

この発明のもう一つの目的は、前記3−アシルアミノア
セチジノン誘導体および医薬としてh二容されるその塩
類を自効成分としてなる医業組成物を提供することにあ
る。
Another object of the present invention is to provide a medical composition comprising the above-mentioned 3-acylaminoacetidinone derivative and its salts which can be used as pharmaceuticals as self-effective ingredients.

この発明のさらにもう一つの目的は、人および動物の病
1京菌感染症治療法を提供することにある。
Yet another object of this invention is to provide a method for treating 1,000 bacterial infections in humans and animals.

目的とする3−アシルアミノアゼチジノン誘導体は新規
化合物であり、次の一般式で示すことができる。
The target 3-acylaminoazetidinone derivative is a new compound and can be represented by the following general formula.

〔式中、tt’は水素、アミン基または保護されたアミ
ノ紙、 R2は水素、または適当な置換法を有していてもよい低
級脂肪族炭化水素基金意味する〕。
[In the formula, tt' means hydrogen, an amine group or a protected amino paper, and R2 means hydrogen or a lower aliphatic hydrocarbon group which may have a suitable substitution method].

この発明により、新規8−アシルアミノアセチジノン誘
導体〔1〕は「記反応式で例示される種々の方法によっ
て製造することができる。
According to this invention, the novel 8-acylaminoacetidinone derivative [1] can be produced by various methods exemplified by the following reaction formula.

またはアミノ紙に分ける七〇の反応性誘導体またはその
塙反応性透桿庫またはでの塩 1だけその塩 製造法2 〔IV〕 ″またはその塩 〔1〕 またはその塩 またほぞの塩 [11J) またはその塩 製造法4 〔IC〕 またはその塩 〔1d〕 またはその塩 製造法5 なたはその塩 〔I「〕 筐たはその塩 〔式中、11 h、よびR2はそれぞれmlと同じ意味
であり; 塊は保護されたアミノ基を有する低級脂肪族炭化水素基
; 叶はアミノ基を有する低級脂肪族炭化水素成;麻は保護
されたヒドロキシ基金有する低級脂肪族炭化水素基また
はシクロ(低級)アルケニル基;kL5はヒドロキシへ
ヲ有する低級脂肪族炭化水素基またに水素; パーは保護きれたカルボキン基を有する低級脂肪族炭化
水素基; lt〒はカルボキシ基を有する低級脂肪族炭化水素基 
    4をそれぞれ意味する〕。
or 70 reactive derivatives divided into amino papers or their salts in a reactive transparent box or salts 1 Method for producing the salts 2 [IV] '' or its salts [1] or its salts or tenon salts [11J] or its salt production method 4 [IC] or its salt [1d] or its salt production method 5 You are its salt [I''] or its salt [in the formula, 11 h and R2 each have the same meaning as ml The mass is a lower aliphatic hydrocarbon group with a protected amino group; The leaf is a lower aliphatic hydrocarbon group with an amino group; The hemp is a lower aliphatic hydrocarbon group with a protected hydroxyl group or cyclo(lower aliphatic hydrocarbon group) ) Alkenyl group; kL5 is a lower aliphatic hydrocarbon group having a hydroxyl group or hydrogen; Per is a lower aliphatic hydrocarbon group having a protected carboxyl group; lt〒 is a lower aliphatic hydrocarbon group having a carboxy group
4 respectively].

この究明の原料化合物中、化合物[+lI]および化合
物〔1v〕の数種は新規化合物であり、F記の反応式で
例示される方法によって製造することができる。
Among the raw material compounds used in this investigation, several of compound [+lI] and compound [1v] are new compounds, and can be produced by the method exemplified by the reaction formula F.

製造法A [Vl            [Vl)1だほぞの塩
        捷たはその塩NH2−(J−賜 〔1lIa〕 またはその塩 製造法B /               / U−)t2           042〔1111〕
〕〔ll1c〕 またはその塩          またにその塩基 〔式中、R1およびR2uそれぞれ前と同じ意味であり
; KAは保護されたアミノ基またはアミノ基;楡ハハロー
アル(低級)アルキル&、低級アルコキシカルボニル(
低級ンアルケニル基、低級アルカノイルオキシ(低級)
アルキル基、ヘキシル基、ベンズヒドリルオキシカルボ
ニル(低級〕アルキル基またはニトロベンジルオキシカ
ルボニル(低級ファルキル基; R8は低級アルキル基をそ汎ぞ扛意味する〕。
Production method A [Vl [Vl] 1 da tenon salt or its salt NH2- (J-gi [1lIa] or its salt production method B / / U-) t2 042 [1111]
] [ll1c] or a salt thereof, or a base thereof [in the formula, R1 and R2u each have the same meaning as before; KA is a protected amino group or amino group;
Lower alkenyl group, lower alkanoyloxy (lower)
Alkyl group, hexyl group, benzhydryloxycarbonyl (lower) alkyl group or nitrobenzyloxycarbonyl (lower farkyl group; R8 refers to any lower alkyl group).

目的化合物〔l〕ならびに原料化合物[111Eお・よ
び〔1v〕においてに、式; −C−GO− ? −R2 で示される部分構造には、式: %式%[] で示される二つの幾何異性体が包含されるものとする。
In the target compound [l] and the starting compound [111E and [1v], the formula; -C-GO-? The partial structure represented by -R2 includes two geometric isomers represented by the formula: %Formula%[].

この明細書1/i:’&”いては、1:記部分構造金有
する化合物にすべて、式[A)で示される幾何異性博造
を有する化合物を「シン異性体」とし、式込′〕で示さ
れる別の幾何異件購造を有する化合物を「アンチ異性体
」とする。
In this Specification 1/i:'&'', all compounds having the partial structure 1: metal and the compound having the geometric isomer structure represented by the formula [A] are referred to as ``synisomers'', and the formula ``] A compound having another geometric anomaly shown by is defined as an "anti-isomer".

目的化合物〔1〕の医薬としで許容される好適な塩類は
慣用の無毒性塩類であり、無機塩、その例としては、例
えばナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩、例
えばカルシウム塩、マグオシラム塩等のアルカリ土金属
塩のような金属塩、アンモニウム塩等; 有機塩、その例としt、例えばトリメチルアミン塩、ト
リエチルアミン塩、ピリジン塩、プロ力イン塩、ヒコリ
ン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、N、N’−ジベンジ
ルエチレンジアミン塩、N−メチルクルカミン塩、ジェ
タノールアミン塩、トリエタノールアミン塩、トリス(
ヒドロキシメチルアミノツメタン塩、フェニルエチルベ
ンンルアミン塩、ジベンジルエチレンジアミン塩等の有
閑アミン塩等; 例えばギ酸塩、酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩、マVイア
M塩、n石酸塩、メタンスルホン酸塩、ベンゼンスルホ
ン酸!、)ルエンスルホン酸塩等の有機カルボン酸塩ま
たは有機スルホン酸塩;例えば塩酸塩、臭化水素酸塩、
硫酸塩、リン酸塩等の無機酸塩; 例えばアルギニン、アスパラギン酸、グルタミン酸、リ
ジン等の塩成性アミノ酸または酸性アミノ酸との塩等が
挙げられる。
Suitable pharmaceutically acceptable salts of the target compound [1] are conventional non-toxic salts, such as inorganic salts, such as alkali metal salts such as sodium salts and potassium salts, such as calcium salts and magosylam salts. metal salts such as alkaline earth metal salts, ammonium salts, etc.; organic salts such as trimethylamine salts, triethylamine salts, pyridine salts, prohydramine salts, hicoline salts, dicyclohexylamine salts, N, N' -dibenzylethylenediamine salt, N-methylcurcamine salt, jetanolamine salt, triethanolamine salt, tris(
Free amine salts such as hydroxymethylaminotumethane salt, phenylethylbennylamine salt, dibenzylethylenediamine salt, etc.; For example, formate, acetate, trifluoroacetate, Maya M salt, n-trite, methanesulfone Acid acid, benzenesulfonic acid! ,) organic carboxylates or organic sulfonates such as luenesulfonate; e.g. hydrochloride, hydrobromide,
Inorganic acid salts such as sulfates and phosphates; Examples include salts with chlorinogenic amino acids or acidic amino acids such as arginine, aspartic acid, glutamic acid, and lysine.

この明細書のE記説明および以「の記載において、この
発明の範囲内に包含さnる櫟々の定義の好適1例と説明
とを、以「詳細に述べる。
In the description in section E of this specification and the following description, one preferred example and explanation of the definition of ``n'' included within the scope of the present invention will be described in detail below.

「低級」とは、特別の指示がなければ、炭素原子1〜6
個金有する基を意味する。
"Lower" means 1 to 6 carbon atoms, unless otherwise specified.
means a group containing a metal.

[1薗当な置換基を有していてもよい低級脂肪族炭化水
素紙」、「保護されたアミノ基を有する低級脂肪族炭化
水素基」、「アミノ収を有する低級脂肪族炭化水素基」
、「保護されたヒドロキシ基金有する低級脂肪族炭化水
素法」、「ヒドロキシへヶ有する低級脂肪族炭化水素基
」、「保護されたカルボキン爪ヲ有する低級脂肪族炭化
水素基」および「カルボギシ成金有する低級脂肪族炭化
水素基Jにおける好適な「−低級脂肪族炭化水素基」と
しては、 後記の低級アルキル爪; 後記の低級アルケニル基; 例エバエチニル、l−プロピニル、2−プロピニル、■
−メチルー2−プロピニル、1−または2=または3−
ブチニル、1−または2−または3−または4−ペンチ
ニル、l−4たは2−または3−または4−または5−
へキンニル等の低級アルキニル基; 例、t[シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチ
ル、シクロヘキシル、シクロハフ0チル等のシクロアル
キル基; 例エバシクロプロベニル、シクロブテニル、シクロペン
テニル、シクロヘキセニル等のシクロ(低級ンアルケニ
ル爪等が挙げられる− [適当な置換紙を有していてもよい低級脂肪族炭化水素
基Jの好適な置換紙とj〜では、シアン、「低級アルキ
ル」が後述の意味である低級アルキルチオ、アミン、後
述の意味における保護されたアミノ、ヒドロキシ、後述
の保護されたヒドロキシ、後述のアリール、「ハロゲン
」と「アリール」とが後述の意味であるハロゲンケ有す
るアリール、カルボキシ、後述の意味における保護さn
たカルボキシ等が挙げらル、「低級脂肪族炭化水素基」
の置換基数は1〜3個が適当である。
[Lower aliphatic hydrocarbon paper which may have a suitable substituent], "Lower aliphatic hydrocarbon group having a protected amino group", "Lower aliphatic hydrocarbon group having an amino group"
, "Lower aliphatic hydrocarbon group having a protected hydroxyl group", "Lower aliphatic hydrocarbon group having a hydroxyl group", "Lower aliphatic hydrocarbon group having a protected carboquine group" and "Lower aliphatic hydrocarbon group having a carboxylic group" Suitable "-lower aliphatic hydrocarbon groups" in the aliphatic hydrocarbon group J include lower alkyl claws described below; lower alkenyl groups described below; Examples: evaethynyl, l-propynyl, 2-propynyl,
-Methyl-2-propynyl, 1- or 2= or 3-
Butynyl, 1- or 2- or 3- or 4-pentynyl, l-4 or 2- or 3- or 4- or 5-
Lower alkynyl groups such as hequinnyl; Examples, cycloalkyl groups such as cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl, cyclohaf0thyl; Examples, lower alkynyl groups such as cycloprobenyl, cyclobutenyl, cyclopentenyl, cyclohexenyl Examples include alkenyl nails, etc. - [Preferred substitution paper for lower aliphatic hydrocarbon group J which may have a suitable substitution paper and , amine, protected amino in the meaning below, hydroxy, protected hydroxy as below, aryl as below, aryl with halogen where "halogen" and "aryl" have meaning as below, carboxy, protected in the meaning below san
Examples include carboxy, "lower aliphatic hydrocarbon group"
The appropriate number of substituents is 1 to 3.

]−犠当な置換基を有する低級脂肪族炭化水素基」の好
ましい例としては、シアノ(低級ンアルキル、低級アル
キルチオ(低級)アルキル、アミン(低級ンアルキル、
保護さnたアミノ(低級]アルキル、ヒドロキシ(低級
ンアルキル、保護されたヒドロキシ(低級)アルキル、
アル(低級)アルキル、へローアル(低級〕アルキル、
カルボキシ(低級)アルキル、保護されたカルボキシ(
低級)アルキル、カルボキシ(低級)アルケニル、保護
さnたカルボキシ低級アルケニル等が挙げられる。
]-lower aliphatic hydrocarbon group having a sacrificial substituent, cyano(lower alkyl, lower alkylthio(lower)alkyl, amine(lower alkyl,
Protected amino (lower) alkyl, hydroxy (lower) alkyl, protected hydroxy (lower) alkyl,
Al (lower) alkyl, Heroal (lower) alkyl,
carboxy (lower) alkyl, protected carboxy (
(lower) alkyl, carboxy (lower) alkenyl, protected carboxy (lower) alkenyl, and the like.

好J81な「保護されたアミン基」、および「保護さr
またアミノ基を有する低級脂肪族炭化水素基」の好1薗
な床護芒れたアミノ」部分としては、アシルアミノ基、
および例えばペンシル、トリチル等のアル(低級)アル
キル、例工ばベンジリデン等のアル(低級)アルキリデ
ン、例えばl−エトキシカルボニル−2−10ビリデン
、ジメチルアミノメチレン等の低級アルコキシカルボニ
ルもしくに7(低級〕アルキルアミノによって置換され
た低級アルキリテン等のようなアシル爪以外の慣用の床
護法によって置換されたアミノ基が挙げられる。
"protected amine group" and "protected r
Preferred examples of lower aliphatic hydrocarbon groups having an amino group include acylamino groups,
and al(lower)alkyl such as pencil, trityl, al(lower)alkylidene such as benzylidene, lower alkoxycarbonyl such as l-ethoxycarbonyl-2-10pylidene, dimethylaminomethylene, etc. ] Examples include amino groups substituted by conventional bed protection methods other than acyl nails, such as lower alkyritene substituted by alkylamino.

好適な「アシル基」、ならびに「アシルアミノ法」およ
び「アシルオキシ基」の好適な「アシル」部分としては
、カルバモイル基、脂肪族アシル基、および芳香環もし
くは複素環を含むアシル基が挙げられる。この場合、E
記アシルの好1Iyil1例としては、例えばホルミル
、アセチル、プロピオニル、ブチリル、インブチリル、
バレリル、イソバレリル、オキザリル、スクシニル、ピ
パロイル等の低級アルカノイル基、好ましくは炭素原子
1〜4個を有するもの、さらに好まし、〈は炭素原子1
〜2個を有するもの; 例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロ
ポキンカルボニル、1−シクロプロピルエトキシカルボ
ニル、イソプロポキシカルボニル、メトキシカルボニル
、第三級ブトキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニ
ル、第三級ペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキシ
カルボニル等の、炭素原子2〜7個を有する低級アルコ
キシカルボ      iニル基、好ましくは炭素原子
3〜6個を有するもの; Ml エハメンル、エタンスルホニル、プロパンスルホ
ニル、イソプロパンスルホニル、ブタンスルホニル等の
低級アルカンスルホニル基; 例えばベンゼンスルホニル、トシル等のアレンスルホニ
ル基; 一躬 例えばフェニルアセチル、フェニルプロピオニル等のア
ル(低級)アルカノイル基; 例工はシクロへキシルアセチル、シクロペンチルアセチ
ル等のシクロ(低級)アルキル(低級)アルカノイル基
; 例えばペンチルオキシカルボニル、フエネチルオキン力
ルボニル等のアル(低級ノアルコキシカルボニル基等が
挙げる。
Suitable "acyl groups" and suitable "acyl" moieties of "acylamino method" and "acyloxy group" include carbamoyl groups, aliphatic acyl groups, and acyl groups containing aromatic or heterocycles. In this case, E
Preferred examples of the acyl include formyl, acetyl, propionyl, butyryl, imbutyryl,
Lower alkanoyl groups such as valeryl, isovaleryl, oxalyl, succinyl, piparoyl, preferably those having 1 to 4 carbon atoms, more preferably < is 1 carbon atom
-2; For example, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, propoquinecarbonyl, 1-cyclopropylethoxycarbonyl, isopropoxycarbonyl, methoxycarbonyl, tertiary butoxycarbonyl, pentyloxycarbonyl, tertiary pentyloxycarbonyl, hexyl Lower alkoxycarbonyl groups having 2 to 7 carbon atoms, preferably those having 3 to 6 carbon atoms, such as oxycarbonyl; Alkanesulfonyl groups; For example, arenesulfonyl groups such as benzenesulfonyl and tosyl; Al(lower) alkanoyl groups such as phenylacetyl and phenylpropionyl; Examples include cyclo(lower) alkyl groups such as cyclohexylacetyl and cyclopentylacetyl; (lower) alkanoyl group; Examples include a (lower noalkoxycarbonyl group) such as pentyloxycarbonyl and phenethyloxycarbonyl.

アシルアミノ基の好ましい例としては、例えばホルムア
ミド、アセトアミド、プロピオニルアミノ、ブチリルア
ミノ、インブチリルアミノ、バレリルアミノ、イソバレ
リルアミノ、オキサリルアミノ、スクシニルアミノ、ピ
バロイルアミノ等の低級アルカノイルアミノ基; 例えばメトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニル
アミノ、プロポキシカルボニルアミノ、1−シクロプロ
ピルエトキシカルポニルアミノ、イソプロポキンカルボ
ニルアミノ、第三級ブトキシカルボニルアミノ、ペンチ
ルオキシカルボニルアミノ、ヘキシルオキシカルボニル
アミノ等の低級アルコキシカルボニルアミノ基等が挙げ
られる。 ・好適な「保護さnたヒドロキシ法」、およ
び「保護されたヒドロキシ基を有する低級脂肪族炭化水
素基」の好適な「保護されたヒドロキシ」部分としては
、アシル部分が前と同じ意味であるアシルオキシ基、お
よび前述のアル(低級)アルキルのようなアシル梧以外
の慣用の保護基によって16換されたヒドロキシ基が挙
げられる。
Preferred examples of the acylamino group include lower alkanoylamino groups such as formamide, acetamido, propionylamino, butyrylamino, imbutyrylamino, valerylamino, isovalylamino, oxalylamino, succinylamino, and pivaloylamino; for example, methoxycarbonylamino, ethoxy Examples include lower alkoxycarbonylamino groups such as carbonylamino, propoxycarbonylamino, 1-cyclopropylethoxycarbonylamino, isopropoquinecarbonylamino, tertiary butoxycarbonylamino, pentyloxycarbonylamino, and hexyloxycarbonylamino. - As for the preferred "protected hydroxy method" and the preferred "protected hydroxy" moiety of the "lower aliphatic hydrocarbon group having a protected hydroxy group," the acyl moiety has the same meaning as before. Included are acyloxy groups and 16-substituted hydroxy groups with conventional protecting groups other than acyl groups, such as the alkyl groups mentioned above.

保護されたヒドロキシ基の好ましい例としては、例えば
ホルミルオキシ、アセトキシ、プロピオニルオキシ、ブ
チリルオキシ、バレリルオキシ等の低級アルカノイルオ
キシ基等が挙げられる。
Preferred examples of the protected hydroxy group include lower alkanoyloxy groups such as formyloxy, acetoxy, propionyloxy, butyryloxy, and valeryloxy.

好適なし保護されたカルボキン基」、2よび「保護され
たカルボキシMif有する低級脂肪族炭化水素基」の好
適な「保護されたカルボキシ1部分としでは、エステル
化されたカルボキン基が挙げらn、<のエステルとして
は、例えばメチルエステル、エチルエステル、プロピル
エステル、イソプロピルエステル、ブチルエステル、イ
ソブチルエステル、第三級ブチルエステル、ペンチルエ
ステル、41. E 級ヘンチルエステル、ヘキシルエ
ステル、1−ンクロプロビルエチルエステル等の低級ア
ルキルエステルで、低級アルキル部分が好丑しくは炭素
1束子1〜4個を有するもの;例エバビニルエステル、
アリルエステル等の低級アルケニルエステル、 例えばエチニルエステル、グロビニルエステル等の低級
アルキルエステル; 例えは2−ヨウ化エチル、2,2.2− )リクロロエ
チルエステル等のモノ(またはジまたはトリ)−ハロ(
低1.lアルキルエステル; ml、tJfアセトキシメチルエステル、プロピオニル
オキシメチルエステル、1−アセトキシプロピルエステ
ル、バレリルオキシメチルエステル、ピバロイルオキシ
メチルエステル、ヘキサノイルオキシメチルエステル、
l−アセトキシエチルエステル、2−プロピオニルオキ
シエチルエステル、1−インプチリルオキシエチルエス
テル等の低級アルカノイルオキシ(低級ノアルキルエス
テル;例、t ハメシルメチルエステル、2−メシルエ
チルエステル等の低級アルカンスルホニル(低級)アル
キルエステル; アル(低級]アルキルエステル、その例として、例エバ
ペンシルエステル、4−メトキシベンジルエステル、4
−ニトロベンジルエステル、フェオチルエステル、トリ
チルエステル、ベンス゛ヒドリルエステル、ビス(メト
キシフェニルンメチルエステル、3,4−ジメトキシベ
ンジルエステル、4−ヒドロキシ−3,5−ジー第三級
グチルベンジルエステル等の1細組Eの適当な置換基で
置換されていてもよいフェニル(低級ノアルキルエステ
ル; 例えばメトキシカルボニルオキシメチルエステル、エト
キシ力ルホニルオキシメチルエステル、エトキシ力ルホ
ニルオキシエチルエステル等の、アジドによって置換さ
れていてもよい低級アルコキシカルボニル万キシ(低級
)アルキルエステル:俟素環エステル、好ましくはオキ
ソ基によって置換ざnていてもよいベンゾテトラヒドロ
フリルエステル、さらに好−ましくはフタリジルエステ
ル;例工はベンゾイルオキシメチルエステル、ベンゾイ
ルオキシエチルエステル、トルオイルオキシエチルエス
テル等のアロイルオキシ((a級)アルキルエステル; ル 例エバフェニルエステル、ト1体エステル、第三級ブチ
ルフェニルエステル、キシリルエステル、メシチルエス
テル、クメニルエステル等の1細線Fの適当な置換紙ヲ
有していてもよいアリールエステル等のようなエステル
が挙けられる。
Preferred examples of the "protected carboxy 1 moiety" of the "protected carboxyl group", 2 and "lower aliphatic hydrocarbon group having a protected carboxy Mif" include an esterified carboxyne group, n, < Examples of esters include methyl ester, ethyl ester, propyl ester, isopropyl ester, butyl ester, isobutyl ester, tertiary butyl ester, pentyl ester, 41. Lower alkyl esters such as those in which the lower alkyl moiety preferably has 1 to 4 carbon atoms; e.g. eva vinyl ester,
Lower alkenyl esters such as allyl esters, lower alkyl esters such as ethynyl esters and glovinyl esters; mono(or di- or tri)- such as 2-ethyl iodide, 2,2.2-)lichloroethyl esters, etc. Halo(
Low 1. l alkyl ester; ml, tJf acetoxymethyl ester, propionyloxymethyl ester, 1-acetoxypropyl ester, valeryloxymethyl ester, pivaloyloxymethyl ester, hexanoyloxymethyl ester,
Lower alkanoyloxy (lower noalkyl esters such as l-acetoxyethyl ester, 2-propionyloxyethyl ester, 1-impltyryloxyethyl ester; lower alkanesulfonyl such as t-hamesylmethyl ester, 2-mesylethyl ester, etc.) (lower) alkyl ester; al(lower) alkyl ester, examples of which include e.g. evapencil ester, 4-methoxybenzyl ester, 4-methoxybenzyl ester;
-Nitrobenzyl ester, pheothyl ester, trityl ester, benzhydryl ester, bis(methoxyphenylene methyl ester, 3,4-dimethoxybenzyl ester, 4-hydroxy-3,5-di-tertiary butylbenzyl ester, etc.) Phenyl (lower noalkyl ester; substituted by azide, such as methoxycarbonyloxymethyl ester, ethoxysulfonyloxymethyl ester, ethoxysulfonyloxyethyl ester, etc.), which may be substituted with a suitable substituent of subgroup E; Lower alkoxycarbonyl maxi(lower) alkyl ester which may be substituted with oxo group: pyrocyclic ester, preferably benzotetrahydrofuryl ester which may be substituted with oxo group, more preferably phthalidyl ester; is aroyloxy ((a) class) alkyl ester such as benzoyloxymethyl ester, benzoyloxyethyl ester, toluoyloxyethyl ester; Mention may be made of esters such as esters, aryl esters, etc., which may have a suitable substitution paper of one fine line F, such as esters, cumenyl esters, etc.

保護さnたカルボキン基の好適な例としては、例エハメ
トキシカルホニル、エトキンカルボニル、プロホキシ力
ルホニル、プトキシ力ルホニル、第三級ブトキシカルボ
ニル、第三級ペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキ
シカルボニル等の炭素原子2〜7個?有する低級アルコ
キシカルボニル基、好ましくは炭素原子2〜5個を有す
るもの、および、例えば4−ニトロベンジルオキシカル
ボニル、ベンジルオキシカルボニル、ペンスヒドリルオ
キンカルポニル、4−ニトロフェネチルオキシカルボニ
ル等の、ニトロ基によっ℃置換されていてもよいフェニ
ル(低級ノアルコキシカルボニル承が挙げらrる。
Suitable examples of protected carboxyl groups include ehamethoxycarbonyl, etquincarbonyl, propoxysulfonyl, poxysulfonyl, tertiary butoxycarbonyl, tertiary pentyloxycarbonyl, hexyloxycarbonyl, and the like. 2-7 carbon atoms? lower alkoxycarbonyl groups, preferably those having 2 to 5 carbon atoms; Therefore, optionally substituted phenyl (lower noalkoxycarbonyl is included).

好4な「アリール紙」および[ハローアル(低級〕アル
キル基」の好適な「アリール9部分としては、フェニル
、ナフチル、キシリル、メシチル、クメニル等が挙けら
れる。
Examples of the preferred "aryl paper" and the preferred "aryl 9 moiety" of the "haloal (lower) alkyl group" include phenyl, naphthyl, xylyl, mesityl, cumenyl, and the like.

好適なハロケンとしては、フッ素、塩素、臭素お・よび
ヨウ素が挙げられる。
Suitable halokenes include fluorine, chlorine, bromine and iodine.

好適な「低級アルキル基」、ならびに「低級アルキルチ
オ、lEj、rハローアル(低級)アルキル基」、「低
級アルカノイルオキシ(低級ノアルキル&J、rベンズ
ヒドリルオキシヵルホニル(低級Jアルキル散」および
Uニトロベンジルオキシカルボニル(低級)アルキル基
」の好適な「低級アルキル」部分としては、メチル、エ
チル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、
第三b々ブチル、ペンチル、第三級ペンチル、ヘキシル
等のよう7zl〜6個の炭素原子を有する直鎖アルキル
または分枝アルキルが挙げられる。
Suitable "lower alkyl groups", as well as "lower alkylthio, lEj, r haloal(lower) alkyl groups", "lower alkanoyloxy (lower noalkyl & J, r benzhydryloxycarbonyl (lower J alkyl dispersion)" and U nitro Suitable "lower alkyl" moieties of "benzyloxycarbonyl (lower) alkyl group" include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl,
Mention may be made of straight-chain or branched alkyls having from 7zl to 6 carbon atoms, such as tertiary-butyl, pentyl, tertiary-pentyl, hexyl, and the like.

好適な「低級アルケニルIJ、およびU低級アルコキシ
カルボニル(低級〕アルケニル基」の好適な「低級アル
ケニル」部分としては、ビニル、■−プロペニル、アリ
ル、1−メチルアリル、1または2または3−ブテニル
、1′!たFi2筐たは3または4−ペンテニル、Iま
たは2または3または4または5−へキセニル等のよう
な2〜6個の炭素原子を有する直鎖アルケニ/L−また
は分枝アルケニルが挙けらnる。
Preferred "lower alkenyl" moieties of "lower alkenyl IJ and U lower alkoxycarbonyl (lower] alkenyl group" include vinyl, ■-propenyl, allyl, 1-methylallyl, 1 or 2 or 3-butenyl, 1 '! Fi2 or straight chain alkeni/L- or branched alkenyl having 2 to 6 carbon atoms such as 3 or 4-pentenyl, I or 2 or 3 or 4 or 5-hexenyl etc. Keranuru.

「低級アルコキシカルボニルf 低級)アルケニル基J
の「低級アルコキシカルボニル」部分および[低級アル
カノイルオキシ(低級)アルキル&」の「低級アルカノ
イル1部分としてハ、「アシルJの定義で例示したもの
と同じ・もの2挙げることができる。
"Lower alkoxycarbonyl f lower) alkenyl group J
As the "lower alkoxycarbonyl" moiety and the "lower alkanoyl moiety of [lower alkanoyloxy(lower)alkyl &]", the same compounds as those exemplified in the definition of "acyl J" can be mentioned.

目的化合物の好ましい例を次に例示する。Preferred examples of the target compound are illustrated below.

R1の好ましい例は水素、アミノまたは低級アルカノイ
ルアミノであり、R2の好ましい例に水素、低級アルキ
ル、低級アルケニル、低級アルキニル、シクロ(低級)
アルクニル、シアノ(低級)アルキル、低級アルキルチ
オ(低級ジアルキル、アミノ(低級〕アルキル、アシル
アミノ(低級ジアルキル〔さらに好ましくは低級アルコ
キシカルボニルアミノ(低級]アルキル〕、ヒドロキシ
(低級)アルキル、アシルオキシ(低級)アルキル〔さ
らに好まり、(は低級アルカノイルオキシ(低級ジアル
キル〕、アル(低級)アルキル〔さらに好まL<Uフェ
ニル(低級)アルキル〕、ハローアル(低級]アルキル
〔ざらに好ましくはハローフェニル(低級)アルキル〕
、カルボキシ(低級)アルキル、エステル化されたカル
ホキシ(低級)アルkr−ルCサラに好ましくは低級ア
ルコキシカルボニル(低級ジアルキル、例えばモノまた
はンーフェニル(低級)アルコキシカルボニル(低級〕
アルキル等のアル(低級)アルコキシカルボニル(低級
)アルキル、例えばニトロフェニル(低級ンアルコキシ
力ルボニル(低級〕アルキル等のニトロ−アル(低i)
アルコキシカルボニル(低級ジアルキル〕、カルボキシ
(4U&)アルキルチオはエステル化されたカルボキシ
(低級)アルケニル〔さらに好ましくは低級アルコキシ
カルボニル(低級)アルケニル〕である。
Preferred examples of R1 are hydrogen, amino, or lower alkanoylamino, and preferred examples of R2 include hydrogen, lower alkyl, lower alkenyl, lower alkynyl, and cyclo (lower).
Alknyl, cyano (lower) alkyl, lower alkylthio (lower dialkyl, amino (lower) alkyl, acylamino (lower dialkyl [more preferably lower alkoxycarbonylamino (lower) alkyl]), hydroxy (lower) alkyl, acyloxy (lower) alkyl [ More preferably, (is lower alkanoyloxy (lower dialkyl), al (lower) alkyl [more preferably L<U phenyl (lower) alkyl], haloal (lower) alkyl [most preferably halo phenyl (lower) alkyl]
, carboxy(lower) alkyl, esterified carboxy(lower) alkyl, preferably lower alkoxycarbonyl (lower dialkyl, e.g. mono- or -phenyl(lower) alkoxycarbonyl (lower))
Al(lower)alkoxycarbonyl(lower)alkyl such as alkyl, nitro-al(lower)alkyl such as nitrophenyl(lower alkoxycarbonyl(lower)alkyl)
Alkoxycarbonyl (lower dialkyl) and carboxy(4U&)alkylthio are esterified carboxy(lower)alkenyl [more preferably lower alkoxycarbonyl(lower)alkenyl].

この発明の目的化合物の製造法を以[詳細に説明する。The method for producing the object compound of this invention will be described in detail below.

製造法1 目的化合物〔1〕またはその塩は、化合物〔u〕または
アミン基におけるその反応性誘導体またはその塩を、化
合物臼l′3またにカルボキシ基における七の反応性誘
導体またはその塩と反応させることによって製造するこ
とができる。
Production method 1 The target compound [1] or a salt thereof is obtained by reacting the compound [u] or a reactive derivative thereof at an amine group or a salt thereof with a reactive derivative thereof or a salt thereof at a carboxy group or a compound l'3. It can be manufactured by

化合物〔ll)のアミン基における好適な反応性誘導体
としては、化合物〔l)とアルデヒド、ケトン寺のよう
なカルホニル化合物との反応によって生成したンッフの
塩基型のイミノまたにその互変異性エナミン型異性体:
化合物〔田〕とビス(トリメチルシリル]アセトアミド
等のようなシリル化合物との反応によって生成したシリ
ル誘導体;化合物[11〕と三塩化リンまたはホスゲン
との反応によって生成した誘導体等が挙げられる。
Suitable reactive derivatives of the amine group of compound [ll) include imino base type of nuff produced by reaction of compound [l) with carbonyl compounds such as aldehydes and ketones, and its tautomeric enamine type. Isomers:
Silyl derivatives produced by the reaction of the compound [11] with a silyl compound such as bis(trimethylsilyl)acetamide; derivatives produced by the reaction of the compound [11] with phosphorus trichloride or phosgene, and the like.

化合物〔田〕および[1)の好適な塩としては、例えば
酢酸塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、ベンゼンスルホン酸
塩、トルエンスルホン酸塩等の6機酸塩、例えは塩酸塩
、臭化水素酸塩、硫酸塩、リン酸塩等の無機酸塩のよう
な酸は加塩;例えばナトリウム塩、カリウム塩、カルシ
ウム塩、マクネシウム塩等の金属塩;アンモニウム塩;
例えばトリエチルアミン塩、ジシクロヘキシルアミン塩
等の有機アミン塩等が挙げられる。
Suitable salts of compounds [Tan] and [1) include hexagonal salts such as acetate, maleate, tartrate, benzenesulfonate, toluenesulfonate, etc., such as hydrochloride, hydrogen bromide, etc. Salts of acids such as inorganic acid salts such as acid salts, sulfates, phosphates; metal salts such as sodium salts, potassium salts, calcium salts, magnesium salts; ammonium salts;
Examples include organic amine salts such as triethylamine salt and dicyclohexylamine salt.

化合物〔―〕のカルボキシ基における好適な反応性誘導
体としては、酸ハロゲン化物、酸無水物、活性化アミド
、活性化エステル等が挙げら汎る。
Suitable reactive derivatives for the carboxy group of compound [-] include acid halides, acid anhydrides, activated amides, activated esters, and the like.

その好適な例とし1は、酸塩化物、酸アジド;例えばジ
アルキルリン酸、フェニルリン酸、ジフエニルリン酸、
ジベンジルリン酸、ハロゲン化リン酸等の置換されたリ
ン酸、ジアルキル亜リン酸、亜1iilt酸、チ第4t
’J、硫酸、アルキル炭酸、例えばピバリン酸、ペンタ
ン酸、インペンタン酸、2−エチル酪酸またはトリクロ
ロ酢酸等の脂肪族カルボン酸または例えは安息香酸等の
芳香族カルボン酸のような暖との混合酸無水物;対称酸
無水物;イミダゾール、4−置換イミダゾール、ジメチ
ルピラゾール、トリアゾールまたはテトラゾールとの1
古性化アミド;例えばシアンメチルエステル、メトキシ
メチルエステル、ジメチルイミノメチル十 C(CMB32N=−Cti−1エステノペビニルエス
テル、プロパルギルエステル、p−ニトロフェニルエス
テル、2.4−ジニトロフェニルエステル、トリクロロ
フェニルエステル、ペンククロロフェニルエステル、メ
シルフェニルエステル、フェニルアゾフェニルエステル
、フェニルチオエステル、P−ニトロフェニルチオエス
テル、p−クレジルチオエステル、カルホキジメチル千
オニステル、ピラニルエステル、ピリジルエステル、ピ
ペリジルエステル、8−キノリルチオエステル等の活性
化エステルまたは例えばN、N−ジメチルヒドロキシル
アミン、1−ヒドロキシ−2−(lti)−ピリドン、
N−ヒドロキシスクシンイミド、N−ヒドロキシフタノ
ールイミド、l−ヒドロキシ−6−クロロ−1ti−ベ
ンゾトリアゾール等のN−ヒドロキシ化合物とのエステ
ル等が挙げられる。これらの反応性誘導体は使用すべき
化合物〔−〕の礫類によってL記の中から適宜選択する
ことができる。
Preferred examples include acid chlorides, acid azides; for example, dialkyl phosphoric acid, phenyl phosphoric acid, diphenyl phosphoric acid,
Substituted phosphoric acid such as dibenzyl phosphoric acid, halogenated phosphoric acid, dialkyl phosphorous acid, 1IIIt acid, tertiary quaternary phosphoric acid
'J, mixtures with sulfuric acid, alkyl carbonates, aliphatic carboxylic acids such as pivalic acid, pentanoic acid, impentanoic acid, 2-ethylbutyric acid or trichloroacetic acid or aromatic carboxylic acids such as benzoic acid. Acid anhydride; Symmetrical acid anhydride; 1 with imidazole, 4-substituted imidazole, dimethylpyrazole, triazole or tetrazole
Paleoamide; e.g. cyan methyl ester, methoxymethyl ester, dimethyliminomethyl deca (CMB32N=-Cti-1 estenopevinyl ester, propargyl ester, p-nitrophenyl ester, 2,4-dinitrophenyl ester, tri- Chlorophenyl ester, penkchlorophenyl ester, mesyl phenyl ester, phenylazophenyl ester, phenylthioester, P-nitrophenyl thioester, p-cresyl thioester, calfoxydimethyl 1,000 ester, pyranyl ester, pyridyl ester, piperidyl ester, 8-quinolyl activated esters such as thioesters or e.g. N,N-dimethylhydroxylamine, 1-hydroxy-2-(lti)-pyridone,
Examples include esters with N-hydroxy compounds such as N-hydroxysuccinimide, N-hydroxyphthanolimide, and l-hydroxy-6-chloro-1ti-benzotriazole. These reactive derivatives can be appropriately selected from among the following depending on the type of compound [-] to be used.

反応は曲常、水、アセトン、ジオキサン、アセトニトリ
ル、クロロホルム、塩化メチレン、塩化エチレン、テト
ラヒドロフラン、酢酸エチル、N IN−ジメチルホル
ムアミド、ピリジンのような慣用の溶媒中で行なわれる
が、反応に悪影響ケ乃ぼきない有機溶媒であればその他
のいかなる溶媒でも使用することができる。これらの慣
用の溶媒は水と混合して使用してもよい。
The reaction is usually carried out in conventional solvents such as water, acetone, dioxane, acetonitrile, chloroform, methylene chloride, ethylene chloride, tetrahydrofuran, ethyl acetate, NIN-dimethylformamide, pyridine, but there are no adverse effects on the reaction. Any other organic solvent can be used as long as it is a non-toxic organic solvent. These conventional solvents may be used in combination with water.

化合物〔崖〕が遊離酸の形またはでの塩の形で使   
 1用される場合には、反応を、N、N’−ジシクロへ
キシルカルボジイミド;N−シクロヘキシル−N′−モ
ルホリノエチルカルボジイミド;N−シクロ。エ ヘキシル−N’−(4−ジ%チルアミノシクロヘキシル
)カルボジイミド:N、N’−ジエチルカルボジイミド
:N、N’−ジイソプロピルカルボジイミド;N−エチ
ル−N’−+8−ジメチルアミンプロピル〕力ルホシイ
ミド; N、N−カルボニルビス−(2−メチルイミダ
ゾール];ベンタメチレンケテンーヘーシクロヘキシル
イミン;ジフェニルケテン−N−シクロヘキシルイミン
;エトキシアセチレン;l−アルコキシ−1−クロロす
チレン;亜リン酸トリアルキル;ポリリン酸エチル;ポ
リリン酸イソプロピル;オキシ塩化リン(塩化ホスフオ
リル);三塩化リン:塩化チオニル;塩化オキザリル;
トリフェニルホスフィン:2−エチル−7−ヒトロキシ
ベンズイソオキサゾリウム塩;2−エチル−5−(m−
スルホフェニル)インオキサゾリウムヒドロギシド分子
内塩:1−(p−クロロベンゼンスルホニルオキシ)−
6−クロロ−IH−ベンゾトリアゾール;1−ヒドロキ
シベンゾトリアゾール;ジメチルホルムアミドと塩化チ
オニル、ホスゲン、オキシ塩化リン等との反応によって
調製したいわゆるビルスマイヤー試薬等のような慣用の
縮合剤の存在[に行なうことが望ましい。
When a compound [cliff] is used in the form of a free acid or in the form of a salt with
1, the reaction is performed with N,N'-dicyclohexylcarbodiimide;N-cyclohexyl-N'-morpholinoethylcarbodiimide; N-cyclo. Ehexyl-N'-(4-di% thylaminocyclohexyl)carbodiimide: N,N'-diethylcarbodiimide: N,N'-diisopropylcarbodiimide;N-ethyl-N'-+8-dimethylaminepropyl]sulfoshiimide; N, N-carbonylbis-(2-methylimidazole); bentamethyleneketene-cyclohexylimine; diphenylketene-N-cyclohexylimine; ethoxyacetylene; l-alkoxy-1-chlorostyrene; trialkyl phosphite; ethyl polyphosphate ; Isopropyl polyphosphate; Phosphorus oxychloride (phosphoryl chloride); Phosphorus trichloride: Thionyl chloride; Oxalyl chloride;
Triphenylphosphine: 2-ethyl-7-hydroxybenzisoxazolium salt; 2-ethyl-5-(m-
Sulfophenyl)inoxazolium hydroxide inner salt: 1-(p-chlorobenzenesulfonyloxy)-
6-chloro-IH-benzotriazole; 1-hydroxybenzotriazole; in the presence of a conventional condensing agent such as the so-called Vilsmeier reagent prepared by the reaction of dimethylformamide with thionyl chloride, phosgene, phosphorus oxychloride, etc. This is desirable.

この反応はまた、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属炭
酸水素塩、トリ(低級)アルキルアミン、ピリジン、ヘ
ー(低級)アルキルモルホリン、へ、N−ジー(低級〕
アルキルベンジルアミン等のような無機塩基または有機
塩基の存在「に行なってもよい。反応温度は特に限定さ
れず、通常は冷却「ないし常温の範囲で反応が行なわル
る。
This reaction also applies to alkali metal carbonates, alkali metal bicarbonates, tri(lower)alkylamines, pyridine, H(lower)alkylmorpholines, N-di(lower)
The reaction may be carried out in the presence of an inorganic or organic base such as an alkylbenzylamine. The reaction temperature is not particularly limited, and the reaction is usually carried out in the range of cooling to room temperature.

製造法2 化合物〔1〕またはその塩は、化合物〔1v〕またはそ
の塩をスルホ基の導入反応に付すことによって製造する
こ、とができる。
Production method 2 Compound [1] or a salt thereof can be produced by subjecting compound [1v] or a salt thereof to a sulfo group introduction reaction.

化合物〔1v〕の好適な塩としては、化合物〔1〕につ
いで例示したものと同じものを使用することができる。
As suitable salts for compound [1v], the same salts as those exemplified for compound [1] can be used.

この導入反応は、化合物[IDまたはその塩を三酸化イ
オウまた1−1tその反応性誘導体と反応させることに
よって行なうことができる。
This introduction reaction can be carried out by reacting the compound ID or a salt thereof with sulfur trioxide or a reactive derivative thereof.

三酸化イオウの好適な反応性誘導体としては、ピリジン
−三酸化イオウ、ルチジン−三酸化イオウ、シオギサン
ー三峻化イオウ、トリメチルアミン−三酸化イオウ、ジ
メチルホルムアミド−三酸化イ万つ、ピコリン−三酸化
イオウ等の各錯体等が挙げられる。
Suitable reactive derivatives of sulfur trioxide include pyridine-sulfur trioxide, lutidine-sulfur trioxide, sulfur trioxide-sulfur trioxide, trimethylamine-sulfur trioxide, dimethylformamide-sulfur trioxide, picoline-sulfur trioxide. Each complex etc. are mentioned.

この反月払に、例えば三塩化ホウ素、三フッ化ホウ素等
の三ハロゲン化ホウ素、例えば四塩化チタン、四臭化チ
タン等の四ハロゲン化チタン、例えば四塩化スス、四臭
化スズ等の四ハロゲン化スズ、1yIllえld’4化
アルミニウム、臭化アルミニウム等のアルミニウムハロ
ゲン化物、塩化1f、鉛、フッ化亜鉛等の亜鉛ハロゲン
化物、例えばトリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等のト
リハロゲン化酢酸等のよル うな−=冨Y’−酸の存在1′に著L〈促進されうる。
In addition to this reciprocal payment, boron trihalides such as boron trichloride and boron trifluoride, titanium tetrahalides such as titanium tetrachloride and titanium tetrabromide, and tetrahalogens such as soot tetrachloride and tin tetrabromide, etc. Aluminum halides such as tin oxide, aluminum quaternide, aluminum bromide, zinc halides such as 1f chloride, lead, zinc fluoride, trihalogenated acetic acids such as trichloroacetic acid, trifluoroacetic acid, etc. It can be significantly promoted by the presence of L = Y'-acid.

この反、7n 涌冨、水、ジメチルホルムアミド、ピリ
ジン等の溶媒中で付なわnるが、反応に悪影11金及ぼ
さない溶媒でろnはその他のいかなる俗煤も使用するこ
とができる。
On the other hand, any other common soot may be used in a solvent such as 7n, water, dimethylformamide, pyridine, etc., but which does not have an adverse effect on the reaction.

反応温度は特に限定されず、通常は冷却[、常温または
加温ドに反応が行なわれる。
The reaction temperature is not particularly limited, and the reaction is usually carried out under cooling, room temperature, or heating.

製造法3 目的化合物[1b)またはその塩に、化合物〔1a〕ま
たはその塩を、塊におけるアミン保護法の脱離反応に付
すことによって製造することができる。
Production method 3 The target compound [1b) or its salt can be produced by subjecting the compound [1a] or its salt to an elimination reaction using an amine protection method in a lump.

化合物〔1a〕の好適な塩としては、化合h+cI″3
について例示した金属塩、アンモニウム塩および有機ア
ミン塩を使用することができる。
A suitable salt of compound [1a] is compound h+cI″3
The metal salts, ammonium salts and organic amine salts exemplified for can be used.

脱離反応は、加水分解;還元: <における保護された
アミン部分がアシルアミノである化合物〔1a〕ケイミ
ノハロゲン化削、イミノエーテル化剤で処理し、次いで
、要すれば生成物を加水分解する方法のような慣用■方
法によって行なうことができる。加水分解法としては酸
または塩基、またはヒドラジン等を開用する方法が挙げ
られる。こnら嘩 の方法は脱離すべき保護基の種類によって選択すnばよ
い。
Elimination reaction is hydrolysis; reduction: Compound [1a] in which the protected amine moiety is acylamino [1a] Cheiminohalogenation, treatment with an iminoetherification agent, and then, if necessary, hydrolyzing the product It can be carried out by conventional methods such as method. Examples of the hydrolysis method include methods using acids, bases, hydrazine, and the like. These methods may be selected depending on the type of protecting group to be removed.

F記の方法中、酸?用いる加水分解は、置換もしくは非
置換アラコキシカルボニル例えば第三級ブトキシカルボ
ニル、第三級ペンチルオキシカルボニル;例えばホルミ
ル、アセチル等の低級アルカノイル;シクロアルコキシ
カルボニル;置換もしくは非置換アラルコキシカルボニ
ル;アラルギル例えばトリチル;置換されたフェニルチ
オ;置換されたアラルキリデン;置換さルたアルキリデ
ン、置換されたシクロアルキリデン等のような保護紙の
脱離に最も一般的かつ好ましい方法の一つである。
In method F, acid? The hydrolysis used may include substituted or unsubstituted aralkoxycarbonyl, such as tertiary butoxycarbonyl, tertiary pentyloxycarbonyl; lower alkanoyl, such as formyl, acetyl, etc.; cycloalkoxycarbonyl; substituted or unsubstituted aralkoxycarbonyl; aralgyl, e.g. It is one of the most common and preferred methods for the removal of protective papers such as trityl; substituted phenylthio; substituted aralkylidene; substituted alkylidene, substituted cycloalkylidene, etc.

好I陶な酸としては、ギ酸、トリフルオロ酢酸、ベンゼ
ンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、塩酸等の有機
酸も[7〈は無機酸が挙げられるが、第、も唾した酸は
反応混合物から減圧蒸留のような翫法Vこよって容易に
回収されうる犠であり、その例としてギ酸、トリフルオ
ロ酢酸、塩酸等が挙げられる。酸の種類は脱離すべき保
護基の種類によって選択することができる。fil用い
て脱離反応を行なう場合、反応を溶媒の存在[またに溶
媒ケ存在させずに行なうことができる。好適な溶媒とし
ては、水、慣用の有fli溶媒またにそれらの混合物が
挙げられる。
Examples of suitable acids include organic acids such as formic acid, trifluoroacetic acid, benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, and hydrochloric acid. Examples of such substances include formic acid, trifluoroacetic acid, and hydrochloric acid. The type of acid can be selected depending on the type of protecting group to be removed. When the elimination reaction is carried out using fil, the reaction can be carried out in the presence of a solvent (or in the absence of a solvent). Suitable solvents include water, conventional solvents or mixtures thereof.

トリフルオロ酢酸を使用する脱離反応はアニソールの存
在FK行なってもよい。ヒドラジンを用いる加水分解は
、フタロイル、スクシニル型ノアミノ保護基の脱離に共
通して使用される。
Elimination reactions using trifluoroacetic acid may also be carried out in the presence of anisole. Hydrolysis with hydrazine is commonly used to remove phthaloyl, succinyl-type noamino protecting groups.

塩茫を用いる脱離はトリフルオロアセチルのようなアシ
ル基の脱離に用いられる。好適な塩酸としては無機塩基
訃よび有機塩基が挙げられる。
Elimination using chloride is used to eliminate acyl groups such as trifluoroacetyl. Suitable hydrochloric acids include inorganic bases and organic bases.

還元による脱離は一般的に、例えばトリクロロエトキシ
カルボニル等のハロアルコキンカルボニル、例工ばベン
ジルオキシカルボニル等のh換もしくは非置換アラルコ
キン力ルボニル、2−ピリジルメトキシカルボニル等の
保護法の脱離に適用さnる。好適な還元法としては、そ
の例として、例えば水素化ホウ素ナトリウム等の水素化
ホウ素アルカリ金属による還元;例えばスズ、亜鉛、鉄
等の金属もしくはこれらの金属ならひに例えば塩化第一
クローム、酢酸第一クローム等の金属塩と、例えば酢酸
、プロピオン酸、塩酸等の有機@または無機酸との組合
わせpよび接触還元が挙けられる。好適な触媒としては
、例えばラネーニッケル、酸化白金、パラジウム−黒等
が挙げらnる。
Elimination by reduction is generally used for the elimination of protected methods such as haloalcoquine carbonyl such as trichloroethoxycarbonyl, h-substituted or unsubstituted aralcoquine carbonyl such as benzyloxycarbonyl, and 2-pyridylmethoxycarbonyl. Applies. Suitable reduction methods include, for example, reduction with an alkali metal borohydride, such as sodium borohydride; metals such as tin, zinc, iron, or these metals, such as chromous chloride, dichloromethane acetate, etc. Examples include combinations of metal salts such as monochrome with organic or inorganic acids such as acetic acid, propionic acid, hydrochloric acid, and catalytic reduction. Suitable catalysts include, for example, Raney nickel, platinum oxide, palladium black, and the like.

保護紙中、アシル基は通常加水分解によって脱離するこ
とができる。とくに、ハロゲン置換アルコキシカルボニ
基および8−キノリルオキシカルボニル仄は通常、銅、
亜鉛等の重金属処理によって脱離さnる。
In the protective paper, the acyl groups can usually be removed by hydrolysis. In particular, halogen-substituted alkoxycarbonyl groups and 8-quinolyloxycarbonyl groups are usually copper,
It is eliminated by treatment with heavy metals such as zinc.

さらに保護基中、アシル基はまた、例えばオキシ塩化リ
ン等のイミノハロゲン化削および例えばメタノール、エ
タノール等の低級アルカノールのようなイミノエーテル
化剤による処理を竹ない、次いで必要に応じて加水分解
ヲ11なうことによって脱離することもh」能である。
Furthermore, among the protecting groups, the acyl group can also be removed by iminohalogenation, e.g. It is also possible to detach by

反応温度は特に限定さnず、アミノ保護基の種類および
前記脱離法の種類によって適宜選択することができ、冷
却トないし岨若干加濡する程度の温度のような温和な条
件Fに反応を行なうことが好ましい。
The reaction temperature is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the type of amino protecting group and the type of the above-mentioned elimination method. It is preferable to do so.

この発明に2いては、反応中またはこの操作の段矯理工
程中に、別の保護さ4たアミノ基および/または保護さ
れたカルボキシ基および/または保護されたヒドロキシ
基が対応する遊離アミノ基および/または遊離カルボキ
シ基および/または遊離ヒドロキシ基に変化する場合も
その範囲内に包含される。
In accordance with the present invention, during the reaction or during the straightening step of this operation, another protected amino group and/or a protected carboxy group and/or a protected hydroxy group is removed from the corresponding free amino group. And/or a change to a free carboxy group and/or a free hydroxy group is also included within the scope.

製造法4 目的化合物[Id’:またはその塩は、化合物〔Iりま
たはその塩を= N −OR′cにおけるヒドロキシ保
護基の脱離反応に付すことによって製造することができ
る。
Production method 4 The target compound [Id': or a salt thereof can be produced by subjecting the compound [Id' or a salt thereof to an elimination reaction of the hydroxy protecting group at =N-OR'c.

化合物[IO3の好適な塩としては、化合物〔l〕につ
いて例示したものを使用することができる。
As suitable salts of compound [IO3, those exemplified for compound [1] can be used.

ル この脱離反応は加水分解、還元、#=ツベス酸を用いる
脱離、酵素触媒加水分解等のような慣用の方法によって
行なわ扛る。
This elimination reaction is carried out by conventional methods such as hydrolysis, reduction, elimination using tubesic acid, enzyme-catalyzed hydrolysis, etc.

L記の化学的方法に製造法5で説明する方法を参照すれ
ばよい。
The method described in Production Method 5 may be referred to for the chemical method in Section L.

酵素触媒加水分解は、ヒドロキシ保護紙が前述のアシル
である化合物CIC′3w、微生物から得られたエステ
ラーゼと接触させることによって行なうことができる。
Enzyme-catalyzed hydrolysis can be carried out by contacting the hydroxy-protected paper with the aforementioned acyl compound CIC'3w, an esterase obtained from a microorganism.

この発明に、Pいて使用ざnる好適な微生物としては、
保護アシル基を加水分解するエステラーゼ□□−ツ のようなAureobasidi■属に属する菌株が挙
げられる。
Suitable microorganisms to be used in this invention include:
Examples include strains belonging to the genus Aureobasidi, such as esterases that hydrolyze protected acyl groups.

エステラーゼはいくつかの違った形でアシル基の加水分
解に使用することができる。すなわち例えば、液状培養
ブロスの試料それ自体をエステラーゼ源として使用する
ことができる。
Esterases can be used to hydrolyze acyl groups in several different ways. Thus, for example, a sample of liquid culture broth itself can be used as a source of esterase.

エステラーゼは好ましくは、水または緩衝溶液のような
水性媒質中、20〜40℃で、pH5〜7で化合物[1
clと接触させる。
The esterase is preferably used to synthesize the compound [1
Contact with cl.

このようにして培養グロス中に生成した目的化合物は常
法によって単離し、精製することができる。
The target compound thus produced in the cultured tissue can be isolated and purified by conventional methods.

製造法5 目的化合物[If]またはその塩は、化合物〔le〕ま
たはその塩を、R′+9におけるカルボキシ保護基の脱
離反応に付すことによって製造することができる。
Production method 5 The target compound [If] or a salt thereof can be produced by subjecting the compound [le] or a salt thereof to an elimination reaction of the carboxy protecting group at R'+9.

化合物[1e’:lの好適な塩としては、化合物mにつ
いて例示した酸は加塩を使用することができる。
As a suitable salt of the compound [1e':l, the acid exemplified for the compound m can be used as a salt.

この脱離反応には、カルボキシ保護基の脱離反応に使用
されるすべての慣用の方法、例えば加水分解、還元、牛
=1マス酸を用いる脱離等を適用することができる。カ
ルボキシ保護基がエステノν■し である場合、保護基は加水分解または≠:=にス酸を用
いる脱離法によって脱離することができる。
All conventional methods used for the elimination reaction of carboxy protecting groups can be applied to this elimination reaction, such as hydrolysis, reduction, elimination using bovine=1 mass acid, etc. When the carboxy protecting group is an ester, the protecting group can be removed by hydrolysis or an elimination method using sulfuric acid.

加水分解は好ましくは塩基または酸の存在[に行なわれ
る。
Hydrolysis is preferably carried out in the presence of a base or an acid.

好適な塩基としては、前述の無機塩基および有機塩基が
挙げられる。
Suitable bases include the inorganic bases and organic bases mentioned above.

好適な酸としては、例えばギ酸、酢酸、7′ロピオン酸
、トリフルオロ酢酸等の有機酸、例えば塩酸、臭化水素
酸、硫酸等の無機酸が挙げられる。
Suitable acids include organic acids such as formic acid, acetic acid, 7'ropionic acid, trifluoroacetic acid, and inorganic acids such as hydrochloric acid, hydrobromic acid, sulfuric acid.

この加水分解は通常、有機溶媒、水またはそnらの混合
溶媒中で行なわれる。
This hydrolysis is usually carried out in an organic solvent, water or a mixed solvent thereof.

反応温度は特に限定されず、カルボキシ保護基の種類お
よび脱離法の種類によって適宜選択すればよい。
The reaction temperature is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the type of carboxy protecting group and the type of elimination method.

キー1歿ス酸を用いる脱離法は、好ましくは置換もしく
は非置換アル(低級ノアルキルエステルの脱1i11に
適用され、化合物Cue:まだはその塩?、例えば三塩
化ホウ素、三フッ化ホウ素等の三ハロゲン化ホウ素、例
えば四塩化チタン、四臭化チタン等の四ハロゲン化チタ
ン、例えば四塩化スズ、四臭化スス等の四ハロゲン化ス
ス、塩化アルミニウム、臭化アルミニウム等のアルミニ
ウムハロゲン化物、例えばトリクロロ酢酸、トリフルオ
ロ酢ル 酸等のトリハロゲン化酢酸等のよう’KMス酸と反応さ
せることによって行なわnる。脱離反応は好tt、<は
、例えばアニソール、フェノール等のカチオン捕捉剤の
存在[に行なわれ、通常は例えばニトロメタン、ニトロ
エタン等のニトロアルカン、例えば塩化メチレン、塩化
エチレン等のハロゲン化アルキレン、ジエチルエーテル
、二硫化炭素等のような溶媒中で行なわれるが、反応に
悪影響?及ぼさない溶媒であればいかなる溶媒でも使用
することができる。これらの溶媒はそれらの混合物とし
て使用してもよい。反応温度は特に限定されず、通常は
冷却F、常温または加温ドに反応が行なわれる。
The elimination method using sulfuric acid is preferably applied to the elimination of substituted or unsubstituted alkyl esters (lower alkyl esters), such as compounds such as boron trichloride, boron trifluoride, etc. Boron trihalides, such as titanium tetrahalides such as titanium tetrachloride and titanium tetrabromide, soot tetrahalides such as tin tetrachloride and soot tetrabromide, aluminum halides such as aluminum chloride and aluminum bromide, For example, trihalogenated acetic acids such as trichloroacetic acid and trifluoroacetic acid are reacted with a KM acid.Elimination reaction is preferable. It is usually carried out in a solvent such as a nitroalkane such as nitromethane or nitroethane, a halogenated alkylene such as methylene chloride or ethylene chloride, diethyl ether, carbon disulfide, etc., but the reaction may be adversely affected. Any solvent can be used as long as it does not cause any will be carried out.

還元による脱1i1Hj、好ましくは、例えば2−ヨウ
化エチル、2,2.2−トリクロロエチル等のハロ(低
級ンアルキルエステル、例えばベンジル等のアル(低級
ンアルキルエステル等のような保護基の脱離に適用され
る。
Removal by reduction, preferably of protective groups such as halo (lower alkyl esters such as 2-ethyl iodide, 2,2,2-trichloroethyl), al (lower alkyl esters such as benzyl), etc. Applies to distance.

脱離に適用されうる還元法の例としては、例えば亜鉛、
亜鉛アマルガム等の金属または例えば塩化第一クローム
、酢酸第一クローム等のクローム化合物の塩と、例えば
酢酸、プロピオン酸、塩酸等の有機酸もしくは無機酸と
の組合わせを用いる還元、および例えばパラジウム−黒
、うオーニラ唾 ケル等の慣用の金属触媒の存在FKおける慣用の接触還
元が挙げられる。
Examples of reduction methods that can be applied to desorption include, for example, zinc,
Reduction using a combination of a salt of a metal, such as zinc amalgam, or a chromium compound, such as e.g. chromous chloride, chromic acetate, and an organic or inorganic acid, e.g. acetic acid, propionic acid, hydrochloric acid, and e.g. palladium- Examples include conventional catalytic reduction in FK in the presence of conventional metal catalysts such as black, porcelain, and the like.

カルボキシ保護基のこの脱離反応において、化合物〔I
C〕の保護されたアミノ基が、反応条件および保護基の
鍾類によって反応の過程および/または反応の酸処理中
に、遊離アミノ基に変化する場合も、その範囲内に包含
される。
In this elimination reaction of the carboxy protecting group, compound [I
It is also included within the scope if the protected amino group of C] is converted into a free amino group during the course of the reaction and/or during the acid treatment of the reaction depending on the reaction conditions and the type of protecting group.

この発明の原料化合物の製造法を以「詳細に説明する。The method for producing the raw material compound of this invention will be described in detail below.

化合物11V:] 、[Vl] b−よび[VIll〕
の好適な塩類としては、例えば塩酸塩、臭化水素酸塩、
硫酸塩等の無機酸塩、酢酸、p−)ルエン酸等の有機酸
塩等が挙げらnる。
Compound 11V:] , [Vl] b- and [VIll]
Examples of suitable salts include hydrochloride, hydrobromide,
Examples include inorganic acid salts such as sulfates, and organic acid salts such as acetic acid and p-)luic acid.

化合物[Vl) 、Cl1la)、〔1Ilb〕、〔1
llC〕オよび〔…〕の好適な塩類としては、化合物〔
1〕について例示したものとそれぞれ同じもの?挙げる
ことができる。
Compounds [Vl), Cl1la), [1Ilb], [1
Suitable salts of [llC] and […] include the compound [
Is it the same as the examples given for 1]? can be mentioned.

製造法人 +)[V) −[VI] 化合物〔■〕またはその塩は、化合物[V]またはその
塩を加水分解に付すことにより製造することができる。
Manufacturing corporation +) [V) - [VI] Compound [■] or a salt thereof can be produced by subjecting compound [V] or a salt thereof to hydrolysis.

この加水分解は前記製造法5の方法に準じて行なうこと
ができる。
This hydrolysis can be carried out according to the method of Production Method 5 above.

この反応においては、kLAのアミン保護基が反応中に
脱離して、R4がアミノ基に変化する場合もその範囲内
に包含される。
In this reaction, the case where the amine protecting group of kLA is eliminated during the reaction and R4 is changed to an amino group is also included within the scope.

ii) (Vl) + (■〕−帽a〕化合物(la)
またはその塩は、化合物CVI)またはその塩を化合物
〔■〕またはその塩と反応させることによって製造する
ことができる。
ii) (Vl) + (■]-cap a] compound (la)
Or a salt thereof can be produced by reacting compound CVI) or a salt thereof with compound [■] or a salt thereof.

反応は通常、水、例えばメタノール、エタノール等のア
ルコールのような慣用の溶媒中、またはそれらの混合物
中で行なわれるが、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であ
ればいかなる溶媒でも使用することができる。
The reaction is usually carried out in conventional solvents such as water, alcohols such as methanol, ethanol, etc., or mixtures thereof, although any solvent can be used as long as it does not adversely affect the reaction.

基の存在下に行なうことが望ましい。It is desirable to carry out the reaction in the presence of a group.

反応温度は特に限定されず、通常は冷却下から加熱下の
温度範囲で反応が行なわれる。
The reaction temperature is not particularly limited, and the reaction is usually carried out in a temperature range from cooling to heating.

製造法B (Wb) −(file) 化合物帽C)またはその塩は、化合物Cl1lb′3ま
たはその塩をニトロソ化剤と反応させることにより製造
することができる。
Production method B (Wb) -(file) Compound C) or a salt thereof can be produced by reacting compound C1lb'3 or a salt thereof with a nitrosating agent.

好適なニトロン化剤としては、亜硝酸、亜硝酸イソアミ
ルのような、式:R−ONO(式中、Rはアルキル基を
意味する)で示される化合物等が挙げられる。
Suitable nitroning agents include compounds represented by the formula: R-ONO (wherein R means an alkyl group), such as nitrous acid and isoamyl nitrite.

反応は通常テトラヒドロフランのような慣用の溶媒中で
行なわnるが、反応に悪影響を及ぼさない温媒であれば
いかなる溶媒も使用することができる。
The reaction is usually carried out in a conventional solvent such as tetrahydrofuran, but any solvent can be used as long as it does not adversely affect the reaction.

反応温度は特に限定されず、通常は常温または加熱下に
反応が行なわれる。
The reaction temperature is not particularly limited, and the reaction is usually carried out at room temperature or under heating.

製造法CCVIID +CI) −(IV)化合物〔1
v)またはその塩は、化合物cvnpまたはアミン基に
おけるその反応性誘導体またはその塩を、化合物〔l’
)またはカルボキン基におけるその反応性誘導体重たは
その塩と反応させることによって製造することができる
Production method CCVIID +CI) -(IV) Compound [1
v) or a salt thereof is a compound [l'
) or a reactive derivative thereof at the carboxyne group or a salt thereof.

この反応は前記製造法lの方法に準じて行なうことがで
きる。
This reaction can be carried out according to the method of Production Method 1 above.

この発明においては、保護されたアミノ基および/また
は保護されたカルボキシ基および/凍たは保護されたヒ
ドロキシ基が、反応条件および保護基の種類によって前
記反応中および/または製造法1〜5ならびにA−Cの
反応の後処理中に、それぞれ対応する遊離アミノ基およ
び/または遊離カルボキシ基および/またはヒドロキシ
基に変化する場合も、その範囲内に包含される。
In this invention, a protected amino group and/or a protected carboxy group and/or a cryoprotected hydroxy group may be present during the reaction and/or in Production Methods 1 to 5, depending on the reaction conditions and the type of protecting group. Also included within the scope are cases where, during the post-treatment of the reaction of A-C, they are converted into the respective corresponding free amino groups and/or free carboxyl groups and/or hydroxy groups.

目的化合物(1)が遊離カルボキシ基、スルホ基および
/または遊離アミノ基を有する場合には、目的化合物は
常法によって前記医薬として許容されるその塩類に変化
させることができる。
When the target compound (1) has a free carboxy group, a sulfo group and/or a free amino group, the target compound can be converted into the above-mentioned pharmaceutically acceptable salts thereof by a conventional method.

この発明の目的化合物〔1〕は高菌活性を示し、病原性
ダラム陽性菌およびダラム陰性菌を含む多くの病原菌の
生育を阻止する。
The object compound [1] of the present invention exhibits high bactericidal activity and inhibits the growth of many pathogenic bacteria, including pathogenic Durum-positive bacteria and Durum-negative bacteria.

この発明による3−アシルアミノアゼチジノン化合物は
治療のための投与用として、この化合物を、経口投与、
非経口投与または外部用に適した有機または無機の固体
状または液体状賦形剤のよ    “うな医薬として許
容される担体と混合して含有する医薬製剤の形で使用さ
れる。医薬製剤はカプセル剤、錠剤、糖衣錠、軟膏また
は廃剤のような固体状の剤形または溶液、懸濁液または
エマルジョンのような液体状の剤形とすることができる
。所望によっては上記製剤に助剤、安定剤、湿潤剤また
は乳化剤、緩衝液およびその他の通常使用される添加剤
が含まれていてもよい。
The 3-acylaminoazetidinone compounds according to the present invention can be used for therapeutic administration by administering the compounds orally,
It is used in the form of a pharmaceutical preparation containing in admixture with a pharmaceutically acceptable carrier such as an organic or inorganic solid or liquid excipient suitable for parenteral or external administration. The dosage form may be a solid dosage form such as a tablet, dragee, ointment or tablet, or a liquid dosage form such as a solution, suspension or emulsion. Agents, wetting agents or emulsifying agents, buffers and other commonly used additives may also be included.

この化合物の投与量は患者の年齢および状態によって変
化するが、この発明による化合物は、平均1回投与量約
50ダ、100〜.250■および500ダで多くの病
原菌感染症治療に有効であることが証明された。一般的
には1日当り、1■/個体〜約1000Q/個体の投与
量もしくはそれ以上投与してもよい。
Although the dosage of the compound will vary depending on the age and condition of the patient, the compound according to the invention has an average single dose of about 50 Da, 100 Da. 250 and 500 da were proven to be effective in treating many pathogenic bacterial infections. Generally, dosages of 1/individual to about 1000/individual or more may be administered per day.

次に、目的化合物〔1〕の有用性を示すために、この発
明の代表的化合物の抗菌活性試験データを以下に示す。
Next, in order to demonstrate the usefulness of the target compound [1], antibacterial activity test data of representative compounds of this invention are shown below.

試験法 各試験菌株をトリプトケース・ソイ ブロヌ中−夜培養
して、その1白金耳(生菌数10@/+7)を各濃度段
階の抗生物質を含むハート インフュージョン寒天(H
l−寒天)に画線し、87℃で20時間インキュベート
した後、最小阻止濃度(MIC)をμQ/xlで表わし
た。
Test method Each test strain was cultured on tryptocase soy brone medium-night, and one platinum loop (viable bacteria count 10@/+7) was placed on heart infusion agar (H) containing antibiotics at each concentration level.
After streaking on 1-agar) and incubating for 20 hours at 87°C, the minimum inhibitory concentration (MIC) was expressed in μQ/xl.

試験化合物 (11B−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イ/1/)−2−(エトキシイミノ)アセ
トアミドクー2−オキソアゼチジン−1−スルホン酸ナ
トリウム(シン異性体)。
Test compound (11B-[2-(5-amino-1,2,4-thiadiazole-3-i/1/)-2-(ethoxyimino)acetamidocousodium 2-oxoazetidine-1-sulfonate (syn isomer ).

(2)8−(2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イ)v)〜2−(1−カルボキシラード−
1−メチルエトキシイミノ)アセトアミドクー2−オキ
ソアゼチジン−1−スルホン酸ジナトリウム(シン異性
体)。
(2) 8-(2-(5-amino-1,2,4-thiadiazole-3-i)v) to 2-(1-carboxilade-
1-Methylethoxyimino)acetamidocou 2-oxoazetidine-1-sulfonic acid disodium (syn isomer).

試験結果 以下、この発明を製造例および実施例に従って説明する
Test Results The present invention will be explained below according to production examples and examples.

製造例1 2−(5−ホルムアミド−1,2,4−チアジアゾール
−3−イル)チオグリオキシル酸S−メチtv(80,
09)の2N水酸化ナトリウム(195ml )水溶液
を50℃で30分間攪拌した。溶液を10%塩酸により
20℃でpH7,0に調整した。2−(5−ホルムアミ
ド−1,2,4−チアジアゾール−8−イ/L/)グリ
オキシル酸ナトリウムを含むこの混合物に、P−ニトロ
ベンジルオキシカルボニルメトキシアミン(82,8g
)およびエタノール(25(ly/)を加え、反応混合
物を10%塩酸でpH8,0に調整し、室温で2時間攪
拌した。
Production Example 1 2-(5-formamido-1,2,4-thiadiazol-3-yl)thioglyoxylic acid S-methytv(80,
A 2N aqueous solution of sodium hydroxide (195 ml) of No. 09) was stirred at 50°C for 30 minutes. The solution was adjusted to pH 7.0 with 10% hydrochloric acid at 20°C. P-nitrobenzyloxycarbonylmethoxyamine (82.8 g
) and ethanol (25 (ly/)) were added, and the reaction mixture was adjusted to pH 8.0 with 10% hydrochloric acid and stirred at room temperature for 2 hours.

混合物を10%水酸化すl−IJウム水溶液でp H7
,0に調整し、不溶物をp別]〜た。ろ液を濃縮して酢
酸エチルで洗浄し、た。この溶液に酢酸エチルを加え、
混合物を10%塩酸でpH1,0に調整した。酢酸エチ
ル層を分離して取り、硫酸マグネシウムで乾燥した後、
溶媒を留去して、2−(5−γミノー1.2.4−チア
ジアゾー)v−8−イル)−2−(p−ニトロベンジル
オキシカルボニルメトキシイミノ)酢酸(シン異性体)
 (7,59)を得た。
The mixture was adjusted to pH 7 with a 10% aqueous solution of sodium hydroxide.
, 0, and the insoluble matter was separated by p]. The filtrate was concentrated and washed with ethyl acetate. Add ethyl acetate to this solution,
The mixture was adjusted to pH 1.0 with 10% hydrochloric acid. After separating and taking the ethyl acetate layer and drying with magnesium sulfate,
The solvent was evaporated to give 2-(5-γmino1.2.4-thiadiazol)v-8-yl)-2-(p-nitrobenzyloxycarbonylmethoxyimino)acetic acid (syn isomer).
(7,59) was obtained.

融点89〜95℃(分解)。Melting point 89-95°C (decomposition).

IR(ヌジョール→:  8400−8100.178
0.1610゜1520cm’ NMR(DMSO−d6.δ):8.18−7.80(
4B、m’)、 7.70(2H,d、 J=7Hz)
、 5.44(2H,S)、  4.98(2H,S) 製造例2 製造例1の方法に準じて下記の化合物を製造した。
IR (Nujoor →: 8400-8100.178
0.1610゜1520cm' NMR (DMSO-d6.δ): 8.18-7.80 (
4B, m'), 7.70 (2H, d, J=7Hz)
, 5.44(2H,S), 4.98(2H,S) Production Example 2 The following compound was produced according to the method of Production Example 1.

(112−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール
−3−イル)−2−(4−フルオロベンジルオキシイミ
ノ)酢酸(シン異性体)。
(112-(5-amino-1,2,4-thiadiazol-3-yl)-2-(4-fluorobenzyloxyimino)acetic acid (syn isomer).

NMR(DMSO−d6.δ) : 8.10(2I(
、b、 8’1.7.68−6.98(4H,m)、 
5.20(21(、5)(2)2−(5−アミノ−1,
2,4−チアジアゾ−吻ルー3−イル)−2−(8−第
三級ブトキシカルボニル−トランス−アリルオキシイミ
ノ)酢酸(シン異性体)。
NMR (DMSO-d6.δ): 8.10 (2I(
, b, 8'1.7.68-6.98 (4H, m),
5.20(21(,5)(2)2-(5-amino-1,
2,4-thiadiazol-ro-3-yl)-2-(8-tert-butoxycarbonyl-trans-allyloxyimino)acetic acid (syn isomer).

NMR(DMSO−d6.δ) : 1.98(9H,
り、 4.85(2H。
NMR (DMSO-d6.δ): 1.98 (9H,
ri, 4.85 (2H.

m)、 5.85(IH,d、 J =16Hz)、6
.80 (IH。
m), 5.85 (IH, d, J = 16Hz), 6
.. 80 (IH.

dt、 J=16Hz、 4Hz)、 8.07(2H
,b、 8)(3)2−(5−アミノ−1,2,4−チ
アジアゾール−3−イル)−2−(2−アセトキシエト
キシイミノ)酢酸(シン異性体)。
dt, J=16Hz, 4Hz), 8.07(2H
, b, 8) (3) 2-(5-amino-1,2,4-thiadiazol-3-yl)-2-(2-acetoxyethoxyimino)acetic acid (syn isomer).

NMR(DMSO−d 6.δ) : 2.05(8H
,S)、 4.4(4H。
NMR (DMSO-d 6.δ): 2.05 (8H
, S), 4.4 (4H.

m)、 8.8(2H,m) (4)2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール
−8−イ/L/ ) −2−(ヘキシルオキシイミノ)
酢酸(シン異性体)、融点158〜161℃。
m), 8.8 (2H, m) (4) 2-(5-amino-1,2,4-thiadiazol-8-i/L/) -2-(hexyloxyimino)
Acetic acid (syn isomer), melting point 158-161°C.

NMR(DMSO−d 6.δ) : 0.67−2.
00(IIH,m)。
NMR (DMSO-d6.δ): 0.67-2.
00 (IIH, m).

4.20−4.88(2H,m) (512−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール
−3−イル)−2−(1−ペンズヒドリルオキンカルポ
ニル−1−メチルエトキシイミノ)酢酸(シン異性体)
。融点170〜178℃。
4.20-4.88(2H,m) (512-(5-amino-1,2,4-thiadiazol-3-yl)-2-(1-penzhydryl oxinecarponyl-1-methylethoxyimino) Acetic acid (syn isomer)
. Melting point: 170-178°C.

IR(ヌジョール’) : 8800.1?20.16
2θcW1−’NMR(DMSO−d6.δ) 1.5
8(6H,S)、 6.80(IH。
IR (Nujol'): 8800.1?20.16
2θcW1-'NMR (DMSO-d6.δ) 1.5
8 (6H, S), 6.80 (IH.

S)、 7.8(12H,m)、 8.2(2H,m)
製造例8 五塩化リン(8,IM)を2−(5−アミノ−1,2,
4−チアジアゾ−tV−8−イ/I/)−2−(4−フ
ルオロベンジルオキシイミノ)酢酸(シン異性体)の乾
燥ジクロロメタン(40*t)中懸濁液に20℃で攪拌
下に加え、混合物を同じ温度で30分間攪拌した。この
混合物に乾燥ジイソプロピルエーテル(501/)を加
え、水冷下に1時間攪拌して沈殿を生成させた。この沈
殿を戸数し、ジイソプロピフレエーテルで洗浄後、乾燥
して、2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール
−8−イル)−2−(4−フルオロベンジルオキシイミ
ノ)アセチルクロリド塩酸塩(シン異性体)。
S), 7.8 (12H, m), 8.2 (2H, m)
Production Example 8 Phosphorus pentachloride (8, IM) was converted into 2-(5-amino-1,2,
4-Thiadiazo-tV-8-I/I/)-2-(4-fluorobenzyloxyimino)acetic acid (syn isomer) was added to a suspension of dry dichloromethane (40*t) under stirring at 20°C. , the mixture was stirred at the same temperature for 30 minutes. Dry diisopropyl ether (501/) was added to this mixture, and the mixture was stirred for 1 hour while cooling with water to form a precipitate. This precipitate was separated, washed with diisopropifurether, and dried to produce 2-(5-amino-1,2,4-thiadiazol-8-yl)-2-(4-fluorobenzyloxyimino)acetyl chloride. Hydrochloride (syn isomer).

(8,159)を得た。(8,159) was obtained.

IR(ヌジョー/I/): 1780.1680.15
00α−1製造例4 亜硝酸イソアミル(9,88g/)のテトラヒドロフラ
ン(45g、?)溶液を、2−(5−アミノ−1゜2.
4−チアジアゾール−8−イ/I/)−2−(エトキシ
イミノ)酢酸(シン異性体)(10,0g)のテトラヒ
ドロフラン(100fft)中懸濁液に50℃で攪拌下
に加えた。混合物を6時間加熱還流した。生成(また溶
液を濃縮して残渣を水(50+++/)にpH7,5で
溶解した この水溶液を酢酸エチル(50d )で洗浄
した。次いで水溶液を10%塩酸でpH2,0に調整し
、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、溶媒を留去シテ、2−(1,2,4−−
?−7’シアソーtv−a−イル)−2−(エトキシイ
ミノ)酢酸(シン異性体)(6,9g)を得た。融点9
9〜108℃。
IR (Nugeot/I/): 1780.1680.15
00α-1 Production Example 4 A solution of isoamyl nitrite (9.88 g/) in tetrahydrofuran (45 g, ?) was mixed with 2-(5-amino-1°2.
A suspension of 4-thiadiazole-8-i/I/)-2-(ethoxyimino)acetic acid (syn isomer) (10.0 g) in tetrahydrofuran (100 fft) at 50° C. was added with stirring. The mixture was heated to reflux for 6 hours. The aqueous solution was washed with ethyl acetate (50 d).The aqueous solution was then adjusted to pH 2.0 with 10% hydrochloric acid and dissolved in ethyl acetate. The ethyl acetate layer was dried over magnesium sulfate, the solvent was distilled off, and 2-(1,2,4--
? -7'thiasotv-a-yl)-2-(ethoxyimino)acetic acid (syn isomer) (6.9 g) was obtained. Melting point 9
9-108℃.

IR(ヌジョール) :  1720. 1600cI
R’NMR(DMSO−d 6.δ) : 10.28
(LH,S)、 4.28(2H。
IR (Nujol): 1720. 1600cI
R'NMR (DMSO-d6.δ): 10.28
(LH,S), 4.28 (2H.

Q、 J=7Hz)、 1.28(8H,t、 J=7
Hz)製造例5 製造例4の方法に準じて下記の化合物を製造した。
Q, J=7Hz), 1.28(8H,t, J=7
Hz) Production Example 5 The following compound was produced according to the method of Production Example 4.

2−(1,2,4−チアジアゾール−3−イル)−2−
(p−二トロベンジルオキシ力ルポニルメトキシイミノ
)酢酸(シン異性体)、融点58〜63℃。
2-(1,2,4-thiadiazol-3-yl)-2-
(p-nitrobenzyloxylponylmethoxyimino)acetic acid (synisomer), mp 58-63°C.

IR(ヌジョール’) : 1750−1700.15
20cN’NMR(DMSO−d6.δ):10.8(
IH,s)、8.18(2H。
IR (Nujol'): 1750-1700.15
20cN'NMR (DMSO-d6.δ): 10.8(
IH, s), 8.18 (2H.

d、J=7Hz)、7.65(2H,d、J=7Hz)
、5.88(2H,S)、5.07(2H,s) 製造例6 3−アミノ−2−オキソアゼチジン(420■)を水(
1(1+?)とアセトン(10yttl)との混合物に
溶解し、この溶液に、2−(5−アミノ−1゜2.4−
チアジアゾール−3−イル)−2−エトキシイミノアセ
チルクロリド塩酸塩(シン異性体)(1□71q)のテ
トラヒドロフラン(8,5m/)溶液および炭酸ナトリ
ウム水溶液を、水冷下に攪拌しながらpH8,5で交互
に加えた。この混合物を0〜5℃でさらに30分間攪拌
した。反応混合物に酢酸エチルを加え、分離した水溶液
を10%塩酸でp H7,0に調整し、減圧下に蒸発乾
固した。残渣を冷水中で粉砕し、生成した粉末を戸数し
て、     ′8−C2−(5−アミノ−1,2,4
−チアジアゾ−/l/−8−イル)−2−(エトキシイ
ミノ)アセトアミドシー2−オキソアゼチジン(シン異
性体)、(5601f)を得た。融点255〜260℃
(分解)。
d, J=7Hz), 7.65 (2H, d, J=7Hz)
, 5.88 (2H,S), 5.07 (2H,s) Production Example 6 3-Amino-2-oxoazetidine (420■) was dissolved in water (
1 (1+?) and acetone (10 yttl), and in this solution, 2-(5-amino-1゜2.4-
A solution of thiadiazol-3-yl)-2-ethoxyiminoacetyl chloride (syn isomer) (1□71q) in tetrahydrofuran (8.5 m/) and an aqueous sodium carbonate solution were heated to pH 8.5 with stirring under water cooling. Added alternately. The mixture was stirred for an additional 30 minutes at 0-5°C. Ethyl acetate was added to the reaction mixture, and the separated aqueous solution was adjusted to pH 7.0 with 10% hydrochloric acid and evaporated to dryness under reduced pressure. The residue was pulverized in cold water and the resulting powder was divided into '8-C2-(5-amino-1,2,4
-Thiadiazo-/l/-8-yl)-2-(ethoxyimino)acetamido-2-oxoazetidine (syn isomer), (5601f) was obtained. Melting point 255-260℃
(Disassembly).

IR(ヌジョール):  8400,8850,826
0,1760゜1650z ’ NMR(DMSO6,δ): 1.21(8H,t、J
=8Hz)。
IR (Nujol): 8400, 8850, 826
0,1760°1650z' NMR (DMSO6, δ): 1.21 (8H, t, J
=8Hz).

8.04(IH,Q、J=2Hz)、8.47(IH,
−t。
8.04 (IH, Q, J=2Hz), 8.47 (IH,
-t.

J=5Hz)、 4.14(2H,t、 J=8Hz)
、  4.95(IH,m)、7.94(1)(、b、
s)、  8.06(2H。
J=5Hz), 4.14(2H,t, J=8Hz)
, 4.95(IH,m), 7.94(1)(,b,
s), 8.06 (2H.

b、s)、9.08(IH,d、J=8Hz)製造例7 製造例6の方法に準じて下記の化合物を製造した。b, s), 9.08 (IH, d, J=8Hz) Production Example 7 The following compound was produced according to the method of Production Example 6.

8−C2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール
−8−イル)−2−(メトキシイミノ)アセトアミドシ
ー2−オキソアゼチジン(シン異性体)、融点250℃
以上(分解)。
8-C2-(5-amino-1,2,4-thiadiazol-8-yl)-2-(methoxyimino)acetamido-2-oxoazetidine (syn isomer), melting point 250°C
That's it (disassembly).

IR(ヌジョール): 8260.1?45. 166
0α−INMR(nMsO−d6.δ): 8.05(
IH,q、 J=2Hz)。
IR (Nujol): 8260.1?45. 166
0α-INMR (nMsO-d6.δ): 8.05 (
IH, q, J=2Hz).

8.47(IH,t、 J=5Hz)、8.90(8H
,s )。
8.47 (IH, t, J=5Hz), 8.90 (8H
,s).

4.98(IH,m)、 7.98(LH,b、 s)
、 8.08(2H,b、s)、9.10(IH,d、
J=8Hz)実施例1 3−アミノ−2−オキソアゼチジン−1−スルrh7酸
(480w1)を水(9gl)とアセトン(9Wll 
)との混合物に溶解した。この溶液に、2−(5−アミ
ノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イ/l/ ) 
−2−(エトキシイミノ)アセチルクロリド塩酸塩(シ
ン異性体)(1,729)の7セトン(4m/)および
炭酸ナトリウム水溶液を水冷下に攪拌しながらpH8,
5で交互に加えた。この混合物をさらに0〜5℃で5時
間攪拌した。アセトンを回収した後、水層をpH8,8
に調整し、ダイヤイオンHP−20(商品名、三菱化成
社製)を用いるカラムクロマトグラフィー処理に付した
。水により溶出した両分を凍結乾燥し、残渣を水(25
g/)に溶解1〜、活性炭クロマトグラフィーによって
精製し、再度凍結乾燥して、8−C2−(5−アミノ−
1゜2.4−チアジアゾール−3−イル)−2−(エト
キシイミノ)アセトアミドシー2−オキソアゼチジン−
1−ヌルホン酸ナトリウム(シン異性体)(882ml
)を得た。融点230〜240℃ (分解)。
4.98 (IH, m), 7.98 (LH, b, s)
, 8.08 (2H, b, s), 9.10 (IH, d,
J=8Hz) Example 1 3-amino-2-oxoazetidine-1-sulrh7 acid (480w1) was mixed with water (9gl) and acetone (9Wll).
) was dissolved in a mixture with Add 2-(5-amino-1,2,4-thiadiazole-3-y/l/) to this solution.
-2-(Ethoxyimino)acetyl chloride hydrochloride (syn isomer) (1,729) in 7 setsone (4 m/) and an aqueous solution of sodium carbonate were adjusted to pH 8 while stirring under water cooling.
5 were added alternately. This mixture was further stirred at 0-5°C for 5 hours. After recovering the acetone, the aqueous layer was adjusted to pH 8.8.
and subjected to column chromatography using Diaion HP-20 (trade name, manufactured by Mitsubishi Kasei Corporation). Both fractions eluted with water were lyophilized, and the residue was dissolved in water (25
8-C2-(5-amino-
1゜2.4-Thiadiazol-3-yl)-2-(ethoxyimino)acetamidocy2-oxoazetidine-
Sodium 1-nulfonate (syn isomer) (882ml
) was obtained. Melting point 230-240°C (decomposition).

IR(ヌショーzL/):  1780.1625,1
255.IQ80i 1NMR(DMSO−d、、δ)
: 1.24(8H,t、J=7.0Hz)。
IR (nusho zL/): 1780.1625,1
255. IQ80i 1NMR (DMSO-d,,δ)
: 1.24 (8H, t, J=7.0Hz).

8.87(IH,m)、8.70(IH,t、J=5.
0Hz)。
8.87 (IH, m), 8.70 (IH, t, J=5.
0Hz).

4.15(2B、Q、J−5,0Hz)、4.96(I
H,m)。
4.15 (2B, Q, J-5,0Hz), 4.96 (I
H, m).

7.96(IH,b、s)、8.12(2H,b、s)
、9.25(IH,d、J=7.0Hz) 実施例2 2−(6−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−
イル)−2−(ヘキシルオキシイミノ)酢酸(シン異性
体)(2,689)の塩化メチレン(25肩t)溶液に
、五塩化リン(2,159)を−20℃で加え、同じ温
度で1.5時間撹拌[7だ。反応混合物を減圧下に蒸発
乾固し、残渣を乾燥テトラヒドロフラン(15肩l)に
溶解した(溶7iA)。
7.96 (IH, b, s), 8.12 (2H, b, s)
, 9.25 (IH, d, J = 7.0 Hz) Example 2 2-(6-amino-1,2,4-thiadiazole-3-
Phosphorous pentachloride (2,159) was added to a solution of 2-(hexyloxyimino)acetic acid (syn isomer) (2,689) in methylene chloride (25 cm) at -20°C, and the solution was added at the same temperature. Stir for 1.5 hours [7. The reaction mixture was evaporated to dryness under reduced pressure and the residue was dissolved in dry tetrahydrofuran (15 kg) (solution 7iA).

3−アミノ−2−オキソ7ゼチジンー1−スルホンfj
l(810’l)ヲ水(20m1)とアセトン(15m
/)との混合物に溶解し、この溶液に、溶液Aおよび炭
酸ナトリウム水溶液を、水冷下に攪拌しながらpH8,
5で交互に加えた。この混合物をさらに0〜5℃で1時
間攪拌し、酢酸エチzlz(10耐)で抽出した。分離
した水溶液t10%塩酸でpH8,0に調整し、活性炭
(50g/)クロマトグラフィーに付した。水洗後、5
0%水性アセトンにより溶出し、凍結乾燥して、8−C
2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−8−
イル)−2−(ヘキシルオキシイミノ)アセトアミドシ
ー2−オキソアゼチジン−1−スルホン酸ナトリウム(
シン異性体)(510ダ)を得た。
3-amino-2-oxo7zetidine-1-sulfone fj
l (810'l) water (20ml) and acetone (15ml)
/), and to this solution, solution A and an aqueous sodium carbonate solution were added to pH 8, while stirring under water cooling.
5 were added alternately. The mixture was further stirred at 0-5°C for 1 hour and extracted with ethyl acetate (10 proof). The separated aqueous solution was adjusted to pH 8.0 with 10% hydrochloric acid and subjected to activated carbon (50 g/) chromatography. After washing with water, 5
Elute with 0% aqueous acetone and lyophilize to give 8-C
2-(5-amino-1,2,4-thiadiazole-8-
yl)-2-(hexyloxyimino)acetamido-2-oxoazetidine-1-sulfonate (
syn isomer) (510 Da) was obtained.

IR(ヌジョール) : 8800.1?60.124
0.10454 ’NMR(D 20 、δ) : 0
.87(8H,m)、 1.10−1.90(8H,m
)、 8.70−4.47(4H,m)、 5.88(
IH,m) 実施例3 3−アミノ−2−オキソアゼチジン−1−スルホン酸(
1,5g)およびトリエチルアミン(1,49。
IR (Nujol): 8800.1?60.124
0.10454'NMR (D20, δ): 0
.. 87 (8H, m), 1.10-1.90 (8H, m
), 8.70-4.47 (4H, m), 5.88 (
IH, m) Example 3 3-amino-2-oxoazetidine-1-sulfonic acid (
1,5 g) and triethylamine (1,49.

ynl )のジメチルホルムアミド(180ml)溶液
に、2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−
a−イル)−2−(1−ペンズヒドリルオキシカルボニ
)v−1−メチルエトキンイミノ)酢酸(シン異性体)
(1,95g)、1−ヒドロキシベンゾトリアゾール(
o、77g)およびジシクロへキシルカルボジイミド(
1,18g)を3℃で加え、この混合物を同じ温度で1
2時間攪拌した。
ynl) in dimethylformamide (180 ml), 2-(5-amino-1,2,4-thiadiazole-
a-yl)-2-(1-penzhydryloxycarboni)v-1-methylethquinimino)acetic acid (syn isomer)
(1,95g), 1-hydroxybenzotriazole (
o, 77 g) and dicyclohexylcarbodiimide (
1.18 g) was added at 3°C, and the mixture was heated to 1.1 g at the same temperature.
Stirred for 2 hours.

沈殿を除去した後、ジメチルホルムアミド&留去し、残
渣に水(20#ll)および炭酸水素ナトリウムを水冷
下に攪拌しながらp H7,2で加えた。不溶物ヲ沖別
し、1ri#lt活性炭カラムクロマトグラフイーに付
した。30%水性アセトン溶出画分をaml、凍結乾燥
した。残渣を完全乾燥して、3−(2−(5−アミノ−
1,2,4−チアジアゾール−8−イル)−2−(1−
ベンズヒドリルオキシカルボニル− セトアミドシー2−オキソアゼチジン−1−スルホン酸
トリエチルアミン塩(シン異性体) (1.4 89)
を得た。融点150〜156℃(分解)。
After removing the precipitate, dimethylformamide was distilled off, and water (20 #11) and sodium hydrogen carbonate were added to the residue at pH 7.2 with stirring under water cooling. Insoluble materials were removed and subjected to 1ri#lt activated carbon column chromatography. The 30% aqueous acetone elution fraction was aml and lyophilized. The residue was completely dried to give 3-(2-(5-amino-
1,2,4-thiadiazol-8-yl)-2-(1-
Benzhydryloxycarbonyl-cetamidocy 2-oxoazetidine-1-sulfonic acid triethylamine salt (syn isomer) (1.4 89)
I got it. Melting point 150-156°C (decomposition).

IR(ヌジョール) : 8100−8500. 17
50. 1670。
IR (Nujol): 8100-8500. 17
50. 1670.

1620、 1580α−1 NMR(DMSO−d6,δ) : 9.15( IH
. d. J−=8Hz)。
1620, 1580 α-1 NMR (DMSO-d6, δ): 9.15 (IH
.. d. J-=8Hz).

8、18(2H.b.S)、7.0−7.28(IOH
,m)。
8, 18 (2H.b.S), 7.0-7.28 (IOH
, m).

6、77(IH.S)、5、15−4.78(IH,m
)、8.17−8.87(2H. m)、 2.85(
6H. q, J =7Hz)。
6, 77 (IH.S), 5, 15-4.78 (IH, m
), 8.17-8.87 (2H. m), 2.85 (
6H. q, J = 7Hz).

1、5(6H,s)、1.07(9H.t,J=7Hz
)実施例4 実施例1〜3の方法に準じて下記の化合物を製造した。
1, 5 (6H, s), 1.07 (9H.t, J=7Hz
) Example 4 The following compounds were produced according to the methods of Examples 1 to 3.

(1)8−[2−(5−アミノ−1.2.4−チアジア
ゾール−8−イル)−2−(メトキシイミノ)アセトア
ミドシー2−オキソアゼチジン−1−スルホン酸ナトリ
ウム(シン異性体)、融点240℃以上(分解)。
(1) Sodium 8-[2-(5-amino-1.2.4-thiadiazol-8-yl)-2-(methoxyimino)acetamido-2-oxoazetidine-1-sulfonate (syn isomer), melting point 240℃ or higher (decomposition).

IR( ヌジョーylz): 8420.8270.1
770.1660。
IR (nujo ylz): 8420.8270.1
770.1660.

1620、 1250. 1085n−”MMR(DM
SO−d6,δ) : 8.19( IH, q. J
=2.5Hz)。
1620, 1250. 1085n-”MMR (DM
SO-d6, δ): 8.19 (IH, q. J
= 2.5Hz).

8、62(IH. t, J=5.5Hz)、 8.8
8(8H. s)。
8, 62 (IH. t, J=5.5Hz), 8.8
8 (8H.s).

4、84(IH. m)、 8.02(2H, b. 
s)、 9.28(IH。
4, 84 (IH. m), 8.02 (2H, b.
s), 9.28 (IH.

’.J=8Hz) (2)8−(2−(5−アミノ−1,2.4−チアジア
ゾール−8−イlv) − 2 − (プロポキシイミ
ノ)アセトアミドクー2−オキソアゼチジン−1−スル
ホン酸トリエチルアミン塩(シン異性体)、融点87〜
98℃。
'. J=8Hz) (2) 8-(2-(5-amino-1,2.4-thiadiazol-8-ylv)-2-(propoxyimino)acetamidocou 2-oxoazetidine-1-sulfonic acid triethylamine salt ( syn isomer), melting point 87~
98℃.

IR(ヌジョール): 8100−8500.1760
.1670゜1620、 !580CIIK−1 NMR(DMSO−da、δ) : 9.17(IH,
d、 J=8Hz)。
IR (Nujol): 8100-8500.1760
.. 1670°1620, ! 580CIIK-1 NMR (DMSO-da, δ): 9.17 (IH,
d, J=8Hz).

8.06(2H,b、s)、 5.07−4..70(
1’H,m)。
8.06 (2H, b, s), 5.07-4. .. 70(
1'H, m).

4.07(2I(、m)、 8.8−8.1(2H,m
)、 8.07(6H,q、 J=7Hz)、 1.8
8−1.25(2H,m)。
4.07(2I(,m), 8.8-8.1(2H,m
), 8.07 (6H, q, J=7Hz), 1.8
8-1.25 (2H, m).

1.17(9H,t、 J=7Hz)、 0.88(8
H,m)(318−42−(5−アミノ−1,2,4−
チアジアゾ−)v−3−イtv ) −2−(アリルオ
キシイミノ)アセトアミドクー2−オキソアゼチジン−
】−スルホン酸ナトリウム(シン異性体)、融点240
℃以上(分解)。
1.17 (9H, t, J=7Hz), 0.88 (8
H,m)(318-42-(5-amino-1,2,4-
thiadiazole) v-3-itev) -2-(allyloxyimino)acetamidocou-2-oxoazetidine-
]-Sodium sulfonate (syn isomer), melting point 240
℃ or higher (decomposition).

IR(ヌジョール) :  8800.1?65. 1
665. 1620゜1240、1050a ” NMR(DMSOds、δ) : 8.28 (LH,
q、 J=2.5Hz)。
IR (Nujol): 8800.1?65. 1
665. 1620°1240, 1050a” NMR (DMSOds, δ): 8.28 (LH,
q, J=2.5Hz).

8.67(IH,t、 J=5.5Hz)、 4.88
−6.06(6H,m)、 8.07(2H,b、s)
、 9.25(IH。
8.67 (IH, t, J=5.5Hz), 4.88
-6.06 (6H, m), 8.07 (2H, b, s)
, 9.25 (IH.

’、J=8Hz) (4)f9−(2−(5−アミノ−1,2,4−チアジ
アゾール−3−イル)−2−(2−プロビニルオギシイ
ミノ)アセトアミドクー2−オキソアゼチジン−1−ス
ルホン酸ナトリウム(シン異性体)、融点145〜15
0℃(分解)。
', J=8Hz) (4) f9-(2-(5-amino-1,2,4-thiadiazol-3-yl)-2-(2-provinylogycyimino)acetamidocou 2-oxoazetidine-1 - Sodium sulfonate (syn isomer), melting point 145-15
0°C (decomposition).

IR(ヌジョ−tv):  8100−8500. 1
760. 1670゜1620、1580CIIt−’ NMR(DMSOda、δ) : 9.8(IH,d、
 J=8Hz)。
IR (Nujo-tv): 8100-8500. 1
760. 1670°1620, 1580CIIt-' NMR (DMSOda, δ): 9.8 (IH, d,
J=8Hz).

8.12(2H,b、s)、 5.17−4.58(8
H,m’)。
8.12 (2H, b, s), 5.17-4.58 (8
H, m').

8.82−8.1(8H,m) (5)8−(−2−(5−アミノ−1,2,4−チアジ
アゾール−3−イル)−’2−(2−シクロペンテン−
1−イルオキシイミノ)アセトアミドクー2−オキソア
ゼチジン−1−スルホン酸トリエチルアミン塩(シン異
性体)、M点1ta〜121℃。          
           嘩IR(ヌジョール): 81
00−8400.1760,1670゜1620、15
80clII−1 HMR(DMSO−da、δ) : 9.18(IH,
d、 J=8Hz)。
8.82-8.1 (8H, m) (5) 8-(-2-(5-amino-1,2,4-thiadiazol-3-yl)-'2-(2-cyclopentene-
1-yloxyimino)acetamidocou 2-oxoazetidine-1-sulfonic acid triethylamine salt (syn isomer), M point 1ta to 121°C.
Fight IR (Nujol): 81
00-8400.1760,1670°1620,15
80clII-1 HMR (DMSO-da, δ): 9.18 (IH,
d, J=8Hz).

6.78(2H,b、s)、6.28−6.0(IH,
m)、6.0−5.78(IH,m)、5.45−5.
18(IH,m)、5.07−4.72(IH,m)、
8.78−8.1(2H,m)、8.07(6H,Q、
J=7Hz)、2.7−1.67(4H,m)。
6.78 (2H, b, s), 6.28-6.0 (IH,
m), 6.0-5.78 (IH, m), 5.45-5.
18 (IH, m), 5.07-4.72 (IH, m),
8.78-8.1 (2H, m), 8.07 (6H, Q,
J=7Hz), 2.7-1.67 (4H, m).

1.17(9)1.t、J=7Hz) (618−C2−(5−ホルムアミド−1,2,4−チ
アシアシーzlz−8−イル)−2−(シアノメトキシ
イミノ)アセトアミドクー2−オギソアゼチシン−1−
スルホン酸トリエチルアミン塩(シン異性体)、融点1
05〜110℃(分解)。
1.17(9)1. t, J=7Hz) (618-C2-(5-formamido-1,2,4-thiasiacyzlz-8-yl)-2-(cyanomethoxyimino)acetamidocou-2-ogisoazeticin-1-
Sulfonic acid triethylamine salt (syn isomer), melting point 1
05-110°C (decomposition).

IR(KBr) : 1760.1680.1270.
1040゜1015備−1 NMR(DMSO−d g 、δ) : 1.16(9
H,t、 J=8Hz)。
IR(KBr): 1760.1680.1270.
1040°1015-1 NMR (DMSO-d g , δ): 1.16 (9
H, t, J=8Hz).

8.12(6H,q、 J=8Hz)、 8.5−8.
8(2H,m)。
8.12 (6H, q, J=8Hz), 8.5-8.
8 (2H, m).

4.8−5.2(IH,m)、 5.2(2H,8)、
  8.84(LH,S)、 9.2−9.7(18,
m)、 9.6(IH,d。
4.8-5.2 (IH, m), 5.2 (2H, 8),
8.84 (LH, S), 9.2-9.7 (18,
m), 9.6 (IH, d.

J=8Hz) (7)a−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イ/l/)−2−(シアノメトキシイミノ
)アセトアミド)−2−(オキソアゼチジン−1−ヌル
ホン酸トリエチルアミン塩(シン異性体)、融点81〜
85℃(分解)。
J=8Hz) (7) a-[2-(5-amino-1,2,4-thiadiazol-3-y/l/)-2-(cyanomethoxyimino)acetamide)-2-(oxoazetidine-1- Nurphonic acid triethylamine salt (syn isomer), melting point 81~
85°C (decomposition).

IR(KBr) :  1760.1675.16B0
.1260゜1240、1040.1010clII−
’NMR(DMSO−da 、δ) : 1.16(9
H,t、 J=8Hz)。
IR(KBr): 1760.1675.16B0
.. 1260°1240, 1040.1010clII-
'NMR (DMSO-da, δ): 1.16 (9
H, t, J=8Hz).

8.04(6H,Q、 J=8Hz)、 8.4−8.
7(2H。
8.04 (6H, Q, J=8Hz), 8.4-8.
7 (2H.

m)、 4.7−5.1(IH,m)、 8.18(2
H,b、S)。
m), 4.7-5.1 (IH, m), 8.18 (2
H, b, S).

9.40(2H,d、 J=8H2) (8)8−(2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イル)−2−(メチルチオメトキシイミノ
)アセトアミド〕−2−オギソアゼチジン−1−スルホ
ン酸ナトリウム(シン異性体)、融点200〜210℃
(分解)。
9.40 (2H, d, J=8H2) (8) 8-(2-(5-amino-1,2,4-thiadiazol-3-yl)-2-(methylthiomethoxyimino)acetamide]-2- Sodium ogisoazetidine-1-sulfonate (syn isomer), melting point 200-210°C
(Disassembly).

IR(ヌジョール) :  1760.1670. 1
620. 1240゜1200、101050c11 一1N (DMSO−d+、、δ) : 2.16(8
H,S)、 8.4−8.7(2H,m)、 4.7−
5.1(IH,m)、 5.24(2H。
IR (Nujol): 1760.1670. 1
620. 1240°1200, 101050c11-1N (DMSO-d+,,δ): 2.16(8
H, S), 8.4-8.7 (2H, m), 4.7-
5.1 (IH, m), 5.24 (2H.

8)、 8.08(2H,b、s)、 9.28 (I
H,d、 J=8Hz ) (9j8−C2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イル)−2−(2−第三級ブトキシカルボ
ニルアミノエトキシイミノ)アセトアミドシー2−オキ
ソアゼチジン−1−スルホン酸トリエチルアミン塩(シ
ン異性体)、融点200℃以上(分解)。
8), 8.08 (2H, b, s), 9.28 (I
H, d, J=8Hz) (9j8-C2-(5-amino-1,2,4-thiadiazol-3-yl)-2-(2-tert-butoxycarbonylaminoethoxyimino)acetamidocy2-oxoazetidine -1-sulfonic acid triethylamine salt (syn isomer), melting point 200°C or higher (decomposed).

IR(ヌジョール)  : 1750. 1270.1
.085CIR’NMR(DMSO−d 6 、δ) 
: 1.1.8(9H,t、 J=8Hz)。
IR (Nujol): 1750. 1270.1
.. 085CIR'NMR (DMSO-d6, δ)
: 1.1.8 (9H, t, J=8Hz).

1.40(9H,8)、 2.96−8.88(8H,
m)、 8.70(IH,t、 J=5Hz)、 4.
12(2H,m)、 5.04(IH,m)、 8.1
6(2H,b、s)、 9.20(IH,d。
1.40 (9H, 8), 2.96-8.88 (8H,
m), 8.70 (IH, t, J=5Hz), 4.
12 (2H, m), 5.04 (IH, m), 8.1
6 (2H, b, s), 9.20 (IH, d.

J = 8Hz ) (108−(2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イ/L/)−2−(2−アミノエトキシイ
ミノ)アセトアミドシー2−オキソアゼチジン−1−ス
ルホン酸ナトリウム(シン異性体)、融点230〜24
0℃(分解)。
J = 8Hz) (108-(2-(5-amino-1,2,4-thiadiazole-3-i/L/)-2-(2-aminoethoxyimino)acetamidocy2-oxoazetidine-1-sulfonic acid Sodium (syn isomer), melting point 230-24
0°C (decomposition).

IR(ヌショール) :  8400.8800.81
60. 1760゜1200、1040cIN’ 0υ8−C2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾ
ール−3−イル)−2−(2−アセトキシエトキシイミ
ノ)アセトアミドシー2−オギソアゼチジン−1−スル
ホン酸トリエチルアミン塩(シン異性体)、融点68〜
73℃ IR(ヌジョール) : 1760. 1670. 1
220−1280゜10104O’ NMR(DMSO−d 6.δ) : 1.16(9H
,t、 J=8Hz)。
IR (Nushor): 8400.8800.81
60. 1760゜1200, 1040cIN' 0υ8-C2-(5-amino-1,2,4-thiadiazol-3-yl)-2-(2-acetoxyethoxyimino)acetamidocy 2-ogisoazetidine-1-sulfonic acid triethylamine salt ( syn isomer), melting point 68~
73℃ IR (Nujol): 1760. 1670. 1
220-1280°10104O' NMR (DMSO-d 6.δ): 1.16 (9H
, t, J=8Hz).

2.05(8H,S)、 8.08(6H,Q、 J=
8Hz)、8.67(2H,m)、 4.27(4H,
m)、 4.92(LH,m)。
2.05 (8H, S), 8.08 (6H, Q, J=
8Hz), 8.67 (2H, m), 4.27 (4H,
m), 4.92 (LH, m).

8.08(2H,m)、 9.28(IH,d、 J=
8Hz)α邊8−C2−(5−アミノ−1,2,4−チ
アジアゾール−8−イ/I/)−2−(2−ヒドロキシ
エトキンイミノ)アセトアミドシー2−オキソアゼチジ
ン−1−スルホン酸トリエチルアミン塩(シン異性体)
、融点128〜182℃(分解)。
8.08 (2H, m), 9.28 (IH, d, J=
8Hz) α-8-C2-(5-amino-1,2,4-thiadiazole-8-I/I/)-2-(2-hydroxyethquinimino)acetamidocy 2-oxoazetidine-1-sulfonic acid triethylamine Salt (syn isomer)
, melting point 128-182°C (decomposition).

IR(ヌジョール’):  8400.1750.16
60.1220−1280、1080n−’ 038−C2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾ
ール−8−イル)−2−(ベンジルオキシイミノ)アセ
トアミドシー2−オキソアゼチジン−1−スルホン酸ト
リエチルアミン塩(シン異性体)、融点134〜187
℃。
IR (Nujol'): 8400.1750.16
60.1220-1280, 1080n-' 038-C2-(5-amino-1,2,4-thiadiazol-8-yl)-2-(benzyloxyimino)acetamidocy 2-oxoazetidine-1-sulfonic acid triethylamine salt (syn isomer), melting point 134-187
℃.

IR(ヌショール)+ 1760.1670. 162
0.12B0゜1040、10101−1 NMRlolol−1N、δ): 1.16(9H,t
、J=8Hz)。
IR (Nushor) + 1760.1670. 162
0.12B0゜1040, 10101-1 NMRlolol-1N, δ): 1.16 (9H, t
, J=8Hz).

8.04(6H,Q、J=8Hz)、8.4−8.7(
2H。
8.04 (6H, Q, J=8Hz), 8.4-8.7 (
2H.

m)、4.7−5.1(IH,m)、5.24(2H,
S)。
m), 4.7-5.1 (IH, m), 5.24 (2H,
S).

7.26(5H,S)、8.02(2H,b、s)、9
.04(IH。
7.26 (5H, S), 8.02 (2H, b, s), 9
.. 04 (IH.

d、J=8Hz) Q418−C2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−8−イル)−2−(4−フルオロベンジルオキ
シイミノ)アセトアミドシー2−オギソアゼチジン−1
−スルホン酸ナトリウム(シン異性体)、融点205〜
208℃(分解)。
d, J=8Hz) Q418-C2-(5-amino-1,2,4-thiadiazol-8-yl)-2-(4-fluorobenzyloximino)acetamidocy 2-ogisoazetidine-1
-Sodium sulfonate (syn isomer), melting point 205~
208°C (decomposition).

IR(ヌジョール):  8800,1760,166
0,1620゜1510α−1 FJMR(DMSOd 6 、δ) : 9.80(I
H,d、 J=8Hz)。
IR (Nujol): 8800, 1760, 166
0,1620°1510α-1 FJMR (DMSOd6, δ): 9.80(I
H, d, J=8Hz).

8.10(2H,b、s)、 7.0−7.67(4H
,m)。
8.10 (2H, b, s), 7.0-7.67 (4H
, m).

5.18(2H,S )、 4.82−5.88(IH
,m)、 8.08−8.82(2H,m) 058−C2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾ
ール−8−イル)−2−(第三級ブトキシカルボニルメ
トキシイミノ)アセトアミドシー2−オキソアゼチジン
−1−スルホン酸ナトリウム(シン異性体)、融点28
0〜240℃以上(分解)。
5.18 (2H, S), 4.82-5.88 (IH
, m), 8.08-8.82 (2H, m) 058-C2-(5-amino-1,2,4-thiadiazol-8-yl)-2-(tert-butoxycarbonylmethoxyimino)acetamide Sodium 2-oxoazetidine-1-sulfonate (syn isomer), melting point 28
0 to 240°C or higher (decomposition).

IR(ヌジョール) : 8270.1750.124
5.1o45as−”NMR(D 20.δ) : 1
.50(9H,S)、 8.75−4.16(2H。
IR (Nujol): 8270.1750.124
5.1o45as-”NMR (D20.δ): 1
.. 50 (9H, S), 8.75-4.16 (2H.

m)、 4.82(2H,s)、 5.17(IH,m
)(1G8−C2−(5−アミノ−1,2,4−チアジ
アゾール−8−イ)v) −2−(カルボキンメトキシ
イミノ)アセトアミドシー2−オキソアゼチジン−1−
スルホン酸(シン異性体)、融点200℃以上(分解)
m), 4.82 (2H, s), 5.17 (IH, m
)(1G8-C2-(5-amino-1,2,4-thiadiazol-8-i)v) -2-(carboxinemethoxyimino)acetamidocy2-oxoazetidine-1-
Sulfonic acid (syn isomer), melting point 200℃ or higher (decomposition)
.

IR(ヌジョール) : 8280.1750.178
0.1665゜1210、101085c’ Q7)8−C2−45−−7ミ/−1,2,4−千7ジ
アゾ−)v−3−イル)−2−(1−カルボキシラード
−1−メチルエトキシイミノ)アセトアミドシー2−オ
キソアゼチジン−1−ヌルホン酸ジナトリウム(シン異
性体)、融点188〜198℃(分解)。
IR (Nujol): 8280.1750.178
0.1665゜1210, 101085c' Q7) 8-C2-45--7mi/-1,2,4-1,7diazo-)v-3-yl)-2-(1-carboxylad-1-methyl Ethoxyimino) acetamidocy 2-oxoazetidine-1-nurphonate disodium (syn isomer), mp 188-198°C (decomposed).

IR(ヌジョー/I/):  8500−8100.1
760.1660゜1590、1580cm’ α約3−(2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾ
ール−3−イル)−2−(8−第三級ブトキシカルボニ
ル−トランス−アリlレオキシイミノ)アセトアミドツ
ー2−オキソアゼチジン−1−スルホン酸トリエチルア
ミン塩(シン異性体)、融点115〜122℃(分解)
IR (Nugeot/I/): 8500-8100.1
760.1660° 1590, 1580 cm' α approx. 3-(2-(5-amino-1,2,4-thiadiazol-3-yl)-2-(8-tert-butoxycarbonyl-trans-aryl leoxiimino) Acetamide-2-oxoazetidine-1-sulfonic acid triethylamine salt (syn isomer), melting point 115-122°C (decomposition)
.

IR(ヌジョール) : 1760.1710.167
0.1620゜1040備−1 NMR(DMSO−d s 、δ) + 1.18(9
H,t、 J=8Hz)。
IR (Nujol): 1760.1710.167
0.1620°1040-1 NMR (DMSO-ds, δ) + 1.18 (9
H, t, J=8Hz).

1.48(9H,S)、 8.12(6H,Q、 J=
8Hz)、8.6−8.8(2H,m)、 4.90(
2H,b、s)、 5.96(LH。
1.48 (9H, S), 8.12 (6H, Q, J=
8Hz), 8.6-8.8 (2H, m), 4.90 (
2H, b, s), 5.96 (LH.

d、 J=16Hz)、 6.96(IH,d、 t、
 J=16Hz。
d, J=16Hz), 6.96(IH, d, t,
J=16Hz.

4Hz )、 8.16(2H,b、 S)、 9.4
0 (IH,d、 J=8Hz) 098−C2−(1,2,4−チアジアゾ−/l/−8
−イル)−2−(エトキシイミノ)アセトアミドツー2
−オキソアゼチジン−1−スルホン酸トリエチルアミン
塩(シン異性体)、融点68〜70℃。
4Hz), 8.16 (2H, b, S), 9.4
0 (IH, d, J=8Hz) 098-C2-(1,2,4-thiadiazole-/l/-8
-yl)-2-(ethoxyimino)acetamido2
-Oxoazetidine-1-sulfonic acid triethylamine salt (syn isomer), melting point 68-70°C.

IR(ヌジョー)v):  84B0.8260.80
50.1?60゜1670、1250目08(1011
’NMR(DMSOd6.δ): 1.88(9H,t
、 J=7Hz)。
IR (Nujo) v): 84B0.8260.80
50.1?60゜1670, 1250th 08 (1011
'NMR (DMSOd6.δ): 1.88 (9H, t
, J=7Hz).

II5(8H,t、 J=7Hz)、 8.08(6H
,Q。
II5 (8H, t, J=7Hz), 8.08 (6H
,Q.

J−7Hz)、 8.28(IH,Q、 J=15Hz
)、 8.68(IH,t、 J=5.5Hz )、 
4.25(2H,Q、 J=7Hz)。
J-7Hz), 8.28 (IH, Q, J=15Hz
), 8.68 (IH, t, J=5.5Hz),
4.25 (2H, Q, J=7Hz).

5.00(IH,m)、 9.86(1,H,d、 J
=8Hz)、1021(IH,S) 翰8−C2−(1,2,4−チアジアゾール−3−イル
)−2−(4−ニトロベンジルオキシカルボ二〜メトキ
シイミノ)アセトアミドツー2−オキソアゼチジン−1
−スルホン酸トリエチルアミン塩(シン異性体)。
5.00 (IH, m), 9.86 (1, H, d, J
=8Hz), 1021(IH,S) 8-C2-(1,2,4-thiadiazol-3-yl)-2-(4-nitrobenzyloxycarboni-methoxyimino)acetamido-2-oxoazetidine-1
-Sulfonic acid triethylamine salt (syn isomer).

NMR(DMSO−d6.δ) : 1.18(9H,
t、 J=8Hz)。
NMR (DMSO-d6.δ): 1.18 (9H,
t, J=8Hz).

8.12(6H,ABq、 J−8Hz)、 11−4
.0(2H。
8.12 (6H, ABq, J-8Hz), 11-4
.. 0 (2H.

m)、5.08(2H,s)、 5.05(II(、m
)、 5.40(2H,s)、 7.71(2H,d、
 J−=9Hz)、  8.25(2H,d、 J=9
Hz)、 9.55(IH,d、 J=8Hz)。
m), 5.08 (2H, s), 5.05 (II (, m
), 5.40 (2H, s), 7.71 (2H, d,
J-=9Hz), 8.25(2H,d, J=9
Hz), 9.55 (IH, d, J=8Hz).

10.88(IH,s) Cυ8−C2−(1,2,4−チアジアゾール−3−イ
ル)−2−(カルボキンメトキシイミノ)アセトアミド
ツー2−オキソアゼチジン−1−10、ff ヌルホン酸(シン異性体)、融点98〜##−℃。
10.88 (IH,s) Cυ8-C2-(1,2,4-thiadiazol-3-yl)-2-(carboxinemethoxyimino)acetamido-2-oxoazetidine-1-10, ff Nurphonic acid (synisomer body), melting point 98~##-℃.

IR(ヌショール): 1750,1670,1540
鐸−1(2)8−C2−(5−アミノ−1,2,4−チ
アジアゾール−3−イル)−2−(ヒドロキシイミノ)
アセト1ミド〕−2−オキソアゼチジン−1−スルホン
酸トリフルオロ酢酸塩(シン異性体)、融点160〜1
68℃(分解)。
IR (Nushor): 1750, 1670, 1540
Taku-1(2)8-C2-(5-amino-1,2,4-thiadiazol-3-yl)-2-(hydroxyimino)
Acetamide]-2-oxoazetidine-1-sulfonic acid trifluoroacetate (syn isomer), melting point 160-1
68°C (decomposition).

IR(ヌジョール) : 8400−8100. 17
60. 1660゜1680、1580cM’ 実施例5 8−1: 2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾ
ール−3−イル)−2−(エトキシイミノ)アセトアミ
F’)−2−オギソアゼチジン(シン異性体)(0,7
2G+)、ピリジン−三酸化イオウ錯体(1,01M)
および三フッ化ホウ素エーテル付加化合物(0,76g
)のジメチルホルムアミド(4yxl )中温合物を室
温で4時間攪拌し7た。これにエタノール(10g?)
を加え、生成した沈殿を戸数した。この固体を炭酸水素
ナトリウム飽和水溶液(6m/)に溶解し、水浴の温度
で冷却した。再沈殿した物質を戸数して、8−(2−(
5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イ)v
 ) −2−(エトキシイミノ)アセトアミドツー2−
オキソアゼチジン−1−スルホン酸ナトリウム(シン異
性体)(0,60g)を得た。
IR (Nujol): 8400-8100. 17
60. 1660°1680, 1580cM' Example 5 8-1: 2-(5-amino-1,2,4-thiadiazol-3-yl)-2-(ethoxyimino)acetamiF')-2-ogisoazetidine (synisomer body) (0,7
2G+), pyridine-sulfur trioxide complex (1,01M)
and boron trifluoride ether addition compound (0.76 g
) in dimethylformamide (4yxl) was stirred at room temperature for 4 hours. Add this to ethanol (10g?)
was added, and the resulting precipitate was collected. This solid was dissolved in saturated aqueous sodium bicarbonate solution (6 m/) and cooled at water bath temperature. The number of reprecipitated substances is 8-(2-(
5-amino-1,2,4-thiadiazole-3-i)v
) -2-(ethoxyimino)acetamido2-
Sodium oxoazetidine-1-sulfonate (syn isomer) (0.60 g) was obtained.

上記で得た化合物のNMRデータは実施例1で得た化合
物のデータと一致することが確認された。
It was confirmed that the NMR data of the compound obtained above matched the data of the compound obtained in Example 1.

実施例6 実施例5の方法に準じて下記の化合物を得た。Example 6 According to the method of Example 5, the following compound was obtained.

(118−C2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イtv ) −2−(メトキシイミノ)ア
セトアミドツー2−オキソアゼチジン−1−スルホン酸
ナトリウム(シン異性体)、融点240℃朋上(分解)
(118-C2-(5-amino-1,2,4-thiadiazol-3-itv)-2-(methoxyimino)acetamido-2-oxoazetidine-1-sulfonic acid sodium (synisomer), melting point 240°C Tomokami (disassembly)
.

IR(ヌジョール’) : 8420.8270. 1
770. 1660゜1620、1250.108昨−
1 (2+8−[:2−(5−アミノ−1,2,4−チアジ
アゾール−8−イル)−2−(プロポキシイミノ)アセ
トアミドシー2−オギソアゼチジン−1−スルホン酸ト
リエチルアミン塩(シン異性体)、融点87〜98℃。
IR (Nujol'): 8420.8270. 1
770. 1660°1620, 1250.108 yesterday -
1 (2+8-[:2-(5-amino-1,2,4-thiadiazol-8-yl)-2-(propoxyimino)acetamidocy 2-ogisoazetidine-1-sulfonic acid triethylamine salt (syn isomer), Melting point 87-98°C.

IR(ヌジョール): 8100−8500.1760
,1670゜1620、1580c1R−’ (318−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イル)−2−(ヘキシルオキシイミノ)ア
セトアミドシー2−オギソア右チジン−1−スルホン酸
ナトリウム(シン異性体)。
IR (Nujol): 8100-8500.1760
, 1670° 1620, 1580c1R-' (318-[2-(5-amino-1,2,4-thiadiazol-3-yl)-2-(hexyloxyimino)acetamidocy2-ogisoa right tidine-1-sulfone Sodium chloride (syn isomer).

IR(5(ショール> : 8800,1760,12
40.1045011−’(4)8−(2−(5−アミ
ノ−1,2,4−チアンアゾール−3−イIv) −2
−(アリルオキシイミノ)アセトアミドシー2−オキソ
アゼチジン−1−スルホン酸ナトリウム(シン異性体)
、融点240℃以上(分解)。
IR (5 (shawl>: 8800, 1760, 12
40.1045011-'(4)8-(2-(5-amino-1,2,4-thianazol-3-Iv) -2
-(allyloxyimino)acetamidocy 2-oxoazetidine-1-sulfonate sodium (syn isomer)
, melting point 240°C or higher (decomposition).

IR(ヌジョール): 8800.1765.1665
. 1620゜1240、1050α−1 (5)8−C2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾ−)v−8−イ)+z) −2−(2−プロビニルオ
ギシイミノ)アセトアミドシー2−オギソアゼチジン−
1−スルホン酸ナトリウム(シン異性体)、融点145
〜150℃(分解)。
IR (Nujol): 8800.1765.1665
.. 1620゜1240, 1050α-1 (5) 8-C2-(5-amino-1,2,4-thiadiazole)v-8-i)+z)-2-(2-provinylogycyimino)acetamidocy 2-Ogisoazetidine-
Sodium 1-sulfonate (syn isomer), melting point 145
~150°C (decomposition).

(6)8−(2−45−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イtv)−2−(2−シクロペンテン−1
−イルオキシイミノ)アセトアミドシー2−オキソアゼ
チジン−1−スルホン酸トリエチルアミン塩(シン異性
体)、融点113〜121℃。
(6) 8-(2-45-amino-1,2,4-thiadiazole-3-itev)-2-(2-cyclopentene-1
-yloxyimino)acetamidocy 2-oxoazetidine-1-sulfonic acid triethylamine salt (syn isomer), melting point 113-121°C.

IR(ヌジョーzL/):  8100−8400.1
760.1670゜1620、1580cN−’ (7)8−(2−(5−ホルムアミド−1,2,4−チ
アジアゾール−3−イ/L/ ) −2−(シアノメト
キシイミ・))アセトアミドシー2−オキソアゼチジン
−1−スルホン酸トリエチルアミン塩(シン異性体)、
融点105〜110℃(分解)。     やIR(K
Br) : 1760.1680.1270.1040
.1015m’(8)8−C2−(5−アミノ−1,2
,4−チアジアゾ−/L/−8−イル)−2−(シアノ
メトキシイミノ)アセトアミドシー2−オキソアゼチジ
ン−1−スルホン酸トリエチルアミン塩(シン異性体)
、融点81〜85℃(分解)。
IR (Nujo zL/): 8100-8400.1
760.1670° 1620, 1580 cN-' (7) 8-(2-(5-formamide-1,2,4-thiadiazole-3-i/L/) -2-(cyanomethoxyimi.))acetamide sea 2 -oxoazetidine-1-sulfonic acid triethylamine salt (syn isomer),
Melting point 105-110°C (decomposed). and IR(K
Br): 1760.1680.1270.1040
.. 1015m'(8)8-C2-(5-amino-1,2
,4-Thiadiazo-/L/-8-yl)-2-(cyanomethoxyimino)acetamidocy 2-oxoazetidine-1-sulfonic acid triethylamine salt (syn isomer)
, melting point 81-85°C (decomposition).

IR(KBr) :  1760.1675.1680
.1260.1240゜1040、1010α−1 (9!8−[:2−(5−アミノ−1,2,4−チアジ
アゾール−8−イル)−2−(メチルチオメトキンイミ
ノ)アセトアミドシー2−オギソアゼチジン−1−スル
ホン酸ナトリウム(シン異性体)、融点200〜210
℃(分解)。
IR(KBr): 1760.1675.1680
.. 1260.1240°1040,1010α-1 (9!8-[:2-(5-amino-1,2,4-thiadiazol-8-yl)-2-(methylthiomethquinimino)acetamidocy2-ogisoazetidine- Sodium 1-sulfonate (syn isomer), melting point 200-210
°C (decomposition).

IR(ヌジョール) :  1760.1670. 1
620.1240゜1200、1050z−’ Ql)8−(2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾ−tL/−8−イル)−2−(2−第三級ブトキシカ
ルボニルアミノエトキシイミノ)アセトアミドシー2−
オキソアゼチジン−1−スルホン酸トリエチルアミン塩
(シン異性体)、融点200℃以上(分解)。
IR (Nujol): 1760.1670. 1
620.1240°1200,1050z-' Ql) 8-(2-(5-amino-1,2,4-thiadiazol-tL/-8-yl)-2-(2-tert-butoxycarbonylaminoethoxyimino ) Acetamide sea 2-
Oxoazetidine-1-sulfonic acid triethylamine salt (syn isomer), melting point 200°C or higher (decomposed).

IR(ヌジ:I−/l/):  1750.1270.
1085z−’(11)8−(2−(5−アミノ−1,
2,4−チアジアゾ−/L/−8−イ/L/)−2−(
2−アミノエトキシイミノ)アセトアミドシー2−オギ
ソアゼチジン−1−スルホン酸ナトリウム(シン異性体
)、融点280〜240℃(分解)。
IR (Nuji:I-/l/): 1750.1270.
1085z-'(11)8-(2-(5-amino-1,
2,4-thiadiazole/L/-8-i/L/)-2-(
2-Aminoethoxyimino)acetamidosodium 2-ogisoazetidine-1-sulfonate (syn isomer), mp 280-240°C (decomposed).

IR(ヌジョール) :  8400.8800.81
60.1760゜1200、1040n−1 02)8−C2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イw)−2−(2−アセトギシエトキシイ
ミノ)−アセトアミドシー2−オキソアゼチジン−1−
スルホン酸トリエチルアミン塩(シン異性体)、融点6
8〜78℃。
IR (Nujol): 8400.8800.81
60.1760゜1200, 1040n-1 02) 8-C2-(5-amino-1,2,4-thiadiazole-3-iw)-2-(2-acetogyethoxyimino)-acetamido-2-oxoazetidine -1-
Sulfonic acid triethylamine salt (syn isomer), melting point 6
8-78℃.

IR(ヌジョール):  1760.1670.122
0−1280゜1040cII−’ 038−(2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾ
ール−3−イ)v)−2−(2−ヒドロキシエトキシイ
ミノ)アセトアミドシー2−オギソアゼチジン−1−ス
ルホン酸トリエチルアミン塩(シン異性体)、融点12
8〜132℃(分解)。
IR (Nujol): 1760.1670.122
0-1280゜1040cII-' 038-(2-(5-amino-1,2,4-thiadiazol-3-y)v)-2-(2-hydroxyethoxyimino)acetamidocy2-ogisoazetidine-1-sulfone Acid triethylamine salt (syn isomer), melting point 12
8-132°C (decomposition).

IR(ヌジョ−/l/):  8400,1750.1
660.1220−1280、101080c’ α滲8−42−(5−アミノ−i、2.4−チアシアソ
ー/L/−8−イル)−2−(ペンシルオキシイミノ)
アセトアミドジ−2−オキソアゼチジン−1−スルホン
酸トリエチルアミン塩(シン異性体〕5融点134〜1
87℃0 IR(ヌショール):  1760.1670.162
0.1280゜1040、 l0IOCIII−1 Q58−(2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾ
ール−8−イtv)−2−(4−フルオロペンシルオキ
シイミノ)アセトアミドジ−2−オキソアゼチジン−1
−スルホン酸ナトリウム(シン異性体)、融点205〜
208℃(分解)。
IR (nujo-/l/): 8400,1750.1
660.1220-1280, 101080c' α滲8-42-(5-amino-i,2.4-thiacyaso/L/-8-yl)-2-(pencyloxyimino)
Acetamide di-2-oxoazetidine-1-sulfonic acid triethylamine salt (syn isomer) 5 Melting point 134-1
87℃0 IR (Nushor): 1760.1670.162
0.1280°1040, l0IOCIII-1 Q58-(2-(5-amino-1,2,4-thiadiazole-8-itev)-2-(4-fluoropencyloxyimino)acetamidodi-2-oxoazetidine- 1
-Sodium sulfonate (syn isomer), melting point 205~
208°C (decomposition).

IR(ヌジョール):  8800,1760,166
0.1620゜1510011−1 (+18−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−8−イiv ) −2−(第三級ブトキシカル
ボニルメトキシイミノ)アセトアミドジ−2−オキソア
ゼチジン−1−スルホン酸ナトリウム(シン異性体)、
融点280〜240℃以上1 1R(ヌジョール):  8270.1750.124
5.1045cIlα718−(2−(5−アミノ−1
,2,4−チアジアゾール−3−イル)−2−(カルボ
キンメトキシイミノ)アセトアミドジ−2−オキソアゼ
チジン−1−スルホン酸(ノン異性体)、融点200℃
以上(分解)。
IR (Nujol): 8800, 1760, 166
0.1620゜1510011-1 (+18-[2-(5-amino-1,2,4-thiadiazol-8-iv) -2-(tert-butoxycarbonylmethoxyimino)acetamidodi-2-oxoazetidine- 1-sodium sulfonate (syn isomer),
Melting point 280-240℃ or higher 1 1R (Nujol): 8270.1750.124
5.1045cIlα718-(2-(5-amino-1
,2,4-thiadiazol-3-yl)-2-(carboxinemethoxyimino)acetamidodi-2-oxoazetidine-1-sulfonic acid (non-isomer), melting point 200°C
That's it (disassembly).

IR(ヌジョール) :  8280.1750.17
B0.1665゜1210、108釘11 Q8)8−(2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−8−イル)−2−(1−ベンズヒドリルオキシ
カルボニル−1−メチルエトキンイミノ)アセトアミド
ジ−2−オキソアゼチジン−1−スルホン酸トリエチル
アミン塩(シン異性体)、融点150〜156℃(分解
)。
IR (Nujol): 8280.1750.17
B0.1665゜1210, 108 nails 11 Q8) 8-(2-(5-amino-1,2,4-thiadiazol-8-yl)-2-(1-benzhydryloxycarbonyl-1-methylethquin) imino)acetamidodi-2-oxoazetidine-1-sulfonic acid triethylamine salt (syn isomer), mp 150-156°C (decomposed).

IR(ヌジョール):  8500−8100.175
0,1670゜1620、1580n−1 a呻8−(2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾ
ール−8−イル)−2−(1−カルボキシラード−1−
メチルエトキシイミノ)アセトアミドジ−2−オキソア
ゼチジン−1−スルホン酸ジナトリウム(シン異性体)
、融点188〜198℃(分解)。
IR (Nujol): 8500-8100.175
0,1670° 1620, 1580n-1
Methylethoxyimino)acetamidodi-2-oxoazetidine-1-sulfonic acid disodium (syn isomer)
, melting point 188-198°C (decomposed).

IR(ヌジョール) : 8500−8100. 17
60. 1660゜1590、15803−’ t2fJ8−(2−(5−アミノ−1,2,4−チアジ
アゾール−3−イル)−2−(8−第三級ブトキシカル
ボニル−トランス−7リルオキシイミノ)アセトアミド
ジ−2−オキソアゼチジン−1−スルホン酸トリエチル
アミン塩(シン異性体)、融点115〜122℃(分解
)。
IR (Nujol): 8500-8100. 17
60. 1660°1590, 15803-' t2fJ8-(2-(5-amino-1,2,4-thiadiazol-3-yl)-2-(8-tert-butoxycarbonyl-trans-7lyloxyimino)acetamidodi-2 -Oxoazetidine-1-sulfonic acid triethylamine salt (syn isomer), melting point 115-122°C (decomposed).

IR(ヌジョール) :  1760.1710.16
70.1620゜1040α−1 C21J8−(2−(1,2,4−チアジアゾール−3
−イル)−2−(工■・キシイミノ)アセトアミドジ−
2−オキソアゼチジン−1−スルホン酸トリエチルアミ
ン塩(Vン異性体’)、融点68〜70℃。
IR (Nujol): 1760.1710.16
70.1620°1040α-1 C21J8-(2-(1,2,4-thiadiazole-3
-yl)-2-(D-ximino)acetamidodi-
2-Oxoazetidine-1-sulfonic acid triethylamine salt (V-isomer'), melting point 68-70°C.

IR(ヌジョール) :  8480.8260.80
50. 1?60゜1670、1250.1080a+
+−’に)8−(2−(1,2,4−チアジアゾール−
3−イル)−2−(4−ニトロベンジルオキシカルボニ
ルメトキシイミノ)アセトアミドジ−2−オキソアゼチ
ジン−1−スルホン酸トリエチルアミン塩(シン異性体
)。
IR (Nujol): 8480.8260.80
50. 1?60°1670, 1250.1080a+
+-')8-(2-(1,2,4-thiadiazole-
3-yl)-2-(4-nitrobenzyloxycarbonylmethoxyimino)acetamidodi-2-oxoazetidine-1-sulfonic acid triethylamine salt (syn isomer).

NMR(DMSO−d6.δ) : 1.18(9H,
t、 J=8Hz)。
NMR (DMSO-d6.δ): 1.18 (9H,
t, J=8Hz).

8.12(6H,ABQ、 J=8Hz)、 a、i 
−4,0(2B。
8.12 (6H, ABQ, J=8Hz), a, i
-4,0 (2B.

m)、 5.os(2H,8)、 5.05(IH,m
)、 5.40(2H,s)、 7.71(2H,d、
 J=9Hz)、 8.25(2H,d、 J=9Hz
)、 9.55(IH,d、 J=8Hz)。
m), 5. os(2H,8), 5.05(IH,m
), 5.40 (2H, s), 7.71 (2H, d,
J=9Hz), 8.25(2H,d, J=9Hz
), 9.55 (IH, d, J=8Hz).

10.88(1)1. @) (238−(2−(1,2,4−チアジアゾ−Iv−8
−イル)−2−(カルボキシメトキシイミノ)アセトア
ミドジ−2−オキソアゼチジン−1−スルホン酸(シン
異性体)、融点98〜105℃。
10.88(1)1. @) (238-(2-(1,2,4-thiadiazole-Iv-8
-yl)-2-(carboxymethoxyimino)acetamidodi-2-oxoazetidine-1-sulfonic acid (syn isomer), mp 98-105°C.

IR(ヌジョール) ;  1750. 1670. 
15401:lll−’(ハ)8−(2−(5−アミノ
−1,2,4−チアジアゾール−8−イル)−2−(ヒ
ドロキシイミノ)アセトアミドジ−2−オキソアゼチジ
ン−1−スルホン酸トリフルオロ酢酸塩(シン異性体)
、融点160〜168℃(分解)。
IR (Nujol); 1750. 1670.
15401:lll-'(c)8-(2-(5-amino-1,2,4-thiadiazol-8-yl)-2-(hydroxyimino)acetamidodi-2-oxoazetidine-1-sulfonic acid trifluoro Acetate (syn isomer)
, melting point 160-168°C (decomposition).

IR(ヌジョール) : 8400−8100. 17
60.1660゜1680、1580cII−’ 実施例7 8−C2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾ−t
L/−8−イ/L/)−2−(2−第三級ブトキシカル
ボニルアミノエトキシイミノ)アセトアミドジ−2−オ
キソアゼチジン−1−スルホン酸トリエチルアミン塩(
シン異性体)(0,669)、アニソール(2,6簿?
)およびトリフルオロ酢酸(2、6jIl )の塩化メ
チレン(9xl)中温合物を15〜20℃で2.5時間
攪拌]7た。これに乾燥イソプロピルエーテル(40簿
i?)を水冷下に加え、沈殿を戸数した。この固体を水
(It)tt)に溶解し1溶液を10%塩酸でpH0,
5に調整し、次いで水酸化ナトリウム10%水溶液でp
H8,0に調整した。
IR (Nujol): 8400-8100. 17
60.1660°1680, 1580cII-' Example 7 8-C2-(5-amino-1,2,4-thiadiazole-t
L/-8-i/L/)-2-(2-tert-butoxycarbonylaminoethoxyimino)acetamidodi-2-oxoazetidine-1-sulfonic acid triethylamine salt (
syn isomer) (0,669), anisole (2,6 books?
) and trifluoroacetic acid (2,6jIl) in methylene chloride (9xl) was stirred at 15-20°C for 2.5 hours]. Dry isopropyl ether (40%) was added to this under water cooling, and a precipitate was collected. This solid was dissolved in water (It)tt) and the solution was adjusted to pH 0 with 10% hydrochloric acid.
5, and then p
Adjusted to H8.0.

この溶液を活性炭クロマトグラフィーに付した。This solution was subjected to activated carbon chromatography.

80%水性アセトンで溶出し、凍結乾燥して、3−C2
−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イ
1v)−2−(2−アミノエトキンイミノ)アセトアミ
ドジ−2−オキソアゼチジン−1−スルホン酸ナトリウ
ム(シン異性体)(0,189)を得た。融点230〜
240℃(分解)。
Elute with 80% aqueous acetone and lyophilize to obtain 3-C2
-(5-Amino-1,2,4-thiadiazol-3-y1v)-2-(2-aminoethquinimino)acetamidodi-2-oxoazetidine-1-sulfonate sodium (syn isomer) (0, 189) was obtained. Melting point 230~
240°C (decomposition).

IR(ヌジョール’) : 8400.8800.81
60.1?60゜1200、1040aII−” NMR(DMSO−da、δ) : 8.00−8.4
8(4H,m)。
IR (Nujol'): 8400.8800.81
60.1?60°1200, 1040aII-” NMR (DMSO-da, δ): 8.00-8.4
8 (4H, m).

8.71(IH,t、 J=5Hz)、 4.16−4
.60(2H。
8.71 (IH, t, J=5Hz), 4.16-4
.. 60 (2H.

m)、 4.88−5.20(IH,m)、 8.10
(2H,b、a)。
m), 4.88-5.20 (IH, m), 8.10
(2H, b, a).

9.17(IH,d、 J=8Hz) 実施例8 I)ブドウ糖1%、ペプトン0.8%、牛肉エキス0.
8%を含む水性溶媒(pH7,0) (100m1)を
、容Ik 500 telのエルレンマイヤーフラスコ
4個にそ所、大阪、日本、から入手可能)の斜面培養物
の1白金耳を加えた。微生物を7エーカーにより、25
℃で2日間培養した。
9.17 (IH, d, J=8Hz) Example 8 I) Glucose 1%, peptone 0.8%, beef extract 0.
An aqueous medium (pH 7,0) containing 8% (100 ml) was added to four Erlenmeyer flasks of volume Ik 500 tel with one platinum loop of a slant culture (available from Osaka, Japan). . 7 acres of microorganisms, 25
The cells were cultured at ℃ for 2 days.

さらに、前記と同じ水性媒質C2ol)を容量301の
ジャー醗酵槽に注ぎ込み、120℃で20分間滅菌した
。この媒質に上記で得た培養プロスを全量加えた。致生
物を25℃で2日間培養した。
Furthermore, the same aqueous medium (C2ol) as above was poured into a jar fermentor with a capacity of 301 and sterilized at 120° C. for 20 minutes. The entire amount of the culture prosthesis obtained above was added to this medium. The pathogenic organisms were cultured at 25°C for 2 days.

このようVC1〜で得た培養ブロスを次の実施例に使用
1.た。
The culture broth thus obtained in VC1~ was used in the following examples 1. Ta.

++)8−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−8−イル)−2−(2−アセトキシエトキシイ
ミノ)アセトアミドシー2−オギソアゼチジン−1−ヌ
ルホン酸トリエチルアミン塩(シン異性体)(0,49
)を水(20ytl)に溶解し。
++) 8-[2-(5-Amino-1,2,4-thiadiazol-8-yl)-2-(2-acetoxyethoxyimino)acetamidocy 2-ogisoazetidine-1-nurphonic acid triethylamine salt (syn isomer )(0,49
) was dissolved in water (20 ytl).

次いでこれに実施例8−1)で得た粗デアシラーゼを触
媒量含有する培養ブロスを加え、pH4,5〜4.7で
、30℃で6時間インキュベートした。反応混合物を濾
過して、ろ液を活性炭クロマトグラフィーに付した。3
0%水性アセトンによる溶出画分を凍結乾燥し7で、8
−C2−(5−アミノ−1゜2.4−チアジアゾール−
3−イ/I/)−2−(2−ヒドロキシエトキシイミノ
)アセトアミドシー2−オギソアゼチジン−1−スルホ
ン酸トリエチルアミン塩(シン異性体)(0,2g)を
得た。融点128〜182℃(分解)。
Next, a culture broth containing a catalytic amount of the crude deacylase obtained in Example 8-1) was added thereto, and the mixture was incubated at 30° C. for 6 hours at pH 4.5 to 4.7. The reaction mixture was filtered and the filtrate was subjected to activated carbon chromatography. 3
The fractions eluted with 0% aqueous acetone were lyophilized at 7 and 8.
-C2-(5-amino-1゜2.4-thiadiazole-
3-I/I/)-2-(2-hydroxyethoxyimino)acetamide 2-ogisoazetidine-1-sulfonic acid triethylamine salt (syn isomer) (0.2 g) was obtained. Melting point 128-182°C (decomposition).

IR(5(ジョー#) :  8400.1750. 
1660.1220−1280、10801−1 NMR10801−1N、δ) : 1.18(91(
、t、 J=8Hz)。
IR (5 (Joe #): 8400.1750.
1660.1220-1280, 10801-1 NMR10801-1N, δ): 1.18(91(
, t, J=8Hz).

2.98(6H,Q、J=8Hz)、8.0−4.0(
2H,m)。
2.98 (6H, Q, J=8Hz), 8.0-4.0 (
2H, m).

8.60(2H,t、J=5Hz)、4.18(2H,
t、J=5Hz)、4.92(IH,m)、8.06(
2H,m)、9.08(IH,d、J=8Hz) 実施例9 トリフルオロ酢酸(80露l)を、8−C2−(5−ア
ミノ−1,2,4−チアジアゾール−8−イ/L/)−
2−(2−シクロペンテン−1−イルオキシイミノ)ア
セトアミドジ−2−オキソアゼチジン−1−スルホン酸
トリエチルアミン塩(シン異性体)(1,5iのジクロ
ロメタン(50ml)中懸濁液に3℃で加え、混合物を
水冷下に4時間攪拌した。反応混合物を濃縮し、残渣を
n−ヘキサンおよびエーテルで洗浄し、乾燥して、8−
〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−8
−イiv ) −2−(ヒドロキシイミノ)アセトアミ
ドシー2−オギソアゼチジンー1−スルホン酸トリフル
オロ酢酸塩(シン異性体)(0,959)を得た。融点
160〜168℃(分解)。
8.60 (2H, t, J=5Hz), 4.18 (2H,
t, J=5Hz), 4.92 (IH, m), 8.06 (
2H, m), 9.08 (IH, d, J = 8 Hz) Example 9 Trifluoroacetic acid (80 L) was added to 8-C2-(5-amino-1,2,4-thiadiazole-8-y /L/)-
2-(2-cyclopenten-1-yloxyimino)acetamido di-2-oxoazetidine-1-sulfonic acid triethylamine salt (syn isomer) (added to a suspension of 1,5i in dichloromethane (50 ml) at 3°C, The mixture was stirred for 4 hours under water cooling.The reaction mixture was concentrated, and the residue was washed with n-hexane and ether, dried, and the 8-
[2-(5-amino-1,2,4-thiadiazole-8
-iv) -2-(Hydroxyimino)acetamidocy 2-ogisoazetidine-1-sulfonic acid trifluoroacetate (syn isomer) (0,959) was obtained. Melting point 160-168°C (decomposition).

IR(ヌショール): 8100−8400. 176
0. 1660゜1680、1580cm−1 NMR(DMSOdr、、δ) : 9.10(IH,
d、 J=8Hz)。
IR (Nushor): 8100-8400. 176
0. 1660°1680, 1580cm-1 NMR (DMSOdr, δ): 9.10 (IH,
d, J=8Hz).

7.22(2H,b、s)、 5.10−4.70(I
H,m)。
7.22 (2H, b, s), 5.10-4.70 (I
H, m).

8.77−8.17(2H,m) 実施例10 8−C2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール
−3−イル)−2−11−ベンズヒドリルオキシカルボ
ニル−1−メチルエトキシイミノ)アセトアミドクー2
−オキソアゼチジン−1−スルホン酸トリエチルアミン
塩(シンX性体)(2,889)とアニソール(20肩
l)との混合物に、トリフルオロ酢酸(9,65m?)
を加え、混合物を5℃で1.5時間攪拌した。反応混合
物をインプロビルエーテル中に攪拌下に注ぎ、生成した
沈殿を分離[また。沈殿を真空乾燥し、水(20g?)
に懸濁し、炭酸水素す) IJウムでpH8,0に調整
した。
8.77-8.17 (2H, m) Example 10 8-C2-(5-amino-1,2,4-thiadiazol-3-yl)-2-11-benzhydryloxycarbonyl-1-methyl ethoxyimino) acetamidocou 2
-Trifluoroacetic acid (9.65 m?) is added to a mixture of oxoazetidine-1-sulfonic acid triethylamine salt (syn-X form) (2,889) and anisole (20 l).
was added and the mixture was stirred at 5°C for 1.5 hours. The reaction mixture was poured into Improvil ether under stirring and the precipitate formed was separated [also. Vacuum dry the precipitate and add water (20g?)
The mixture was suspended in hydrogen carbonate and adjusted to pH 8.0 with IJum.

カラムクロマトグラフィーに付した。水で溶出した画分
を凍結乾燥して、8−C2−(5−アミノ−1,2,4
−チアジアゾール−3−イル)−2−(1−カルボキシ
ラード−1−メチルエトキシイミノ)アセトアミドクー
2−オキソフゼチジンー1−ヌルホン酸ジナトリウム(
シン異性体)(o、68g)を得た。融点188〜19
8℃(分解)。
It was subjected to column chromatography. The fraction eluted with water was lyophilized and 8-C2-(5-amino-1,2,4
-thiadiazol-3-yl)-2-(1-carboxylade-1-methylethoxyimino)acetamidocou 2-oxofuzetidine-1-nurphonate disodium (
Syn isomer) (o, 68 g) was obtained. Melting point 188-19
8°C (decomposition).

IR(ヌジョ−zu) :  8100−8500.1
760. 1660゜1590、1580(II−’ NMR(DMSO−d6.δ) : 11.0(II(
、d、 J=88Z)。
IR (Nujo-zu): 8100-8500.1
760. 1660°1590, 1580(II-' NMR(DMSO-d6.δ): 11.0(II(
, d, J=88Z).

8.10(2H,b、s)、 5.2−4.88 (I
H,m)、8.88−3゜10(2H,m)、 1.4
2(6H,m)実施例11 パラジウム−黒(1,09)を、8−(2−(1゜2.
4−チアジアゾール−8−イル)−2−(4−二トロベ
ンジルオキシヵルボニルメトキシイミ      會)
)アセトアミドクー2−オキソアゼチジン−1−スルホ
ン酸トリエチルアミン塩(シン異性体)(1,49)の
10%水性酢酸(80xl)溶液に窒素ガス算囲気中で
加えた。水素添加分解を大気圧下に2時間継続した。パ
ラジウム−黒を戸別し、p液を炭酸水素ナトリウム飽和
水溶液によりpH8,0に調整1−で活性炭カラムクロ
マトグラフィーに付した。80%水性アセトンによる溶
出画分を濃縮し、凍結乾燥して、8−(2−(1,2,
4−千アジアゾールー3−イル)−2−(カルボキシメ
トキシイミノ)アセトアミドクー2−オキソアゼチジン
−1−スルホン酸(シン14性体) (52。
8.10 (2H, b, s), 5.2-4.88 (I
H, m), 8.88-3°10 (2H, m), 1.4
2(6H,m) Example 11 Palladium-black (1,09) was added to 8-(2-(1°2.
4-thiadiazol-8-yl)-2-(4-nitrobenzyloxycarbonylmethoxyimide)
) Acetamidocou 2-oxoazetidine-1-sulfonic acid triethylamine salt (syn isomer) (1,49) was added to a solution of 10% aqueous acetic acid (80xl) under an atmosphere of nitrogen gas. Hydrocracking was continued for 2 hours under atmospheric pressure. Palladium black was taken from house to house, and the p solution was adjusted to pH 8.0 with a saturated aqueous solution of sodium bicarbonate and subjected to activated carbon column chromatography at 1-. The elution fraction with 80% aqueous acetone was concentrated and lyophilized to give 8-(2-(1,2,
4-thousandiazol-3-yl)-2-(carboxymethoxyimino)acetamidocou-2-oxoazetidine-1-sulfonic acid (syn-14-mer) (52.

wl)を得た。融点98〜105℃。wl) was obtained. Melting point: 98-105°C.

IR(ヌジョ−/L’) :  1750. 1670
. 15404−1NMR(DMSOda、δ) : 
10.2B(IH,s)、9.41(IH。
IR (nujo/L'): 1750. 1670
.. 15404-1NMR (DMSOda, δ):
10.2B(IH,s), 9.41(IH.

d、 J=8Hz)、 8.07(2H,b、s)、 
4.77(2H。
d, J=8Hz), 8.07 (2H, b, s),
4.77 (2H.

S)、 8.85−118(2H,m)実施例12 実施例10および11の方法に準じて下記の化合物を製
造した。
S), 8.85-118 (2H, m) Example 12 The following compound was produced according to the method of Examples 10 and 11.

8−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール
−8−イル)−2−(カルボキンメトキシイミノ)アセ
トアミドジ−2−オギソアゼチジンー1−スルホン酸(
シン異性体)、融点200℃以上(分解)。
8-[2-(5-amino-1,2,4-thiadiazol-8-yl)-2-(carboxinemethoxyimino)acetamidodi-2-ogisoazetidine-1-sulfonic acid (
syn isomer), melting point 200°C or higher (decomposition).

IR(ヌジョールつ: 8280. 1750.178
0.1665゜1210、1085個−1 NMR(DMSO−d6.δ) : 8.20(IH,
m)、 8.67(IH。
IR: 8280. 1750.178
0.1665°1210, 1085 pieces-1 NMR (DMSO-d6.δ): 8.20 (IH,
m), 8.67 (IH.

t、 J=8Hz)、 4.40−5.20(8H,m
)、 8.15(2H,m)、 8.78(IH,d、
 J=7.5Hz)切人身埋士  青水 高
t, J=8Hz), 4.40-5.20(8H, m
), 8.15 (2H, m), 8.78 (IH, d,
J=7.5Hz) Cut-throat burial man Aomizu Takashi

Claims (1)

【特許請求の範囲】 ■ 一般式: 〔式中、R1は水素、アミノ基または保護されたアミン
基、 R2は水素、または適当な置換基を有していてもよい低
級詣肋族炭化水素法をそ汎ぞれ意味する〕で示される化
合物およびその医薬として許容される塩。 2)R2がカルボキシ(低級)アルキル基または保護さ
れたカルボキシ(低級)アルキル基である特許請求の範
囲第1項記載の化合物。 3)R1かアミン紙、 R2がカルボキシ(低級〕アルキル基である特許請求の
範囲第2項記載の化合物のシン異性体。 4ン 8−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イル)−2−(1−カルボキシラード−1
−メチルエトキシイミノ)アセトアミド]−2−オキソ
アゼチジン−1−スルホン酸ジナトリウム(シン異性体
)である特許請求の範囲第3項記載の化合物。 5) (11式: [1) で示される化合物またはアミノ基におけるその反応性誘
導体またはその塩を、式: 〔式中、kL+は水素、アミン紙または保護されたアミ
ノ基、 1L2(l−を水素、または適当な置換基を有していて
もよい低級脂肪族炭化水素基ケそれぞれ意味する〕で示
される化合物筐たはカルボキシ基におけるその反応性誘
導体またはその塩と反応させて一般式: 〔式中、ltlおよびR2はそれぞれ前と同じ意味〕で
示さnる化合物またはその塩を得るか;(2)式二 6式中、R1s、よびR2はそルぞn前と同じ意味〕で
示される化合物またはでの塩を、スルホ基の導入反応に
け(7て前記化合物〔I〕またけその塩を潟るか; (3)式: [1] 〔式中、糧は保護されたアミノ基を有する低級脂肪族炭
化水素基を意味し、1(1は前と同じ意味である〕で示
される化合物またはその塩ヲ、峠におけるアミン保護基
の脱離反応にけ(,5で、式[(] 〔式中、礼ニアミノ基を有する低級脂肪族炭化水素基を
意味し、R1は前と同じ意味である〕で示される化合物
またはその塩ヲ肖るか;〔IC〕 〔式中、Itoは保護されたヒドロキシ基を有する低級
脂肪族炭化水素基またはシクロ(低級ファルケニル全意
味し、R1は前と同じ意味である〕で示さnる化合物ま
たはその塩を、式:=N−(J−kL%する基における
ヒドロキシ保護基の脱離反応に←rして、式: 〔式中、弓はヒドロキン基を有する低級脂肪族炭化水素
法または水素を意味し、kL+は前と同じ意味である〕
で示される化合物またはその塩を得るかまたは; (5)式: 〔式中、kLモは保護されたカルボキン基會有する低級
脂肪族炭化水素基を意味し、R1は前と同じ意味である
〕で示される化合物またはその塩を、暁におけるカルボ
キシ保護基の脱断反応VCliして、式: 〔式中、1ii−はカルボキシ基を有する低級脂肪族炭
化水素基金意味し、liは前と同じ意味である〕で示さ
れる化合物またはその塩を碍ることケ特徴とする一般式
〔I〕で示される化合物またはその塩の製造法。 6)一般式: ( %式% 〔式中、緘は保護さnたアミノ基またはアミノ法、 1☆はハローアル(低級)アルキルi、低級アルコキシ
力ルホニル(低級)アルケニ/L、 屑、低級アルカノ
イルオキシ(低級)アルキル基、ヘキシル法、ベンズヒ
ドリルオキシカルボニル(低級〕アルキル法まだはニト
ロベンジルオキシカルボニル(低級ファルキル法をそれ
ぞれ意味する〕で示される化合物またはその塩。 7)式゛ [V] 〔式中、比8は低級アルキル基を意味t、−% kLa
は保4きれたアミノ基またはアミツIkそnぞれ意味す
る〕で示される化合物またにその塩を加水分解Vこけし
また後、生成し、た、 式: 〔式中、<は前と同じ意味〕で示される化合物またはそ
の塩を式: %式% 〔式中、嘔はハローアル(低級)アルキル基、低級アル
コキシカルボニル(低級)アルケニル基、低級アルカノ
イルオキシ(低級)アルギル基、ヘキシル基、ペンズヒ
ドリルオキシヵルボニノしく低級)アルキル基まタハ二
トロペンシルオキシカルポニル(低級)アルキル仄ヲ意
味する〕で示される化合物またはその塩と反応はせるこ
とを特徴とする一般式: %式% 〔式中、曵および嘔ばそれぞれ…Jと同じ意味〕η で示される化合物またはその塩の製造法。 8)一般式: %式% 〔式中、1(2は水素、または内当な置換基を有してい
1もよい低級脂肪族炭化水素Jl意味する〕で示ざnる
化合物またはその塩。 9)式: %式% 〔式中、R2は水素、捷たd適当な置換基を有し1いて
もよい低級脂肪族炭化水素基を意味する〕で示される化
合物またはその塩を、ニトロン化削と反応させることを
特徴とする一般式:%式% 〔式中、l(2はmlと同じ意味〕で示される化合物ま
たはその塩の製造法。 10)一般式: 〔式中、R1は水素、アミノ屑または保護されたアミノ
基、 R2は水素、または適当な置換基を有していてもよい低
級脂肪族炭化水素基をそれぞれ意味する〕で示される化
合物またはその塩。 11)式: ] で示される化合物またはアミノ基にお・けるその反応性
誘導体またはその塩を、式: 2 0−R2 〔l) 〔式中、R1は水素、アミノ基または保護されたアミノ
法、 li2は水素、または適当な置換法を有していてもよい
低級脂肪族炭化水素基をそれぞn意味する〕で示さする
化合物またはカルホキシ基にPけるその反応性誘導体ま
たにその塩と反応させることを特徴とする、一般式。 〔1v〕 〔式中、1(1およびkL2 nそrそれrqDと−同
じ意味〕で小される化合物またはその塩の製造法。 12、特許請求の範囲第1項記載の化合物全医薬として
許容される実質的に無毒性の担体または賦杉削と組合わ
せてなる抗菌憔組成物。
[Claims] ■ General formula: [In the formula, R1 is hydrogen, an amino group or a protected amine group, and R2 is hydrogen, or a lower amine group hydrocarbon which may have an appropriate substituent.] and pharmaceutically acceptable salts thereof. 2) The compound according to claim 1, wherein R2 is a carboxy(lower) alkyl group or a protected carboxy(lower) alkyl group. 3) Synisomer of the compound according to claim 2, wherein R1 is an amine paper and R2 is a carboxy(lower) alkyl group. 4-8-[2-(5-amino-1,2,4-) thiadiazol-3-yl)-2-(1-carboxylade-1
-Methylethoxyimino)acetamide]-2-oxoazetidine-1-sulfonic acid disodium (syn isomer). 5) (Formula 11: [1) A compound represented by the following formula or a reactive derivative thereof in an amino group or a salt thereof is expressed by the formula: [where kL+ is hydrogen, amine paper or a protected amino group, Hydrogen, or a lower aliphatic hydrocarbon group which may have an appropriate substituent, respectively] is reacted with a reactive derivative thereof or a salt thereof in the case or carboxyl group to form the compound represented by the general formula: (2) In the formula 26, R1s and R2 each have the same meanings as before] to obtain a compound or a salt thereof; (3) Formula: [1] [In the formula, the compound [I] is a protected amino acid. It means a lower aliphatic hydrocarbon group having a group of [(] [In the formula, means a lower aliphatic hydrocarbon group having a diamino group, and R1 has the same meaning as before]) or a salt thereof; [IC] [In the formula, Ito represents a lower aliphatic hydrocarbon group having a protected hydroxyl group or a compound represented by cyclo(lower falkenyl, R1 has the same meaning as above), or a salt thereof, with the formula: =N-(J For the elimination reaction of the hydroxy protecting group in the -kL% group, the formula: be〕
or obtain a compound represented by the formula (5): [In the formula, kL mo means a lower aliphatic hydrocarbon group having a protected carboxyne group, and R1 has the same meaning as before.] The compound represented by or a salt thereof is subjected to the cleavage reaction of the carboxy-protecting group at dawn, VCli, and the formula: A method for producing a compound represented by the general formula [I] or a salt thereof, which comprises adding a compound represented by the formula [I] or a salt thereof. 6) General formula: (% formula % [In the formula, % is a protected amino group or amino method, 1☆ is haloal (lower) alkyl i, lower alkoxy sulfonyl (lower) alkeni/L, scrap, lower alkanoyl A compound or its salt represented by an oxy(lower) alkyl group, hexyl method, benzhydryloxycarbonyl (lower) alkyl method, or nitrobenzyloxycarbonyl (lower farkyl method, respectively). 7) Formula ゛[V] [In the formula, ratio 8 means lower alkyl group t, -% kLa
means a broken amino group or an amino group, respectively], or a salt thereof, is produced after hydrolyzing V Kokeshi, and the formula: [In the formula, < has the same meaning as before. ] A compound or a salt thereof represented by the formula: % formula % [wherein is a haloal(lower) alkyl group, a lower alkoxycarbonyl(lower) alkenyl group, a lower alkanoyloxy(lower) argyl group, a hexyl group, a penzyl group] % Formula % [Formula A method for producing a compound represented by η or a salt thereof. 8) General formula: % Formula % [In the formula, 2 means hydrogen or a lower aliphatic hydrocarbon which may have one or more suitable substituents] or a salt thereof. 9) Formula: % Formula % [In the formula, R2 means hydrogen, a lower aliphatic hydrocarbon group which may have one or more suitable substituents] or a salt thereof is nitronized. 10) General formula: [In the formula, R1 is A compound represented by hydrogen, an amino group or a protected amino group, wherein R2 represents hydrogen or a lower aliphatic hydrocarbon group which may have an appropriate substituent, or a salt thereof. 11) A compound represented by the formula: ] or a reactive derivative thereof in an amino group, or a salt thereof, with the formula: 20-R2 [l) [wherein R1 is hydrogen, an amino group or a protected amino group] , li2 means hydrogen or a lower aliphatic hydrocarbon group which may have an appropriate substitution method] or a reactive derivative thereof or a salt thereof on a carboxy group. A general formula characterized by: [1v] [In the formula, 1 (1 and kL2 n so r it rqD - the same meaning]) A method for producing a compound or a salt thereof. 12. Compounds according to claim 1 are all pharmaceutically acceptable. An antibacterial composition comprising a substantially non-toxic carrier or cedar shavings.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63264470A (en) * 1986-12-10 1988-11-01 Eisai Co Ltd Thiadiazole derivative

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS55105689A (en) * 1978-12-29 1980-08-13 Fujisawa Pharmaceut Co Ltd Novel cephem and cepham compounds, their preparation and preventive and remedy for microbism

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