JPS58124439U - セラミツク表面加工用転写材 - Google Patents

セラミツク表面加工用転写材

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JPS58124439U
JPS58124439U JP2204182U JP2204182U JPS58124439U JP S58124439 U JPS58124439 U JP S58124439U JP 2204182 U JP2204182 U JP 2204182U JP 2204182 U JP2204182 U JP 2204182U JP S58124439 U JPS58124439 U JP S58124439U
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JP
Japan
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layer
surface processing
transfer material
ceramic surface
corrosive
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JP2204182U
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嶋本　功一朗
小川　行雄
尚男 北野
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日本写真印刷株式会社
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  • Surface Treatment Of Glass (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図及び第２図は本考案に係るセラミック表面加工用
転写材の各々実施例の部品拡大断面図を、第３図は第１
図に示す転写材を用いた転写工程の部分拡大断面図を各
々示す。 図中、１・・・・・・基体シート、２・・・・・・剥離
層、３・・・・・・腐食剤層、４・・・・・・レジスト
層、５・・・・・・接着剤層、６・・・・・・ガラス基
材、１４・・・・・・低融点無機物質層、２４・・・・
・・高融点無機物質層。 ◆−

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 １　基体シート上に必要に応じて剥離層を設け、その上
    に加熱によってガラス腐食性ガスを発生するようなガラ
    ス腐食剤と固体皮膜形成能をも？有機物質とを主成分と
    するインキ組成物を用いて腐食剤層を設け、その上に部
    分的にレジスト層を設け、更にその上に必要に応じて接
    着剤−層を設けたことを特徴とするセラミック表面加工
    用転写材。 ２　レジスト層が高融点無機物質よりなるものであるこ
    とを特徴とする実用新案登録請求の範囲゛第１項記載の
    セラミック表面加工用転写材。 ３　レジスト層が低融点無機物質層及び高融点無機物質
    層が積層されたものであることを特徴とする実用新案登
    録請求の範囲第１項記載のセラミンク表面加工用転写材
    。 ４　レジスト層がガラス腐食性ガスと化学的に結合する
    固体塩基及び／又は含窒素樹脂を主成分とするものであ
    ることを特徴とする実用新案登録請求の範囲第１項記載
    のセラミック表面加工用転写材。
JP2204182U 1982-02-17 1982-02-17 セラミツク表面加工用転写材 Granted JPS58124439U (ja)

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JP2204182U JPS58124439U (ja) 1982-02-17 1982-02-17 セラミツク表面加工用転写材

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JPS58124439U true JPS58124439U (ja) 1983-08-24
JPS6214100Y2 JPS6214100Y2 (ja) 1987-04-10

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