JPS58102389A - Storage circuit - Google Patents

Storage circuit

Info

Publication number
JPS58102389A
JPS58102389A JP56199477A JP19947781A JPS58102389A JP S58102389 A JPS58102389 A JP S58102389A JP 56199477 A JP56199477 A JP 56199477A JP 19947781 A JP19947781 A JP 19947781A JP S58102389 A JPS58102389 A JP S58102389A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
circuit
sense amplifier
voltage
bit line
field effect
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP56199477A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takeshi Takeya
武谷 健
Hirotoshi Sawada
沢田 博俊
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Telegraph and Telephone Corp
Original Assignee
Nippon Telegraph and Telephone Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Telegraph and Telephone Corp filed Critical Nippon Telegraph and Telephone Corp
Priority to JP56199477A priority Critical patent/JPS58102389A/en
Publication of JPS58102389A publication Critical patent/JPS58102389A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C7/00Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
    • G11C7/12Bit line control circuits, e.g. drivers, boosters, pull-up circuits, pull-down circuits, precharging circuits, equalising circuits, for bit lines

Abstract

PURPOSE:To reduce offset voltage distribution of a sense amplifier and to increase the density of a storage circuit, by connecting a compensating circuit to bit lines of the row circuit of a storage device, and compensating asymmetry between the sense amplifying circuit and bit lines. CONSTITUTION:In the row circuit of a memory which detects output signals from numbers of memory cells MC1-MCN through a sense amplifier SA, a correcting circuit CL1 is connected to the bit line BL1 of the row circuit to compensate asymmetry between the sense amplifier SA and bit lines BL1 and BL2. During this compensation period, information is outputted from none of memory cells and the sense amplifier SA is put in operation to store its operation result in the FF in the compensating circuit CL1, thereby detecting an output from a memory cell under control based upon the storage contents of the FF. Namely, specific charge is supplied to the input terminal of the sense samplifying circuit SA according to the storage contents. Consequently, offset voltage distribution of the sense amplifier is decreased to make a signal voltage from a memory cell lower.

Description

【発明の詳細な説明】 ル毎に情報を記憶させる高密度記憶回路に関するもので
ある。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a high-density storage circuit that stores information on a per-file basis.

従来、この種の記憶回路は第1図にその構成を示す回路
群(以後行回路と呼ぶことにする)を多数具備し、各々
の行回路に含まれるメモリセルを選択するための機構、
選択されたメモリセルのデータを外部と入力及び出力す
るための機構、及び上記行回路と上記機構を制御するだ
めの機構等を具備している。行回路は第1図に示すよう
に、N個(Nは1以上の偶数であるとする。)のメモリ
プリチャージ回路PC, 、 pc2’1センス増幅回
路SA1データ入出力回路DIO、2木のビット線BL
,。
Conventionally, this type of memory circuit has a large number of circuit groups (hereinafter referred to as row circuits) whose configuration is shown in FIG. 1, and a mechanism for selecting memory cells included in each row circuit.
It is provided with a mechanism for inputting and outputting data of a selected memory cell to and from the outside, and a mechanism for controlling the row circuit and the mechanism. As shown in Fig. 1, the row circuit consists of N memory precharge circuits PC, pc2', 1 sense amplifier circuit SA1, data input/output circuit DIO, and 2 memory precharge circuits (N is an even number of 1 or more). Bit line BL
,.

BL2、2個のダミーセル回路DC, 、 DC2よ多
構成されており、プリチャージ回路PC1、ダミーセル
回路DC1、メモリセルMC, 、 MC2,・・・、
 MCNはピット線BL1に、プリチャージ回路PC2
、ダミーセデータ出力回路DIOはピッI− i BL
2にそれぞれ接続されており、センス増幅回路SAはピ
ッ]・線BL,。
It is composed of BL2, two dummy cell circuits DC, , DC2, a precharge circuit PC1, a dummy cell circuit DC1, a memory cell MC, , MC2, . . .
MCN is connected to pit line BL1, precharge circuit PC2
, the dummy data output circuit DIO is connected to the pin I-i BL.
2, respectively, and the sense amplifier circuit SA is connected to the pins BL and BL, respectively.

BL2の両方に接続されている。メモリセルMC,。Connected to both BL2. Memory cell MC,.

MC2,・・・、MCNは第2図に示すように電界効果
トランジスタQMとコンデンサCMによって構成されて
おり、電界効果トランジスタQMのドレインはビット線
Bに接続されており、電界効果トランジスタQMのソー
スはコンデンサCMの第1の端子に接続されており、コ
ンデンサCMの第2の端子には直流電圧■DDが供給さ
れており、電界効果トランノスタQMOケ゛一トはワー
ド線に接続されている。以下、電界効果トランジスタQ
MのソースとコンデンサCMの第1の端子の接続点(節
点)をNMと呼ぶ。ダミーセルDC1* DC2は第3
図に示すように電界効果トランジスタQlot l Q
D2とコンデンサCDによって構成されており、QDl
のドレインはビット線に接続されており、電界効果トラ
ンジスタQD+のソース、電界効果トランジスタQD2
のドレイン及びコンデンサCDの第1の端子が互に接続
されておシ、電界効果トランジスタQo+のダートはダ
ミーワード線DWに接続されており、コンデンサCDの
第2の端子には直流電圧vDDが供給されており、電界
効果トランジスタQ。2のソースには直流電圧V,sが
供給されておシ、トランジスタQ。2のケゞ一トにはタ
ロツク信号φ□が供給されている。以下電界効果トラン
ジスタQD+のソース、電界効果トランジスタQD2の
ドレイン及びコンデンサCDの第1の端子の接続点をN
。と呼ぶ。センス増幅回路SAは第4図に示すように電
界効果トランジスタQs+ r Q82によ多構成され
ておシ、電界効果トランジスタQS+のドレインとQS
2のデートがビット線BL,に接続されており、電界効
果トランジスタQS2のドレインと電界効果トランジス
タQS.のケ全一トがビット線BL,2に接続されてお
シ、電界効果トランジスタQ81のソースと電界効果ト
ランジスタQS2のソースにはタロツク信号φ。が供給
されている。
MC2,..., MCN are composed of a field effect transistor QM and a capacitor CM as shown in Fig. 2, and the drain of the field effect transistor QM is connected to the bit line B, and the source of the field effect transistor QM is connected to the bit line B. is connected to the first terminal of the capacitor CM, a DC voltage DD is supplied to the second terminal of the capacitor CM, and the field effect transistor QMO case is connected to the word line. Below, field effect transistor Q
The connection point (node) between the source of M and the first terminal of the capacitor CM is called NM. Dummy cell DC1* DC2 is the third
As shown in the figure, the field effect transistor Qlot l Q
It is composed of D2 and capacitor CD, and QDl
The drain of is connected to the bit line, the source of the field effect transistor QD+, and the source of the field effect transistor QD2
The drain of the field effect transistor Qo+ and the first terminal of the capacitor CD are connected to each other, the dart of the field effect transistor Qo+ is connected to the dummy word line DW, and the second terminal of the capacitor CD is supplied with the DC voltage vDD. and a field effect transistor Q. A DC voltage V,s is supplied to the source of transistor Q2. A tarock signal φ□ is supplied to the second key. Below, the connection point of the source of the field effect transistor QD+, the drain of the field effect transistor QD2, and the first terminal of the capacitor CD is N.
. It is called. As shown in FIG. 4, the sense amplifier circuit SA is composed of a field effect transistor Qs+ r Q82, and the drain of the field effect transistor QS+ and QS
The date of field effect transistor QS.2 is connected to the bit line BL, and the drain of field effect transistor QS2 and the date of field effect transistor QS. All of them are connected to the bit line BL,2, and a tarock signal φ is applied to the source of the field effect transistor Q81 and the source of the field effect transistor QS2. is supplied.

この従来の記憶回路の動作を以下に説明するにあたって
、直流電圧vssを基準電圧とし、それに対してVDD
を高電圧であるとし、電界効果トラン(5) ノスタQM + Qol r QD2 + Qs+ +
 Q82はいずれもNチャネル形でノーマリオフ形の電
界効果トランジスタであるとする。本記憶回路において
、記憶情報は各々のメモリセルに1ビツトずつ記憶され
、該記憶情報はメモリセルの中ではNMの電圧の高低に
対応づけられている。メモリセルから記憶情報を読出す
ためには、行回路に含まれるメモリセルのうち1個を選
択し、選択されたメモリセルによってビット線に伝えら
れた信号をセンス増幅器SAで増幅して、データ入出力
回路DIOを通して記憶回路の外部に該信号を出力する
。上記、メモリセルの選択はそのメモリセルに接続され
ているワード線を高電位にすることによって行なわれ、
選択されるメモリセルがビット線sr,,vc接Hさレ
テいる場合はダミーセル回路DC2が選択され(ダミー
セルの選択はそのダミーセルに接続されているダミーワ
ード線を高電位にすることによって行なわれる。)、選
択されるメモリセルがビット線BL2に接続されている
場合はダミーセル回路DC1が選択される。以下の説明
において、ピッI・線(6) BL、の寄生容量の値をCB1とし、ビット線BL2の
寄生容量の値をCB2とし、コンデシ′すCMの容量の
値をCCMとし、コンデンサCDの容量の値をCCOと
する。
In explaining the operation of this conventional memory circuit below, the DC voltage vss is used as a reference voltage, and VDD
Assuming that is a high voltage, the field effect transformer (5) Nosta QM + Qol r QD2 + Qs+ +
It is assumed that Q82 is an N-channel type normally-off type field effect transistor. In this memory circuit, one bit of memory information is stored in each memory cell, and the memory information is associated with the level of the voltage of NM in the memory cell. In order to read stored information from a memory cell, one of the memory cells included in the row circuit is selected, the signal transmitted to the bit line by the selected memory cell is amplified by the sense amplifier SA, and the data is read out. The signal is output to the outside of the storage circuit through the input/output circuit DIO. As mentioned above, selection of a memory cell is performed by setting the word line connected to that memory cell to a high potential,
When the selected memory cell is connected to the bit lines SR, VC, the dummy cell circuit DC2 is selected (selection of the dummy cell is performed by setting the dummy word line connected to the dummy cell to a high potential). ), if the selected memory cell is connected to the bit line BL2, the dummy cell circuit DC1 is selected. In the following explanation, the value of the parasitic capacitance of the bit line (6) BL is designated as CB1, the value of the parasitic capacitance of the bit line BL2 is designated as CB2, the value of the capacitance of the condenser CM is designated as CCM, and the value of the parasitic capacitance of the bit line BL2 is designated as CCM, and the value of the parasitic capacitance of the bit line BL2 is designated as CCM. Let the value of capacitance be CCO.

メモリセルMCNが選択される場合について以下詳しい
動作の説明を行なう。読出し動作が行なわれる前に、ノ
リテヤーノ回路PC1,PC2によってビット線BL、
、BL2は高電圧V、Dに設定され、ダミーセル回路D
C1,DC2に供給されているクロック信号φ□を一度
高電位にして再び低電位にすることによってダミーセル
回路DC,、DC2の接続点N。をVS8電圧すなわち
、基準電圧に設定する。この時、センス増幅器SAK供
給されるクロック信号φI)は高電圧に設定されており
、電界効果トランジスタqs+ I QS2は非導通状
態である。次にメモリセルMCNとダミーセル回路DC
1が選択されるとメモリセルMCNのトランジスタQM
とダミーセル回路DC,の電界効果トランジスタQ13
.がともに導通状態になる。ダミーセル回路DC,の接
続点NDは基準電圧(OV)に設定されていたので、電
界効果トランジスタQD+が導通状態と々ると、ビット
線BL、の電荷はダミーセル回路DC,のコンデンサC
9とビット線BL、の寄生容量のMCNの接続点NMが
電圧vDDであればメモリセルMCNが選択されてもビ
ット線BL2の電圧はVDDに保たれたま捷である。逆
にメモリセルMcNの接続点NMが0〔V〕であったと
すれば、メモリセルMcNが選択されメモリセルMCN
の電界効果トランジスタQMが導通状態となると、ビッ
ト線BL2の電圧はVDpからへ7旨−−”onに変化
する。通常、ピッ   。
A detailed explanation of the operation when memory cell MCN is selected will be given below. Before a read operation is performed, the bit lines BL,
, BL2 are set to high voltages V and D, and dummy cell circuit D
The connection point N of the dummy cell circuits DC, DC2 is set by setting the clock signal φ□ supplied to C1 and DC2 to a high potential and then to a low potential again. is set to the VS8 voltage, that is, the reference voltage. At this time, the clock signal φI) supplied to the sense amplifier SAK is set to a high voltage, and the field effect transistor qs+IQS2 is in a non-conducting state. Next, memory cell MCN and dummy cell circuit DC
When 1 is selected, the transistor QM of the memory cell MCN
and the field effect transistor Q13 of the dummy cell circuit DC.
.. Both become conductive. Since the connection point ND of the dummy cell circuit DC was set to the reference voltage (OV), when the field effect transistor QD+ becomes conductive, the charge on the bit line BL is transferred to the capacitor C of the dummy cell circuit DC.
If the connection point NM of the parasitic capacitance MCN between the bit line BL and the bit line BL is at the voltage vDD, the voltage of the bit line BL2 remains at VDD even if the memory cell MCN is selected. Conversely, if the connection point NM of memory cell McN is 0 [V], memory cell McN is selected and memory cell MCN
When the field effect transistor QM becomes conductive, the voltage on the bit line BL2 changes from VDp to "on".

ト線の寄生容量CB、とCB2は等しくなるように設B
2 計され、vDDと。B2+63M−vDoの中間の電位
が高密度な記憶回路を実現するためには、コンデンサC
Mの容量値C6Mを大きくすることができず、容量値C
6MIC0Dは寄生容量c811 CB2に比較して非
常に小さいので、耳7冷=・VDD * 4層+1・v
DDil−j:vDDに非常に近い電圧であり、その電
圧差は通常数百mv以下である。この微少なビット線B
L1゜BT、2の電位差を増幅するのがセンス増幅器S
Aである。
The parasitic capacitances CB and CB2 of the power lines are set so that they are equal to each other.
2. Measured and vDD. In order to realize a high-density storage circuit with a potential intermediate between B2+63M-vDo, capacitor C
It is not possible to increase the capacitance value C6M of M, and the capacitance value C
6MIC0D is very small compared to the parasitic capacitance c811 CB2, so ear 7 cooling = VDD * 4th layer + 1 V
DDil-j: A voltage very close to vDD, and the voltage difference therebetween is usually several hundred millivolts or less. This minute bit line B
The sense amplifier S amplifies the potential difference between L1°BT and 2.
It is A.

上記のように、ビット線BL、 、 BL2にメモリセ
ルとダミーセルにより微少電位差が与えられ後、φ0は
低電位に設定され、ビット線BL、とBL2のうちその
電圧がより低い方の電圧がますます低電圧になるように
電界効果トランジスタQ81又はQS2の一方を通して
電荷が放電され、ビット線BL、  。
As mentioned above, after a slight potential difference is applied to the bit lines BL, BL2 by the memory cell and the dummy cell, φ0 is set to a low potential, and the voltage of the bit line BL, BL2, which has a lower voltage, is applied. The charge is discharged through one of the field effect transistors Q81 or QS2 to lower the voltage on the bit line BL,.

BL2の微少電位差は拡大し、大振幅信号となる。The minute potential difference of BL2 expands and becomes a large amplitude signal.

メモリセルMCNが選択され、メモリセルMCNの接続
点NMが高電圧を記憶していた場合、ピット線設定され
るのでセンス増幅器SAによってビット線BL1は0[
V、]K設定され、ビット線BL2はVDDノままに保
たれる。メモリセルMCNが選択され、メモリセルMC
Nの接続点NMが低電圧を記憶していた(9) に保たれ、ビット線BL2はO〔■〕に設定される。
When the memory cell MCN is selected and the connection point NM of the memory cell MCN stores a high voltage, the bit line BL1 is set to 0[ by the sense amplifier SA because the pit line is set.
V, ]K is set, and the bit line BL2 is kept at VDD. Memory cell MCN is selected and memory cell MC
The connection point NM of N is kept at (9) where a low voltage was stored, and the bit line BL2 is set to O [■].

このようにして、選択されたメモリセルの内容がピット
線上に大振幅の信号として取り出され、データ入出力回
路DIOを通して出力される。
In this way, the contents of the selected memory cell are taken out as a large amplitude signal on the pit line and output through the data input/output circuit DIO.

上記説明のように、メモリセルからビット線に伝えられ
た微少信号をセンス増幅器SAで増幅して大振幅信号に
するわけであるが、センス増幅器SAを構成する電界効
果トランジスタQ811 QS2の閾値電圧が同一で、
電界効果トランジスタQ51+Qs2の利得定数が同一
で、ビット線BL、 、 BL2の寄生容量CB1.C
B2が同一であれば、原理的にはどんな小さな信号でも
正しく増幅される。しかし、通常上記の回路定数を全く
同一にすることは困難であり、いくらかの不一致がある
。しだがって、ビット線に伝える微少信号はある一定限
度の振幅が必要であり、そのためには、CcMをある限
度以上の大きさにする必要があり、これがこの種の記憶
回路の高密度化を制限している犬き々要因となっている
O t1八八 本発明は上記従来の記憶回路の欠点を除去するため、セ
ンス増幅回路及びビット線の非対称性の補正を行なう機
構を付加したものであり、以下実施例について詳細に説
明する。
As explained above, the small signal transmitted from the memory cell to the bit line is amplified by the sense amplifier SA into a large amplitude signal, but the threshold voltage of the field effect transistors Q811 and QS2 that constitute the sense amplifier SA is same,
The gain constants of field effect transistors Q51+Qs2 are the same, and the parasitic capacitances CB1 . C
If B2 is the same, in principle, no matter how small the signal is, it will be correctly amplified. However, it is usually difficult to make the above circuit constants exactly the same, and there are some discrepancies. Therefore, the small signal transmitted to the bit line must have an amplitude within a certain limit, and for this purpose, the CcM must be larger than a certain limit, and this is the reason why this type of memory circuit has a high density. In order to eliminate the drawbacks of the conventional memory circuit described above, the present invention adds a sense amplifier circuit and a mechanism for correcting bit line asymmetry. Embodiments will be described in detail below.

本発明の第1の実施例の記憶回路の行回路は、第5図に
示すように、第1図に示しだ従来の記憶回路のビット線
BL、に補正回路CL1を接続して構成されており、該
補正回路CL、は電界効果トランジスタQcl + Q
c2 + Qc3 r Qc4+ Qcs l Qc6
、コンデンサC4、抵抗R,,R2より構成されており
、電界効果トランノスタQ。5のドレインとQ。4のド
レインがビット線孔、に接続されており、電界効果トラ
ンノスタQ。3のソースとQ。2のドレインがrLに接
続されており、電界効果トランジスタQ。2のソースと
Q。1のドイレンがコンデンサC1の第1の端子ど接続
されており、電界効果トランジスタQC1のソースには
直流電圧VSSが供給されており、電界効果トランノス
タQC4のソースとQ。2のケ゛〜1− トQ。5のド
レインとQ。60ケ5−1−は抵抗R4の第1の端子に
接続されており、電界効果トランゾス(11) りQc6のドレインとQC5のダートは抵抗R2の第、
■の端子に接続されておシ、電界効果トランジスタQc
sとQC6のソースには直流電圧VSsが、抵抗R1と
R2とコンデンサC1の第2の端子には直流電圧VDD
がそれぞれ供給されており、電界効果トランジスタQC
3のケ゛−1・にはり0ツク信号φ1が、電界効果トラ
ンジスタQ。1のケ゛−トにはクロック信号φ□が、電
界効果トランノスタQ。40ケゞ−1・にはクロック信
号φ。がそれぞれ供給される構成となっている。以後、
電界効果トランジスタQ。1のドレインと電界効果トラ
ンジスタQ。2のソースの接続点をN。1、電界効果ト
ランゾスタQ。4のソースと電界効果トランジスタQc
5のドレインの接続点をNC2と呼ぶことにする。
As shown in FIG. 5, the row circuit of the memory circuit according to the first embodiment of the present invention is constructed by connecting a correction circuit CL1 to the bit line BL of the conventional memory circuit shown in FIG. The correction circuit CL is a field effect transistor Qcl + Q
c2 + Qc3 r Qc4+ Qcs l Qc6
, a capacitor C4, and resistors R, , R2, and is a field effect trannostar Q. 5 drain and Q. The drain of 4 is connected to the bit line hole, and the field effect transistor Q is connected to the bit line hole. 3 sauce and Q. The drain of field effect transistor Q is connected to rL. 2 sauce and Q. The drain of No. 1 is connected to the first terminal of the capacitor C1, the source of the field effect transistor QC1 is supplied with a DC voltage VSS, and the source of the field effect transistor QC4 is connected to the first terminal of the capacitor C1. 2-1-Kate Q. 5 drain and Q. 60 pieces 5-1- are connected to the first terminal of resistor R4, and the drain of field effect transistor (11) and the drain of QC5 are connected to the first terminal of resistor R2.
The field effect transistor Qc is connected to the terminal of
DC voltage VSs is applied to the sources of s and QC6, and DC voltage VDD is applied to the resistors R1 and R2 and the second terminal of capacitor C1.
are supplied respectively, and the field effect transistor QC
In the case of 3, the zero check signal φ1 is applied to the field effect transistor Q. The clock signal φ□ is applied to the cell No. 1, and the field effect transistor Q is connected to the clock signal φ□. Clock signal φ is applied to 40K-1. The configuration is such that each of these is supplied. From then on,
Field effect transistor Q. 1 drain and field effect transistor Q. The connection point of source 2 is N. 1. Field effect transistor Q. 4 source and field effect transistor Qc
The connection point of the drain of No. 5 will be called NC2.

以下の説明において、上記従来の記憶回路の動作説明と
同様、直流電圧V8Sは基準電圧であり、0〔■〕であ
るとし、それに対して直流電圧VD1.を高電圧である
とし、電界効果]・ランノスタは特に記述しない限り、
Nチャネル形でノーマリオフ形であるとする。本実施例
の記憶回路には電源投入(12) 直後、全てのセンス増幅回路の補正を行なうだめの補正
期間が設けられている。上記補11期間における本実施
例の動作は次のように行なわれる。
In the following explanation, as in the explanation of the operation of the conventional memory circuit described above, it is assumed that the DC voltage V8S is a reference voltage and is 0 [■], whereas the DC voltage VD1. is a high voltage, and electric field effect]・Lannostar is a high voltage unless otherwise stated.
Assume that it is an N-channel type and a normally-off type. Immediately after the power is turned on (12), the memory circuit of this embodiment is provided with a correction period during which all sense amplifier circuits are corrected. The operation of this embodiment during the supplementary 11th period is performed as follows.

まず、ゾリチャーノ回路pc、 、 pc2によりビッ
ト線BI−111’3L2を直流電圧V。Dに設定し、
クロ。
First, the bit line BI-111'3L2 is set to a DC voltage V by Zoriciano circuits pc, pc2. Set to D,
Black.

り信号φ1.を高電圧から低電圧に設定してセンス増幅
器SAを動作させる。センス増幅器SAの電界効果トラ
ンジスタQs+とQS2又はビット線寄生容計CB1と
CB2の間にくい違いがあればそのくい違いに応じてビ
ット線のうちの一方だけが高電圧になる。上記センス増
幅器SA動作の後、クロックφ。
signal φ1. is set from a high voltage to a low voltage to operate the sense amplifier SA. If there is a slight difference between the field effect transistors Qs+ and QS2 of the sense amplifier SA or between the bit line parasitic capacitors CB1 and CB2, only one of the bit lines will be at a high voltage depending on the difference. After the sense amplifier SA operates, the clock φ.

を低電圧から高電圧に変化させてビット線BL1の電圧
を抵抗R,,R2、電界効果トランジスタQ。5゜QC
6で形成されたフリツプフロツプFF’に入力し、記憶
させる。このように、補正期間において、センス増幅器
SA及びビット線の非対称性に関する情報を補正回路C
L1のなかのフリラフ0フロ、 f FFに記憶させる
。もし、該非対称性がビット線BL。
The voltage of the bit line BL1 is changed from a low voltage to a high voltage by resistors R, R2 and field effect transistor Q. 5゜QC
The signal is input to the flip-flop FF' formed by 6 and stored. In this manner, during the correction period, information regarding the asymmetry of the sense amplifier SA and the bit line is transmitted to the correction circuit C.
Freelough 0flow in L1, f Store in FF. If the asymmetry is the bit line BL.

を高電圧にする傾向を有している場合は補正回路CL、
の接続点N。2は高電位に設定され、それ以外(13) の場合は補正回路CL1の接続点NC2は低電位に設定
される。
If there is a tendency to make the voltage high, the correction circuit CL,
connection point N. 2 is set to a high potential, and in other cases (13), the connection point NC2 of the correction circuit CL1 is set to a low potential.

次に、本実施例の読出し動作を説明する。読出し動作に
先立って、ピット線旧□とBL2が直流電圧vnoに設
定され、補正回路CL1の接続点N。、とダミーセルの
接続点NDはタロツク信号φ1、が一度高電位になり次
に低電位にもどることにより、0〔v〕に設定される。
Next, the read operation of this embodiment will be explained. Prior to the read operation, the pit lines old □ and BL2 are set to DC voltage vno, and the connection point N of the correction circuit CL1. , and the dummy cell are set to 0 [V] by the tarock signal φ1 once becoming a high potential and then returning to a low potential.

次に選択されたメモリセルのワード線Wが高電圧にされ
、該メモリセルが接続されていないビット線に接続され
たダミーセルのダミーワード線が高電圧にされ、ビット
線孔、とBL2の間には読出そうとしている記憶情報に
応じた微少電位差が与えられる。この後に、補正回路C
L1に供給されているクロック信号φ1が高電圧とされ
る。もし、接続点N。2が低電圧であれば、りD7り信
号φ、が高電圧になってもビット線BL、の電圧には変
化をもたらさない。しかし、接続点N。2が高電圧であ
れば、タロツク信号φ1が高電圧になった時、ビット線
BL、と接続点N。1の間に電流経路が形成されるので
、ビット線BL、の電荷はコンデ(14) ンザC1との間に再分配され、ピッ計線BL、■電圧を
下げる。この再分配によって引き下げられるビット線B
L、の電圧をvlとする。電圧v1はコンデンサC1の
容量値によって設定できる酸である、クロ7り信号φ、
が高電圧にされた後、クロ、り信号φゎが低電圧になっ
てセンス増幅器SAが動作を開始する。
Next, the word line W of the selected memory cell is set to a high voltage, and the dummy word line of the dummy cell connected to the bit line to which the memory cell is not connected is set to a high voltage, and between the bit line hole and BL2. A minute potential difference is applied to the storage information corresponding to the stored information to be read. After this, the correction circuit C
Clock signal φ1 supplied to L1 is set to a high voltage. If connection point N. If the voltage on the bit line BL is low, even if the signal φ becomes high, the voltage on the bit line BL will not change. However, connection point N. 2 is a high voltage, when the tarock signal φ1 becomes a high voltage, the bit line BL and the connection point N are connected. Since a current path is formed between the bit line BL and the capacitor C1, the charge on the bit line BL is redistributed between the bit line BL and the capacitor C1, lowering the voltage of the bit line BL. Bit line B pulled down by this redistribution
Let the voltage of L be vl. The voltage v1 is a voltage signal φ, which can be set by the capacitance value of the capacitor C1.
After the signal φ becomes a high voltage, the black signal φ becomes a low voltage and the sense amplifier SA starts operating.

電界効果トランジスタQ81とQ8□又はビット線BL
、とBL2の特性の不一致かあると、ビット線BL、と
BL2に同一電圧を与えてセンス増幅器SAを動作させ
るとビット線BL、又はBL2の一方だけが放電される
ので、ピット線線BL1とBL2が同様に放電させるだ
めには、ビット線BL、とBL2に初期電圧差を力える
必要がある。ビット線BL1をBL2よりV。だけ高電
位にしだ時、上記のビット線BL。
Field effect transistors Q81 and Q8□ or bit line BL
, and BL2, if the same voltage is applied to the bit lines BL and BL2 to operate the sense amplifier SA, only one of the bit lines BL or BL2 will be discharged. In order for BL2 to discharge in the same way, it is necessary to apply an initial voltage difference to the bit lines BL and BL2. V from bit line BL1 to BL2. When the potential is set to high, the above bit line BL.

とBL2に同様の放電が起こるとすると、Voがいわゆ
るこのセンス増幅回路のオフセット電圧である。
Assuming that a similar discharge occurs in and BL2, Vo is the so-called offset voltage of this sense amplifier circuit.

(Voが負の値の時はBL2がBLlよりIVo+だけ
高電位の時上記状態になることを表わしている。)オフ
セット電圧V。は電界効果トラン)スタQS1゜QS2
、ビット線BL、 、 BL2のパラメータに依存し、
製造時の偶然性によって変動する量であり、その変動幅
をΔとする。本発明の第一の実施例において、電圧V。
(When Vo is a negative value, it means that the above state occurs when BL2 has a higher potential than BLl by IVo+.) Offset voltage V. are field effect transistors QS1゜QS2
, depends on the parameters of bit lines BL, , BL2,
It is an amount that fluctuates due to chance during manufacturing, and its fluctuation range is set as Δ. In a first embodiment of the invention, the voltage V.

の中心値が一百になるようにビット線寄生容量CB、と
CB2又は電界効果トランジスタQSIとQS2の利得
定数を設定しておく。したがって電圧■。は−−Δから
丁までの間に確率的に分布する。補正期間において、セ
ンス増幅器SAはビット線BL、とBL2が等電圧の初
期条件のもとて動作をするから、もし、電圧■。が−丁
Δから0までの間であれば、ビット線BL、が高電圧の
ままで、ビ、1・線孔2が放電され、接続点N。2には
高電圧が記憶され、もし、電圧■。がOから丁までの間
であればビット線BL1は低電圧に放電され、接続点N
C2には低電圧が記憶される。読出し動作時に、もし接
続点N。2に高電圧が記憶されていれば、センス増幅器
SAの動作の前にビ、7ト線BL1の電圧はり、だけ下
けられる。v1=丁ニなるようにコンデンサC1の容量
値を設計しておけば、センス増幅器SAの電圧■。が−
τΔからOまでの間にある時常にビット線BL、の信号
電圧が1だけ引き下げられ、電圧V。が丁だけ高くなっ
たのと同等の効果をもだらし、続接点N。2に高電圧が
記憶されている場合の実効的々オフセット電圧(補正回
路CL、によるビット線BL、電圧の引き下げ効果まで
含めて考えたオフセット電圧)vooはm−からytで
分布する。接続点N。2に低電圧が記憶されている場合
のを合せたオフセット電圧V。8もm−からτまで分布
する。このように、本実施例によれば製造時の各種回路
・やラメータのばらつきに起因するセンス増幅回路のオ
フセット電圧の分布を丁に減らすととができ、これによ
り、メモリセルからビット線に取り出さねばならない信
号電圧をより低くでき、メモリセルの面積を小さくする
ことができ、記憶回路を高密度化できる。
The gain constants of the bit line parasitic capacitances CB and CB2 or the field effect transistors QSI and QS2 are set so that the center value of is 100. Therefore the voltage ■. is probabilistically distributed between −−Δ and d. During the correction period, the sense amplifier SA operates under the initial condition that the bit lines BL and BL2 are at equal voltages. If is between -DΔ and 0, bit line BL remains at high voltage, bit line BL1 and line hole 2 are discharged, and the connection point N. 2 stores the high voltage, and if the voltage ■. is between O and D, the bit line BL1 is discharged to a low voltage and the connection point N
A low voltage is stored in C2. During a read operation, if connection point N. If a high voltage is stored on line BL1, the voltage on line BL1 is lowered by BL1 before the sense amplifier SA operates. If the capacitance value of capacitor C1 is designed so that v1 = 1, the voltage of sense amplifier SA will be ■. Ga-
Whenever it is between τΔ and O, the signal voltage of the bit line BL is lowered by 1, and the voltage V. The effect is the same as if the height was increased by 1, and the connection point N was sloppy. When a high voltage is stored in 2, the effective offset voltage (offset voltage considering the effect of lowering the voltage on the bit line BL by the correction circuit CL) voo is distributed from m- to yt. Connection point N. Offset voltage V when 2 and low voltage are stored. 8 is also distributed from m- to τ. In this way, according to this embodiment, the distribution of the offset voltage of the sense amplifier circuit caused by variations in various circuits and parameters during manufacturing can be significantly reduced. The required signal voltage can be lowered, the area of the memory cell can be reduced, and the density of the memory circuit can be increased.

本発明の第2の実施例の行回路の構成は第6図に示すよ
うに第1の実施例の行回路に第2の補正回路cr、2を
付加して構成されている。補正回路CL2の構成は電界
効果トランジスタQ。3のドレイ(17) ンとQ。4のドレインがビット線BL2に接続されてい
る以外は全く補正回路CL1と同じである。本実施例に
おいては、センス増幅器SAのオフセット電、 Δ 圧V。の中心値か−πになるようにビット線容量等が設
定されている。したがって、オフセット電圧2 voは一一ΔからτΔまでの間に確率的に分布する。
As shown in FIG. 6, the configuration of the row circuit of the second embodiment of the present invention is constructed by adding a second correction circuit cr,2 to the row circuit of the first embodiment. The correction circuit CL2 is composed of a field effect transistor Q. 3 Dray (17) N and Q. The correction circuit CL1 is completely the same as the correction circuit CL1 except that the drain of the correction circuit CL1 is connected to the bit line BL2. In this embodiment, the offset voltage of the sense amplifier SA, Δ voltage, is V. Bit line capacitance etc. are set so that the center value of is -π. Therefore, the offset voltage 2 vo is stochastically distributed between 11Δ and τΔ.

補正期間の動作は次のように行なわれる。第1の実施例
の場合と同様、まず、ビット線BL1とBL2を電圧V
DDに設定し、クロック信号φ。を低電圧にしてセンス
増幅器SAを動作させる。もし、第フセット電圧V。が
−丁ΔとOの間であれば、ビット線BL、が高電圧に設
定され、ビットaBI、2が低電圧に設定される。オフ
セット電圧V。が0からにΔの間であれば、ビット線B
L1が低電圧に設定され、ビット線BL2が高電圧に設
定される。上記センス増幅器SAの動作後、補正回路C
L、に供給されているタロツク信号φ。を高電圧にして
、補正回路CL、内の7リツプフロツフ0に上記センス
増幅器SA動作結果を記憶させる。第1の実施例におい
てΔ は補正回路CL、のC4の容量値はυ、−丁になるよう
/IG+) に設定されていだが、第2の実施例においてはCL、の
C7の容量値はυ、−昔Δになるように設定されている
。上記補正回路CL、への記憶データの書込みの後、再
び、ビット線BL、とBL2を高電圧VDDに設定し、
クロック信号φ□を一時的に高電圧にして低電圧にもど
すことにより補正回路CL、の接続点Nc1を0〔V〕
に設定する。次に、補正回路CL、のりC2り信号φ1
を高電圧に設定する。オフセット電圧V。が−lΔから
Oの間であれば、接続点Nc2には高電圧が記憶されて
いるのでBLlの電圧はvDD−vlすなわちVDD−
τΔに設定される。
The operation during the correction period is performed as follows. As in the case of the first embodiment, first, bit lines BL1 and BL2 are connected to voltage V
DD and clock signal φ. is set to a low voltage to operate the sense amplifier SA. If the first offset voltage V. If is between −DΔ and O, bit line BL, is set to a high voltage and bit aBI,2 is set to a low voltage. Offset voltage V. is between 0 and Δ, bit line B
L1 is set to a low voltage and bit line BL2 is set to a high voltage. After the sense amplifier SA operates, the correction circuit C
Tarock signal φ is supplied to L. is set to a high voltage, and the result of the operation of the sense amplifier SA is stored in the seventh lip-flop 0 in the correction circuit CL. In the first embodiment, Δ is set so that the capacitance value of C4 of the correction circuit CL is υ, - /IG+), but in the second embodiment, the capacitance value of C7 of CL is υ , − was previously set to be Δ. After writing the stored data to the correction circuit CL, set the bit lines BL and BL2 to the high voltage VDD again,
By temporarily raising the clock signal φ□ to a high voltage and returning it to a low voltage, the connection point Nc1 of the correction circuit CL is set to 0 [V].
Set to . Next, the correction circuit CL, the glue C2 signal φ1
set to high voltage. Offset voltage V. is between -lΔ and O, a high voltage is stored in the connection point Nc2, so the voltage of BLl is vDD-vl, that is, VDD-
is set to τΔ.

オフセット電圧V。がOからτΔの間であれば、補正回
路CL、の接続点N。2には低電圧が記憶されているの
でビット線BL、の電圧はVDDのままで変化しない。
Offset voltage V. is between O and τΔ, the connection point N of the correction circuit CL. Since a low voltage is stored in bit line BL, the voltage of bit line BL remains at VDD and does not change.

次に、クロック信号φ。を低電圧にしてセンス増幅器S
Aを動作させる。オフセット電圧■。がOとτΔの間で
あれば、ビット線BL、が低電圧に設定され、BL2が
高電圧に設定される。オフセ・ソト電圧■が一一Δと一
τΔの間であれば、ビット線BL1の5 電圧は補正回路CL、によって一丁Δだけ引き下げられ
るだけであるのでビット線BL1が高電圧に設定され、
BL2が低電圧に設定される。オフセット電圧■。が−
孟ΔとOの間であれば、ビット線BL。
Next, the clock signal φ. to a low voltage and the sense amplifier S
Operate A. Offset voltage■. is between O and τΔ, bit line BL is set to a low voltage and BL2 is set to a high voltage. If the offset voltage ■ is between 11Δ and 1τΔ, the voltage on the bit line BL1 is only lowered by 1Δ by the correction circuit CL, so the bit line BL1 is set to a high voltage.
BL2 is set to a low voltage. Offset voltage■. Ga-
If it is between Δ and O, the bit line BL.

の電圧が補正回路CL1によって−Δだけ引き下げられ
ているのでビット線BL、が低電圧に設定され、BL2
が高電圧に設定される。このセンス増幅器SAの動作結
果は、補正回路CL2のタロツク信号φ。を高電圧にす
ることによって補正回路CL2ノナかの抵抗R4,R2
、電界効果トランジスタQC5・QC6で構成されるフ
リツプフロツプに記憶される。
Since the voltage of bit line BL is lowered by -Δ by correction circuit CL1, bit line BL is set to a low voltage, and BL2
is set to high voltage. The operation result of this sense amplifier SA is the tally clock signal φ of the correction circuit CL2. By raising the voltage to a high voltage, the resistors R4 and R2 of the correction circuit CL2 are
, are stored in a flip-flop composed of field effect transistors QC5 and QC6.

以後、読出し動作の時に、補正回路CL1. CL2両
者のφ、を高電圧にするよう一制御する。補正回路CL
2の接続点N。2が高電圧で、りaツク信号φ1が高電
圧の時に、引き下げられる電圧をv2とすると、第2の
実施例においてはτ2=τになるように、補正回路CL
2のコンデンサC1が設定されている。
Thereafter, during the read operation, the correction circuit CL1. Control is performed to make φ of both CL2 high voltages. Correction circuit CL
2 connection point N. 2 is a high voltage, and when the reverse signal φ1 is a high voltage, the voltage to be lowered is v2. In the second embodiment, the correction circuit CL is adjusted so that τ2=τ.
2 capacitor C1 is set.

オフセット電圧V。が−止Δと一旦Δの間であれば、5 上記の補正期間における動作によシ、補正回路CL1の
接続点N。2には高電圧が記憶され、補正回路CL2の
接続点NC2には低電圧が記憶されるので、下げられ、
実効)的なオフセット電圧■。8は一丁と0の間に設定
される。オフセット電圧V。が−丁Δと0の間であれば
、上記の補正期間における動作によシ、補正回路CL、
とCL2の接続点NC2にともに高電圧が記憶されるの
で、読出し動作の時にはけm−と−の間に設定される。
Offset voltage V. If it is once between -stop Δ and Δ, then 5. Due to the operation in the above correction period, the connection point N of the correction circuit CL1. 2 stores a high voltage, and the connection point NC2 of the correction circuit CL2 stores a low voltage, so it is lowered.
Effective) offset voltage ■. 8 is set between 1cho and 0. Offset voltage V. If is between −DΔ and 0, the correction circuit CL,
Since a high voltage is stored at the connection point NC2 between CL2 and CL2, the voltage is set between m- and - during a read operation.

−電圧V。がOとτΔ5 の間であれば、上記の補正期間における動作によシ、補
正回路CL、の接続点NC2には低電圧が記憶され、補
正回路CL2の接続点N。2には高電圧が記憶されるの
で、読出し動作の時にはビット線BL2vo8は−にと
Kの間に設定される。このように、読出し動作に先立っ
て補正回路CL1とCL2の接続点N。1を0〔v〕に
設定した後、メモリセル選択後、補正回路CL、とCL
2のクロック信号φ1を高電圧にすることにより、補正
期間に記憶しておいだセン(21) ス増幅器SAのオフセット電圧の情報にもとづいてビッ
ト線BL1. BL2の電圧を補正することができ、実
効的なオフセット電圧が−■から百までの間に分布する
ようにすることができる。この分布の幅は、従来の記憶
回路のτであシ、メモリセルからビット線に取り出さね
ばならない信号電圧を低くでき、記憶回路の高密度化が
できる。
- Voltage V. If is between O and τΔ5, a low voltage is stored at the connection point NC2 of the correction circuit CL due to the operation during the correction period described above, and the connection point N of the correction circuit CL2 is stored. Since a high voltage is stored in bit line BL2vo8, bit line BL2vo8 is set between - and K during a read operation. In this way, prior to the read operation, the connection point N between the correction circuits CL1 and CL2. After setting 1 to 0 [v] and selecting the memory cell, the correction circuits CL and CL
By setting the clock signal φ1 of bit line BL1.2 to a high voltage, the bit line BL1. The voltage of BL2 can be corrected so that the effective offset voltage is distributed between -■ and 100. The width of this distribution is different from τ in the conventional memory circuit, and the signal voltage that must be taken out from the memory cell to the bit line can be lowered, making it possible to increase the density of the memory circuit.

第1の実施例においては補正回路を1個、第2の実施例
においては補正回路を2個設けたが、3個以上の補正回
路を設ければさらに実効的なオフセット電圧の分布の幅
を狭くすることができる。
In the first embodiment, one correction circuit was provided, and in the second embodiment, two correction circuits were provided, but if three or more correction circuits are provided, the width of the effective offset voltage distribution can be further increased. It can be made narrower.

第2の実施例において、補正期間内の第1回目のセンス
増幅器SAの動作時には、補正回路CL、トCL2に供
給されるクロック信号φ1を低電圧に制御し、第2回目
のセンス増幅器SAの動作時には、補正回路CL、に供
給されるクロック信号φ1を高電圧に、補正回路CL2
に供給されるクロ、り信号φ。
In the second embodiment, during the first operation of the sense amplifier SA within the correction period, the clock signal φ1 supplied to the correction circuits CL and CL2 is controlled to a low voltage, and the second sense amplifier SA operates. During operation, the clock signal φ1 supplied to the correction circuit CL is set to a high voltage, and the correction circuit CL2 is set to a high voltage.
The black signal φ supplied to the

を低電圧にそれぞれ制御する必要があった。しかし、補
正期間に先だって、補正回路CL、とCL2・のフリッ
プフロップの記憶内容を接婢点Nc2が低電(22) 圧になるように設定する機構を付加すれば、センス増幅
器SAの動作に先だってかならずクロック信号φ1を高
電圧にするように制御するだけでよくなる0 上記、第1、第2の実施例において、読出し動作時、メ
モリセルとダミーセルが選択されてから、補正回路CL
、とCL2のクロック信号φ1が高電圧にされ、補正操
作がされるとしたが、補正回路CL1とCL2のクロッ
ク信号φ、を高電圧にするのはビット線がプリチャージ
回路pc4. pc2で電圧V。Dに設定されてからセ
ンス増幅器SAが動作されるまでの間ならいつでも良く
、メモリセルとダミーセルの選択との間の順序は不同で
ある。
It was necessary to control each to a low voltage. However, if a mechanism is added to set the memory contents of the flip-flops of the correction circuits CL and CL2 so that the cross point Nc2 is at a low voltage (22) prior to the correction period, the operation of the sense amplifier SA can be changed. In the first and second embodiments described above, in the read operation, after the memory cell and dummy cell are selected, the correction circuit CL
, and the clock signal φ1 of CL2 is set to a high voltage to perform a correction operation, but the bit line is connected to the precharge circuit pc4 . Voltage V at pc2. It may be selected at any time after the setting is set to D and until the sense amplifier SA is operated, and the order of selection of memory cells and dummy cells is not the same.

上記、第1及び第2の実施例において、補正期間におい
て得られたセンス増幅回路のオフセット電圧に関する情
報を記憶するだめに、抵抗負荷をもつフリツプフロツプ
を用いた。しかし、これは本発明の必須条件ではなく、
要は上記オフセット電圧に関する情報を記憶する手段を
有すればよく、例えば第5図の補正回路CL、の抵抗J
 +R2をPチャネル形電界効果トランジスタでおきか
え、抵抗R1とおきかえられたトランジスタのケゞ−ト
をQ。5のケ゛−トヘ接続し、抵抗R2とおきかえられ
たトランジスタのダートをQ。6のダートへ接続して構
成されたいわゆる相補形フリツプフロツプを使用しても
よい。まだ、第5図の補正回路CL、の抵抗R1,R2
、電界効果トランジスタQC5+ Q(26を取シのぞ
き、接続点NC2と直流電圧源との間にコンデンサを接
続した構成とし、上記オフセット電圧に関する情報を記
憶する手段として、コンデンサを使用する構成でもよい
。この場合、該情報はコンデンサの電荷の漏洩によって
失なわれる前に再修復する必要があり、該情報の書込み
をするだめの補正期間を電源投入直後だけでなく定期的
に設ける必要がある。
In the first and second embodiments described above, a flip-flop with a resistive load is used to store information regarding the offset voltage of the sense amplifier circuit obtained during the correction period. However, this is not an essential condition of the present invention;
In short, it is sufficient to have a means for storing information regarding the offset voltage, for example, the resistor J of the correction circuit CL shown in FIG.
+R2 is replaced with a P-channel field effect transistor, and the gate of the transistor replaced with resistor R1 is Q. The dart of the transistor connected to the gate of No. 5 and replaced with the resistor R2 is Q. A so-called complementary flip-flop configured in connection to the 6 darts may also be used. The resistors R1 and R2 of the correction circuit CL in FIG.
, except for the field effect transistor QC5+Q (26), a capacitor may be connected between the connection point NC2 and the DC voltage source, and the capacitor may be used as a means for storing information regarding the offset voltage. In this case, it is necessary to restore the information before it is lost due to leakage of the charge in the capacitor, and it is necessary to provide a correction period for writing the information not only immediately after power is turned on but also periodically.

上記実施例においては、センス増幅回路のオフセット電
圧に関する情報を補正回路に書き込むために、電界効果
トランジスタQ。4を使用していた。
In the embodiment described above, the field effect transistor Q is used to write information regarding the offset voltage of the sense amplifier circuit to the correction circuit. I was using 4.

しかし、第7図に示す・例のように、電界効果トランジ
スタQ。17を第5図の補正回路CL1に付加して構成
し、そのトランジスタQ。17のドレインをビット# 
BL2に接続し、そのトランジスタQ。17のソースを
電界効果トランジスタQ。6のドレインに接続し、電界
効果トランジスタQ。11のダートにクロック信号φ。
However, as in the example shown in FIG. 17 is added to the correction circuit CL1 of FIG. 5, and its transistor Q is constructed. Drain of 17 bit #
Connect to BL2 and its transistor Q. The source of 17 is a field effect transistor Q. 6 and connected to the drain of field effect transistor Q. Clock signal φ is applied to 11 darts.

を供給するようにしてもよい。may also be supplied.

(25) 上記実施例は、補正回路内にあるコンデンサc1とビッ
ト線との間の電荷再分配によってビット線電圧を引き下
げることにより、センス増幅回路のオフセット電圧の補
正を行なう構成である。しかし、センス増幅回路のオフ
セット電圧はビット線の寄生容量によっても変化するこ
とが知られており、一方のビット線の寄生容量を増やす
ことは、該ビット線の初期電圧を増加させるのと同等の
効果をもたらす。この原理を応用してセンス増幅回路の
オフセット電圧の補正を行なうようにしたのが、以下に
述べる本発明の第3の実施例である。
(25) The above embodiment has a configuration in which the offset voltage of the sense amplifier circuit is corrected by lowering the bit line voltage through charge redistribution between the capacitor c1 in the correction circuit and the bit line. However, it is known that the offset voltage of the sense amplifier circuit also changes depending on the parasitic capacitance of the bit line, and increasing the parasitic capacitance of one bit line is equivalent to increasing the initial voltage of that bit line. bring about an effect. A third embodiment of the present invention described below applies this principle to correct the offset voltage of the sense amplifier circuit.

本発明の第3の実施例の行回路は、第8図に示すように
、第5図の第1の実施例のCLlを他の補正回路CL1
におきかえて構成されており、補正回路CL1はNチャ
ネル形のノーマリオフ形電界効果トランジスタQ。8 
r Qc9 + Qc12 r Qc15 ”チャネル
形ツノーマリオフ形電界効果トランジスタQ。7゜qc
lo ’ QCll及びコンデンサc2によって構成さ
れており、電界効果トランジスタQ。7のソースヒQC
8のソースがビット線BL、に接続され、電界効果ト(
26) ランノスタQ。7のドレイ/とコンデンサC2の第1の
端子が接続され、Qo70ケ゛−) 、 Qo8のドレ
イン。
As shown in FIG. 8, the row circuit of the third embodiment of the present invention replaces CL1 of the first embodiment of FIG. 5 with another correction circuit CL1.
The correction circuit CL1 is an N-channel normally-off field effect transistor Q. 8
r Qc9 + Qc12 r Qc15 "Channel type normally-off field effect transistor Q.7゜qc
lo' QCll and a capacitor c2, which is a field effect transistor Q. 7 source high QC
The source of 8 is connected to the bit line BL, and the field effect (
26) Lannostar Q. The drain of Qo7 is connected to the first terminal of capacitor C2, and the drain of Qo8 is connected to the drain of Qo70.

QcHのソースlQc+2のドレイン+Qc、0のケ8
−トIQc13のケゝ−トが互に接続され、0゜11の
ケ゛−ト。
Source of QcH IQc+2 Drain+Qc, 0 Ke8
- The gates of the gate IQc13 are connected to each other, and the gates are at 0°11.

QC12のケ+ l・+ Qc+oのソースIQl13
のドレイン。
QC12 ke + l・+ Qc + o source IQl13
drain.

Qo9のドレインが互に接続され、QC9のソースがピ
ッ) @ BL2に接続され、コンデンサC2の第2の
端子、Qol、のドレインsQc+oのドレインには直
流電圧V。Dが供給され、Q(HI3のソースとQC1
5のソースには直流電圧VSSが供給され、QC8のケ
゛−1・とQ。9のケ゛−トにはクロック信号φ。が供
給される構成となっている。電界効果トランジスタQc
7のケゝ−トが接続されている節点をNC3と呼ぶこと
にする。本発明の第3の実施例においては、電源投入直
後では電界効果トランジスタQ。TO’ QC+1゜Q
C12+ QC[で構成されるフリップフロソゾは節点
N。5が高電圧に設定されるように、上記トランジスタ
Q。jo l Qcl、+ Qcl2 、QclSの利
得定数が設定されている。第1の実施例の場合と同様、
電源投入直後、補正期間が設けられる。補正期間に(2
7) おいては、まずビット線BL1. BL2の電圧をプリ
チャーノ回路PC1,PC2によって電圧vDDに設定
し、センス増幅器SAを動作させる。センス増幅器SA
の動作により、ビットp BLl、 BL2のどちらか
一方がセンス増幅器SAのオフセット電圧に従って低電
圧に設定される。センス増幅器SAの動作終了稜、クロ
ック信号φ。を低電圧から高電圧に設定し、補正回路C
I、’、内のフリップフロ、プをビット糾BL1. B
L2の電圧に従って設定し、再びクロック信号φ。を低
電圧にもどして補正期間が終了する。以後、読出し動作
の時には、もし、節点NC5が高電圧であれば、電界効
果トランジスタQC7は常に非導通であるから、センス
増幅器SAのオフセット電圧は補正されず、逆に節点N
C3が低電圧であれば、電界効果トランジスタQ。7は
常に導通であるから、センス増幅器SAのオフセット電
圧は負の方向に補正される。センス増幅器SAはそのオ
フセット電、圧の分布の中心が、第1の実施例の場合と
は逆に、正の値になるように設計されており、節点N。
The drains of Qo9 are connected to each other, the sources of QC9 are connected to BL2, and the drain of the second terminal of capacitor C2, Qol, sQc+o has a DC voltage V. D is supplied, Q (source of HI3 and QC1
DC voltage VSS is supplied to the source of QC8 and QC8. A clock signal φ is applied to the 9th cell. The configuration is such that it is supplied with Field effect transistor Qc
The node to which the 7th gate is connected will be called NC3. In the third embodiment of the present invention, the field effect transistor Q is activated immediately after power is turned on. TO' QC+1゜Q
The flip flop consisting of C12+ QC[ is node N. 5 is set to a high voltage. Gain constants of jo l Qcl, +Qcl2, and QclS are set. As in the case of the first embodiment,
Immediately after the power is turned on, a correction period is provided. During the correction period (2
7) First, bit line BL1. The voltage of BL2 is set to the voltage vDD by the puliciano circuits PC1 and PC2, and the sense amplifier SA is operated. sense amplifier SA
, one of the bits pBL1, BL2 is set to a low voltage according to the offset voltage of the sense amplifier SA. End of operation of sense amplifier SA, clock signal φ. is set from low voltage to high voltage, and correction circuit C
The flip-flop in BL1. B
Set according to the voltage of L2 and clock signal φ again. is returned to a low voltage and the correction period ends. Thereafter, during the read operation, if node NC5 is at a high voltage, field effect transistor QC7 is always non-conducting, so the offset voltage of sense amplifier SA is not corrected, and conversely, node N
If C3 is a low voltage, field effect transistor Q. 7 is always conductive, the offset voltage of the sense amplifier SA is corrected in the negative direction. The sense amplifier SA is designed so that the center of its offset voltage and voltage distribution is a positive value, contrary to the case of the first embodiment, and the center of the distribution of the offset voltage and voltage is located at the node N.

3が低電圧の時に、実効的(28) にオフセット電圧を下げるよう補正される。この第3の
実施例の場合も、センス増幅器SAの実効的なオフセラ
)!圧の分布をτを・τ減らすことができる。第8図の
ような補正回路CI、′を複数個使用することによって
、さらにオフセット電、圧の分布を少なくすることが可
能である。また、本実施例において、フリップフロップ
への情報入力はビット線BL1.BL2の両方からとし
だが、第1の実施例のように片方からでもよい。
3 is a low voltage, it is corrected to effectively (28) lower the offset voltage. In the case of this third embodiment as well, the effective offset of the sense amplifier SA)! The pressure distribution can be reduced by τ. By using a plurality of correction circuits CI,' as shown in FIG. 8, it is possible to further reduce the distribution of offset voltage and voltage. Further, in this embodiment, information input to the flip-flop is performed on bit lines BL1. Although it is possible to start from both sides of BL2, it is also possible to start from one side as in the first embodiment.

第3の実施例において、ビット線に補正用の容量を与え
るだめに、電界効果トランジスタQ。7とコンデンサC
2を用いた。しかし、電界効果トランジスタQC7とコ
ンデンサC2のかわりに第9図にその断面構造を示すス
イッチトキャ・ぐシタを用いてもよい。第9図のスイッ
チトキャ・PシタはN形半導体基板の表面に作られたP
形半導体領域D、この領域りに隣接してN形半導体基板
表面に設けられた薄い絶縁膜E、その薄い絶縁膜Eの上
に設けられた金属電極Gによって構成されており、領域
りはビット線BL1に、金属電極Gは節点N。3にそ(
29) れぞれ接続されている。このスイッチ!・キャパシタは
いわゆるMO8構造をしており、節点Nc5の電圧が低
電圧の時は金属電極Gのすぐ下の半導体基板の表面に反
転領域が形成され、該反転領域はP形半導体領域りと電
、気的に接続されるので、P形半導体領域りと全尿電極
Gの間の容量及び領域りと半導体基板の間の容量が増え
る。従って、第3の実施例の電界効果トランジスタQ。
In a third embodiment, a field effect transistor Q is used to provide correction capacitance to the bit line. 7 and capacitor C
2 was used. However, a switched capacitor whose cross-sectional structure is shown in FIG. 9 may be used instead of the field effect transistor QC7 and the capacitor C2. The switched capacitor/P capacitor in Figure 9 is a P capacitor made on the surface of an N-type semiconductor substrate.
It consists of a shaped semiconductor region D, a thin insulating film E provided on the surface of the N-type semiconductor substrate adjacent to this region, and a metal electrode G provided on the thin insulating film E. The metal electrode G is at a node N on the line BL1. 3 Niso(
29) Both are connected. This switch! - The capacitor has a so-called MO8 structure, and when the voltage at the node Nc5 is low, an inversion region is formed on the surface of the semiconductor substrate immediately below the metal electrode G, and the inversion region is connected to the P-type semiconductor region. Since they are electrically connected, the capacitance between the P-type semiconductor region and the whole urine electrode G and the capacitance between the region and the semiconductor substrate increase. Therefore, the field effect transistor Q of the third embodiment.

7とコンデンサC2の役目をこのスイッチトキャパシタ
ハ果ス。
This switched capacitor plays the role of 7 and capacitor C2.

第10図に本発明の第4の実施例の行回路の構成を示す
。第4の実施例の行回路は、第3の実施例の行回路にN
チャネル形電界効果トランノスタQC+4 ’ QC1
51Pチャネル形電界効果トランソスタQ。16.コン
デンサC5を付加して構成されており、電界効果トラン
ジスタQ。7のソースとビット線8510間に電界効果
トランジスタQ。14が挿入され、そのケ゛−トにはク
ロック信号φ2が供給され、電界効果トランジスタQ。
FIG. 10 shows the configuration of a row circuit according to a fourth embodiment of the present invention. The row circuit of the fourth embodiment is different from the row circuit of the third embodiment.
Channel type field effect trannostar QC+4' QC1
51P channel field effect transformer Q. 16. It is constructed by adding a capacitor C5, and a field effect transistor Q. A field effect transistor Q between the source of 7 and the bit line 8510. 14 is inserted, and the clock signal φ2 is supplied to its gate, and a field effect transistor Q is inserted.

15のソースとビット線BL2が接続され、そのトラン
ジスタQ。15のケ+−1・にクロック信号φ2が供給
され、電界効果トランジスタ(30) Qc16のソースとQ。15のドレインが接続され、Q
C+6のケゝ−1・がQc+oのソースに接続され、Q
C16のドレインとコンデンサC3の第1の端子が接続
され、そのコンデンサC5の第2の端子には直流電圧V
D+3が供給される構成となっている。本実施例では、
センス増幅器SAのオフセラ(・電圧の分布の中心がO
になるように設言1されており、上記他の実施例と同様
、電源投入直後に補正期間が設けられ、補正期間におい
てはまずピッl−紳BL、 、 BL2が等電圧(VI
N) )に設定され、次にセンス増幅器SAが動作させ
られる。この間、クロック信号φ2は低電圧に設定され
、コンデンサC2及びC3は、ソリツブフロップの状態
にかかわらずビ、1・線から切り離された状態に々って
いる。次にクロ、り信号φ。を高雷1圧にして、センス
増幅器8Aのオフセット電圧の正、負に応じて、フリ、
70フロツノを設定する。通常の読出し動作時には、ク
ロック信号φ2は常に高雷、圧とされ、ビット線BL、
又はBL2のどちらかにコンデンサC2又はC3かとち
らかがかならず電気的に接続される。センス増幅器5A
(31) 、  Δ    Δ のオフセット電圧か一丁から7までΔの幅で分布してい
るとすると、コンデンサC2及びC3の容量Δ 値をオフセット電圧を実効的に1だけ動かす量に設定し
ておくことにより、補正後のオフセラ(・電圧の分布の
幅を瓦にすることができる。
The source of transistor Q is connected to the bit line BL2. Clock signal φ2 is supplied to Q15, and the source of field effect transistor (30) Qc16 and Q. 15 drains are connected and Q
Case-1 of C+6 is connected to the source of Qc+o, and Q
The drain of C16 is connected to the first terminal of capacitor C3, and the second terminal of capacitor C5 receives DC voltage V.
The configuration is such that D+3 is supplied. In this example,
Off cell of sense amplifier SA (center of voltage distribution is O
As with the other embodiments mentioned above, a correction period is provided immediately after the power is turned on, and during the correction period, the pins BL, , BL2 are at equal voltage (VI
N)) and then the sense amplifier SA is activated. During this time, clock signal φ2 is set to a low voltage, and capacitors C2 and C3 remain disconnected from the B and 1 lines regardless of the state of the solid flop. Next, the black and red signals φ. is set to 1 voltage, and depending on the positive or negative offset voltage of the sense amplifier 8A, the free,
Set 70 Frotsuno. During a normal read operation, the clock signal φ2 is always at high voltage, and the bit line BL,
Alternatively, either capacitor C2 or C3 is always electrically connected to either BL2. sense amplifier 5A
(31) If the offset voltage Δ Δ is distributed in a width of Δ from 1 to 7, set the capacitance Δ value of capacitors C2 and C3 to the amount that effectively moves the offset voltage by 1. By doing this, the width of the offset voltage distribution after correction can be made uniform.

第4の実施例に示した補正回路CI、〃と同様の構成の
補正回路を複数個使い、補正のだめの情報が内部のフリ
ップ70ツノに既に入力されている補正回路に供給され
るクロック信号φ2を高電圧として、該補正回路のコン
デンサC又はC,ラビット線に接続し、他の補正回路に
入力する補正情報を得るだめのセンス増幅器SA動作を
行なうように構成してもよい。このように構成すること
によりオフセット電圧の分布の幅を土よりもさらに小さ
くできる。
A clock signal φ2 is supplied to the correction circuit in which a plurality of correction circuits having the same configuration as the correction circuit CI shown in the fourth embodiment is used, and the information to be corrected has already been input to the internal flip 70 horn. It may be configured such that a high voltage is connected to the capacitor C or C of the correction circuit and the rabbit line, and a sense amplifier SA operation for obtaining correction information to be input to other correction circuits is performed. With this configuration, the width of the offset voltage distribution can be made even smaller than that of soil.

センス増幅回路のオフセット電圧の補正のだめに、補正
データに応じてダミーセル回路のCDに並列に他のコン
デンサを付加するようにし7てもよい。
In order to correct the offset voltage of the sense amplifier circuit, another capacitor may be added in parallel to CD of the dummy cell circuit according to the correction data.

本発明は1トラノノスタ形メモリセルを用いた(32) 記憶回路だけでなく、他のメモリセル形式を用いた記憶
回路にも適用できる。
The present invention is applicable not only to (32) memory circuits using 1-tranonost type memory cells, but also to memory circuits using other memory cell formats.

」−記実施例においては、補正回路の記憶機構では電源
切断時にその記憶情報が失なわれてしまう構成であるが
、プログラマブルROMを利用すれば、製造直後に補正
を行なうだけでも良くなる。
In the embodiment described above, the storage mechanism of the correction circuit is configured such that the stored information is lost when the power is turned off, but if a programmable ROM is used, it is sufficient to perform correction immediately after manufacture.

上記において、1つの行回路についての動作を説明した
が、1つの配憶回路は複数の行回路を含んでいる場合が
多く、該複数の行回路は同時に動作させることができる
Although the operation of one row circuit has been described above, one storage circuit often includes a plurality of row circuits, and the plurality of row circuits can be operated simultaneously.

以上説明したように、本発明によればセンス増幅回路の
オフセ、1・電圧の分布の幅を実効的に小さくすること
ができ、メモリセルからビット線に出力する信号電圧を
小さくすることができ、メモリセルの小形化ができる。
As explained above, according to the present invention, the width of the offset voltage distribution of the sense amplifier circuit can be effectively reduced, and the signal voltage output from the memory cell to the bit line can be reduced. , memory cells can be made smaller.

このだめ、本発明によれば、記憶回路の高密度化ができ
る。
However, according to the present invention, it is possible to increase the density of the memory circuit.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は従来の記憶回路の行回路の構成図、第2図はメ
モリセルの回路図、第3図はダミーセル回路の回路図、
第4図はセンス増幅回路の回路図、(33) 第5図は本発明の第1の実施例の行回路の構成図、第6
図は本発明の第2の実施例の行回路の構成図、第7図ば
本発明の1実施例の行回路の構成図、第8図は本発明の
第3の実施例の行回路の横1jν1図、第9図は本発明
の第3の実施例においてC2とQ。7と置きかえること
のできるスイッチトキヤ・Pツタの断面図、第10図は
本発明の第4の実施例の行回路の構成図である。 MC,、MC2,・ + MCN + Mcq+4. 
、、、 、 MCN、メ2 モリセル、DC,、DC2・ダミーセル回路、SA・セ
ンス増幅回路’、  PC,、pc2  ・ブリチャー
ノ回路、Dro  データ入出力回路、BL、 、 B
L2  ビ、1・紳、φ。、φ0.φ。、φ1.φ2 
・クロック信号、QM +QD1・CD2・QSl・Q
S2・QC+・QC2・QC3・QC4・QC5・QC
6’ QC+7・Qc8’ QC9+ QC+21 Q
C13’ QC’14”C10・Nチャネル形電界効果
トランジスタ、QC7’QC101QC11’ QC1
6””チャネル形電界効果トランノスタ、R1,R2・
・・抵抗、CLl、 CL2. CL/l、 CLI’
、・補正回(34) 路、D・・・P形半導体領域、G・・・金属電極、FF
・・・フリップ・フロップ、E・絶縁膜。 特許出願人  日本電信電話公社 1、(35)
FIG. 1 is a configuration diagram of a row circuit of a conventional memory circuit, FIG. 2 is a circuit diagram of a memory cell, and FIG. 3 is a circuit diagram of a dummy cell circuit.
FIG. 4 is a circuit diagram of the sense amplifier circuit, (33) FIG. 5 is a configuration diagram of the row circuit of the first embodiment of the present invention, and FIG.
7 is a block diagram of a row circuit according to a second embodiment of the present invention, FIG. 7 is a block diagram of a row circuit according to an embodiment of the present invention, and FIG. 8 is a block diagram of a row circuit according to a third embodiment of the present invention. Horizontal 1jν1 and FIG. 9 show C2 and Q in the third embodiment of the present invention. FIG. 10 is a sectional view of a switched carrier/P vine that can be replaced with 7, and is a configuration diagram of a row circuit according to a fourth embodiment of the present invention. MC,, MC2, · + MCN + Mcq+4.
,,, , MCN, memory cell, DC,, DC2/dummy cell circuit, SA/sense amplifier circuit', PC,, pc2/Briciano circuit, Dro data input/output circuit, BL, , B
L2 Bi, 1・Gen, φ. , φ0. φ. , φ1. φ2
・Clock signal, QM +QD1・CD2・QSl・Q
S2・QC+・QC2・QC3・QC4・QC5・QC
6'QC+7・Qc8' QC9+ QC+21 Q
C13'QC'14"C10 N-channel field effect transistor, QC7'QC101QC11' QC1
6”” channel type field effect trannostar, R1, R2・
...Resistance, CLl, CL2. CL/l, CLI'
,・Correction circuit (34) path, D...P type semiconductor region, G...metal electrode, FF
...Flip-flop, E-insulating film. Patent applicant: Nippon Telegraph and Telephone Public Corporation 1, (35)

Claims (1)

【特許請求の範囲】 (リ 外部から入力される情報を記憶するための多数の
メモリセルと、メモリセルから出力される電気信号を検
出するためのセンス増幅回路を刹する記憶回路において
、 補正期間に前記メモリセルから電気信号を出力せずに前
記センス増幅回路を動作させ、その動作の結果を記憶す
る記憶手段と、 前記メモリセルから出力される電気信号の検出を前記記
憶手段(【記憶された情報によシ制御する制御手段と、 を有する補正回路を設けたことを特徴とする記憶回路。 (2)前記制御手段が、前記記憶手段に記憶された情報
に基いてセンス増幅回路の入力端子にコンデンサを電気
的に接続するのを制御するよう構成されたことを特徴と
する特許請求の範囲第(υ項記(1) 載の記憶回路。                  
 −(3)前記制御手段が、前記記憶手段に記憶された
情報に基いてセンス増幅回路の入力端子に一定電荷を供
給するのを制御するよう構成されたことを特徴とする特
許請求の範囲第(1)項記載の記憶回路。 (4)外部から入力される情報を記憶するための多数の
メモリセルと、メモリセルから出力される電気信号を検
出するだめのセンス増幅回路を有する記憶回路において
、 補正期間に前記メモリセルから電気信号を出力せずに前
記センス増幅回路を動作させ、その動作の結果を記憶す
る記憶手段と、前記メモリセルから出力される電気信号
の検出を前記記憶手段に記憶された情報により制御する
制御手段とを有する補正回路を各々のセンス増幅回路に
ついて複数個設け、 補正期間における前記複数の補正回路の記憶手段への記
憶は、順次的に他の記憶手段に記憶された情報によシ制
御しながらセンス増幅回路を動作させて行なうことを特
徴とする記憶回路。
[Scope of Claims] (Li) In a storage circuit that includes a large number of memory cells for storing information input from the outside and a sense amplifier circuit for detecting electrical signals output from the memory cells, the correction period storage means for operating the sense amplifier circuit without outputting an electrical signal from the memory cell and storing the result of the operation; and storage means for detecting the electrical signal output from the memory cell. A storage circuit characterized in that the control means performs control according to the information stored in the storage means, and a correction circuit having the following: (2) The control means controls the input of the sense amplifier circuit based on the information stored in the storage means. The memory circuit according to claim 1, characterized in that it is configured to control electrical connection of a capacitor to a terminal.
(3) The control means is configured to control the supply of a constant charge to the input terminal of the sense amplifier circuit based on the information stored in the storage means. The memory circuit described in (1). (4) In a memory circuit having a large number of memory cells for storing information inputted from the outside and a sense amplifier circuit for detecting electrical signals outputted from the memory cells, electricity from the memory cells during the correction period is Storage means for operating the sense amplifier circuit without outputting a signal and storing the result of the operation; and control means for controlling detection of the electrical signal output from the memory cell using information stored in the storage means. A plurality of correction circuits having a plurality of correction circuits are provided for each sense amplifier circuit, and the storage of the plurality of correction circuits in the storage means during the correction period is sequentially controlled by information stored in other storage means. A memory circuit characterized by operating a sense amplifier circuit.
JP56199477A 1981-12-12 1981-12-12 Storage circuit Pending JPS58102389A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP56199477A JPS58102389A (en) 1981-12-12 1981-12-12 Storage circuit

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP56199477A JPS58102389A (en) 1981-12-12 1981-12-12 Storage circuit

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS58102389A true JPS58102389A (en) 1983-06-17

Family

ID=16408447

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP56199477A Pending JPS58102389A (en) 1981-12-12 1981-12-12 Storage circuit

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS58102389A (en)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0189908A2 (en) * 1985-01-30 1986-08-06 Nec Corporation Dynamic memory with improved arrangement for precharging bit lines
EP0366332A2 (en) * 1988-10-25 1990-05-02 Texas Instruments Incorporated Digital memory system
WO2022198856A1 (en) * 2021-03-24 2022-09-29 长鑫存储技术有限公司 Sense amplifier, memory and control method
US11823763B2 (en) 2021-03-24 2023-11-21 Changxin Memory Technologies, Inc. Sense amplifier, memory and control method
US11894101B2 (en) 2021-03-24 2024-02-06 Changxin Memory Technologies, Inc. Sense amplifier, memory and control method

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5658192A (en) * 1979-10-13 1981-05-21 Toshiba Corp Semiconductor memory device

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5658192A (en) * 1979-10-13 1981-05-21 Toshiba Corp Semiconductor memory device

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0189908A2 (en) * 1985-01-30 1986-08-06 Nec Corporation Dynamic memory with improved arrangement for precharging bit lines
EP0366332A2 (en) * 1988-10-25 1990-05-02 Texas Instruments Incorporated Digital memory system
WO2022198856A1 (en) * 2021-03-24 2022-09-29 长鑫存储技术有限公司 Sense amplifier, memory and control method
US11823763B2 (en) 2021-03-24 2023-11-21 Changxin Memory Technologies, Inc. Sense amplifier, memory and control method
US11894101B2 (en) 2021-03-24 2024-02-06 Changxin Memory Technologies, Inc. Sense amplifier, memory and control method

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4122546A (en) MOS Semiconductor storage module
CA2266062C (en) Dynamic content addressable memory cell
US7088607B2 (en) Static memory cell and SRAM device
US5515321A (en) Data reading method in semiconductor storage device capable of storing three- or multi-valued data in one memory cell
US7158431B2 (en) Single transistor sensing and double transistor sensing for flash memory
JP4909619B2 (en) Semiconductor memory device
JP2006521645A (en) Sensitivity amplifier system and memory element addressable on a matrix provided with the same
US6594187B2 (en) Semiconductor memory
EP0233453A1 (en) Associative memory cells
KR100275642B1 (en) Semiconductor memory device having memory cells for stably storing pieces of multiple-valued data without decrease of operation margin
KR100305418B1 (en) Dynamic Semiconductor Memory Device with Threshold Compensation
US7466595B2 (en) Low-voltage reading device in particular for MRAM memory
JPS58102389A (en) Storage circuit
KR960002816B1 (en) Semiconductor memory cell
US5995403A (en) DRAM having memory cells each using one transfer gate and one capacitor to store plural bit data
US7417910B2 (en) Low voltage semiconductor memory device
US6906957B2 (en) Sensing circuitry for reading and verifying the contents of electrically programmable and erasable non-volatile memory cells, useful in low supply-voltage technologies
US10217502B2 (en) Non-volatile semiconductor storage device
GB2213009A (en) Memories with variable impedance bitline loads
US7573768B2 (en) Low voltage semiconductor memory device
JPH09320280A (en) Semiconductor memory device
EP0239913B2 (en) Semiconductor memory circuit
US6097650A (en) Circuit apparatus for evaluating the data content of memory cells
US6865102B1 (en) Static semiconductor storage device
JPS58130486A (en) Storing circuit