JPS578521U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS578521U JPS578521U JP8287880U JP8287880U JPS578521U JP S578521 U JPS578521 U JP S578521U JP 8287880 U JP8287880 U JP 8287880U JP 8287880 U JP8287880 U JP 8287880U JP S578521 U JPS578521 U JP S578521U
- Authority
- JP
- Japan
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- Granted
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- Measuring Volume Flow (AREA)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8287880U JPS6130174Y2 (ko) | 1980-06-16 | 1980-06-16 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8287880U JPS6130174Y2 (ko) | 1980-06-16 | 1980-06-16 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS578521U true JPS578521U (ko) | 1982-01-16 |
| JPS6130174Y2 JPS6130174Y2 (ko) | 1986-09-04 |
Family
ID=29445216
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8287880U Expired JPS6130174Y2 (ko) | 1980-06-16 | 1980-06-16 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6130174Y2 (ko) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20210024982A (ko) | 2019-08-26 | 2021-03-08 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 레지스트 재료 및 패턴 형성 방법 |
| KR20240037167A (ko) | 2022-09-14 | 2024-03-21 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 금속 함유막 형성용 화합물, 금속 함유막 형성용 조성물, 패턴 형성 방법, 및 반도체 포토레지스트 재료 |
| KR20240099052A (ko) | 2022-12-21 | 2024-06-28 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 금속 함유막 형성용 중합체, 금속 함유막 형성용 조성물 및 패턴 형성 방법 |
| KR20240110503A (ko) | 2023-01-06 | 2024-07-15 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 금속 함유막 형성용 화합물, 금속 함유막 형성용 조성물 및 패턴 형성 방법 |
| KR20240127289A (ko) | 2023-02-15 | 2024-08-22 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 금속 함유막 형성용 화합물, 금속 함유막 형성용 조성물, 패턴 형성 방법 |
| KR20240138476A (ko) | 2023-03-10 | 2024-09-20 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 밀착막 형성 재료, 패턴 형성 방법 및 밀착막의 형성 방법 |
-
1980
- 1980-06-16 JP JP8287880U patent/JPS6130174Y2/ja not_active Expired
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20210024982A (ko) | 2019-08-26 | 2021-03-08 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 레지스트 재료 및 패턴 형성 방법 |
| KR20240037167A (ko) | 2022-09-14 | 2024-03-21 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 금속 함유막 형성용 화합물, 금속 함유막 형성용 조성물, 패턴 형성 방법, 및 반도체 포토레지스트 재료 |
| KR20240099052A (ko) | 2022-12-21 | 2024-06-28 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 금속 함유막 형성용 중합체, 금속 함유막 형성용 조성물 및 패턴 형성 방법 |
| KR20240110503A (ko) | 2023-01-06 | 2024-07-15 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 금속 함유막 형성용 화합물, 금속 함유막 형성용 조성물 및 패턴 형성 방법 |
| KR20240127289A (ko) | 2023-02-15 | 2024-08-22 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 금속 함유막 형성용 화합물, 금속 함유막 형성용 조성물, 패턴 형성 방법 |
| KR20240138476A (ko) | 2023-03-10 | 2024-09-20 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 밀착막 형성 재료, 패턴 형성 방법 및 밀착막의 형성 방법 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6130174Y2 (ko) | 1986-09-04 |