JPS506362B1 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS506362B1 JPS506362B1 JP6209570A JP6209570A JPS506362B1 JP S506362 B1 JPS506362 B1 JP S506362B1 JP 6209570 A JP6209570 A JP 6209570A JP 6209570 A JP6209570 A JP 6209570A JP S506362 B1 JPS506362 B1 JP S506362B1
- Authority
- JP
- Japan
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6209570A JPS506362B1 (ja) | 1970-07-17 | 1970-07-17 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6209570A JPS506362B1 (ja) | 1970-07-17 | 1970-07-17 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS506362B1 true JPS506362B1 (ja) | 1975-03-13 |
Family
ID=13190137
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6209570A Pending JPS506362B1 (ja) | 1970-07-17 | 1970-07-17 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS506362B1 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010502419A (ja) * | 2006-09-04 | 2010-01-28 | アイティーダブリュ シュールファス エ フィニッション | スプレーガンヘッド、二重霧化 |
JP2012119696A (ja) * | 2011-12-27 | 2012-06-21 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置、基板処理方法、基板処理プログラム、及び基板処理プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 |
JP2015103647A (ja) * | 2013-11-25 | 2015-06-04 | 株式会社荏原製作所 | 基板洗浄装置および基板処理装置 |
US10090189B2 (en) | 2013-11-19 | 2018-10-02 | Ebara Corporation | Substrate cleaning apparatus comprising a second jet nozzle surrounding a first jet nozzle |
-
1970
- 1970-07-17 JP JP6209570A patent/JPS506362B1/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010502419A (ja) * | 2006-09-04 | 2010-01-28 | アイティーダブリュ シュールファス エ フィニッション | スプレーガンヘッド、二重霧化 |
JP2012119696A (ja) * | 2011-12-27 | 2012-06-21 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置、基板処理方法、基板処理プログラム、及び基板処理プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 |
US10090189B2 (en) | 2013-11-19 | 2018-10-02 | Ebara Corporation | Substrate cleaning apparatus comprising a second jet nozzle surrounding a first jet nozzle |
JP2015103647A (ja) * | 2013-11-25 | 2015-06-04 | 株式会社荏原製作所 | 基板洗浄装置および基板処理装置 |