JPS4979457A - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS4979457A JPS4979457A JP12131772A JP12131772A JPS4979457A JP S4979457 A JPS4979457 A JP S4979457A JP 12131772 A JP12131772 A JP 12131772A JP 12131772 A JP12131772 A JP 12131772A JP S4979457 A JPS4979457 A JP S4979457A
- Authority
- JP
- Japan
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Welding Or Cutting Using Electron Beams (AREA)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12131772A JPS4979457A (ro) | 1972-12-04 | 1972-12-04 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12131772A JPS4979457A (ro) | 1972-12-04 | 1972-12-04 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS4979457A true JPS4979457A (ro) | 1974-07-31 |
Family
ID=14808239
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12131772A Pending JPS4979457A (ro) | 1972-12-04 | 1972-12-04 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS4979457A (ro) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63246817A (ja) * | 1987-04-02 | 1988-10-13 | Tokyo Electron Ltd | イオン注入方法 |
| JP2013502077A (ja) * | 2009-08-11 | 2013-01-17 | ヴァリアン セミコンダクター イクイップメント アソシエイツ インコーポレイテッド | 高速−低速走査を用いるマスクイオン注入 |
| JP2013508953A (ja) * | 2009-10-19 | 2013-03-07 | ヴァリアン セミコンダクター イクイップメント アソシエイツ インコーポレイテッド | パターン注入用段階的マスキング |
| JP2013511823A (ja) * | 2009-11-17 | 2013-04-04 | ヴァリアン セミコンダクター イクイップメント アソシエイツ インコーポレイテッド | ワークピースの注入処理を制御可能に実行する装置および方法 |
-
1972
- 1972-12-04 JP JP12131772A patent/JPS4979457A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63246817A (ja) * | 1987-04-02 | 1988-10-13 | Tokyo Electron Ltd | イオン注入方法 |
| JP2013502077A (ja) * | 2009-08-11 | 2013-01-17 | ヴァリアン セミコンダクター イクイップメント アソシエイツ インコーポレイテッド | 高速−低速走査を用いるマスクイオン注入 |
| JP2013508953A (ja) * | 2009-10-19 | 2013-03-07 | ヴァリアン セミコンダクター イクイップメント アソシエイツ インコーポレイテッド | パターン注入用段階的マスキング |
| JP2013511823A (ja) * | 2009-11-17 | 2013-04-04 | ヴァリアン セミコンダクター イクイップメント アソシエイツ インコーポレイテッド | ワークピースの注入処理を制御可能に実行する装置および方法 |