JPH1196535A - Magnetic recording medium and its production - Google Patents

Magnetic recording medium and its production

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JPH1196535A
JPH1196535A JP26071597A JP26071597A JPH1196535A JP H1196535 A JPH1196535 A JP H1196535A JP 26071597 A JP26071597 A JP 26071597A JP 26071597 A JP26071597 A JP 26071597A JP H1196535 A JPH1196535 A JP H1196535A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
underlayer
laser
recording medium
layer
magnetic recording
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP26071597A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazuyoshi Matsumoto
和芳 松本
Hiroyuki Machida
裕之 町田
Hiroshi Osawa
弘 大澤
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Resonac Holdings Corp
Original Assignee
Showa Denko KK
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Publication date
Application filed by Showa Denko KK filed Critical Showa Denko KK
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Publication of JPH1196535A publication Critical patent/JPH1196535A/en
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  • Magnetic Record Carriers (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a magnetic recording medium which facilitates the control of projection height in the technique of forming projections by irradiating the ground surface metallic layer formed on a glass substrate with a laser beam, has ground surface layers of good surface characteristics without the execution of a smoothing treatment and has an excellent glide height and CSS characteristics and a process for producing the same. SOLUTION: This magnetic recording medium consists of the first ground surface layer 3 consisting of a Cr30Nb alloy, the second ground surface layer 4 consisting of an Ni33P alloy, the Cr ground surface layer 5, a magnetic layer 6 consisting of a CoCrTa alloy, a carbon protective layer 7 and a lubricant layer 8 on a glass substrate 2. The first ground surface layer 3 is harder to be processed by the laser than the second ground surface layer 4 and the projections 41 by the irradiation with the laser are formed on the second ground surface layer 4. Texture is constituted in accordance therewith.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ディスク装置
等の磁気記録媒体の製造方法に関し、さらに詳しくは磁
気ディスク(以下、HDという)と磁気ヘッドとの間の
摺動耐久性を向上させた磁気記録媒体およびその製造方
法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a magnetic recording medium such as a magnetic disk drive, and more particularly, to improving the sliding durability between a magnetic disk (hereinafter referred to as HD) and a magnetic head. The present invention relates to a magnetic recording medium and a method for manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】磁気記録の高密度化の進歩はまさに日進
月歩の勢いであり、かつて10年で10倍といわれたハ
ードディスク・ドライブ(HDD)の記録密度向上速度
が最近では10年で100倍という声も聞かれている。
HDDは俗にウィンチェスター様式と呼ばれる、HD/
磁気ヘッド間の接触摺動−ヘッド浮上−接触摺動を基本
動作とするCSS(接触起動停止)方式が主流である。
この方式はHDDの高記録密度化を一気に加速した画期
的なものではあるが、一方で深刻なトライポロジー上の
課題を持ち込む端緒にもなった。近年の記録密度の向上
は、ディスクの回転速度の増加と磁気ヘッドの浮上高さ
の提言を伴い、CSS方式における摺動耐久性/安定性
やHD表面の平滑性への要求はますます強まっている現
状である。
2. Description of the Related Art The progress of high-density magnetic recording has been steadily increasing, and the speed of improving the recording density of a hard disk drive (HDD), which was once said to be 10 times in 10 years, has recently been 100 times in 10 years. Voices have also been heard.
HDD is popularly called Winchester style.
The CSS (contact start / stop) method, which basically includes contact sliding between magnetic heads, head floating, and contact sliding, is mainly used.
Although this system is a revolutionary one that has rapidly accelerated the increase in the recording density of HDDs, it has also begun to introduce serious tribological issues. The recent increase in recording density has been accompanied by an increase in disk rotation speed and a proposal for the flying height of the magnetic head, and the demands for sliding durability / stability and smoothness of the HD surface in the CSS method are increasing. It is the present situation.

【0003】磁気ヘッド/HD間の摺動耐久性を向上さ
せる鍵は、材料強度向上と潤滑性も含めた摩擦係数低下
にあるが、HDの側でいえば、従来トップコート技術の
検討〔ダイヤモンドライクカーボン(DLC)保護膜、
各種塗布潤滑剤等〕と並んでHD表面の粗面化によって
摩擦係数を低減させる努力が払われてきた。これはテク
スチャ処理と呼ばれ、接触面積の実効的低減によって摩
擦係数を下げてCSS耐久性/安定性を高めることを目
的としたものである。粗面化は基本的にはHD表面に所
定範囲の高低差を有する凹凸を形成することである。こ
のテクスチャ処理はHD製造技術の重要な要素技術とな
っている。
The key to improving the sliding durability between the magnetic head and the HD lies in the improvement of the material strength and the reduction of the friction coefficient including the lubricating property. Like carbon (DLC) protective film,
Efforts have been made to reduce the coefficient of friction by roughening the HD surface along with various types of applied lubricants. This is called texturing, and is intended to reduce the coefficient of friction by effectively reducing the contact area to increase CSS durability / stability. Roughening is basically forming irregularities having a predetermined range of height difference on the HD surface. This texture processing is an important elemental technology of the HD manufacturing technology.

【0004】上記テクスチャ技術は、当然のことながら
基板材質と不可分の関係にあり、従来のNiP被覆Al
基板の場合には、研磨粉等を用いた機械的研磨によって
凹凸を形成する手法が主流であった。また、ガラス基板
等ではリソグラフィー、或いはそれと印刷技法を組み合
わせたエッチング技術等が提案され、一部では実用化さ
れている。
[0004] The above-mentioned texture technique is, of course, inseparable from the material of the substrate.
In the case of a substrate, a method of forming irregularities by mechanical polishing using polishing powder or the like has been mainly used. For a glass substrate or the like, lithography or an etching technique combining the lithography and the printing technique has been proposed, and some of them have been put to practical use.

【0005】テクスチャ技術全般に言えることとして、
精密な凹凸制御と並んで工程上の効率性も必要条件であ
るが、両者はしばしば拮抗する関係にあり、特に前述の
ようなHDDの高記録密度化が驚くべき速さで進行して
いる現今の状勢下では、従来技術は所定仕様を満足しき
れないだけではなく、もはや工夫や改良の蓄積ではカバ
ーし得ない様々な問題点を露呈しつつある。例えば、機
械研磨法では既に微細加工制御の限界付近にあり、凹凸
の高低のみならず、ゾーンテクスチャリング等で重要に
なるテクスチャ領域の精密制御でも根本的な困難に遭遇
している。具体的には一定の割合で発生する所定範囲外
の高低差を示す凹凸(過研磨、バリ等)の発生や、テク
スチャ境界のぼやけ等である。また、リソグラフィ的手
法は、精密制度の点では問題ないものの、工程の複雑さ
が避けられず、それが効率面でのアキレス腱になってい
る。
[0005] As can be said about texture technology in general,
Efficiency in the process is also a necessary condition along with precise unevenness control, but the two are often in opposition to each other, and in particular, as described above, the increase in the recording density of HDDs is progressing at an amazing speed. Under the circumstances, the conventional technology is not only unable to satisfy a predetermined specification, but also exposes various problems that can no longer be covered by accumulating ideas and improvements. For example, the mechanical polishing method is already near the limit of fine processing control, and fundamental difficulties are encountered not only in the level of unevenness but also in precision control of a texture area which is important in zone texturing and the like. More specifically, there are irregularities (over-polishing, burrs, etc.) that occur at a constant rate and indicate a height difference outside a predetermined range, and blurring of texture boundaries. In addition, although the lithographic method has no problem in terms of precision system, the complexity of the process is inevitable, which is the Achilles' heel in terms of efficiency.

【0006】他方、HDDの高記録容量化、高品質化は
必然的にHD製造環境の高いクリーン度達成を包含する
ものであり、各種汚染物、塵埃の高いレベルでの除去/
排除が各工程に対する至上目標となっている現状であ
る。この観点からすれば各工程が乾式であることが望ま
しく、この乾式テクスチャリングに対して大きな期待が
持たれている。
On the other hand, a higher recording capacity and a higher quality of an HDD inevitably include achieving a high degree of cleanliness in an HD manufacturing environment, and removal / removal of various contaminants and dust at a high level.
At present, elimination is the ultimate goal for each process. From this point of view, it is desirable that each step is dry, and there is great expectation for this dry texturing.

【0007】レーザ光を物質加工や測定に応用する試み
はレーザの発明当初から始まったと言えるが、昨今のレ
ーザ光源の発達/開発は基本特性やハンドリング性の目
覚ましい向上をもたらし、高エネルギー加工から超微細
加工、精密測定まで利用技術の広い裾野を形成してい
る。レーザビームによって物質を成膜し、或いは物質表
面を加工するレーザアブレーション(爆蝕)ないしレー
ザエッチングは80年代から盛んに検討されている技術
であるが、これによってテクスチャを施す、所謂レーザ
テクスチャ技術が最近関心を集めている(例えばUSP
5062021、特開昭62−209788号公報、特
開平3−272018号公報、特開平7−182655
号公報、特開平8−129749号公報)。レーザテク
スチャ技術では、レーザビーム照射によりクレーター状
の突起を任意の高さ、間隔、位置に基板上で制御良く形
成することができる上、基本的に乾式工程であるという
利点がある。特開平3−272018号公報では、Qス
イッチパルス発振のNd−YAGレーザ(波長1064
nm、発振周波数12KHz)を用い、直径2.5〜1
00μmのクレータ状突起を間隔12.7〜25.4μ
mでNiPメッキAl基板に形成している。
[0007] It can be said that an attempt to apply laser light to material processing and measurement started from the beginning of the invention of the laser. However, recent development / development of laser light sources has brought about remarkable improvements in basic characteristics and handling properties, and has shifted from high energy processing to ultra-high energy processing. It forms a wide range of utilization technologies, from fine processing to precision measurement. Laser ablation (erosion) or laser etching, which forms a material by a laser beam or processes a material surface, has been actively studied since the 1980s. Recently attracted interest (eg USP
5062021, JP-A-62-209788, JP-A-3-272018, JP-A-7-182655
JP-A-8-129949). The laser texture technique has an advantage that a crater-like projection can be formed on a substrate at an arbitrary height, interval, and position with good control by laser beam irradiation, and is basically a dry process. JP-A-3-272018 discloses an Nd-YAG laser of Q-switch pulse oscillation (wavelength 1064).
nm, oscillation frequency 12 KHz) and a diameter of 2.5 to 1
Crater-like projections of 00 μm are spaced from 12.7 to 25.4 μ
m is formed on a NiP plated Al substrate.

【0008】これまで、レーザを用いてNiPメッキA
l基板にテクスチャー加工する方法は、上記特許など有
効な手法が提案されており、その中のいくつかの技法は
量産段階での実用化にも成功している。しかしながら、
NiPメッキAl基板にテクスチャーを施す方法は、非
金属基板、具体的にはガラス基板に単純に応用すること
は極めて難しい。NiPメッキAl基板のレーザーテク
スチャー加工には、通常、YAGの通常波(波長1.0
6μm)、第二高調波(SHG:SECOND HARMONIC GENE
RATOR 波長0.53μm)、あるいは、Arレーザー
(波長0.33μm〜0.53μm)が用いられている
が、これらの波長はガラスの主成分である酸化シリコン
(SiO2)には吸収されない。酸化シリコン(Si
2)の吸収波長は、0.3μm以下、かつ、5μm以
上であるからである。そこで、ガラス基板にレーザーテ
クスチャを施す方法としては、これまでに上記酸化シリ
コン(SiO2)の吸収波長の範囲内の波長を有するレ
ーザを用いた手法がいくつか提案されている。例えば、
特開平6−295433号では、紫外線レーザビームを
ガラス基板に照射し、アブレーションにより生じた原
紙、分子の堆積物からなる凸部をテクスチャリングとし
ている。
Until now, NiP plating A using a laser
Effective methods such as the above patents have been proposed as a method of texturing a 1-substrate, and some of the techniques have been successfully commercialized in a mass production stage. However,
It is extremely difficult to simply apply a texture to a NiP-plated Al substrate to a nonmetallic substrate, specifically, a glass substrate. For laser texturing of a NiP plated Al substrate, a normal wave of YAG (wavelength 1.0
6 μm), second harmonic (SHG: SECOND HARMONIC GENE)
RATOR wavelength 0.53 μm) or Ar laser (wavelength 0.33 μm to 0.53 μm) is used, but these wavelengths are not absorbed by silicon oxide (SiO 2 ) which is a main component of glass. Silicon oxide (Si
This is because the absorption wavelength of O 2 ) is 0.3 μm or less and 5 μm or more. Therefore, as a method of applying a laser texture to a glass substrate, several methods using a laser having a wavelength within the absorption wavelength range of the silicon oxide (SiO 2 ) have been proposed. For example,
In Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-295433, an ultraviolet laser beam is irradiated on a glass substrate, and a convex portion made of a base paper and a molecular deposit generated by ablation is textured.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】一方では、ガラス基板
に直接レーザービームを照射することなく、レーザーテ
クスチャを施す技術、すなわち、ガラス基板上に形成さ
れた下地金属層にレーザービームを照射して突起を形成
する方法が検討されている。この方法は、レーザの加工
対象が金属層になるため、NiPメッキAl基板で用い
られていたレーザを適用できる優位性がある。しかしな
がら、この方法では以下に示す問題点が指摘される。
On the other hand, a technique for applying a laser texture without directly irradiating the glass substrate with the laser beam, that is, projecting the laser beam onto the underlying metal layer formed on the glass substrate. Are being studied. This method has an advantage that the laser used for the NiP-plated Al substrate can be applied since the laser processing target is a metal layer. However, this method has the following problems.

【0010】低いレーザビームエネルギにて微小突起
の形成をすることができるものの、下地金属層の膜厚が
薄いとレーザが膜を貫通してガラス表面にまで達するこ
とがある。この場合、突起高さは、非貫通部の5倍以上
になってしまい、低グライドハイト(G/H)化に極め
て不利となる。 下地金属層の膜厚を増やすことで突起高さの制御は容
易にできるが、膜厚の増加に伴い表面粗さが増し、CS
S特性、低グライドハイト化および電磁変換特性(信号
出力安定性やノイズ等)の悪化を招く。また、表面粗さ
の増加を抑えるためには、表面のポリッシング等の平滑
化処理が必要となる。
Although fine projections can be formed with low laser beam energy, if the thickness of the underlying metal layer is small, the laser may penetrate the film and reach the glass surface. In this case, the height of the projection is at least five times the height of the non-penetrating portion, which is extremely disadvantageous in reducing the glide height (G / H). The protrusion height can be easily controlled by increasing the thickness of the base metal layer.
This leads to deterioration in S characteristics, low glide height, and electromagnetic conversion characteristics (such as signal output stability and noise). Further, in order to suppress an increase in surface roughness, a smoothing treatment such as polishing of the surface is required.

【0011】そこで本発明は、ガラス基板上に形成され
た下地金属層にレーザービームを照射して突起を形成す
る技術において、突起高さの制御が容易で、しかも平滑
化処理を施すことなく表面性情の優れた下地層を有し、
低グライドハイト、CSS特性に優れた磁気記録媒体お
よびその製造方法の提供を課題とする。
Therefore, the present invention relates to a technique for forming projections by irradiating a base metal layer formed on a glass substrate with a laser beam, in which the height of the projections is easily controlled and the surface is smoothened without performing a smoothing treatment. It has an underlayer with excellent qualities,
It is an object of the present invention to provide a magnetic recording medium having a low glide height and excellent CSS characteristics and a method for manufacturing the same.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明は、ガラス基板上
に金属下地層、磁性層、保護層を順次積層した磁気記録
媒体において、金属下地層にレーザテクスチャが施され
ているとともに、金属下地層はガラス基板側から第1の
下地層と、第1の下地層とは組成の異なる第2の下地層
とからなることを特徴とする磁気記録媒体により前記課
題を解決した。また、以上の本発明磁気記録媒体は、ガ
ラス基板上に金属下地層、磁性層、保護層を順次積層す
る磁気記録媒体の製造方法において、金属下地層とし
て、ガラス基板側から第1の下地層と、第1の下地層と
は組成の異なる第2の下地層を成膜した後、その表面に
レーザービームを照射することを特徴とする磁気記録媒
体の製造方法により得ることができる。
According to the present invention, there is provided a magnetic recording medium comprising a glass substrate, on which a metal underlayer, a magnetic layer and a protective layer are sequentially laminated, wherein the metal underlayer is provided with a laser texture and a metal underlayer. The object has been solved by a magnetic recording medium characterized in that the ground layer comprises a first underlayer from the glass substrate side and a second underlayer having a different composition from the first underlayer. Further, the magnetic recording medium of the present invention is a method of manufacturing a magnetic recording medium in which a metal underlayer, a magnetic layer, and a protective layer are sequentially laminated on a glass substrate. And forming a second underlayer having a composition different from that of the first underlayer, and then irradiating the surface thereof with a laser beam.

【0013】本発明においては、第1の下地層は、第2
の下地層よりレーザビームに対する加工性が難加工性で
あることが望ましい。これは、レーザービームが易加工
性の第2の下地層を貫通したとしても、第1下地層は難
加工性であるのでほとんど加工されず、レーザービーム
がガラス基板まで貫通することがない。また、この場
合、第1下地層は難加工性であるが、ガラス基板に比較
すれば遥かに加工されやすいので、第1下地層までレー
ザービームが貫通したとしても、異常な高さの突起が発
生することはない。
In the present invention, the first underlayer comprises the second underlayer.
It is desirable that the workability with respect to the laser beam is more difficult than that of the underlayer. This is because even if the laser beam penetrates the second underlayer which is easy to process, the first underlayer is hardly processed because it is difficult to process, and the laser beam does not penetrate to the glass substrate. In this case, although the first underlayer is difficult to process, it is much easier to process than a glass substrate, so even if a laser beam penetrates to the first underlayer, a projection of an abnormal height may be formed. It does not occur.

【0014】本発明におけるレーザーに対する加工性
は、絶対的な評価ではなく、相対評価で下される。つま
り、第1下地層と比較して第2下地層が加工され易けれ
ば足りる。下地層A,B,Cが加工特性としてA>B>
Cの順番で易加工性であるとすると、本発明に基づく組
み合わせは第1下地層C、第2下地層A、第1下地
層C、第2下地層B、第1下地層B、第2下地層C、
の3通りの組み合わせが考えられる。この場合、Cは第
1下地層、Aは第2下地層と分類できるが、Bは第1下
地層、第2下地層の両方に属することになる。このこと
から分かるように、本発明では第1下地層の金属、及
び、第2下地層の金属は特定されるものではなく、相対
的な関係でしか捉えることができない。
The workability with respect to the laser in the present invention is determined not by an absolute evaluation but by a relative evaluation. That is, it suffices that the second underlayer is easier to process than the first underlayer. Underlayers A, B, and C have processing characteristics of A>B>
Assuming that the workability is easy in the order of C, the combination according to the present invention includes a first underlayer C, a second underlayer A, a first underlayer C, a second underlayer B, a first underlayer B, a second underlayer, and a second underlayer. Underlayer C,
The following three combinations are conceivable. In this case, C can be classified as a first underlayer and A can be classified as a second underlayer, but B belongs to both the first and second underlayers. As can be seen from this, in the present invention, the metal of the first underlayer and the metal of the second underlayer are not specified, but can be understood only in a relative relationship.

【0015】加工性の具体的な評価としては、ガラス基
板に金属を同一膜厚で成膜したのち、同一の条件(出
力、ビーム径、パルス幅、加工速度)でレーザビームを
照射した場合の突起の高さを測定し、2種の金属を比較
して突起高さが高いほうが易加工性であり、突起高さが
低いほうが難加工性と定義される。第1下地層は第2下
地層と比較して難加工性であれば良いわけであるが、出
力を除き上記と同一条件でレーザービームを照射したと
きに、突起高さが等しくなる出力値が1.1〜10倍の
範囲となることが望ましい。出力値が1.1倍未満では
第1下地層と第2下地層の加工特性の差が小さすぎて、
擬似的に単一層として扱われるおそれがあるからであ
り、10倍以上では、第1下地層の加工性がガラスと近
づき、ガラス表面の場合と同様な挙動を示してしまうか
らである。
As a specific evaluation of workability, a case where a metal film is formed on a glass substrate with the same film thickness and then a laser beam is irradiated under the same conditions (output, beam diameter, pulse width, processing speed). The height of the protrusion is measured, and the higher the protrusion height is, the easier the processability is compared with the two types of metals, and the lower the protrusion height is, the harder the processability is defined. The first underlayer may be any material that is difficult to process as compared with the second underlayer. However, when the laser beam is irradiated under the same conditions as the above except for the output, the output value at which the protrusion heights are equal becomes smaller. Desirably, the range is 1.1 to 10 times. If the output value is less than 1.1 times, the difference in processing characteristics between the first underlayer and the second underlayer is too small,
This is because there is a possibility of being treated as a single layer in a simulated manner, and if it is 10 times or more, the workability of the first underlayer approaches that of glass, and the same behavior as in the case of the glass surface is exhibited.

【0016】本発明磁気記録媒体において、テクスチャ
としての機能を十分に果たすと共に、低グライドハイト
化の要求に対応するために、レーザービーム照射により
形成される突起の高さは100〜300Åであることが
望ましい。なお、突起高さを判断する場合、レーザービ
ームが下地層を貫通してガラス基板にまで到達してしま
うと突起高さは異常に高くなってしまうので、この場合
は本発明における突起高さから除外される。また、第1
および第2下地層の厚さは、10〜2000Åであるこ
とが望ましい。10Å未満であると膜厚が薄すぎるため
に突起の形成が困難となり、また、2000Åを超える
と、膜厚の増加に伴い表面粗さが増し、CSS特性、低
グライドハイト化および電磁変換特性(信号出力安定性
やノイズ等)の悪化を招くからである。
In the magnetic recording medium of the present invention, in order to sufficiently fulfill the function as a texture and to meet the demand for a low glide height, the height of a projection formed by laser beam irradiation is 100 to 300 °. Is desirable. When judging the height of the protrusion, the height of the protrusion becomes abnormally high when the laser beam reaches the glass substrate through the base layer. In this case, the height of the protrusion in the present invention is used. Excluded. Also, the first
It is desirable that the thickness of the second underlayer be 10 to 2000 °. If the thickness is less than 10 °, the thickness is too thin to form projections, and if it exceeds 2000 °, the surface roughness increases as the thickness increases, and the CSS characteristics, the low glide height, and the electromagnetic conversion characteristics ( This is because deterioration in signal output stability and noise) is caused.

【0017】本発明における第1および第2下地層に用
いる金属としては、Ti、V、Cr、Mn、Fe、C
o、Ni、Cu、Zn、Zr、Nb、Mo、Te、R
u、Rh、Pd、Ag、Cd、Hf、Ta、W、Re、
Os、Ir、Pt、Au、Hg、Al、Si、Pの単体
又はこれらの合金が掲げられるが、好適な組み合わせと
しては以下の組み合わせがある。 第1下地層:Cr−1〜50at.%Nb合金 第2下地層:
Ni−1〜50at.%P合金 第1下地層:Cr−1〜50at.%Ti合金 第2下地層:
Ni−1〜50at.%P合金 第1下地層:Cr−1〜50at.%Ti合金 第2下地層:
Cr−1〜50at.%Nb合金 また、本発明における第1および第2下地層としては、
それぞれ単一層(金属)から構成されるものに限定され
ず、例えば第1下地層を異なる2つの合金層を積層した
構造としても良い。
The metals used for the first and second underlayers in the present invention include Ti, V, Cr, Mn, Fe, C
o, Ni, Cu, Zn, Zr, Nb, Mo, Te, R
u, Rh, Pd, Ag, Cd, Hf, Ta, W, Re,
Simple substances of Os, Ir, Pt, Au, Hg, Al, Si, and P or alloys thereof are listed, and preferable combinations include the following combinations. First underlayer: Cr-1 to 50 at.% Nb alloy Second underlayer:
Ni-1-50at.% P alloy First underlayer: Cr-1-50at.% Ti alloy Second underlayer:
Ni-1-50at.% P alloy First underlayer: Cr-1-50at.% Ti alloy Second underlayer:
Cr-1 to 50 at.% Nb alloy The first and second underlayers in the present invention include:
The first underlayer is not limited to a single layer (metal), and may have a structure in which two different alloy layers are laminated.

【0018】本発明には、金属に吸収をもつ波長のレー
ザであれば何れも選択可能であるが、高繰り返し、か
つ、高安定度を持つレーザを使用することが好ましい。
すなわち、半導体レーザ(LD:LASER DIODE)励起Y
AGパルスレーザ、LD励起YAG−SHGパルスレー
ザ、LD励起YAG−連続発振(CW:CONTNUOUS WAV
E)レーザ、LD励起YAG−SHG−CWレーザ、C
W−アルゴンレーザを用いることが望ましい。なお、C
Wレーザを用いる場合は、電気光学効果変調器(Ele
ctro−Optic−Modulator、略してE
OM)、または音響光学変調器(Acoustic−O
ptic−Modulator、略してAOM)などの
外部変調器でレーザービームをパルス化することが望ま
しい。
In the present invention, any laser having a wavelength capable of absorbing metal can be selected, but it is preferable to use a laser having high repetition and high stability.
That is, a semiconductor laser (LD: LASER DIODE) excitation Y
AG pulse laser, LD pumped YAG-SHG pulse laser, LD pumped YAG-continuous oscillation (CW: CONTNUOUS WAV
E) Laser, LD pumped YAG-SHG-CW laser, C
It is desirable to use a W-argon laser. Note that C
When a W laser is used, an electro-optic effect modulator (Ele
ctro-Optic-Modulator, E for short
OM) or an acousto-optic modulator (Acoustic-O)
It is desirable that the laser beam be pulsed by an external modulator such as a optic-modulator (AOM for short).

【0019】EOMは、光学結晶に電圧を印加して結晶
の屈折率が変化する電気光学効果を利用して入射した連
続発振レーザの光路を変更させることによりレーザ出力
を連続的に変化させることができる変調器である。ま
た、AOMは、光学結晶に外部より超音波を導入し、結
晶の光学弾性効果を利用して入射した連続発振レーザ光
の解析角度を変化させることにより直進透過するレーザ
出力を連続的に変化させることができる変調器である。
上記何れの変調器も、外部から入力する信号によりMH
z帯域でのレーザ出力変調が可能であり、出力変調も任
意に変更することができる。
The EOM is capable of continuously changing the laser output by changing the optical path of an incident continuous wave laser by applying a voltage to an optical crystal and utilizing the electro-optic effect of changing the refractive index of the crystal. Modulator. In addition, the AOM continuously changes the laser output transmitted straight through by introducing an ultrasonic wave from the outside into the optical crystal and changing the analysis angle of the incident continuous wave laser beam using the optical elasticity effect of the crystal. Modulator that can be.
Any of the modulators described above uses the MH signal based on an externally input signal.
Laser output modulation in the z band is possible, and the output modulation can be arbitrarily changed.

【0020】本発明に用いるレーザ加工装置の概要を図
2に基づき説明する。図2において、レーザビームとし
てCWレーザを用いる場合は、レーザ発信装置11より
レーザビームが発振され、このビームが外部変調器12
によってパルス化される。パルス化されたレーザービー
ムはレンズ13により被加工体である円盤状の基板14
の表面に集光される。基板14はスピンドル15によっ
て回転しており、一軸方向(図中左右方向)に移動する
ことにより、基板14の円周方向に微小突起が形成され
る。微小突起の高さは、照射するレーザビームのエネル
ギ、ビーム径、パルス幅、レーザビームに対する基板1
4の相対回転速度等によって調整することができる。
The outline of the laser processing apparatus used in the present invention will be described with reference to FIG. In FIG. 2, when a CW laser is used as a laser beam, a laser beam is oscillated from a laser transmitting device 11 and this beam is transmitted to an external modulator 12.
Pulsed by The pulsed laser beam is processed by a lens 13 into a disc-shaped substrate 14 which is a workpiece.
It is collected on the surface of. The substrate 14 is rotated by a spindle 15, and moves in one axial direction (the left-right direction in the figure) to form minute projections in the circumferential direction of the substrate 14. The height of the microprojections depends on the energy of the irradiated laser beam, the beam diameter, the pulse width, and the substrate 1 relative to the laser beam.
4 can be adjusted by the relative rotation speed or the like.

【0021】パルスレーザを用いる場合は、レーザ発信
装置11をパルスレーザ発振装置に置き換えるとともに
外部変調器12を取り外せば、上記と同様に加工を行う
ことができる。なお、以上の説明ではスピンドルが一軸
方向に移動する例を示したが、スピンドルの変わりにレ
ンズ13を一軸方向に移動することによっても同様に加
工することができる。
When a pulse laser is used, the processing can be performed in the same manner as described above by replacing the laser transmission device 11 with a pulse laser oscillation device and removing the external modulator 12. In the above description, an example in which the spindle moves in one axis direction has been described. However, the same processing can be performed by moving the lens 13 in one axis direction instead of the spindle.

【0022】[0022]

【発明の実施の形態】以下本発明を実施例に基づき説明
する。波長532nm、出力5WのLD励起YAG−S
HG−CWレーザを外部変調器EOMにより、繰り返し
200kHz、パルス幅100〜800nsのパルスビ
ームにしビーム径7mmでNA=0.13のレンズを通
してガラス基板上に形成した下地膜に照射した。なお、
ガラス基板は、レーザビーム照射中、周速4m/sの等
周速回転とした。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below with reference to embodiments. LD excitation YAG-S with wavelength 532nm and output 5W
The HG-CW laser was repeatedly irradiated with a pulse beam having a frequency of 200 kHz and a pulse width of 100 to 800 ns by an external modulator EOM to a base film formed on a glass substrate through a lens having a beam diameter of 7 mm and an NA of 0.13. In addition,
The glass substrate was rotated at a constant peripheral speed of 4 m / s during laser beam irradiation.

【0023】ガラス基板としては表面粗さ〜6Åのガラ
ス基板を用い、下地膜としては表1に示す組成の膜をス
パッタ法により形成した。
A glass substrate having a surface roughness of about 6 ° was used as a glass substrate, and a film having a composition shown in Table 1 was formed as a base film by a sputtering method.

【0024】表1に下地層の膜厚、下地層成膜後の表面
粗さ、照射するレーザービームの加工面上でのレーザパ
ワー、突起高さ、異常突起の有無、異常突起の高さを合
わせて示す。なお、表面粗さはAFM(Atomic Force
Microscope、原子間力顕微鏡)により測定し、また、
突起の高さはTENCOR P−12(テンコール社商
品名)により測定した。
Table 1 shows the thickness of the underlayer, the surface roughness after the underlayer was formed, the laser power on the processed surface of the laser beam to be irradiated, the height of the protrusion, the presence or absence of abnormal protrusions, and the height of abnormal protrusions. Also shown. The surface roughness was measured by AFM (Atomic Force).
Microscope, Atomic Force Microscope)
The height of the projections was measured using TENCOR P-12 (trade name of Tencor).

【0025】[0025]

【表1】 [Table 1]

【0026】なお、下地層に用いた各合金をガラス基板
状に1000Å成膜し、出力300mW、ビーム径7m
m、パルス幅400ns、加工速度4m/sと同一にし
たときに形成された突起の高さは表2に示すとおりであ
り、Cr−30at.%Ti合金が最も難加工性を示し、N
i−33at.%P合金が最も易加工性を示す。
Each of the alloys used for the underlayer was formed on a glass substrate in a thickness of 1000.degree. With an output of 300 mW and a beam diameter of 7 m.
m, a pulse width of 400 ns, and a processing speed of 4 m / s, the heights of the projections formed are as shown in Table 2. The Cr-30 at.% Ti alloy shows the most difficult workability,
The i-33at.% P alloy shows the easiest workability.

【0027】[0027]

【表2】 [Table 2]

【0028】本発明に係る実施例1〜6は何れも下地層
成膜後の表面粗さが10Å以下であり、また、異常突起
の発生は観察されなかった。これに対して、比較例は、
表面粗さが小さい場合には異常突起が発生しており(比
較例1〜3、比較例5〜8)、また、異常突起の発生を
なくすためには下地層の膜厚が厚くなり、そのために表
面粗さが10Åを超えてしまう(比較例4、8)。
In all of Examples 1 to 6 according to the present invention, the surface roughness after the formation of the underlayer was 10 ° or less, and the occurrence of abnormal projections was not observed. In contrast, the comparative example
When the surface roughness is small, abnormal protrusions have occurred (Comparative Examples 1 to 3 and Comparative Examples 5 to 8). In order to eliminate the occurrence of abnormal protrusions, the thickness of the underlying layer is increased, and In addition, the surface roughness exceeds 10 ° (Comparative Examples 4 and 8).

【0029】表1に示す基板に、引き続き、基板温度2
00℃にて非磁性下地層としてCr100nm、磁性層
としてCo−12at.%Cr−2at.%Ta合金20nm、
保護膜としてカーボン20nmを逐次スパッタ法により
成膜し、さらにPFPE(パーフルオロポリエーテル)
系潤滑剤を塗布成膜して磁気記録媒体を作成した。な
お、図1に実施例1の磁気記録媒体の部分断面模式図を
示しておく。図1に示すように、実施例1の磁気記録媒
体1は、ガラス基板2上に、Cr−30at.%Nb合金か
らなる第1下地層3、Ni−33at.%P合金からなる第
2下地層4、Cr下地層5、Co−12at.%Cr−2a
t.%Ta合金からなる磁性層6、カーボン保護層7、お
よびPFPEからなる潤滑剤層8が順次積層された断面
構造を有し、第2下地層4上に形成された突起41に基
づきテクスチャが構成されている。
Following the substrate shown in Table 1, the substrate temperature 2
At 00 ° C., a nonmagnetic underlayer of Cr 100 nm, a magnetic layer of Co-12 at.% Cr-2 at.% Ta alloy 20 nm,
As a protective film, 20 nm of carbon is sequentially formed by a sputtering method, and further, PFPE (perfluoropolyether) is formed.
A magnetic recording medium was prepared by coating a system lubricant. FIG. 1 shows a schematic partial cross-sectional view of the magnetic recording medium of the first embodiment. As shown in FIG. 1, a magnetic recording medium 1 of Example 1 has a first underlayer 3 made of a Cr-30 at.% Nb alloy and a second lower layer made of a Ni-33 at. Underlayer 4, Cr underlayer 5, Co-12at.% Cr-2a
It has a cross-sectional structure in which a magnetic layer 6 made of t.% Ta alloy, a carbon protective layer 7, and a lubricant layer 8 made of PFPE are sequentially laminated, and has a texture based on the protrusions 41 formed on the second underlayer 4. Is configured.

【0030】本実施例のように、第1及び第2下地層の
上にCr下地層を積層することにより、磁気特性を向上
することができる。得られた磁気記録媒体を用いてグラ
イドハイト特性、CSS特性(CSS10000回後の
フリクション値)を評価した。結果を表3、表4に示
す。
As in this embodiment, the magnetic properties can be improved by laminating a Cr underlayer on the first and second underlayers. Glide height characteristics and CSS characteristics (friction value after 10,000 times of CSS) were evaluated using the obtained magnetic recording medium. The results are shown in Tables 3 and 4.

【0031】[0031]

【表3】 [Table 3]

【0032】[0032]

【表4】 [Table 4]

【0033】表3から、実施例1〜6による磁気記録媒
体のグライドハイトは1.0〜1.2μinchであるのに
対し、異常突起が発生した比較例1〜3、比較例5〜8
は2μinch以上、以上突起のない比較例4、8でも、表
面粗さが高いために1.5μinch以上となっている。ま
た、CSS特性については、実施例1〜6、比較例4、
8では0.4〜0.5のレベルにあるが、異常突起が発
生した比較例1〜3、比較例5〜8の磁気記録媒体には
ヘッドクラッシュが生じた。
From Table 3, the glide height of the magnetic recording media according to Examples 1 to 6 is 1.0 to 1.2 μinch, while Comparative Examples 1 to 3 and Comparative Examples 5 to 8 in which abnormal protrusions are generated.
In Comparative Examples 4 and 8 having no protrusions, the thickness was 1.5 μinch or more due to high surface roughness. As for the CSS characteristics, Examples 1 to 6, Comparative Example 4,
In No. 8, the magnetic recording medium of Comparative Examples 1 to 3 and Comparative Examples 5 to 8 in which abnormal protrusions occurred was in the level of 0.4 to 0.5, but a head crash occurred.

【0034】以上本発明を実施例に基づいて説明した
が、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、特
許請求の範囲の記載を変更しない限り、どのような形態
でも実施することができる。例えば、ガラス基板の上に
成膜する下地層、磁性膜、保護膜、潤滑剤等は、特にそ
の材質や組成、成膜方法等に限定されるものではなく、
公知の材料、方法を適宜に選定、組み合わせて使用する
ことができる。
Although the present invention has been described based on the embodiments, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and may be embodied in any form unless the description in the claims is changed. it can. For example, an underlayer, a magnetic film, a protective film, a lubricant, and the like formed on a glass substrate are not particularly limited to the material and composition, the film forming method, and the like.
Known materials and methods can be appropriately selected and used in combination.

【0035】[0035]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
表面粗さを粗くすることなく、さらに異常突起を発生さ
せることなくレーザにより突起を形成することができ
る。これにより、低グライドハイト、CSS特性の良好
な磁気記録媒体を得ることが可能となった。
As described above, according to the present invention,
The protrusions can be formed by laser without increasing the surface roughness and without causing abnormal protrusions. This makes it possible to obtain a magnetic recording medium having a low glide height and good CSS characteristics.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明磁気記録媒体の1実施例の部分断面模
式図である。
FIG. 1 is a schematic partial sectional view of one embodiment of the magnetic recording medium of the present invention.

【図2】 本発明に適用できるレーザ加工装置の例を示
す図である。
FIG. 2 is a diagram illustrating an example of a laser processing apparatus applicable to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 磁気記録媒体 2 ガラス基板 3 第1下地層 4 第2下地層 41 突起 5 Cr下地 6 磁性層 7 保護層 8 潤滑剤層 Reference Signs List 1 magnetic recording medium 2 glass substrate 3 first underlayer 4 second underlayer 41 protrusion 5 Cr underlayer 6 magnetic layer 7 protective layer 8 lubricant layer

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ガラス基板上に金属下地層、磁性層、保
護層を順次積層した磁気記録媒体において、金属下地層
にレーザテクスチャが施されているとともに、金属下地
層はガラス基板側から第1の下地層と、第1の下地層と
は組成の異なる第2の下地層とからなることを特徴とす
る磁気記録媒体。
In a magnetic recording medium in which a metal underlayer, a magnetic layer, and a protective layer are sequentially laminated on a glass substrate, a laser texture is applied to the metal underlayer, and the metal underlayer is a first layer from the glass substrate side. And a second underlayer having a composition different from that of the first underlayer.
【請求項2】 第1の下地層は、第2の下地層よりレー
ザビームに対して難加工性である請求項1に記載の磁気
記録媒体。
2. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the first underlayer is harder to process a laser beam than the second underlayer.
【請求項3】 第1および第2の下地層の厚さが、10
〜2000Åである請求項1または2に記載の磁気記録
媒体。
3. The thickness of the first and second underlayers is 10
The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the angle is Å2000 °.
【請求項4】 ガラス基板上に金属下地層、磁性層、保
護層を順次積層する磁気記録媒体の製造方法において、
金属下地層として、ガラス基板側から第1の下地層と、
第1の下地層とは組成の異なる第2の下地層を成膜した
後、その表面にレーザービームを照射することを特徴と
する磁気記録媒体の製造方法。
4. A method for manufacturing a magnetic recording medium, comprising sequentially laminating a metal base layer, a magnetic layer, and a protective layer on a glass substrate,
A first underlayer from the glass substrate side as a metal underlayer;
A method for manufacturing a magnetic recording medium, comprising: forming a second underlayer having a composition different from that of the first underlayer, and irradiating the surface with a laser beam.
【請求項5】 第1の下地層は、第2の下地層よりレー
ザビームに対して難加工性である請求項4に記載の磁気
記録媒体の製造方法。
5. The method for manufacturing a magnetic recording medium according to claim 4, wherein the first underlayer is harder to process the laser beam than the second underlayer.
【請求項6】 第1および第2の下地層の厚さが、10
〜2000Åである請求項4または5に記載の磁気記録
媒体の製造方法。
6. The thickness of the first and second underlayers is 10
The method of manufacturing a magnetic recording medium according to claim 4, wherein the angle is Å2000 °.
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