JPH1195227A - Oriented film in common use as protective film for liquid crystal, liquid crystal holding substrate using the same and liquid crystal display device - Google Patents

Oriented film in common use as protective film for liquid crystal, liquid crystal holding substrate using the same and liquid crystal display device

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Publication number
JPH1195227A
JPH1195227A JP25996197A JP25996197A JPH1195227A JP H1195227 A JPH1195227 A JP H1195227A JP 25996197 A JP25996197 A JP 25996197A JP 25996197 A JP25996197 A JP 25996197A JP H1195227 A JPH1195227 A JP H1195227A
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JP
Japan
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liquid crystal
film
protective film
weight
alignment film
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Pending
Application number
JP25996197A
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Japanese (ja)
Inventor
Yuichi Kanetani
雄一 金谷
Naoki Okuda
直紀 奥田
Yasuo Katsuya
康夫 勝谷
Takao Nakagawa
貴夫 中川
Toyoichi Ueda
豊一 植田
Hiroyuki Umeda
啓之 梅田
Katsumi Kondo
克己 近藤
Sukekazu Araya
介和 荒谷
Hisao Yokokura
久男 横倉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Showa Denko Materials Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
Hitachi Ltd
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Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd, Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
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Publication of JPH1195227A publication Critical patent/JPH1195227A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To embody the adhesion property to glass substrates and color filters, etc., and excellent orientability and planarization characteristic by forming a liquid film consisting of a resin compsn. contg. specific polyamide acid on an electrode surface and drying the film by heating, thereby forming a polyamide film. SOLUTION: The liquid film consisting of the resin compsn. contg. the polyamide acid of 1000 to 20000 in weight average mol.wt. is formed by a printing method on the surface of the liquid crystal holding substrate formed with the electrode and is dried by heating, by which the polyamide film is formed. The resin compsn. contg. the polyamide acid contains a solvent in such a manner that a solid content concn. of 7 to 60 wt.% is attained. The viscosity of the soln. thereof is preferably 30 to 1000 mpa.s. The polyamide acid is preferably obtd. by bringing a diamine component contg. at least one kind of the compds. selected from a group consisting of a rigid diamine compd. having a benzene ring, rigid dihydrazine compd. having a benzene ring and diamine compd. having a sulfone group and/or sulfide group and a tetracarboxylic dianhydride component into reaction.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶用保護膜兼配
向膜、液晶挟持基板及び液晶表示装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a protective film / alignment film for liquid crystal, a liquid crystal sandwiching substrate, and a liquid crystal display device.

【0002】[0002]

【従来の技術】現行のカラー薄膜トランジスタ−型液晶
表示装置においては、カラーフィルタは必要不可欠なも
のであり、染色法、印刷法、電着法、顔料分散法などに
よって形成されているが、染色層に含まれる成分が液晶
中に溶出することを防止するために、保護膜を設け、こ
のうえにITO(インジウム錫酸化物)などからなる無
機薄膜(透明電極)を蒸着し、さらにこのITOの上に
液晶の配向機能を有する薄膜である液晶配向膜が設けら
れている。カラーフィルタ保護膜に要求される特性とし
ては、耐熱性、耐薬品性の他にガラス基板やカラーフィ
ルタとの密着性、透明性などが挙げられる。このような
耐熱性、耐薬品性等の特性に優れた樹脂膜材料としては
特開昭58−196506号公報、特開昭62−119
501号公報等に記載のアクリル系樹脂、特開昭60−
216307号公報記載のポリグリシジルメタクリレー
ト系樹脂、特開昭63−131103号公報嫌いのメラ
ミン樹脂などが提案されている。さらにエポキシ樹脂、
ポリイミド樹脂も提案されている。
2. Description of the Related Art In a current color thin film transistor-type liquid crystal display device, a color filter is indispensable and is formed by a dyeing method, a printing method, an electrodeposition method, a pigment dispersion method or the like. In order to prevent the components contained in the liquid crystal from being eluted into the liquid crystal, a protective film is provided, and an inorganic thin film (transparent electrode) made of ITO (indium tin oxide) or the like is deposited thereon. Is provided with a liquid crystal alignment film which is a thin film having a liquid crystal alignment function. Properties required for the color filter protective film include heat resistance, chemical resistance, adhesion to a glass substrate and a color filter, transparency, and the like. JP-A-58-196506 and JP-A-62-119 disclose resin film materials having excellent properties such as heat resistance and chemical resistance.
No. 501, etc .;
A polyglycidyl methacrylate resin described in Japanese Patent No. 216307 and a melamine resin disliked in Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-131103 have been proposed. Further epoxy resin,
Polyimide resins have also been proposed.

【0003】一方、薄膜トランジスタ基板側には0.2
〜1μm程度の凹凸構造があるが、平坦化機能を有する
保護膜は特に用いられておらず、70nm程度のポリイミ
ド系液晶配向膜が使用されている。この段差によって、
薄膜トランジスタ周辺でのドメイン発生によるコントラ
スト比の低下やギャップ不良による輝度むらが生じ、こ
れらの解決が緊急の課題となっていた。特に、特開平6
−160878号公報記載の液晶表示装置では、薄膜ト
ランジスタに加えて櫛歯電極を使用しているため、基板
の凹凸構造が激しく、ギャップ不良による輝度むらを少
なくするためには、基板を平坦化し、セルギャップを均
一にすることが必要である。そして、平坦化機能を有す
るように0.3〜3μmの膜厚の保護膜を形成させるに
は、スピン塗布法が一般的であるが、この方法ではシー
ル剤に接する保護膜部分をフォトリソグラフィーにより
除去する必要があり、容易にパターニングできないとい
う問題があった。
On the other hand, 0.2 μm
Although there is an uneven structure of about 1 μm, a protective film having a flattening function is not particularly used, and a polyimide-based liquid crystal alignment film of about 70 nm is used. By this step,
The reduction of the contrast ratio due to the domain generation around the thin film transistor and the uneven brightness due to the gap failure have occurred, and these solutions have been an urgent issue. In particular, JP-A-6
In the liquid crystal display device described in JP-A-160878, a comb-shaped electrode is used in addition to a thin film transistor. Therefore, the uneven structure of the substrate is severe, and in order to reduce luminance unevenness due to a gap defect, the substrate is flattened. It is necessary to make the gap uniform. In order to form a protective film having a thickness of 0.3 to 3 μm so as to have a flattening function, a spin coating method is generally used. In this method, the protective film portion in contact with the sealant is formed by photolithography. It has to be removed, and there is a problem that it cannot be easily patterned.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記従来技
術の問題点を解消し、耐熱性、耐薬品性、ガラス基板や
カラーフィルタとの密着性、透明性、印刷性などの特性
が良好で、かつ配向性及び平坦化性に優れた液晶用保護
膜兼配向膜、この保護膜兼配向膜を有する液晶挟持基板
及びこれを用いた液晶表示装置を提供することを目的と
する。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention solves the above-mentioned problems of the prior art, and has good properties such as heat resistance, chemical resistance, adhesion to a glass substrate or a color filter, transparency and printability. It is another object of the present invention to provide a protective film / alignment film for liquid crystal which is excellent in alignment and flatness, a liquid crystal sandwiching substrate having the protective film / alignment film, and a liquid crystal display device using the same.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明は、重量平均分子
量が1000〜20000であるポリアミド酸を含む樹
脂組成物からなる液膜を、液晶挟持基板の電極を形成し
た面上に印刷法により形成し、加熱乾燥して形成したポ
リイミド膜からなることを特徴とする液晶用保護膜兼配
向膜に関する。また、本発明は、ポリアミド酸を含む樹
脂組成物が固形分濃度が7〜60重量%になるように溶
媒を含み、その粘度が30〜1000mPa・sである前記
液晶用保護膜兼配向膜に関する。また、本発明は、これ
らの液晶用保護膜兼配向膜において、ポリアミド酸が、
(a)ベンゼン環を有する剛直性のジアミン化合物、
(b)ベンゼン環を有する剛直性のジヒドラジド化合物
及び(c)スルホン基及び/又はスルフィド基を有する
ジアミン化合物からなる群から選択された化合物を少な
くとも1種含むジアミン成分とテトラカルボン酸二無水
物成分とを反応させて得られたものである液晶用保護膜
兼配向膜に関する。
According to the present invention, a liquid film made of a resin composition containing a polyamic acid having a weight average molecular weight of 1,000 to 20,000 is formed on a surface of a liquid crystal sandwiching substrate on which electrodes are formed by a printing method. And a polyimide film formed by heating and drying. The present invention also relates to the protective film and alignment film for liquid crystal, wherein the resin composition containing a polyamic acid contains a solvent such that the solid content concentration is 7 to 60% by weight, and the viscosity is 30 to 1000 mPa · s. . Further, the present invention, in these liquid crystal protective film and alignment film, polyamic acid,
(A) a rigid diamine compound having a benzene ring,
A diamine component and a tetracarboxylic dianhydride component containing at least one compound selected from the group consisting of (b) a rigid dihydrazide compound having a benzene ring and (c) a diamine compound having a sulfone group and / or a sulfide group. And a protective film and an alignment film for liquid crystal obtained by reacting

【0006】また、本発明は、この液晶用保護膜兼配向
膜において、(a)ベンゼン環を有する剛直性のジアミ
ン化合物、(b)ベンゼン環を有する剛直性のジヒドラ
ジド化合物及び(c)スルホン基及び/又はスルフィド
基を有するジアミン化合物からなる群から選択された化
合物の合計量が、ジアミン成分の総モル数の30モル%
以上である液晶用保護膜兼配向膜に関する。また、本発
明は、テトラカルボン酸二無水物成分が脂肪族テトラカ
ルボン酸二無水物及び/又は脂環式テトラカルボン酸二
無水物を、酸二無水物成分の総モル数の30モル%以上
含む前記液晶用保護膜兼配向膜に関する。
The present invention also provides a liquid crystal protective film / alignment film which comprises (a) a rigid diamine compound having a benzene ring, (b) a rigid dihydrazide compound having a benzene ring, and (c) a sulfone group. And / or the total amount of compounds selected from the group consisting of diamine compounds having a sulfide group is 30 mol% of the total number of moles of the diamine component.
The present invention relates to the above-described protective film and alignment film for liquid crystal. In the present invention, the tetracarboxylic dianhydride component may be an aliphatic tetracarboxylic dianhydride and / or an alicyclic tetracarboxylic dianhydride in an amount of at least 30 mol% of the total number of moles of the acid dianhydride component. The present invention also relates to a protective film and an alignment film for liquid crystal.

【0007】また、本発明は、テトラカルボン酸二無水
物が一般式(I)
In the present invention, the tetracarboxylic dianhydride is represented by the general formula (I):

【化2】 〔式中、nは2〜20の整数を示す〕で表されるテトラ
カルボン酸二無水物を、酸二無水物成分の総モル数の2
0モル%以上含む前記液晶用保護膜兼配向膜に関する。
また、本発明は、溶媒が、ラクトン系溶媒を溶媒の総重
量の30重量%以上含む前記液晶用保護膜兼配向膜に関
する。
Embedded image [Wherein n represents an integer of 2 to 20], wherein the tetracarboxylic dianhydride is represented by 2
The present invention relates to the protective film and alignment film for liquid crystal containing 0 mol% or more.
In addition, the present invention relates to the protective film and alignment film for liquid crystal, wherein the solvent contains a lactone-based solvent in an amount of 30% by weight or more based on the total weight of the solvent.

【0008】また、本発明は、前記いずれかの液晶用保
護膜兼配向膜を有する液晶挟持基板に関する。また、本
発明は、液晶挟持基板の液晶に面する側に電極を設け、
該基板及び電極上に、前記いずれかの液晶用保護膜兼配
向膜を有することを特徴とする液晶表示装置に関する。
Further, the present invention relates to a liquid crystal sandwiching substrate having any one of the above-mentioned protective film and alignment film for liquid crystal. The present invention also provides an electrode on the side of the liquid crystal sandwiching substrate facing the liquid crystal,
The present invention relates to a liquid crystal display device having any one of the above-mentioned protective film and alignment film for liquid crystal on the substrate and the electrodes.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】本発明の液晶用保護膜兼配向膜を
製造するために用いる樹脂組成物は、前記のように、ポ
リアミド酸を主成分として含むものである。本発明に用
いるポリアミド酸としては、様々なものを使用すること
ができるが、(a)ベンゼン環を有する剛直性のジアミ
ン化合物、(b)ベンゼン環を有する剛直性のジヒドラ
ジド化合物及び(c)スルホン基及び/又はスルフィド
基を有するジアミン化合物からなる群から選択された化
合物を少なくとも1種含むジアミン成分とテトラカルボ
ン酸二無水物成分とを反応させて得られたものであるの
が好ましい。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The resin composition used for producing the protective film and alignment film for a liquid crystal of the present invention contains a polyamic acid as a main component as described above. As the polyamic acid used in the present invention, various compounds can be used. (A) A rigid diamine compound having a benzene ring, (b) a rigid dihydrazide compound having a benzene ring, and (c) a sulfone It is preferably obtained by reacting a diamine component containing at least one compound selected from the group consisting of diamine compounds having a group and / or a sulfide group with a tetracarboxylic dianhydride component.

【0010】ジアミン成分のうち、(a)ベンゼン環を
有する剛直性のジアミン化合物としては、好ましくはベ
ンゼン環を分子中に1個有するジアミン化合物、例え
ば、一般式(II)
Of the diamine components, (a) the rigid diamine compound having a benzene ring is preferably a diamine compound having one benzene ring in the molecule, for example, a compound represented by the general formula (II):

【化3】 〔式中、R1、R2、R3及びR4は、それぞれ独立に水素
原子又は炭素数1〜3のアルキル基を表す〕で示される
ジアミン化合物が挙げられる。具体例としては、p−フ
ェニレンジアミン、m−フェニレンジアミン、o−フェ
ニレンジアミンなどが挙げられる。
Embedded image [Wherein, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms]. Specific examples include p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, o-phenylenediamine and the like.

【0011】また、(b)ベンゼン環を有する剛直性の
ジヒドラジド化合物としては、好ましくはベンゼン環を
分子中に1個有するジヒドラジド化合物、例えば、一般
式(III)
The (b) rigid dihydrazide compound having a benzene ring is preferably a dihydrazide compound having one benzene ring in the molecule, for example, a compound of the general formula (III)

【化4】 〔式中、R1、R2、R3及びR4は、前記のものを表す〕
で示されるジヒドラジド化合物が挙げられる。具体例と
しては、イソフタロジルジヒドラジド、テレフタロジル
ジヒドラジドなどが挙げられる。
Embedded image [Wherein R 1 , R 2 , R 3 and R 4 represent the same as above]
The dihydrazide compound shown by these is mentioned. Specific examples include isophthalodil dihydrazide, terephthalodil dihydrazide, and the like.

【0012】さらに、(c)スルホン基及び/又はスル
フィド基を有するジアミン化合物としては、一般式(I
V)、(V)及び(VI)
Further, (c) the diamine compound having a sulfone group and / or a sulfide group includes a compound represented by the general formula (I)
V), (V) and (VI)

【化5】 〔式中、R1、R2、R3及びR4は、前記のものを表し、
Xは−S−又は−SO2−を表し、Yは−O−、−CO
−、−S−、−SO2−、−CONH−、−(CH2)
m−、−C(CF3)2−又は−C(CH3)2−を表し、mは
1〜8の数値を表す〕で示されるジアミン化合物が挙げ
られる。
Embedded image [Wherein, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 represent those described above;
X is -S- or -SO 2 -, Y represents the -O -, - CO
-, - S -, - SO 2 -, - CONH -, - (CH 2)
m -, - C (CF 3 ) 2 - or -C (CH 3) 2 - represents, m can be mentioned diamine compound represented by representing] a number of 1-8.

【0013】これらのジアミン化合物の具体例として
は、、4,4′−ジアミノジフェニルスルホン、3,
4′−ジアミノジフェニルスルホン、3,3′−ジアミ
ノジフェニルスルホン、4,4′−ジアミノジフェニル
スルフィド、3,4′−ジアミノジフェニルスルフィ
ド、3,3′−ジアミノジフェニルスルフィド、ビス
〔4−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、
ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕スルホ
ン、ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕ス
ルフィルド、ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)フェ
ニル〕スルフィルドなどが挙げられる。
Specific examples of these diamine compounds include 4,4'-diaminodiphenyl sulfone,
4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3'-diaminodiphenylsulfone, 4,4'-diaminodiphenylsulfide, 3,4'-diaminodiphenylsulfide, 3,3'-diaminodiphenylsulfide, bis [4- (3- Aminophenoxy) phenyl] sulfone,
Bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfide, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfide and the like can be mentioned.

【0014】上記(a)〜(c)のジアミン化合物は単
独で又は2種以上を組合せて使用することができる。良
好な液晶配向機能、光透過性を確保するためには、これ
らのジアミン化合物の合計量がジアミン成分の総モル数
の30モル%以上となるように調整することが好まし
い。
The above-mentioned diamine compounds (a) to (c) can be used alone or in combination of two or more. In order to ensure good liquid crystal alignment function and light transmittance, it is preferable to adjust the total amount of these diamine compounds to be 30 mol% or more of the total number of moles of the diamine component.

【0015】ジアミン成分としては、上記(a)〜
(c)のジアミン化合物の代わりに、あるいは上記
(a)〜(c)のジアミン化合物と共に、その他の共重
合可能なジアミン化合物を使用することができる。その
他の共重合可能なジアミン成分としては、4,4′−ジ
アミノジフェニルエーテル、3,4′−ジアミノジフェ
ニルエーテル、2,4′−ジアミノジフェニルエーテ
ル、3,3′−ジアミノジフェニルエーテル、4,4′
−ジアミノジフェニルメタン、2,4′−ジアミノジフ
ェニルメタン、3,4′−ジアミノジフェニルメタン、
3,3′−ジアミノジフェニルメタン、2,2−ビス
〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕プロパン、
2,2−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニ
ル〕ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス〔4−(3
−アミノフェノキシ)フェニル〕ヘキサフルオロプロパ
ン、2,2−ビス(4−アミノフェノキシ)ヘキサフル
オロプロパン、1,6−ヘキサメチレンジアミン、1,
8−オクタメチレンジアミン、1,10−デカメチレン
ジアミン、1,12−ドデカメチレンジアミン、アゼラ
イン酸ジヒドラジド、セバシン酸ジヒドラジド、2,6
−ナフトエ酸ジヒドラジド、2,4′−ジアミノ−3−
メチル−ステアリルフェニルエーテル、2,4′−ジア
ミノ−3−メチル−ラウリルフェニルエーテル、2,
4′−ジアミノ−3−メチル−パルミチルフェニルエー
テル、2,4′−ジアミノ−1−オクチルオキシベンゼ
ン、2,2−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェ
ニル〕オクタン、2,2−ビス〔4−(4−アミノフェ
ノキシ)フェニル〕トリデカン、2,2−ビス〔4−
(4−アミノフェノキシ)フェニル〕ペンタデカン、ビ
ス〔4−(4−アミノベンゾイルオキシ)安息香酸〕デ
カン、ビス〔4−(4−アミノベンゾイルオキシ)安息
香酸〕ドデカン、ビス〔4−(4−アミノベンゾイルオ
キシ)安息香酸〕メチルシクロヘンサン、ビス〔4−
(4−アミノベンゾイルオキシ)安息香酸〕メチン、ビ
ス〔4−(4−アミノベンゾイルオキシ)安息香酸〕ブ
タン、ジアミノシロキサン、1,3−ジ(3−アミノプ
ロピル)−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン
などが挙げられ、これらのうち1種又は2種以上を用い
ることができる。
As the diamine component, the above (a) to
Other copolymerizable diamine compounds can be used instead of the diamine compound (c) or together with the diamine compounds (a) to (c). Other copolymerizable diamine components include 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 2,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-diaminodiphenyl ether, and 4,4 '.
-Diaminodiphenylmethane, 2,4'-diaminodiphenylmethane, 3,4'-diaminodiphenylmethane,
3,3'-diaminodiphenylmethane, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane,
2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] hexafluoropropane, 2,2-bis [4- (3
-Aminophenoxy) phenyl] hexafluoropropane, 2,2-bis (4-aminophenoxy) hexafluoropropane, 1,6-hexamethylenediamine, 1,
8-octamethylenediamine, 1,10-decamethylenediamine, 1,12-dodecamethylenediamine, azelaic dihydrazide, sebacic dihydrazide, 2,6
-Naphthoic dihydrazide, 2,4'-diamino-3-
Methyl-stearyl phenyl ether, 2,4'-diamino-3-methyl-lauryl phenyl ether, 2,
4'-diamino-3-methyl-palmitylphenyl ether, 2,4'-diamino-1-octyloxybenzene, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] octane, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] tridecane, 2,2-bis [4-
(4-aminophenoxy) phenyl] pentadecane, bis [4- (4-aminobenzoyloxy) benzoic acid] decane, bis [4- (4-aminobenzoyloxy) benzoic acid] dodecane, bis [4- (4-amino Benzoyloxy) benzoic acid] methylcyclohensan, bis [4-
(4-aminobenzoyloxy) benzoic acid] methine, bis [4- (4-aminobenzoyloxy) benzoic acid] butane, diaminosiloxane, 1,3-di (3-aminopropyl) -1,1,3,3 -Tetramethyldisiloxane and the like, and one or more of these can be used.

【0016】一方、テトラカルボン酸二無水物成分とし
ては、特に制限はなく、様々なものを使用しうるが、脂
肪族テトラカルボン酸二無水物、脂環式テトラカルボン
酸二無水物、一般式(I)
On the other hand, the tetracarboxylic dianhydride component is not particularly limited, and various ones can be used, but aliphatic tetracarboxylic dianhydride, alicyclic tetracarboxylic dianhydride, and general formula (I)

【化6】 〔式中、nは2〜20の整数を示す〕で表されるテトラ
カルボン酸二無水物、その他の共重合可能なテトラカル
ボン酸二無水物などを使用することができる。
Embedded image [Where n represents an integer of 2 to 20], such as tetracarboxylic dianhydride, and other copolymerizable tetracarboxylic dianhydrides.

【0017】脂肪族テトラカルボン酸二無水物及び脂環
式テトラカルボン酸二無水物としては、1,2,3,4
−ブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−
シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,
4−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、1,
2,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水
物、3,3′,4,4′−ビスシクロヘキサンテトラカ
ルボン酸二無水物、ビシクロ(2,2,2)オクタ−7
−エン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物、
オクチルコハク酸二無水物、ドデシルコハク酸二無水
物、ビス(ビシクロ〔2,2,1〕ヘプタン−2,3−
ジカルボン酸無水物)などが挙げられ、これらは単独で
又は2種以上を組み合わせて使用することができる。平
坦性及び良好な光透過性を確保するためには、脂肪族テ
トラカルボン酸二無水物及び/又は脂環式テトラカルボ
ン酸二無水物を、酸二無水物成分の総モル数の30モル
%以上使用するのが好ましい。
The aliphatic tetracarboxylic dianhydride and the alicyclic tetracarboxylic dianhydride include 1,2,3,4
-Butanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-
Cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3
4-cyclopentanetetracarboxylic dianhydride, 1,
2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-biscyclohexanetetracarboxylic dianhydride, bicyclo (2,2,2) oct-7
-Ene-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride,
Octyl succinic dianhydride, dodecyl succinic dianhydride, bis (bicyclo [2,2,1] heptane-2,3-
Dicarboxylic anhydride) and the like, and these can be used alone or in combination of two or more. In order to ensure flatness and good light transmittance, an aliphatic tetracarboxylic dianhydride and / or an alicyclic tetracarboxylic dianhydride are used in an amount of 30 mol% based on the total number of moles of the acid dianhydride component. It is preferable to use the above.

【0018】また、前記の一般式(I)で表されるテト
ラカルボン酸二無水物を、酸二無水物成分の総モル数の
20モル%以上使用することによって、良好な平坦性及
び光透過性を得ることができる。一般式(I)で表され
るテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、ジメチ
レントリメリテート酸二無水物、トリメチレントリメリ
テート酸二無水物、テトラメチレントリメリテート酸二
無水物、ペンタメチレントリメリテート酸二無水物、ヘ
キサメチレントリメリテート酸二無水物、ヘプタメチレ
ントリメリテート酸二無水物、オクタメチレントリメリ
テート酸二無水物、デカメチレントリメリテート酸二無
水物、ドデカメチレントリメリテート酸二無水物、ヘキ
サデカメチレントリメリテート酸二無水物、オクタデカ
メチレントリメリテート酸二無水物、イコサメチレント
リメリテート酸二無水物などが挙げられ、これらは単独
で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
The use of the tetracarboxylic dianhydride represented by the general formula (I) in an amount of 20 mol% or more of the total number of moles of the acid dianhydride component provides good flatness and light transmission. Sex can be obtained. Examples of the tetracarboxylic dianhydride represented by the general formula (I) include dimethylene trimellitate dianhydride, trimethylene trimellitate dianhydride, tetramethylene trimellitate dianhydride, Pentamethylene trimellitate dianhydride, hexamethylene trimellitate dianhydride, heptamethylene trimellitate dianhydride, octamethylene trimellitate dianhydride, decamethylene trimellitate dianhydride, Dodecamethylene trimellitate dianhydride, hexadecamethylene trimellitate dianhydride, octadecamethylene trimellitate dianhydride, icosamethylene trimellitate dianhydride, etc. Or a combination of two or more.

【0019】その他の共重合可能なテトラカルボン酸二
無水物としては、ピロメリット酸二無水物、3,3′,
4,4′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ベン
ゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、オキシジフタル
酸二無水物、3,3′,4,4′−ジフェニルメタンテ
トラカルボン酸二無水物、3,3′,4,4′−ジフェ
ニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、3,3′,
4,4′−テトラカルボキシフェニルエーテル二無水
物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ヘ
キサフルオロプロパン酸二無水物、2,3,6,7−ナ
フタレンテトラカルボン酸二無水物、1,3−ビス
(3,4−ジカルボキシフェニル)テトラジメチルシロ
キサンカルボン酸二無水物などが挙げられ、これらは単
独で又は2種以上組み合わせて使用することができる。
テトラカルボン酸二無水物としては、上記のような、脂
肪族テトラカルボン酸二無水物、脂環式テトラカルボン
酸二無水物、一般式(I)で表されるテトラカルボン酸
二無水物及びその他の共重合可能なテトラカルボン酸二
無水物のうち、1種又は2種以上を使用することもでき
る。
Other copolymerizable tetracarboxylic dianhydrides include pyromellitic dianhydride, 3,3 ',
4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, benzophenonetetracarboxylic dianhydride, oxydiphthalic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-diphenylmethanetetracarboxylic dianhydride, 3,3', 4,4'-diphenylsulfonetetracarboxylic dianhydride, 3,3 ',
4,4'-tetracarboxyphenyl ether dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) hexafluoropropanoic dianhydride, 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride And 1,3-bis (3,4-dicarboxyphenyl) tetradimethylsiloxane carboxylic dianhydride. These can be used alone or in combination of two or more.
Examples of the tetracarboxylic dianhydride include the above-mentioned aliphatic tetracarboxylic dianhydride, alicyclic tetracarboxylic dianhydride, tetracarboxylic dianhydride represented by the general formula (I), and others. Among these copolymerizable tetracarboxylic dianhydrides, one or more kinds can be used.

【0020】本発明に用いるポリアミド酸を製造するに
は、上記のジアミン成分のモル数の総和と、上記の酸二
無水物成分のモル数の総和との比を0.8〜1.2の範
囲、好ましくは1.0にして反応させる。上記のジアミ
ン成分と上記の酸二無水物成分を不活性溶媒に溶解して
反応させてポリアミド酸を得る。不活性溶媒としては、
前記の単量体の全てを溶解する必要はないが、生成する
ポリアミド酸を溶解するものが好ましく、例えば、N−
メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミ
ド、N,N−ジメチルアセトアミド、γ−ブチロラクト
ン、ε−カプロラクトン、γ−カプロラクトン、γ−バ
レロラクトン、ジメチルスルホキシド、1,4−ジオキ
サンなどが挙げられ、これらのうち1種又は2種以上を
用いることができる。硬化時の成膜性を良好にするため
に、蒸気圧の高いラクトン系溶媒を溶媒の総重量の30
重量%以上用いることが好ましい。ラクトン系溶媒とし
ては、γ−ブチロラクトン、ε−カプロラクトン、γ−
カプロラクトン、γ−バレロラクトンなどが挙げられ
る。
In order to produce the polyamic acid used in the present invention, the ratio of the total number of moles of the diamine component to the total number of moles of the acid dianhydride component is 0.8 to 1.2. The reaction is carried out within a range, preferably 1.0. The diamine component and the acid dianhydride component are dissolved in an inert solvent and reacted to obtain a polyamic acid. As the inert solvent,
It is not necessary to dissolve all of the above monomers, but it is preferable to dissolve the resulting polyamic acid.
Methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, γ-butyrolactone, ε-caprolactone, γ-caprolactone, γ-valerolactone, dimethylsulfoxide, 1,4-dioxane, and the like. One or more of these can be used. In order to improve the film forming property during curing, a lactone-based solvent having a high vapor pressure is used in an amount of 30% of the total weight of the solvent.
Preferably, it is used in an amount of at least% by weight. Lactone solvents include γ-butyrolactone, ε-caprolactone, γ-
Caprolactone, γ-valerolactone and the like.

【0021】上記溶媒と共に、液晶挟持基板への濡れ性
を向上させるために、他の溶媒を反応前又は反応終了後
に添加することもできる。他の溶媒としては、例えば、
エチルセロソルブ、エチルセロソルブアセテート、ブチ
ルセロソルブ、ブチルセロソルブアセテート、キシレ
ン、トルエン、1−エトキシ−2−アセトキシプロパ
ン、ジイソブチルケトン、メチル−n−ヘキシルケトン
などが挙げられる。
In addition to the above solvent, another solvent can be added before or after the reaction in order to improve the wettability to the liquid crystal sandwiching substrate. Other solvents, for example,
Examples include ethyl cellosolve, ethyl cellosolve acetate, butyl cellosolve, butyl cellosolve acetate, xylene, toluene, 1-ethoxy-2-acetoxypropane, diisobutyl ketone, and methyl-n-hexyl ketone.

【0022】上記のジアミン成分と酸二無水物成分との
反応は、−30℃〜100℃の温度で、30分〜48時
間行うことが好ましい。反応終了後、分子量調整のため
に反応温度60℃〜250℃、好ましくは80℃〜20
0℃、反応時間30分〜72時間で加熱処理を行うこと
が好ましい。本発明においては、成膜時に良好な平坦性
を得るために、ポリアミド酸の重量平均分子量が100
0〜20000となるように分子量調整を行う。本発明
において、重量平均分子量は、ゲルパーミエーションク
ロマトグラフィーにより、標準ポリスチレンの検量線を
利用して測定した標準ポリスチレン換算の重量平均分子
量である。
The reaction between the diamine component and the acid dianhydride component is preferably performed at a temperature of -30 ° C to 100 ° C for 30 minutes to 48 hours. After completion of the reaction, the reaction temperature is adjusted to 60 ° C to 250 ° C, preferably 80 ° C to 20
The heat treatment is preferably performed at 0 ° C. for a reaction time of 30 minutes to 72 hours. In the present invention, the weight average molecular weight of the polyamic acid is 100
The molecular weight is adjusted so as to be 0 to 20,000. In the present invention, the weight average molecular weight is a weight average molecular weight in terms of standard polystyrene measured by gel permeation chromatography using a standard polystyrene calibration curve.

【0023】さらに、良好な平坦性を得るには、固形分
が7〜60重量%で、粘度が30〜1000mPa・s、好
ましくは固形分が10〜50重量%で、粘度が30〜2
50mPa・s、さらに好ましくは固形分が15〜35重量
%で、粘度が30〜60mPa・sの範囲に調整する。
そしてこの調整により成膜時の良好な平坦性と共に、良
好な印刷性を示す樹脂組成物が得られる。
Further, in order to obtain good flatness, the solid content is 7 to 60% by weight and the viscosity is 30 to 1000 mPa · s, preferably the solid content is 10 to 50% by weight and the viscosity is 30 to 2%.
The viscosity is adjusted to 50 mPa · s, more preferably to a solid content of 15 to 35% by weight, and a viscosity of 30 to 60 mPa · s.
By this adjustment, a resin composition exhibiting good printability as well as good flatness during film formation can be obtained.

【0024】本発明の液晶用保護膜兼配向膜は、上記の
ような樹脂組成物を、液晶挟持基板の電極を形成した面
上に印刷法により形成し、加熱乾燥して脱水閉環させて
ポリイミド膜を形成させることによって得られる。ポリ
イミド系樹脂とガラスとの密着性を向上させるために、
ポリアミド酸を含む樹脂組成物にシランカップリング
剤、チタンカップリング剤等のカップリング剤を添加す
ることができる。
The protective film / alignment film for liquid crystal of the present invention is formed by printing the above resin composition on the surface of the liquid crystal sandwiching substrate on which the electrode is formed, heating and drying to dehydrate and close the polyimide. It is obtained by forming a film. In order to improve the adhesion between the polyimide resin and the glass,
Coupling agents such as silane coupling agents and titanium coupling agents can be added to the resin composition containing polyamic acid.

【0025】シランカップリング剤としては、例えば、
γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプ
ロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリプ
ロポキシシラン、γ−アミノプロピルトリブトキシシラ
ン、γ−アミノエチルトリエトキシシラン、γ−アミノ
エチルトリメトキシシラン、γ−アミノエチルトリプロ
ポキシシラン、γ−アミノエチルトリブトキシシラン、
γ−アミノブチルトリエトキシシラン、γ−アミノブチ
ルトリメトキシシラン、γ−アミノブチルトリプロポキ
シシラン、γ−アミノブチルトリブトキシシランなどが
挙げられる。また、チタンカップリング剤としては、例
えば、γ−アミノプロピルトリエトキシチタン、γ−ア
ミノプロピルトリメトキシチタン、γ−アミノプロピル
トリプロポキシチタン、γ−アミノプロピルトリブトキ
シチタン、γ−アミノエチルトリエトキシチタン、γ−
アミノエチルトリメトキシチタン、γ−アミノエチルト
リプロポキシチタン、γ−アミノエチルトリブトキシチ
タン、γ−アミノブチルトリエトキシチタン、γ−アミ
ノブチルトリメトキシチタン、γ−アミノブチルトリプ
ロポキシチタン、γ−アミノブチルトリブトキシチタン
などが挙げられる。上記のようなカップリング剤の使用
量は、ポリアミド酸樹脂に対して0.5〜5重量%の範
囲であることが好ましい。
As the silane coupling agent, for example,
γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltripropoxysilane, γ-aminopropyltributoxysilane, γ-aminoethyltriethoxysilane, γ-aminoethyltrimethoxysilane, γ- Aminoethyltripropoxysilane, γ-aminoethyltributoxysilane,
Examples include γ-aminobutyltriethoxysilane, γ-aminobutyltrimethoxysilane, γ-aminobutyltripropoxysilane, and γ-aminobutyltributoxysilane. Examples of the titanium coupling agent include γ-aminopropyltriethoxytitanium, γ-aminopropyltrimethoxytitanium, γ-aminopropyltripropoxytitanium, γ-aminopropyltributoxytitanium, γ-aminoethyltriethoxytitanium , Γ-
Aminoethyltrimethoxytitanium, γ-aminoethyltripropoxytitanium, γ-aminoethyltributoxytitanium, γ-aminobutyltriethoxytitanium, γ-aminobutyltrimethoxytitanium, γ-aminobutyltripropoxytitanium, γ-aminobutyl And tributoxy titanium. The amount of the coupling agent as described above is preferably in the range of 0.5 to 5% by weight based on the polyamic acid resin.

【0026】樹脂組成物中のポリアミド酸を脱水閉環し
てポリイミド樹脂膜を形成する温度としては、100〜
400℃、好ましくは150〜250℃の範囲で任意に
選択することができる。また、加熱時間は通常1分〜6
時間、好ましくは1分〜3時間とされる。
The temperature at which the polyamide acid in the resin composition is dehydrated and ring-closed to form a polyimide resin film is 100 to 100.
The temperature can be arbitrarily selected in the range of 400 ° C, preferably 150 to 250 ° C. The heating time is usually 1 minute to 6 minutes.
Time, preferably 1 minute to 3 hours.

【0027】本発明の液晶用保護膜兼配向膜は、上記の
樹脂組成物を、予め、例えばITO等の透明電極や櫛歯
電極が形成されたガラス基板上に印刷した後、乾燥、脱
水閉環させてポリイミド層とし、表面をラビングするこ
とによって得られる。膜形成方法としては、フォトリソ
グラフィー工程を必要とせず、パターニング形成が容易
な印刷法によるポリイミド膜形成が好ましく、樹脂組成
物を保持しやすく、液晶挟持基板への転写量も多いフレ
キソ印刷機による樹脂膜製造がさらに好ましい。フレキ
ソ印刷機を用いた印刷樹脂膜の製造法を図8に示す。印
刷に必要な樹脂組成物は、上部のディスペンサ21から
回転しているドクターロール22上に滴下される。滴下
された樹脂組成物は、2本のロールで練られ、アニック
スロール23上で均一な液膜を作る。この液膜は、版胴
24の上に刷版25の版パターンに転写され、さらに版
パターン上の液膜は、下部を通過する被印刷体26上に
転写される。その際、被印刷体26は、テーブル27上
に載せられ、テーブル上下機構28によって適切な高さ
に調節され、矢印の方向に移動する。なお、29は位置
決め画像処理装置である。本発明の液晶表示装置は、本
発明の液晶用保護膜兼配向膜を有する基板を用いて公知
の方法により得ることができる。
The protective film / alignment film for a liquid crystal of the present invention is prepared by printing the above resin composition on a glass substrate on which a transparent electrode such as ITO or a comb electrode is formed in advance, followed by drying and dehydration ring closure. A polyimide layer is obtained by rubbing the surface. As a film forming method, a polyimide film is preferably formed by a printing method that does not require a photolithography step and is easily patterned and formed.The resin composition is easy to hold, and the amount of transfer to a liquid crystal sandwiching substrate is large. Membrane production is more preferred. FIG. 8 shows a method of manufacturing a printing resin film using a flexographic printing machine. The resin composition necessary for printing is dropped from a dispenser 21 on the rotating doctor roll 22. The dropped resin composition is kneaded with two rolls to form a uniform liquid film on the anix roll 23. This liquid film is transferred to the plate pattern of the printing plate 25 on the plate cylinder 24, and the liquid film on the plate pattern is transferred onto the printing medium 26 passing below. At this time, the printing medium 26 is placed on the table 27, adjusted to an appropriate height by the table vertical mechanism 28, and moves in the direction of the arrow. Reference numeral 29 denotes a positioning image processing device. The liquid crystal display device of the present invention can be obtained by a known method using the substrate having the protective film and alignment film for liquid crystal of the present invention.

【0028】次に、図面を参照して本発明をさらに詳細
に説明する。図1は本発明の液晶表示装置内での液晶の
動作の説明図である。図1(a)及び(b)は本発明の
液晶表示装置内での液晶の動作を示す液晶挟持基板の側
断面図であり、図1(c)及び(d)は電極を有する液
晶挟持基板の正面図である。本発明の液晶表示装置は、
一般に複数の画素で構成されるが、ここでは一画素部分
のみを示す。電界無印加時のセルの側断面を図1(a)
に、その時の正面図を図1(c)に示す。
Next, the present invention will be described in more detail with reference to the drawings. FIG. 1 is an explanatory diagram of the operation of the liquid crystal in the liquid crystal display device of the present invention. 1 (a) and 1 (b) are side sectional views of a liquid crystal sandwiching substrate showing an operation of a liquid crystal in the liquid crystal display device of the present invention, and FIGS. 1 (c) and 1 (d) are liquid crystal sandwiching substrates having electrodes. FIG. The liquid crystal display device of the present invention
Generally, it is composed of a plurality of pixels, but here only one pixel portion is shown. FIG. 1 (a) is a side sectional view of the cell when no electric field is applied.
FIG. 1C shows a front view at that time.

【0029】ガラス基板1の内側に線状の共通電極2の
上にゲート絶縁膜3が形成され、その上に信号電極4及
び画像電極5が形成され、その上に本発明の液晶用保護
膜兼配向膜6が形成されて一方の液晶挟持基板が構成さ
れており、基板1に液晶用保護膜兼配向膜6が形成され
て他方の液晶挟持基板が形成されている。各液晶挟持基
板の裏面には偏光板8が積層されている。図1では電極
2及び5を片側の基板に設けたが、両側の基板に設けて
もよい。棒状の液晶分子7は、液晶用保護膜兼配向膜6
との結合により両基板界面において共に電極2及び5の
長手方向(図1(c)正面図)に若干の角度を持つ矢印
9の方向に配向制御されており、電界無印加時には液晶
層内でほぼ一様にこの方向に向いた状態となっている。
ここで、駆動手段により画素電極5と共通電極2にそれ
ぞれ異なる電位を与え、それらの間の電位差により液晶
組成物層に矢印10の方向に電界を印加すると、液晶組
成物が持つ誘電異方性と電界との相互作用により図1
(b)及び(d)に示したように液晶分子は電界方向に
その向きを変える。このとき液晶組成物の屈折率異方性
と偏光板8の作用によって液晶素子の光学特性が変化す
る。図1(c)及び(d)において、ゲート絶縁膜は透
明であり、図示していない。
A gate insulating film 3 is formed on a linear common electrode 2 inside a glass substrate 1, a signal electrode 4 and an image electrode 5 are formed thereon, and a liquid crystal protective film of the present invention is formed thereon. One of the liquid crystal sandwiching substrates is formed by forming the liquid crystal sandwiching substrate 6, and the liquid crystal protecting film and the alignment film 6 is formed on the substrate 1, and the other liquid crystal sandwiching substrate is formed. A polarizing plate 8 is laminated on the back surface of each liquid crystal holding substrate. In FIG. 1, the electrodes 2 and 5 are provided on one substrate, but may be provided on both substrates. The rod-shaped liquid crystal molecules 7 are used as the protective film and alignment film 6 for liquid crystal.
At the interface between both substrates, the alignment is controlled in the direction of arrow 9 having a slight angle in the longitudinal direction of the electrodes 2 and 5 (the front view of FIG. 1 (c)). It is almost uniformly oriented in this direction.
Here, different potentials are respectively applied to the pixel electrode 5 and the common electrode 2 by the driving means, and an electric field is applied to the liquid crystal composition layer in the direction of the arrow 10 due to the potential difference between them. Fig. 1
As shown in (b) and (d), the liquid crystal molecules change their directions in the direction of the electric field. At this time, the optical properties of the liquid crystal element change due to the refractive index anisotropy of the liquid crystal composition and the action of the polarizing plate 8. 1C and 1D, the gate insulating film is transparent and is not shown.

【0030】次に、基板間のセルギャップが特に輝度む
らに影響する理由は、図2に模式的に示すように、液晶
表示装置内の電極間に加える電圧を変化させたときに表
示輝度の変化が発生するためである。すなわち、液晶表
示装置には、基板上に形成される各種の電極、薄膜トラ
ンジスタ、カラーフィルタの凹凸などによって0.3〜
1.0μm程度の基板間ギャップの変動(±Δd)が生
じる。基板間ギャップが、中心値dから±Δd変化した
場合の閾値電圧の変化ΔVc及び表示輝度の最大輝度値
の半分となる電圧ΔV50にも特に影響し、輝度むらが
起こる要因となっている。
Next, the reason why the cell gap between the substrates particularly affects the luminance unevenness is that, as schematically shown in FIG. 2, when the voltage applied between the electrodes in the liquid crystal display device is changed, the display luminance is reduced. This is because a change occurs. That is, the liquid crystal display device has a thickness of 0.3 to 0.3 due to various electrodes formed on the substrate, thin film transistors, and unevenness of the color filter.
A fluctuation (± Δd) of the gap between substrates of about 1.0 μm occurs. Gap between the substrates, also particularly sensitive to the voltage [Delta] V 50 which is half of the maximum luminance value of the change in ΔVc and display brightness threshold voltage when the center value d is changed ± [Delta] d, which is a factor that luminance unevenness occurs.

【0031】そこで、本発明においては、従来の膜厚が
0.1μm以下でかつ重量平均分子量が大きい液晶配向
膜とは異なり、重量平均分子量が20000以下のポリ
アミド酸を用いて印刷法によってパターニングされた膜
厚が0.3μm以上の膜を形成した後、乾燥、脱水閉
環、ラビングによって液晶用保護膜兼配向膜とすること
によって、基板の凹凸を平坦化し、セルギャップをコン
トロールするスペーサービーズを少量で制御し、液晶表
示装置のコントラストも大幅に向上することを可能にし
たものである。
Therefore, in the present invention, unlike a conventional liquid crystal alignment film having a film thickness of 0.1 μm or less and a large weight average molecular weight, it is patterned by a printing method using a polyamic acid having a weight average molecular weight of 20,000 or less. After forming a film having a film thickness of 0.3 μm or more, a protective film for liquid crystal and an alignment film are formed by drying, dehydration ring closure, and rubbing, thereby flattening the unevenness of the substrate and using a small amount of spacer beads for controlling the cell gap. And the contrast of the liquid crystal display device can be greatly improved.

【0032】図3及び図4はそれぞれ、従来及び本発明
の液晶表示装置内のスペーサービーズの分散状態を示す
セル断面図である。図3において、ガラス基板1上にブ
ラックマトリクス12が形成され、さらにカラーフィル
タ13の層が形成されており、さらにその上にカラーフ
ィルタ保護膜14及び液晶配向膜15を順次形成して一
方の液晶挟持基板が形成されている。また、ガラス基板
1上に共通電極2、ゲート絶縁膜3が形成され、さらに
その上に、画素電極5が形成され、さらに、絶縁保護膜
16及び液晶配向膜15を順次形成して他方の液晶挟持
基板が形成されている。これらの液晶挟持基板に挟まれ
て液晶が保持され、その中にスペーサビーズ17が配分
されている。図4においては、ガラス基板1上にブラッ
クマトリクス12が形成され、さらにカラーフィルタ1
3の層が形成されており、さらにその上に本発明に係る
液晶用保護膜兼配向膜(カラーフィルタ保護膜兼液晶配
向膜)6を順次形成して一方の液晶挟持基板が形成され
ている。また、ガラス基板1上に共通電極2、ゲート絶
縁膜3が形成され、さらにその上に、画素電極5が形成
され、さらに、絶縁保護膜16及び本発明に係る液晶用
保護膜兼配向膜6を順次形成して他方の液晶挟持基板が
形成されている。これらの液晶挟持基板に挟まれて液晶
が保持され、その中にスペーサビーズ17が配分されて
いる。
FIGS. 3 and 4 are cell cross-sectional views showing the dispersion state of spacer beads in the liquid crystal display devices of the prior art and the present invention, respectively. In FIG. 3, a black matrix 12 is formed on a glass substrate 1, a layer of a color filter 13 is further formed, and a color filter protective film 14 and a liquid crystal alignment film 15 are sequentially formed thereon to form one liquid crystal. A holding substrate is formed. Further, a common electrode 2 and a gate insulating film 3 are formed on a glass substrate 1, a pixel electrode 5 is further formed thereon, and an insulating protective film 16 and a liquid crystal alignment film 15 are sequentially formed to form the other liquid crystal. A holding substrate is formed. Liquid crystal is held between these liquid crystal holding substrates, and spacer beads 17 are distributed therein. In FIG. 4, a black matrix 12 is formed on a glass substrate 1 and a color filter 1 is formed.
3 is formed thereon, and a protective film / alignment film for a liquid crystal (a color filter protective film / liquid crystal alignment film) 6 according to the present invention is sequentially formed thereon to form one liquid crystal sandwiching substrate. . Further, a common electrode 2 and a gate insulating film 3 are formed on a glass substrate 1, a pixel electrode 5 is further formed thereon, and an insulating protective film 16 and a liquid crystal protective film and alignment film 6 according to the present invention are further formed. Are sequentially formed to form the other liquid crystal holding substrate. Liquid crystal is held between these liquid crystal holding substrates, and spacer beads 17 are distributed therein.

【0033】図3と図4を比較して明らかなように、本
発明における液晶用保護膜兼配向膜は膜厚を大きくする
ことができるので、表面を平坦化することができ、スペ
ーサビーズ17が少量でも充分にその役目を果たすこと
ができる。すなわち、著しく少量のスペーサービーズ1
7でセルギャップを適切に制御・維持することができ
る。
As is apparent from a comparison between FIG. 3 and FIG. 4, since the thickness of the liquid crystal protective film / alignment film of the present invention can be increased, the surface can be flattened and the spacer beads 17 can be formed. Can sufficiently fulfill its role even in small quantities. That is, a very small amount of spacer beads 1
7, the cell gap can be appropriately controlled and maintained.

【0034】[0034]

【実施例】次に、本発明を実施例に基づいてさらに詳細
に説明するが、本発明はこれらによって制限されるもの
ではない。
Next, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited by these examples.

【0035】合成例1 温度計、攪拌装置、冷却管及び窒素導入管を備えた四つ
口フラスコ内でイソフタロジルジヒドラジド2.912
9g(0.015モル)及び4,4′−ジアミノジフェ
ニルスルフィド7.5709g(0.035モル)をγ
−ブチロラクトン30.586g中に溶解させ、これに
1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸二無水物9.
9066(0.05モル)を加え、室温で8時間攪拌し
て反応させてポリアミド酸を生成させた。得られたポリ
アミド酸樹脂組成物を130℃で1時間加熱処理した。
得られた樹脂組成物は、固形分濃度40重量%で、粘度
220mPa・s(25℃)であり、ポリアミド酸の重量平
均分子量(標準ポリスチレン換算重量平均分子量、以下
同様)は、5100であった。次に、この総固形分40
重量%のポリアミド酸樹脂組成物をガラス基板に300
0rpmでスピンコートし、80℃で10分間、220℃
で30分間熱処理して、厚さ2.66μmのポリイミド
樹脂膜を形成した。このポリイミド樹脂膜について(株)
日立製作所製分光光度計UL−3410で光透過率を測
定したところ、400〜800nmで96.0%以上と良
好な透過性を示した。
Synthesis Example 1 Isophthalodil dihydrazide 2.912 in a four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer, a condenser and a nitrogen inlet tube.
9 g (0.015 mol) and 7.5709 g (0.035 mol) of 4,4'-diaminodiphenyl sulfide
-Butyrolactone is dissolved in 30.586 g, and 1,2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride is added thereto.
9066 (0.05 mol) was added, and the mixture was stirred and reacted at room temperature for 8 hours to produce a polyamic acid. The obtained polyamic acid resin composition was heated at 130 ° C. for 1 hour.
The obtained resin composition had a solid content of 40% by weight, a viscosity of 220 mPa · s (25 ° C.), and a weight average molecular weight of polyamic acid (weight average molecular weight in terms of standard polystyrene, the same applies hereinafter) of 5,100. . Next, this total solid content 40
Weight% of a polyamic acid resin composition on a glass substrate
Spin coat at 0 rpm, 220 ° C for 10 minutes at 80 ° C
For 30 minutes to form a polyimide resin film having a thickness of 2.66 μm. About this polyimide resin film
When the light transmittance was measured with a spectrophotometer UL-3410 manufactured by Hitachi, Ltd., it showed a good transmittance of 96.0% or more at 400 to 800 nm.

【0036】実施例1 よく表面を研磨したガラス基板#7059(200mm×
270mm×1.1mm厚)を2枚用いる。一方の基板上に
公知方法で、横電界を印加できるアモルファスシリコン
−薄膜トランジスタ及び配線電極からなるマトリクス素
子を形成した。ここで用いた薄膜トランジスタ及び各種
電極の構造を図5〜図7に示す。図5は基板面に垂直な
方向から見たマトリクス素子の正面図、図6は図5のA
−A線断面図、図7は図5のB−B線断面図である。薄
膜トランジスタ18は、画素電極(ソース電極)5、信
号電極(ドレイン電極)4、走査電極(ゲート電極)1
9及びアモルファスシリコン20から構成される。共通
電極2と走査電極19及び信号電極4と画素電極5と
は、それぞれ同一の金属層をパターン化して構成した。
画素電極5は、図5に示したように、3本の共通電極2
の間に配置されている。画素ピッチは、横方向(すなわ
ち、信号電極間)は100μm、縦方向(すなわち、走
査電極間)は300μmとした。一方、開口率向上のた
めに1画素単位で独立に形成した画素電極及び共通電極
の信号配線電極の長手方向に延びた部分の幅は、若干狭
くし、それぞれ5μm、6μmとした。信号電極4と共
通電極2とは、絶縁膜を介して2μmの間隔を設けた。
このとき、画素数は640×3(R、G、B)本の信号
配線電極と480本の配線電極とにより640×3×4
80個とした。なお、電極の高さは、0.6μmであっ
た。
Example 1 A glass substrate # 7059 (200 mm ×
(270 mm × 1.1 mm thick) are used. A matrix element including an amorphous silicon thin film transistor to which a horizontal electric field can be applied and a wiring electrode was formed on one substrate by a known method. The structures of the thin film transistor and various electrodes used here are shown in FIGS. FIG. 5 is a front view of the matrix element viewed from a direction perpendicular to the substrate surface, and FIG.
FIG. 7 is a sectional view taken along line BB of FIG. 5. The thin film transistor 18 includes a pixel electrode (source electrode) 5, a signal electrode (drain electrode) 4, a scanning electrode (gate electrode) 1
9 and amorphous silicon 20. The common electrode 2 and the scanning electrode 19 and the signal electrode 4 and the pixel electrode 5 were formed by patterning the same metal layer.
The pixel electrode 5 has three common electrodes 2 as shown in FIG.
It is located between. The pixel pitch was 100 μm in the horizontal direction (that is, between signal electrodes) and 300 μm in the vertical direction (that is, between scan electrodes). On the other hand, the widths of the pixel electrode and the common electrode extending in the longitudinal direction of the pixel electrode and the common electrode, which are independently formed in units of one pixel in order to improve the aperture ratio, are slightly reduced to 5 μm and 6 μm, respectively. The signal electrode 4 and the common electrode 2 were provided with an interval of 2 μm via an insulating film.
At this time, the number of pixels is 640 × 3 × 4 by 640 × 3 (R, G, B) signal wiring electrodes and 480 wiring electrodes.
80 pieces. The height of the electrode was 0.6 μm.

【0037】このようにして作製した薄膜トランジスタ
付き基板に、合成例1で作製した固形分40重量%のポ
リアミド酸樹脂組成物にγ−アミノプロピルトリエトキ
シシランを樹脂分の2重量%添加した樹脂組成物を用い
て、フレキソ印刷法により樹脂膜を形成した。条件は、
アニッロクス:400メッシュ、刷版:150mm×20
0mm×2.2mm厚、300メッシュ30%(小村製版株
式会社製)、アニックスロール−版ニップ幅7mm、ドク
ターロール−アニックスロール幅0.2mmとした。形成
された印刷膜を80℃で10分間、220℃で30分間
加熱してポリイミド膜を得た。得られたポリイミド膜の
表面は、極めて平滑であり、触針式膜厚測定計( Solan
Technology Co. LTD.製、Dektak3030)で測定したとこ
ろ、膜厚3.0μmに対し0.10μmの凹凸を示し、
段差が軽減された。
A resin composition obtained by adding 2% by weight of γ-aminopropyltriethoxysilane to the polyamic acid resin composition having a solid content of 40% by weight prepared in Synthesis Example 1 to the substrate with a thin film transistor thus prepared. Using the material, a resin film was formed by flexographic printing. condition is,
Anilox: 400 mesh, printing plate: 150 mm x 20
The thickness was 0 mm x 2.2 mm, 300% mesh, 30% (manufactured by Komura Seiki Co., Ltd.), an anis roll-plate nip width 7 mm, and a doctor roll-anix roll width 0.2 mm. The formed print film was heated at 80 ° C. for 10 minutes and at 220 ° C. for 30 minutes to obtain a polyimide film. The surface of the obtained polyimide film is extremely smooth, and a stylus-type film thickness measurement device (Solan
Technology Co. LTD., Dektak3030) showed a thickness of 3.0 μm, showing irregularities of 0.10 μm,
The steps have been reduced.

【0038】また、もう一方のガラス基板には、遮光層
としてキャボット社製カーボン微粒子( MONARCH80
0、粒径16nm)を1重量%混合したエポキシ樹脂を用
い、カラーフィルタ発色用顔料としてはPD−170
(日立化成工業社製、商品名)を用いて、遮光層の幅が
20μm、高さが0.52μm、一つの画素が80μm
×280μmの赤、緑及び青色の三色からなるストライ
プ状に画素が並んだカラーフィルタを作製した。このカ
ラーフィルタ基板に前記の合成例1で作製した固形分4
0重量%のポリアミド酸樹脂組成物にγ−アミノプロピ
ルトリエトキシシランを樹脂分の2重量%添加した樹脂
組成物を用いて、フレキソ印刷法によりカラーフィルタ
保護膜層(ポリイミド膜)を形成した。その結果、膜厚
3.0μmに対し、0.13μmの凹凸を示し、段差が
軽減された。
On the other glass substrate, carbon fine particles manufactured by Cabot Corporation (MONARCH80) were used as a light shielding layer.
0, a particle diameter of 16 nm) and 1% by weight of an epoxy resin, and PD-170 as a color filter coloring pigment.
(Hitachi Kasei Kogyo Co., Ltd., trade name), the width of the light shielding layer is 20 μm, the height is 0.52 μm, and one pixel is 80 μm.
A color filter in which pixels were arranged in stripes of three colors of red, green, and blue of 280 μm was produced. The solid content of 4 prepared in Synthesis Example 1 above was added to this color filter substrate.
A color filter protective film layer (polyimide film) was formed by flexographic printing using a resin composition in which 2% by weight of γ-aminopropyltriethoxysilane was added to a 0% by weight polyamic acid resin composition. As a result, the unevenness was 0.13 μm with respect to the film thickness of 3.0 μm, and the step was reduced.

【0039】上記のポリイミド膜の表面をラビング処理
(ロール押込み量0.4mm、ロール回転速度600rp
m、基板移動速度420mm/分、ラビング回数1回)し
て保護膜兼配向膜として液晶挟持基板を得た。ラビング
後、ポリイミド膜には膜剥離がみられず、良好な密着性
を示した。上下界面上のラビング方向は互いにほぼ平行
で、かつ印加電圧方向となす角度を85度とした。この
液晶挟持基板を組み合わせ、周りを熱硬化性接着剤スト
ラクトボンドXN−21−S(三井東圧化学株式会社
製、商品名)で封止し、150℃で1.5時間加熱硬化
させた後、液晶セルを形成した。この際、液晶セルのギ
ャップを一定に保つために、直径4.0μmのポリマー
ビーズをスペーサーとして介在させた。この基板間に液
晶MLC−2027(メルク社製、商品名)を真空含浸
法で注入した。液晶MLC−2027のTNI以上の温度
である100℃で1時間熱処理して液晶表示素子を形成
した。その後、2枚の偏光板(日東電工社製GI220
D)でパネルを挟み、直交としてノーマリクローズ特性
とした。モジュール化して特性を評価したところ、その
コントラスト比は100:1と充分高く、配向の不均一
性やリバースチルトドメインなどの配向不良、液晶の汚
染に伴う表示むらは一切発生しなかった。また、ギャッ
プ不良による輝度むらも全く視認されず、均一性の高い
表示が得られた。
The surface of the above polyimide film is subjected to a rubbing treatment (roll indentation 0.4 mm, roll rotation speed 600 rp).
m, the substrate moving speed was 420 mm / min, and rubbing was performed once) to obtain a liquid crystal sandwiching substrate as a protective film and an alignment film. After rubbing, the polyimide film did not peel off and showed good adhesion. The rubbing directions on the upper and lower interfaces were substantially parallel to each other, and the angle between the rubbing directions and the applied voltage direction was 85 degrees. This liquid crystal sandwiching substrate is combined, the periphery is sealed with a thermosetting adhesive Struct Bond XN-21-S (trade name, manufactured by Mitsui Toatsu Chemical Co., Ltd.), and after heating and curing at 150 ° C. for 1.5 hours, A liquid crystal cell was formed. At this time, in order to keep the gap of the liquid crystal cell constant, polymer beads having a diameter of 4.0 μm were interposed as spacers. Liquid crystal MLC-2027 (trade name, manufactured by Merck) was injected between the substrates by a vacuum impregnation method. To form a liquid crystal display element was heat-treated for 1 hour at 100 ° C. is a T NI above the temperature of the liquid crystal MLC-2027. Then, two polarizing plates (GI220 manufactured by Nitto Denko Corporation)
D) sandwiched the panel, and set it as a normally-closed characteristic as orthogonal. When the characteristics were evaluated by modularization, the contrast ratio was sufficiently high at 100: 1, and non-uniformity of alignment, poor alignment such as reverse tilt domain, and display unevenness due to contamination of liquid crystal did not occur at all. In addition, luminance unevenness due to a gap defect was not visually recognized at all, and a display with high uniformity was obtained.

【0040】合成例2 温度計、攪拌装置、冷却管及び窒素導入管を備えた四つ
口フラスコ内でp−フェニルジアミン10.810g
(0.10モル)、4,4′−ジアミノジフェニルスル
ホン24.830g(0.10モル)、3,3′,4,
4′−ビスシクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物4
2.884g(0.14モル)及びデカメチレントリメ
リテート酸二無水物31.350g(0.06モル)を
N−メチル−2−ピロリドン439.496g中に溶解
させ、室温で8時間攪拌して反応させてポリアミド酸を
生成させた。得られたポリアミド酸樹脂組成物を130
℃で1時間加熱処理した。得られた樹脂組成物は、固形
分濃度20重量%で、粘度78.6mPa・s(25℃)で
あり、ポリアミド酸の重量平均分子量は、15000で
あった。次に、この総固形分20重量%のポリアミド酸
樹脂組成物をガラス基板に1000rpmでスピンコート
し、80℃で10分間、220℃で30分間熱処理し
て、厚さ1.19μmのポリイミド膜を形成した。この
ポリイミド膜について実施例1と同様の方法で光透過率
を測定したところ、400〜800nmで90.0%以上
と良好な透過性を示した。
Synthesis Example 2 10.810 g of p-phenyldiamine in a four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer, a condenser and a nitrogen inlet tube
(0.10 mol), 24.830 g (0.10 mol) of 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3 ', 4,4
4'-biscyclohexanetetracarboxylic dianhydride 4
2.884 g (0.14 mol) and 31.350 g (0.06 mol) of decamethylene trimellitate dianhydride are dissolved in 439.496 g of N-methyl-2-pyrrolidone and stirred at room temperature for 8 hours. To produce a polyamic acid. 130 parts of the obtained polyamic acid resin composition
Heat treatment was performed at 1 ° C for 1 hour. The obtained resin composition had a solid content of 20% by weight, a viscosity of 78.6 mPa · s (25 ° C.), and a weight average molecular weight of the polyamic acid of 15,000. Next, this polyamic acid resin composition having a total solid content of 20% by weight was spin-coated on a glass substrate at 1000 rpm and heat-treated at 80 ° C. for 10 minutes and at 220 ° C. for 30 minutes to form a 1.19 μm-thick polyimide film. Formed. The light transmittance of this polyimide film was measured in the same manner as in Example 1. As a result, good transmittance of 90.0% or more at 400 to 800 nm was shown.

【0041】実施例2 合成例2で作製した固形分20重量%のポリアミド酸樹
脂組成物をブチルセロソルブにより固形分15重量%ま
で希釈し、γ−アミノプロピルトリエトキシシランを樹
脂分の2重量%添加したところ、粘度は25mPa・s(2
5℃)となった。こうして作製した固形分15重量%の
ポリアミド酸樹脂組成物を用いて実施例1で作製した薄
層トランジスタ付き基板に、実施例1と同様の条件でフ
レキソ印刷により膜を形成した。形成された膜を80℃
で10分、220℃で30分硬化させてポリイミド膜を
得た。得られたポリイミド膜の表面は極めて平滑であ
り、膜厚0.72μmに対し、0.25μmの凹凸を示
し、段差が軽減された。また、実施例1で製作したカラ
ーフィルタ基板に、実施例1と同様の条件でフレキソ印
刷により膜を形成した。得られたポリイミド膜の表面
は、極めて平滑であり、膜厚0.72μmに対し、0.
28μmの凹凸を示し、段差が軽減された。
Example 2 The polyamic acid resin composition having a solid content of 20% by weight prepared in Synthesis Example 2 was diluted with butyl cellosolve to a solid content of 15% by weight, and γ-aminopropyltriethoxysilane was added at 2% by weight of the resin. As a result, the viscosity was 25 mPa · s (2
5 ° C.). A film was formed by flexographic printing on the substrate with a thin-layer transistor manufactured in Example 1 using the polyamic acid resin composition having a solid content of 15% by weight thus manufactured under the same conditions as in Example 1. 80 ° C.
And cured at 220 ° C. for 30 minutes to obtain a polyimide film. The surface of the obtained polyimide film was extremely smooth, showing irregularities of 0.25 μm with respect to the film thickness of 0.72 μm, and the step was reduced. Further, a film was formed on the color filter substrate manufactured in Example 1 by flexographic printing under the same conditions as in Example 1. The surface of the obtained polyimide film is extremely smooth, and the surface of the polyimide film has a thickness of 0.72 μm.
The unevenness was 28 μm, and the step was reduced.

【0042】これらの基板を用いて、実施例1と同様の
方法で液晶表示素子を形成し、モジュール化して特性を
評価したところ、そのコントラストは85:1と充分に
高く、配向の不均一性やリバースチルトドメインなどの
配向不良、液晶の汚染に伴う表示むらは一切発生しなか
った。また、ギャップ不良による輝度むらも視認され
ず、均一性の高い表示が得られた。
Using these substrates, a liquid crystal display device was formed in the same manner as in Example 1, and the characteristics were evaluated by modularization. The contrast was 85: 1, and the contrast was sufficiently high. There was no display unevenness due to poor alignment such as a reverse tilt domain or reverse tilt domain, and contamination of liquid crystal. In addition, uneven brightness due to gap failure was not visually recognized, and a display with high uniformity was obtained.

【0043】合成例3 温度計、攪拌装置、冷却管及び窒素導入管を備えた四つ
口フラスコ内で1,8−オクチルジアミン3.029g
(0.021モル)及び4,4′−ジアミノジフェニル
スルフィド1.9468g(0.009モル)をγ−ブ
チロラクトン25.4795g中に溶解させ、これに
1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸二無水物5.
9440g(0.03モル)を加え、室温で8時間攪拌
して反応させてポリアミド酸を生成させた。得られたポ
リアミド酸樹脂組成物を130℃で1時間加熱処理し
た。得られた樹脂組成物は、固形分濃度30重量%で、
粘度116mPa・s(25℃)であり、ポリアミド酸の重
量平均分子量は、6800であった。この固形分30重
量%のポリアミド酸樹脂組成物をガラス基板に1000
rpmでスピンコートし、80℃で10分間、220℃で
30分間熱処理して、膜厚1.86μmのポリイミド膜
を形成した。このポリイミド膜について、実施例1と同
様の方法で光透過率を測定したところ、400〜800
nmで90.0%以上と良好な透過性を示した。
Synthesis Example 3 3.029 g of 1,8-octyldiamine in a four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer, a cooling tube and a nitrogen inlet tube.
(0.021 mol) and 1.9468 g (0.009 mol) of 4,4'-diaminodiphenyl sulfide are dissolved in 25.479 g of γ-butyrolactone, and 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid is added thereto. Dianhydride5.
9440 g (0.03 mol) was added, and the mixture was stirred and reacted at room temperature for 8 hours to produce a polyamic acid. The obtained polyamic acid resin composition was heated at 130 ° C. for 1 hour. The obtained resin composition has a solid content of 30% by weight,
The viscosity was 116 mPa · s (25 ° C.), and the weight average molecular weight of the polyamic acid was 6,800. This polyamic acid resin composition having a solid content of 30% by weight was
Spin coating was performed at rpm, and heat treatment was performed at 80 ° C. for 10 minutes and at 220 ° C. for 30 minutes to form a 1.86 μm-thick polyimide film. When the light transmittance of this polyimide film was measured in the same manner as in Example 1, the light transmittance was 400 to 800.
It showed good transmittance of 90.0% or more in nm.

【0044】実施例3 合成例3で作製した固形分30重量%のポリアミド酸樹
脂組成物をブチルセロソルブにより固形分25重量%ま
で希釈し、γ−アミノプロピルトリエトキシシランを樹
脂分の2重量%添加したところ、粘度は35mPa・s(2
5℃)となった。こうして作製した固形分25重量%の
ポリアミド酸樹脂組成物を用いて、実施例1で作製した
薄膜トランジスタ付き基板に、実施例1と同様の条件で
フレキソ印刷により膜を形成した。形成された膜を80
℃で10分、220℃で30分硬化させてポリイミド膜
を得た。得られたポリイミド膜の表面は、極めて平滑で
あり、膜厚1.53μmに対し、0.18μmの凹凸を
示し、段差が軽減された。また、実施例1で製作したカ
ラーフィルタ基板に、実施例1と同様の条件でフレキソ
印刷により膜を形成した。得られたポリイミド膜の表面
は、極めて平滑であり、膜厚1.53μmに対し、0.
22μmの凹凸を示し、段差が軽減された。
Example 3 The polyamic acid resin composition having a solid content of 30% by weight prepared in Synthesis Example 3 was diluted with butyl cellosolve to a solid content of 25% by weight, and γ-aminopropyltriethoxysilane was added at 2% by weight of the resin. As a result, the viscosity became 35 mPa · s (2
5 ° C.). Using the polyamic acid resin composition having a solid content of 25% by weight thus manufactured, a film was formed on the substrate with a thin film transistor manufactured in Example 1 by flexographic printing under the same conditions as in Example 1. 80
Curing was performed at 10 ° C. for 10 minutes and at 220 ° C. for 30 minutes to obtain a polyimide film. The surface of the obtained polyimide film was extremely smooth, showing irregularities of 0.18 μm with respect to the film thickness of 1.53 μm, and the step was reduced. Further, a film was formed on the color filter substrate manufactured in Example 1 by flexographic printing under the same conditions as in Example 1. The surface of the obtained polyimide film is extremely smooth, and the surface of the polyimide film has a thickness of 1.53 μm.
The unevenness was 22 μm, and the step was reduced.

【0045】これらの基板を用いて、実施例1と同様の
方法で液晶表示素子を形成し、モジュール化して特性を
評価したところ、そのコントラストは90:1と充分に
高く、配向の不均一性やリバースチルトドメインなどの
配向不良、液晶の汚染に伴う表示むらは一切発生しなか
った。また、ギャップ不良による輝度むらも視認され
ず、均一性の高い表示が得られた。
Using these substrates, a liquid crystal display device was formed in the same manner as in Example 1, and the characteristics were evaluated by modularization. The contrast was sufficiently high at 90: 1, and the alignment was non-uniform. There was no display unevenness due to poor alignment such as a reverse tilt domain or reverse tilt domain, and contamination of liquid crystal. In addition, uneven brightness due to gap failure was not visually recognized, and a display with high uniformity was obtained.

【0046】合成例4 温度計、攪拌装置、冷却管及び窒素導入管を備えた四つ
口フラスコ内で2,4−ジアミノジフェニルエーテル1
2.648g(0.063モル)及び2.2−ビス(4
−アミノフェノキシ)ヘキサフルオロプロパン14.0
76g(0.042モル)をγ−ブチロラクトン140
g中に溶解させ、これにオキシジフタル酸二無水物3
1.026g(0.1モル)及び1,3−ビス(3,4
−ジカルボキシフェニル)テトラメチルジシロキサン二
無水物2.244g(0.0053モル)を加え、室温
で8時間攪拌して反応させてポリアミド酸を生成させ
た。得られたポリアミド酸樹脂組成物を150℃で0.
5時間加熱処理した。得られた樹脂組成物は、固形分濃
度30重量%で、粘度350mPa・s(25℃)であり、
ポリアミド酸の重量平均分子量は、18000であっ
た。この固形分30重量%のポリアミド酸樹脂組成物を
ガラス基板に1500rpmでスピンコートし、80℃で
10分間、220℃で30分間熱処理して、膜厚1.7
8μmのポリイミド膜を形成した。このポリイミド膜に
ついて、実施例1と同様の方法で光透過率を測定したと
ころ、400〜800nmで92.0%以上と良好な透過
性を示した。
Synthesis Example 4 2,4-Diaminodiphenyl ether 1 was placed in a four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer, a condenser, and a nitrogen inlet.
2.648 g (0.063 mol) and 2.2-bis (4
-Aminophenoxy) hexafluoropropane 14.0
76 g (0.042 mol) of γ-butyrolactone 140
g of oxydiphthalic dianhydride 3
1.026 g (0.1 mol) and 1,3-bis (3,4
2.244 g (0.0053 mol) of (-dicarboxyphenyl) tetramethyldisiloxane dianhydride was added, and the mixture was stirred and reacted at room temperature for 8 hours to produce a polyamic acid. The obtained polyamic acid resin composition was dried at 150 ° C. for 0.1 hour.
Heat treatment was performed for 5 hours. The resulting resin composition had a solid content of 30% by weight and a viscosity of 350 mPa · s (25 ° C.)
The weight average molecular weight of the polyamic acid was 18,000. The polyamic acid resin composition having a solid content of 30% by weight was spin-coated on a glass substrate at 1500 rpm, and heat-treated at 80 ° C. for 10 minutes and at 220 ° C. for 30 minutes to obtain a film thickness of 1.7.
An 8 μm polyimide film was formed. The light transmittance of this polyimide film was measured in the same manner as in Example 1. As a result, good transmittance of 92.0% or more at 400 to 800 nm was shown.

【0047】実施例4 合成例4で作製した固形分30重量%のポリアミド酸樹
脂組成物をブチルセロソルブにより固形分20重量%ま
で希釈し、γ−アミノプロピルトリエトキシシランを樹
脂分の2重量%添加したところ、粘度は45mPa・s(2
5℃)となった。こうして作製した固形分20重量%の
ポリアミド酸樹脂組成物を用いて、実施例1で作製した
薄膜トランジスタ付き基板に、実施例1と同様の条件で
フレキソ印刷により膜を形成した。形成された膜を80
℃で10分、220℃で30分硬化させてポリイミド膜
を得た。得られたポリイミド膜の表面は、極めて平滑で
あり、膜厚1.0μmに対し、0.22μmの凹凸を示
し、段差が軽減された。また、実施例1で製作したカラ
ーフィルタ基板に、実施例1と同様の条件でフレキソ印
刷により膜を形成した。得られたポリイミド膜の表面
は、極めて平滑であり、膜厚1.0μmに対し、0.2
4μmの凹凸を示し、段差が軽減された。
Example 4 The polyamic acid resin composition having a solid content of 30% by weight prepared in Synthesis Example 4 was diluted with butyl cellosolve to a solid content of 20% by weight, and γ-aminopropyltriethoxysilane was added at 2% by weight of the resin. As a result, the viscosity became 45 mPa · s (2
5 ° C.). Using the polyamic acid resin composition having a solid content of 20% by weight thus produced, a film was formed on the substrate with a thin film transistor produced in Example 1 by flexographic printing under the same conditions as in Example 1. 80
Curing was performed at 10 ° C. for 10 minutes and at 220 ° C. for 30 minutes to obtain a polyimide film. The surface of the obtained polyimide film was extremely smooth, showing irregularities of 0.22 μm with respect to the film thickness of 1.0 μm, and the step was reduced. Further, a film was formed on the color filter substrate manufactured in Example 1 by flexographic printing under the same conditions as in Example 1. The surface of the obtained polyimide film is extremely smooth,
The unevenness was 4 μm, and the step was reduced.

【0048】これらの基板を用いて、実施例1と同様の
方法で液晶表示素子を形成し、モジュール化して特性を
評価したところ、そのコントラストは90:1と充分に
高く、配向の不均一性やリバースチルトドメインなどの
配向不良、液晶の汚染に伴う表示むらは一切発生しなか
った。また、ギャップ不良による輝度むらも視認され
ず、均一性の高い表示が得られた。
Using these substrates, a liquid crystal display device was formed in the same manner as in Example 1, and the characteristics were evaluated by modularization. The contrast was sufficiently high at 90: 1, and the alignment was non-uniform. There was no display unevenness due to poor alignment such as a reverse tilt domain or reverse tilt domain, and contamination of liquid crystal. In addition, uneven brightness due to gap failure was not visually recognized, and a display with high uniformity was obtained.

【0049】合成例5 温度計、攪拌装置、冷却管及び窒素導入管を備えた四つ
口フラスコ内でイソフタロジルジヒドラジド4.975
1g(0.033モル)及び4,4′−ジアミノジフェ
ニルスルフィド1.903g(0.01モル)をN−メ
チル−2−ピロリドン19.116g中に溶解させ、こ
れに1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸二無水物
6.499g(0.05モル)及びγ−ブチロラクトン
11.47gを加え、室温で8時間攪拌して反応させて
ポリアミド酸を生成させた。得られたポリアミド酸樹脂
組成物を130℃で1時間加熱処理した。得られた樹脂
組成物は、固形分濃度35重量%で、粘度118mPa・s
(25℃)であり、ポリアミド酸の重量平均分子量は、
4800であった。この固形分35重量%のポリアミド
酸樹脂組成物をブチルセロソルブにより固形分30重量
%まで希釈したところ、粘度は52mPa・s(25℃)と
なった。この固形分30重量%の樹脂組成物をガラス基
板に1500rpmでスピンコートし、80℃で10分
間、220℃で30分間熱処理して、膜厚1.7μmの
ポリイミド膜を形成した。このポリイミド膜について、
実施例1と同様の方法で光透過率を測定したところ、4
00〜800nmで96.0%以上と良好な透過性を示し
た。
Synthesis Example 5 Isophthalodil dihydrazide 4.975 in a four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer, a condenser, and a nitrogen inlet tube.
1 g (0.033 mol) and 1.903 g (0.01 mol) of 4,4'-diaminodiphenyl sulfide are dissolved in 19.116 g of N-methyl-2-pyrrolidone. 6.499 g (0.05 mol) of -butanetetracarboxylic dianhydride and 11.47 g of γ-butyrolactone were added, and the mixture was stirred and reacted at room temperature for 8 hours to produce a polyamic acid. The obtained polyamic acid resin composition was heated at 130 ° C. for 1 hour. The obtained resin composition had a solid content of 35% by weight and a viscosity of 118 mPa · s.
(25 ° C.), and the weight average molecular weight of the polyamic acid is
4800. When the polyamic acid resin composition having a solid content of 35% by weight was diluted with butyl cellosolve to a solid content of 30% by weight, the viscosity became 52 mPa · s (25 ° C.). The resin composition having a solid content of 30% by weight was spin-coated on a glass substrate at 1500 rpm and heat-treated at 80 ° C. for 10 minutes and at 220 ° C. for 30 minutes to form a 1.7 μm-thick polyimide film. About this polyimide film,
When the light transmittance was measured in the same manner as in Example 1, it was 4
It showed good transmittance of 96.0% or more at 00 to 800 nm.

【0050】実施例5 合成例5で作製した固形分30重量%のポリアミド酸樹
脂組成物にγ−アミノプロピルトリエトキシシランを樹
脂分の2重量%添加したところ、粘度は52mPa・s(2
5℃)であった。こうして作製した固形分30重量%の
ポリアミド酸樹脂組成物を用いて、実施例1で作製した
薄膜トランジスタ付き基板に、実施例1と同様の条件で
フレキソ印刷により膜を形成した。形成された膜を80
℃で10分、220℃で30分硬化させてポリイミド膜
を得た。得られたポリイミド膜の表面は、極めて平滑で
あり、膜厚2.0μmに対し、0.12μmの凹凸を示
し、段差が軽減された。また、実施例1で製作したカラ
ーフィルタ基板に、実施例1と同様の条件でフレキソ印
刷により膜を形成した。得られたポリイミド膜の表面
は、極めて平滑であり、膜厚2.0μmに対し、0.1
4μmの凹凸を示し、段差が軽減された。
Example 5 When 2% by weight of γ-aminopropyltriethoxysilane was added to the polyamic acid resin composition having a solid content of 30% by weight prepared in Synthesis Example 5, the viscosity was 52 mPa · s (2
5 ° C.). Using the thus prepared polyamic acid resin composition having a solid content of 30% by weight, a film was formed on the substrate with a thin film transistor manufactured in Example 1 by flexographic printing under the same conditions as in Example 1. 80
Curing was performed at 10 ° C. for 10 minutes and at 220 ° C. for 30 minutes to obtain a polyimide film. The surface of the obtained polyimide film was extremely smooth, showing irregularities of 0.12 μm with respect to the film thickness of 2.0 μm, and the step was reduced. Further, a film was formed on the color filter substrate manufactured in Example 1 by flexographic printing under the same conditions as in Example 1. The surface of the obtained polyimide film is extremely smooth and has a thickness of 2.0 μm and a thickness of 0.1 μm.
The unevenness was 4 μm, and the step was reduced.

【0051】これらの基板を用いて、実施例1と同様の
方法で液晶表示素子を形成し、モジュール化して特性を
評価したところ、そのコントラストは100:1と充分
に高く、配向の不均一性やリバースチルトドメインなど
の配向不良、液晶の汚染に伴う表示むらは一切発生しな
かった。また、ギャップ不良による輝度むらも視認され
ず、均一性の高い表示が得られた。
Using these substrates, a liquid crystal display device was formed in the same manner as in Example 1, and the module was evaluated for characteristics. The contrast was sufficiently high at 100: 1, and the alignment was non-uniform. There was no display unevenness due to poor alignment such as a reverse tilt domain or reverse tilt domain, and contamination of liquid crystal. In addition, uneven brightness due to gap failure was not visually recognized, and a display with high uniformity was obtained.

【0052】合成例6 温度計、攪拌装置、冷却管及び窒素導入管を備えた四つ
口フラスコ内にp−フェニレンジアミン26.628g
(0.20モル)、1,2,3,4−ブタンテトラカル
ボン酸二無水物31.701g(0.16モル)及びデ
カメチレントリメリテート酸二無水物20.90g
(0.04モル)をN−メチル−2−ピロリドン31
6.92g中に溶解させ、室温で8時間攪拌して反応さ
せ、ポリアミド酸ワニスを調製した。このポリアミド酸
ワニスを80℃で1時間加熱処理した。得られたワニス
は、固形分濃度20重量%で、粘度200mPa・s(25
℃)であり、標準ポリスチレン換算重量平均分子量は、
20000であった。この固形分20重量%のワニスを
ガラス基板に1000rpmでスピンコートし、80℃で
10分間、220℃で30分間熱処理して、膜厚1.7
μmのポリイミド膜を形成した。このポリイミド膜につ
いて、実施例1と同様の方法で透過率を測定したとこ
ろ、400〜800nmで91.0%以上と良好な透過性
を示した。
Synthesis Example 6 26.628 g of p-phenylenediamine in a four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer, a condenser and a nitrogen inlet tube.
(0.20 mol), 31.701 g (0.16 mol) of 1,2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride and 20.90 g of decamethylene trimellitate dianhydride
(0.04 mol) with N-methyl-2-pyrrolidone 31
The polyamic acid varnish was prepared by dissolving in 6.92 g and stirring and reacting at room temperature for 8 hours. This polyamic acid varnish was heated at 80 ° C. for 1 hour. The resulting varnish had a solid content of 20% by weight and a viscosity of 200 mPa · s (25%).
° C), and the standard polystyrene-equivalent weight average molecular weight is
20,000. The varnish having a solid content of 20% by weight was spin-coated on a glass substrate at 1000 rpm, and heat-treated at 80 ° C. for 10 minutes and at 220 ° C. for 30 minutes to obtain a film thickness of 1.7.
A μm polyimide film was formed. When the transmittance of this polyimide film was measured in the same manner as in Example 1, it showed good transmittance of 91.0% or more at 400 to 800 nm.

【0053】実施例6 合成例6で作製した20重量%ワニスをブチルセロソル
ブにより7重量%まで希釈し、γ−アミノプロピルトリ
エトキシシランを樹脂分の2重量%添加したところ、粘
度は40mPa・s(25℃)であった。実施例1で作製し
たTFT基板に、上記の総固形分7.1重量%のワニス
を用いてフレキソ印刷により樹脂膜を形成した。条件
は、アニッロクス:400メッシュ、樹脂版:150mm
×200mm×2.2mm厚、200メッシュ20%(小村
製版株式会社製)、アニッロクスロール〜版ニップ幅7
mm、ドクターロール〜アニッロクスロール幅0.2mmと
した。形成された印刷膜を80℃で10分、220℃で
30分硬化させてポリイミド膜を得た。得られたポリイ
ミド膜の表面は、極めて平滑であり、触針式膜厚測定計
(Solan Technology Co. LTD. 製、Dektak3030)で
測定したところ、膜厚0.3μmに対し、0.25μm
の凹凸を示し、段差が軽減された。また、実施例1で製
作したカラーフィルタ基板に、実施例1と同様の条件で
フレキソ印刷により膜を形成した。得られたポリイミド
膜の表面は、極めて平滑であり、膜厚0.3μmに対
し、0.27μmの凹凸を示し、段差が軽減された。
Example 6 The varnish of 20% by weight prepared in Synthesis Example 6 was diluted to 7% by weight with butyl cellosolve, and γ-aminopropyltriethoxysilane was added at 2% by weight of the resin, and the viscosity was 40 mPa · s ( 25 ° C). A resin film was formed on the TFT substrate manufactured in Example 1 by flexographic printing using the varnish having a total solid content of 7.1% by weight. Conditions are anilox: 400 mesh, resin plate: 150 mm
× 200 mm × 2.2 mm thick, 200 mesh 20% (manufactured by Komura Seiki Co., Ltd.), anilox roll to plate nip width 7
mm, doctor roll to anilox roll width 0.2 mm. The formed printing film was cured at 80 ° C. for 10 minutes and at 220 ° C. for 30 minutes to obtain a polyimide film. The surface of the obtained polyimide film was extremely smooth and was measured with a stylus-type film thickness meter (Dektak 3030, manufactured by Solan Technology Co. LTD.).
And the step was reduced. Further, a film was formed on the color filter substrate manufactured in Example 1 by flexographic printing under the same conditions as in Example 1. The surface of the obtained polyimide film was extremely smooth, showing irregularities of 0.27 μm with respect to the film thickness of 0.3 μm, and the steps were reduced.

【0054】これらの基板を用いて、実施例1と同様の
方法で液晶表示素子を形成し、モジュール化して特性を
評価したところ、そのコントラストは95:1と充分に
高く、配向の不均一性やリバースチルトドメインなどの
配向不良、液晶の汚染に伴う表示むらは一切発生しなか
った。また、ギャップ不良による輝度むらも視認され
ず、均一性の高い表示が得られた。
Using these substrates, a liquid crystal display element was formed in the same manner as in Example 1, and the characteristics were evaluated by modularization. The contrast was 95: 1, which was sufficiently high. There was no display unevenness due to poor alignment such as a reverse tilt domain or reverse tilt domain, and contamination of liquid crystal. In addition, uneven brightness due to gap failure was not visually recognized, and a display with high uniformity was obtained.

【0055】合成例7 温度計、攪拌装置、冷却管及び窒素導入管を備えた四つ
口フラスコ内で4,4′−ジアミノジフェニルエーテル
10.012g(0.05モル)をN−メチル−2−ピ
ロリドン83.712g中に溶解させ、これにピロメリ
ット酸二無水物10.906g(0.05モル)を加
え、室温で8時間攪拌して反応させてポリアミド酸を生
成させた。得られたポリアミド酸樹脂組成物を130℃
で1時間加熱処理した。得られた樹脂組成物は、固形分
濃度20重量%で、粘度105mPa・s(25℃)であ
り、ポリアミド酸の重量平均分子量は、25000であ
った。次に、この固形分20重量%のポリアミド酸樹脂
組成物をN−メチル−ピロリドンにより固形分10重量
%まで希釈したところ、粘度は15mPa・s(25℃)と
なった。この固形分10重量%の樹脂組成物をガラス基
板に800rpmでスピンコートし、80℃で10分間、
220℃で30分間熱処理して膜厚0.78μmのポリ
イミド膜を形成した。このポリイミド膜について、実施
例1と同様の方法で光透過率を測定したところ、400
nmで48.0%以上の光透過性を示した。
Synthesis Example 7 In a four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer, a condenser, and a nitrogen inlet tube, 10.012 g (0.05 mol) of 4,4'-diaminodiphenyl ether was added with N-methyl-2-methyl-2-phenyl-2-ether. It was dissolved in 83.712 g of pyrrolidone, and 10.906 g (0.05 mol) of pyromellitic dianhydride was added thereto, and the mixture was stirred at room temperature for 8 hours to be reacted to produce a polyamic acid. The obtained polyamic acid resin composition was heated to 130 ° C.
For 1 hour. The obtained resin composition had a solid content of 20% by weight, a viscosity of 105 mPa · s (25 ° C.), and a weight average molecular weight of the polyamic acid of 25,000. Next, when the polyamic acid resin composition having a solid content of 20% by weight was diluted with N-methyl-pyrrolidone to a solid content of 10% by weight, the viscosity became 15 mPa · s (25 ° C.). This resin composition having a solid content of 10% by weight was spin-coated on a glass substrate at 800 rpm, and then at 80 ° C. for 10 minutes.
Heat treatment was performed at 220 ° C. for 30 minutes to form a polyimide film having a thickness of 0.78 μm. When the light transmittance of this polyimide film was measured in the same manner as in Example 1, the light transmittance was 400
It showed a light transmittance of 48.0% or more in nm.

【0056】比較例1 合成例7で作製した固形分10重量%のポリアミド酸樹
脂組成物にγ−アミノプロピルトリエトキシシランを樹
脂分の2重量%添加したところ、粘度は15mPa・s(2
5℃)であった。こうして作製した固形分10重量%の
ポリアミド酸樹脂組成物を用いて、実施例1で作製した
薄膜トランジスタ付き基板に、実施例1と同様の条件で
フレキソ印刷により膜を形成した。形成された膜を80
℃で10分、220℃で30分硬化させてポリイミド膜
を得た。得られたポリイミド膜の表面は均一性に欠け、
膜厚0.2μmに対し、0.42μmの凹凸を示した。
また、実施例1で製作したカラーフィルタ基板に、実施
例1と同様の条件でフレキソ印刷により膜を形成した。
得られたポリイミド膜の表面は均一性に欠け、膜厚0.
2μmに対し、0.4μmの凹凸を示した。
Comparative Example 1 When 2% by weight of γ-aminopropyltriethoxysilane was added to the polyamic acid resin composition having a solid content of 10% by weight prepared in Synthesis Example 7, the viscosity was 15 mPa · s (2
5 ° C.). Using the polyamic acid resin composition having a solid content of 10% by weight thus produced, a film was formed on the substrate with a thin film transistor produced in Example 1 by flexographic printing under the same conditions as in Example 1. 80
Curing was performed at 10 ° C. for 10 minutes and at 220 ° C. for 30 minutes to obtain a polyimide film. The surface of the obtained polyimide film lacks uniformity,
The irregularities of 0.42 μm were shown for the film thickness of 0.2 μm.
Further, a film was formed on the color filter substrate manufactured in Example 1 by flexographic printing under the same conditions as in Example 1.
The surface of the obtained polyimide film lacks uniformity, and the thickness of the polyimide film is 0.
For 2 μm, irregularities of 0.4 μm were shown.

【0057】これらの基板を用いて、実施例1と同様の
方法で液晶表示素子を形成し、モジュール化して特性を
評価したところ、ドメインによる配向不良及び表示むら
が見られ、均一性の高い表示が得られなかった。
Using these substrates, a liquid crystal display device was formed in the same manner as in Example 1, and the characteristics were evaluated by modularization. As a result, poor alignment due to domains and display unevenness were observed, and a display with high uniformity was obtained. Was not obtained.

【0058】[0058]

【発明の効果】請求項1〜7における液晶用保護膜兼配
向膜は、耐熱性、耐薬品性、ガラス基板やカラーフィル
タとの密着性、透明性、平坦性、印刷性などの特性が良
好で、かつ配向性に優れており、基板にフォトリソグラ
フィー工程を経ずに印刷法により容易に0.3〜3μm
の膜厚でパターニングして形成することができる。請求
項8における液晶挟持基板は、カラーフィルタ、薄膜ト
ランジスタ、共通電極、信号電極、走査電極などの段差
がなくなるので、基板か平坦であり、基板の凹凸のため
に生じた配向不良ドメイン、コントラスト比、開口率が
改善される。請求項9における液晶表示装置は、良好な
平坦特性を示すことから、液晶の駆動電圧ロスを抑えら
れ、また、基板の凹凸構造を平坦化してセルギャップを
均一にすることによる大画面化、高精細、高速応答性へ
の効果が達成され、さらに一段階での塗布で良好な液晶
配向性が得られるため、低コスト化が可能である。
The protective film / alignment film for liquid crystal according to claims 1 to 7 has good properties such as heat resistance, chemical resistance, adhesion to a glass substrate and a color filter, transparency, flatness, and printability. And has excellent orientation, and can easily be printed on a substrate by a printing method without a photolithography step.
It can be formed by patterning with a film thickness of. Since the liquid crystal sandwiching substrate according to claim 8 has no steps such as a color filter, a thin film transistor, a common electrode, a signal electrode, and a scanning electrode, the substrate is flat or flat, and an alignment defect domain caused by unevenness of the substrate, a contrast ratio, The aperture ratio is improved. Since the liquid crystal display device according to the ninth aspect exhibits good flatness characteristics, the driving voltage loss of the liquid crystal can be suppressed, and a large screen can be obtained by flattening the uneven structure of the substrate to uniform the cell gap. The effect on fineness and high-speed response is achieved, and good liquid crystal alignment can be obtained by one-step application, so that cost reduction can be achieved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】液晶表示装置における液晶の動作の説明図であ
る。
FIG. 1 is an explanatory diagram of an operation of a liquid crystal in a liquid crystal display device.

【図2】液晶表示装置の電気光学特性を示す模式線図で
ある。
FIG. 2 is a schematic diagram illustrating electro-optical characteristics of a liquid crystal display device.

【図3】従来の液晶表示装置内におけるスペーサビーズ
の分散状態を示すセル断面図である。
FIG. 3 is a cell cross-sectional view showing a dispersion state of spacer beads in a conventional liquid crystal display device.

【図4】本発明の液晶表示装置内におけるスペーサビー
ズの分散状態を示すセル断面図である。
FIG. 4 is a cell cross-sectional view showing a dispersion state of spacer beads in the liquid crystal display device of the present invention.

【図5】基板面に垂直な方向から見たマトリクス素子の
正面図である。
FIG. 5 is a front view of the matrix element viewed from a direction perpendicular to the substrate surface.

【図6】図5のA−A線断面図である。FIG. 6 is a sectional view taken along line AA of FIG. 5;

【図7】図5のB−B線断面図である。FIG. 7 is a sectional view taken along line BB of FIG. 5;

【図8】フレキソ印刷法を用いた本発明の液晶用保護膜
兼配向膜の製造法の説明図である。
FIG. 8 is an explanatory diagram of a method for manufacturing a protective film and an alignment film for a liquid crystal of the present invention using a flexographic printing method.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板 2 共通電極 3 ゲート絶縁膜 4 信号電極 5 画素電極 6 液晶用保護膜兼配向膜 7 液晶分子 8 偏光板 11 偏光板偏光透過軸方向 12 ブラックマトリクス 13 カラーフィルタ 14 カラーフィルタ保護膜 15 液晶配向膜 16 絶縁保護膜 17 スペーサビーズ 18 薄膜トランジスタ 19 走査電極 20 アモルファスシリコン 21 ディスペンサ 22 ドクターロール 23 アニックスロール 24 版胴 25 刷板 26 被印刷体 27 テーブル 28 テーブル上下機構 29 位置決め画像処理装置 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2 Common electrode 3 Gate insulating film 4 Signal electrode 5 Pixel electrode 6 Protective film and alignment film for liquid crystal 7 Liquid crystal molecules 8 Polarizing plate 11 Polarizing plate Polarization transmission axis direction 12 Black matrix 13 Color filter 14 Color filter protective film 15 Liquid crystal alignment Film 16 Insulating protective film 17 Spacer beads 18 Thin film transistor 19 Scanning electrode 20 Amorphous silicon 21 Dispenser 22 Doctor roll 23 Anix roll 24 Plate cylinder 25 Printing plate 26 Printed object 27 Table 28 Table up / down mechanism 29 Positioning image processing device

フロントページの続き (72)発明者 勝谷 康夫 茨城県日立市東町四丁目13番1号 日立化 成工業株式会社山崎工場内 (72)発明者 中川 貴夫 茨城県日立市東町四丁目13番1号 日立化 成工業株式会社山崎工場内 (72)発明者 植田 豊一 東京都港区芝浦4−9−25 日立化成工業 株式会社内 (72)発明者 梅田 啓之 茨城県日立市大みか町7−1−1 株式会 社日立製作所日立研究所内 (72)発明者 近藤 克己 茨城県日立市大みか町7−1−1 株式会 社日立製作所日立研究所内 (72)発明者 荒谷 介和 茨城県日立市大みか町7−1−1 株式会 社日立製作所日立研究所内 (72)発明者 横倉 久男 茨城県日立市大みか町7−1−1 株式会 社日立製作所日立研究所内Continued on the front page (72) Inventor Yasuo Katsuya 4-3-1-1, Higashicho, Hitachi City, Ibaraki Prefecture Inside the Hitachi Chemical Co., Ltd. Yamazaki Plant (72) Takao Nakagawa 4-3-1-1, Higashicho, Hitachi City, Hitachi, Hitachi Hitachi (72) Inventor Toyoichi Ueda 4-9-25 Shibaura, Minato-ku, Tokyo Hitachi Chemical Industry Co., Ltd. (72) Hiroyuki Umeda 7-1-1 Omika-cho, Hitachi City, Ibaraki Prefecture Hitachi, Ltd.Hitachi Research Laboratories (72) Katsumi Kondo Inventor 7-1-1, Omikacho, Hitachi City, Ibaraki Prefecture Hitachi, Ltd.Hitachi Research Laboratory Co., Ltd. 1-1 Hitachi Research Laboratory, Hitachi, Ltd. (72) Inventor Hisao Yokokura 7-1-1 Omika-cho, Hitachi City, Ibaraki Prefecture Hitachi Research Laboratory, Hitachi Research Laboratory

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 重量平均分子量が1000〜20000
であるポリアミド酸を含む樹脂組成物からなる液膜を、
液晶挟持基板の電極を形成した面上に印刷法により形成
し、加熱乾燥して形成したポリイミド膜からなることを
特徴とする液晶用保護膜兼配向膜。
(1) a weight average molecular weight of 1,000 to 20,000
A liquid film made of a resin composition containing polyamic acid,
A protective film and alignment film for liquid crystal, comprising a polyimide film formed by printing on the surface of the liquid crystal sandwiching substrate on which the electrodes are formed, and formed by heating and drying.
【請求項2】 ポリアミド酸を含む樹脂組成物が固形分
濃度が7〜60重量%になるように溶媒を含み、その粘
度が30〜1000mPa・sである請求項1記載の液晶用
保護膜兼配向膜。
2. The protective film for a liquid crystal according to claim 1, wherein the resin composition containing a polyamic acid contains a solvent so that the solid content concentration is 7 to 60% by weight, and the viscosity is 30 to 1000 mPa · s. Alignment film.
【請求項3】 ポリアミド酸が、(a)ベンゼン環を有
する剛直性のジアミン化合物、(b)ベンゼン環を有す
る剛直性のジヒドラジド化合物及び(c)スルホン基及
び/又はスルフィド基を有するジアミン化合物からなる
群から選択された化合物を少なくとも1種含むジアミン
成分とテトラカルボン酸二無水物成分とを反応させて得
られたものである請求項1又は請求項2記載の液晶用保
護膜兼配向膜。
3. A polyamic acid comprising: (a) a rigid diamine compound having a benzene ring, (b) a rigid dihydrazide compound having a benzene ring, and (c) a diamine compound having a sulfone group and / or a sulfide group. 3. The protective film and alignment film for a liquid crystal according to claim 1, wherein the diamine component containing at least one compound selected from the group and a tetracarboxylic dianhydride component are reacted.
【請求項4】 (a)ベンゼン環を有する剛直性のジア
ミン化合物、(b)ベンゼン環を有する剛直性のジヒド
ラジド化合物及び(c)スルホン基及び/又はスルフィ
ド基を有するジアミン化合物からなる群から選択された
化合物の合計量が、ジアミン成分の総モル数の30モル
%以上である請求項3記載の液晶用保護膜兼配向膜。
4. A compound selected from the group consisting of (a) a rigid diamine compound having a benzene ring, (b) a rigid dihydrazide compound having a benzene ring, and (c) a diamine compound having a sulfone group and / or a sulfide group. 4. The protective film and alignment film for liquid crystal according to claim 3, wherein the total amount of the compound is 30 mol% or more of the total number of moles of the diamine component.
【請求項5】 テトラカルボン酸二無水物成分が脂肪族
テトラカルボン酸二無水物及び/又は脂環式テトラカル
ボン酸二無水物を、酸二無水物成分の総モル数の30モ
ル%以上含む請求項3記載の液晶用保護膜兼配向膜。
5. The tetracarboxylic dianhydride component contains an aliphatic tetracarboxylic dianhydride and / or an alicyclic tetracarboxylic dianhydride in an amount of 30 mol% or more of the total number of moles of the acid dianhydride component. The liquid crystal protective film and alignment film according to claim 3.
【請求項6】 テトラカルボン酸二無水物が一般式
(I) 【化1】 〔式中、nは2〜20の整数を示す〕で表されるテトラ
カルボン酸二無水物を、酸二無水物成分の総モル数の2
0モル%以上含む請求項3記載の液晶用保護膜兼配向
膜。
6. A tetracarboxylic dianhydride having the general formula (I): ## STR1 ## [Wherein n represents an integer of 2 to 20], wherein the tetracarboxylic dianhydride is represented by 2
4. The protective film and alignment film for liquid crystal according to claim 3, which contains 0 mol% or more.
【請求項7】 溶媒が、ラクトン系溶媒を溶媒の総重量
の30重量%以上含む請求項2記載の液晶用保護膜兼配
向膜。
7. The protective film and alignment film for a liquid crystal according to claim 2, wherein the solvent contains a lactone-based solvent in an amount of 30% by weight or more of the total weight of the solvent.
【請求項8】 請求項1〜7のいずれかに記載の液晶用
保護膜兼配向膜を有する液晶挟持基板。
8. A liquid crystal sandwiching substrate having the liquid crystal protective film and alignment film according to claim 1.
【請求項9】 液晶挟持基板の液晶に面する側に電極を
設け、該基板及び電極上に、請求項1〜7のいずれかに
記載の液晶用保護膜兼配向膜を有することを特徴とする
液晶表示装置。
9. An electrode is provided on the liquid crystal sandwiching substrate on the side facing the liquid crystal, and the protective film and alignment film for liquid crystal according to claim 1 is provided on the substrate and the electrode. Liquid crystal display device.
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