JPH1192938A - Liquid material vaporizing device - Google Patents

Liquid material vaporizing device

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JPH1192938A
JPH1192938A JP25460197A JP25460197A JPH1192938A JP H1192938 A JPH1192938 A JP H1192938A JP 25460197 A JP25460197 A JP 25460197A JP 25460197 A JP25460197 A JP 25460197A JP H1192938 A JPH1192938 A JP H1192938A
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JP
Japan
Prior art keywords
plunger
liquid
pump
cleaning
liq
Prior art date
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Application number
JP25460197A
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Japanese (ja)
Inventor
Naomi Yoshioka
尚規 吉岡
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Shimadzu Corp
Original Assignee
Shimadzu Corp
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  • Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent the facts that a liq. material wetted the sliding part of a pump for feeding liq. is brought to contact with the air to produce solid products caused by hydrolysis and volatilization, by which the wear of the sliding part is promoted. SOLUTION: Liq. sealing mechanisms 2 and 3 of a pump for feeding liq. are doubly arranged as the one for feeding liq. and the one for cleaning on the back direction thereof along a plungerl, and the space therebetween is provided with a small chamber (cleaning chamber). A liq. for cleaning is caused to flow into the cleaning chamber 10 by the pump, or the liq. for cleaning is sealed therein and is periodically replaced to flow away the liq. material wetted the surface of the plunger, or, even in the case products are generated, they are swiftly dissolved away, by which the progression of the wear of the sliding part can be prevented.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】半導体製造装置における成膜
用液体材料の供給を好適に行い得るようにした液体材料
気化装置、特にその中の送液用ポンプに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus for vaporizing a liquid material capable of suitably supplying a liquid material for film formation in a semiconductor manufacturing apparatus, and more particularly to a liquid feeding pump in the apparatus.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体デバイスの製造においては、基板
上に金属薄膜を形成する工程が不可欠で、その方法とし
て従来から真空蒸着法、スパッタリング法などのPVD
(物理的蒸着法)が用いられているのに対し、近年はC
VD(化学的蒸着法、または化学的気相成長法)、その
中でもMOCVD(有機金属CVD法)が盛んに利用さ
れるようになった。この方法は、薄膜となるべき金属の
揮発性有機化合物、またはそれを溶剤に溶かした液体
(以下、これらを包括して単に液体材料と記す)を気化
して蒸気の状態で基板表面に送り、熱分解等の反応によ
り生成物の薄膜を析出させるものである。膜質や成膜速
度、段差部におけるステップカバレッジ等の点で以前の
方法に比べて優れているとされる。
2. Description of the Related Art In the production of semiconductor devices, a process of forming a metal thin film on a substrate is indispensable.
(Physical vapor deposition) has been used.
VD (Chemical Vapor Deposition or Chemical Vapor Deposition), among which MOCVD (Metal Organic Chemical Vapor Deposition) has become popular. In this method, a volatile organic compound of a metal to be formed into a thin film, or a liquid obtained by dissolving it in a solvent (hereinafter, these are simply referred to as a liquid material) are vaporized and sent to the substrate surface in a vapor state, A thin film of a product is deposited by a reaction such as thermal decomposition. It is said to be superior to the previous method in terms of film quality, film forming speed, step coverage at the step, and the like.

【0003】このMOCVDを行うための液体材料気化
装置において、液体材料を小流量で精度よく気化器に送
るためのポンプとしてプランジャポンプが多く利用され
ている。
In a liquid material vaporizing apparatus for performing MOCVD, a plunger pump is often used as a pump for accurately sending a liquid material to a vaporizer at a small flow rate.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ここで使用される液体
材料は、空気に触れると空気中の水分により加水分解を
起こし、また溶剤分の揮発により固体生成物を析出する
恐れがあるので、これを取り扱う装置では、配管ライン
を真空引きした後、乾燥不活性ガスで置換してから液を
流すなどの注意を必要とする程、その取り扱いは難し
い。これを送液するプランジャポンプにおいても、プラ
ンジャの表面を濡らした液体材料が大気に触れて加水分
解や揮発による固体生成物を生じるので、プランジャ、
またはこれと摺動するプランジャシールの摩耗が促進さ
れることが問題である。
The liquid material used here is likely to be hydrolyzed by moisture in the air when it comes into contact with air, and to precipitate a solid product due to volatilization of the solvent. In such a device, it is difficult to handle such a case that the piping line must be evacuated and then replaced with a dry inert gas before flowing the liquid. Also in the plunger pump that sends the liquid, the liquid material that wets the surface of the plunger comes into contact with the atmosphere and generates a solid product by hydrolysis or volatilization.
Another problem is that abrasion of the plunger seal sliding with this is accelerated.

【0005】本発明は、液体材料送液用ポンプの摺動部
に固体生成物が生じないようにし、また、万一固体生成
物を生じた場合にはこれを速やかに除去して、摺動部の
摩耗を極力抑制することにより、従来のものより長寿命
で保守管理の手間を省ける液体材料気化装置を得ること
を目的とする。
According to the present invention, a solid product is prevented from being generated in a sliding portion of a pump for feeding a liquid material, and if a solid product is generated, the solid product is promptly removed and the sliding is performed. It is an object of the present invention to provide a liquid material vaporizer that has a longer service life than conventional ones and can save the trouble of maintenance by minimizing wear of parts.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上記目的達成のために、
本発明は、液体材料気化装置の送液用ポンプにおいてプ
ランジャの液体封止機構を、プランジャに沿って、送液
用とその後方に洗浄用と2重に配置し、その間に洗浄用
液体を満たす小室(洗浄室)を設けたものである。洗浄
用液体はポンプにより洗浄室内を流通し、または封入し
て定期的に入れ替えることで洗浄作用が維持される。プ
ランジャの表面を濡らした液体材料は洗い流されて、プ
ランジャ表面に固体生成物を生じることが防止され、ま
た、万一生成物が発生した場合でも速やかに溶解除去さ
れるので、これによる摺動部の摩耗が進むことを防止で
きる。
In order to achieve the above object,
According to the present invention, in a liquid feed pump of a liquid material vaporizer, a liquid sealing mechanism of a plunger is arranged along a plunger, two times for liquid feeding and for washing behind the plunger, and between them, the liquid for washing is filled. A small room (washing room) is provided. The cleaning liquid is circulated in the cleaning chamber by the pump, or is sealed and periodically replaced to maintain the cleaning action. The liquid material that wets the surface of the plunger is washed away, and solid products are prevented from being generated on the plunger surface. Even if a product is generated, the product is quickly dissolved and removed. Can be prevented from progressing.

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】液体材料気化装置は、液体材料を
入れた材料容器と送液のためのプランジャポンプと、そ
の間をつなぐ配管のほか、配管内の真空引きやパージ、
及び外部からの液供給を可能にする外部供給ラインを兼
ね備えるための配管やバルブ、気化器等がレイアウトさ
れるが、ここでは本発明に直接関連する部分としてプラ
ンジャポンプの一実施例を図1に示す。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A liquid material vaporizer includes a material container containing a liquid material, a plunger pump for feeding a liquid, a pipe connecting the liquid container and the pipe, a vacuum pump, a purge pipe, and the like.
In addition, pipes, valves, vaporizers, and the like for providing an external supply line that enables liquid supply from the outside are laid out. Here, an embodiment of the plunger pump as a part directly related to the present invention is shown in FIG. Show.

【0008】図1において、プランジャ1は、その左側
に配置される駆動源(図示せず)によりピストン運動を
与えられ、2つのプランジャシール2および3で摺動し
つつ図の左右方向に往復運動する。プランジャ1の先端
部はポンプ室4の中にある。ポンプ室4はポンプヘッド
5に穿設された穴であって、その内容積はプランジャ1
の往復運動に従って変化するので、液体材料の入口6と
出口7に設けた逆止弁8及び9の働きで、液は1方向に
(この図では下から上に向かって)流されることにな
る。即ち、ポンプ作用が生じることになる。
In FIG. 1, a plunger 1 is provided with a piston motion by a driving source (not shown) disposed on the left side thereof, and reciprocates in the left-right direction in the figure while sliding with two plunger seals 2 and 3. I do. The tip of the plunger 1 is in the pump chamber 4. The pump chamber 4 is a hole formed in the pump head 5 and the internal volume thereof is
Of the liquid material, the liquid flows in one direction (from the bottom to the top in this figure) by the check valves 8 and 9 provided at the inlet 6 and the outlet 7 of the liquid material. . That is, a pump action occurs.

【0009】プランジャ1が図の右方向へ動くとき液を
吐出し、左方向へ動くときは吸入する。吸入行程での送
液の中断を防ぐために、同じ構造のプランジャポンプを
2個並列に配置し、プランジャの位相を180度ずらせ
て駆動するようにしたダブルプランジャ形もあり、本発
明はダブルプランジャ形に対しても当然適用できるので
あるが、以下では説明を簡単にするため、シングルプラ
ンジャ形の場合について述べる。
The liquid is discharged when the plunger 1 moves rightward in the figure, and is sucked when the plunger 1 moves leftward. There is also a double plunger type in which two plunger pumps having the same structure are arranged in parallel and driven by shifting the phase of the plungers by 180 degrees in order to prevent interruption of liquid supply during the suction stroke. However, for simplicity, the case of a single plunger type will be described below.

【0010】ここでプランジャシール2は、プランジャ
1の軸方向の運動を許容しつつポンプ室4内の液体材料
を封止する役割を担うが、シール材とプランジャとの潤
滑の目的からも、このシールで完全に液を止めるのでは
なく、幾分かはプランジャ表面を濡らすような形でシー
ル後方(図1では左方)へ液体材料が出てくる。この部
分が空気に触れると固体生成物を生じ、これがプランジ
ャの運動につれてプランジャ1とプランジャシール2の
間に噛み込まれ、摺動部の摩耗を促進することになるの
であるが、図1の実施例においては、さらに後方にプラ
ンジャの往復運動範囲以上の距離を置いて第2のプラン
ジャシール3を配置し、この間を、洗浄液体の入出口1
2を持つハウジング13で覆って密閉された小室(洗浄
室10)を形成している。洗浄室10には洗浄液を満た
し、プランジャ摺動面の液体材料やそこに生じた生成物
を洗い落とす。
Here, the plunger seal 2 plays a role of sealing the liquid material in the pump chamber 4 while allowing the axial movement of the plunger 1, but also for the purpose of lubricating the sealing material and the plunger. Rather than stopping the liquid completely with the seal, the liquid material emerges behind the seal (left in FIG. 1) in a manner that somewhat wets the plunger surface. When this part comes into contact with air, a solid product is formed, which is caught between the plunger 1 and the plunger seal 2 as the plunger moves, which promotes the wear of the sliding part. In the example, the second plunger seal 3 is disposed further behind and at a distance equal to or longer than the reciprocating range of the plunger.
A small chamber (cleaning chamber 10) is formed by being covered with a housing 13 having a housing 2 and hermetically closed. The cleaning chamber 10 is filled with the cleaning liquid, and the liquid material on the sliding surface of the plunger and the products generated therefrom are washed away.

【0011】洗浄液は、外部に設けた別のポンプ(図示
せず)で常時流し続ける。経済性を考慮するなら外部に
設けた容器から洗浄液を循環させ、定期的に洗浄液を交
換するようにしてもよい。または、ポンプを使わず、入
出口の先にバルブを設けて、常時は洗浄液を洗浄室に封
入しておき、注射器などを用いて手動で定期的に入れ替
えるようにする方法も考えられる。洗浄液としては、液
体材料に使用されている有機溶剤と同一、または同種の
ものを使うことが望ましい。
The cleaning liquid is always kept flowing by another pump (not shown) provided outside. In consideration of economy, the cleaning liquid may be circulated from an externally provided container, and the cleaning liquid may be periodically replaced. Alternatively, a method is also conceivable in which a valve is provided at the end of the inlet / outlet without using a pump, and the cleaning liquid is always sealed in the cleaning chamber, and is periodically replaced manually using a syringe or the like. As the cleaning liquid, it is desirable to use the same or the same type of organic solvent used for the liquid material.

【0012】図2は本発明の別の実施例を示したもので
ある。
FIG. 2 shows another embodiment of the present invention.

【0013】図2において図1と同じ番号を付した部分
は図1の対応する部分と同じであるから、重複説明は省
く。
In FIG. 2, the parts denoted by the same reference numerals as in FIG. 1 are the same as the corresponding parts in FIG.

【0014】図2の実施例で図1の実施例と相違する主
な点はプランジャである。即ち、図2の実施例における
プランジャ1は後方(駆動源側)が先端部よりも外径が
大きい。プランジャの、洗浄室内を運動する範囲の中央
付近に段差11があり、それ以後の部分が太くなってお
り、それに応じて後方のプランジャシール3の内径が前
方のそれよりも大きい。このため、プランジャの往復運
動に従って、ポンプ室4ばかりでなく洗浄室10の内容
積も変化する。従って、洗浄液の入口側、出口側各流路
配管の途中に適当な逆止弁(図示せず)を配置しておけ
ば、洗浄室10も1個のポンプとして機能するので、洗
浄液を流すために別にポンプを設ける必要がなく、シス
テム全体の構成が簡単になる。洗浄液の送液には圧力や
流量精度などは特に考慮する必要がないので、逆止弁は
極く簡単な構造のもので十分であり、また、後述するよ
うに逆止弁を使わずに済ます方法もある。もちろん、逆
止弁を洗浄室の入出口部分のハウジング上に固定して設
けることも可能である。
The main difference between the embodiment of FIG. 2 and the embodiment of FIG. 1 is the plunger. That is, the plunger 1 in the embodiment of FIG. 2 has a larger outer diameter at the rear (drive source side) than at the tip. There is a step 11 near the center of the range of movement of the plunger in the cleaning chamber, and the portion thereafter becomes thicker, and accordingly, the inner diameter of the rear plunger seal 3 is larger than that of the front. Therefore, according to the reciprocating motion of the plunger, not only the pump chamber 4 but also the internal volume of the cleaning chamber 10 changes. Therefore, if an appropriate check valve (not shown) is arranged in the middle of each of the flow path pipes on the inlet side and the outlet side of the cleaning liquid, the cleaning chamber 10 also functions as a single pump. There is no need to provide a separate pump, and the configuration of the entire system is simplified. Since the pressure and flow rate accuracy do not need to be considered when sending the cleaning liquid, a check valve with a very simple structure is sufficient, and the check valve does not need to be used as described later. There are ways. Of course, it is also possible to provide the check valve fixedly on the housing at the entrance and exit of the washing chamber.

【0015】図3は、図2の実施例をさらに変形した第
3の実施例を示したものである。図3の実施例が図2の
それと相違する主な点は、図2における第2のプランジ
ャシール3に代わる液体封止機構としてベローズ33を
用いたことにある。ベローズ33は一端がプランジャ1
に、他端が洗浄室ハウジング13に封着されているので
液が後方へ漏出することがない。この場合、ベローズ3
3、ハウジング13、及びシール2で囲まれた空間が洗
浄室10を形成する。この構造で、プランジャ1が図の
左右方向に往復運動すると、ベローズ33が伸縮して洗
浄室10の内容積が変化するので、洗浄液は、洗浄室か
ら押し出され、あるいは吸い込まれて洗浄液容器14と
の間を行き来する間に容器14内の洗浄液と混じって少
しずつ入れ替わるので、実質的に容器14と洗浄室10
間を循環することになる。入出口12をそれぞれ別に設
け、容器14と洗浄室10間を2本の配管で連結し、そ
れぞれに逆止弁を設ければさらに効率よく液の循環が行
われるが、必要とされる洗浄の程度次第で、上述のよう
に特に逆止弁を設けない簡単な構成でも洗浄の目的は達
せられる。
FIG. 3 shows a third embodiment in which the embodiment of FIG. 2 is further modified. The main difference of the embodiment of FIG. 3 from that of FIG. 2 is that a bellows 33 is used as a liquid sealing mechanism instead of the second plunger seal 3 in FIG. Bellows 33 has plunger 1 at one end
In addition, since the other end is sealed to the cleaning chamber housing 13, the liquid does not leak backward. In this case, bellows 3
3, a space surrounded by the housing 13 and the seal 2 forms the cleaning chamber 10. With this structure, when the plunger 1 reciprocates in the left-right direction in the figure, the bellows 33 expands and contracts, and the internal volume of the cleaning chamber 10 changes. Therefore, the cleaning liquid is pushed out from the cleaning chamber or sucked into the cleaning liquid container 14 and Between the container 14 and the cleaning chamber 10 because the liquid is mixed with the cleaning liquid in the container 14 and exchanged little by little while moving back and forth.
It will circulate between. If the inlets and outlets 12 are separately provided, the container 14 and the cleaning chamber 10 are connected by two pipes, and a check valve is provided for each, so that the liquid can be circulated more efficiently. Depending on the degree, the purpose of cleaning can be achieved even with a simple configuration in which no check valve is provided as described above.

【0016】図4は、さらに他の実施例として、本発明
をシリンジポンプに適用した場合を示したものである。
FIG. 4 shows another embodiment in which the present invention is applied to a syringe pump.

【0017】シリンジポンプは、以上に説明したプラン
ジャポンプと原理的には殆ど同一であって、プランジャ
ポンプではプランジャが、ポンプ室に固定されたシール
材との間で摺動して運動するのに対し、シリンジポンプ
ではシール材がプランジャとともに運動して、ポンプ室
の内壁との間で摺動する点が異なるのみである。従っ
て、本発明は容易にシリンジポンプに対しても適用でき
る、言い換えれば、本発明はプランジャポンプに限定さ
れるものではないことを図4で説明する。
The syringe pump is almost the same in principle as the plunger pump described above. In the plunger pump, the plunger slides and moves between a sealing member fixed to the pump chamber. On the other hand, in the syringe pump, the only difference is that the sealing material moves with the plunger and slides between the inner wall of the pump chamber. Accordingly, FIG. 4 illustrates that the present invention can be easily applied to a syringe pump. In other words, the present invention is not limited to a plunger pump.

【0018】図4において、プランジャ1がその先端に
固定されたシール2とともにシリンダ15の中を往復運
動し、シール2の右側部分では、逆止弁8、および9の
作用と相まって液体材料を矢印方向に吸入吐出する。一
方、シール2の左側部分も、シリンダ15の後方がシー
ル3で封止され、入出口12を残して密閉された洗浄室
10を形成しており、プランジャ1の動きに応じてその
内容積が変化するので、外部の容器14から洗浄用液体
が流入流出してシリンダ15の内壁などを洗浄する。洗
浄液の出入口をそれぞれ別に設け、逆止弁を用いると洗
浄液を一方向に流すことも可能であるのはいうまでもな
い。
In FIG. 4, the plunger 1 reciprocates in a cylinder 15 together with a seal 2 fixed to the tip thereof, and the right side of the seal 2 is coupled with the action of the check valves 8 and 9 to displace the liquid material with an arrow. Inhale and discharge in the direction. On the other hand, also on the left side of the seal 2, the rear of the cylinder 15 is sealed with the seal 3 to form a sealed washing chamber 10 leaving the entrance 12, and the inner volume thereof is increased according to the movement of the plunger 1. Since the cleaning liquid changes, the cleaning liquid flows in and out of the external container 14 to clean the inner wall of the cylinder 15 and the like. It is needless to say that the cleaning liquid can flow in one direction by providing a separate inlet and outlet for the cleaning liquid and using a check valve.

【0019】[0019]

【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明は、
液体材料気化装置において、大気に触れると反応生成物
を生じるような有機金属化合物の液体等を送液するポン
プのプランジャ摺動部の液体封止機構を、プランジャに
沿って2重に配置して、この2つの液体封止機構の間に
液の出入口を備えた小室を形成し、この小室に洗浄液体
を満たすようにしたもので、プランジャ摺動面での生成
物の発生がなくなり、また、万一発生した生成物は速や
かに除去して、プランジャやプランジャと摺動する液体
封止機構の摩耗を軽減し、耐久性を向上することができ
る。
As described in detail above, the present invention provides
In a liquid material vaporizer, a liquid sealing mechanism of a plunger sliding portion of a pump for sending a liquid of an organometallic compound or the like that generates a reaction product when exposed to the air is provided in a double arrangement along the plunger. A small chamber having a liquid inlet / outlet is formed between the two liquid sealing mechanisms, and the small chamber is filled with the cleaning liquid, so that no product is generated on the sliding surface of the plunger. The generated product is promptly removed to reduce wear of the plunger and the liquid sealing mechanism that slides on the plunger, thereby improving the durability.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施例を示す図FIG. 1 shows an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の他の実施例を示す図FIG. 2 is a diagram showing another embodiment of the present invention.

【図3】本発明の他の実施例を示す図FIG. 3 is a diagram showing another embodiment of the present invention.

【図4】本発明の他の実施例を示す図FIG. 4 is a diagram showing another embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1……プランジャ 2……第1のプランジャシール 3……第2のプランジャシール 4……ポンプ室 5……ポンプヘッド 6……液体材料入口 7……液体材料出口 8、9……逆止弁 10……洗浄室 11……プランジャの段差 12……洗浄液入出口 13……洗浄室ハウジング 14……洗浄液容器 15……シリンダ 33……ベローズ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Plunger 2 ... 1st plunger seal 3 ... 2nd plunger seal 4 ... Pump chamber 5 ... Pump head 6 ... Liquid material inlet 7 ... Liquid material outlet 8, 9 ... Check valve 10 cleaning chamber 11 plunger step 12 cleaning liquid inlet / outlet 13 cleaning chamber housing 14 cleaning liquid container 15 cylinder 33 bellows

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】プランジャ摺動部の液体封止機構を、プラ
ンジャに沿って2重に配置して、この2つの液体封止機
構の間に液の流出入口を備えた小室を形成し、この小室
に洗浄液体を満たすようにした送液ポンプによって液体
材料を気化器に供給する液体材料気化装置。
The liquid sealing mechanism of the plunger sliding portion is arranged in two layers along the plunger to form a small chamber having a liquid outflow / inlet between the two liquid sealing mechanisms. A liquid material vaporizer that supplies a liquid material to a vaporizer by a liquid pump that fills a small chamber with a cleaning liquid.
JP25460197A 1997-09-19 1997-09-19 Liquid material vaporizing device Pending JPH1192938A (en)

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JP25460197A JPH1192938A (en) 1997-09-19 1997-09-19 Liquid material vaporizing device

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007287831A (en) * 2006-04-14 2007-11-01 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Syringe pump and substrate treatment apparatus
JP2011025487A (en) * 2009-07-24 2011-02-10 Kyocera Mita Corp Recovery device for recording head, and inkjet recorder having the same
US20110083607A1 (en) * 2008-06-05 2011-04-14 Sorona Inc. Vapor phase self-assembled monolayer coating apparatus

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007287831A (en) * 2006-04-14 2007-11-01 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Syringe pump and substrate treatment apparatus
US20110083607A1 (en) * 2008-06-05 2011-04-14 Sorona Inc. Vapor phase self-assembled monolayer coating apparatus
JP2011025487A (en) * 2009-07-24 2011-02-10 Kyocera Mita Corp Recovery device for recording head, and inkjet recorder having the same

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