JPH1192270A - Apparatus for producing crystal and production - Google Patents

Apparatus for producing crystal and production

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JPH1192270A
JPH1192270A JP24689997A JP24689997A JPH1192270A JP H1192270 A JPH1192270 A JP H1192270A JP 24689997 A JP24689997 A JP 24689997A JP 24689997 A JP24689997 A JP 24689997A JP H1192270 A JPH1192270 A JP H1192270A
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JP
Japan
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crucible
crystal
manufacturing apparatus
side heater
rotating
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Application number
JP24689997A
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Japanese (ja)
Inventor
Hidetaka Kawamura
英孝 河村
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Original Assignee
Canon Inc
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Publication date
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Publication of JPH1192270A publication Critical patent/JPH1192270A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a simple structural apparatus for producing a crystal, capable of producing the crystal in high quality and having a large diameter, and further to provide a producing method thereof. SOLUTION: This apparatus for producing a crystal is capable of growing a crystal by heating and melting a crystalline material in a cylindrical crucible 1 by a side face heater 3 and cooling the melted crystalline material by taking down the crucible to crystallize the crystalline material. The crystal producing apparatus has a rotating structure of the side face heater 3, installed for rotating the side face heater 3. The method for producing the crystal comprises heating and melting the crystalline material in the cylindrical crucible by the side face heater 3, and cooling the crystalline material by taking down the crucible to crystallize the crystalline material. The crystallization is carried out by taking down the crucible while rotating the side face heaters without rotating the crucible and cooling the crystalline material to crystallize the material.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、例えば、レンズ等の光
学部材に用いられる石英、蛍石等の結晶材料(硝材)を
製造するための結晶製造装置及び結晶製造方法に関する
ものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a crystal manufacturing apparatus and a crystal manufacturing method for manufacturing a crystal material (glass material) such as quartz or fluorite used for an optical member such as a lens.

【0002】[0002]

【従来の技術】光学部材は、望遠鏡、カメラ、あるいは
半導体集積回路製造用の露光装置等に用いられている。
とりわけ、露光装置では高品質の光学部材が望まれてい
る。
2. Description of the Related Art Optical members are used in telescopes, cameras, exposure apparatuses for manufacturing semiconductor integrated circuits, and the like.
In particular, a high quality optical member is desired for an exposure apparatus.

【0003】近年、半導体集積回路の高集積化に伴い、
超微細パターン形成への要求が益々高まっている。微細
パターンをウェハ上に転写する装置としては、ステップ
・アンド・リピート方式の縮小投影小型露光装置(ステ
ッパー)が多用されている。高集積化するためには、ス
テッパー投影レンズの解像度を上げる必要がある。そし
て、投影レンズの解像度を上げるには短波長の露光光を
用い、投影レンズの開口数を大きく(大口径化)する必
要がある。
[0003] In recent years, with the increasing integration of semiconductor integrated circuits,
There is an increasing demand for ultrafine pattern formation. As an apparatus for transferring a fine pattern onto a wafer, a step-and-repeat small-size projection exposure apparatus (stepper) is often used. In order to achieve high integration, it is necessary to increase the resolution of the stepper projection lens. To increase the resolution of the projection lens, it is necessary to use exposure light of a short wavelength and increase the numerical aperture of the projection lens (increase the diameter).

【0004】また、露光光の短波長は、g線(波長43
6nm)、h線(波長405nm)、i線(波長365
nm)と進んできており、今後はKr−Fエキシマレー
ザー光(波長248nm)、Ar−Fエキシマレーザ光
(波長193nm)の使用が有望視されている。
The short wavelength of the exposure light is g-line (wavelength 43
6 nm), h-line (wavelength 405 nm), i-line (wavelength 365)
nm), and the use of Kr-F excimer laser light (wavelength 248 nm) and Ar-F excimer laser light (wavelength 193 nm) is expected to be promising in the future.

【0005】i線までの波長域では、光学系に従来の光
学レンズを使用することが可能であったが、Kr−Fエ
キシマレーザー光、Ar−Fエキシマレーザー光の波長
域では、透過率が低く、従来の光学ガラスを使用するこ
とは不可能である。
In the wavelength range up to the i-line, it is possible to use a conventional optical lens in the optical system, but in the wavelength range of Kr-F excimer laser light and Ar-F excimer laser light, the transmittance is low. Low, it is not possible to use conventional optical glass.

【0006】このため、エキシマレーザー露光装置の光
学系には、短波長光の透過率の高い石英ガラスまたは蛍
石を使用するのが一般的になっている。
For this reason, it is common to use quartz glass or fluorite having a high transmittance for short-wavelength light in the optical system of the excimer laser exposure apparatus.

【0007】一方、光学系の色収差補正のためには、屈
折率の異なる2つ以上の硝材があることが望ましい。
On the other hand, in order to correct the chromatic aberration of the optical system, it is desirable to have two or more glass materials having different refractive indexes.

【0008】また、ステッパー投影レンズを構成する各
レンズは、極限の面精度で研磨されるが、多結晶になっ
ていると結晶方位によって研磨速度が異なるため、レン
ズの面精度を確保することが困難になる。
Further, each lens constituting the stepper projection lens is polished with the ultimate surface precision. However, since the polishing rate differs depending on the crystal orientation in the case of polycrystal, it is necessary to ensure the lens surface precision. It becomes difficult.

【0009】更に、多結晶の場合には、結晶界面に不純
物が偏析しやすく、屈折率の均一性を損ねたり、レーザ
−照射により傾向を発したりする。
Further, in the case of polycrystal, impurities are easily segregated at the crystal interface, and the uniformity of the refractive index is impaired, and a tendency is caused by laser irradiation.

【0010】このような理由で、エキシマレーザー露光
装置の投影レンズでは、大口径の単結晶蛍石が望まれて
いる。
For these reasons, a large diameter single crystal fluorite is desired for a projection lens of an excimer laser exposure apparatus.

【0011】例えば、蛍石は従来、坩堝引き下げ法(ブ
リッジマン法)で製造されており、その製造装置には図
5に示す1室タイプと、図6に示す2室タイプ(米国特
許公報2,214,976号参照)がある。図5は従来
の1室タイプの結晶製造装置の模式的な断面図である。
この装置は、主として炉室6を形成する筐体5と炉室内
に配置されたグラファイト製の側面ヒーター3とで構成
される。側面ヒーター3は側面ヒーター用電源8から電
力が供給されるが、その電力は、ヒーター用制御装置9
によって制御される。
For example, fluorite is conventionally manufactured by a crucible pulling-down method (Bridgeman method), and the manufacturing apparatuses thereof include a one-chamber type shown in FIG. 5 and a two-chamber type shown in FIG. , 214, 976). FIG. 5 is a schematic sectional view of a conventional one-chamber type crystal manufacturing apparatus.
This apparatus mainly includes a housing 5 forming a furnace chamber 6 and a graphite side heater 3 arranged in the furnace chamber. The side heater 3 is supplied with electric power from a side heater power supply 8, and the electric power is supplied to the heater controller 9.
Is controlled by

【0012】筐体5の底を貫いて、坩堝支持棒2の上部
が炉室6に達し、この坩堝支持棒2の上端に坩堝1が取
り付けられる。この坩堝1に原料を入れ、炉室6内を真
空にし、炉温を蛍石の融点以上(通常摂氏1390〜1
450度まで)上げ、熔融する。結晶成長させる時は、
0.1〜5mm/時ぐらいの速度で坩堝1を降下させ、
下部の方から結晶化させていく。
The upper part of the crucible support rod 2 reaches the furnace chamber 6 through the bottom of the housing 5, and the crucible 1 is mounted on the upper end of the crucible support rod 2. The raw material is put into the crucible 1, the inside of the furnace chamber 6 is evacuated, and the furnace temperature is set to the melting point of fluorite or more (normally 1390 to 1 Celsius).
Raise to 450 degrees) and melt. When growing crystals,
The crucible 1 is lowered at a speed of about 0.1 to 5 mm / hour,
Crystallize from the bottom.

【0013】図6は従来の2室タイプの結晶製造装置の
模式的な断面図である。図5,6両図の右側のグラフ
は、炉の中心部の鉛直方向にそった温度を示すが、1室
タイプでは炉の中心に沿った温度分布が、図5右側に示
すように一つ山型となるのに対し、2室タイプでは図6
の右側に示すように2つ山型となる。
FIG. 6 is a schematic sectional view of a conventional two-chamber type crystal manufacturing apparatus. The graphs on the right side of FIGS. 5 and 6 show the temperature along the vertical direction at the center of the furnace. In the case of the one-chamber type, the temperature distribution along the center of the furnace is one as shown on the right side of FIG. Fig. 6 for the two-room type, while the shape is mountain-shaped.
As shown on the right side of FIG.

【0014】高品質の単結晶を作るには、結晶成長速度
を遅くする、坩堝内面を滑らかに仕上げる、結晶起点を
坩堝最下瑞の一点とする等、幾つか配慮すべき点があ
る。
In order to produce a high-quality single crystal, there are several points to be taken into consideration, such as reducing the crystal growth rate, smoothing the inner surface of the crucible, and setting the starting point of the crystal at one point at the bottom of the crucible.

【0015】本発明者は、結晶溶液の温度分布で、融点
の等温線(固液界面に相当)を出来るだけ水平に保つこ
とが重要であることを知見した。
The present inventors have found that it is important to keep the isotherm of the melting point (corresponding to the solid-liquid interface) as horizontal as possible in the temperature distribution of the crystal solution.

【0016】図5や、図6に示すような装置では、投影
レンズひいては坩堝の大口径に伴い、結晶融液の炉壁近
傍と中心部との間に温度差が生じ、温度分布の制御が困
難になる。その対策として炉液の上部または下部にヒー
ターを付加して温度制御する装置が提案されている(特
開平4−34198号公報、特開平4−349199号
公報参照)。しかしながら、こうした装置は、その構造
が複雑になる。
In the apparatus as shown in FIGS. 5 and 6, a temperature difference is generated between the vicinity of the furnace wall of the crystal melt and the center thereof due to the large diameter of the projection lens and thus the crucible, and the temperature distribution is controlled. It becomes difficult. As a countermeasure, an apparatus has been proposed in which a heater is added to the upper or lower part of the furnace liquid to control the temperature (see JP-A-4-34198 and JP-A-4-349199). However, such devices have a complicated structure.

【0017】そこで単純な方法として、坩堝の構造を工
夫し、結晶溶液の温度分布の改良を図ったものに、図7
に示すように仕切り板1aで複数の領域に分けられたタ
イプ(ディスクタイプ)がある。(チェレドフ・V・
N.,ニェオルガニーチェスキーマテリアル、No.
3、vol.28、(l992)550)。
As a simple method, the structure of the crucible was devised to improve the temperature distribution of the crystal solution.
There is a type (disk type) divided into a plurality of areas by the partition plate 1a as shown in FIG. (Cheredov V.
N. , Nieorgany Cesky material, No.
3, vol. 28, (1992) 550).

【0018】図7において、坩堝1は3つの領域7に分
けられる。上下の坩堝の仕切り板1aの中央の孔1bを
介して各領域7が連通し、坩堝1の上部へ進む。
In FIG. 7, the crucible 1 is divided into three regions 7. The regions 7 communicate with each other via the central hole 1b of the partition plate 1a of the upper and lower crucibles, and proceed to the upper part of the crucible 1.

【0019】本発明者が詳しく検討した結果、上記図9
の従来例でも、蛍石の融点付近の溶液の温度分布で、結
晶溶液の温度分布で等温線が十分水平に保たれず、高品
質の結晶、特に大口径(例えば直径250ミリ以上)の
結晶が得にくい。
As a result of a detailed study by the present inventors, FIG.
Also in the conventional example, the temperature distribution of the solution near the melting point of the fluorite does not keep the isotherm sufficiently horizontal in the temperature distribution of the crystal solution, and high-quality crystals, particularly crystals having a large diameter (for example, 250 mm or more in diameter). Is difficult to obtain.

【0020】また、大口径化に従い、坩堝の断面内でも
温度差が生じ、温度分布の制御が困難になる。その対策
として図8に示すような坩堝を回転させる機構を有する
ものもある。図8におい坩堝1と坩堝支持棒2は坩堝回
転用モーター2cにより回転する。該坩堝回転用モータ
ーは坩堝回転用電源2dから電力を供給されるが、その
電力は、回転制御装置13によって制御される。
Further, as the diameter increases, a temperature difference also occurs in the cross section of the crucible, and it becomes difficult to control the temperature distribution. Some countermeasures include a mechanism for rotating a crucible as shown in FIG. In FIG. 8, the crucible 1 and the crucible support rod 2 are rotated by a crucible rotation motor 2c. The motor for rotating the crucible is supplied with power from a power source 2d for rotating the crucible, and the power is controlled by the rotation control device 13.

【0021】[0021]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、本発明
者が詳しく検討した結果、上記図8の従来例でも、結晶
成長縞が水平にならず、高品質の大口径(例えば250
ミリ以上)の結晶が得にくいことが判明した。
However, as a result of a detailed study conducted by the present inventor, even in the conventional example shown in FIG. 8, the crystal growth stripes are not horizontal, and a high-quality large-diameter (for example, 250
(Millimeters or more) was difficult to obtain.

【0022】そしてその原因は、坩堝を回転させる際に
振動が生じ、坩堝が水平にならないからであることが本
発明者は解明した。
The present inventors have clarified that the cause is that vibration occurs when the crucible is rotated and the crucible does not become horizontal.

【0023】本発明の目的は、高品質の大口径の結晶を
製造できる、構造の簡単な結晶製造装置及び方法を提供
することにある。
An object of the present invention is to provide an apparatus and a method for producing a crystal having a simple structure and capable of producing a high-quality large-diameter crystal.

【0024】[0024]

【課題を解決するための手段】本発明の結晶製造装置
は、円筒形の坩堝中の結晶性物質を側面ヒーターにより
加熱し熔融させ、坩堝を引き下げることにより該結晶性
物質を冷却して結晶化させる結晶製造装置において、該
側面ヒーターを回転させるための側面ヒーター回転機構
を設けたことを特徴とする。
According to the present invention, there is provided a crystal manufacturing apparatus, wherein a crystalline material in a cylindrical crucible is heated and melted by a side heater, and the crystalline material is cooled by pulling down the crucible to crystallize. The apparatus for producing a crystal according to claim 1, further comprising a side heater rotating mechanism for rotating the side heater.

【0025】本発明の結晶製造方法は、 円筒形の坩堝
中の結晶性物質を側面ヒーターにより加熱し熔融させ、
坩堝を引き下げることにより該結晶性物質を冷却して結
晶化させる結晶製造方法において、該坩堝を回転させる
ことなく該側面ヒーターを回転させながら引き下げを行
い該結晶性物質の冷却を行い結晶化させることを特徴と
する。
In the method for producing a crystal according to the present invention, the crystalline material in the cylindrical crucible is heated and melted by a side heater.
In a crystal manufacturing method for cooling and crystallizing the crystalline material by pulling down a crucible, the crystal material is cooled and crystallized by rotating the side heater without rotating the crucible without rotating the crucible. It is characterized by.

【0026】本発明の他の結晶製造装置は、円筒形の坩
堝中の結晶性物質を側面ヒーターにより加熱し熔融さ
せ、坩堝を引き下げることにより該結晶性物質を冷却し
て結晶化させる結晶製造装置において、該堝と該側面ヒ
ーターとの間に円筒形の均熱筒と、該均熱筒を回転させ
るための均熱筒回転機構とを設けたことを特徴とする。
Another crystal manufacturing apparatus of the present invention is a crystal manufacturing apparatus in which a crystalline material in a cylindrical crucible is heated and melted by a side heater, and the crystalline material is cooled and crystallized by pulling down the crucible. Wherein a cylindrical heat equalizing cylinder and a heat equalizing cylinder rotating mechanism for rotating the heat equalizing cylinder are provided between the tub and the side heater.

【0027】本発明の他の結晶製造方法は、円筒形の坩
堝中の結晶性物質を側面ヒーターにより加熱し熔融さ
せ、坩堝を引き下げることにより該結晶性物質を冷却し
て結晶化させる結晶製造方法において、該坩堝と側面ヒ
ーターとの間に均熱筒を設け、該坩堝を回転させること
なく該均熱筒を回転させながら引き下げを行い該結晶性
物質の冷却を行い結晶化させることを特徴とする。
Another crystal production method of the present invention is a crystal production method in which a crystalline material in a cylindrical crucible is heated and melted by a side heater, and the crystalline material is cooled and crystallized by pulling down the crucible. In the above, a soaking cylinder is provided between the crucible and the side heater, and the crucible is rotated while rotating the soaking cylinder without rotating, so that the crystalline material is cooled and crystallized. I do.

【0028】[0028]

【作用】本発明によれば、坩堝の上面に側面ヒーターか
ら直接的あるいは間接的に加えられる熱量を一定に保
ち、結晶溶液の温度分布において、融点の等固液界面を
水平に保つことが出来る。これにより、高品質、大口径
の結晶が得られる。以下、本発明の作用について詳述す
る。
According to the present invention, the amount of heat applied directly or indirectly from the side heater to the upper surface of the crucible can be kept constant, and the solid-liquid interface of the melting point can be kept horizontal in the temperature distribution of the crystal solution. . As a result, high-quality, large-diameter crystals can be obtained. Hereinafter, the operation of the present invention will be described in detail.

【0029】図9は、従来の1室タイプの坩堝の熱の流
れを説明するための模式図である。図10は従来のディ
スクタイプの坩堝の熱の流れを説明するための模式図で
ある。この図において、坩堝内の伝熱状態を考えると、
結晶溶液は、図9の結晶製造装置では、坩堝1から主に
熱伝導により、また図10のディスクタイプの結晶製造
装置では、坩堝1内の仕切り板1aからも伝導により熱
を受ける。また、坩堝1は、側面ヒーター3から坩堝1
の上面と側面へは輻射で熱を与えられる。坩堝1の下面
から下の空間ヘは輻射により、坩堝1の下部から坩堝支
持棒2ヘは伝導により、熱が奪われる。
FIG. 9 is a schematic diagram for explaining the heat flow of a conventional one-chamber type crucible. FIG. 10 is a schematic diagram for explaining the heat flow of a conventional disk-type crucible. In this figure, considering the heat transfer state in the crucible,
The crystal solution receives heat mainly from the crucible 1 in the crystal manufacturing apparatus shown in FIG. 9 by heat conduction, and also receives heat from the partition plate 1a in the crucible 1 in the disk type crystal manufacturing apparatus shown in FIG. In addition, the crucible 1 is moved from the side heater 3 to the crucible 1.
Heat is applied to the top and side surfaces of the device by radiation. Heat is taken away from the lower surface of the crucible 1 to the space below by radiation, and from the lower part of the crucible 1 to the crucible support bar 2 by conduction.

【0030】結局、結晶溶液内の温度分布は、側面ヒー
ター3から坩堝1の上面への伝熱量をQ1、側面ヒータ
ー3から坩堝1の側面への伝熱量をQ2、坩堝1の底面
から下方への熱伝導をQ3とすると、Q1、Q2、Q3の総
合的なバランスにより決定される。
Eventually, the temperature distribution in the crystal solution is such that the heat transfer from the side heater 3 to the upper surface of the crucible 1 is Q 1 , the heat transfer from the side heater 3 to the side of the crucible 1 is Q 2 , Assuming that the downward heat conduction is Q 3 , it is determined by the overall balance of Q 1 , Q 2 , and Q 3 .

【0031】そして坩堝1が水平である場合は、等温度
線15は坩堝1の中心に対して対称形になり、その結
果、図11に示すような水平な結晶成長縞16が生じ
る。
When the crucible 1 is horizontal, the isothermal line 15 becomes symmetrical with respect to the center of the crucible 1, resulting in horizontal crystal growth stripes 16 as shown in FIG.

【0032】しかし、坩堝1が傾いている場合、結晶溶
液により図12に示すような傾いた等温度線を生じてし
まう。その結果、結晶成長縞は図13に示すような傾い
た形や、図14に示すような下に凸形になってしまう。
なお、以上の解析は本発明者が初めて行ったものであ
る。
However, when the crucible 1 is tilted, the crystal solution causes a tilted isothermal line as shown in FIG. As a result, the crystal growth stripes have an inclined shape as shown in FIG. 13 or a convex shape as shown in FIG.
The above analysis was performed by the present inventor for the first time.

【0033】本発明においては側面ヒーター3を回転さ
せ、代りに坩堝1は回転させないことにより、上述した
坩堝1の傾斜の問題を解決する。坩堝を回転させなけれ
ば、坩堝1の振動を著しく減少させることが出来る。ま
た、側面ヒーター3が回転するため、坩堝1の横断面内
の温度分布において、坩堝1の中心に対して対称な温度
分布を持たせることが出来る。よって本発明により大口
径単結晶の光学材を製造することが可能になる。
In the present invention, the above-mentioned problem of the inclination of the crucible 1 is solved by rotating the side heater 3 and not rotating the crucible 1 instead. If the crucible is not rotated, the vibration of the crucible 1 can be significantly reduced. In addition, since the side heater 3 rotates, the temperature distribution in the cross section of the crucible 1 can have a symmetrical temperature distribution with respect to the center of the crucible 1. Therefore, according to the present invention, it becomes possible to manufacture a large diameter single crystal optical material.

【0034】また、坩堝1と側面ヒーター3との間に均
熱筒11を設置し、該均熱筒11を回転させる。側面ヒ
ーター3から発せられた熱は、均熱筒11に輻射により
伝わり、均熱筒11からさらに坩堝11に伝わる。ここ
で、均熱筒11が回転しているため、坩堝1の横断面内
の温度分布において、坩堝1の中心に対して対称な温度
分布を持たせることが出来る。よって本発明により大口
径の結晶の光学材を製造することが可能になる。
Further, a soaking tube 11 is provided between the crucible 1 and the side heater 3, and the soaking tube 11 is rotated. The heat generated from the side heater 3 is transmitted to the soaking tube 11 by radiation, and further transmitted from the soaking tube 11 to the crucible 11. Here, since the heat equalizing cylinder 11 is rotating, the temperature distribution in the cross section of the crucible 1 can have a symmetrical temperature distribution with respect to the center of the crucible 1. Therefore, according to the present invention, it becomes possible to manufacture a large-diameter crystal optical material.

【0035】[0035]

【発明の実施の形態】以下実施例を挙げて本発明をより
具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限られ
るものではなく、本発明の目的が達成されるものであれ
ば、各構成要素が代替物に置換されたものであってもよ
い。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited to these examples, as long as the object of the present invention is achieved. Each component may be replaced with a substitute.

【0036】以下に図面を参照して本発明の実施の形態
を説明する。図示した実施の形態の装置で原料を収容す
る領域は図示されている場合以外でも構わない。
An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. The region for accommodating the raw materials in the apparatus of the illustrated embodiment may be other than that illustrated.

【0037】(第1の実施の形態)図1は、本発明の第
1の実施の形態に係る結晶製造装置の模式的な断面図で
ある。
(First Embodiment) FIG. 1 is a schematic sectional view of a crystal manufacturing apparatus according to a first embodiment of the present invention.

【0038】第1の実施の形態は、側面ヒーターを回転
させる側面ヒーター回転機構を有する形態である。
The first embodiment is an embodiment having a side heater rotating mechanism for rotating the side heater.

【0039】図1における結晶製造装置は、炉室6を形
成する筐体5と、炉室6内に配置され、例えばグラファ
イト製の側面ヒーター3とからなる。本例では、側面ヒ
ーター3は上下が開放した円筒形をしている該側面ヒー
ター3には、側面ヒーター用電源8から電力が供給され
る。ここでは特に図示しないが、電力が供給される側面
ヒーターの電極はブラシを用い、またそのブラシと該側
面ヒーターの接触位置は側面ヒーターの上端と下端に位
置し、該側面ヒーター3の回転に際し、常に一定の電力
が供給可能な機構になっている。また、電力はヒーター
用制御装置9によって制御される。
The crystal manufacturing apparatus shown in FIG. 1 comprises a casing 5 forming a furnace chamber 6 and a side heater 3 made of, for example, graphite and arranged in the furnace chamber 6. In this example, the side heater 3 has a cylindrical shape whose top and bottom are open. Electric power is supplied from a side heater power supply 8 to the side heater 3. Although not specifically shown here, the electrode of the side heater to which power is supplied uses a brush, and the contact positions of the brush and the side heater are located at the upper end and the lower end of the side heater. It is a mechanism that can always supply constant power. The electric power is controlled by the heater control device 9.

【0040】坩堝1は、例えばグラファイトもしくはプ
ラチナ製である。また、筐体5の内側には表面を良く研
磨されたグラファイト製の側面断熱部材4が設置され筐
体5を高熱から保護する。
The crucible 1 is made of, for example, graphite or platinum. A side heat insulating member 4 made of graphite whose surface is polished well is installed inside the housing 5 to protect the housing 5 from high heat.

【0041】筐体5はステンレス製の2重の円筒であ
り、円筒間には不図示の断熱部材を備えている。
The housing 5 is a double cylinder made of stainless steel, and a heat insulating member (not shown) is provided between the cylinders.

【0042】筐体5の下部から筐体5を突き抜ける形で
坩堝支持棒2が設置され坩堝1を支えている。坩堝昇降
用モーター2aは坩堝昇降用電源2bから電力を供給さ
れるが、その電力は昇降用制御装置12によって制御さ
れる。
A crucible support rod 2 is provided so as to penetrate the housing 5 from the lower part of the housing 5 and supports the crucible 1. The crucible elevating motor 2a is supplied with electric power from a crucible elevating power supply 2b, and the electric power is controlled by the elevating controller 12.

【0043】該側面ヒーターの下部外部には、側面ヒー
ター回転シャフト10が設けられている。側面ヒーター
の下部外部に抵触させ側面ヒーター回転シャフト10が
設けられている。該側面ヒーター3は側面ヒーター回転
用モーター3bにより回転する。該側面ヒーター回転用
モーター3bは側面ヒーター回転用電源8aから電力を
供給されるが、その電力は昇降用制御装置13によって
制御される。
Outside the lower portion of the side heater, a side heater rotating shaft 10 is provided. A side heater rotating shaft 10 is provided so as to be in contact with the lower outside of the side heater. The side heater 3 is rotated by a side heater rotation motor 3b. The side heater rotation motor 3b is supplied with electric power from the side heater rotation power supply 8a, and the electric power is controlled by the elevation control device 13.

【0044】また必要に応じ、側面ヒーター回転シャフ
ト10の一部に断熱手段として側面ヒーター回転シャフ
ト断熱部材10bを設け、該側面ヒーター3から、該側
面ヒーター回転シャフト10に伝わり炉室6外ヘ放出さ
れる熱量を制限している。
If necessary, a side heater rotating shaft heat insulating member 10b is provided as a heat insulating means in a part of the side heater rotating shaft 10, and the heat is transmitted from the side heater 3 to the side heater rotating shaft 10 and discharged to the outside of the furnace chamber 6. Limit the amount of heat that can be applied.

【0045】断熱部材としては、MgO、セラミック、
金属メッシュ、耐熱煉瓦、多孔カーボンが好ましい。ま
た、MgO、セラミック、金属メッシュ、耐熱煉瓦、多
孔カーボンの各組み合わせでもよい。
As the heat insulating member, MgO, ceramic,
Metal mesh, heat-resistant brick, and porous carbon are preferred. Further, each combination of MgO, ceramic, metal mesh, heat-resistant brick, and porous carbon may be used.

【0046】この結晶製造装置では、坩堝1が回転しな
いため、坩堝1が振動せず、坩堝1を常に水平に保つこ
とが出来る。そのため高品質の大口径(250mm以
上)の結晶を製造できる。また、炉室6の上下に必要に
応じて断熱部材を設けてもよい。
In this crystal manufacturing apparatus, since the crucible 1 does not rotate, the crucible 1 does not vibrate and the crucible 1 can always be kept horizontal. Therefore, high-quality large-diameter (250 mm or more) crystals can be produced. Further, heat insulating members may be provided above and below the furnace chamber 6 as necessary.

【0047】(第2の実施の形態)図2は、本発明の第
2の実施の形態に係る結晶製造装置の模式的な断面図で
ある。第2の実施例は、第1の実施の形態と同じである
が、坩堝1内が仕切り板1aにより複数の領域7に分け
られている点のみが異なる。他の点は第1の実施の形態
と同様である。
(Second Embodiment) FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of a crystal manufacturing apparatus according to a second embodiment of the present invention. The second embodiment is the same as the first embodiment, except that the inside of the crucible 1 is divided into a plurality of regions 7 by a partition plate 1a. Other points are the same as in the first embodiment.

【0048】本形態では、坩堝1内が仕切り板1aによ
り複数の領域に分けられているため水平方向の温度分布
がより均一となり、より一層均一な高品質、大口径の結
晶を製造できる。
In the present embodiment, since the inside of the crucible 1 is divided into a plurality of regions by the partition plate 1a, the temperature distribution in the horizontal direction becomes more uniform, and a more uniform high-quality, large-diameter crystal can be manufactured.

【0049】(第3の実施の形態)図3は、本発明の第
3の実施の形態に係る結晶製造装置の模式的な断面図で
ある。第3の実施の形態は、側面ヒーター3と坩堝1と
の間に、回転機構を備えた均熱筒11を有する形態であ
る。
(Third Embodiment) FIG. 3 is a schematic sectional view of a crystal manufacturing apparatus according to a third embodiment of the present invention. In the third embodiment, a soaking tube 11 having a rotation mechanism is provided between the side heater 3 and the crucible 1.

【0050】すなわち、坩堝1と側面ヒーター3の間に
均熱筒11を有している。均熱筒11はグラファイトも
しくはプラチナ製である。該均熱筒の下部に均熱筒回転
シャフト14が設けられ、均熱筒11は均熱筒回転モー
ター14aにより回転する。該均熱筒回転用モーター1
4aは均熱筒用電源14bから電力を供給されるが、そ
の電力は回転制御装置13によって制御される。
That is, a soaking tube 11 is provided between the crucible 1 and the side heater 3. The soaking cylinder 11 is made of graphite or platinum. A heat equalizing cylinder rotating shaft 14 is provided below the heat equalizing cylinder, and the heat equalizing cylinder 11 is rotated by a heat equalizing cylinder rotating motor 14a. Motor 1 for rotating the soaking cylinder
4 a is supplied with electric power from the power supply for boiler 14 b, and the electric power is controlled by the rotation control device 13.

【0051】また必要に応じ均熱筒回転シャフト14の
一部に断熱手段として均熱筒回転シャフト断熱部材14
cを有し、該均熱筒11から該均熱筒回転シャフト伝わ
り炉外へ放出される熱量を制限している。他の点は第1
の実施の形態と同様であるので説明を省略する。
If necessary, a part of the rotary shaft 14 for heat equalizing cylinder may be used as a heat insulating means.
c to limit the amount of heat released from the heat equalizing cylinder 11 to the outside of the furnace through the rotary shaft of the heat equalizing cylinder. Other points are the first
The description is omitted because it is the same as that of the first embodiment.

【0052】この結晶製造装置では、均熱筒11を介し
て間接的に坩堝に熱を与えており、さらに、坩堝1が回
転しないため、坩堝1が振動せず、坩堝を常に水平に保
つことが出来るため、より一層温度分布を均一に保つこ
とができる。また、炉室6の上下に必要に応じて断熱部
材を設けてもよい。
In this crystal production apparatus, heat is applied to the crucible indirectly through the soaking tube 11. Further, since the crucible 1 does not rotate, the crucible 1 does not vibrate and the crucible is always kept horizontal. Therefore, the temperature distribution can be kept even more uniform. Further, heat insulating members may be provided above and below the furnace chamber 6 as necessary.

【0053】(第4の実施の形態)図4は、本発明の第
4の実施の形態に係る結晶製造装置の模式的な断面図で
ある。第4の実施の形態は、第3の実施の形態と同じで
ある、が坩堝1内が仕切り板1aにより複数の領域7に
分けられている点のみが異なる。
(Fourth Embodiment) FIG. 4 is a schematic sectional view of a crystal manufacturing apparatus according to a fourth embodiment of the present invention. The fourth embodiment is the same as the third embodiment, except that the inside of the crucible 1 is divided into a plurality of regions 7 by a partition plate 1a.

【0054】また必要に応じ均熱筒回転シャフト14は
その1部に均熱筒回転シャフト断熱部材14cを有し、
該均熱筒から、該均熱筒回転シャフト伝わり炉外へ放出
される熱量を制限している。この装置では、坩堝1が回
転しないため、該坩堝が振動せず、該坩堝を常に水平に
保つことが出来る。また、炉室6の上下に必要に応じて
断熱部材を設けてもよい。
If necessary, the heat equalizing cylinder rotating shaft 14 has a heat equalizing cylinder rotating shaft heat insulating member 14c at a part thereof.
The amount of heat released from the heat equalizing cylinder to the outside of the furnace through the rotary shaft of the heat equalizing cylinder is limited. In this apparatus, since the crucible 1 does not rotate, the crucible does not vibrate, and the crucible can always be kept horizontal. Further, heat insulating members may be provided above and below the furnace chamber 6 as necessary.

【0055】[0055]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
側面ヒーターに回転機構を設置するという簡単な方法
で、坩堝断面内の温度分布において、坩堝中心に対して
対称な温度分布を持たせつつ、坩堝を水平に保つことが
出来るので、良質な大口径蛍石等の結晶を製造すること
ができる。
As described above, according to the present invention,
With a simple method of installing a rotating mechanism on the side heater, the crucible can be kept horizontal while maintaining a symmetrical temperature distribution with respect to the center of the crucible in the temperature distribution in the cross section of the crucible. Crystals such as fluorite can be produced.

【0056】また、本発明によれば、坩堝上と側面ヒー
ターの間に、回転機構を備えた均熱筒を設置するという
簡単な方法で、坩堝断面内の温度分布において、坩堝中
心に対して対称な温度分布を持たせつつ、坩堝を水平に
保つことが出来るので、良質な大口径蛍石等の結晶を製
造することできる。
Further, according to the present invention, the temperature distribution in the crucible cross-section can be adjusted with respect to the center of the crucible by a simple method of installing a soaking tube having a rotating mechanism between the top of the crucible and the side heater. Since the crucible can be kept horizontal while having a symmetrical temperature distribution, it is possible to produce high-quality crystals such as large-diameter fluorite.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施の形態にかかる製造装置の
概略垂直断面図である。
FIG. 1 is a schematic vertical sectional view of a manufacturing apparatus according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第2の実施の形態にかかる製造装置の
概略垂直断面図である。
FIG. 2 is a schematic vertical sectional view of a manufacturing apparatus according to a second embodiment of the present invention.

【図3】本発明の第3の実施の形態にかかる製造装置の
概略垂直断面図である。
FIG. 3 is a schematic vertical sectional view of a manufacturing apparatus according to a third embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第4の実施の形態にかかる製造装置の
概略垂直断面図である。
FIG. 4 is a schematic vertical sectional view of a manufacturing apparatus according to a fourth embodiment of the present invention.

【図5】従来の1室タイプ・ブロックタイプ「るつぼ降
下法製造装置」の慨略垂直断面図である。
FIG. 5 is a schematic vertical sectional view of a conventional one-chamber type / block type “crucible descent method manufacturing apparatus”.

【図6】従来の2室タイプ・ブロックタイプ「るつぼ降
下法製造装置」の概略垂直断面図である。
FIG. 6 is a schematic vertical sectional view of a conventional two-chamber type / block type “crucible descent method manufacturing apparatus”.

【図7】ディスクタイプ「るつぼ降下法製造装置」の概
略垂直断面図である。
FIG. 7 is a schematic vertical sectional view of a disk type “crucible descent method manufacturing apparatus”.

【図8】従来の坩堝回転機構を備えたディスクタイプ
「るつぼ降下法製造装置」の概略垂直断面図である。
FIG. 8 is a schematic vertical sectional view of a disk type “crucible descent method manufacturing apparatus” equipped with a conventional crucible rotation mechanism.

【図9】従来のブロックタイプの坩堝における熱の流れ
を示す模式図である。
FIG. 9 is a schematic diagram showing the flow of heat in a conventional block type crucible.

【図10】従来のディスクタイプの坩堝における熱の流
れを示す模式図である。
FIG. 10 is a schematic diagram showing the flow of heat in a conventional disk-type crucible.

【図11】水平な結晶成長縞の模式図である。FIG. 11 is a schematic diagram of horizontal crystal growth stripes.

【図12】傾いた坩堝内における結晶溶液の等温度線の
模式図である。
FIG. 12 is a schematic diagram of an isothermal line of a crystal solution in a tilted crucible.

【図13】傾いた結晶成長縞の模式図である。FIG. 13 is a schematic view of a tilted crystal growth stripe.

【図14】下に凸形の結晶成長縞の模式図である。FIG. 14 is a schematic diagram of a downward convex crystal growth stripe.

【符号の説明】 1 坩堝、 1a 坩堝仕切り板、 1b 孔、 2 坩堝支持棒、 2a 坩堝昇降モーター、 2b 坩堝昇降モーター用電源、 2c 坩堝回転モーター、 2 坩堝回転用電源、 3 側面ヒーター、 3b 側面ヒーター回転モーター、 4 側面断熱部材、 5 筐体(チャンバー)、 6 炉室、 7 領域、 8 側面ヒーター加熱用電源、 8a 側面ヒーター回転用電源、 9 ヒーター用制御装置、 10 側面ヒーター回転シャフト、 11 側面ヒーター回転シャフト断熱部材、 12 昇降制御装置、 13 回転制御装置、 14 均熱筒回転シャフト、 14a 均熱筒回転モーター、 14b 均熱筒回転用電源、 14c 均熱筒回転シャフト断熱部材、 15 等温度線、 16 結晶成長縞。[Description of Signs] 1 crucible, 1a crucible partition plate, 1b hole, 2 crucible support rod, 2a crucible lifting motor, 2b power supply for crucible lifting motor, 2c crucible rotation motor, 2 power supply for crucible rotation, 3 side heater, 3b side surface Heater rotation motor, 4 side heat insulation member, 5 housing (chamber), 6 furnace room, 7 area, 8 side heater heating power supply, 8a side heater rotation power supply, 9 heater control device, 10 side heater rotation shaft, 11 Side heater rotating shaft heat insulating member, 12 elevation control device, 13 rotation control device, 14 equalizing cylinder rotating shaft, 14a equalizing cylinder rotating motor, 14b power supply for equalizing cylinder rotation, 14c equalizing cylinder rotating shaft heat insulating member, 15 etc. Temperature line, 16 crystal growth fringes.

Claims (24)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 円筒形の坩堝中の結晶性物質を上部・下
部・側面のうち一カ所、もしくは複数カ所に設けられた
ヒーターにより加熱し熔融させ、坩堝を引き下げること
により該結晶性物質を冷却して結晶化させる結晶製造装
置において、該側面ヒーターを回転させるための側面ヒ
ーター回転機構を設けたことを特徴とする結晶製造装
置。
1. The crystalline material in a cylindrical crucible is heated and melted by a heater provided at one or more of upper, lower and side surfaces, and is cooled by lowering the crucible. 1. A crystal manufacturing apparatus, comprising: a side heater rotating mechanism for rotating said side heater, wherein said crystal manufacturing apparatus is configured to perform crystallization.
【請求項2】 前記側面ヒーター回転機構は、側面ヒー
ターの上部、下部、側部のうち一ヵ所、もしくは複数ヵ
所に設けられた側面ヒーター回転シャフトと該回転シャ
フトを回転させるための回転モーターとからなることを
特徴とする請求項1記載の結晶製造装置。
2. The side heater rotating mechanism includes a side heater rotating shaft provided at one or more of an upper portion, a lower portion, and a side portion of the side heater, and a rotating motor for rotating the rotating shaft. The crystal manufacturing apparatus according to claim 1, wherein:
【請求項3】 前記側面ヒーター回転シャフトの少なく
とも1区間が断熱手段からなることを特徴とする請求項
2記載の結晶製造装置。
3. The crystal manufacturing apparatus according to claim 2, wherein at least one section of said side heater rotating shaft is made of heat insulating means.
【請求項4】 前記断熱部材は、断熱部材あることを特
徴とする請求項3記載の結晶製造装置。
4. The apparatus according to claim 3, wherein the heat insulating member is a heat insulating member.
【請求項5】 前記断熱部材は、MgO、セラミック、
金属メッシュ、耐熱耐火煉瓦、多孔カーボンから選択さ
れる材料からなることを特徴とする請求項4記載の結晶
製造装置。
5. The heat insulating member is made of MgO, ceramic,
The crystal manufacturing apparatus according to claim 4, wherein the apparatus is made of a material selected from a metal mesh, a heat-resistant refractory brick, and porous carbon.
【請求項6】 前記断熱部材は、MgO、セラミック、
金属メッシュ、耐熱耐火煉瓦、多孔カーボンの各組み合
わせから選択される材料からなることを特徴とする請求
項4記載結晶製造装置。
6. The heat insulating member is made of MgO, ceramic,
The crystal manufacturing apparatus according to claim 4, wherein the apparatus is made of a material selected from a combination of a metal mesh, a heat-resistant refractory brick, and porous carbon.
【請求項7】 前記坩堝は、前記原料を収容する領域を
唯一有していることを特徴とする請求項1ないし6のい
ずれか1項記載の結晶製造装置。
7. The crystal manufacturing apparatus according to claim 1, wherein the crucible has only one area for accommodating the raw material.
【請求項8】 前記坩堝は、仕切り板を備え、前記原料
を収容する領域が複数に分けられていることを特徴とす
る請求項1ないし6のいずれか1項記載の結晶製造装
置。
8. The crystal production apparatus according to claim 1, wherein the crucible includes a partition plate, and a region for accommodating the raw material is divided into a plurality of regions.
【請求項9】 前記仕切り板の少なくとも1つは、中央
に孔を有し、該孔を介して上下の前記領域が連通してい
ることを特徴とする請求項8記載の結晶製造装置。
9. The crystal manufacturing apparatus according to claim 8, wherein at least one of the partition plates has a hole in the center, and the upper and lower regions communicate with each other through the hole.
【請求項10】 前記結晶性物質は蛍石であることを特
徴とする請求項1ないし9のいずれか1項記載の結晶性
製造装置。
10. The apparatus according to claim 1, wherein the crystalline substance is fluorite.
【請求項11】 円筒形の坩堝中の結晶性物質を側面ヒ
ーターにより加熱し熔融させ、坩堝を引き下げることに
より該結晶性物質を冷却して結晶化させる結晶製造方法
において、該坩堝を回転させることなく該側面ヒーター
を回転させながら引き下げを行い該結晶性物質の冷却を
行い結晶化させることを特徴とする結晶製造方法。
11. A method for producing a crystal in which a crystalline substance in a cylindrical crucible is heated and melted by a side heater, and the crystalline substance is cooled and crystallized by pulling down the crucible, wherein the crucible is rotated. A method for producing a crystal, comprising: lowering a crystal while rotating the side heater to cool the crystalline substance;
【請求項12】 前記結晶性物質は蛍石であることを特
徴とする請求項11記載の結晶製造方法。
12. The method according to claim 11, wherein the crystalline substance is fluorite.
【請求項13】 円筒形の坩堝中の結晶性物質を側面ヒ
ーターにより加熱し熔融させ、坩堝を引き下げることに
より該結晶性物質を冷却して結晶化させる結晶製造装置
において、該堝と該側面ヒーターとの間に円筒形の均熱
筒と、該均熱筒を回転させるための均熱筒回転機構とを
設けたことを特徴とする結晶製造装置。
13. A crystal manufacturing apparatus for heating and melting a crystalline material in a cylindrical crucible by a side heater and cooling the crystalline material by pulling down the crucible, wherein the crucible and the side heater A crystal manufacturing apparatus, comprising: a cylindrical soaking cylinder; and a soaking cylinder rotating mechanism for rotating the soaking cylinder.
【請求項14】 前記均熱筒回転機構は、均熱筒の上
部、下部、側部のうち一ヵ所、もしくは複数ヵ所に設け
られた均熱筒回転シャフトと該均熱筒回転シャフトを回
転させるための回転モーターとからなることを特徴とす
る請求項13記載の結晶製造装置。
14. The soaking cylinder rotating mechanism rotates the soaking cylinder rotating shaft and the soaking cylinder rotating shaft provided at one or more of upper, lower and side portions of the soaking cylinder. 14. The crystal production apparatus according to claim 13, comprising a rotation motor for the purpose.
【請求項15】 前記均熱筒回転シャフトの少なくとも
1区間が断熱手段からなることを特徴とする請求項14
記載の結晶製造装置。
15. The heat equalizing cylinder rotating shaft according to claim 14, wherein at least one section comprises a heat insulating means.
The crystal manufacturing apparatus according to the above.
【請求項16】 前記断熱部材は、断熱部材あることを
特徴とする請求項15記載の結晶製造装置。
16. The crystal manufacturing apparatus according to claim 15, wherein said heat insulating member is a heat insulating member.
【請求項17】 前記断熱部材は、MgO、セラミッ
ク、金属メッシュ、耐熱耐火煉瓦、多孔カーボンから選
択される材料からなることを特徴とする請求項16記載
の結晶製造装置。
17. The crystal manufacturing apparatus according to claim 16, wherein the heat insulating member is made of a material selected from MgO, ceramic, metal mesh, heat-resistant refractory brick, and porous carbon.
【請求項18】 前記断熱部材は、MgO、セラミッ
ク、金属メッシュ、耐熱耐火煉瓦、多孔カーボンの各組
み合わせから選択される材料からなることを特徴とする
請求項16記載結晶製造装置。
18. The crystal manufacturing apparatus according to claim 16, wherein the heat insulating member is made of a material selected from a combination of MgO, ceramic, metal mesh, heat-resistant refractory brick, and porous carbon.
【請求項19】 前記坩堝は、前記原料を収容する領域
を唯一有していることを特徴とする請求項13ないし1
8のいずれか1項記載の結晶製造装置。
19. The crucible according to claim 13, wherein the crucible has only one area for accommodating the raw material.
9. The crystal production apparatus according to any one of items 8 to 8.
【請求項20】 前記坩堝は、仕切り板を備え、前記原
料を収容する領域が複数に分けられていることを特徴と
する請求項13ないし18のいずれか1項記載の結晶製
造装置。
20. The crystal production apparatus according to claim 13, wherein the crucible has a partition plate, and a region for accommodating the raw material is divided into a plurality of regions.
【請求項21】 前記仕切り板の少なくとも1つは、中
央に孔を有し、該孔を介して上下の前記領域が連通して
いることを特徴とする請求項20記載の結晶製造装置。
21. The crystal manufacturing apparatus according to claim 20, wherein at least one of the partition plates has a hole in the center, and the upper and lower regions communicate with each other through the hole.
【請求項22】 前記結晶性物質は蛍石であることを特
徴とする請求項13ないし21のいずれか1項記載の結
晶性製造装置。
22. The apparatus according to claim 13, wherein the crystalline substance is fluorite.
【請求項23】 円筒形の坩堝中の結晶性物質を側面
ヒーターにより加熱し熔融させ、坩堝を引き下げること
により該結晶性物質を冷却して結晶化させる結晶製造方
法において、該坩堝と側面ヒーターとの間に均熱筒を設
け、該坩堝を回転させることなく該均熱筒を回転させな
がら引き下げを行い該結晶性物質の冷却を行い結晶化さ
せることを特徴とする結晶製造方法。
23. A method for producing a crystal in which a crystalline material in a cylindrical crucible is heated and melted by a side heater, and the crystalline material is cooled and crystallized by pulling down the crucible. A method for producing a crystal, comprising: providing a soaking tube between them, and lowering while rotating the soaking tube without rotating the crucible to cool the crystalline substance to crystallize.
【請求項24】 前記結晶性物質は蛍石であることを特
徴とする請求項23記載の結晶製造方法。
24. The method according to claim 23, wherein the crystalline substance is fluorite.
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