JPH1186314A - Optical element for spot shaping - Google Patents

Optical element for spot shaping

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JPH1186314A
JPH1186314A JP9236809A JP23680997A JPH1186314A JP H1186314 A JPH1186314 A JP H1186314A JP 9236809 A JP9236809 A JP 9236809A JP 23680997 A JP23680997 A JP 23680997A JP H1186314 A JPH1186314 A JP H1186314A
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spot
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phase displacement
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渉 小田島
Shinya Hasegawa
信也 長谷川
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To simultaneously embody the degradation of a side lobe and the reduction of a spot diameter while suppressing the degradation in central intensity by forming a phase displacement region specified in an opening diameter and thickness on the opening surface of an optical element consisting of a transparent material and changing the phase of the light past the phase displacement region without changing the phase of the light past the regions exclusive of the phase displacement region. SOLUTION: The optical element 2 for spot shaping is formed of the transparent glass material to nearly a short columnar shape and is arranged between the collimating lens 80 of a light source 1 and a beam splitter 82. The optical element 2 for spot shaping has the concentric belt-like phase displacement region 3. The diameter in the central part of the circular belt of the phase displacement region 3 is >=50% in the opening diameter. The phase displacement region is formed to vary in the thickness from the remaining region in the region on the side inner than the outer periphery of the opening. The phase displacement quantity in the phase displacement region 3 is set at <=1/2 the wavelength, more preferably about 1/5 wavelength. The phase displacement region is formed by partial thin film vapor deposition, etching or lithography.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はスポット整形用光学
素子に関し、特に光ヘッド装置において記録媒体上での
光スポット形状を変化させ、読み取り、書き込み精度を
高めるために有用なスポット整形用光学素子に関するも
のである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a spot-shaping optical element, and more particularly to a spot-shaping optical element useful for changing the shape of a light spot on a recording medium in an optical head device and improving reading and writing accuracy. Things.

【0002】[0002]

【従来の技術】例えば光ヘッド装置における記録密度を
高めるためには記録媒体上の集光スポットを小さくする
ことが必要であり、そのための有効な手段として超解像
現象が利用される。この超解像現象は、光束の中心部分
を不透明な遮蔽板により遮り、光強度の空間分布を変化
させて回折限界より小さなスポットを得るものである
が、光束中心を遮るものであるために、光量損失が発生
し、光源からの光を有効に使うことができないという欠
点がある。
2. Description of the Related Art For example, in order to increase the recording density in an optical head device, it is necessary to reduce a condensed spot on a recording medium, and the super-resolution phenomenon is used as an effective means for that. This super-resolution phenomenon is to block the central part of the light beam with an opaque shielding plate and change the spatial distribution of light intensity to obtain a spot smaller than the diffraction limit, but because it blocks the light beam center, There is a disadvantage in that light quantity loss occurs and light from the light source cannot be used effectively.

【0003】かかる欠点を解消するために、位相フィル
タを使用することにより光束の中心部分に対して位相を
1/2波長変化させて遮蔽板と同じ効果を生じさせる技
術も提案されているが、この方法においても、光量損失
は解決されるものの、超解像現象に伴う以下の欠点を解
消することはできない。
In order to solve such a drawback, a technique has been proposed in which a phase filter is used to change the phase of the central portion of the light beam by a half wavelength to produce the same effect as that of a shielding plate. Although this method can solve the light amount loss, it cannot solve the following disadvantages associated with the super-resolution phenomenon.

【0004】すなわち、超解像によりスポット径を縮小
すると、中心のメインスポットのほかに、その周りにサ
イドローブと呼ばれる強度分布が顕著に現われる。この
結果、中心スポットが縮小されたとしても、サイドロー
ブの発生により目的の記録に隣接した記録を同時に読み
取ってしまい、クロストークや読み取り信号のジッター
が生じ、信号の精度を低下させる。
[0004] That is, when the spot diameter is reduced by super-resolution, in addition to the central main spot, an intensity distribution called a side lobe appears remarkably around the main spot. As a result, even if the center spot is reduced, the recording adjacent to the target recording is read at the same time due to the generation of side lobes, causing crosstalk and jitter of the read signal, thereby lowering the signal accuracy.

【0005】また、超解像によるスポット径の縮小に伴
ってスポット中心のピーク強度が低下し、記録書き込み
時に重要な問題となる。つまり、記録媒体上に記録を書
き込む際には光磁気効果、相変化、化学変化など方式に
かかわらず、集光したレーザ光で記録媒体5を局所的に
し、記録面を変化させるものであるから、スポット中心
には高い光強度が要求されるが、十分な光強度が得られ
ないと安定な記録の書き込みが行われない問題や書き込
み速度の高速化に対する障害となる。
[0005] In addition, the peak intensity at the center of the spot decreases as the spot diameter decreases due to the super-resolution, which is an important problem at the time of recording and writing. In other words, when recording is performed on the recording medium, the recording medium 5 is localized by the focused laser light to change the recording surface regardless of the method such as the magneto-optical effect, the phase change, and the chemical change. However, high light intensity is required at the center of the spot, but if sufficient light intensity is not obtained, there is a problem in that stable recording is not written or an obstacle to an increase in writing speed.

【0006】さらに、光ヘッドの光源として一般に使用
される半導体レーザはp型半導体とn型半導体の接合面
から発散したレーザ光を出射し、この面に対して垂直方
向の光は、水平方向の光に比べて大きく広がって出射さ
れる。この出射光を補正を行わずにコリメータレンズで
平行光束に変換した場合、出射光の拡がり角の違いによ
り水平方向に比べて垂直方向の方が一様強度に近くな
る。平行光束断面の強度分布が方向によって異なると、
集光スポットの形状もそれに伴って方向により変化す
る。中心からはなれると強度が著しく低下するような強
度分布を持つ光束を集光すると、スポット径は大きくな
ってしまう。光強度分布が互いに直交する方向で異なる
と、スポットは楕円形になる。そのために平行光束を真
円補正により、強度分布をどの方向でも同じように補正
する必要がある。
Further, a semiconductor laser generally used as a light source of an optical head emits laser light diverging from a junction surface between a p-type semiconductor and an n-type semiconductor, and light perpendicular to this surface is emitted in a horizontal direction. The light is emitted while being greatly expanded compared to the light. When this emitted light is converted into a parallel light beam by a collimator lens without performing correction, the intensity in the vertical direction is closer to the uniform intensity in the vertical direction than in the horizontal direction due to the difference in the spread angle of the emitted light. If the intensity distribution of the parallel light beam cross section differs depending on the direction,
The shape of the focused spot also changes depending on the direction. If a light beam having an intensity distribution such that the intensity is significantly reduced when it is separated from the center is condensed, the spot diameter becomes large. If the light intensity distributions differ in directions orthogonal to each other, the spot will be elliptical. For that purpose, it is necessary to correct the intensity distribution in the same way in any direction by correcting the parallel light beam by perfect circle correction.

【0007】このために半導体レーザからの出射光をコ
リメート光学系で平行光に変換した後、プリズム光学系
でビーム径を一方向だけ拡大する方法がある。しかしこ
れは高価であるという欠点を有する。
For this purpose, there is a method in which light emitted from a semiconductor laser is converted into parallel light by a collimating optical system, and then the beam diameter is increased in one direction by a prism optical system. However, this has the disadvantage of being expensive.

【0008】本発明は以上の欠点を解消すべくなされた
もので、中心強度の低下を可及的に抑えつつサイドロー
ブの低下とスポット径の縮小を同時に実現可能なスポッ
ト整形用光学素子の提供を目的とする。
The present invention has been made to solve the above-mentioned drawbacks, and provides a spot shaping optical element capable of simultaneously reducing the side lobe and reducing the spot diameter while minimizing the reduction in center intensity. With the goal.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明によれば上記目的
は、レーザ光の光源1と集光光学系との間に配置され、
集光光学系の集光スポットを整形するスポット整形用光
学素子2であって、透明な材料で形成され、直径Dが光
学系開口面上において開口径D0の50%以上で、か
つ、開口外周より内側の領域に残余の領域と厚みを異な
らせて位相変位領域3を形成し、前記位相変位領域3以
外の領域を通過した光の位相を変化させることなく位相
変位領域3の通過光の位相を変化させるスポット整形用
光学素子2を提供することにより達成される。
According to the present invention, the above object is achieved by disposing a laser beam between a light source 1 and a focusing optical system,
A spot shaping optical element 2 for shaping a converging spot of a converging optical system, which is formed of a transparent material, has a diameter D of 50% or more of an opening diameter D0 on an opening surface of the optical system, and an outer periphery of the opening. The phase shift region 3 is formed by making the thickness different from the remaining region in the inner region, and the phase of light passing through the phase shift region 3 without changing the phase of light passing through the region other than the phase shift region 3. Is achieved by providing the spot shaping optical element 2 that changes

【0010】本発明において、位相変位領域3は残余の
領域に対して厚さを異ならせることにより形成される。
残余の領域と厚さが異なる位相変位領域3を通過した光
束は光路長が残余の領域と相違することから位相が変化
し、全体として位相フィルタとして機能する。厚さを変
化させることにより位相フィルタを構成する本発明にお
いて、例えば位相シフト膜を形成する場合に比して製造
が簡単になるという利点がある。すなわち、材料の屈折
率をn、光の波長をλ、厚さの変化をΔd、位相変位を
Δφとすると、これらの間には Δφ=2π(n−1)・Δd/λ・・・・・・・(1) の関係が成立する。
In the present invention, the phase shift region 3 is formed by making the thickness different from the remaining region.
The light beam passing through the phase displacement region 3 having a thickness different from that of the remaining region changes its phase because the optical path length is different from that of the remaining region, and functions as a phase filter as a whole. In the present invention in which the phase filter is formed by changing the thickness, there is an advantage that the manufacturing is simplified as compared with the case of forming a phase shift film, for example. That is, assuming that the refractive index of the material is n, the wavelength of light is λ, the change in thickness is Δd, and the phase displacement is Δφ, there is a relation Δφ = 2π (n−1) · Δd / λ. .. (1) is established.

【0011】いま、材料の屈折率を1.5、波長を68
5nmとすると、0.2波長の位相変位を発生させるた
めには、およそ270nmの厚さ変化が必要となるが、
このような厚さ変化は部分的な薄膜蒸着、エッチング、
リソグラフィ等により比較的容易に作成することができ
る。
Now, the refractive index of the material is 1.5 and the wavelength is 68
Assuming a thickness of 5 nm, a thickness change of about 270 nm is required to generate a phase shift of 0.2 wavelength.
Such a change in thickness can be caused by partial thin film deposition, etching,
It can be made relatively easily by lithography or the like.

【0012】また、中心を除く円帯状領域4で位相を異
ならせることにより、集光光学系における集光スポット
のピーク値の低下、およびサイドローブの発生を可及的
に少なくすることができる。
Further, by making the phase different in the circular band-like region 4 except for the center, it is possible to reduce the peak value of the condensed spot in the condensing optical system and minimize the occurrence of side lobes.

【0013】さらにスポット整形用光学素子2は、接触
界面における屈折率の差が夫々の材料と空気との屈折率
の差より小さな屈折率を有する2枚の透明体を重ね合せ
て形成することが可能であり、位相変位領域3はこれら
透明体の接触界面に形成される。
Furthermore, the spot shaping optical element 2 may be formed by superposing two transparent bodies having a difference in refractive index at the contact interface smaller than the difference between the refractive index of each material and air. It is possible, and the phase shift region 3 is formed at the contact interface between these transparent bodies.

【0014】ここで、透明体の接触界面に位相変化領域
を形成するとは、いずれか一方の透明体に上述した厚さ
変化部を形成し、他方の透明体をこの厚さ変化部に噛み
合わせて重ね合せた状態をいうもので、境界位置での凹
凸により位相差が発生する。
Here, to form the phase change region at the contact interface of the transparent body means that the above-mentioned thickness change portion is formed on one of the transparent bodies and the other transparent body is engaged with this thickness change portion. The phase difference is caused by unevenness at the boundary position.

【0015】屈折率n1、n2の異なる2枚の透明体を重
ね合せた場合には、上述の(1)式で与えられた関係は Δφ=2π(n1−n2)・Δd/λ・・・・・・・(2) で与えられることとなり、n1、n2が近い値を持つ材料
を選択することで、同じ位相差を発生させるために必要
なΔdは(1)式のΔdに比べて大きくすることができ
る。
When two transparent bodies having different refractive indices n1 and n2 are superimposed, the relationship given by the above equation (1) is: Δφ = 2π (n1−n2) · Δd / λ. ... (2), and by selecting a material in which n1 and n2 are close to each other, Δd required to generate the same phase difference is larger than Δd in equation (1). can do.

【0016】例えばポリスチレン(nC=1.578)
とガラス材料BaF3(nC=1.57893)を透明体
として使用した場合、屈折率差(n1−n2)は0.00
1となり、位相差0.2波長を発生させるために必要な
厚さ変化は270nmから140μmに拡大する。すな
わち、位相フィルタ製造時の境界位置のずれに関して発
生する位相変位量が鈍感になり、加工精度を低減するこ
とができる。しかも、この程度の精度はレンズの量産技
術で一般的なモールド技術を用いても達成可能であるた
めに、量産化、コストの低減が容易に実現できる。
For example, polystyrene (nC = 1.578)
When the glass material BaF3 (nC = 1.57893) is used as a transparent material, the refractive index difference (n1-n2) is 0.00
The thickness change required to generate 0.2 wavelength of the phase difference expands from 270 nm to 140 μm. That is, the amount of phase displacement caused by the displacement of the boundary position at the time of manufacturing the phase filter becomes insensitive, and the processing accuracy can be reduced. In addition, since such an accuracy can be achieved even by using a general molding technique in lens mass production technology, mass production and cost reduction can be easily realized.

【0017】この場合、位相変位量を1/2波長、もし
くは1/2波長に波長の整数倍の変位量を加えた値とす
ることができる。位相変位量を1/2波長よりも小さ
く、望ましくは1/5波長程度に抑えることで、中心強
度の低下や、サイドローブの増大を抑制することでき
る。
In this case, the amount of phase displacement can be set to 、 wavelength, or a value obtained by adding a displacement amount of an integral multiple of the wavelength to 1 / wavelength. By suppressing the amount of phase displacement to less than 1/2 wavelength, and preferably to about 1/5 wavelength, it is possible to suppress a decrease in center intensity and an increase in side lobes.

【0018】位相変位領域3の正面視における形状は幅
Wが開口径D0のほぼ5%の円帯状の形状とすることが
望ましく、さらに、位相変位領域3を、各々の幅Wが開
口径D0の5%以下である隣接する複数の円帯状領域
4、4・・・から構成し、各円帯状領域4において異な
る位相変位量を不連続に発生させることもできる。ここ
で、円帯状とは、真円のほかに、楕円等も含まれる。ま
た、複数の円帯状領域4、4・・を形成した場合には、
スポット形状制御の自由度が向上する。位相変位量の異
なる複数の円帯状領域4・・・により位相変位領域3を
構成する場合には、隣接する円帯状領域4・・・におけ
る位相変位量の符号が反転するように位相変位領域3を
設計するのが望ましい。
It is desirable that the shape of the phase displacement region 3 in a front view is a circular band shape having a width W of about 5% of the opening diameter D0. ., And a different amount of phase displacement can be generated discontinuously in each of the band-shaped regions 4. Here, the term “circular band shape” includes not only a perfect circle but also an ellipse. When a plurality of circular belt-shaped regions 4, 4,... Are formed,
The degree of freedom in spot shape control is improved. When the phase displacement region 3 is constituted by a plurality of circular band regions 4... Having different phase displacement amounts, the phase displacement regions 3 are arranged such that the signs of the phase displacement amounts in adjacent circular band regions 4. It is desirable to design.

【0019】位相変位領域3は直径Dが開口径D0のほ
ぼ60%の同心真円帯形状に形成するのが望ましい。中
心を光軸にとり、直径Dを開口径D0の約60%程度、
幅Wが開口径D0の5%程度の細い円帯状(リング状)
の位相変位領域3を形成し、光束の上記範囲に位相変位
を発生させることにより、これまでの超解像フィルタと
異なり、スポット径を縮小するだけでなく、サイドロー
ブの低下も実現できる。なお、ここで直径Dとは同心円
帯の中心における直径をさす。
The phase displacement region 3 is desirably formed in a concentric perfect circular band having a diameter D of about 60% of the opening diameter D0. With the center at the optical axis, the diameter D is about 60% of the aperture diameter D0,
A narrow circular band (ring shape) whose width W is about 5% of the opening diameter D0
By forming the phase displacement region 3 and generating a phase displacement in the above range of the light beam, unlike the conventional super-resolution filter, not only the spot diameter can be reduced but also the side lobe can be reduced. Here, the diameter D refers to the diameter at the center of the concentric belt.

【0020】位相変位領域3は、同心円帯以外に請求項
2に係る発明のように楕円帯に形成することが可能であ
る。楕円帯の位相変位領域3を持つスポット整形用光学
素子2は方向依存性を持つ光束の強度分布に対して有効
であり、方向依存性を持つ光束の強度分布に対し楕円帯
状に位相変位を与え、楕円のスポット形状を真円に補正
する。この場合、光源1の放射角度が最大となる方向と
最小となる方向が長軸、および短軸に一致するように設
定される。
The phase displacement region 3 can be formed in an elliptical band other than the concentric band as in the second aspect of the present invention. The spot shaping optical element 2 having the elliptical band phase shift region 3 is effective for the intensity distribution of the direction-dependent light beam, and imparts a phase shift to the intensity distribution of the direction-dependent light beam in an elliptical band shape. , The spot shape of the ellipse is corrected to a perfect circle. In this case, the direction in which the emission angle of the light source 1 is maximum and the direction in which the emission angle is minimum are set so as to coincide with the long axis and the short axis.

【0021】さらに、スポットの真円補正は、請求項3
に係る発明のように、レーザ光の光軸を法線とする面上
の互いに直交する方向で、異なる位相変位を発生させる
ことによっても達成可能であり、この場合、レーザ光の
光源1の放射角度の異なる方向に、異なる位相変位を発
生させる。異なる方向に異なった位相変位を発生させる
には、当該方向の厚みを変化させるだけでよい。
Furthermore, the perfect circle correction of the spot is carried out in claim 3.
Can be achieved by generating different phase displacements in directions orthogonal to each other on a plane normal to the optical axis of the laser light, in which case the laser light is emitted from the light source 1 in this case. Different phase displacements are generated in different directions at different angles. To generate different phase displacements in different directions, it is only necessary to change the thickness in that direction.

【0022】請求項4以下に上述したスポット整形用光
学素子2を利用した光ヘッド装置が提供される。光ヘッ
ド装置は、レーザ光を発生する光源1を有し、光学素子
により記録媒体5上の記録面に集光し、記録面から反射
した光を取り出すように構成されており、光源1と記録
媒体5との間にスポット整形用光学素子2が配置され
る。
An optical head device using the above-described spot shaping optical element 2 is provided. The optical head device has a light source 1 that generates a laser beam, and is configured to collect light on a recording surface on a recording medium 5 by an optical element and take out light reflected from the recording surface. The spot shaping optical element 2 is arranged between the medium and the medium 5.

【0023】この場合、スポット整形用光学素子2にホ
ログラム回折格子6を形成しておくと、スポット整形光
学素子に光を分割する機能と、位相変位を発生させる2
つの機能を持たせることができるために、部品数や組み
立て工程の増加が防げる。
In this case, if the hologram diffraction grating 6 is formed on the spot shaping optical element 2, the function of splitting light to the spot shaping optical element and the function of generating a phase shift are described.
Since the two functions can be provided, the number of parts and the assembling process can be prevented from increasing.

【0024】さらに、方向依存性を持つ光束の強度分布
に対して上述したように真円補正が可能に構成されたス
ポット整形光学素子を使用する場合には、記録媒体5上
の集光スポットを走査する方向に対して任意に変化させ
ることで記録読み取り、書き込み精度が向上する。
Further, when the spot shaping optical element configured to be able to correct the perfect circle as described above for the intensity distribution of the luminous flux having the direction dependence is used, the condensed spot on the recording medium 5 is changed. Recording and reading and writing accuracy are improved by arbitrarily changing the scanning direction.

【0025】[0025]

【発明の実施の形態】図1に本発明のスポット整形光学
素子を使用した光ヘッド装置を示す。光ヘッド装置は、
レーザ光を記録媒体5上の記録面に集光し、記録面から
反射した光を取り出して検知光学系70に導くように構
成されるもので、レーザ光を発生する半導体レーザ等の
光源1と、光源1から出射した光を平行光束に変換する
コリメートレンズ8等のコリメート光学素子と、平行光
束を記録媒体5に集光する集光レンズ81等の集光光学
素子とを備える。また、記録媒体5からの反射光は、集
光レンズ81等の集光光学素子により平行光束に変換さ
れた後、ビームスプリッタ82により検知光学系70に
導かれ、検知光学系70において記録の読み出し、およ
び集光スポットの位置ずれ、焦点ずれの検知がなされ
る。
FIG. 1 shows an optical head device using a spot shaping optical element according to the present invention. The optical head device is
The laser beam is focused on the recording surface of the recording medium 5, the light reflected from the recording surface is taken out, and guided to the detection optical system 70. A collimating optical element such as a collimating lens 8 for converting light emitted from the light source 1 into a parallel light beam, and a condensing optical element such as a condensing lens 81 for condensing the parallel light beam on the recording medium 5. The reflected light from the recording medium 5 is converted into a parallel light beam by a condensing optical element such as a condensing lens 81, and then guided to a detection optical system 70 by a beam splitter 82. , And the position shift and the focus shift of the condensed spot are detected.

【0026】透明なガラス材料によりほぼ低背円柱状に
形成されるスポット整形光学素子は光源1側のコリメー
トレンズ80とビームスプリッタ82との間に配置さ
れ、コリメートレンズ80により変換された平行光束の
位相を同心円帯状に変化させるために、同心円帯状の位
相変位領域3を備える。この位相変位領域3は図2に示
すように、ガラス材料の厚さを他の領域に対して異なら
せることにより形成される。
A spot-shaping optical element formed of a transparent glass material into a substantially low-cylindrical shape is disposed between the collimating lens 80 and the beam splitter 82 on the light source 1 side. In order to change the phase in a concentric band shape, a concentric band-shaped phase displacement region 3 is provided. As shown in FIG. 2, the phase shift region 3 is formed by making the thickness of the glass material different from other regions.

【0027】上記位相変位領域3は直径D(円帯の中心
位置における直径)が開口径D0の50%から70%、
望ましくは開口径D0のほぼ60%で、該位相変位領域
3における位相変位量が1/2波長以下、望ましくは1
/5波長程度となるように設定される。所定の位相変位
量を発生させるための必要な厚さ変化ΔHは上述した
(1)式で与えられ、当該位相変位領域3は部分的な薄
膜蒸着、エッチング、リソグラフィーにより形成され
る。
The phase displacement region 3 has a diameter D (diameter at the center of the circular band) of 50% to 70% of the opening diameter D0,
Preferably, at about 60% of the aperture diameter D0, the amount of phase displacement in the phase displacement region 3 is equal to or less than 1/2 wavelength, preferably 1
It is set to be about / 5 wavelength. The thickness change ΔH required to generate a predetermined amount of phase shift is given by the above equation (1), and the phase shift region 3 is formed by partial thin film deposition, etching, and lithography.

【0028】上述した位相変位領域3による影響を確認
するために円帯の幅Wを開口径D0の5%として行った
計算結果を図3ないし図5に示す。まず、図3に示すグ
ラフは円帯の直径D(円帯の中心位置における直径)に
対するサイドローブの変化を示し、位相変位量をパラメ
ータとして、横軸に開口径D0を1とした場合の円帯の
直径Dをとり、縦軸に中心強度を100%としたときの
サイドローブのピーク強度を示す。また、サイドローブ
強度1.75の値で描かれた横軸に平行な実線の直線は
本発明に係るスポット整形用光学素子2を使用しなかっ
た場合(以下、「不使用時」という)の測定値を示す。
また、グラフ上に乗らないが、従来の開口中心に位相変
位を発生させる位相フィルタを使用して測定したサイド
ローブ強度は10%であった。
FIGS. 3 to 5 show calculation results obtained by setting the width W of the circular band to 5% of the opening diameter D0 in order to confirm the influence of the above-described phase displacement region 3. FIG. First, the graph shown in FIG. 3 shows the change of the side lobe with respect to the diameter D of the circular band (the diameter at the center position of the circular band). Taking the band diameter D, the vertical axis shows the peak intensity of the side lobe when the center intensity is 100%. Further, a solid straight line parallel to the horizontal axis drawn at a value of the side lobe intensity of 1.75 is a case where the spot shaping optical element 2 according to the present invention is not used (hereinafter referred to as “when not used”). Shows the measured values.
Although not plotted on the graph, the side lobe intensity measured using a conventional phase filter that generates a phase displacement at the center of the aperture was 10%.

【0029】図示のグラフから、位相変位量が大きいほ
どサイドローブの増減も大きくなるが、変化の傾向は位
相変位量によらず同じであり、円帯の直径Dが55%以
上になると、不使用時よりサイドローブが低下すること
がわかる。逆に円帯が開口中心付近にあると、サイドロ
ーブは増加し、位相変位量が大きな場合では、不使用時
の倍以上になり、信号読み取り精度に対する影響が顕著
になる。なお、図示のグラフにおいて不使用時の2倍の
サイドローブ強度を横軸に平行な破線で示す。以上の結
果から、円帯の直径Dはサイドローブ強度に影響を与
え、サイドローブの悪影響を抑えるためには、円帯の直
径Dは開口径D0の約50%以上にする必要がある。
From the graph shown in the figure, the side lobe increases and decreases as the phase displacement increases, but the tendency of the change is the same regardless of the phase displacement. It can be seen that the side lobes are lower than during use. Conversely, when the circular band is near the center of the aperture, the side lobes increase, and when the amount of phase displacement is large, the side lobes are more than twice that when they are not used, and the effect on the signal reading accuracy becomes significant. In the illustrated graph, the double sidelobe intensity when not used is shown by a broken line parallel to the horizontal axis. From the above results, the diameter D of the circular band affects the side lobe intensity, and the diameter D of the circular band needs to be about 50% or more of the opening diameter D0 in order to suppress the adverse effect of the side lobe.

【0030】図4は円帯の直径Dに対するスポット径の
変化を示し、位相変位量をパラメータとして、横軸に開
口径D0を100%として円帯の直径Dをとり、縦軸は
スポット径を、不使用時で規格化して示す。図示のグラ
フにより、位相変位量によらず、円帯の直径D比=67
%を境に、小さいときは縮小、大きいときは拡大するこ
とが確認できる。以上の結果から、円帯の直径Dはスポ
ット径に影響を与え、スポット径を小さくするには円帯
の直径Dを開口径D0の70%以下にする必要がある。
FIG. 4 shows the change of the spot diameter with respect to the diameter D of the circular band. The phase shift amount is used as a parameter, and the horizontal axis represents the diameter D of the circular band with the aperture diameter D0 being 100%, and the vertical axis represents the spot diameter. , Standardized when not used. According to the graph shown, the diameter D ratio of the circular band = 67 regardless of the phase displacement amount.
It can be confirmed that, when the value is small, the value is reduced when the value is small and the value is enlarged when the value is large. From the above results, the diameter D of the circular band affects the spot diameter. To reduce the spot diameter, the diameter D of the circular band needs to be 70% or less of the opening diameter D0.

【0031】円帯の直径Dを開口径D0の60%に固定
した時、位相変位量に対する中心強度の変化を図5に示
す。このグラフから位相変位量(横軸)が大きくなるほ
ど中心強度(縦軸)が低下し、不使用時の中心強度を1
00%とした場合、1.5(ラジアン)≒0.25波長
以下の範囲では、最小80%、すなわち、読み取り、書
き込みに実用上支障を来さない20%以下の低下で収め
ることが可能であることがわかる。
When the diameter D of the circular band is fixed to 60% of the opening diameter D0, the change of the center intensity with respect to the amount of phase displacement is shown in FIG. From this graph, the center intensity (vertical axis) decreases as the phase displacement amount (horizontal axis) increases, and the central intensity when not used is 1
If it is set to 00%, in the range of 1.5 (radian) ≒ 0.25 wavelength or less, it is possible to achieve a reduction of at least 80%, that is, 20% or less which does not hinder practical reading and writing. You can see that there is.

【0032】直径Dが開口径D0の60%で、幅Wが開
口径D0の5%の円帯領域を位相変位領域3とし、該位
相変位領域3で1/5波長の位相変位量を発生させるよ
うに設計されたスポット整形用光学素子2を使用したと
きのスポット径変化と、サイドローブ低下の例を図6に
示す。図において実線はスポット整形用光学素子2を使
用した場合、破線は不使用を示し、横軸はスポット中心
からの距離を示す。この図から、中心強度に対するサイ
ドローブ強度比(縦軸)は約19.7%低下しているこ
とがわかる。また、同一条件でスポット径、およびスポ
ットの中心強度を計算したところ、スポット径が不使用
時に比して1.3%、中心強度が19.6%低下してお
り、課題となっているスポット径縮小とサイドローブ減
少が同時に実現されているが確認できた。
A circular band region having a diameter D of 60% of the opening diameter D0 and a width W of 5% of the opening diameter D0 is defined as a phase displacement region 3, and a phase displacement amount of 1/5 wavelength is generated in the phase displacement region 3. FIG. 6 shows an example of a change in spot diameter and a decrease in side lobe when the spot shaping optical element 2 designed to be used is used. In the figure, the solid line shows the case where the spot shaping optical element 2 is used, the broken line shows that it is not used, and the horizontal axis shows the distance from the spot center. From this figure, it can be seen that the side lobe intensity ratio to the center intensity (vertical axis) is reduced by about 19.7%. When the spot diameter and the center intensity of the spot were calculated under the same conditions, the spot diameter was reduced by 1.3% and the center intensity by 19.6% compared to when the spot was not used. It was confirmed that diameter reduction and side lobe reduction were simultaneously achieved.

【0033】図7に本発明の第2の実施の形態を示す。
この実施の形態において、位相変位領域3は隣接する3
つの同心真円帯領域4、4、4から構成され、各同心真
円帯領域4において異なった位相変位を発生させる。各
同心真円帯領域4の幅Wは開口径D0の5%以下であ
り、直径Dは開口径D0の55%から70%に設定され
る。また、3つの円帯領域の位相変位の方向は、隣り合
う円帯領域では逆方向の位相変位を発生させるようにさ
れ、サイドローブ減少と、スポット径縮小とが同時に実
現される。
FIG. 7 shows a second embodiment of the present invention.
In this embodiment, the phase shift regions 3 are adjacent 3
Each of the concentric circular band regions 4 generates a different phase displacement. The width W of each concentric perfect circular band region 4 is 5% or less of the opening diameter D0, and the diameter D is set to 55% to 70% of the opening diameter D0. In addition, the directions of the phase shifts of the three circular zones are such that phase shifts in opposite directions are generated in adjacent circular zones, so that side lobe reduction and spot diameter reduction are simultaneously realized.

【0034】位相は周期性をもち1波長分ずれると元の
位相に戻るため、図7(a)に示す位相差に1波長分、
あるいは波長の整数倍の位相差を加えることにより、図
7(b)に示すように、これと等価な構造が得ることが
できる。この場合、正負に位相差を発生させる必要がな
いために、表面に微小幅Wの突出部を形成する必要がな
くなり、加工が容易になる。なお、図7(a)は発生す
る位相差を縦軸にとった場合の断面形状を示し、図7
(b)は開口径D0を3mm、屈折率を1.5とした場
合の実際の設計寸法を示す。
Since the phase has periodicity and returns to the original phase when shifted by one wavelength, the phase difference shown in FIG.
Alternatively, by adding a phase difference of an integral multiple of the wavelength, a structure equivalent to this can be obtained as shown in FIG. In this case, since there is no need to generate a positive or negative phase difference, it is not necessary to form a projection with a minute width W on the surface, and processing becomes easy. FIG. 7A shows a cross-sectional shape when the generated phase difference is plotted on the vertical axis.
(B) shows actual design dimensions when the aperture diameter D0 is 3 mm and the refractive index is 1.5.

【0035】図7に示すスポット整形用光学素子2を用
いることによる集光スポットサイドローブ低減結果を図
8に示す。なお、各円帯領域の幅Wは開口径D0に対し
て2.2%である。図8において縦軸は中心強度に対す
るサイドローブ強度の比率を示し、不使用時のスポット
形状は破線で示される。これより、サイドローブは不使
用時に対して43%低下していることが確認できる。ま
た、このとき中心強度の低下率は15%に抑えられてお
り、スポット径も不使用時に比して縮小していることが
確認された。なお、これは本発明の効果の一例であり、
サイドローブの低下率を緩く設定すれば、スポット径の
縮小率を高くすることが可能である。
FIG. 8 shows the result of reducing the focused spot side lobe by using the spot shaping optical element 2 shown in FIG. The width W of each circular zone is 2.2% of the opening diameter D0. In FIG. 8, the vertical axis indicates the ratio of the side lobe intensity to the center intensity, and the spot shape when not used is indicated by a broken line. From this, it can be confirmed that the side lobe is 43% lower than when not in use. At this time, the rate of decrease in the center intensity was suppressed to 15%, and it was confirmed that the spot diameter was smaller than when the spot was not used. This is an example of the effect of the present invention,
If the reduction rate of the side lobe is set to be gentle, it is possible to increase the reduction rate of the spot diameter.

【0036】図9は位相変位量が連続に変化するスポッ
ト整形用光学素子2の断面の模式図である。これは図7
における円帯領域の数を無限に増やして細かく位相を変
化させた場合に対応するもので、複雑な位相変位を加え
ることで、スポット制御の自由度を増やすことができ
る。
FIG. 9 is a schematic cross-sectional view of the spot shaping optical element 2 in which the amount of phase displacement changes continuously. This is Figure 7
This corresponds to a case in which the number of circular band regions in is increased infinitely and the phase is finely changed, and the degree of freedom of spot control can be increased by adding a complicated phase displacement.

【0037】図10に本発明の第3の実施の形態を示
す。この実施の形態において、スポット整形用光学素子
2は、屈折率の近接する2枚の透明体90、91を重ね
合せ、境界の位置を変化させることによって位相差を発
生させるものである。この実施の形態においては、上述
したように、製造時の境界位置のずれに対する位相変位
量の発生が鈍感になるために、加工精度を低減すること
ができる。
FIG. 10 shows a third embodiment of the present invention. In this embodiment, the spot shaping optical element 2 generates a phase difference by superposing two transparent bodies 90 and 91 having close refractive indexes and changing the position of the boundary. In this embodiment, as described above, the occurrence of the phase displacement amount with respect to the displacement of the boundary position at the time of manufacturing becomes insensitive, so that the processing accuracy can be reduced.

【0038】図11に本発明の第4の実施の形態を示
す。この実施の形態において、位相変位領域3は楕円帯
状に形成される。図4より明らかなように、円帯状に位
相を変位させた場合の超解像効果の大きさは円帯の直径
D、すなわち、ビームの中心からの距離に依存する。し
たがって、位相変位領域3が楕円帯状に形成される本実
施の形態において、楕円帯の短軸方向ではスポット径の
縮小率が高くなり、長軸方向ではスポット径の縮小率は
低下するか、もしくは拡大する。
FIG. 11 shows a fourth embodiment of the present invention. In this embodiment, the phase displacement region 3 is formed in an elliptical band shape. As is clear from FIG. 4, the magnitude of the super-resolution effect when the phase is displaced in a circular band shape depends on the diameter D of the circular band, that is, the distance from the center of the beam. Therefore, in the present embodiment in which the phase displacement region 3 is formed in an elliptical band shape, the reduction ratio of the spot diameter increases in the minor axis direction of the elliptical band, and decreases in the major axis direction, or Expanding.

【0039】一方、光ヘッドの光源1として一般に使用
される半導体レーザの出射レーザ光は光強度分布に方向
依存性があり、これを補正せずに集光すると、スポット
は楕円になる。スポット径が真円から外れると、データ
の読み取り、書き込みに悪影響を及ぼす。 本実施の形
態によれば、一般に用いられている真円補正用プリズム
を用いることなく、方向によりスポット径の縮小率を変
えることで、スポット形状を真円に補正することができ
る。
On the other hand, the emitted laser light of a semiconductor laser generally used as the light source 1 of the optical head has direction dependency in the light intensity distribution, and if condensed without correcting this, the spot becomes an ellipse. If the spot diameter deviates from a perfect circle, data reading and writing are adversely affected. According to the present embodiment, the spot shape can be corrected to a perfect circle by changing the reduction ratio of the spot diameter depending on the direction without using a generally used perfect circle correction prism.

【0040】いま、不使用時のスポット径が、方向によ
り5%の差があったと仮定し、本実施の形態によるスポ
ット整形用光学素子2でスポット形状を補正する場合を
考える。位相変位量は0.2波長に固定する。スポット
が小さな方向、すなわち光束の幅Wが広い方向には、ス
ポット径が拡大するように楕円帯の直径Dを開口径D0
の85%にして、楕円の長軸とする。スポットが大きな
方向、すなわち、光束の幅Wが狭い方向には、スポット
径を縮小させるように、楕円帯の直径Dを開口径D0の
40%にして、楕円の短軸にする。図4より、スポット
の小さい方向では約3%スポット径が拡大し、スポット
の大きい方向では約2%スポット径が縮小するために、
結果としてスポット形状を円形に補正することができ、
記録読み取り精度を向上することができる。
Now, assuming that the spot diameter at the time of non-use has a difference of 5% depending on the direction, consider the case where the spot shape is corrected by the spot shaping optical element 2 according to the present embodiment. The amount of phase displacement is fixed at 0.2 wavelength. In the direction in which the spot is small, that is, in the direction in which the width W of the light beam is wide, the diameter D of the elliptical band is increased so that the spot diameter is enlarged.
To 85% of the major axis of the ellipse. In the direction in which the spot is large, that is, in the direction in which the width W of the light beam is narrow, the diameter D of the elliptical band is set to 40% of the opening diameter D0 so as to be the minor axis of the ellipse so as to reduce the spot diameter. According to FIG. 4, the spot diameter is increased by about 3% in the small spot direction, and reduced by about 2% in the large spot direction.
As a result, the spot shape can be corrected to a circle,
The recording and reading accuracy can be improved.

【0041】図12に本発明の第5の実施の形態を示
す。この実施の形態は位相変位量を方向により変化させ
るように位相変位領域3を形成した場合を示す。図の4
グラフを見るとわかるように、円帯状に位相を変位させ
た場合の超解像効果の大きさは、位相変位量に伴って大
きくなり、1/2波長で最大となる。したがって、位相
変位量が大きな方向では、スポット径は小さくなり、小
さな方向ではスポット径はほとんど縮小しない。 本実
施の形態によれば、光ヘッドの光源1の光強度分布に方
向依存性があっても、一般に用いられている真円補正用
プリズムを用いることなくスポット形状を真円に補正す
ることができる。
FIG. 12 shows a fifth embodiment of the present invention. This embodiment shows a case where the phase displacement region 3 is formed so as to change the amount of phase displacement depending on the direction. Figure 4
As can be seen from the graph, the magnitude of the super-resolution effect when the phase is displaced in a circular band shape increases with the amount of phase displacement, and becomes maximum at a half wavelength. Therefore, the spot diameter decreases in the direction in which the phase displacement amount is large, and the spot diameter hardly decreases in the small direction. According to the present embodiment, even if the light intensity distribution of the light source 1 of the optical head has direction dependency, it is possible to correct the spot shape to a perfect circle without using a generally used perfect circle correction prism. it can.

【0042】いま、不使用時のスポット径が、方向によ
り5%の差があったと仮定し、本実施の形態によるスポ
ット整形用光学素子2でスポット形状を補正する場合を
考える。この場合、スポット径が小さい方向には位相差
を発生させずに、スポット径が大きい方向には直径D5
5%のところに位相差0.5波長を発生させるように位
相変位領域3を設計する。この結果、図よりスポットの
大きい方向でスポット径が約5%縮小し、スポット形状
を円形に補正することができる。
Now, assuming that the spot diameter at the time of non-use has a difference of 5% depending on the direction, the case where the spot shape is corrected by the spot shaping optical element 2 according to the present embodiment will be considered. In this case, a phase difference is not generated in the direction where the spot diameter is small, and the diameter D5 is generated in the direction where the spot diameter is large.
The phase shift region 3 is designed so that a phase difference of 0.5 wavelength is generated at 5%. As a result, the spot diameter is reduced by about 5% in the direction in which the spot is larger than in the figure, and the spot shape can be corrected to a circular shape.

【0043】図13に本発明の第6の実施の形態を示
す。この実施の形態は光ヘッドとして使用した場合に特
に有効な変形であり、透明体には記録媒体5からの反射
光束を複数の光束に分割するホログラム回折格子6が形
成される。ホログラム回折格子6は平面基板上に格子構
造が波長の数倍周期で作り込んだもので、回折格子のな
い面に位相変位領域3が形成される。したがってこの実
施の形態において、スポット整形用光学素子2が記録媒
体5から反射した光を分割して検知光学系70に導く機
能も備えるために、部品数や組み立て工程の増加が防げ
る。また、ホログラム回折格子6も位相変位領域3もエ
ッチングやリソグラフィーなど共通の手法で作成できる
ので、素子の製造工程も簡素化できる。
FIG. 13 shows a sixth embodiment of the present invention. This embodiment is a particularly effective modification when used as an optical head, and a hologram diffraction grating 6 for dividing a reflected light beam from a recording medium 5 into a plurality of light beams is formed on a transparent body. The hologram diffraction grating 6 has a grating structure formed on a flat substrate at a period several times as long as the wavelength, and the phase displacement region 3 is formed on a surface having no diffraction grating. Therefore, in this embodiment, since the spot shaping optical element 2 also has a function of dividing the light reflected from the recording medium 5 and guiding the light to the detection optical system 70, it is possible to prevent an increase in the number of components and an assembling process. Further, since both the hologram diffraction grating 6 and the phase shift region 3 can be formed by a common method such as etching or lithography, the manufacturing process of the element can be simplified.

【0044】[0044]

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、中心強度の低下を可及的に抑えながら、サイ
ドローブの低下とスポット径の縮小を同時に実現するこ
とができる。また、スポット形状の真円化、および最適
化を他の光学素子を使用することなく実現することがで
きる。
As is clear from the above description, according to the present invention, it is possible to simultaneously reduce the side lobe and reduce the spot diameter while suppressing the decrease in the center intensity as much as possible. In addition, the spot shape can be rounded and optimized without using another optical element.

【0045】また、本発明に係る光ヘッド装置によれ
ば、サイドローブのない、小径のスポットが得られるた
めに、記録媒体の読み取り、書き込み制度を向上させる
ことができる。
Further, according to the optical head device of the present invention, since a small-diameter spot without side lobes can be obtained, it is possible to improve the reading and writing accuracy of the recording medium.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施の形態を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing a first embodiment of the present invention.

【図2】スポット整形用光学素子を示す説明図で、
(a)は斜視図、(b)は(a)の中心を含む線分で切
断した断面図である。
FIG. 2 is an explanatory view showing an optical element for spot shaping;
(A) is a perspective view, (b) is a cross-sectional view cut along a line including the center of (a).

【図3】円帯の直径比とサイドローブ強度の関係を示す
図である。
FIG. 3 is a diagram showing a relationship between a diameter ratio of a circular band and a side lobe intensity.

【図4】円帯の直径比とスポット径の関係を示す図であ
る。
FIG. 4 is a diagram showing a relationship between a diameter ratio of a circular band and a spot diameter.

【図5】位相変位量とスポット中心の強度との関係を示
す図である。
FIG. 5 is a diagram showing the relationship between the amount of phase displacement and the intensity at the center of a spot.

【図6】サイドローブの減少を示す図である。FIG. 6 is a diagram showing a reduction in side lobes.

【図7】本発明の第2の実施の形態を示す図で、(a)
は断面図、(b)は(a)と等価な位相変位領域を示す
断面図である。
FIGS. 7A and 7B are diagrams showing a second embodiment of the present invention, wherein FIG.
Is a sectional view, and (b) is a sectional view showing a phase displacement region equivalent to (a).

【図8】サイドローブの減少を示す図である。FIG. 8 is a diagram showing a reduction in side lobes.

【図9】図7の変形例を示す断面図である。FIG. 9 is a sectional view showing a modification of FIG. 7;

【図10】本発明の第3の実施の形態を示す断面図であ
る。
FIG. 10 is a sectional view showing a third embodiment of the present invention.

【図11】本発明の第4の実施の形態を示す図である。FIG. 11 is a diagram showing a fourth embodiment of the present invention.

【図12】本発明の第5の実施の形態を示す図で、
(a)は斜視図、(b)は(a)を円周に沿って切断し
て展開した断面図である。
FIG. 12 is a diagram showing a fifth embodiment of the present invention;
(A) is a perspective view, and (b) is a cross-sectional view obtained by cutting (a) along the circumference and developing it.

【図13】本発明の第6の実施の形態を示す図である。FIG. 13 is a diagram showing a sixth embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 光源 2 スポット整形用光学素子 3 位相変位領域 4 円帯状領域 5 記録媒体 6 ホログラム回折格子 D0 開口径 W 幅 REFERENCE SIGNS LIST 1 light source 2 spot shaping optical element 3 phase displacement area 4 circular band area 5 recording medium 6 hologram diffraction grating D0 aperture diameter W width

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】レーザ光の光源と集光光学系との間に配置
され、集光光学系の集光スポットを整形するスポット整
形用光学素子であって、 透明な材料で形成され、直径が光学系開口面上において
開口径の50%以上で、かつ、開口外周より内側の領域
に残余の領域と厚みを異ならせて位相変位領域を形成
し、 前記位相変位領域以外の領域を通過した光の位相を変化
させることなく位相変位領域の通過光の位相を変化させ
るスポット整形用光学素子。
1. A spot shaping optical element arranged between a light source of a laser beam and a converging optical system for shaping a converging spot of the converging optical system, the spot shaping optical element being formed of a transparent material and having a diameter. Light that has passed through a region other than the phase displacement region, where the phase displacement region is formed on the opening surface of the optical system at 50% or more of the opening diameter and in a region inside the outer periphery of the opening with a thickness different from that of the remaining region. Spot shaping optical element that changes the phase of light passing through the phase displacement region without changing the phase of the spot.
【請求項2】前記位相変位領域は楕円帯である請求項1
記載のスポット整形用光学素子。
2. The method according to claim 1, wherein the phase shift region is an elliptical band.
An optical element for spot shaping according to the above.
【請求項3】前記位相変位領域により、レーザ光の光軸
を法線とする面上の互いに直交する方向で、異なる位相
変位を発生させる請求項1または2記載のスポット整形
用光学素子。
3. The spot shaping optical element according to claim 1, wherein the phase displacement regions generate different phase displacements in directions perpendicular to each other on a plane whose normal is the optical axis of the laser beam.
【請求項4】レーザ光を発生する光源を有し、光学素子
により記録媒体上の記録面に集光し、記録面から反射し
た光を取り出す光ヘッド装置において、 前記光源と記録媒体との間には、 透明な材料で形成され、直径が光学系開口面上において
開口径の50%以上で、かつ、開口外周より内側の領域
に残余の領域と厚みを異ならせて位相変位領域を形成し
たスポット整形用光学素子が配置され、 前記スポット整形用光学素子により位相変位領域以外の
領域を通過した光の位相を変化させることなく位相変位
領域の通過光の位相を変化させて記録媒体上のスポット
を整形する光ヘッド装置。
4. An optical head device having a light source for generating a laser beam, condensing light on a recording surface on a recording medium by an optical element, and extracting light reflected from the recording surface, wherein an optical element is provided between the light source and the recording medium. A phase displacement region formed of a transparent material, having a diameter of 50% or more of the opening diameter on the opening surface of the optical system, and having a thickness different from that of the remaining region in a region inside the outer periphery of the opening. A spot shaping optical element is disposed, and the spot on the recording medium is changed by changing the phase of the light passing through the phase shift area without changing the phase of light passing through an area other than the phase shift area by the spot shaping optical element. Optical head device for shaping.
【請求項5】前記スポット整形用光学素子の位相変位領
域は楕円帯であり、 かつ、位相変位領域の長軸、および短軸が集光スポット
の記録媒体上での走査方向と、これに直交する方向に一
致する請求項4記載の光ヘッド装置
5. A phase displacement region of the spot shaping optical element is an elliptical band, and a major axis and a minor axis of the phase displacement region are orthogonal to a scanning direction of a condensed spot on a recording medium and a direction perpendicular thereto. 5. The optical head device according to claim 4, wherein the optical head device coincides with the direction in which the optical head moves.
【請求項6】前記スポット整形用光学素子の位相変位領
域により、レーザ光の光軸を法線とする面上の互いに直
交する方向で、異なる位相変位を発生させ、 かつ、位相変位が集光スポットの記録媒体上での走査方
向と、これに直交する方向で異なる請求項4記載の光ヘ
ッド装置。
6. A phase displacement region of the spot shaping optical element generates different phase displacements in directions orthogonal to each other on a plane normal to the optical axis of the laser beam, and condenses the phase displacements. 5. The optical head device according to claim 4, wherein a scanning direction of the spot on the recording medium is different from a scanning direction orthogonal to the scanning direction.
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