JPH1180157A - ピラゾロピリジンアデノシン拮抗剤 - Google Patents
ピラゾロピリジンアデノシン拮抗剤Info
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- JPH1180157A JPH1180157A JP25275197A JP25275197A JPH1180157A JP H1180157 A JPH1180157 A JP H1180157A JP 25275197 A JP25275197 A JP 25275197A JP 25275197 A JP25275197 A JP 25275197A JP H1180157 A JPH1180157 A JP H1180157A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は、医薬として有用な新規ピラゾロピ
リジン化合物およびその医薬として許容しうる塩；その
製造法；該ピラゾロピリジン化合物またはその医薬とし
て許容しうる塩を活性成分として含有する医薬組成物；
該ピラゾロピリジン化合物またはその医薬として許容し
うる塩の医薬としての使用；および、該ピラゾロピリジ
ン化合物またはその医薬として許容しうる塩をヒトまた
は動物に投与することからなる該ピラゾロピリジン化合
物の医療目的での使用方法を提供することを目的とする
ものである。 【解決手段】 一般式： （式中、各記号は明細書中で定義した通りである。）で
示されるピラゾロピリジン化合物またはその塩類、およ
びその製造方法。
リジン化合物およびその医薬として許容しうる塩；その
製造法；該ピラゾロピリジン化合物またはその医薬とし
て許容しうる塩を活性成分として含有する医薬組成物；
該ピラゾロピリジン化合物またはその医薬として許容し
うる塩の医薬としての使用；および、該ピラゾロピリジ
ン化合物またはその医薬として許容しうる塩をヒトまた
は動物に投与することからなる該ピラゾロピリジン化合
物の医療目的での使用方法を提供することを目的とする
ものである。 【解決手段】 一般式： （式中、各記号は明細書中で定義した通りである。）で
示されるピラゾロピリジン化合物またはその塩類、およ
びその製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、医薬として有用な
新規ピラゾロピリジン化合物およびその医薬として許容
しうる塩に関するものである。
新規ピラゾロピリジン化合物およびその医薬として許容
しうる塩に関するものである。
【０００２】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】いく
つかの種類のピラゾロピリジン化合物が、精神刺激剤、
降圧剤、腎不全用剤、利尿剤などとして有用であること
は、既知である（たとえばＥＰ−０２９９２０９、ＥＰ
−０３７９９７９など。） 本発明は、医薬として有用な新規ピラゾロピリジン化合
物およびその医薬として許容しうる塩；該ピラゾロピリ
ジン化合物またはその塩の製造法；該ピラゾロピリジン
化合物またはその医薬として許容しうる塩を活性成分と
して含有する医薬組成物；該ピラゾロピリジン化合物ま
たはその医薬として許容しうる塩の医薬としての使用；
および、該ピラゾロピリジン化合物またはその医薬とし
て許容しうる塩をヒトまたは動物に投与することからな
る該ピラゾロピリジン化合物の医療目的での使用方法を
提供することを目的とするものである。
つかの種類のピラゾロピリジン化合物が、精神刺激剤、
降圧剤、腎不全用剤、利尿剤などとして有用であること
は、既知である（たとえばＥＰ−０２９９２０９、ＥＰ
−０３７９９７９など。） 本発明は、医薬として有用な新規ピラゾロピリジン化合
物およびその医薬として許容しうる塩；該ピラゾロピリ
ジン化合物またはその塩の製造法；該ピラゾロピリジン
化合物またはその医薬として許容しうる塩を活性成分と
して含有する医薬組成物；該ピラゾロピリジン化合物ま
たはその医薬として許容しうる塩の医薬としての使用；
および、該ピラゾロピリジン化合物またはその医薬とし
て許容しうる塩をヒトまたは動物に投与することからな
る該ピラゾロピリジン化合物の医療目的での使用方法を
提供することを目的とするものである。
【０００３】
【課題を解決するための手段】本発明の新規ピラゾロピ
リジン化合物は、次の一般式（Ｉ）によって示すことが
できる。一般式： 式中、Ｒ1はアリール基、およびＲ2は、２−ヒドロキシ
プロピル基；２−ヒドロキシ−２−メチルプロピル基；
低級アルカノイルアミノ（低級）アルキル基；Ｎ−（低
級）アルカノイル−Ｎ−（低級）アルキルアミノ（低
級）アルキル基；低級アルケニルオキシカルボニルアミ
ノ（低級）アルキル基；２−Ｎ、Ｎ−ジ（低級）アルキ
ルアミノ−２−メチルプロピル基；低級アルキルアミノ
（低級）アルキル基；アル（低級）アルキルアミノ（低
級）アルキル基；Ｎ−（低級）アルキル−Ｎ−アル（低
級）アルキルアミノ（低級）アルキル基；ぺルヒドロア
ゼピニル（低級）アルキル基；ぺルヒドロアゾシニル
（低級）アルキル基；低級アルキル置換ピペリジル（低
級）アルキル基；２（または３）−ピリジル（低級）ア
ルキル基；置換基を有していてもよいピラゾリル（低
級）アルキル基；または、置換基を有していてもよいイ
ミダゾリル（低級）アルキル基である。本発明の目的化
合物（Ｉ）またはその塩は、次の反応により製造でき
る。
リジン化合物は、次の一般式（Ｉ）によって示すことが
できる。一般式： 式中、Ｒ1はアリール基、およびＲ2は、２−ヒドロキシ
プロピル基；２−ヒドロキシ−２−メチルプロピル基；
低級アルカノイルアミノ（低級）アルキル基；Ｎ−（低
級）アルカノイル−Ｎ−（低級）アルキルアミノ（低
級）アルキル基；低級アルケニルオキシカルボニルアミ
ノ（低級）アルキル基；２−Ｎ、Ｎ−ジ（低級）アルキ
ルアミノ−２−メチルプロピル基；低級アルキルアミノ
（低級）アルキル基；アル（低級）アルキルアミノ（低
級）アルキル基；Ｎ−（低級）アルキル−Ｎ−アル（低
級）アルキルアミノ（低級）アルキル基；ぺルヒドロア
ゼピニル（低級）アルキル基；ぺルヒドロアゾシニル
（低級）アルキル基；低級アルキル置換ピペリジル（低
級）アルキル基；２（または３）−ピリジル（低級）ア
ルキル基；置換基を有していてもよいピラゾリル（低
級）アルキル基；または、置換基を有していてもよいイ
ミダゾリル（低級）アルキル基である。本発明の目的化
合物（Ｉ）またはその塩は、次の反応により製造でき
る。
【０００４】製造法１
【０００５】製造法２
【０００６】製造法３
【０００７】製造法４
【０００８】製造法５
【０００９】製造法６
【００１０】製造法７
【００１１】製造法８
【００１２】製造法９ （上記式中、Ｒ1は前記定義の通りであり、Ｒ2 aは、ア
ミノ基が保護されたアル（低級）アルキルアミノ（低
級）アルキル基、置換基として保護されたアミノ基を有
するピラゾリル（低級）アルキル基、アミノ基が保護さ
れたイミダゾリル（低級）アルキル基、アミノ基が保護
された低級アルキルアミノ（低級）アルキル基であり、
Ｒ2 bは、アル（低級）アルキルアミノ（低級）アルキル
基、置換基としてアミノ基を有するピラゾリル（低級）
アルキル基、イミダゾリル（低級）アルキル基、低級ア
ルキルアミノ（低級）アルキル基であり、Ｒ2 cは、低級
アルケニルオキシカルボニルアミノ（低級）アルキル
基、２−Ｎ、Ｎ−ジ（低級）アルキルアミノ−２−メチ
ルプロピル基、Ｎ−（低級）アルキル−Ｎ−アル（低
級）アルキルアミノ（低級）アルキル基、ぺルヒドロア
ゼピニル（低級）アルキル基、ぺルヒドロアゾシニル
（低級）アルキル基、低級アルキル置換ピペリジル（低
級）アルキル基、２（または３）−ピリジル（低級）ア
ルキル基、置換基として低級アルキルあるいはアル（低
級）アルキルを有するピラゾリル（低級）アルキル基、
置換基として低級アルキルあるいはアル（低級）アルキ
ルを有するイミダゾリル（低級）アルキル基であり、Ｒ
2 dは、アミノ基が保護されたピラゾリル（低級）アルキ
ル基、アミノ基が保護されたイミダゾリル（低級）アル
キル基であり、Ｒ2 eは、ピラゾリル（低級）アルキル
基、イミダゾリル（低級）アルキル基であり、Ｒ3 はメ
チル基であり、Ｒ4 はメチル基あるいは水素であり、Ｘ
は、ハロゲン原子または水酸基であり、Ｙは、酸残基で
ある。
ミノ基が保護されたアル（低級）アルキルアミノ（低
級）アルキル基、置換基として保護されたアミノ基を有
するピラゾリル（低級）アルキル基、アミノ基が保護さ
れたイミダゾリル（低級）アルキル基、アミノ基が保護
された低級アルキルアミノ（低級）アルキル基であり、
Ｒ2 bは、アル（低級）アルキルアミノ（低級）アルキル
基、置換基としてアミノ基を有するピラゾリル（低級）
アルキル基、イミダゾリル（低級）アルキル基、低級ア
ルキルアミノ（低級）アルキル基であり、Ｒ2 cは、低級
アルケニルオキシカルボニルアミノ（低級）アルキル
基、２−Ｎ、Ｎ−ジ（低級）アルキルアミノ−２−メチ
ルプロピル基、Ｎ−（低級）アルキル−Ｎ−アル（低
級）アルキルアミノ（低級）アルキル基、ぺルヒドロア
ゼピニル（低級）アルキル基、ぺルヒドロアゾシニル
（低級）アルキル基、低級アルキル置換ピペリジル（低
級）アルキル基、２（または３）−ピリジル（低級）ア
ルキル基、置換基として低級アルキルあるいはアル（低
級）アルキルを有するピラゾリル（低級）アルキル基、
置換基として低級アルキルあるいはアル（低級）アルキ
ルを有するイミダゾリル（低級）アルキル基であり、Ｒ
2 dは、アミノ基が保護されたピラゾリル（低級）アルキ
ル基、アミノ基が保護されたイミダゾリル（低級）アル
キル基であり、Ｒ2 eは、ピラゾリル（低級）アルキル
基、イミダゾリル（低級）アルキル基であり、Ｒ3 はメ
チル基であり、Ｒ4 はメチル基あるいは水素であり、Ｘ
は、ハロゲン原子または水酸基であり、Ｙは、酸残基で
ある。
【００１３】上記の諸方法に加えて、たとえば本明細書
中で実施例において説明した操作法またはそれらに類似
の操作法に従って、目的化合物（Ｉ）またはその塩を製
造することができる。
中で実施例において説明した操作法またはそれらに類似
の操作法に従って、目的化合物（Ｉ）またはその塩を製
造することができる。
【００１４】出発化合物のなかには、新規化合物もある
が、たとえば本明細書中で製造例において説明した操作
法またはそれらに類似の操作に従ってそれらを製造する
ことができる。
が、たとえば本明細書中で製造例において説明した操作
法またはそれらに類似の操作に従ってそれらを製造する
ことができる。
【００１５】目的化合物（Ｉ）は、二重結合に基づく幾
何異性体および／または不斉炭素原子に基づく立体異性
体を包含しうることを注記しておかなければならない。
この点に関しては、この技術分野における常法に従っ
て、ある異性体を他の異性体に転化させることができ
る。
何異性体および／または不斉炭素原子に基づく立体異性
体を包含しうることを注記しておかなければならない。
この点に関しては、この技術分野における常法に従っ
て、ある異性体を他の異性体に転化させることができ
る。
【００１６】目的化合物（Ｉ）の好適な塩は、医薬とし
て許容しうるものであり、かつ慣用のものであって、そ
れらとしては、アルカリ金属塩（たとえばナトリウム
塩、カリウム塩など）、アルカリ土類金属塩（たとえば
カルシウム塩、マグネシウム塩など）などの金属塩、ア
ンモニウム塩、有機塩基塩（たとえばトリメチルアミン
塩、トリエチルアミン塩、ピリジン塩、ピコリン塩、ジ
シクロヘキシルアミン塩、Ｎ，Ｎ’−ジベンジルエチレ
ンジアミン塩など）、有機酸塩（たとえば酢酸塩、トリ
フルオロ酢酸塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、フマル酸
塩、メタンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、蟻酸
塩、トルエンスルホン酸塩など）、無機酸塩（たとえば
塩酸塩、臭化水素酸塩、沃化水素酸塩、硫酸塩、燐酸塩
など）、アミノ酸（たとえばアルギニン、アスパラギン
酸、グルタミン酸など）との塩などが挙げられる。
て許容しうるものであり、かつ慣用のものであって、そ
れらとしては、アルカリ金属塩（たとえばナトリウム
塩、カリウム塩など）、アルカリ土類金属塩（たとえば
カルシウム塩、マグネシウム塩など）などの金属塩、ア
ンモニウム塩、有機塩基塩（たとえばトリメチルアミン
塩、トリエチルアミン塩、ピリジン塩、ピコリン塩、ジ
シクロヘキシルアミン塩、Ｎ，Ｎ’−ジベンジルエチレ
ンジアミン塩など）、有機酸塩（たとえば酢酸塩、トリ
フルオロ酢酸塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、フマル酸
塩、メタンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、蟻酸
塩、トルエンスルホン酸塩など）、無機酸塩（たとえば
塩酸塩、臭化水素酸塩、沃化水素酸塩、硫酸塩、燐酸塩
など）、アミノ酸（たとえばアルギニン、アスパラギン
酸、グルタミン酸など）との塩などが挙げられる。
【００１７】
【発明の実施の形態】本明細書の上記および後記の説明
において本発明がその範囲内に包含する種々の定義の好
適な例、具体例を詳細に説明すれば、つぎの通りであ
る。
において本発明がその範囲内に包含する種々の定義の好
適な例、具体例を詳細に説明すれば、つぎの通りであ
る。
【００１８】「低級」なる語は、とくに断わらない限
り、炭素原子数が１〜６であることを意味するものとす
る。
り、炭素原子数が１〜６であることを意味するものとす
る。
【００１９】好適な「アリ−ル」としては、フェニル、
ナフチル、ジヒドロナフチル（たとえば１、２−ジヒド
ロナフチル、１、４−ジヒドロナフチルなど）、テトラ
ヒドロナフチル（たとえば１、２、３、４−テトラヒド
ロナフチルなど）、インデニル、アントリルなどが挙げ
られ、それらのうちでも好ましいのは（Ｃ6〜Ｃ10）ア
リ−ルであり、より好ましいのはフェニルである。
ナフチル、ジヒドロナフチル（たとえば１、２−ジヒド
ロナフチル、１、４−ジヒドロナフチルなど）、テトラ
ヒドロナフチル（たとえば１、２、３、４−テトラヒド
ロナフチルなど）、インデニル、アントリルなどが挙げ
られ、それらのうちでも好ましいのは（Ｃ6〜Ｃ10）ア
リ−ルであり、より好ましいのはフェニルである。
【００２０】該「アリ−ル」は、ヒドロキシ；オキソ；
低級アルコキシ（たとえばメトキシ、エトキシ、プロポ
キシ、ブトキシ、ｔ−ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキ
シルオキシなど）；アシル（低級）アルコキシ［好まし
くはカルボキシ（低級）アルコキシまたは低級アルコキ
シカルボニル（低級）アルコキシ］などからなる群から
選ばれた１個以上（好ましくは１〜３個）の適当な置換
基を有していてもよい。
低級アルコキシ（たとえばメトキシ、エトキシ、プロポ
キシ、ブトキシ、ｔ−ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキ
シルオキシなど）；アシル（低級）アルコキシ［好まし
くはカルボキシ（低級）アルコキシまたは低級アルコキ
シカルボニル（低級）アルコキシ］などからなる群から
選ばれた１個以上（好ましくは１〜３個）の適当な置換
基を有していてもよい。
【００２１】好適な「低級アルキル」および「（低級）
アルキル」としては、メチル 、エチル、プロピル、イ
ソプロピル、２−メチルプロピル、ブチル、ｔ−ブチ
ル、ペンチル、ヘキシルなどの直鎖状または分枝鎖状の
ものが挙げられ、好ましいのは（Ｃ1〜Ｃ4）アルキルで
あり、より好ましいのは、メチル、エチル、プロピル、
または、２−メチルプロピルである。
アルキル」としては、メチル 、エチル、プロピル、イ
ソプロピル、２−メチルプロピル、ブチル、ｔ−ブチ
ル、ペンチル、ヘキシルなどの直鎖状または分枝鎖状の
ものが挙げられ、好ましいのは（Ｃ1〜Ｃ4）アルキルで
あり、より好ましいのは、メチル、エチル、プロピル、
または、２−メチルプロピルである。
【００２２】好適な「（低級）アルカノイル」および
「低級アルカノイル」としては、ホルミル、アセチル、
プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、イ
ソバレリル、ピバロイル、ヘキサノイル基等を挙げるこ
とができ、特に好ましくはアセチル基である。
「低級アルカノイル」としては、ホルミル、アセチル、
プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、イ
ソバレリル、ピバロイル、ヘキサノイル基等を挙げるこ
とができ、特に好ましくはアセチル基である。
【００２３】好適な「低級アルケニル」としては、ビニ
ル、アリル、１−プロペニル、１（または２または３）
−ブテニル、１（または２または３または４）−ペンテ
ニル、１（または２または３または４または５）−ヘキ
セニル基等が挙げられ、特に好ましくはアリル基であ
る。
ル、アリル、１−プロペニル、１（または２または３）
−ブテニル、１（または２または３または４）−ペンテ
ニル、１（または２または３または４または５）−ヘキ
セニル基等が挙げられ、特に好ましくはアリル基であ
る。
【００２４】好適なアル（低級）アルキルは、前記のよ
うな（低級）アルキル基の任意の炭素原子にアリール基
が結合したものであり、その好適な例としては、ベンジ
ル、フェネチル、３−フェニルプロピル、ベンズヒドリ
ル、トリチル等が挙げられ、特に好ましくはベンジル、
トリチルである。
うな（低級）アルキル基の任意の炭素原子にアリール基
が結合したものであり、その好適な例としては、ベンジ
ル、フェネチル、３−フェニルプロピル、ベンズヒドリ
ル、トリチル等が挙げられ、特に好ましくはベンジル、
トリチルである。
【００２５】好適な「保護されたカルボキシ」として
は、次のものが挙げられる。 （１）エステル化されたカルボキシ、その具体例として
は、たとえば低級アルカノイルオキシ（低級）アルコキ
シカルボニル［たとえばアセトキシメトキシカルボニ
ル、プロピオニルオキシメトキシカルボニル、ブチリル
オキシメトキシカルボニル、バレリルオキシメトキシカ
ルボニル、ピバロイルオキシメトキシカルボニル、１−
アセトキシエトキシカルボニル、１−プロピオニルオキ
シエトキシカルボニル、，ピバロイルオキシエトキシカ
ルボニル、２−プロピオニルオキシエトキシカルボニ
ル、ヘキサノイルオキシエトキシカルボニルなど］など
の適当な置換基を有していてもよい低級アルコキシカル
ボニル（たとえばメトキシカルボニル、エトキシカルボ
ニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニ
ル、ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、ｔ
−ブトキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニル、ヘ
キシルオキシカルボニル、１−シクロプロピルエトキシ
カルボニル）；低級アルカンスルホニル（低級）アルコ
キシカルボニル［たとえば２−メシルエトキシカルボニ
ルなど］；モノ（またはジまたはトリ）ハロ（低級）ア
ルコキシカルボニル［たとえば２−ヨードエトキシカル
ボニル、２，２，２−トリクロロエトキシカルボニルな
ど］；低級アルケニルオキシカルボニル［たとえばビニ
ルオキシカルボニル、アリルオキシカルボニルなど］；
低級アルキニルオキシカルボニル［たとえばエチニルオ
キシカルボニル、プロピニルオキシカルボニルなど］；
適当な置換基を有してもよいアル（低級）アルコキシカ
ルボニル［好ましくはモノ（またはジまたはトリ）フェ
ニル（低級）アルコキシカルボニル［たとえばベンジル
オキシカルボニル、４−メトキシベンジルオキシカルボ
ニル、４−ニトロベンジルオキシカルボニル、フェネチ
ルオキシカルボニル、トリチルオキシカルボニル、ベン
ズヒドリルオキシカルボニル、ビス（メトキシフェニ
ル）メトキシカルボニル、３，４−ジメトキシベンジル
オキシカルボニル、４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−
ブチルベンジルオキシカルボニルなど］；適当な置換基
を有してもよいアリールオキシカルボニル［たとえばフ
ェノキシカルボニル、４−クロロフェノキシカルボニ
ル、トリルオキシカルボニル、４−ｔ−ブチルフェノキ
シカルボニル、キシリルオキシカルボニル、メシチルオ
キシカルボニル、クロメニルオキシカルボニルなど］な
どが挙げられる；
は、次のものが挙げられる。 （１）エステル化されたカルボキシ、その具体例として
は、たとえば低級アルカノイルオキシ（低級）アルコキ
シカルボニル［たとえばアセトキシメトキシカルボニ
ル、プロピオニルオキシメトキシカルボニル、ブチリル
オキシメトキシカルボニル、バレリルオキシメトキシカ
ルボニル、ピバロイルオキシメトキシカルボニル、１−
アセトキシエトキシカルボニル、１−プロピオニルオキ
シエトキシカルボニル、，ピバロイルオキシエトキシカ
ルボニル、２−プロピオニルオキシエトキシカルボニ
ル、ヘキサノイルオキシエトキシカルボニルなど］など
の適当な置換基を有していてもよい低級アルコキシカル
ボニル（たとえばメトキシカルボニル、エトキシカルボ
ニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニ
ル、ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、ｔ
−ブトキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニル、ヘ
キシルオキシカルボニル、１−シクロプロピルエトキシ
カルボニル）；低級アルカンスルホニル（低級）アルコ
キシカルボニル［たとえば２−メシルエトキシカルボニ
ルなど］；モノ（またはジまたはトリ）ハロ（低級）ア
ルコキシカルボニル［たとえば２−ヨードエトキシカル
ボニル、２，２，２−トリクロロエトキシカルボニルな
ど］；低級アルケニルオキシカルボニル［たとえばビニ
ルオキシカルボニル、アリルオキシカルボニルなど］；
低級アルキニルオキシカルボニル［たとえばエチニルオ
キシカルボニル、プロピニルオキシカルボニルなど］；
適当な置換基を有してもよいアル（低級）アルコキシカ
ルボニル［好ましくはモノ（またはジまたはトリ）フェ
ニル（低級）アルコキシカルボニル［たとえばベンジル
オキシカルボニル、４−メトキシベンジルオキシカルボ
ニル、４−ニトロベンジルオキシカルボニル、フェネチ
ルオキシカルボニル、トリチルオキシカルボニル、ベン
ズヒドリルオキシカルボニル、ビス（メトキシフェニ
ル）メトキシカルボニル、３，４−ジメトキシベンジル
オキシカルボニル、４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−
ブチルベンジルオキシカルボニルなど］；適当な置換基
を有してもよいアリールオキシカルボニル［たとえばフ
ェノキシカルボニル、４−クロロフェノキシカルボニ
ル、トリルオキシカルボニル、４−ｔ−ブチルフェノキ
シカルボニル、キシリルオキシカルボニル、メシチルオ
キシカルボニル、クロメニルオキシカルボニルなど］な
どが挙げられる；
【００２６】（２）アミド化されたカルボキシ、その具
体例としては、カルバモイル；Ｎ−低級アルキルカルバ
モイル（たとえばＮ−メチルカルバモイル、Ｎ−エチル
カルバモイル、Ｎ−イソプロピルカルバモイル、Ｎ−ブ
チルカルバモイル、Ｎ−ペンチルカルバモイル、Ｎ−ヘ
キシルカルバモイルなど）；Ｎ−（カルボキシもしくは
エステル化されたカルボキシを有していても良い低級ア
ルキル）カルバモイル［例えばＮ−（カルボキシもしく
はエステル化されたカルボキシを有していてもよい低級
アルキル）カルバモイルにおけるエステル化されたカル
ボキシ部分としては、メトキシカルボニルなど上述のエ
ステル化されたカルボキシが挙げられる。また、Ｎ−
（カルボキシもしくはエステル化されたカルボキシを有
していてもよい低級アルキル）カルバモイルにおけるＮ
−低級アルキルカルバモイル部分の具体例としては、例
えばＮ−メチルカルバモイルなど上述のＮ−低級アルキ
ルカルバモイルが挙げられる。］；Ｎ−高級アルキルカ
ルバモイル、［たとえばＮ−ヘプチルカルバモイル、Ｎ
−（２−メチルヘプチル）カルバモイル、Ｎ−ノニルカ
ルバモイル、Ｎ−デカニルカルバモイル、Ｎ−トリシク
ロ［３．３．１．１．３，７，］デカニルカルバモイ
ル、Ｎ−ウンデカニルカルバモイル、Ｎ−（ビシクロ
［４．３．２．］ウンデカニル）カルバモイル、Ｎ−ド
デカニルカルバモイル、Ｎ−トリデカニルカルバモイ
ル、Ｎ−テトラデカニルカルバモイル、Ｎ−ペンタデカ
ニルカルバモイル、Ｎ−ヘキサデカニルカルバモイル、
Ｎ−ヘプタデカニルカルバモイル、Ｎ−オクタデカニル
カルバモイル、Ｎ−ノナデカニルカルバモイル、Ｎ−イ
コサニルカルバモイルなど）；Ｎ，Ｎ−ジ（低級）アル
キルカルバモイル［たとえばＮ，Ｎ−ジメチルカルバモ
イル、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ
−エチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジプロピルカルバモイ
ル、Ｎ，Ｎ−ジ（ｔ−ブチル）カルバモイル、Ｎ−ペン
チル−Ｎ−ヘキシルカルバモイルなど］；Ｎ−低級アル
キル−Ｎ−アル（低級）アルキルカルバモイル（たとえ
ばＮ−メチル−Ｎ−ベンジルカルバモイルなど）；Ｎ−
カルボキシ（低級）アルキルカルバモイル［たとえばＮ
−カルボキシメチルカルバモイル、Ｎ−（２−カルボキ
シエチル）カルバモイル、Ｎ−（２−カルボキシプロピ
ル）カルバモイル、Ｎ−（３−カルボキシプロピル）カ
ルバモイル、Ｎ−（１−カルボキシメチルエチル）カル
バモイル、Ｎ−（４−カルボキシブチル）カルバモイ
ル、Ｎ−（２−カルボキシメチル−２−メチルエチル）
カルバモイル、Ｎ−（５−カルボキシペンチル）カルバ
モイル、Ｎ−（３−カルボキシヘキシル）カルバモイル
など］；Ｎ−保護されたカルボキシ（低級）アルキルカ
ルバモイル、好ましくはＮ−エステル化されたカルボキ
シ（低級）アルキルカルバモイル、より好ましくは、Ｎ
−低級アルコキシカルボキシ（低級）アルキルカルバモ
イル，［たとえばＮ−（メトキシカルボニルメチル）カ
ルバモイル、Ｎ−（エトキシカルボニルメチル）カルバ
モイル、Ｎ−（２−エトキシカルボニルエチル）カルバ
モイル、Ｎ−（２−ｔ−ブトキシカルボニルエチル）カ
ルバモイル、Ｎ−（３−メトキシカルボニルプロピル）
カルバモイル、Ｎ−（１−プロポキシカルボニルプロピ
ル）カルバモイル、Ｎ−（１−イソプロポキシカルボニ
ルメチルエチル）カルバモイル、Ｎ−（ブトキシカルボ
ニルメチル）カルバモイル、Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボ
ニルメチル）カルバモイル、Ｎ−（４−イソブトキシカ
ルボニルブチル）カルバモイル、Ｎ−（２−ｔ−ブトキ
シカルボニル−２−メチルエチル）カルバモイル、Ｎ−
（３−ペンチルオキシカルボニルペンチル）カルバモイ
ル、Ｎ−（６−ヘキシルオキシカルボニルヘキシル）カ
ルバモイル、Ｎ−［（１−シクロプロピルエトキシ）カ
ルボニルメチル］カルバモイルなど］；Ｎ−低級アルキ
ル−Ｎ−カルボキシ（低級）アルキルカルバモイル［た
とえばＮ−メチル−Ｎ−（カルボキシメチル）カルバモ
イル、Ｎ−メチル−Ｎ−（２−カルボキシエチル）カル
バモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−（２−カルボキシプロピ
ル）カルバモイル、Ｎ−プロピル−Ｎ−（３−カルボキ
シプロピル）カルバモイル、Ｎ−イソプロピル−Ｎ−
（１−カルボキシメチルエチル）カルバモイル、Ｎ−ブ
チル−Ｎ−（４−カルボキシブチル）カルバモイル、Ｎ
−ｔ−ブチル−Ｎ−（２−カルボキシメチル−２−メチ
ルエチル）カルバモイル、Ｎ−ペンチル−Ｎ−（５−カ
ルボキシペンチル）カルバモイル、Ｎ−ヘキシル−Ｎ−
（３−カルボキシヘキシル）カルバモイルなど］；Ｎ−
低級アルキル−Ｎ−保護されたカルボキシ（低級）アル
キルカルバモイル、好ましくはＮ−低級アルキル−Ｎ−
エステル化されたカルボキシ（低級）アルキルカルバモ
イル、より好ましくはＮ−低級アルキル−Ｎ−低級アル
コキシカルボニル（低級）アルキルカルバモイル［たと
えばＮ−メチル−Ｎ−（メトキシカルボニルメチル）カ
ルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−（エトキシカルボニルメ
チル）カルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−（２−エトキシ
カルボニルエチル）カルバモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−
（２−ｔ−ブトキシカルボニルエチル）カルバモイル、
Ｎ−プロピル−Ｎ−（３−メトキシカルボニルプロピ
ル）カルバモイル、Ｎ−イソプロピル−Ｎ−（１−プロ
ポキシカルボニルプロピル）カルバモイル、Ｎ−プロピ
ル−Ｎ−（１−イソプロポキシカルボニルメチルエチ
ル）カルバモイル、Ｎ−ブチル−Ｎ−（ブトキシカルボ
ニルメチル）カルバモイル、Ｎ−イソブチル−Ｎ−（ｔ
−ブトキシカルボニルメチル）カルバモイル、Ｎ−ブチ
ル−Ｎ−（４−イソブトキシカルボニルブチル）カルバ
モイル、Ｎ−メチル−Ｎ−（２−ｔ−ブトキシカルボニ
ルメチル−２−メチルエチル）カルバモイル、Ｎ−ペン
チル−Ｎ−（３−ペンチルオキシカルボニルペンチル）
カルバモイル、Ｎ−ヘキシル−Ｎ−（６−ヘキシルオキ
シカルボニルヘキシル）カルバモイル、Ｎ−エチル−Ｎ
−［（１−シクロプロピルエトキシ）カルボニルメチ
ル］カルバモイルなど；Ｎ−ヒドロキシ（低級）アルキ
ルカルバモイル［たとえばＮ−ヒドロキシメチルカルバ
モイル、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）カルバモイル、
Ｎ−（１−ヒドロキシエチル）カルバモイル、Ｎ−（３
−ヒドロキシプロピル）カルバモイル、Ｎ−（１−ヒド
ロキシブチル）カルバモイル、Ｎ−（２−ヒドロキシメ
チル−２−メチルエチル）カルバモイル、Ｎ−（５−ヒ
ドロキシペンチル）カルバモイル、Ｎ−（３−ヒドロキ
シヘキシル）カルバモイルなど］；式 （ここに、式 の基は、１個以上の適当な置換基を有してもよいＮ−含
有複素環基であり、このＮ−含有複素環基は、その環中
にＮ、ＯまたはＳなどの他のヘテロ原子を含有していて
もよい）などが挙げられる。
体例としては、カルバモイル；Ｎ−低級アルキルカルバ
モイル（たとえばＮ−メチルカルバモイル、Ｎ−エチル
カルバモイル、Ｎ−イソプロピルカルバモイル、Ｎ−ブ
チルカルバモイル、Ｎ−ペンチルカルバモイル、Ｎ−ヘ
キシルカルバモイルなど）；Ｎ−（カルボキシもしくは
エステル化されたカルボキシを有していても良い低級ア
ルキル）カルバモイル［例えばＮ−（カルボキシもしく
はエステル化されたカルボキシを有していてもよい低級
アルキル）カルバモイルにおけるエステル化されたカル
ボキシ部分としては、メトキシカルボニルなど上述のエ
ステル化されたカルボキシが挙げられる。また、Ｎ−
（カルボキシもしくはエステル化されたカルボキシを有
していてもよい低級アルキル）カルバモイルにおけるＮ
−低級アルキルカルバモイル部分の具体例としては、例
えばＮ−メチルカルバモイルなど上述のＮ−低級アルキ
ルカルバモイルが挙げられる。］；Ｎ−高級アルキルカ
ルバモイル、［たとえばＮ−ヘプチルカルバモイル、Ｎ
−（２−メチルヘプチル）カルバモイル、Ｎ−ノニルカ
ルバモイル、Ｎ−デカニルカルバモイル、Ｎ−トリシク
ロ［３．３．１．１．３，７，］デカニルカルバモイ
ル、Ｎ−ウンデカニルカルバモイル、Ｎ−（ビシクロ
［４．３．２．］ウンデカニル）カルバモイル、Ｎ−ド
デカニルカルバモイル、Ｎ−トリデカニルカルバモイ
ル、Ｎ−テトラデカニルカルバモイル、Ｎ−ペンタデカ
ニルカルバモイル、Ｎ−ヘキサデカニルカルバモイル、
Ｎ−ヘプタデカニルカルバモイル、Ｎ−オクタデカニル
カルバモイル、Ｎ−ノナデカニルカルバモイル、Ｎ−イ
コサニルカルバモイルなど）；Ｎ，Ｎ−ジ（低級）アル
キルカルバモイル［たとえばＮ，Ｎ−ジメチルカルバモ
イル、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ
−エチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジプロピルカルバモイ
ル、Ｎ，Ｎ−ジ（ｔ−ブチル）カルバモイル、Ｎ−ペン
チル−Ｎ−ヘキシルカルバモイルなど］；Ｎ−低級アル
キル−Ｎ−アル（低級）アルキルカルバモイル（たとえ
ばＮ−メチル−Ｎ−ベンジルカルバモイルなど）；Ｎ−
カルボキシ（低級）アルキルカルバモイル［たとえばＮ
−カルボキシメチルカルバモイル、Ｎ−（２−カルボキ
シエチル）カルバモイル、Ｎ−（２−カルボキシプロピ
ル）カルバモイル、Ｎ−（３−カルボキシプロピル）カ
ルバモイル、Ｎ−（１−カルボキシメチルエチル）カル
バモイル、Ｎ−（４−カルボキシブチル）カルバモイ
ル、Ｎ−（２−カルボキシメチル−２−メチルエチル）
カルバモイル、Ｎ−（５−カルボキシペンチル）カルバ
モイル、Ｎ−（３−カルボキシヘキシル）カルバモイル
など］；Ｎ−保護されたカルボキシ（低級）アルキルカ
ルバモイル、好ましくはＮ−エステル化されたカルボキ
シ（低級）アルキルカルバモイル、より好ましくは、Ｎ
−低級アルコキシカルボキシ（低級）アルキルカルバモ
イル，［たとえばＮ−（メトキシカルボニルメチル）カ
ルバモイル、Ｎ−（エトキシカルボニルメチル）カルバ
モイル、Ｎ−（２−エトキシカルボニルエチル）カルバ
モイル、Ｎ−（２−ｔ−ブトキシカルボニルエチル）カ
ルバモイル、Ｎ−（３−メトキシカルボニルプロピル）
カルバモイル、Ｎ−（１−プロポキシカルボニルプロピ
ル）カルバモイル、Ｎ−（１−イソプロポキシカルボニ
ルメチルエチル）カルバモイル、Ｎ−（ブトキシカルボ
ニルメチル）カルバモイル、Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボ
ニルメチル）カルバモイル、Ｎ−（４−イソブトキシカ
ルボニルブチル）カルバモイル、Ｎ−（２−ｔ−ブトキ
シカルボニル−２−メチルエチル）カルバモイル、Ｎ−
（３−ペンチルオキシカルボニルペンチル）カルバモイ
ル、Ｎ−（６−ヘキシルオキシカルボニルヘキシル）カ
ルバモイル、Ｎ−［（１−シクロプロピルエトキシ）カ
ルボニルメチル］カルバモイルなど］；Ｎ−低級アルキ
ル−Ｎ−カルボキシ（低級）アルキルカルバモイル［た
とえばＮ−メチル−Ｎ−（カルボキシメチル）カルバモ
イル、Ｎ−メチル−Ｎ−（２−カルボキシエチル）カル
バモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−（２−カルボキシプロピ
ル）カルバモイル、Ｎ−プロピル−Ｎ−（３−カルボキ
シプロピル）カルバモイル、Ｎ−イソプロピル−Ｎ−
（１−カルボキシメチルエチル）カルバモイル、Ｎ−ブ
チル−Ｎ−（４−カルボキシブチル）カルバモイル、Ｎ
−ｔ−ブチル−Ｎ−（２−カルボキシメチル−２−メチ
ルエチル）カルバモイル、Ｎ−ペンチル−Ｎ−（５−カ
ルボキシペンチル）カルバモイル、Ｎ−ヘキシル−Ｎ−
（３−カルボキシヘキシル）カルバモイルなど］；Ｎ−
低級アルキル−Ｎ−保護されたカルボキシ（低級）アル
キルカルバモイル、好ましくはＮ−低級アルキル−Ｎ−
エステル化されたカルボキシ（低級）アルキルカルバモ
イル、より好ましくはＮ−低級アルキル−Ｎ−低級アル
コキシカルボニル（低級）アルキルカルバモイル［たと
えばＮ−メチル−Ｎ−（メトキシカルボニルメチル）カ
ルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−（エトキシカルボニルメ
チル）カルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−（２−エトキシ
カルボニルエチル）カルバモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−
（２−ｔ−ブトキシカルボニルエチル）カルバモイル、
Ｎ−プロピル−Ｎ−（３−メトキシカルボニルプロピ
ル）カルバモイル、Ｎ−イソプロピル−Ｎ−（１−プロ
ポキシカルボニルプロピル）カルバモイル、Ｎ−プロピ
ル−Ｎ−（１−イソプロポキシカルボニルメチルエチ
ル）カルバモイル、Ｎ−ブチル−Ｎ−（ブトキシカルボ
ニルメチル）カルバモイル、Ｎ−イソブチル−Ｎ−（ｔ
−ブトキシカルボニルメチル）カルバモイル、Ｎ−ブチ
ル−Ｎ−（４−イソブトキシカルボニルブチル）カルバ
モイル、Ｎ−メチル−Ｎ−（２−ｔ−ブトキシカルボニ
ルメチル−２−メチルエチル）カルバモイル、Ｎ−ペン
チル−Ｎ−（３−ペンチルオキシカルボニルペンチル）
カルバモイル、Ｎ−ヘキシル−Ｎ−（６−ヘキシルオキ
シカルボニルヘキシル）カルバモイル、Ｎ−エチル−Ｎ
−［（１−シクロプロピルエトキシ）カルボニルメチ
ル］カルバモイルなど；Ｎ−ヒドロキシ（低級）アルキ
ルカルバモイル［たとえばＮ−ヒドロキシメチルカルバ
モイル、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）カルバモイル、
Ｎ−（１−ヒドロキシエチル）カルバモイル、Ｎ−（３
−ヒドロキシプロピル）カルバモイル、Ｎ−（１−ヒド
ロキシブチル）カルバモイル、Ｎ−（２−ヒドロキシメ
チル−２−メチルエチル）カルバモイル、Ｎ−（５−ヒ
ドロキシペンチル）カルバモイル、Ｎ−（３−ヒドロキ
シヘキシル）カルバモイルなど］；式 （ここに、式 の基は、１個以上の適当な置換基を有してもよいＮ−含
有複素環基であり、このＮ−含有複素環基は、その環中
にＮ、ＯまたはＳなどの他のヘテロ原子を含有していて
もよい）などが挙げられる。
【００２７】好適な前記「Ｎ−含有複素環基」として
は、１〜４個の窒素原子を含有する不飽和３〜８員（よ
り好ましくは、５〜７員）複素単環基、たとえばアゼピ
ニル（たとえば１Ｈ−アゼピニルなど）、ピロリル、ピ
ロリニル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピリジルとその
Ｎ−オキシド、ジヒドロピリジル、ピリミジニル、ピラ
ジニル、ピリダジニル、トリアゾリル（たとえば４Ｈ−
１，２，４−トリアゾリル、１Ｈ−１，２，３−トリア
ゾリル、２Ｈ−１，２，３−トリアゾリルなど）、テト
ラゾリル（たとえば１Ｈ−テトラゾリル、２Ｈ−テトラ
ゾリルなど）など；１〜４個の窒素原子を含有する飽和
３〜８員（より好ましくは５〜７員）複素単環基、たと
えばアゼチジニル、ペルヒドロアゼピニル（たとえばペ
ルヒドロ−１Ｈ−アゼピニルなど）、ピロリジニル、イ
ミダゾリジニル、ピペリジノ、ピペラジニルなど；１〜
４個の窒素原子を含有する不飽和縮合複素環基、たとえ
ばインドリル、イソインドリル、インドリジニル、ベン
ズイミダゾリル、キノリル、イソキノリル、インダゾリ
ル、ベンゾトリアゾリルなど；１〜４個の窒素原子を含
有する飽和縮合複素環基、たとえば７−アザビシクロ
［２．２．１］ヘプチル、３−アザビシクロ［３．２．
２］ノナニルなど；１〜２個の酸素原子と１〜３個の窒
素原子とを含有する不飽和３〜８員（より好ましくは５
または６員）複素単環基、たとえばジヒドロオキサジニ
ル（たとえば５，６−ジヒドロ−４Ｈ−ジヒドロ−１，
３−オキサジニルなど）、オキサゾリル、イソキサゾリ
ル、オキサジアゾリル（たとえば１，２，４−オキサジ
アゾリル、１，３，４−オキサジアゾリル、１，２，５
−オキサジアゾリルなど）など；１〜２個の酸素原子と
１〜３個の窒素原子とを含有する飽和３〜８員（より好
ましくは５または６員）複素単環基、たとえばモルホリ
ニル、シドノニルなど；，１〜２個の酸素原子と１〜３
個の窒素原子とを含有する不飽和縮合複素環基、たとえ
ばベンゾオキサゾリル、ベンゾオキサジアゾリルなど；
１〜２個の硫黄原子と１〜３個の窒素原子とを含有する
不飽和３〜８員（より好ましくは５または６員）複素単
環基、たとえばチアゾリル、イソチアゾリル、チアジア
ゾリル（たとえば１，２，３−チアジアゾリル、１，
２，４−チアジアゾリル、１，３，４−チアジアゾリ
ル、１，２，５−チアジアゾリルなど）、ジヒドロチア
ジニルなど；１〜２個の硫黄原子と１〜３個の窒素原子
とを含有する飽和３〜８員（より好ましくは５または６
員）複素単環基、たとえばチアゾリジニル、チオモルホ
リニルなど；１〜２個の硫黄原子と１〜３個の窒素原子
とを含有する不飽和縮合複素環基、たとえばベンゾチア
ゾリル、ベンゾチアジアゾリルなどの飽和または不飽和
の、単環または多環の複素環基が挙げられ、なかでも好
ましいのは、１〜４個の窒素原子を含有する飽和３〜８
員複素単環基、１〜２個の酸素原子と１〜３個の窒素原
子とを含有する飽和３〜８員複素単環基および１〜２個
の硫黄原子と１〜３個の窒素原子とを含有する飽和３〜
８員複素単環基である。
は、１〜４個の窒素原子を含有する不飽和３〜８員（よ
り好ましくは、５〜７員）複素単環基、たとえばアゼピ
ニル（たとえば１Ｈ−アゼピニルなど）、ピロリル、ピ
ロリニル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピリジルとその
Ｎ−オキシド、ジヒドロピリジル、ピリミジニル、ピラ
ジニル、ピリダジニル、トリアゾリル（たとえば４Ｈ−
１，２，４−トリアゾリル、１Ｈ−１，２，３−トリア
ゾリル、２Ｈ−１，２，３−トリアゾリルなど）、テト
ラゾリル（たとえば１Ｈ−テトラゾリル、２Ｈ−テトラ
ゾリルなど）など；１〜４個の窒素原子を含有する飽和
３〜８員（より好ましくは５〜７員）複素単環基、たと
えばアゼチジニル、ペルヒドロアゼピニル（たとえばペ
ルヒドロ−１Ｈ−アゼピニルなど）、ピロリジニル、イ
ミダゾリジニル、ピペリジノ、ピペラジニルなど；１〜
４個の窒素原子を含有する不飽和縮合複素環基、たとえ
ばインドリル、イソインドリル、インドリジニル、ベン
ズイミダゾリル、キノリル、イソキノリル、インダゾリ
ル、ベンゾトリアゾリルなど；１〜４個の窒素原子を含
有する飽和縮合複素環基、たとえば７−アザビシクロ
［２．２．１］ヘプチル、３−アザビシクロ［３．２．
２］ノナニルなど；１〜２個の酸素原子と１〜３個の窒
素原子とを含有する不飽和３〜８員（より好ましくは５
または６員）複素単環基、たとえばジヒドロオキサジニ
ル（たとえば５，６−ジヒドロ−４Ｈ−ジヒドロ−１，
３−オキサジニルなど）、オキサゾリル、イソキサゾリ
ル、オキサジアゾリル（たとえば１，２，４−オキサジ
アゾリル、１，３，４−オキサジアゾリル、１，２，５
−オキサジアゾリルなど）など；１〜２個の酸素原子と
１〜３個の窒素原子とを含有する飽和３〜８員（より好
ましくは５または６員）複素単環基、たとえばモルホリ
ニル、シドノニルなど；，１〜２個の酸素原子と１〜３
個の窒素原子とを含有する不飽和縮合複素環基、たとえ
ばベンゾオキサゾリル、ベンゾオキサジアゾリルなど；
１〜２個の硫黄原子と１〜３個の窒素原子とを含有する
不飽和３〜８員（より好ましくは５または６員）複素単
環基、たとえばチアゾリル、イソチアゾリル、チアジア
ゾリル（たとえば１，２，３−チアジアゾリル、１，
２，４−チアジアゾリル、１，３，４−チアジアゾリ
ル、１，２，５−チアジアゾリルなど）、ジヒドロチア
ジニルなど；１〜２個の硫黄原子と１〜３個の窒素原子
とを含有する飽和３〜８員（より好ましくは５または６
員）複素単環基、たとえばチアゾリジニル、チオモルホ
リニルなど；１〜２個の硫黄原子と１〜３個の窒素原子
とを含有する不飽和縮合複素環基、たとえばベンゾチア
ゾリル、ベンゾチアジアゾリルなどの飽和または不飽和
の、単環または多環の複素環基が挙げられ、なかでも好
ましいのは、１〜４個の窒素原子を含有する飽和３〜８
員複素単環基、１〜２個の酸素原子と１〜３個の窒素原
子とを含有する飽和３〜８員複素単環基および１〜２個
の硫黄原子と１〜３個の窒素原子とを含有する飽和３〜
８員複素単環基である。
【００２８】このように定義される「Ｎ−含有複素環
基」は、ヒドロキシ、オキソ、上述の低級アルキル；ヒ
ドロキシ（低級）アルキル（たとえばヒドロキシメチ
ル、１−ヒドロキシエチル、２−ヒドロキシエチル、３
−ヒドロキシプロピル、２−ヒドロキシブチル、１−メ
チル−１−ヒドロキシメチルエチル、４−ヒドロキシペ
ンチル、３−ヒドロキシヘキシルなど）；低級アルコキ
シ（低級）アルキル（たとえばメトキシエチル、２−メ
トキシエチル、１−エトキシエチル、３−プロポキシプ
ロピル、２−（ｔ−ブトキシ）ブチル、５−ペンチルオ
キシペンチル、３−ヘキシルオキシヘキシルなど）；ア
シルオキシ（低級）アルキル、たとえば低級アルカノイ
ルオキシ（低級）アルキル（たとえばアセトキシメチ
ル、１−アセトキシエチル、２−アセトキシエチル、２
−プロピオニルオキシエチル、３−プロピオニルオキシ
プロピル、２−ブチリルオキシブチル、４−ピバロイル
オキシペンチル、６−ヘキサノイルオキシヘキシルな
ど）など；保護されたカルボキシ、たとえば上述の低級
アルコキシカルボニル、；カルボキシ；カルボキシ（低
級）アルキル；保護されたカルボキシ（低級）アルキ
ル；アル低級アルキル、たとえばフェニル（低級）アル
キル（たとえばベンジル、フェネチルなど）、ジフェニ
ル（低級）アルキル（たとえばベンズヒドリルなど）、
トリフェニル（低級）アルキル（たとえばトリチルな
ど）；低級アルキルアミノ（たとえばメチルアミノ、エ
チルアミノ、プロピルアミノ、ブチルアミノ、ｔ−ブチ
ルアミノ、ペンチルアミノ、ヘキシルアミノなど）；ア
シル、たとえば前述の低級アルカノイル；などの適当な
置換基を１個以上（好ましくは１〜３個）有してもよ
い。
基」は、ヒドロキシ、オキソ、上述の低級アルキル；ヒ
ドロキシ（低級）アルキル（たとえばヒドロキシメチ
ル、１−ヒドロキシエチル、２−ヒドロキシエチル、３
−ヒドロキシプロピル、２−ヒドロキシブチル、１−メ
チル−１−ヒドロキシメチルエチル、４−ヒドロキシペ
ンチル、３−ヒドロキシヘキシルなど）；低級アルコキ
シ（低級）アルキル（たとえばメトキシエチル、２−メ
トキシエチル、１−エトキシエチル、３−プロポキシプ
ロピル、２−（ｔ−ブトキシ）ブチル、５−ペンチルオ
キシペンチル、３−ヘキシルオキシヘキシルなど）；ア
シルオキシ（低級）アルキル、たとえば低級アルカノイ
ルオキシ（低級）アルキル（たとえばアセトキシメチ
ル、１−アセトキシエチル、２−アセトキシエチル、２
−プロピオニルオキシエチル、３−プロピオニルオキシ
プロピル、２−ブチリルオキシブチル、４−ピバロイル
オキシペンチル、６−ヘキサノイルオキシヘキシルな
ど）など；保護されたカルボキシ、たとえば上述の低級
アルコキシカルボニル、；カルボキシ；カルボキシ（低
級）アルキル；保護されたカルボキシ（低級）アルキ
ル；アル低級アルキル、たとえばフェニル（低級）アル
キル（たとえばベンジル、フェネチルなど）、ジフェニ
ル（低級）アルキル（たとえばベンズヒドリルなど）、
トリフェニル（低級）アルキル（たとえばトリチルな
ど）；低級アルキルアミノ（たとえばメチルアミノ、エ
チルアミノ、プロピルアミノ、ブチルアミノ、ｔ−ブチ
ルアミノ、ペンチルアミノ、ヘキシルアミノなど）；ア
シル、たとえば前述の低級アルカノイル；などの適当な
置換基を１個以上（好ましくは１〜３個）有してもよ
い。
【００２９】好適な「アミノ保護基」としては、例えば
ホルミル、アセチル、プロピオニル、ピバロイル、ヘキ
サノイル等の低級アルカノイル基、例えばクロロアセチ
ル、ブロモアセチル、ジクロロアセチル、トリフルオロ
アセチル等のモノ（もしくはジもしくはトリ）ハロ（低
級）アルカノイル基、例えばメトキシカルボニル、エト
キシカルボニル、プロポキシカルボニル、ｔ−ブトキシ
カルボニル、ｔ−ペンチルオキシカルボニル、ヘキシル
オキシカルボニル等の低級アルコキシカルボニル基、カ
ルバモイル基、例えばベンゾイル、トルオイル、ナフト
イル等のアロイル基、例えばフェニルアセチル、フェニ
ルプロピオニル等のアル（低級）アルカノイル基、例え
ばフェノキシカルボニル、ナフチルオキシカルボニル等
のアリールオキシカルボニル基、例えばフェノキシアセ
チル、フェノキシプロピオニル等のアリールオキシ（低
級）アルカノイル基、例えばフェニルグリオキシロイ
ル、ナフチルグリオキシロイル等のアリールグリオキシ
ロイル基、例えばベンジルオキシカルボニル、フェネチ
ルオキシカルボニル、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボ
ニル等の、適当な置換基を有してもよいアル（低級）ア
ルコキシカルボニル基、等のアシル基、例えばベンジリ
デン、ヒドロキシベンジリデン等の置換基を有するまた
は非置換アル（低級）アルキリデン基、例えばベンジ
ル、フェネチル、ベンズヒドリル、トリチル等のモノ
（またはジまたはトリ）フェニル（低級）アルキル基の
ようなアル（低級）アルキル基等が挙げられる。
ホルミル、アセチル、プロピオニル、ピバロイル、ヘキ
サノイル等の低級アルカノイル基、例えばクロロアセチ
ル、ブロモアセチル、ジクロロアセチル、トリフルオロ
アセチル等のモノ（もしくはジもしくはトリ）ハロ（低
級）アルカノイル基、例えばメトキシカルボニル、エト
キシカルボニル、プロポキシカルボニル、ｔ−ブトキシ
カルボニル、ｔ−ペンチルオキシカルボニル、ヘキシル
オキシカルボニル等の低級アルコキシカルボニル基、カ
ルバモイル基、例えばベンゾイル、トルオイル、ナフト
イル等のアロイル基、例えばフェニルアセチル、フェニ
ルプロピオニル等のアル（低級）アルカノイル基、例え
ばフェノキシカルボニル、ナフチルオキシカルボニル等
のアリールオキシカルボニル基、例えばフェノキシアセ
チル、フェノキシプロピオニル等のアリールオキシ（低
級）アルカノイル基、例えばフェニルグリオキシロイ
ル、ナフチルグリオキシロイル等のアリールグリオキシ
ロイル基、例えばベンジルオキシカルボニル、フェネチ
ルオキシカルボニル、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボ
ニル等の、適当な置換基を有してもよいアル（低級）ア
ルコキシカルボニル基、等のアシル基、例えばベンジリ
デン、ヒドロキシベンジリデン等の置換基を有するまた
は非置換アル（低級）アルキリデン基、例えばベンジ
ル、フェネチル、ベンズヒドリル、トリチル等のモノ
（またはジまたはトリ）フェニル（低級）アルキル基の
ようなアル（低級）アルキル基等が挙げられる。
【００３０】「低級アルカノイルアミノ（低級）アルキ
ル基」、「Ｎ−（低級）アルカノイル−Ｎ−（低級）ア
ルキルアミノ（低級）アルキル基」、「低級アルケニル
オキシカルボニルアミノ（低級）アルキル基」、「２−
Ｎ、Ｎ−ジ（低級）アルキルアミノ−２−メチルプロピ
ル基」、「低級アルキルアミノ（低級）アルキル基」、
「アル（低級）アルキルアミノ（低級）アルキル基」、
「Ｎ−（低級）アルキル−Ｎ−アル（低級）アルキルア
ミノ（低級）アルキル基」、「ぺルヒドロアゼピニル
（低級）アルキル基」、「ぺルヒドロアゾシニル（低
級）アルキル基」、「低級アルキル置換ピペリジル（低
級）アルキル基」、「２（または３）−ピリジル（低
級）アルキル基」、「置換基を有していてもよいピラゾ
リル（低級）アルキル基」、「置換基を有していてもよ
いイミダゾリル（低級）アルキル基」、「アミノ基が保
護されたアル（低級）アルキルアミノ（低級）アルキル
基」、「置換基として保護されたアミノ基を有するピラ
ゾリル（低級）アルキル基」、「アミノ基が保護された
イミダゾリル（低級）アルキル基」、「アミノ基が保護
された低級アルキルアミノ（低級）アルキル基」、「置
換基としてアミノ基を有するピラゾリル（低級）アルキ
ル基」、「イミダゾリル（低級）アルキル基」、「置換
基として低級アルキルあるいはアル（低級）アルキルを
有するピラゾリル（低級）アルキル基」、「置換基とし
て低級アルキルあるいはアル（低級）アルキルを有する
イミダゾリル（低級）アルキル基」、「アミノ基が保護
されたピラゾリル（低級）アルキル基」、「ピラゾリル
（低級）アルキル基」における好適な低級アルキル部分
および（低級）アルキル部分としては、先に例示したも
のを挙げることができる。
ル基」、「Ｎ−（低級）アルカノイル−Ｎ−（低級）ア
ルキルアミノ（低級）アルキル基」、「低級アルケニル
オキシカルボニルアミノ（低級）アルキル基」、「２−
Ｎ、Ｎ−ジ（低級）アルキルアミノ−２−メチルプロピ
ル基」、「低級アルキルアミノ（低級）アルキル基」、
「アル（低級）アルキルアミノ（低級）アルキル基」、
「Ｎ−（低級）アルキル−Ｎ−アル（低級）アルキルア
ミノ（低級）アルキル基」、「ぺルヒドロアゼピニル
（低級）アルキル基」、「ぺルヒドロアゾシニル（低
級）アルキル基」、「低級アルキル置換ピペリジル（低
級）アルキル基」、「２（または３）−ピリジル（低
級）アルキル基」、「置換基を有していてもよいピラゾ
リル（低級）アルキル基」、「置換基を有していてもよ
いイミダゾリル（低級）アルキル基」、「アミノ基が保
護されたアル（低級）アルキルアミノ（低級）アルキル
基」、「置換基として保護されたアミノ基を有するピラ
ゾリル（低級）アルキル基」、「アミノ基が保護された
イミダゾリル（低級）アルキル基」、「アミノ基が保護
された低級アルキルアミノ（低級）アルキル基」、「置
換基としてアミノ基を有するピラゾリル（低級）アルキ
ル基」、「イミダゾリル（低級）アルキル基」、「置換
基として低級アルキルあるいはアル（低級）アルキルを
有するピラゾリル（低級）アルキル基」、「置換基とし
て低級アルキルあるいはアル（低級）アルキルを有する
イミダゾリル（低級）アルキル基」、「アミノ基が保護
されたピラゾリル（低級）アルキル基」、「ピラゾリル
（低級）アルキル基」における好適な低級アルキル部分
および（低級）アルキル部分としては、先に例示したも
のを挙げることができる。
【００３１】「低級アルカノイルアミノ（低級）アルキ
ル基」、「Ｎ−（低級）アルカノイル−Ｎ−（低級）ア
ルキルアミノ（低級）アルキル基」における好適な低級
アルカノイル部分および（低級）アルカノイル部分とし
ては、先に例示したものを挙げることができる。
ル基」、「Ｎ−（低級）アルカノイル−Ｎ−（低級）ア
ルキルアミノ（低級）アルキル基」における好適な低級
アルカノイル部分および（低級）アルカノイル部分とし
ては、先に例示したものを挙げることができる。
【００３２】「低級アルケニルオキシカルボニルアミノ
（低級）アルキル基」における好適な低級アルケニル部
分としては、先に例示したものを挙げることができる。
（低級）アルキル基」における好適な低級アルケニル部
分としては、先に例示したものを挙げることができる。
【００３３】「アル（低級）アルキルアミノ（低級）ア
ルキル基」、「Ｎ−（低級）アルキル−Ｎ−アル（低
級）アルキルアミノ（低級）アルキル基」、「アミノ基
が保護されたアル（低級）アルキルアミノ（低級）アル
キル基」、「置換基として低級アルキルあるいはアル
（低級）アルキルを有するピラゾリル（低級）アルキル
基」、「置換基として低級アルキルあるいはアル（低
級）アルキルを有するイミダゾリル（低級）アルキル
基」における好適なアル（低級）アルキル部分として
は、先に例示したものを挙げることができる。
ルキル基」、「Ｎ−（低級）アルキル−Ｎ−アル（低
級）アルキルアミノ（低級）アルキル基」、「アミノ基
が保護されたアル（低級）アルキルアミノ（低級）アル
キル基」、「置換基として低級アルキルあるいはアル
（低級）アルキルを有するピラゾリル（低級）アルキル
基」、「置換基として低級アルキルあるいはアル（低
級）アルキルを有するイミダゾリル（低級）アルキル
基」における好適なアル（低級）アルキル部分として
は、先に例示したものを挙げることができる。
【００３４】「置換基を有していてもよいピラゾリル
（低級）アルキル基」における好適な置換基としては、
低級アルキル、アル（低級）アルキル、カルボキシ（低
級）アルキル、保護されたカルボキシ（低級）アルキル
およびアミノが挙げられ、より好ましくは、低級アルキ
ル、アル（低級）アルキル、アミノであり、さらに好ま
しくは、メチル、トリチル、アミノであり、これらの置
換基を１から３個有していてよい。また、上記置換基の
うち低級アルキル、アル（低級）アルキル、カルボキシ
（低級）アルキルの（低級）アルキル部分、保護された
カルボキシ（低級）アルキルの保護されたカルボキシ部
分および（低級）アルキル部分としては先に例示したも
のを挙げることができる。
（低級）アルキル基」における好適な置換基としては、
低級アルキル、アル（低級）アルキル、カルボキシ（低
級）アルキル、保護されたカルボキシ（低級）アルキル
およびアミノが挙げられ、より好ましくは、低級アルキ
ル、アル（低級）アルキル、アミノであり、さらに好ま
しくは、メチル、トリチル、アミノであり、これらの置
換基を１から３個有していてよい。また、上記置換基の
うち低級アルキル、アル（低級）アルキル、カルボキシ
（低級）アルキルの（低級）アルキル部分、保護された
カルボキシ（低級）アルキルの保護されたカルボキシ部
分および（低級）アルキル部分としては先に例示したも
のを挙げることができる。
【００３５】「置換基を有していてもよいイミダゾリル
（低級）アルキル基」における好適な置換基としては、
低級アルキル、アル（低級）アルキル、カルボキシ（低
級）アルキル、保護されたカルボキシ（低級）アルキル
およびアミノが挙げられ、より好ましくはメチル、トリ
チル、カルボキシメチル、エトキシカルボニル、メチル
であり、これらの置換基を１から３個有していてよい。
また、上記置換基のうち低級アルキル、アル（低級）ア
ルキル、カルボキシ（低級）アルキルの（低級）アルキ
ル部分、保護されたカルボキシ（低級）アルキルの保護
されたカルボキシ部分および（低級）アルキル部分とし
ては先に例示したものを挙げることができる。
（低級）アルキル基」における好適な置換基としては、
低級アルキル、アル（低級）アルキル、カルボキシ（低
級）アルキル、保護されたカルボキシ（低級）アルキル
およびアミノが挙げられ、より好ましくはメチル、トリ
チル、カルボキシメチル、エトキシカルボニル、メチル
であり、これらの置換基を１から３個有していてよい。
また、上記置換基のうち低級アルキル、アル（低級）ア
ルキル、カルボキシ（低級）アルキルの（低級）アルキ
ル部分、保護されたカルボキシ（低級）アルキルの保護
されたカルボキシ部分および（低級）アルキル部分とし
ては先に例示したものを挙げることができる。
【００３６】「アミノ基が保護されたアル（低級）アル
キルアミノ（低級）アルキル基」、「置換基として保護
されたアミノ基を有するピラゾリル（低級）アルキル
基」、「アミノ基が保護されたイミダゾリル（低級）ア
ルキル基」、「アミノ基が保護された低級アルキルアミ
ノ（低級）アルキル基」、「アミノ基が保護されたピラ
ゾリル（低級）アルキル基」におけるアミノ基を保護す
るアミノ保護基としては、、先に例示したものを挙げる
ことができる。
キルアミノ（低級）アルキル基」、「置換基として保護
されたアミノ基を有するピラゾリル（低級）アルキル
基」、「アミノ基が保護されたイミダゾリル（低級）ア
ルキル基」、「アミノ基が保護された低級アルキルアミ
ノ（低級）アルキル基」、「アミノ基が保護されたピラ
ゾリル（低級）アルキル基」におけるアミノ基を保護す
るアミノ保護基としては、、先に例示したものを挙げる
ことができる。
【００３７】好適な「ハロゲン原子」としては、フルオ
ロ、クロロ、ブロモ、ヨードが挙げられ、より好ましく
はクロロまたはヨードが挙げられる。
ロ、クロロ、ブロモ、ヨードが挙げられ、より好ましく
はクロロまたはヨードが挙げられる。
【００３８】好適な「酸残基」としては、フルオロ、ク
ロロ、ブロモ、ヨード等のハロゲン原子があげられる。
ロロ、ブロモ、ヨード等のハロゲン原子があげられる。
【００３９】該ピラゾロピリジン化合物またはその医薬
として許容しうる塩は、アデノシン拮抗剤（とくにＡ
１，受容体拮抗剤）であり、認識増強作用、鎮痛作用、
自発運動量増加作用、抗うつ作用、利尿作用、心臓保護
作用、強心作用、血管拡張作用（たとえば脳血管拡張作
用など）、腎血流増加作用、腎保護作用、腎機能改善作
用、脂肪分解増進作用、抗喘息作用、インシュリン分泌
促進作用、エリスロポエチン産生増進作用、血小板凝集
抑制作用など、種々の薬理作用を有し、認識増強薬、抗
痴呆薬、精神刺激薬、鎮痛薬、心臓保護薬、抗うつ薬、
脳循環改善薬、トランキライザー、心不全用薬、強心
薬、降圧薬、腎不全用薬、腎毒性治療薬、腎保護薬、腎
機能改善薬、利尿薬、浮腫治療薬、抗肥満薬、抗喘息
薬、気管支拡張薬、無呼吸治療薬、痛風治療薬、高尿酸
血症治療薬、乳幼児突然死症候群（ＳＩＤＳ）治療薬、
アデノシンによる免疫抑制の改善薬、抗糖尿病薬、抗潰
瘍薬、膵炎治療薬、メニエール症候群治療薬、抗貧血
薬；血栓症治療薬、心筋梗塞治療薬、塞栓症治療薬、閉
塞性動脈硬化症治療薬、血栓性静脈炎治療薬、脳梗塞治
療薬、一過性脳虚血治療薬、狭心症治療薬などとして有
用であり、うつ病、痴呆（たとえばアルツハイマー病、
脳血管性痴呆、パーキンソン病など）、不安、疼痛、脳
血管性疾患（たとえば本態性高血圧、腎性高血圧な
ど）；たとえば虚血／再潅流障害（たとえば心筋の虚血
／再潅流障害、脳の虚血／再潅流障害、末梢の虚血／再
潅流障害など）、ショック（たとえばエンドトキシンシ
ョック、出血性ショックなど）、外科的処置などに起因
する循環不全（急性循環不全）；蘇生後収縮不全；徐脈
性不整脈；電気機械的機能不全，（ｅｌｅｃｔｒｏ−ｍ
ｅｃｈａｎｉｃａｌ，ｄｉｓｓｏｃｉａｔｉｏｎ）；心
血行動態不全，（ｈｅｍｏｄｙｎａｍｉｃ，ｃｏｌｌａ
ｐｓｅ）；ＳＩＲＳ，（ｓｙｓｔｅｍｉｃ，ｉｎｆｌａ
ｍｍａｔｏｒｙ，ｒｅｓｐｏｎｓｅ，ｓｙｎｄｒｏｍ
ｅ），；多臓器不全、腎不全、（たとえば急性腎不全な
ど）、腎毒性［たとえば、シスプラチン類、ゲンタミシ
ン、，ＦＲ−９００５０６，（ＥＰ−０１８４０６２，
に，開示されている）、シクロスポリン（たとえばシク
ロスポリンＡ）など；グリセロールなどの薬剤に起因す
る，腎毒性］、ネフローゼ症候群、腎炎、浮腫（たとえ
ば心性浮腫、腎性浮腫、肝性浮腫、特発性浮腫、薬剤性
浮腫、急性血管神経性浮腫、遺伝性血管神経性浮腫、癌
性腹水、妊娠性浮腫など）；肥満症、気管支喘息、痛
風、高尿酸血症、乳幼児突然死症候群、免疫抑制、糖尿
病、消化性潰瘍（たとえば胃潰瘍、十二指腸潰瘍など）
などの潰瘍、膵炎、メニエール症候群、貧血；心筋梗
塞、血栓症（たとえば動脈血栓、脳血栓など）、閉塞栓
症、閉塞性動脈硬化症、血栓性静脈炎、脳梗塞、一過性
虚血性発作、狭心症などの予防および／または治療に有
用である。
として許容しうる塩は、アデノシン拮抗剤（とくにＡ
１，受容体拮抗剤）であり、認識増強作用、鎮痛作用、
自発運動量増加作用、抗うつ作用、利尿作用、心臓保護
作用、強心作用、血管拡張作用（たとえば脳血管拡張作
用など）、腎血流増加作用、腎保護作用、腎機能改善作
用、脂肪分解増進作用、抗喘息作用、インシュリン分泌
促進作用、エリスロポエチン産生増進作用、血小板凝集
抑制作用など、種々の薬理作用を有し、認識増強薬、抗
痴呆薬、精神刺激薬、鎮痛薬、心臓保護薬、抗うつ薬、
脳循環改善薬、トランキライザー、心不全用薬、強心
薬、降圧薬、腎不全用薬、腎毒性治療薬、腎保護薬、腎
機能改善薬、利尿薬、浮腫治療薬、抗肥満薬、抗喘息
薬、気管支拡張薬、無呼吸治療薬、痛風治療薬、高尿酸
血症治療薬、乳幼児突然死症候群（ＳＩＤＳ）治療薬、
アデノシンによる免疫抑制の改善薬、抗糖尿病薬、抗潰
瘍薬、膵炎治療薬、メニエール症候群治療薬、抗貧血
薬；血栓症治療薬、心筋梗塞治療薬、塞栓症治療薬、閉
塞性動脈硬化症治療薬、血栓性静脈炎治療薬、脳梗塞治
療薬、一過性脳虚血治療薬、狭心症治療薬などとして有
用であり、うつ病、痴呆（たとえばアルツハイマー病、
脳血管性痴呆、パーキンソン病など）、不安、疼痛、脳
血管性疾患（たとえば本態性高血圧、腎性高血圧な
ど）；たとえば虚血／再潅流障害（たとえば心筋の虚血
／再潅流障害、脳の虚血／再潅流障害、末梢の虚血／再
潅流障害など）、ショック（たとえばエンドトキシンシ
ョック、出血性ショックなど）、外科的処置などに起因
する循環不全（急性循環不全）；蘇生後収縮不全；徐脈
性不整脈；電気機械的機能不全，（ｅｌｅｃｔｒｏ−ｍ
ｅｃｈａｎｉｃａｌ，ｄｉｓｓｏｃｉａｔｉｏｎ）；心
血行動態不全，（ｈｅｍｏｄｙｎａｍｉｃ，ｃｏｌｌａ
ｐｓｅ）；ＳＩＲＳ，（ｓｙｓｔｅｍｉｃ，ｉｎｆｌａ
ｍｍａｔｏｒｙ，ｒｅｓｐｏｎｓｅ，ｓｙｎｄｒｏｍ
ｅ），；多臓器不全、腎不全、（たとえば急性腎不全な
ど）、腎毒性［たとえば、シスプラチン類、ゲンタミシ
ン、，ＦＲ−９００５０６，（ＥＰ−０１８４０６２，
に，開示されている）、シクロスポリン（たとえばシク
ロスポリンＡ）など；グリセロールなどの薬剤に起因す
る，腎毒性］、ネフローゼ症候群、腎炎、浮腫（たとえ
ば心性浮腫、腎性浮腫、肝性浮腫、特発性浮腫、薬剤性
浮腫、急性血管神経性浮腫、遺伝性血管神経性浮腫、癌
性腹水、妊娠性浮腫など）；肥満症、気管支喘息、痛
風、高尿酸血症、乳幼児突然死症候群、免疫抑制、糖尿
病、消化性潰瘍（たとえば胃潰瘍、十二指腸潰瘍など）
などの潰瘍、膵炎、メニエール症候群、貧血；心筋梗
塞、血栓症（たとえば動脈血栓、脳血栓など）、閉塞栓
症、閉塞性動脈硬化症、血栓性静脈炎、脳梗塞、一過性
虚血性発作、狭心症などの予防および／または治療に有
用である。
【００４０】目的化合物（Ｉ）またはその塩の製造法
（方法１〜９）を、以下に詳細に説明する。
（方法１〜９）を、以下に詳細に説明する。
【００４１】方法１ 化合物（Ｉａ）またはその塩は、化合物（ＩＩ）または
その塩を化合物（ＩＩＩ）またはその塩と反応させ、ア
ミノ保護基の脱離反応および縮合反応に付すことにより
製造できる。アミノ保護基の脱離反応および縮合反応の
順序は特に限定されない。化合物（ＩＩ）の好適な塩と
しては、化合物（Ｉ）について例示した酸付加塩を挙げ
ることができる。化合物（Ｉａ）および（ＩＩＩ）の好
適な塩としては、化合物（Ｉ）について例示したものを
挙げることができる。この方法の反応は、後述の実施例
に準ずる方法で実施できる。
その塩を化合物（ＩＩＩ）またはその塩と反応させ、ア
ミノ保護基の脱離反応および縮合反応に付すことにより
製造できる。アミノ保護基の脱離反応および縮合反応の
順序は特に限定されない。化合物（ＩＩ）の好適な塩と
しては、化合物（Ｉ）について例示した酸付加塩を挙げ
ることができる。化合物（Ｉａ）および（ＩＩＩ）の好
適な塩としては、化合物（Ｉ）について例示したものを
挙げることができる。この方法の反応は、後述の実施例
に準ずる方法で実施できる。
【００４２】方法２ 化合物（Ｉｂ）またはその塩は、化合物（ＩＩ）または
その塩を化合物（ＩＶ）またはその塩と反応させること
により製造できる。化合物（ＩＩ）の好適な塩として
は、化合物（Ｉ）について例示した酸付加塩を挙げるこ
とができる。化合物（Ｉｂ）および（ＩＶ）の好適な塩
としては、化合物（Ｉ）について例示したものを挙げる
ことができる。この方法の反応は、後述の実施例に準ず
る方法で実施できる。
その塩を化合物（ＩＶ）またはその塩と反応させること
により製造できる。化合物（ＩＩ）の好適な塩として
は、化合物（Ｉ）について例示した酸付加塩を挙げるこ
とができる。化合物（Ｉｂ）および（ＩＶ）の好適な塩
としては、化合物（Ｉ）について例示したものを挙げる
ことができる。この方法の反応は、後述の実施例に準ず
る方法で実施できる。
【００４３】方法３ 化合物（Ｉｃ）またはその塩は、化合物（ＩＩ）または
その塩を化合物（Ｖ）と反応させることにより製造でき
る。化合物（ＩＩ）の好適な塩としては、化合物（Ｉ）
について例示した酸付加塩を挙げることができる。化合
物（Ｉｃ）の好適な塩としては、化合物（Ｉ）について
例示したものを挙げることができる。
その塩を化合物（Ｖ）と反応させることにより製造でき
る。化合物（ＩＩ）の好適な塩としては、化合物（Ｉ）
について例示した酸付加塩を挙げることができる。化合
物（Ｉｃ）の好適な塩としては、化合物（Ｉ）について
例示したものを挙げることができる。
【００４４】本反応は、水、燐酸塩緩衝液、アセトン、
クロロホルム、アセトニトリル、ニトロベンゼン、トル
エン、塩化メチレン、塩化エチレン、ホルムアミド、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、メタノ−ル、エタノ−
ル、第二級ブタノ−ル、アミルアルコ−ル、ジエチルエ
−テル、ジメトキシエタン、ジオキサン、テトラヒドロ
フラン、ジメチルスルホキシドなどの溶媒、その他反応
に悪影響を及ぼさない任意の有機溶媒、好ましくは強い
極性を有する溶媒中で実施できる。これらの溶媒のう
ち、親水性の溶媒は、水との混合物として使用してもよ
い。化合物（ＩＩＩ）が液状である場合には、それを溶
媒として使用することもできる。
クロロホルム、アセトニトリル、ニトロベンゼン、トル
エン、塩化メチレン、塩化エチレン、ホルムアミド、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、メタノ−ル、エタノ−
ル、第二級ブタノ−ル、アミルアルコ−ル、ジエチルエ
−テル、ジメトキシエタン、ジオキサン、テトラヒドロ
フラン、ジメチルスルホキシドなどの溶媒、その他反応
に悪影響を及ぼさない任意の有機溶媒、好ましくは強い
極性を有する溶媒中で実施できる。これらの溶媒のう
ち、親水性の溶媒は、水との混合物として使用してもよ
い。化合物（ＩＩＩ）が液状である場合には、それを溶
媒として使用することもできる。
【００４５】反応は、塩基、たとえばアルカリ金属水酸
化物、アルカリ金属アルコキシド、アルカリ金属炭酸
塩、アルカリ金属重炭酸塩、アルカリ金属水素化物など
の無機塩基、水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム、
トリアルキルアミンなどの有機塩基の存在下で実施する
のが好ましい。
化物、アルカリ金属アルコキシド、アルカリ金属炭酸
塩、アルカリ金属重炭酸塩、アルカリ金属水素化物など
の無機塩基、水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム、
トリアルキルアミンなどの有機塩基の存在下で実施する
のが好ましい。
【００４６】反応温度はとくに限定されないが、通常
は、外界温度、加温下または加熱下で反応を実施する。
は、外界温度、加温下または加熱下で反応を実施する。
【００４７】本反応は、ハロゲン化アルカリ金属［たと
えばヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウムなど］、チオシ
アン酸アルカリ金属［たとえばチオシアン酸ナトリウ
ム、チオシアン酸カリウムなど］などの存在下で実施す
るのが好ましい。
えばヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウムなど］、チオシ
アン酸アルカリ金属［たとえばチオシアン酸ナトリウ
ム、チオシアン酸カリウムなど］などの存在下で実施す
るのが好ましい。
【００４８】方法４ 化合物（Ｉｄ）またはその塩は、化合物（ＶＩ）または
その塩を還元反応に付すことにより製造できる。化合物
（Ｉｄ）および（ＶＩ）の好適な塩としては、化合物
（Ｉ）について例示したものを挙げることができる。こ
の方法の還元反応は、後述するようなこの技術分野での
慣用的還元方法（たとえば化学還元、接触還元など）に
従って実施できる。
その塩を還元反応に付すことにより製造できる。化合物
（Ｉｄ）および（ＶＩ）の好適な塩としては、化合物
（Ｉ）について例示したものを挙げることができる。こ
の方法の還元反応は、後述するようなこの技術分野での
慣用的還元方法（たとえば化学還元、接触還元など）に
従って実施できる。
【００４９】方法５ 化合物（Ｉｆ）またはその塩は、化合物（Ｉｅ）または
その塩をアミノ保護基の脱離反応に付すことにより製造
できる。化合物（Ｉｆ）および（Ｉｅ）の好適な塩とし
ては、化合物（Ｉ）について例示したものを挙げること
ができる。この反応は、加水分解・還元等の慣用の方法
に従って行われる。
その塩をアミノ保護基の脱離反応に付すことにより製造
できる。化合物（Ｉｆ）および（Ｉｅ）の好適な塩とし
ては、化合物（Ｉ）について例示したものを挙げること
ができる。この反応は、加水分解・還元等の慣用の方法
に従って行われる。
【００５０】加水分解は、塩基または酸（ルイス酸も含
む）の存在下で行うのが好ましい。
む）の存在下で行うのが好ましい。
【００５１】好適な塩基としては、例えばアルカリ金属
（例えばナトリウム、カリウム等）、アルカリ土類金属
（例えばマグネシウム、カルシウム等）、それらの金属
の水酸化物もしくは炭酸塩もしくは重炭酸塩、アルカリ
金属アルコキサイド（例えばナトリウムメトキサイド、
ナトリウムエトキサイド、カリウムｔ−ブトキサイド
等）、アルカリ金属酢酸塩、アルカリ土類金属燐酸塩、
アルカリ金属燐酸水素塩（例えば燐酸水素二ナトリウ
ム、燐酸水素二カリウム等）、トリ（低級）アルキルア
ミン（例えばトリメチルアミン、トリエチルアミン
等）、ピリジンまたはその誘導体（例えばピコリン、ル
チジン、４−ジメチルアミノピリジン等）、Ｎ−（低
級）アルキルモルホリン（例えばＮ−メチルモルホリン
等）、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノン−５
エン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２．］オクタ
ン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデク−
７−エン、キノリン等の無機および有機の塩基を挙げる
ことができる。
（例えばナトリウム、カリウム等）、アルカリ土類金属
（例えばマグネシウム、カルシウム等）、それらの金属
の水酸化物もしくは炭酸塩もしくは重炭酸塩、アルカリ
金属アルコキサイド（例えばナトリウムメトキサイド、
ナトリウムエトキサイド、カリウムｔ−ブトキサイド
等）、アルカリ金属酢酸塩、アルカリ土類金属燐酸塩、
アルカリ金属燐酸水素塩（例えば燐酸水素二ナトリウ
ム、燐酸水素二カリウム等）、トリ（低級）アルキルア
ミン（例えばトリメチルアミン、トリエチルアミン
等）、ピリジンまたはその誘導体（例えばピコリン、ル
チジン、４−ジメチルアミノピリジン等）、Ｎ−（低
級）アルキルモルホリン（例えばＮ−メチルモルホリン
等）、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノン−５
エン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２．］オクタ
ン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデク−
７−エン、キノリン等の無機および有機の塩基を挙げる
ことができる。
【００５２】好適な酸としては、有機酸（例えば蟻酸、
酢酸、プロピオン酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢
酸等）および無機酸（例えば塩酸、臭化水素酸、硫酸
等）を挙げることができる。トリハロゲン化酢酸（例え
ばトリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等）等を使用した
脱離反応は、陽イオン捕捉剤（例えばフェノ−ル、アニ
ソ−ル等）の添加によって加速される。
酢酸、プロピオン酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢
酸等）および無機酸（例えば塩酸、臭化水素酸、硫酸
等）を挙げることができる。トリハロゲン化酢酸（例え
ばトリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等）等を使用した
脱離反応は、陽イオン捕捉剤（例えばフェノ−ル、アニ
ソ−ル等）の添加によって加速される。
【００５３】この加水分解は通常、水、アルコ−ル（例
えばメタノ−ル、エタノ−ル等）、ジエチルエ−テル、
ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、酢
酸エチル等の慣用の溶媒中またはそれらの混合物中、ま
たは反応に悪影響を及ぼさない任意の他の有機溶媒中で
行われる。上記の塩基または酸が液体である場合には、
そららもまた溶媒として使用することができる。
えばメタノ−ル、エタノ−ル等）、ジエチルエ−テル、
ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、酢
酸エチル等の慣用の溶媒中またはそれらの混合物中、ま
たは反応に悪影響を及ぼさない任意の他の有機溶媒中で
行われる。上記の塩基または酸が液体である場合には、
そららもまた溶媒として使用することができる。
【００５４】反応温度は特に限定されないが、通常、冷
却下、室温または加温下で反応は行われる。
却下、室温または加温下で反応は行われる。
【００５５】この脱離反応に適用できる還元法として
は、化学的還元および接触還元が挙げられる。
は、化学的還元および接触還元が挙げられる。
【００５６】化学的還元に使用される好適な還元剤とし
ては、金属（例えば錫、亜鉛、鉄等）または金属化合物
（例えば塩化クロム、酢酸クロム等）と有機または無機
の酸（例えば蟻酸、酢酸、プロピオン酸、トリフルオロ
酢酸、ｐ−トルエンスルホン酸、塩酸、臭化水素酸等）
との組合せを挙げることができる。接触還元に使用され
る好適な触媒としては、慣用の触媒、例えば白金触媒
（例えば白金板、白金海綿、白金黒、コロイド白金、酸
化白金、白金線等）、パラジウム触媒（例えばパラジウ
ム海綿、パラジウム黒、コロイドパラジウム、酸化パラ
ジウム、パラジウム−炭素、パラジウム−硫酸バリウ
ム、パラジウム−炭酸バリウム等）、ニッケル触媒（例
えば還元ニッケル、酸化ニッケル、ラネ−ニッケルＷ
等）、コバルト触媒（例えば還元コバルト、ラネ−コバ
ルト等）、鉄触媒（例えば還元鉄、ラネ−鉄等）、銅触
媒（例えば還元銅、ラネ−銅、ウルマン銅等）等を挙げ
ることができる。
ては、金属（例えば錫、亜鉛、鉄等）または金属化合物
（例えば塩化クロム、酢酸クロム等）と有機または無機
の酸（例えば蟻酸、酢酸、プロピオン酸、トリフルオロ
酢酸、ｐ−トルエンスルホン酸、塩酸、臭化水素酸等）
との組合せを挙げることができる。接触還元に使用され
る好適な触媒としては、慣用の触媒、例えば白金触媒
（例えば白金板、白金海綿、白金黒、コロイド白金、酸
化白金、白金線等）、パラジウム触媒（例えばパラジウ
ム海綿、パラジウム黒、コロイドパラジウム、酸化パラ
ジウム、パラジウム−炭素、パラジウム−硫酸バリウ
ム、パラジウム−炭酸バリウム等）、ニッケル触媒（例
えば還元ニッケル、酸化ニッケル、ラネ−ニッケルＷ
等）、コバルト触媒（例えば還元コバルト、ラネ−コバ
ルト等）、鉄触媒（例えば還元鉄、ラネ−鉄等）、銅触
媒（例えば還元銅、ラネ−銅、ウルマン銅等）等を挙げ
ることができる。
【００５７】還元は通常、水、アルコ−ル（例えばメタ
ノ−ル、エタノ−ル、プロパノ−ル等）、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルホルムアミド等のような反応に悪影響を及ぼさない
溶媒中またはそれらの混合物中で行われる。また化学的
還元に使用する上記の酸が液体である場合には、そらら
もまた溶媒として使用することができる。さらに、接触
還元に使用される好適な溶媒としては、上記の溶媒のほ
か、ジエチルエ−テル、ジオキサン、テトラヒドロフラ
ン等の慣用の溶媒またはそれらの混合物を挙げることが
できる。
ノ−ル、エタノ−ル、プロパノ−ル等）、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルホルムアミド等のような反応に悪影響を及ぼさない
溶媒中またはそれらの混合物中で行われる。また化学的
還元に使用する上記の酸が液体である場合には、そらら
もまた溶媒として使用することができる。さらに、接触
還元に使用される好適な溶媒としては、上記の溶媒のほ
か、ジエチルエ−テル、ジオキサン、テトラヒドロフラ
ン等の慣用の溶媒またはそれらの混合物を挙げることが
できる。
【００５８】この還元の反応温度は特に限定されない
が、通常は冷却下、室温、または加温下で反応は行われ
る。
が、通常は冷却下、室温、または加温下で反応は行われ
る。
【００５９】方法６ 化合物（Ｉｈ） またはその塩は、化合物（Ｉｇ）また
はその塩をカルボキシ保護基脱離反応に付すことにより
製造できる。化合物（Ｉｇ）および（Ｉｈ）の好適な塩
としては、化合物（Ｉ）について例示したものを挙げる
ことができる。この方法の反応は、方法５と同様にして
実施できる。
はその塩をカルボキシ保護基脱離反応に付すことにより
製造できる。化合物（Ｉｇ）および（Ｉｈ）の好適な塩
としては、化合物（Ｉ）について例示したものを挙げる
ことができる。この方法の反応は、方法５と同様にして
実施できる。
【００６０】方法７ 化合物（Ｉｊ）またはその塩は、化合物（Ｉｉ）または
その塩をアミノ保護基の脱離反応に付して得られる化合
物（ＶＩＩ）にさらに無水酢酸を反応させアミド化反応
に付すことにより製造できる。化合物（Ｉｊ），（Ｉ
ｉ）および（ＶＩＩ）の好適な塩としては、化合物
（Ｉ）について例示したものを挙げることができる。
その塩をアミノ保護基の脱離反応に付して得られる化合
物（ＶＩＩ）にさらに無水酢酸を反応させアミド化反応
に付すことにより製造できる。化合物（Ｉｊ），（Ｉ
ｉ）および（ＶＩＩ）の好適な塩としては、化合物
（Ｉ）について例示したものを挙げることができる。
【００６１】アミノ保護基の脱離反応は方法５と同様に
して実施できる。
して実施できる。
【００６２】アミド化反応は、通常、慣用の溶媒、たと
えば水、アルコ−ル［たとえばメタノール、エタノール
など］、アセトン、ジオキサン、アセトニトリル、クロ
ロホルム、塩化メチレン、塩化エチレン、テトラヒドロ
フラン、酢酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、
ピリジン、その他反応に悪影響を及ぼさない任意の有機
溶媒中で実施する。これら慣用の溶媒は、水との混合物
として使用してもよい。
えば水、アルコ−ル［たとえばメタノール、エタノール
など］、アセトン、ジオキサン、アセトニトリル、クロ
ロホルム、塩化メチレン、塩化エチレン、テトラヒドロ
フラン、酢酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、
ピリジン、その他反応に悪影響を及ぼさない任意の有機
溶媒中で実施する。これら慣用の溶媒は、水との混合物
として使用してもよい。
【００６３】反応は、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金
属重炭酸塩、トリ（低級）アルキルアミン（たとえばト
リエチルアミンなど）、ピリジン、Ｎ−（低級）アルキ
ルモルホリン、Ｎ，Ｎ−ジ（低級）アルキルベンジルア
ミンなどの無機塩基または有機塩基の存在下で実施する
こともできる。
属重炭酸塩、トリ（低級）アルキルアミン（たとえばト
リエチルアミンなど）、ピリジン、Ｎ−（低級）アルキ
ルモルホリン、Ｎ，Ｎ−ジ（低級）アルキルベンジルア
ミンなどの無機塩基または有機塩基の存在下で実施する
こともできる。
【００６４】反応温度はとくに限定されず、通常、冷却
下ないし加熱下に反応を実施する。
下ないし加熱下に反応を実施する。
【００６５】方法８ 化合物（Ｉｋ）またはその塩は、化合物（Ｉｊ）または
その塩をＮ−アルキル化反応に付すことにより製造でき
る。化合物（Ｉｊ）および（Ｉｋ）の好適な塩として
は、化合物（Ｉ）について例示したものを挙げることが
できる。Ｎ−アルキル化反応は、常法、例えば化合物
（Ｉｊ）またはその塩を低級アルキルハライド化合物と
反応させるか、化合物（Ｉｊ）またはその塩をアルデヒ
ド化合物と反応させ、続いて還元することによって行う
ことができる。還元は、前述のような化学還元あるいは
接触還元によって行うことができる。この反応は、通
常、水、アセトニトリル、アルコール等のような溶媒中
で、行われる反応温度はとくに限定されず、通常、冷却
下ないし加熱下に反応を実施する。
その塩をＮ−アルキル化反応に付すことにより製造でき
る。化合物（Ｉｊ）および（Ｉｋ）の好適な塩として
は、化合物（Ｉ）について例示したものを挙げることが
できる。Ｎ−アルキル化反応は、常法、例えば化合物
（Ｉｊ）またはその塩を低級アルキルハライド化合物と
反応させるか、化合物（Ｉｊ）またはその塩をアルデヒ
ド化合物と反応させ、続いて還元することによって行う
ことができる。還元は、前述のような化学還元あるいは
接触還元によって行うことができる。この反応は、通
常、水、アセトニトリル、アルコール等のような溶媒中
で、行われる反応温度はとくに限定されず、通常、冷却
下ないし加熱下に反応を実施する。
【００６６】方法９ 化合物（Ｉｍ）またはその塩は、化合物（Ｉｌ）または
その塩と化合物（ＶＩＩＩ）またはその塩を反応させる
ことにより製造できる。化合物（Ｉｌ）、（Ｉｍ）およ
び（ＶＩＩＩ）の好適な塩としては、化合物（Ｉ）につ
いて例示したものを挙げることができる。
その塩と化合物（ＶＩＩＩ）またはその塩を反応させる
ことにより製造できる。化合物（Ｉｌ）、（Ｉｍ）およ
び（ＶＩＩＩ）の好適な塩としては、化合物（Ｉ）につ
いて例示したものを挙げることができる。
【００６７】この反応は好ましくは、例えば水素化ナト
リウム、水素化カリウム等のアルカリ金属水素化物、例
えば水素化カルシウム、水素化マグネシウム等のアルカ
リ土類金属水素化物、例えば水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム等のアルカリ金属水酸化物、例えば炭酸ナトリ
ウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩、例えば炭
酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属
炭酸水素塩、例えばナトリウムメトキシド、ナトリウム
エトキシド、カリウム第三ブトキシド等のアルカリ金属
アルコキシドのような塩基の存在下に行われる。
リウム、水素化カリウム等のアルカリ金属水素化物、例
えば水素化カルシウム、水素化マグネシウム等のアルカ
リ土類金属水素化物、例えば水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム等のアルカリ金属水酸化物、例えば炭酸ナトリ
ウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩、例えば炭
酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属
炭酸水素塩、例えばナトリウムメトキシド、ナトリウム
エトキシド、カリウム第三ブトキシド等のアルカリ金属
アルコキシドのような塩基の存在下に行われる。
【００６８】この反応は通常、水、メタノール、エタノ
ール、プロパノール、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、アセトニトリル、塩化メチレン、クロロホルム、ベ
ンゼン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド
のような慣用の溶媒中で行われるが、反応に影響を及ぼ
さない有機溶媒中であればその他の如何なる有機溶媒中
でも行うことができる。
ール、プロパノール、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、アセトニトリル、塩化メチレン、クロロホルム、ベ
ンゼン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド
のような慣用の溶媒中で行われるが、反応に影響を及ぼ
さない有機溶媒中であればその他の如何なる有機溶媒中
でも行うことができる。
【００６９】反応温度はとくに限定されず、通常、冷却
下ないし加熱下に反応を実施する。
下ないし加熱下に反応を実施する。
【００７０】上記の各製造方法で得られた化合物は、抽
出、粉末化、再結晶、カラムクロマトグラフィ−、再晶
出等の慣用の方法で単離、精製することができる。
出、粉末化、再結晶、カラムクロマトグラフィ−、再晶
出等の慣用の方法で単離、精製することができる。
【００７１】本発明の目的化合物であるピラゾロピリジ
ンアデノシン拮抗剤（Ｉ）およびその医薬上許容しうる
塩は、溶媒和［例えば包接化合物（例えば、水和物
等）］を含む。
ンアデノシン拮抗剤（Ｉ）およびその医薬上許容しうる
塩は、溶媒和［例えば包接化合物（例えば、水和物
等）］を含む。
【００７２】本発明の目的化合物（Ｉ）は、アデノシン
拮抗剤であり、前述した通り、種々の薬理作用を有す
る。
拮抗剤であり、前述した通り、種々の薬理作用を有す
る。
【００７３】本発明の目的化合物（Ｉ）のこの有用性を
示すために、本発明の代表化合物の薬理試験結果を以下
に示す。 試験１ アデノシン拮抗活性試験 〔Ｉ〕試験方法 試験化合物のアデノシン拮抗活性は、８−シクロペンチ
ル−１，３−ジプロピルキサンチン、［ジプロピル−
２，３−3Ｈ（Ｎ）］（3Ｈ−ＤＰＣＰＸ，２×１０
-9Ｍ）を人間のＡ1受容体に対して用い、放射リガンド
結合法により試験した。
示すために、本発明の代表化合物の薬理試験結果を以下
に示す。 試験１ アデノシン拮抗活性試験 〔Ｉ〕試験方法 試験化合物のアデノシン拮抗活性は、８−シクロペンチ
ル−１，３−ジプロピルキサンチン、［ジプロピル−
２，３−3Ｈ（Ｎ）］（3Ｈ−ＤＰＣＰＸ，２×１０
-9Ｍ）を人間のＡ1受容体に対して用い、放射リガンド
結合法により試験した。
【００７４】〔ＩＩ〕試験化合物 ３−［２−（イミダゾール−４−イル）メチル−３−オ
キソ−２，３−ジヒドロピリダジン−６−イル］−２−
フェニルピラゾロ［１，５−ａ］ピリジン ハイドロク
ロライド（実施例２の化合物）
キソ−２，３−ジヒドロピリダジン−６−イル］−２−
フェニルピラゾロ［１，５−ａ］ピリジン ハイドロク
ロライド（実施例２の化合物）
【００７５】〔ＩＩＩ〕試験結果
【００７６】この発明の医薬組成物は、直腸、経肺（経
鼻またはバッカル吸入）、点鼻、点眼、外用（局所）、
経口または非経口（皮下、静脈内および筋肉内を含む）
投与または吸入に適した有機または無機担体または賦形
剤との混合物の形でピラゾロピリジン化合物（Ｉ）また
はその医薬として許容しうる塩を有効成分として含有す
る、たとえば固形、半固形または液状の医薬製剤の形態
で使用できる。該有効成分は、たとえば、錠剤、ペレッ
ト剤、トローチ剤、カプセル剤、坐剤、クリーム剤、軟
膏剤、エアロゾール剤、吸入用散剤、液剤、乳剤、懸濁
剤、その他使用に適した任意の剤型のための医薬として
許容しうる通常の無毒性担体と混合できる。必要なら
ば、さらに、補助剤、安定剤、増粘剤、着色剤、香料を
用いてもよい。ピラゾロピリジン化合物（Ｉ）またはそ
の医薬として許容しうる塩は、疾患の過程または状態に
対して所望の前記医薬としての効果を奏するのに十分な
量を医薬組成物に含有させる。
鼻またはバッカル吸入）、点鼻、点眼、外用（局所）、
経口または非経口（皮下、静脈内および筋肉内を含む）
投与または吸入に適した有機または無機担体または賦形
剤との混合物の形でピラゾロピリジン化合物（Ｉ）また
はその医薬として許容しうる塩を有効成分として含有す
る、たとえば固形、半固形または液状の医薬製剤の形態
で使用できる。該有効成分は、たとえば、錠剤、ペレッ
ト剤、トローチ剤、カプセル剤、坐剤、クリーム剤、軟
膏剤、エアロゾール剤、吸入用散剤、液剤、乳剤、懸濁
剤、その他使用に適した任意の剤型のための医薬として
許容しうる通常の無毒性担体と混合できる。必要なら
ば、さらに、補助剤、安定剤、増粘剤、着色剤、香料を
用いてもよい。ピラゾロピリジン化合物（Ｉ）またはそ
の医薬として許容しうる塩は、疾患の過程または状態に
対して所望の前記医薬としての効果を奏するのに十分な
量を医薬組成物に含有させる。
【００７７】該組成物をヒトまたは動物に投与するに
は、それを静脈内、筋肉内、経肺または経口投与または
吸入により適用するのが好ましい。，ピラゾロピリジン
化合物（Ｉ）の治療有効量は、処置すべき各個の患者の
年令および状態により変化し、それらに依存もするが、
静脈内投与の場合には、一般にヒトまたは動物の体重１
ｋｇ当り０．０１〜１００ｍｇのピラゾロピリジン化合
物（Ｉ）を１日量として、筋肉内投与の場合には、ヒト
または動物の体重１ｋｇ当り０．１〜１００ｍｇのピラ
ゾロピリジン化合物を１日量として、経口投与の場合に
は、ヒトまたは動物の体重１ｋｇ当り，０．５〜１００
ｍｇのピラゾロピリジン化合物（Ｉ）を１日量として、
前記諸疾患の予防および／または治療のために投与す
る。
は、それを静脈内、筋肉内、経肺または経口投与または
吸入により適用するのが好ましい。，ピラゾロピリジン
化合物（Ｉ）の治療有効量は、処置すべき各個の患者の
年令および状態により変化し、それらに依存もするが、
静脈内投与の場合には、一般にヒトまたは動物の体重１
ｋｇ当り０．０１〜１００ｍｇのピラゾロピリジン化合
物（Ｉ）を１日量として、筋肉内投与の場合には、ヒト
または動物の体重１ｋｇ当り０．１〜１００ｍｇのピラ
ゾロピリジン化合物を１日量として、経口投与の場合に
は、ヒトまたは動物の体重１ｋｇ当り，０．５〜１００
ｍｇのピラゾロピリジン化合物（Ｉ）を１日量として、
前記諸疾患の予防および／または治療のために投与す
る。
【００７８】
製造例１ ３−アミノ−２−（２−ヒドロキシエチル）−ピラゾー
ル（２．５４ｇ）とｔ−ブチルジメチルシリルクロライ
ド（３．３２ｇ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２
５ｍｌ）溶液にトリエチルアミン（２．８ｍｌ）を０℃
窒素雰囲気下で滴下する。３０分間攪拌ののち、不溶物
を濾過し溶媒を減圧下で除去する。残留物を酢酸エチル
（３００ｍｌ）とｎ−ヘキサン（５０ｍｌ）の混合液に
再溶解し水（１００ｍｌ、５０ｍｌ×３回）食塩水で順
次洗浄し硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を蒸発さ
せ、得られた残留物をシリカゲルクロマトグラフィー
（シリカゲル１００ｍｌ）でｎ−ヘキサンと酢酸エチル
の混合液（１：２）を用いて溶出して、３−アミノ−２
−（２−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシエチル）ピラ
ゾール（４．９４ｇ、１０２．３％）を得る。 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）： ０．０１（６Ｈ，
Ｓ）， ０．８７（９Ｈ，Ｓ）， ３．８１〜４．０８
（４Ｈ，ｍ）， ５．０７（２Ｈ，ｂｒ−ｓ），５．３
０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ）７．０７（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝１．８Ｈｚ）
ル（２．５４ｇ）とｔ−ブチルジメチルシリルクロライ
ド（３．３２ｇ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２
５ｍｌ）溶液にトリエチルアミン（２．８ｍｌ）を０℃
窒素雰囲気下で滴下する。３０分間攪拌ののち、不溶物
を濾過し溶媒を減圧下で除去する。残留物を酢酸エチル
（３００ｍｌ）とｎ−ヘキサン（５０ｍｌ）の混合液に
再溶解し水（１００ｍｌ、５０ｍｌ×３回）食塩水で順
次洗浄し硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を蒸発さ
せ、得られた残留物をシリカゲルクロマトグラフィー
（シリカゲル１００ｍｌ）でｎ−ヘキサンと酢酸エチル
の混合液（１：２）を用いて溶出して、３−アミノ−２
−（２−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシエチル）ピラ
ゾール（４．９４ｇ、１０２．３％）を得る。 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）： ０．０１（６Ｈ，
Ｓ）， ０．８７（９Ｈ，Ｓ）， ３．８１〜４．０８
（４Ｈ，ｍ）， ５．０７（２Ｈ，ｂｒ−ｓ），５．３
０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ）７．０７（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝１．８Ｈｚ）
【００７９】製造例２ ３−アミノ−２−（２−ｔ−ブチルジメチルシリルオキ
シエチル）ピラゾール（２０ｇ）、ジ−ｔ−ブチルジカ
ルボネート（３２ｇ）、４−ジメチルアミノピリジン
（１１．２ｇ）、トリエチルアミン（１３ｍｌ）のアセ
トニトリル（３００ｍｌ）溶液の混合液を６０℃で１０
時間加熱する。不溶物を濾過し、溶媒を減圧下で除去し
て、得られた生成物を酢酸エチル（５００ｍｌ）に再溶
解し、１Ｎ塩酸（２００ｍｌ）で２回、食塩水（２００
ｍｌ）、飽和水素化ナトリウム水溶液（２００ｍｌ）、
食塩水（２００ｍｌ）で順次洗浄し、硫酸マグネシウム
で乾燥する。溶媒を蒸発させ、得られた残留物をシリカ
ゲルクロマトグラフィーでｎ−ヘキサンと酢酸エチルの
混合液（８：１、４：１、１：１）で溶出して、３−ビ
ス（ｔ−ブトキシカルボニル）アミノ−２−（２−ｔ−
ブチルジメチルシリルオキシエチル）ピラゾール（２
３．５９ｇ、６４．５％）を得る。 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）： ０．０１（６Ｈ，
Ｓ）， ０．８５（９Ｈ，Ｓ）， １．４０（１８Ｈ，
Ｓ）， ３．８９（４Ｈ， Ｓ）， ６．２３（１
Ｈ，ｄ， Ｊ＝２．０Ｈｚ）， ７．４５（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝２．０Ｈｚ）
シエチル）ピラゾール（２０ｇ）、ジ−ｔ−ブチルジカ
ルボネート（３２ｇ）、４−ジメチルアミノピリジン
（１１．２ｇ）、トリエチルアミン（１３ｍｌ）のアセ
トニトリル（３００ｍｌ）溶液の混合液を６０℃で１０
時間加熱する。不溶物を濾過し、溶媒を減圧下で除去し
て、得られた生成物を酢酸エチル（５００ｍｌ）に再溶
解し、１Ｎ塩酸（２００ｍｌ）で２回、食塩水（２００
ｍｌ）、飽和水素化ナトリウム水溶液（２００ｍｌ）、
食塩水（２００ｍｌ）で順次洗浄し、硫酸マグネシウム
で乾燥する。溶媒を蒸発させ、得られた残留物をシリカ
ゲルクロマトグラフィーでｎ−ヘキサンと酢酸エチルの
混合液（８：１、４：１、１：１）で溶出して、３−ビ
ス（ｔ−ブトキシカルボニル）アミノ−２−（２−ｔ−
ブチルジメチルシリルオキシエチル）ピラゾール（２
３．５９ｇ、６４．５％）を得る。 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）： ０．０１（６Ｈ，
Ｓ）， ０．８５（９Ｈ，Ｓ）， １．４０（１８Ｈ，
Ｓ）， ３．８９（４Ｈ， Ｓ）， ６．２３（１
Ｈ，ｄ， Ｊ＝２．０Ｈｚ）， ７．４５（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝２．０Ｈｚ）
【００８０】製造例３ ３−ビス（ｔ−ブトキシカルボニル）アミノ−２−（２
−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシエチル）ピラゾール
（１５ｇ）、酢酸（５．８４ｍｌ）のテトラヒドロフラ
ン（１５０ｍｌ）溶液にテトラブチルアンモニウムフロ
ライド（７０％水溶液 ３８．１ｇ）を加え、外界温度
下で３時間攪拌する。溶媒を蒸発させ、得られた残留物
を酢酸エチル（１ｌ）に再溶解し、水（３００ｍｌ）で
３回、食塩水（１５０ｍｌ）、飽和水素化ナトリウム水
溶液（１５０ｍｌ）、食塩水（１５０ｍｌ）で２回、順
次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を減圧下
で除去して、３−ビス（ｔ−ブトキシカルボニル）アミ
ノ−２−（２−ヒドロキシエチル）ピラゾールを得る
（１１．０５ｇ、 収率９９．８％）。 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）： １．３８（１８Ｈ，
Ｓ）， ３．６３〜３．７３（２Ｈ， ｍ）， ３．８
４〜３．９０（２Ｈ，ｍ）， ４．８４（１Ｈ，ｔ，Ｊ
＝５．５Ｈｚ）， ６．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈ
ｚ）， ７．４３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）
−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシエチル）ピラゾール
（１５ｇ）、酢酸（５．８４ｍｌ）のテトラヒドロフラ
ン（１５０ｍｌ）溶液にテトラブチルアンモニウムフロ
ライド（７０％水溶液 ３８．１ｇ）を加え、外界温度
下で３時間攪拌する。溶媒を蒸発させ、得られた残留物
を酢酸エチル（１ｌ）に再溶解し、水（３００ｍｌ）で
３回、食塩水（１５０ｍｌ）、飽和水素化ナトリウム水
溶液（１５０ｍｌ）、食塩水（１５０ｍｌ）で２回、順
次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を減圧下
で除去して、３−ビス（ｔ−ブトキシカルボニル）アミ
ノ−２−（２−ヒドロキシエチル）ピラゾールを得る
（１１．０５ｇ、 収率９９．８％）。 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）： １．３８（１８Ｈ，
Ｓ）， ３．６３〜３．７３（２Ｈ， ｍ）， ３．８
４〜３．９０（２Ｈ，ｍ）， ４．８４（１Ｈ，ｔ，Ｊ
＝５．５Ｈｚ）， ６．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈ
ｚ）， ７．４３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）
【００８１】製造例４ 製造例２と実質的に同様の方法で、２−ｔ−ブトキシカ
ルボニルアミノ−２−メチル−１−プロパノールを収率
９６．２％で得る。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，δ）： １．２６（６Ｈ，Ｓ），
１．４４（９Ｈ，Ｓ）， ３．５８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝
６．１Ｈｚ）， ４．１５（１Ｈ， ｂｒ−ｓ），
４．７２（１Ｈ， ｂｒ−ｓ）
ルボニルアミノ−２−メチル−１−プロパノールを収率
９６．２％で得る。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，δ）： １．２６（６Ｈ，Ｓ），
１．４４（９Ｈ，Ｓ）， ３．５８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝
６．１Ｈｚ）， ４．１５（１Ｈ， ｂｒ−ｓ），
４．７２（１Ｈ， ｂｒ−ｓ）
【００８２】製造例５ ２−ｔ−ブトキシカルボニル−２−メチル−１−プロパ
ノール（１３ｇ）とｔ−ブチルジメチルシリルクロライ
ド（１１．４ｇ）のテトラヒドロフラン（２００ｍｌ）
溶液にイミダゾール（５．４ｇ）を１０℃の窒素雰囲気
下で加え、外界温度下で４日間攪拌する。不溶物を濾去
し、ろ液を減圧下で濃縮し得られた残留物を酢酸エチル
（５００ｍｌ）に溶解する。得られた溶液を１Ｎ塩酸
（１００ｍｌ）で２回、飽和塩化ナトリウム水溶液（１
００ｍｌ）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（１００ｍ
ｌ）で２回、飽和塩化ナトリウム水溶液（２００ｍｌ）
で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を蒸
発させ、得られた残留物をシリカゲルクロマトグラフィ
ーで ｎ−ヘキサンと酢酸エチル（１０：１）の混合液
を用いて溶出する。目的成分を含む画分を集め減圧下で
濃縮して、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−１−ｔ−ブチ
ルジメチルシリルオキシ−２−メチル−２−プロピルア
ミンを得る（１８．０２ｇ）。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，δ）：０．０７（６Ｈ，Ｓ），
０．９２（９Ｈ， Ｓ），１．２９（６Ｈ，Ｓ），
１．４５（９Ｈ， Ｓ）， ３．４９（２Ｈ， Ｓ），
４．７１（１Ｈ， ｂｒ−ｓ）
ノール（１３ｇ）とｔ−ブチルジメチルシリルクロライ
ド（１１．４ｇ）のテトラヒドロフラン（２００ｍｌ）
溶液にイミダゾール（５．４ｇ）を１０℃の窒素雰囲気
下で加え、外界温度下で４日間攪拌する。不溶物を濾去
し、ろ液を減圧下で濃縮し得られた残留物を酢酸エチル
（５００ｍｌ）に溶解する。得られた溶液を１Ｎ塩酸
（１００ｍｌ）で２回、飽和塩化ナトリウム水溶液（１
００ｍｌ）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（１００ｍ
ｌ）で２回、飽和塩化ナトリウム水溶液（２００ｍｌ）
で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を蒸
発させ、得られた残留物をシリカゲルクロマトグラフィ
ーで ｎ−ヘキサンと酢酸エチル（１０：１）の混合液
を用いて溶出する。目的成分を含む画分を集め減圧下で
濃縮して、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−１−ｔ−ブチ
ルジメチルシリルオキシ−２−メチル−２−プロピルア
ミンを得る（１８．０２ｇ）。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，δ）：０．０７（６Ｈ，Ｓ），
０．９２（９Ｈ， Ｓ），１．２９（６Ｈ，Ｓ），
１．４５（９Ｈ， Ｓ）， ３．４９（２Ｈ， Ｓ），
４．７１（１Ｈ， ｂｒ−ｓ）
【００８３】製造例６ 水素化ナトリウム（１．１６ｇ ６０％湿潤）の、テト
ラヒドロフラン（１００ｍｌ）とＮ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド（１５０ｍｌ）の混合液を溶媒とする懸濁液
に、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−１−ｔ−ブチルジメ
チルシリルオキシ−２−メチル−２−プロピルアミン
（８．０ｇ）のテトラヒドロフラン（５０ｍｌ）溶液を
外界温度の窒素雰囲気下で加え１時間攪拌する。反応混
合物にベンジルブロマイド（３．４５ｍｌ）を滴下し、
このままの温度で３０時間攪拌する。得られた混合物に
トリエチルアミン（１０ｍｌ）と水を順次加え、減圧下
で濃縮して得られた残留物をｎ−ヘキサンと酢酸エチル
の混合物（２：１ ５００ｍｌ）に溶解し、水（４００
ｍｌ）で３回、飽和塩化ナトリウム水溶液（２００ｍ
ｌ）で２回、順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥す
る。溶媒を蒸発させ、得られた残留物をシリカゲルクロ
マトグラフィーでｎ−ヘキサンと酢酸エチルの混合物
（９：１）を用いて溶出し、Ｎ−ベンジル−Ｎ−ｔ−ブ
トキシカルボニル−１−ｔ−ブチルジメチルシリルオキ
シ−２−メチル−２−プロピルアミンを得る（９．２４
ｇ）。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，δ）：０．０６（６Ｈ，Ｓ），
０．９２（９Ｈ， Ｓ）， １．３１（６Ｈ，Ｓ），
１．４２（９Ｈ， Ｓ）， ３．７７（２Ｈ，Ｓ），
４．６１（２Ｈ， Ｓ）， ７．１０〜７．３４（５
Ｈ， ｍ）
ラヒドロフラン（１００ｍｌ）とＮ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド（１５０ｍｌ）の混合液を溶媒とする懸濁液
に、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−１−ｔ−ブチルジメ
チルシリルオキシ−２−メチル−２−プロピルアミン
（８．０ｇ）のテトラヒドロフラン（５０ｍｌ）溶液を
外界温度の窒素雰囲気下で加え１時間攪拌する。反応混
合物にベンジルブロマイド（３．４５ｍｌ）を滴下し、
このままの温度で３０時間攪拌する。得られた混合物に
トリエチルアミン（１０ｍｌ）と水を順次加え、減圧下
で濃縮して得られた残留物をｎ−ヘキサンと酢酸エチル
の混合物（２：１ ５００ｍｌ）に溶解し、水（４００
ｍｌ）で３回、飽和塩化ナトリウム水溶液（２００ｍ
ｌ）で２回、順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥す
る。溶媒を蒸発させ、得られた残留物をシリカゲルクロ
マトグラフィーでｎ−ヘキサンと酢酸エチルの混合物
（９：１）を用いて溶出し、Ｎ−ベンジル−Ｎ−ｔ−ブ
トキシカルボニル−１−ｔ−ブチルジメチルシリルオキ
シ−２−メチル−２−プロピルアミンを得る（９．２４
ｇ）。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，δ）：０．０６（６Ｈ，Ｓ），
０．９２（９Ｈ， Ｓ）， １．３１（６Ｈ，Ｓ），
１．４２（９Ｈ， Ｓ）， ３．７７（２Ｈ，Ｓ），
４．６１（２Ｈ， Ｓ）， ７．１０〜７．３４（５
Ｈ， ｍ）
【００８４】製造例７ Ｎ−ベンジル−Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−（１−ｔ
−ブチルジメチルシリルオキシ−２−メチル）−２−プ
ロピルアミン（９．１５ｇ）と酢酸（４．１３ｍｌ）の
テトラヒドロフラン（１００ｍｌ）溶液の攪拌混合物に
テトラブチルアンモニウムフロライド（２６．１ｇ ７
０％水溶液）を加え外界温度下で５日間攪拌した反応混
合物にトリエチルアミン（１３ｍｌ）を加え、溶媒を減
圧下で除去し、得られた残留物をｎ−ヘキサンと酢酸エ
チルの混合物（１：２ ５００ｍｌ）に溶解する。得ら
れた溶液を水（３００ｍｌ）で４回、飽和塩化ナトリウ
ム水溶液（３００ｍｌ）で２回、順次洗浄し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥する。溶媒を蒸発させ、得られた残留物
をシリカゲルクロマトグラフィーで ｎ−ヘキサンと酢
酸エチルの混合物（１０：１→５：１）を用いて溶出
し、２−（Ｎ−ベンジル−Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル
アミノ）−２−メチル−１−プロパノールを得る（４．
７ｇ）。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，δ）：１．２９（６Ｈ，Ｓ），
１．３７（９Ｈ， Ｓ）， ３．４３（１Ｈ，ｂｒ−
ｓ）， ３．７３（２Ｈ， Ｓ），４．５２（２Ｈ，
Ｓ）， ７．１８〜７．３８（５Ｈ， Ｓ）
−ブチルジメチルシリルオキシ−２−メチル）−２−プ
ロピルアミン（９．１５ｇ）と酢酸（４．１３ｍｌ）の
テトラヒドロフラン（１００ｍｌ）溶液の攪拌混合物に
テトラブチルアンモニウムフロライド（２６．１ｇ ７
０％水溶液）を加え外界温度下で５日間攪拌した反応混
合物にトリエチルアミン（１３ｍｌ）を加え、溶媒を減
圧下で除去し、得られた残留物をｎ−ヘキサンと酢酸エ
チルの混合物（１：２ ５００ｍｌ）に溶解する。得ら
れた溶液を水（３００ｍｌ）で４回、飽和塩化ナトリウ
ム水溶液（３００ｍｌ）で２回、順次洗浄し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥する。溶媒を蒸発させ、得られた残留物
をシリカゲルクロマトグラフィーで ｎ−ヘキサンと酢
酸エチルの混合物（１０：１→５：１）を用いて溶出
し、２−（Ｎ−ベンジル−Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル
アミノ）−２−メチル−１−プロパノールを得る（４．
７ｇ）。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，δ）：１．２９（６Ｈ，Ｓ），
１．３７（９Ｈ， Ｓ）， ３．４３（１Ｈ，ｂｒ−
ｓ）， ３．７３（２Ｈ， Ｓ），４．５２（２Ｈ，
Ｓ）， ７．１８〜７．３８（５Ｈ， Ｓ）
【００８５】製造例８ 製造例７で得られた化合物を、水素化アルミナムリチウ
ムで還元して、２−（Ｎ−ベンジル−Ｎ−メチルアミ
ノ）−２−メチル−１−プロパノールを収率６５．８％
で得る。 （＋）−ＡＰＣＩ／ＭＳ（ｍ／ｚ）；１９４（Ｍ+＋
１） ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，δ）：１．１３（６Ｈ，Ｓ），
２．０９（３Ｈ， Ｓ）， ３．４４（２Ｈ， Ｓ），
３．６３（２Ｈ， Ｓ）， ７．２０〜７．４０（５
Ｈ， ｍ）
ムで還元して、２−（Ｎ−ベンジル−Ｎ−メチルアミ
ノ）−２−メチル−１−プロパノールを収率６５．８％
で得る。 （＋）−ＡＰＣＩ／ＭＳ（ｍ／ｚ）；１９４（Ｍ+＋
１） ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，δ）：１．１３（６Ｈ，Ｓ），
２．０９（３Ｈ， Ｓ）， ３．４４（２Ｈ， Ｓ），
３．６３（２Ｈ， Ｓ）， ７．２０〜７．４０（５
Ｈ， ｍ）
【００８６】製造例９ 製造例４と実質的に同様の方法で、２−ｔ−ブトキシカ
ルボニルアミノ−１−プロパノールを収率９７．７％で
得る。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，δ）：１．１５（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝
６．７Ｈｚ）， １．４５（９Ｈ，Ｓ）， ３．２０
（１Ｈ，ｂｒ−ｓ）， ３．４３〜３．９０（３Ｈ，
ｍ）， ４．８５（１Ｈ， ｂｒ−ｄ， Ｊ＝６．７Ｈ
ｚ）
ルボニルアミノ−１−プロパノールを収率９７．７％で
得る。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，δ）：１．１５（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝
６．７Ｈｚ）， １．４５（９Ｈ，Ｓ）， ３．２０
（１Ｈ，ｂｒ−ｓ）， ３．４３〜３．９０（３Ｈ，
ｍ）， ４．８５（１Ｈ， ｂｒ−ｄ， Ｊ＝６．７Ｈ
ｚ）
【００８７】製造例１０ 製造例５と実質的に同様の方法で、Ｎ−ｔ−ブトキシカ
ルボニル−１−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−２−
プロピルアミンを収率９９．４％で得る。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，δ）：０．０７（６Ｈ，Ｓ），
０．９１（９Ｈ， Ｓ）， １．１５（３Ｈ，ｄ， Ｊ
＝６．６Ｈｚ）， １．４６（９Ｈ， Ｓ），３．４２
〜３．８０（３Ｈ， ｍ）， ４．５８（１Ｈ， ｂｒ
−ｓ）
ルボニル−１−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−２−
プロピルアミンを収率９９．４％で得る。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，δ）：０．０７（６Ｈ，Ｓ），
０．９１（９Ｈ， Ｓ）， １．１５（３Ｈ，ｄ， Ｊ
＝６．６Ｈｚ）， １．４６（９Ｈ， Ｓ），３．４２
〜３．８０（３Ｈ， ｍ）， ４．５８（１Ｈ， ｂｒ
−ｓ）
【００８８】製造例１１ 製造例６と実質的に同様の方法で、Ｎ−ベンジル−Ｎ−
ｔ−ブトキシカルボニル−１−ｔ−ブトキシジメチルシ
リルオキシ−２−プロピルアミンを収率９４．７％で得
る。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，δ）：０．０３（６Ｈ，Ｓ），
０．８９（９Ｈ， Ｓ）， １．１２（３Ｈ，ｂｒ−
ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）， １．２５〜１．６０（９Ｈ，
ｍ）， ３．４０〜３．８０（２Ｈ， ｍ）， ４．０
５〜４．６０（３Ｈ， ｍ）， ７．１５〜７．４０
（５Ｈ， ｍ）
ｔ−ブトキシカルボニル−１−ｔ−ブトキシジメチルシ
リルオキシ−２−プロピルアミンを収率９４．７％で得
る。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，δ）：０．０３（６Ｈ，Ｓ），
０．８９（９Ｈ， Ｓ）， １．１２（３Ｈ，ｂｒ−
ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）， １．２５〜１．６０（９Ｈ，
ｍ）， ３．４０〜３．８０（２Ｈ， ｍ）， ４．０
５〜４．６０（３Ｈ， ｍ）， ７．１５〜７．４０
（５Ｈ， ｍ）
【００８９】製造例１２ 製造例７と実質的に同様の方法で、２−（Ｎ−ベンジル
−Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ）−２−プロパノ
ールを得る。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，δ）：１．１３（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝
７．０Ｈｚ）， １．４３（９Ｈ，Ｓ）， ２．４０
（１Ｈ，ｂｒ−ｓ）， ３．５０〜３．６５（２Ｈ，
ｍ）， ３．９０〜４．１０（１Ｈ， ｍ）， ４．４
０（２Ｈ， ｂｒ−ｓ）， ７．１９〜７．３７（５
Ｈ， ｍ）
−Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ）−２−プロパノ
ールを得る。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，δ）：１．１３（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝
７．０Ｈｚ）， １．４３（９Ｈ，Ｓ）， ２．４０
（１Ｈ，ｂｒ−ｓ）， ３．５０〜３．６５（２Ｈ，
ｍ）， ３．９０〜４．１０（１Ｈ， ｍ）， ４．４
０（２Ｈ， ｂｒ−ｓ）， ７．１９〜７．３７（５
Ｈ， ｍ）
【００９０】製造例１３ 製造例８と実質的に同様の方法で、２−（Ｎ−ベンジル
−Ｎ−メチルアミノ）−１−プロパノールを収率７４．
１％で得る。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，δ）：０．９３（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝
６．６Ｈｚ）， ２．１４（３Ｈ，Ｓ）， ２．８８〜
３．０７（１Ｈ，ｍ）， ３．３１〜３．３９（２Ｈ，
ｍ）， ３．４６・３．６７（２Ｈ， ＡＢｑ， Ｊ＝
１３， １Ｈｚ）， ７．２０〜７．４０（５Ｈ，
ｍ） （＋）−ＡＰＣＩ／ＭＳ（ｍ／ｚ）；１８０（Ｍ+＋
１）
−Ｎ−メチルアミノ）−１−プロパノールを収率７４．
１％で得る。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，δ）：０．９３（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝
６．６Ｈｚ）， ２．１４（３Ｈ，Ｓ）， ２．８８〜
３．０７（１Ｈ，ｍ）， ３．３１〜３．３９（２Ｈ，
ｍ）， ３．４６・３．６７（２Ｈ， ＡＢｑ， Ｊ＝
１３， １Ｈｚ）， ７．２０〜７．４０（５Ｈ，
ｍ） （＋）−ＡＰＣＩ／ＭＳ（ｍ／ｚ）；１８０（Ｍ+＋
１）
【００９１】製造例１４ 製造例６と実質的に同様の方法で、Ｎ−ｔ−ブトキシカ
ルボニル−１−ｔ−ブトキシジメチルシリルオキシ−Ｎ
−メチル−２−プロピルアミンを得る。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，δ）：０．０６（６Ｈ，Ｓ），
０．９０（９Ｈ， Ｓ）， １．１０（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝
６．９Ｈｚ）， １．４７（９Ｈ，Ｓ）， ２．７６
（３Ｈ， Ｓ）， ３．５７（２Ｈ，ｂｒ−ｄ，Ｊ＝
６．３Ｈｚ）， ４．００〜４．３０（１Ｈ， ｍ）
ルボニル−１−ｔ−ブトキシジメチルシリルオキシ−Ｎ
−メチル−２−プロピルアミンを得る。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，δ）：０．０６（６Ｈ，Ｓ），
０．９０（９Ｈ， Ｓ）， １．１０（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝
６．９Ｈｚ）， １．４７（９Ｈ，Ｓ）， ２．７６
（３Ｈ， Ｓ）， ３．５７（２Ｈ，ｂｒ−ｄ，Ｊ＝
６．３Ｈｚ）， ４．００〜４．３０（１Ｈ， ｍ）
【００９２】製造例１５ 製造例７と実質的に同様の方法で、２−（Ｎ−ｔ−ブト
キシカルボニル−Ｎ−メチルアミノ）−１−プロパノー
ルを収率８１．８％で得る。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，δ）：１．１０（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝
６．９Ｈｚ）， １．４７（９Ｈ，Ｓ）， ２．３３
（１Ｈ， ｂｒ−ｓ）， ２．７６（３Ｈ，Ｓ），３．
５６（２Ｈ， ｄ， Ｊ＝７．２Ｈｚ）， ４．１０〜
４．３０（１Ｈ，ｍ）
キシカルボニル−Ｎ−メチルアミノ）−１−プロパノー
ルを収率８１．８％で得る。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，δ）：１．１０（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝
６．９Ｈｚ）， １．４７（９Ｈ，Ｓ）， ２．３３
（１Ｈ， ｂｒ−ｓ）， ２．７６（３Ｈ，Ｓ），３．
５６（２Ｈ， ｄ， Ｊ＝７．２Ｈｚ）， ４．１０〜
４．３０（１Ｈ，ｍ）
【００９３】製造例１６ 水素化ナトリウム（４．４ｇ ６０％湿潤）のＮ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド（１５０ｍｌ）懸濁液に、シス−
２，６−ジメチルピペリジン（１３．５ｍｌ）を４０℃
の窒素雰囲気下で滴下する。１時間攪拌ののち、反応混
合物を０℃に冷却し、エチルオキサリルクロライド（１
１．２ｍｌ）を０℃で滴下し、溶液が外界温度に昇温す
るにまかせ、一晩攪拌する。混合物に水を加えて過剰な
水素化ナトリウムを中和し、酢酸エチル（３００ｍｌ）
を注いで、水（１００ｍｌ）で２回、飽和塩化ナトリウ
ム水溶液（１００ｍｌ）で順次洗浄し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥する。溶媒を蒸発させ、得られた残留物をシリ
カゲルクロマトグラフィー（シリカゲル３００ｍｌ）
で、ｎ−ヘキサンと酢酸エチルの混合物（９：１→４：
１→２：１）を用いて溶出し、シス−２，６−ジメチル
−１−エトキサリルオキサリルピペリジンを得る（１
４．０ｇ 収率６５．７％）。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，δ）：１．２２〜１．４４（９
Ｈ， ｍ）， １．５０〜２．００（６Ｈ，ｍ），
３．７５〜３．９５（１Ｈ， ｍ）， ４．２０〜４．
４５（２Ｈ，ｍ）， ４．６０〜４．８０（１Ｈ，
ｍ） （＋）−ＡＰＣＩ／ＭＳ（ｍ／ｚ）；２１４（Ｍ+＋
１）
ジメチルホルムアミド（１５０ｍｌ）懸濁液に、シス−
２，６−ジメチルピペリジン（１３．５ｍｌ）を４０℃
の窒素雰囲気下で滴下する。１時間攪拌ののち、反応混
合物を０℃に冷却し、エチルオキサリルクロライド（１
１．２ｍｌ）を０℃で滴下し、溶液が外界温度に昇温す
るにまかせ、一晩攪拌する。混合物に水を加えて過剰な
水素化ナトリウムを中和し、酢酸エチル（３００ｍｌ）
を注いで、水（１００ｍｌ）で２回、飽和塩化ナトリウ
ム水溶液（１００ｍｌ）で順次洗浄し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥する。溶媒を蒸発させ、得られた残留物をシリ
カゲルクロマトグラフィー（シリカゲル３００ｍｌ）
で、ｎ−ヘキサンと酢酸エチルの混合物（９：１→４：
１→２：１）を用いて溶出し、シス−２，６−ジメチル
−１−エトキサリルオキサリルピペリジンを得る（１
４．０ｇ 収率６５．７％）。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，δ）：１．２２〜１．４４（９
Ｈ， ｍ）， １．５０〜２．００（６Ｈ，ｍ），
３．７５〜３．９５（１Ｈ， ｍ）， ４．２０〜４．
４５（２Ｈ，ｍ）， ４．６０〜４．８０（１Ｈ，
ｍ） （＋）−ＡＰＣＩ／ＭＳ（ｍ／ｚ）；２１４（Ｍ+＋
１）
【００９４】製造例１７ 水素化アルミナムリチウム（４．４３ｇ）のテトラヒド
ロフラン（１３０ｍｌ）の還流混合物に シス−２，６
−ジメチル−１−エトキサリルピペリジン（１３．５
ｇ）のテトラヒドロフラン（３５ｍｌ）溶液を窒素雰囲
気下で滴下する。２時間攪拌後、反応混合物を５℃に冷
却し、水（４．４３ｍｌ）、 ４Ｎ水酸化ナトリウム水
溶液（４．４３ｍｌ）、水（１３．３ｍｌ）を順次注意
深く加える。不溶物を濾去し、溶媒を減圧除去して、シ
ス−２，６−ジメチル−１−（２−ヒドロキシエチル）
−ピペリジンを得る（１０．０ｇ 定量収率）。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，δ）：１．１０（６Ｈ， ｄ，
Ｊ＝６．３Ｈｚ）， １．１５〜１．７２（６Ｈ，
ｍ）， ２．４０〜２．６０（２Ｈ， ｍ）， ２．７
２（２Ｈ， ｔ， Ｊ＝６．４Ｈｚ）， ２．９２（１
Ｈ， ｂｒ−ｓ），３．５４（２Ｈ， ｔ， Ｊ＝６．
４Ｈｚ） （＋）−ＡＰＣＩ／ＭＳ（ｍ／ｚ）；１５８（Ｍ+＋
１）
ロフラン（１３０ｍｌ）の還流混合物に シス−２，６
−ジメチル−１−エトキサリルピペリジン（１３．５
ｇ）のテトラヒドロフラン（３５ｍｌ）溶液を窒素雰囲
気下で滴下する。２時間攪拌後、反応混合物を５℃に冷
却し、水（４．４３ｍｌ）、 ４Ｎ水酸化ナトリウム水
溶液（４．４３ｍｌ）、水（１３．３ｍｌ）を順次注意
深く加える。不溶物を濾去し、溶媒を減圧除去して、シ
ス−２，６−ジメチル−１−（２−ヒドロキシエチル）
−ピペリジンを得る（１０．０ｇ 定量収率）。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，δ）：１．１０（６Ｈ， ｄ，
Ｊ＝６．３Ｈｚ）， １．１５〜１．７２（６Ｈ，
ｍ）， ２．４０〜２．６０（２Ｈ， ｍ）， ２．７
２（２Ｈ， ｔ， Ｊ＝６．４Ｈｚ）， ２．９２（１
Ｈ， ｂｒ−ｓ），３．５４（２Ｈ， ｔ， Ｊ＝６．
４Ｈｚ） （＋）−ＡＰＣＩ／ＭＳ（ｍ／ｚ）；１５８（Ｍ+＋
１）
【００９５】製造例１８ 後述の製造例２２と実質的に同様の方法で、１−（２−
クロロエチル）−シス−２，６−ジメチルピペリジン・
塩酸塩を収率９５．３％で得る。 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）：１．２９〜１．３８
（６Ｈ， ｍ）， １．４４〜１．９０（６Ｈ，ｍ），
３．２０〜３．６０（４Ｈ， ｍ）， ３．３８〜
４．０５（２Ｈ， ｍ）， １０．９７・１１．１８
（１Ｈ（１：２）， ２× ｂｒ−ｓ） （＋）−ＦＡＢ／ＭＳ（ｍ／ｚ）；１７６（Ｍ+＋１）
クロロエチル）−シス−２，６−ジメチルピペリジン・
塩酸塩を収率９５．３％で得る。 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）：１．２９〜１．３８
（６Ｈ， ｍ）， １．４４〜１．９０（６Ｈ，ｍ），
３．２０〜３．６０（４Ｈ， ｍ）， ３．３８〜
４．０５（２Ｈ， ｍ）， １０．９７・１１．１８
（１Ｈ（１：２）， ２× ｂｒ−ｓ） （＋）−ＦＡＢ／ＭＳ（ｍ／ｚ）；１７６（Ｍ+＋１）
【００９６】製造例１９ ２−ブロモエタノール（２１．３ｍｌ）とイミダゾール
（２２．５ｇ）のジクロロメタン（３００ｍｌ）溶液に
ｔ−ブチルジメチルシリルクロライド（４９．８ｇ）
を０℃の窒素雰囲気下で加える。反応混合物を外界温度
まで昇温するにまかせ、１晩攪拌する。不溶物を濾去
し、溶媒を減圧除去する。残留物を酢酸エチル（３００
ｍｌ）に溶解し、水（３００ｍｌ）、飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液（３００ｍｌ）、飽和塩化ナトリウム水溶
液（３００ｍｌ）で、順次洗浄し、硫酸マグネシウムで
乾燥する。溶媒を蒸発させ、得られた残留物をシリカゲ
ルクロマトグラフィー（シリカゲル７００ｍｌ）で、ｎ
−ヘキサンを用いて溶出し、２−ｔ−ブチルジメチルシ
リルオキシエチルブロマイドを得る（５４．０ｇ 収率
７５．２％）。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，δ）：０．０９（６Ｈ， Ｓ），
０．９１（９Ｈ，Ｓ）， ３．４０（２Ｈ， ｔ，
Ｊ＝６．５Ｈｚ）， ３．８９（２Ｈ， ｔ，Ｊ＝６．
５Ｈｚ）
（２２．５ｇ）のジクロロメタン（３００ｍｌ）溶液に
ｔ−ブチルジメチルシリルクロライド（４９．８ｇ）
を０℃の窒素雰囲気下で加える。反応混合物を外界温度
まで昇温するにまかせ、１晩攪拌する。不溶物を濾去
し、溶媒を減圧除去する。残留物を酢酸エチル（３００
ｍｌ）に溶解し、水（３００ｍｌ）、飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液（３００ｍｌ）、飽和塩化ナトリウム水溶
液（３００ｍｌ）で、順次洗浄し、硫酸マグネシウムで
乾燥する。溶媒を蒸発させ、得られた残留物をシリカゲ
ルクロマトグラフィー（シリカゲル７００ｍｌ）で、ｎ
−ヘキサンを用いて溶出し、２−ｔ−ブチルジメチルシ
リルオキシエチルブロマイドを得る（５４．０ｇ 収率
７５．２％）。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，δ）：０．０９（６Ｈ， Ｓ），
０．９１（９Ｈ，Ｓ）， ３．４０（２Ｈ， ｔ，
Ｊ＝６．５Ｈｚ）， ３．８９（２Ｈ， ｔ，Ｊ＝６．
５Ｈｚ）
【００９７】製造例２０ 水素化ナトリウム（２．２ｇ ６０％ 湿潤）の、テト
ラヒドロフラン（１００ｍｌ）とＮ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド（５０ｍｌ）の混合液を溶媒とする懸濁液にヘ
プタメチレンイミン（６．３２ｍｌ）と２−ｔ−ブチル
ジメチルシリルオキシエチルブロマイド（１２．５６
ｇ）のテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）溶液を連続して
滴下し、反応混合物を６０℃まで加熱し１０時間攪拌し
て外界温度まで冷却する。反応混合物に、注意深く水を
加え、不溶物を濾去する。溶媒を蒸発させ、得られた残
留物をシリカゲルクロマトグラフィー（シリカゲル ３
００ｍｌ）で、ｎ−ヘキサン、１０％酢酸エチル−ｎ−
ヘキサン混合物、酢酸エチルを用いて、順次溶出し、１
−（２−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシエチル）ヘプ
タメチレンイミンを得る（６．８８ｇ 収率５０．７
％）。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，δ）：０．０６（６Ｈ， Ｓ），
０．８９（９Ｈ，Ｓ）， １．５６（１０Ｈ， ｂｒ
−ｓ）， ２．５０〜２．６１（６Ｈ，ｍ），３．６８
（２Ｈ， ｔ， Ｊ＝６．５Ｈｚ） （＋）−ＡＰＣＩ／ＭＳ（ｍ／ｚ）；２７２（Ｍ+＋
１）
ラヒドロフラン（１００ｍｌ）とＮ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド（５０ｍｌ）の混合液を溶媒とする懸濁液にヘ
プタメチレンイミン（６．３２ｍｌ）と２−ｔ−ブチル
ジメチルシリルオキシエチルブロマイド（１２．５６
ｇ）のテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）溶液を連続して
滴下し、反応混合物を６０℃まで加熱し１０時間攪拌し
て外界温度まで冷却する。反応混合物に、注意深く水を
加え、不溶物を濾去する。溶媒を蒸発させ、得られた残
留物をシリカゲルクロマトグラフィー（シリカゲル ３
００ｍｌ）で、ｎ−ヘキサン、１０％酢酸エチル−ｎ−
ヘキサン混合物、酢酸エチルを用いて、順次溶出し、１
−（２−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシエチル）ヘプ
タメチレンイミンを得る（６．８８ｇ 収率５０．７
％）。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，δ）：０．０６（６Ｈ， Ｓ），
０．８９（９Ｈ，Ｓ）， １．５６（１０Ｈ， ｂｒ
−ｓ）， ２．５０〜２．６１（６Ｈ，ｍ），３．６８
（２Ｈ， ｔ， Ｊ＝６．５Ｈｚ） （＋）−ＡＰＣＩ／ＭＳ（ｍ／ｚ）；２７２（Ｍ+＋
１）
【００９８】製造例２１ １−（２−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシエチル）ヘ
プタメチレンイミン（６．８ｇ）の酢酸エチル（１００
ｍｌ）溶液に６Ｎ塩酸（１０ｍｌ）を加え、外界温度下
で４．５時間強く攪拌する。得られた溶液に水（５０ｍ
ｌ）を加え、水層を分離し、酢酸エチル（５０ｍｌ）で
洗浄する。水を減圧下で除去し、１−（２−ヒドロキシ
エチル）ヘプタメチレンイミン・塩酸塩を得る（４．８
ｇ 収率３９．２％）。 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）：１．２０〜２．００
（１０Ｈ， ｍ）， ３．０７〜３．２０（４Ｈ，
ｍ）， ３．３０〜３．４５（２Ｈ， ｍ）， ３．７
０〜３．８０（２Ｈ，ｍ）， ９．９７（２Ｈ， ｂｒ
−ｓ）
プタメチレンイミン（６．８ｇ）の酢酸エチル（１００
ｍｌ）溶液に６Ｎ塩酸（１０ｍｌ）を加え、外界温度下
で４．５時間強く攪拌する。得られた溶液に水（５０ｍ
ｌ）を加え、水層を分離し、酢酸エチル（５０ｍｌ）で
洗浄する。水を減圧下で除去し、１−（２−ヒドロキシ
エチル）ヘプタメチレンイミン・塩酸塩を得る（４．８
ｇ 収率３９．２％）。 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）：１．２０〜２．００
（１０Ｈ， ｍ）， ３．０７〜３．２０（４Ｈ，
ｍ）， ３．３０〜３．４５（２Ｈ， ｍ）， ３．７
０〜３．８０（２Ｈ，ｍ）， ９．９７（２Ｈ， ｂｒ
−ｓ）
【００９９】製造例２２ １−（２−ヒドロキシエチル）ヘプタメチレンイミン・
塩酸塩（４．７５ｇ）とチオニルクロライド（３．６ｍ
ｌ）のトルエン（５０ｍｌ）攪拌溶液を４．５時間８０
℃に加熱する。反応混合物を冷却し、溶媒を減圧下で除
去して得られた残留物をシリカゲルクロマトグラフィー
（シリカゲル１００ｍｌ）で９％メタノール−クロロホ
ルムを用いて溶出する。目的成分を含む画分を集め、溶
媒を減圧下で除去して得られた残留物にジイソプロピル
エーテル（１００ｍｌ）を加え、攪拌する。沈殿を濾過
により集め、減圧下で乾燥して１−（２−クロロエチ
ル）ヘプタメチレンイミン・塩酸塩を得る（３．９１ｇ
収率７５．２％）。 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）：１．２０〜２．００
（１０Ｈ， ｍ）， ３．０７〜３．２３（２Ｈ，
ｍ）， ３．３３〜３．５１（４Ｈ， ｍ）， ４．０
２〜４．１０（２Ｈ，ｍ）， １０．９７（１Ｈ， ｂ
ｒ−ｓ）
塩酸塩（４．７５ｇ）とチオニルクロライド（３．６ｍ
ｌ）のトルエン（５０ｍｌ）攪拌溶液を４．５時間８０
℃に加熱する。反応混合物を冷却し、溶媒を減圧下で除
去して得られた残留物をシリカゲルクロマトグラフィー
（シリカゲル１００ｍｌ）で９％メタノール−クロロホ
ルムを用いて溶出する。目的成分を含む画分を集め、溶
媒を減圧下で除去して得られた残留物にジイソプロピル
エーテル（１００ｍｌ）を加え、攪拌する。沈殿を濾過
により集め、減圧下で乾燥して１−（２−クロロエチ
ル）ヘプタメチレンイミン・塩酸塩を得る（３．９１ｇ
収率７５．２％）。 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）：１．２０〜２．００
（１０Ｈ， ｍ）， ３．０７〜３．２３（２Ｈ，
ｍ）， ３．３３〜３．５１（４Ｈ， ｍ）， ４．０
２〜４．１０（２Ｈ，ｍ）， １０．９７（１Ｈ， ｂ
ｒ−ｓ）
【０１００】実施例１ ３−（３−オキソ−２，３−ジヒドロピリダジン−６−
イル）−２−フェニルピラゾロ［１，５−ａ］ピリジン
（７７０ｍｇ）と２−ヒドロキシメチル−１−トリフェ
ニルメチルイミダゾール（９００ｍｇ）とトリフェニル
フォスフィン（１．４ｇ）のテトラヒドロフラン（８０
ｍｌ）溶液の混合液に窒素雰囲気下０〜５℃下でジエチ
ルアゾジカルボキシレート（８３２μｌ）を滴下し、反
応混合液の温度を外界温度まで昇温するにまかせ、１晩
攪拌する。溶媒を減圧下に留去し、得られた残留物をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーにより、ｎ−ヘキサ
ンと酢酸エチル（１：１−１：２）の混合液、および酢
酸エチルを用いて溶出する。溶媒を蒸発させ、得られた
残留物にエタノールを加えて一晩攪拌し、結晶（１．５
３ｇ）を得る。結晶（１．５ｇ）はギ酸（４ｍｌ）に再
溶解し、濃塩酸（６３０μｌ）を加えて、外界温度下
で、一晩攪拌する。反応混合物に水（１００ｍｌ）を加
え酢酸エチル（１５０ｍｌ）で洗浄する。水層を分離
し、減圧濃縮して得られた粗精製品をエタノールから再
結晶して、３−［２−（イミダゾール−２−イル）メチ
ル−３−オキソ−２，３−ジヒドロピリダジン−６−イ
ル］−２−フェニルピラゾロ［１，５−ａ］ピリジン・
塩酸塩（６９０ｍｇ）を得る。 ｍ．ｐ．：２６７．０−２７０．０℃（エタノール） ＦＴ ＩＲ（ＫＢｒ）：１６７０．１， １６３５．
３， １６１２．２， １５９１．０， １５２５．
４， １４９０．７， １４６７．６， １４４４．４
ｃｍ-1 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）：５．６９（２Ｈ，
Ｓ）， ６．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．７Ｈｚ），
７．０４〜７．１３（１Ｈ，ｍ）， ７．１２（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝９．７Ｈｚ）， ７．３５〜７．４４（１Ｈ，
ｍ）， ７．４７〜７．５１（３Ｈ，ｍ）， ７．６２
〜７．６８（２Ｈ，ｍ）， ７．６９（２Ｈ，Ｓ），
７．８２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ）， ８．８２
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ） （＋）−ＦＡＢ／ＭＳ（ｍ／ｚ）：３６９（ Ｍ+＋
１） 元素分析：Ｃ21Ｈ17ＣｌＮ6Ｏ・１／４Ｈ2Ｏとして 計算値：Ｃ；６１．６２， Ｈ；４．３１， Ｎ；２０．５３ 実測値：Ｃ；６１．６０， Ｈ；４．１５， Ｎ；２０．４４
イル）−２−フェニルピラゾロ［１，５−ａ］ピリジン
（７７０ｍｇ）と２−ヒドロキシメチル−１−トリフェ
ニルメチルイミダゾール（９００ｍｇ）とトリフェニル
フォスフィン（１．４ｇ）のテトラヒドロフラン（８０
ｍｌ）溶液の混合液に窒素雰囲気下０〜５℃下でジエチ
ルアゾジカルボキシレート（８３２μｌ）を滴下し、反
応混合液の温度を外界温度まで昇温するにまかせ、１晩
攪拌する。溶媒を減圧下に留去し、得られた残留物をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーにより、ｎ−ヘキサ
ンと酢酸エチル（１：１−１：２）の混合液、および酢
酸エチルを用いて溶出する。溶媒を蒸発させ、得られた
残留物にエタノールを加えて一晩攪拌し、結晶（１．５
３ｇ）を得る。結晶（１．５ｇ）はギ酸（４ｍｌ）に再
溶解し、濃塩酸（６３０μｌ）を加えて、外界温度下
で、一晩攪拌する。反応混合物に水（１００ｍｌ）を加
え酢酸エチル（１５０ｍｌ）で洗浄する。水層を分離
し、減圧濃縮して得られた粗精製品をエタノールから再
結晶して、３−［２−（イミダゾール−２−イル）メチ
ル−３−オキソ−２，３−ジヒドロピリダジン−６−イ
ル］−２−フェニルピラゾロ［１，５−ａ］ピリジン・
塩酸塩（６９０ｍｇ）を得る。 ｍ．ｐ．：２６７．０−２７０．０℃（エタノール） ＦＴ ＩＲ（ＫＢｒ）：１６７０．１， １６３５．
３， １６１２．２， １５９１．０， １５２５．
４， １４９０．７， １４６７．６， １４４４．４
ｃｍ-1 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）：５．６９（２Ｈ，
Ｓ）， ６．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．７Ｈｚ），
７．０４〜７．１３（１Ｈ，ｍ）， ７．１２（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝９．７Ｈｚ）， ７．３５〜７．４４（１Ｈ，
ｍ）， ７．４７〜７．５１（３Ｈ，ｍ）， ７．６２
〜７．６８（２Ｈ，ｍ）， ７．６９（２Ｈ，Ｓ），
７．８２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ）， ８．８２
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ） （＋）−ＦＡＢ／ＭＳ（ｍ／ｚ）：３６９（ Ｍ+＋
１） 元素分析：Ｃ21Ｈ17ＣｌＮ6Ｏ・１／４Ｈ2Ｏとして 計算値：Ｃ；６１．６２， Ｈ；４．３１， Ｎ；２０．５３ 実測値：Ｃ；６１．６０， Ｈ；４．１５， Ｎ；２０．４４
【０１０１】実施例２ 実施例１と実質的に同様の方法で、３−［２−（イミダ
ゾール−４−イル）メチル−３−オキソ−２，３−ジヒ
ドロピリダジン−６−イル］−２−フェニルピラゾロ
［１，５−ａ］ピリジン・塩酸塩を収率２９．３１％で
得る。 ｍ．ｐ．：１８９．０−１９１．０℃（エタノール） ＦＴ ＩＲ（ＫＢｒ）：１６４６．９， １５７１．
７， １５３１．２， １４９２．６， １４６９．
５， １４５０．５， １４１７．４ ｃｍ-1 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）：５．４３（２Ｈ，
Ｓ）， ６．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．７Ｈｚ），
７．０４〜７．１３（１Ｈ，ｍ）， ７．１２（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝９．７Ｈｚ）， ７．３６〜７．５０（４Ｈ，
ｍ）， ７．５７〜７．６３（２Ｈ，ｍ）， ７．７０
（１Ｈ，Ｓ）， ７．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈ
ｚ）， ８．８２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），
９．０８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．３Ｈｚ） （＋）−ＦＡＢ／ＭＳ（ｍ／ｚ）：３６９（ Ｍ+＋
１） 元素分析：Ｃ21Ｈ17ＣｌＮ6Ｏ・５／４Ｈ2Ｏとして 計算値：Ｃ；５９．０２， Ｈ；４．６０， Ｎ；１９．６６ 実測値：Ｃ；５８．９４， Ｈ；４．３４， Ｎ；１９．５５
ゾール−４−イル）メチル−３−オキソ−２，３−ジヒ
ドロピリダジン−６−イル］−２−フェニルピラゾロ
［１，５−ａ］ピリジン・塩酸塩を収率２９．３１％で
得る。 ｍ．ｐ．：１８９．０−１９１．０℃（エタノール） ＦＴ ＩＲ（ＫＢｒ）：１６４６．９， １５７１．
７， １５３１．２， １４９２．６， １４６９．
５， １４５０．５， １４１７．４ ｃｍ-1 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）：５．４３（２Ｈ，
Ｓ）， ６．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．７Ｈｚ），
７．０４〜７．１３（１Ｈ，ｍ）， ７．１２（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝９．７Ｈｚ）， ７．３６〜７．５０（４Ｈ，
ｍ）， ７．５７〜７．６３（２Ｈ，ｍ）， ７．７０
（１Ｈ，Ｓ）， ７．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈ
ｚ）， ８．８２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），
９．０８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．３Ｈｚ） （＋）−ＦＡＢ／ＭＳ（ｍ／ｚ）：３６９（ Ｍ+＋
１） 元素分析：Ｃ21Ｈ17ＣｌＮ6Ｏ・５／４Ｈ2Ｏとして 計算値：Ｃ；５９．０２， Ｈ；４．６０， Ｎ；１９．６６ 実測値：Ｃ；５８．９４， Ｈ；４．３４， Ｎ；１９．５５
【０１０２】実施例３ ３−（３−オキソ−２，３−ジヒドロピリダジン−６−
イル）−２−フェニルピラゾロ［１，５−ａ］ピリジン
（１ｇ）、４−（２−ヒドロキシエチル）−１−トリフ
ェニルメチルイミダゾール（１．２９ｇ）とトリフェニ
ルフォスフィン（１．１８ｇ）のテトラヒドロフラン
（２０ｍｌ）溶液の混合液に、窒素雰囲気下０〜５℃で
ジエチルアゾジカルボキシレート（０．７１２ｍｌ）を
滴下し、反応混合物の温度を外界温度まで昇温するにま
かせ、一晩攪拌する。溶媒を減圧下に留去し、得られた
残留物に２Ｎの塩酸（１２０ｍｌ）を加え、１時間攪拌
下に還流する。反応混合物を酢酸エチル（６０ｍｌ）で
洗浄し、水層を分離し、５〜１５℃の温度下で、１５％
水酸化ナトリウム水溶液を用いてＰＨを１２に調整す
る。この溶液を酢酸エチル（１００ｍｌ）で抽出し、有
機層を分離し、１００ｍｌの水で洗浄して、硫酸マグネ
シウムで乾燥する。溶媒を蒸留させ、得られた残留物を
５０％水−エタノールから再結晶して、３−［２−｛２
−（イミダゾール−４−イル）エチル｝−３−オキソ−
２，３−ジヒドロピリダジン−６−イル］−２−フェニ
ルピラゾロ［１，５−ａ］ピリジン（０．５３ｇ）を得
る。 ＩＲ（ＫＢｒ）：１６５８．５， １５８７．１， １
５２９．３， １４７１．４， １４４８．３， １４
１７．４ ｃｍ-1 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）：２．９０〜３．２０
（２Ｈ，ｍ）， ４．３９（２Ｈ，ｔ，１４．３Ｈ
ｚ）， ６．８０〜７．１１（４Ｈ，ｍ）， ７．３５
〜７．７０（８Ｈ，ｍ）， ８．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
６．９Ｈｚ），１１．８４および１２．１（１Ｈ（２：
１），２×ｂｒ−ｓ） （＋）−ＡＰＣＩ／ＭＳ（ｍ／ｚ）：３８３（ Ｍ+＋
１）
イル）−２−フェニルピラゾロ［１，５−ａ］ピリジン
（１ｇ）、４−（２−ヒドロキシエチル）−１−トリフ
ェニルメチルイミダゾール（１．２９ｇ）とトリフェニ
ルフォスフィン（１．１８ｇ）のテトラヒドロフラン
（２０ｍｌ）溶液の混合液に、窒素雰囲気下０〜５℃で
ジエチルアゾジカルボキシレート（０．７１２ｍｌ）を
滴下し、反応混合物の温度を外界温度まで昇温するにま
かせ、一晩攪拌する。溶媒を減圧下に留去し、得られた
残留物に２Ｎの塩酸（１２０ｍｌ）を加え、１時間攪拌
下に還流する。反応混合物を酢酸エチル（６０ｍｌ）で
洗浄し、水層を分離し、５〜１５℃の温度下で、１５％
水酸化ナトリウム水溶液を用いてＰＨを１２に調整す
る。この溶液を酢酸エチル（１００ｍｌ）で抽出し、有
機層を分離し、１００ｍｌの水で洗浄して、硫酸マグネ
シウムで乾燥する。溶媒を蒸留させ、得られた残留物を
５０％水−エタノールから再結晶して、３−［２−｛２
−（イミダゾール−４−イル）エチル｝−３−オキソ−
２，３−ジヒドロピリダジン−６−イル］−２−フェニ
ルピラゾロ［１，５−ａ］ピリジン（０．５３ｇ）を得
る。 ＩＲ（ＫＢｒ）：１６５８．５， １５８７．１， １
５２９．３， １４７１．４， １４４８．３， １４
１７．４ ｃｍ-1 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）：２．９０〜３．２０
（２Ｈ，ｍ）， ４．３９（２Ｈ，ｔ，１４．３Ｈ
ｚ）， ６．８０〜７．１１（４Ｈ，ｍ）， ７．３５
〜７．７０（８Ｈ，ｍ）， ８．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
６．９Ｈｚ），１１．８４および１２．１（１Ｈ（２：
１），２×ｂｒ−ｓ） （＋）−ＡＰＣＩ／ＭＳ（ｍ／ｚ）：３８３（ Ｍ+＋
１）
【０１０３】実施例４ ３−［２−｛２−（イミダゾール−４−イル）エチル｝
−３−オキソ−２，３−ジヒドロピリダジン−６−イ
ル］−２−フェニルピラゾロ［１，５−ａ］ピリジン
（４５０ｍｇ）をエタノール（２ｍｌ）に溶解し、２５
％塩酸−エタノール（１ｍｌ）を加えて一晩攪拌する。
不溶物を収集し、エタノールで洗浄して、３−［２−
｛２−（イミダゾール−４−イル）エチル｝−３−オキ
ソ−２，３−ジヒドロピリダジン−６−イル］−２−フ
ェニルピラゾロ［１，５−ａ］ピリジン・塩酸塩（４８
０ｍｇ）を得る。 ｍ．ｐ．：２５０℃以上（エタノール） ＩＲ（ＫＢｒ）：１６３７．３， １５６５．９， １
５３３．１， １４９２．６ ｃｍ-1 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）：３．２０（２Ｈ，ｔ，
Ｊ＝６．８Ｈｚ）， ４．４７（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．７
Ｈｚ）， ６．８７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．７Ｈｚ），
７．０３〜７．１４（２Ｈ，ｍ）， ７．４２〜７．６
９（８Ｈ，ｍ），８．８３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．７Ｈ
ｚ）， ９．１０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．３Ｈｚ），１
４．４５（１Ｈ，ｂｒ−ｓ） （＋）−ＦＡＢ／ＭＳ（ｍ／ｚ）：３８３（ Ｍ+＋
１）
−３−オキソ−２，３−ジヒドロピリダジン−６−イ
ル］−２−フェニルピラゾロ［１，５−ａ］ピリジン
（４５０ｍｇ）をエタノール（２ｍｌ）に溶解し、２５
％塩酸−エタノール（１ｍｌ）を加えて一晩攪拌する。
不溶物を収集し、エタノールで洗浄して、３−［２−
｛２−（イミダゾール−４−イル）エチル｝−３−オキ
ソ−２，３−ジヒドロピリダジン−６−イル］−２−フ
ェニルピラゾロ［１，５−ａ］ピリジン・塩酸塩（４８
０ｍｇ）を得る。 ｍ．ｐ．：２５０℃以上（エタノール） ＩＲ（ＫＢｒ）：１６３７．３， １５６５．９， １
５３３．１， １４９２．６ ｃｍ-1 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）：３．２０（２Ｈ，ｔ，
Ｊ＝６．８Ｈｚ）， ４．４７（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．７
Ｈｚ）， ６．８７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．７Ｈｚ），
７．０３〜７．１４（２Ｈ，ｍ）， ７．４２〜７．６
９（８Ｈ，ｍ），８．８３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．７Ｈ
ｚ）， ９．１０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．３Ｈｚ），１
４．４５（１Ｈ，ｂｒ−ｓ） （＋）−ＦＡＢ／ＭＳ（ｍ／ｚ）：３８３（ Ｍ+＋
１）
【０１０４】実施例５ ３−（３−オキソ−２，３−ジヒドロピリダジン−６−
イル）−２−フェニルピラゾロ［１，５−ａ］ピリジン
（１．３６ｇ）、カリウム−ｔ−ブトキシド（８５０ｍ
ｇ）、１８−クラウン−６−エーテル（１２５ｍｇ）の
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液の混合溶液に１−ト
リフェニルメチル−２−クロロメチルイミダゾール・塩
酸塩（２．８ｇ）を外界温度下で加え、そのままの温度
で一晩攪拌する。反応混合物に酢酸エチル（２００ｍ
ｌ）とｎ−ヘキサン（５０ｍｌ）の混合物を加え、水
（５０ｍｌ）で３回、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液
（５０ｍｌ）で２回、飽和塩化ナトリウム水溶液（５０
ｍｌ）で３回、順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥す
る。溶媒を蒸留させ、得られた残留物をシリカゲルクロ
マトグラフィー（シリカゲル１００ｇ）により酢酸エチ
ル（１０：１、８：１、５：１）を用いて、粗精製物を
得、エタノールから再結晶して、３−［３−オキソ−２
−（１−トリフェニルメチルイミダゾール−２−イル）
メチル−２，３−ジヒドロピリダジン−６−イル］−２
−フェニルピラゾロ［１，５−ａ］ピリジン（１．９６
ｇ）を得る。 ｍ．ｐ．：２２５℃（ｄｅｃ．）（エタノール） ＦＴ ＩＲ（ＫＢｒ）：１６６８．１， １５９２．
９， １５２５．４， １４９２．６ ｃｍ-1 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）：４．２２（２Ｈ，
Ｓ）， ６．７８〜６．８５（２Ｈ，ｍ）， ６．９１
〜６．９５（１Ｈ，ｍ）， ７．０３〜７．１９（８
Ｈ，ｍ）， ７．３４〜７．４６（１３Ｈ，ｍ），
７．５８〜７．６４（３Ｈ，ｍ）， ８．８２（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ） （＋）−ＡＰＣＩ／ＭＳ（ｍ／ｚ）：６１１（ Ｍ+＋
１） 元素分析：Ｃ4oＨ30Ｎ6Ｏ・１／２Ｈ2Ｏとして 計算値：Ｃ；６７．６４， Ｈ；４．３９， Ｎ；２２．５３ 実測値：Ｃ；６７．３７， Ｈ；４．００， Ｎ；２２．４１
イル）−２−フェニルピラゾロ［１，５−ａ］ピリジン
（１．３６ｇ）、カリウム−ｔ−ブトキシド（８５０ｍ
ｇ）、１８−クラウン−６−エーテル（１２５ｍｇ）の
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液の混合溶液に１−ト
リフェニルメチル−２−クロロメチルイミダゾール・塩
酸塩（２．８ｇ）を外界温度下で加え、そのままの温度
で一晩攪拌する。反応混合物に酢酸エチル（２００ｍ
ｌ）とｎ−ヘキサン（５０ｍｌ）の混合物を加え、水
（５０ｍｌ）で３回、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液
（５０ｍｌ）で２回、飽和塩化ナトリウム水溶液（５０
ｍｌ）で３回、順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥す
る。溶媒を蒸留させ、得られた残留物をシリカゲルクロ
マトグラフィー（シリカゲル１００ｇ）により酢酸エチ
ル（１０：１、８：１、５：１）を用いて、粗精製物を
得、エタノールから再結晶して、３−［３−オキソ−２
−（１−トリフェニルメチルイミダゾール−２−イル）
メチル−２，３−ジヒドロピリダジン−６−イル］−２
−フェニルピラゾロ［１，５−ａ］ピリジン（１．９６
ｇ）を得る。 ｍ．ｐ．：２２５℃（ｄｅｃ．）（エタノール） ＦＴ ＩＲ（ＫＢｒ）：１６６８．１， １５９２．
９， １５２５．４， １４９２．６ ｃｍ-1 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）：４．２２（２Ｈ，
Ｓ）， ６．７８〜６．８５（２Ｈ，ｍ）， ６．９１
〜６．９５（１Ｈ，ｍ）， ７．０３〜７．１９（８
Ｈ，ｍ）， ７．３４〜７．４６（１３Ｈ，ｍ），
７．５８〜７．６４（３Ｈ，ｍ）， ８．８２（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ） （＋）−ＡＰＣＩ／ＭＳ（ｍ／ｚ）：６１１（ Ｍ+＋
１） 元素分析：Ｃ4oＨ30Ｎ6Ｏ・１／２Ｈ2Ｏとして 計算値：Ｃ；６７．６４， Ｈ；４．３９， Ｎ；２２．５３ 実測値：Ｃ；６７．３７， Ｈ；４．００， Ｎ；２２．４１
【０１０５】実施例６ ３−［３−オキソ−２−（１−トリフェニルメチルイミ
ダゾール−２−イル）メチル−２，３−ジヒドロピリダ
ジン−６−イル］−２−フェニルピラゾロ［１，５−
ａ］ピリジン（１．８ｇ）、ギ酸（４ｍｌ）、濃塩酸
（７４０μｌ）の混合物を外界温度下で３時間攪拌す
る。反応混合物に酢酸エチル（１５０ｍｌ）と水（１０
０ｍｌ）を加え、水層を集める。水層を１５％水酸化ナ
トリウム水溶液でＰＨ１１に調整し、ジクロロメタン
（４００ｍｌ）とメタノール（３０ｍｌ）の混合物で抽
出する。有機層を分離し食塩水で洗浄して、硫酸マグネ
シウムで乾燥する。溶媒を蒸発させ、得られた粗精製物
をエタノールから再結晶して、３−［２−（イミダゾー
ル−２−イル）メチル−３−オキソ−２，３−ジヒドロ
ピリダジン−６−イル］−２−フェニルピラゾロ［１，
５−ａ］ピリジン（９３９．２ｍｇ）を得る。 ｍ．ｐ．：２６０℃以上（エタノール） ＦＴ ＩＲ（ＫＢｒ）：１６５８．５， １５８７．
１， １５２５．４， １４９８．４， １４５９．８
ｃｍ-1 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）：５．３６（２Ｈ，
Ｓ）， ６．９０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．７Ｈｚ），
６．９３（１Ｈ，Ｓ）， ７．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
９．７Ｈｚ）， ７．００〜７．１０（１Ｈ，ｍ），
７．１３（１Ｈ，ｂｒ−ｓ）， ７．３０〜７．４０
（１Ｈ，ｍ）， ７．４６〜７．５１（３Ｈ，ｍ），
７．５９〜７．６５（２Ｈ，ｍ）， ７．７３（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ）， ８．７９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
６．９Ｈｚ）， １２．１１（１Ｈ，ｂｒ−ｓ） （＋）−ＡＰＣＩ／ＭＳ（ｍ／ｚ）：３６９（ Ｍ+＋
１） 元素分析：Ｃ21Ｈ16Ｎ6Ｏ・１／４Ｈ2Ｏとして 計算値：Ｃ；６７．６４， Ｈ；４．３９， Ｎ；２２．５３ 実測値：Ｃ；６７．３７， Ｈ；４．００， Ｎ；２２．４１
ダゾール−２−イル）メチル−２，３−ジヒドロピリダ
ジン−６−イル］−２−フェニルピラゾロ［１，５−
ａ］ピリジン（１．８ｇ）、ギ酸（４ｍｌ）、濃塩酸
（７４０μｌ）の混合物を外界温度下で３時間攪拌す
る。反応混合物に酢酸エチル（１５０ｍｌ）と水（１０
０ｍｌ）を加え、水層を集める。水層を１５％水酸化ナ
トリウム水溶液でＰＨ１１に調整し、ジクロロメタン
（４００ｍｌ）とメタノール（３０ｍｌ）の混合物で抽
出する。有機層を分離し食塩水で洗浄して、硫酸マグネ
シウムで乾燥する。溶媒を蒸発させ、得られた粗精製物
をエタノールから再結晶して、３−［２−（イミダゾー
ル−２−イル）メチル−３−オキソ−２，３−ジヒドロ
ピリダジン−６−イル］−２−フェニルピラゾロ［１，
５−ａ］ピリジン（９３９．２ｍｇ）を得る。 ｍ．ｐ．：２６０℃以上（エタノール） ＦＴ ＩＲ（ＫＢｒ）：１６５８．５， １５８７．
１， １５２５．４， １４９８．４， １４５９．８
ｃｍ-1 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）：５．３６（２Ｈ，
Ｓ）， ６．９０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．７Ｈｚ），
６．９３（１Ｈ，Ｓ）， ７．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
９．７Ｈｚ）， ７．００〜７．１０（１Ｈ，ｍ），
７．１３（１Ｈ，ｂｒ−ｓ）， ７．３０〜７．４０
（１Ｈ，ｍ）， ７．４６〜７．５１（３Ｈ，ｍ），
７．５９〜７．６５（２Ｈ，ｍ）， ７．７３（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ）， ８．７９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
６．９Ｈｚ）， １２．１１（１Ｈ，ｂｒ−ｓ） （＋）−ＡＰＣＩ／ＭＳ（ｍ／ｚ）：３６９（ Ｍ+＋
１） 元素分析：Ｃ21Ｈ16Ｎ6Ｏ・１／４Ｈ2Ｏとして 計算値：Ｃ；６７．６４， Ｈ；４．３９， Ｎ；２２．５３ 実測値：Ｃ；６７．３７， Ｈ；４．００， Ｎ；２２．４１
【０１０６】実施例７ ３−［２−（イミダゾール−２−イル）メチル−３−オ
キソ−２，３−ジヒドロピリダジン−６−イル］−２−
フェニルピラゾロ［１，５−ａ］ピリジン（６６０ｍ
ｇ）と水素化ナトリウム（８０ｍｇ、６０％湿潤）の
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液の混合液にエチルブ
ロモアセテート（２２０μｌ）を０〜５℃の窒素雰囲気
下で加え、この温度のまま１時間攪拌する。反応混合物
に酢酸エチル（１５０ｍｌ）とジイソプロピルエーテル
（４０ｍｌ）の混合液を加え、水（５０ｍｌ）で４回、
食塩水（５０ｍｌ）で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで
乾燥する。溶媒を蒸発させ、残留物をシリカゲルクロマ
トグラフィー（シリカゲル７５ｇ）で１０％メタノール
−酢酸エチルを用いて粗精製物を得、エタノールから再
結晶して３−［２−（１−エトキシカルボニルメチル）
イミダゾール−２−イル］メチル−３−オキソ−２，３
−ジヒドロピリダジン−６−イル］−２−フェニルピラ
ゾロ［１，５−ａ］ピリジン（５６０ｍｇ）を得る。 ｍ．ｐ．：１６２〜１６４℃（エタノール） ＦＴ ＩＲ（ＫＢｒ）： １７５１．０， １６６２，
３， １６３１．５，１５８９．１， １５２５．４，
１４９４．６， １４６７．６ ｃｍ-1 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）： １．１０（３Ｈ，
ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），３．９６（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．
１Ｈｚ）， ５．０４（２Ｈ，Ｓ）， ５．４１（２
Ｈ，Ｓ）， ６．８６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．７Ｈｚ），
６．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．２Ｈｚ）， ６．９９
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．７Ｈｚ）， ７．０７（１Ｈ，ｄ
ｔ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，６．９Ｈｚ）， ７．２１（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．２Ｈｚ）， ７．３２〜７．４０（１
Ｈ，ｍ）， ７．４６〜７．５０（３Ｈ，ｍ）， ７．
５８〜７．６４（２Ｈ，ｍ）， ７．８１（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝８．９Ｈｚ）， ８．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９
Ｈｚ） （＋）−ＡＰＣＩ／ＭＳ（ｍ／ｚ）：４５５（ Ｍ+＋
１） 元素分析：Ｃ25Ｈ22Ｎ6Ｏ3として 計算値：Ｃ；６６．０７， Ｈ；４．８８， Ｎ；１８．４９ 実測値：Ｃ；６５．５９， Ｈ；４．８６， Ｎ；１８．３３
キソ−２，３−ジヒドロピリダジン−６−イル］−２−
フェニルピラゾロ［１，５−ａ］ピリジン（６６０ｍ
ｇ）と水素化ナトリウム（８０ｍｇ、６０％湿潤）の
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液の混合液にエチルブ
ロモアセテート（２２０μｌ）を０〜５℃の窒素雰囲気
下で加え、この温度のまま１時間攪拌する。反応混合物
に酢酸エチル（１５０ｍｌ）とジイソプロピルエーテル
（４０ｍｌ）の混合液を加え、水（５０ｍｌ）で４回、
食塩水（５０ｍｌ）で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで
乾燥する。溶媒を蒸発させ、残留物をシリカゲルクロマ
トグラフィー（シリカゲル７５ｇ）で１０％メタノール
−酢酸エチルを用いて粗精製物を得、エタノールから再
結晶して３−［２−（１−エトキシカルボニルメチル）
イミダゾール−２−イル］メチル−３−オキソ−２，３
−ジヒドロピリダジン−６−イル］−２−フェニルピラ
ゾロ［１，５−ａ］ピリジン（５６０ｍｇ）を得る。 ｍ．ｐ．：１６２〜１６４℃（エタノール） ＦＴ ＩＲ（ＫＢｒ）： １７５１．０， １６６２，
３， １６３１．５，１５８９．１， １５２５．４，
１４９４．６， １４６７．６ ｃｍ-1 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）： １．１０（３Ｈ，
ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），３．９６（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．
１Ｈｚ）， ５．０４（２Ｈ，Ｓ）， ５．４１（２
Ｈ，Ｓ）， ６．８６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．７Ｈｚ），
６．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．２Ｈｚ）， ６．９９
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．７Ｈｚ）， ７．０７（１Ｈ，ｄ
ｔ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，６．９Ｈｚ）， ７．２１（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．２Ｈｚ）， ７．３２〜７．４０（１
Ｈ，ｍ）， ７．４６〜７．５０（３Ｈ，ｍ）， ７．
５８〜７．６４（２Ｈ，ｍ）， ７．８１（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝８．９Ｈｚ）， ８．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９
Ｈｚ） （＋）−ＡＰＣＩ／ＭＳ（ｍ／ｚ）：４５５（ Ｍ+＋
１） 元素分析：Ｃ25Ｈ22Ｎ6Ｏ3として 計算値：Ｃ；６６．０７， Ｈ；４．８８， Ｎ；１８．４９ 実測値：Ｃ；６５．５９， Ｈ；４．８６， Ｎ；１８．３３
【０１０７】実施例８ ３−［２−（１−エトキシカルボニルメチル）イミダゾ
ール−２−イル］メチル−３−オキソ−２，３−ジヒド
ロピリダジン−６−イル］−２−フェニルピラゾロ
［１，５−ａ］ピリジン（５００ｍｇ）の１，４−ジオ
キサン（５ｍｌ）溶液に１Ｎの水酸化ナトリウム水溶液
（１．１ｍｌ）を外界温度下で加え、この温度のまま３
０分攪拌する。反応混合物に１Ｎの塩酸（１．１５ｍ
ｌ）と酢酸エチル（５０ｍｌ）を加える。水層を分離
し、減圧濃縮して得た残留物を非イオン性樹脂ＨＰ−２
０（５０ｍｌ）で順次水、メタノール水溶液（２０％、
４０％、５０％）、メタノールで溶出し、目的生成物を
含む画分を集め濃縮し、得られた粗精製物をエタノール
から再結晶して、３−［２−（１−カルボキシメチル）
イミダゾール−２−イル］メチル−３−オキソ−２，３
−ジヒドロピリダジン−６−イル］−２−フェニルピラ
ゾロ［１，５−ａ］ピリジン（４０５ｍｇ）を得る。 ｍ．ｐ．：２４３．０〜２４６．０℃（エタノール） ＦＴ ＩＲ（ＫＢｒ）：１６６２．３， １５９１．
０， １５２５．４， １４９６．５， １４６７．６
ｃｍ-1 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）： ４．９５（２Ｈ，
Ｓ）， ５．３８（２Ｈ，Ｓ）， ６．８６（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝９．７Ｈｚ）， ６．９３〜７．４０（５Ｈ，
ｍ）， ７．４７〜７．５１（３Ｈ，ｍ）， ７．５８
〜７．６２（２Ｈ，ｍ）， ７．８３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
８．９Ｈｚ）， ８．７９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈ
ｚ） （＋）−ＡＰＣＩ／ＭＳ（ｍ／ｚ）：４２７（ Ｍ+＋
１）
ール−２−イル］メチル−３−オキソ−２，３−ジヒド
ロピリダジン−６−イル］−２−フェニルピラゾロ
［１，５−ａ］ピリジン（５００ｍｇ）の１，４−ジオ
キサン（５ｍｌ）溶液に１Ｎの水酸化ナトリウム水溶液
（１．１ｍｌ）を外界温度下で加え、この温度のまま３
０分攪拌する。反応混合物に１Ｎの塩酸（１．１５ｍ
ｌ）と酢酸エチル（５０ｍｌ）を加える。水層を分離
し、減圧濃縮して得た残留物を非イオン性樹脂ＨＰ−２
０（５０ｍｌ）で順次水、メタノール水溶液（２０％、
４０％、５０％）、メタノールで溶出し、目的生成物を
含む画分を集め濃縮し、得られた粗精製物をエタノール
から再結晶して、３−［２−（１−カルボキシメチル）
イミダゾール−２−イル］メチル−３−オキソ−２，３
−ジヒドロピリダジン−６−イル］−２−フェニルピラ
ゾロ［１，５−ａ］ピリジン（４０５ｍｇ）を得る。 ｍ．ｐ．：２４３．０〜２４６．０℃（エタノール） ＦＴ ＩＲ（ＫＢｒ）：１６６２．３， １５９１．
０， １５２５．４， １４９６．５， １４６７．６
ｃｍ-1 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）： ４．９５（２Ｈ，
Ｓ）， ５．３８（２Ｈ，Ｓ）， ６．８６（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝９．７Ｈｚ）， ６．９３〜７．４０（５Ｈ，
ｍ）， ７．４７〜７．５１（３Ｈ，ｍ）， ７．５８
〜７．６２（２Ｈ，ｍ）， ７．８３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
８．９Ｈｚ）， ８．７９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈ
ｚ） （＋）−ＡＰＣＩ／ＭＳ（ｍ／ｚ）：４２７（ Ｍ+＋
１）
【０１０８】実施例９ ３−（３−オキソ−２，３−ジヒドロピリダジン−６−
イル）−２−フェニルピラゾロ［１，５−ａ］ピリジン
（２．０ｇ）、２−ヒドロキシメチル−１−メチルイミ
ダゾール（１．０ｇ）、トリフェニルフォスフィン
（３．６４ｇ）のテトラヒドロフラン（５０ｍｌ）溶液
にジエチルアゾジカルボキシレート（２．２ｍｌ）を−
５〜０℃の窒素雰囲気下で滴下する。反応混合物を外界
温度まで昇温するにまかせ、１晩攪拌する。溶媒を蒸発
させ、得られた残留物を酢酸エチル（１００ｍｌ）に再
溶解し、１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液（５０ｍｌ）で２
回、飽和塩化ナトリウム水溶液（５０ｍｌ）で順次洗浄
する。有機層を分離し、２Ｎの塩酸（１００ｍｌ）を加
え、水層を分離し、酢酸エチル（５０ｍｌ）で洗浄し、
酢酸エチル（１００ｍｌ）を加える。この溶液を５〜１
０℃に保ったまま１５％水酸化ナトリウム水溶液でＰＨ
１２になるよう調整し、有機層を分離して飽和塩化ナト
リウム水溶液（５０ｍｌ）で２回洗浄し硫酸マグネシウ
ムで乾燥する。溶媒を蒸発させ、得られた精製物をエタ
ノール（１５ｍｌ）に再溶解し塩酸の２５％エタノール
溶液（５ｍｌ）を加え３日間攪拌する。不溶物を集めエ
タノールで洗浄して、３−［２−（１−メチルイミダゾ
ール−２−イル）メチル−３−オキソ−２，３−ジヒド
ロピリダジン−６−イル］−２−フェニルピラゾロ
［１，５−ａ］ピリジン・塩酸塩（１．０２ｇ）を得
る。 ｍ．ｐ．：１７９℃（ｄｅｃ）（エタノール） ＦＴ ＩＲ（ＫＢｒ）：１６８０．０， １６２９．
６， １５９４．８， １５２７．３， １５０６．
１， １４７３．３， １４４６．４， １４１１．６
ｃｍ-1 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）： ３．８５（３Ｈ，
Ｓ）， ５．７５（２Ｈ，Ｓ）， ６．９９（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝９．７Ｈｚ）， ７．０９（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝
１．３Ｈｚ，６．９Ｈｚ）， ７．１４（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝９．７Ｈｚ）， ７．３７〜７．５０（４Ｈ，ｍ），
７．６１〜７．６６（２Ｈ，ｍ）， ７．７２〜７．
８１（３Ｈ，ｍ）， ８．８２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９
Ｈｚ） （＋）−ＦＡＢ／ＭＳ（ｍ／ｚ）：３８３（ Ｍ+＋
１）
イル）−２−フェニルピラゾロ［１，５−ａ］ピリジン
（２．０ｇ）、２−ヒドロキシメチル−１−メチルイミ
ダゾール（１．０ｇ）、トリフェニルフォスフィン
（３．６４ｇ）のテトラヒドロフラン（５０ｍｌ）溶液
にジエチルアゾジカルボキシレート（２．２ｍｌ）を−
５〜０℃の窒素雰囲気下で滴下する。反応混合物を外界
温度まで昇温するにまかせ、１晩攪拌する。溶媒を蒸発
させ、得られた残留物を酢酸エチル（１００ｍｌ）に再
溶解し、１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液（５０ｍｌ）で２
回、飽和塩化ナトリウム水溶液（５０ｍｌ）で順次洗浄
する。有機層を分離し、２Ｎの塩酸（１００ｍｌ）を加
え、水層を分離し、酢酸エチル（５０ｍｌ）で洗浄し、
酢酸エチル（１００ｍｌ）を加える。この溶液を５〜１
０℃に保ったまま１５％水酸化ナトリウム水溶液でＰＨ
１２になるよう調整し、有機層を分離して飽和塩化ナト
リウム水溶液（５０ｍｌ）で２回洗浄し硫酸マグネシウ
ムで乾燥する。溶媒を蒸発させ、得られた精製物をエタ
ノール（１５ｍｌ）に再溶解し塩酸の２５％エタノール
溶液（５ｍｌ）を加え３日間攪拌する。不溶物を集めエ
タノールで洗浄して、３−［２−（１−メチルイミダゾ
ール−２−イル）メチル−３−オキソ−２，３−ジヒド
ロピリダジン−６−イル］−２−フェニルピラゾロ
［１，５−ａ］ピリジン・塩酸塩（１．０２ｇ）を得
る。 ｍ．ｐ．：１７９℃（ｄｅｃ）（エタノール） ＦＴ ＩＲ（ＫＢｒ）：１６８０．０， １６２９．
６， １５９４．８， １５２７．３， １５０６．
１， １４７３．３， １４４６．４， １４１１．６
ｃｍ-1 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）： ３．８５（３Ｈ，
Ｓ）， ５．７５（２Ｈ，Ｓ）， ６．９９（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝９．７Ｈｚ）， ７．０９（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝
１．３Ｈｚ，６．９Ｈｚ）， ７．１４（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝９．７Ｈｚ）， ７．３７〜７．５０（４Ｈ，ｍ），
７．６１〜７．６６（２Ｈ，ｍ）， ７．７２〜７．
８１（３Ｈ，ｍ）， ８．８２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９
Ｈｚ） （＋）−ＦＡＢ／ＭＳ（ｍ／ｚ）：３８３（ Ｍ+＋
１）
【０１０９】実施例１０ 実施例９と実質的に同様の方法で、３−［３−オキソ−
２−（ピリジン−２−イル）メチル−２，３−ジヒドロ
ピリダジン−６−イル］−２−フェニルピラゾロ［１，
５−ａ］ピリジン・塩酸塩を収率７２．２％で得る。 ｍ．ｐ．：２１３．０−２１５．０℃（エタノール） ＦＴ ＩＲ（ＫＢｒ）：１６６２．３， １６３１．
５， １５８５．２， １５１９．６， １４９０．
７， １４６７．６， １４１１．６， ｃｍ-1 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）：５．６３（２Ｈ，
Ｓ）， ６．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．７Ｈｚ），
７．０６（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，６．９Ｈ
ｚ）， ７．１５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．７Ｈｚ），
７．３０〜７．４０（１Ｈ，ｍ）， ７．４６〜７．５
０（３Ｈ，ｍ）， ７．６１〜７．８０（５Ｈ，ｍ），
８．１６〜８．２６（１Ｈ，ｍ）， ８．７５〜８．８
２（２Ｈ，ｍ） 元素分析：Ｃ23Ｈ18ＣｌＮ5Ｏ・Ｈ2Ｏとして （＋）−ＦＡＢ／ＭＳ（ｍ／ｚ）：３８０（ Ｍ+＋
１） 計算値：Ｃ；６３．６６， Ｈ；４．６５， Ｎ；１６．１４ 実測値：Ｃ；６３．１７， Ｈ；４．６９， Ｎ；１５．９５
２−（ピリジン−２−イル）メチル−２，３−ジヒドロ
ピリダジン−６−イル］−２−フェニルピラゾロ［１，
５−ａ］ピリジン・塩酸塩を収率７２．２％で得る。 ｍ．ｐ．：２１３．０−２１５．０℃（エタノール） ＦＴ ＩＲ（ＫＢｒ）：１６６２．３， １６３１．
５， １５８５．２， １５１９．６， １４９０．
７， １４６７．６， １４１１．６， ｃｍ-1 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）：５．６３（２Ｈ，
Ｓ）， ６．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．７Ｈｚ），
７．０６（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，６．９Ｈ
ｚ）， ７．１５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．７Ｈｚ），
７．３０〜７．４０（１Ｈ，ｍ）， ７．４６〜７．５
０（３Ｈ，ｍ）， ７．６１〜７．８０（５Ｈ，ｍ），
８．１６〜８．２６（１Ｈ，ｍ）， ８．７５〜８．８
２（２Ｈ，ｍ） 元素分析：Ｃ23Ｈ18ＣｌＮ5Ｏ・Ｈ2Ｏとして （＋）−ＦＡＢ／ＭＳ（ｍ／ｚ）：３８０（ Ｍ+＋
１） 計算値：Ｃ；６３．６６， Ｈ；４．６５， Ｎ；１６．１４ 実測値：Ｃ；６３．１７， Ｈ；４．６９， Ｎ；１５．９５
【０１１０】実施例１１ 実施例９と実質的に同様の方法で、３−［３−オキソ−
２−（ピリジン−３−イル）メチル−２，３−ジヒドロ
ピリダジン−６−イル］−２−フェニルピラゾロ［１，
５−ａ］ピリジン・塩酸塩を収率６４．８％で得る。 ｍ．ｐ．：２２３．５−２２６．５℃（エタノール） ＦＴ ＩＲ（ＫＢｒ）：１６６０．４， １６３１．
５， １５８５．２， １５６０．１， １５２１．
６， １４９２．６， １４６９．５， １４１５．５
ｃｍ-1 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）：５．５４（２Ｈ，
Ｓ）， ６．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．７Ｈｚ），
７．０８（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，６．９Ｈ
ｚ）， ７．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．７Ｈｚ），
７．３７〜７．４９（４Ｈ，ｍ）， ７．５８〜７．６
３（２Ｈ，ｍ）， ７．８３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈ
ｚ）， ７．９５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ，７．
９Ｈｚ）， ８．３９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），
８．８０〜８．８５（２Ｈ，ｍ）， ８．９３（１Ｈ，
Ｓ） （＋）−ＦＡＢ／ＭＳ（ｍ／ｚ）：３８０（ Ｍ+＋
１） 元素分析：Ｃ23Ｈ18ＣｌＮ5Ｏ・Ｈ2Ｏとして 計算値：Ｃ；６３．６６， Ｈ；４．６５， Ｎ；１６．１４ 実測値：Ｃ；６４．０， Ｈ；４．４０， Ｎ；１６．１６
２−（ピリジン−３−イル）メチル−２，３−ジヒドロ
ピリダジン−６−イル］−２−フェニルピラゾロ［１，
５−ａ］ピリジン・塩酸塩を収率６４．８％で得る。 ｍ．ｐ．：２２３．５−２２６．５℃（エタノール） ＦＴ ＩＲ（ＫＢｒ）：１６６０．４， １６３１．
５， １５８５．２， １５６０．１， １５２１．
６， １４９２．６， １４６９．５， １４１５．５
ｃｍ-1 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）：５．５４（２Ｈ，
Ｓ）， ６．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．７Ｈｚ），
７．０８（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，６．９Ｈ
ｚ）， ７．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．７Ｈｚ），
７．３７〜７．４９（４Ｈ，ｍ）， ７．５８〜７．６
３（２Ｈ，ｍ）， ７．８３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈ
ｚ）， ７．９５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ，７．
９Ｈｚ）， ８．３９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），
８．８０〜８．８５（２Ｈ，ｍ）， ８．９３（１Ｈ，
Ｓ） （＋）−ＦＡＢ／ＭＳ（ｍ／ｚ）：３８０（ Ｍ+＋
１） 元素分析：Ｃ23Ｈ18ＣｌＮ5Ｏ・Ｈ2Ｏとして 計算値：Ｃ；６３．６６， Ｈ；４．６５， Ｎ；１６．１４ 実測値：Ｃ；６４．０， Ｈ；４．４０， Ｎ；１６．１６
【０１１１】実施例１２ 実施例９と実質的に同様の方法で、３−［３−オキソ−
２−（ピリジン−４−イル）メチル−２，３−ジヒドロ
ピリダジン−６−イル］−２−フェニルピラゾロ［１，
５−ａ］ピリジン・塩酸塩を収率７０．８％で得る。 ｍ．ｐ．：２７１．０−２７４．５℃（エタノール） ＦＴ ＩＲ（ＫＢｒ）：１６６２．３， １６３１．
５， １５８３．３， １５１５．８， １４９６．
５， １４６７．６， １４０７．８ ｃｍ-1 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）：５．６０（２Ｈ，
Ｓ）， ７．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．７Ｈｚ），
７．０８（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，６．９Ｈ
ｚ）， ７．２２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．７Ｈｚ），
７．３５〜７．５０（４Ｈ，ｍ）， ７．６０〜７．６
６（２Ｈ，ｍ）， ７．８０〜７．９０（３Ｈ，ｍ），
８．８０〜８．８５（３Ｈ，ｍ） （＋）−ＦＡＢ／ＭＳ（ｍ／ｚ）：３８０（ Ｍ+＋
１） 元素分析：Ｃ23Ｈ18ＣｌＮ5Ｏ・Ｈ2Ｏとして 計算値：Ｃ；６３．６６， Ｈ；４．６５， Ｎ；１６．１４ 実測値：Ｃ；６３．８７， Ｈ；４．２７， Ｎ；１６．１０
２−（ピリジン−４−イル）メチル−２，３−ジヒドロ
ピリダジン−６−イル］−２−フェニルピラゾロ［１，
５−ａ］ピリジン・塩酸塩を収率７０．８％で得る。 ｍ．ｐ．：２７１．０−２７４．５℃（エタノール） ＦＴ ＩＲ（ＫＢｒ）：１６６２．３， １６３１．
５， １５８３．３， １５１５．８， １４９６．
５， １４６７．６， １４０７．８ ｃｍ-1 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）：５．６０（２Ｈ，
Ｓ）， ７．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．７Ｈｚ），
７．０８（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，６．９Ｈ
ｚ）， ７．２２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．７Ｈｚ），
７．３５〜７．５０（４Ｈ，ｍ）， ７．６０〜７．６
６（２Ｈ，ｍ）， ７．８０〜７．９０（３Ｈ，ｍ），
８．８０〜８．８５（３Ｈ，ｍ） （＋）−ＦＡＢ／ＭＳ（ｍ／ｚ）：３８０（ Ｍ+＋
１） 元素分析：Ｃ23Ｈ18ＣｌＮ5Ｏ・Ｈ2Ｏとして 計算値：Ｃ；６３．６６， Ｈ；４．６５， Ｎ；１６．１４ 実測値：Ｃ；６３．８７， Ｈ；４．２７， Ｎ；１６．１０
【０１１２】実施例１３ 実施例９と実質的に同様の方法で、３−［２−（１−メ
チルイミダゾール−５−イル）メチル−３−オキソ−
２，３−ジヒドロピリダジン−６−イル］−２−フェニ
ルピラゾロ［１，５−ａ］ピリジン・塩酸塩を収率６
４．８％で得る。 ｍ．ｐ．：２７０℃以上（エタノール） ＦＴ ＩＲ（ＫＢｒ）：１６６０．０， １６２１．
８， １５８５．０， １５１７．７， １４８４．
９， １４６７．６， １４１５．５ ｃｍ-1 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）： ３．８４（３Ｈ，
Ｓ）， ５．４８（２Ｈ，Ｓ）， ６．９７（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝９．７Ｈｚ）， ７．０９（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝
１．３Ｈｚ，６．９Ｈｚ）， ７．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝９．７Ｈｚ）， ７．３８〜７．５１（４Ｈ，ｍ），
７．５６〜７．６２（２Ｈ，ｍ）， ７．７０〜７．
７５（２Ｈ，ｍ）， ８．８２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９
Ｈｚ）， ９．１６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝０．９Ｈｚ） （＋）−ＦＡＢ／ＭＳ（ｍ／ｚ）：３８３（ Ｍ+＋
１） 元素分析：Ｃ22Ｈ19ＣｌＮ6Ｏとして 計算値：Ｃ；６３．０８， Ｈ；４．５７， Ｎ；２０．０６ 実測値：Ｃ；６２．７３， Ｈ；４．５０， Ｎ；１９．７７
チルイミダゾール−５−イル）メチル−３−オキソ−
２，３−ジヒドロピリダジン−６−イル］−２−フェニ
ルピラゾロ［１，５−ａ］ピリジン・塩酸塩を収率６
４．８％で得る。 ｍ．ｐ．：２７０℃以上（エタノール） ＦＴ ＩＲ（ＫＢｒ）：１６６０．０， １６２１．
８， １５８５．０， １５１７．７， １４８４．
９， １４６７．６， １４１５．５ ｃｍ-1 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）： ３．８４（３Ｈ，
Ｓ）， ５．４８（２Ｈ，Ｓ）， ６．９７（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝９．７Ｈｚ）， ７．０９（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝
１．３Ｈｚ，６．９Ｈｚ）， ７．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝９．７Ｈｚ）， ７．３８〜７．５１（４Ｈ，ｍ），
７．５６〜７．６２（２Ｈ，ｍ）， ７．７０〜７．
７５（２Ｈ，ｍ）， ８．８２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９
Ｈｚ）， ９．１６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝０．９Ｈｚ） （＋）−ＦＡＢ／ＭＳ（ｍ／ｚ）：３８３（ Ｍ+＋
１） 元素分析：Ｃ22Ｈ19ＣｌＮ6Ｏとして 計算値：Ｃ；６３．０８， Ｈ；４．５７， Ｎ；２０．０６ 実測値：Ｃ；６２．７３， Ｈ；４．５０， Ｎ；１９．７７
【０１１３】実施例１４ ３−（３−オキソ−２，３−ジヒドロピリダジン−６−
イル）−２−フェニルピラゾロ［１，５−ａ］ピリジン
（４．１ｇ）、３−ビス（ｔ−ブトキシカルボニル）ア
ミノ−２−（２−ヒドロキシエチル）ピラゾール（６．
０ｇ）、トリフェニルフォスフィン（５．９ｇ）のテト
ラヒドロフラン溶液（１００ｍｌ）の混合液にジエチル
アゾジカルボキシレート（３．６ｍｌ）を０〜５℃の窒
素雰囲気下で滴下する。反応混合物を外界温度まで昇温
するにまかせ、１晩攪拌する。溶媒を減圧除去し、得ら
れた残留物をシリカゲルクロマトグラフィー（シリカゲ
ル３００ｍｌ）で、ｎ−ヘキサンと酢酸エチルの混合物
（２：１、１：１）を用いて溶出する。溶媒を蒸発さ
せ、得られた残留物に６Ｎ塩酸（８０ｍｌ）を加え、５
時間還流下で攪拌する。生成物をクロロホルム（１００
ｍｌ）で３回洗浄し、クロロホルム（１００ｍｌ）を加
え０℃に冷却して、３０％水酸化ナトリウム溶液でＰＨ
１２に調整する。有機層を集め飽和塩化ナトリウム水溶
液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を蒸発
させ、得られた固体をエタノール（２０ｍｌ）に再溶解
し、塩酸の２５％エタノール（１０ｍｌ）溶液を加え
た。外界温度下で一晩攪拌し濾過により沈殿物を集めて
３−［２−｛２−（３−アミノピラゾ−ル）−２−イ
ル｝エチル−３−オキソ−２，３−ジヒドロピリダジン
−６−イル］−２−フェニルピラゾロ［１，５−ａ］ピ
リジン・塩酸塩（３．８８ｇ、収率６３．５％）を得
る。 ｍ．ｐ．：２１７℃（ｄｅｃ）（エタノール） ＦＴ ＩＲ（ＫＢｒ）：１６５２．７， １５８５．
０， １５２９．３， １５００．３， １４７１．
４， １４３４．８， １４２１．３ ｃｍ-1 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）： ４．５５（２Ｈ，ｂ
ｒ−ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ）， ４．６５（２Ｈ，ｂｒ−
ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ）， ５．６６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
３．０Ｈｚ）， ６．８４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．７Ｈ
ｚ）， ６．９８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．７Ｈｚ），
７．０８（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１．３Ｈｚ，，６．９Ｈ
ｚ）， ７．３８〜７．６３（６Ｈ，ｍ）， ７．７７
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ）７．８７（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝３．０Ｈｚ）８．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ） （＋）−ＦＡＢ／ＭＳ（ｍ／ｚ）：３９８（ Ｍ+＋
１） 元素分析：Ｃ22Ｈ20ＣｌＮ7Ｏ・５／３Ｈ2Ｏとして 計算値：Ｃ；５６．９４， Ｈ；５．０７， Ｎ；２１．１３ 実測値：Ｃ；５７．１９， Ｈ；４．７６， Ｎ；２０．８３
イル）−２−フェニルピラゾロ［１，５−ａ］ピリジン
（４．１ｇ）、３−ビス（ｔ−ブトキシカルボニル）ア
ミノ−２−（２−ヒドロキシエチル）ピラゾール（６．
０ｇ）、トリフェニルフォスフィン（５．９ｇ）のテト
ラヒドロフラン溶液（１００ｍｌ）の混合液にジエチル
アゾジカルボキシレート（３．６ｍｌ）を０〜５℃の窒
素雰囲気下で滴下する。反応混合物を外界温度まで昇温
するにまかせ、１晩攪拌する。溶媒を減圧除去し、得ら
れた残留物をシリカゲルクロマトグラフィー（シリカゲ
ル３００ｍｌ）で、ｎ−ヘキサンと酢酸エチルの混合物
（２：１、１：１）を用いて溶出する。溶媒を蒸発さ
せ、得られた残留物に６Ｎ塩酸（８０ｍｌ）を加え、５
時間還流下で攪拌する。生成物をクロロホルム（１００
ｍｌ）で３回洗浄し、クロロホルム（１００ｍｌ）を加
え０℃に冷却して、３０％水酸化ナトリウム溶液でＰＨ
１２に調整する。有機層を集め飽和塩化ナトリウム水溶
液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を蒸発
させ、得られた固体をエタノール（２０ｍｌ）に再溶解
し、塩酸の２５％エタノール（１０ｍｌ）溶液を加え
た。外界温度下で一晩攪拌し濾過により沈殿物を集めて
３−［２−｛２−（３−アミノピラゾ−ル）−２−イ
ル｝エチル−３−オキソ−２，３−ジヒドロピリダジン
−６−イル］−２−フェニルピラゾロ［１，５−ａ］ピ
リジン・塩酸塩（３．８８ｇ、収率６３．５％）を得
る。 ｍ．ｐ．：２１７℃（ｄｅｃ）（エタノール） ＦＴ ＩＲ（ＫＢｒ）：１６５２．７， １５８５．
０， １５２９．３， １５００．３， １４７１．
４， １４３４．８， １４２１．３ ｃｍ-1 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）： ４．５５（２Ｈ，ｂ
ｒ−ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ）， ４．６５（２Ｈ，ｂｒ−
ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ）， ５．６６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
３．０Ｈｚ）， ６．８４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．７Ｈ
ｚ）， ６．９８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．７Ｈｚ），
７．０８（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１．３Ｈｚ，，６．９Ｈ
ｚ）， ７．３８〜７．６３（６Ｈ，ｍ）， ７．７７
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ）７．８７（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝３．０Ｈｚ）８．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ） （＋）−ＦＡＢ／ＭＳ（ｍ／ｚ）：３９８（ Ｍ+＋
１） 元素分析：Ｃ22Ｈ20ＣｌＮ7Ｏ・５／３Ｈ2Ｏとして 計算値：Ｃ；５６．９４， Ｈ；５．０７， Ｎ；２１．１３ 実測値：Ｃ；５７．１９， Ｈ；４．７６， Ｎ；２０．８３
【０１１４】実施例１５ 水酸化ナトリウム（１７０ｍｇ）の、水（２０ｍｌ）と
ジクロロメタン（２０ｍｌ）の混合液を溶媒とする溶液
に３−（３−オキソ−２，３−ジヒドロピリダジン−６
−イル）−２−フェニルピラゾロ［１，５−ａ］ピリジ
ン（１．０ｇ）、ベンジルトリエチルアンモニウムクロ
ライド（８０ｍｇ）、イソブチレンオキサイド（３．２
ｍｌ）を順次加えて混合し、外界温度下で１昼夜攪拌す
る。有機層を分離し、水（２０ｍｌ）、飽和塩化ナトリ
ウム水溶液（２０ｍｌ）で順次洗浄し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥する。溶媒を蒸発させ、得られた残留物をエタ
ノールから再結晶して、３−［２−（２−ヒドロキシ−
２−メチル）プロピル−３−オキソ−２，３−ジヒドロ
ピリダジン−６−イル］−２−フェニルピラゾロ［１，
５−ａ］ピリジンを得る（７４０ｍｇ、収率５９．２
％） ｍ．ｐ．：１９８．５〜１９９．５℃（エタノール） ＦＴ ＩＲ（ＫＢｒ）：１６４８．８， １５７９．
４， １５２１．６， １４９２．６， １４６１．８
ｃｍ-1 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）： １．１８（６Ｈ，
Ｓ）， ４．１９（２Ｈ，Ｓ）， ４．７９（１Ｈ，
Ｓ）， ６．８８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．６Ｈｚ），７．
０３〜７．１１（２Ｈ，ｍ）， ７．３５〜７．７０
（６Ｈ，ｍ）， ８．１２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈ
ｚ）８．８１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ） （＋）−ＡＰＣＩ／ＭＳ（ｍ／ｚ）：３６１（ Ｍ+＋
１） 元素分析：Ｃ21Ｈ20Ｎ4Ｏ2・１／８Ｈ2Ｏとして 計算値：Ｃ；６９．５５， Ｈ；５．６３， Ｎ；１５．４５ 実測値：Ｃ；６９．２５， Ｈ；５．５８， Ｎ；１５．３０
ジクロロメタン（２０ｍｌ）の混合液を溶媒とする溶液
に３−（３−オキソ−２，３−ジヒドロピリダジン−６
−イル）−２−フェニルピラゾロ［１，５−ａ］ピリジ
ン（１．０ｇ）、ベンジルトリエチルアンモニウムクロ
ライド（８０ｍｇ）、イソブチレンオキサイド（３．２
ｍｌ）を順次加えて混合し、外界温度下で１昼夜攪拌す
る。有機層を分離し、水（２０ｍｌ）、飽和塩化ナトリ
ウム水溶液（２０ｍｌ）で順次洗浄し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥する。溶媒を蒸発させ、得られた残留物をエタ
ノールから再結晶して、３−［２−（２−ヒドロキシ−
２−メチル）プロピル−３−オキソ−２，３−ジヒドロ
ピリダジン−６−イル］−２−フェニルピラゾロ［１，
５−ａ］ピリジンを得る（７４０ｍｇ、収率５９．２
％） ｍ．ｐ．：１９８．５〜１９９．５℃（エタノール） ＦＴ ＩＲ（ＫＢｒ）：１６４８．８， １５７９．
４， １５２１．６， １４９２．６， １４６１．８
ｃｍ-1 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）： １．１８（６Ｈ，
Ｓ）， ４．１９（２Ｈ，Ｓ）， ４．７９（１Ｈ，
Ｓ）， ６．８８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．６Ｈｚ），７．
０３〜７．１１（２Ｈ，ｍ）， ７．３５〜７．７０
（６Ｈ，ｍ）， ８．１２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈ
ｚ）８．８１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ） （＋）−ＡＰＣＩ／ＭＳ（ｍ／ｚ）：３６１（ Ｍ+＋
１） 元素分析：Ｃ21Ｈ20Ｎ4Ｏ2・１／８Ｈ2Ｏとして 計算値：Ｃ；６９．５５， Ｈ；５．６３， Ｎ；１５．４５ 実測値：Ｃ；６９．２５， Ｈ；５．５８， Ｎ；１５．３０
【０１１５】実施例１６ 実施例９と実質的に同様の方法で、３−［２−（１−メ
チルピラゾール−４−イル）メチル−３−オキソ−２，
３−ジヒドロピリダジン−６−イル］−２−フェニルピ
ラゾロ［１，５−ａ］ピリジンを収率１１．８％で得
る。 ｍ．ｐ．：１３２〜１３３℃（エタノール） ＦＴ ＩＲ（ＫＢｒ）：１６６０．０， １６３１．
５， １５８０．０， １５２９．３， １４９０．
７， １４６７．６， １４４６．４， １４１７．４
ｃｍ-1 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）： ３．８１（３Ｈ，
Ｓ）， ５．１６（２Ｈ，Ｓ）， ６．８７（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝９．６Ｈｚ）， ７．０６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
９．６Ｈｚ）， ７．０７〜７．１５（１Ｈ，ｍ），
７．３８〜７．４９（５Ｈ，ｍ）， ７．５５〜７．６
２（２Ｈ，ｍ）， ７．７２（１Ｈ，Ｓ）， ７．８５
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ）， ８．８１（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ） （＋）−ＡＰＣＩ／ＭＳ（ｍ／ｚ）：３８３（ Ｍ+＋
１） 元素分析：Ｃ22Ｈ18Ｎ6Ｏ・３／８Ｈ2Ｏ として 計算値：Ｃ；６７．９０， Ｈ；４．８６， Ｎ；２１．５９ 実測値：Ｃ；６７．９０， Ｈ；４．５８， Ｎ；２１．５７
チルピラゾール−４−イル）メチル−３−オキソ−２，
３−ジヒドロピリダジン−６−イル］−２−フェニルピ
ラゾロ［１，５−ａ］ピリジンを収率１１．８％で得
る。 ｍ．ｐ．：１３２〜１３３℃（エタノール） ＦＴ ＩＲ（ＫＢｒ）：１６６０．０， １６３１．
５， １５８０．０， １５２９．３， １４９０．
７， １４６７．６， １４４６．４， １４１７．４
ｃｍ-1 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）： ３．８１（３Ｈ，
Ｓ）， ５．１６（２Ｈ，Ｓ）， ６．８７（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝９．６Ｈｚ）， ７．０６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
９．６Ｈｚ）， ７．０７〜７．１５（１Ｈ，ｍ），
７．３８〜７．４９（５Ｈ，ｍ）， ７．５５〜７．６
２（２Ｈ，ｍ）， ７．７２（１Ｈ，Ｓ）， ７．８５
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ）， ８．８１（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ） （＋）−ＡＰＣＩ／ＭＳ（ｍ／ｚ）：３８３（ Ｍ+＋
１） 元素分析：Ｃ22Ｈ18Ｎ6Ｏ・３／８Ｈ2Ｏ として 計算値：Ｃ；６７．９０， Ｈ；４．８６， Ｎ；２１．５９ 実測値：Ｃ；６７．９０， Ｈ；４．５８， Ｎ；２１．５７
【０１１６】実施例１７ 実施例９と実質的に同様の方法で、３−［３−オキソ−
２−（１−トリフェニルメチルピラゾール−４−イル）
メチル−２，３−ジヒドロピリダジン−６−イル］−２
−フェニルピラゾロ［１，５−ａ］ピリジンを収率５
１．５％で得る。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，δ）： ５．２９（２Ｈ，Ｓ），
６．７３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．７Ｈｚ）， ６．８６
（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１．４２Ｈｚ，６．９Ｈｚ），
６．９６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．７Ｈｚ）， ７．００〜
７．３０（１６Ｈ，ｍ）， ７．４１〜７．４６（３
Ｈ，ｍ）， ７．５７〜７．６３（３Ｈ，ｍ）， ７．
７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）， ７．８３（１
Ｈ，Ｓ）， ８．５１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ） （＋）−ＦＡＢ／ＭＳ（ｍ／ｚ）：６１１（ Ｍ+＋
１）
２−（１−トリフェニルメチルピラゾール−４−イル）
メチル−２，３−ジヒドロピリダジン−６−イル］−２
−フェニルピラゾロ［１，５−ａ］ピリジンを収率５
１．５％で得る。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，δ）： ５．２９（２Ｈ，Ｓ），
６．７３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．７Ｈｚ）， ６．８６
（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１．４２Ｈｚ，６．９Ｈｚ），
６．９６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．７Ｈｚ）， ７．００〜
７．３０（１６Ｈ，ｍ）， ７．４１〜７．４６（３
Ｈ，ｍ）， ７．５７〜７．６３（３Ｈ，ｍ）， ７．
７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）， ７．８３（１
Ｈ，Ｓ）， ８．５１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ） （＋）−ＦＡＢ／ＭＳ（ｍ／ｚ）：６１１（ Ｍ+＋
１）
【０１１７】実施例１８ 実施例６と実質的に同様の方法で、３−［３−オキソ−
２−（ピラゾール−４−イル）メチル−２，３−ジヒド
ロピリダジン−６−イル］−２−フェニルピラゾロ
［１，５−ａ］ピリジン・塩酸塩を収率５０．１％で得
る。 ｍ．ｐ．：２２２．０〜２２６．０℃（エタノール） ＦＴ ＩＲ（ＫＢｒ）：１６６２．３， １５８７．
１， １５３１．２， １４９４．６， １４６５．
６， １４１５．５ ｃｍ-1 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）： ５．２２（２Ｈ，
Ｓ）， ６．８７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．６Ｈｚ）７．０
６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．６Ｈｚ）， ７．０４〜７．１
２（１Ｈ，ｍ）， ７．３７〜７．４９（４Ｈ，ｍ），
７．５７〜７．６２（２Ｈ，ｍ）， ７．７３（２
Ｈ，Ｓ）， ７．８４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），
８．８１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ） （＋）−ＦＡＢ／ＭＳ（ｍ／ｚ）：３６９（ Ｍ+＋
１） 元素分析：Ｃ21Ｈ17ＣｌＮ6Ｏとして 計算値：Ｃ；６２．３０， Ｈ；４．２３， Ｎ；２０．７６ 実測値：Ｃ；６２．６１， Ｈ；４．１１， Ｎ；２０．８３
２−（ピラゾール−４−イル）メチル−２，３−ジヒド
ロピリダジン−６−イル］−２−フェニルピラゾロ
［１，５−ａ］ピリジン・塩酸塩を収率５０．１％で得
る。 ｍ．ｐ．：２２２．０〜２２６．０℃（エタノール） ＦＴ ＩＲ（ＫＢｒ）：１６６２．３， １５８７．
１， １５３１．２， １４９４．６， １４６５．
６， １４１５．５ ｃｍ-1 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）： ５．２２（２Ｈ，
Ｓ）， ６．８７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．６Ｈｚ）７．０
６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．６Ｈｚ）， ７．０４〜７．１
２（１Ｈ，ｍ）， ７．３７〜７．４９（４Ｈ，ｍ），
７．５７〜７．６２（２Ｈ，ｍ）， ７．７３（２
Ｈ，Ｓ）， ７．８４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），
８．８１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ） （＋）−ＦＡＢ／ＭＳ（ｍ／ｚ）：３６９（ Ｍ+＋
１） 元素分析：Ｃ21Ｈ17ＣｌＮ6Ｏとして 計算値：Ｃ；６２．３０， Ｈ；４．２３， Ｎ；２０．７６ 実測値：Ｃ；６２．６１， Ｈ；４．１１， Ｎ；２０．８３
【０１１８】実施例１９ 実施例９と実質的に同様の方法で、３−［３−オキソ−
２−｛２−（１−トリフェニルメチルピラゾール−４−
イル）−エチル｝−２，３−ジヒドロピリダジン−６−
イル］−２−フェニルピラゾロ［１，５−ａ］ピリジン
を収率９１．４％で得る。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，δ）： ３．０８（２Ｈ，ｔ，Ｊ
＝７．４Ｈｚ）， ４．４２（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈ
ｚ）， ６．７０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．７Ｈｚ，），
６．８６（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，６．９Ｈ
ｚ）， ６．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．７Ｈｚ，），
７．００〜７．２６（１７Ｈ，ｍ）， ７．４１〜７．
４６（３Ｈ，ｍ）， ７．５６〜７．６０（３Ｈ，
ｍ）， ７．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），
８．５１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ） （＋）−ＦＡＢ／ＭＳ（ｍ／ｚ）：６２４（ Ｍ+＋
１）
２−｛２−（１−トリフェニルメチルピラゾール−４−
イル）−エチル｝−２，３−ジヒドロピリダジン−６−
イル］−２−フェニルピラゾロ［１，５−ａ］ピリジン
を収率９１．４％で得る。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，δ）： ３．０８（２Ｈ，ｔ，Ｊ
＝７．４Ｈｚ）， ４．４２（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈ
ｚ）， ６．７０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．７Ｈｚ，），
６．８６（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，６．９Ｈ
ｚ）， ６．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．７Ｈｚ，），
７．００〜７．２６（１７Ｈ，ｍ）， ７．４１〜７．
４６（３Ｈ，ｍ）， ７．５６〜７．６０（３Ｈ，
ｍ）， ７．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），
８．５１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ） （＋）−ＦＡＢ／ＭＳ（ｍ／ｚ）：６２４（ Ｍ+＋
１）
【０１１９】実施例２０ 実施例６と実質的に同様の方法で、３−［３−オキソ−
２−｛２−（ピラゾール−４−イル）エチル｝−２，３
−ジヒドロピリダジン−６−イル］−２−フェニルピラ
ゾロ［１，５−ａ］ピリジン・塩酸塩を収率５４．７％
で得る。 ｍ．ｐ．：２０６．０〜２１０．０℃（エタノール） ＦＴ ＩＲ（ＫＢｒ）：１６５８．５， １５８５．
２， １５２５．４， １４９２．６， １４６７．
６， １４１５．５ ｃｍ-1 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）： ２．９９（２Ｈ，
ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），４．３４（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．
１Ｈｚ）， ６．８７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．６Ｈｚ），
７．０６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．６Ｈｚ）， ７．０３
〜７．１１（１Ｈ，ｍ）， ７．３７〜７．５０（４
Ｈ，ｍ）， ７．５６〜７．６１（３Ｈ，ｍ）， ７．
６４（２Ｈ，Ｓ）， ８．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９
Ｈｚ） （＋）−ＦＡＢ／ＭＳ（ｍ／ｚ）：３８３（ Ｍ+＋
１） 元素分析：Ｃ22Ｈ19ＣｌＮ6Ｏ・１／２０ＣＨ3ＣＨ2ＯＨとして 計算値：Ｃ；６３．０３， Ｈ；４．６１， Ｎ；１９．９６ 実測値：Ｃ；６３．４７， Ｈ；４．９０， Ｎ；１９．４８
２−｛２−（ピラゾール−４−イル）エチル｝−２，３
−ジヒドロピリダジン−６−イル］−２−フェニルピラ
ゾロ［１，５−ａ］ピリジン・塩酸塩を収率５４．７％
で得る。 ｍ．ｐ．：２０６．０〜２１０．０℃（エタノール） ＦＴ ＩＲ（ＫＢｒ）：１６５８．５， １５８５．
２， １５２５．４， １４９２．６， １４６７．
６， １４１５．５ ｃｍ-1 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）： ２．９９（２Ｈ，
ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），４．３４（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．
１Ｈｚ）， ６．８７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．６Ｈｚ），
７．０６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．６Ｈｚ）， ７．０３
〜７．１１（１Ｈ，ｍ）， ７．３７〜７．５０（４
Ｈ，ｍ）， ７．５６〜７．６１（３Ｈ，ｍ）， ７．
６４（２Ｈ，Ｓ）， ８．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９
Ｈｚ） （＋）−ＦＡＢ／ＭＳ（ｍ／ｚ）：３８３（ Ｍ+＋
１） 元素分析：Ｃ22Ｈ19ＣｌＮ6Ｏ・１／２０ＣＨ3ＣＨ2ＯＨとして 計算値：Ｃ；６３．０３， Ｈ；４．６１， Ｎ；１９．９６ 実測値：Ｃ；６３．４７， Ｈ；４．９０， Ｎ；１９．４８
【０１２０】実施例２１ ３−［２−（２−オキソプロピル）−３−オキソ−２，
３−ジヒドロピリダジン−６−イル］−２−フェニルピ
ラゾロ［１，５−ａ］ピリジン（１．０ｇ）のエタノー
ル（６０ｍｌ）懸濁液に水素化ホウ素ナトリウム（１２
０ｍｇ）を加え、外界温度下で５時間攪拌する。反応混
合物に２Ｎの塩酸を滴下し、これに酢酸エチル（２５０
ｍｌ）と水（５０ｍｌ）の混合物を注ぐ。有機層を分離
し、水（５０ｍｌ）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液
（５０ｍｌ）で２回、飽和塩化ナトリウム水溶液（５０
ｍｌ）で２回で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥す
る。溶媒を蒸発させ、得られた粗精製物をエタノールか
ら再結晶して、３−［２−（２−ヒドロキシプロピル）
−３−オキソ−２，３−ジヒドロピリダジン−６−イ
ル］−２−フェニルピラゾロ［１，５−ａ］ピリジンを
得る（７９０ｍｇ、収率７９．０％）。 ｍ．ｐ．：２０３．０〜２０３．９℃（エタノール） ＦＴ ＩＲ（ＫＢｒ）：１６５０．８， １５７９．
４， １５２３．５， １４９４．６， １４６５．６
ｃｍ-1 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3， δ）： １．３５（３Ｈ，ｄ，
Ｊ＝６．０Ｈｚ）， ３．７１（１Ｈ，Ｓ）， ４．３
５〜４．３７（３Ｈ，ｍ）， ６．８２（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝９．７Ｈｚ）， ６．８８〜６．９７（１Ｈ，ｍ），
７．０６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．７Ｈｚ）， ７．２７
〜７．３６（１Ｈ，ｍ）， ７．４４〜７．４８（３
Ｈ，ｍ）， ７．５８〜７．６４（２Ｈ，ｍ）， ７．
９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ）， ８．５４（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ） （＋）ＡＰＣＩ／ＭＳ（ｍ／ｚ）：３４７（ Ｍ+＋
１） 元素分析：Ｃ2OＨ18Ｎ4Ｏ2として 計算値：Ｃ；６９．３５， Ｈ；５．２４， Ｎ；１６．１７ 実測値：Ｃ；６９．２４， Ｈ；５．１５， Ｎ；１５．８３
３−ジヒドロピリダジン−６−イル］−２−フェニルピ
ラゾロ［１，５−ａ］ピリジン（１．０ｇ）のエタノー
ル（６０ｍｌ）懸濁液に水素化ホウ素ナトリウム（１２
０ｍｇ）を加え、外界温度下で５時間攪拌する。反応混
合物に２Ｎの塩酸を滴下し、これに酢酸エチル（２５０
ｍｌ）と水（５０ｍｌ）の混合物を注ぐ。有機層を分離
し、水（５０ｍｌ）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液
（５０ｍｌ）で２回、飽和塩化ナトリウム水溶液（５０
ｍｌ）で２回で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥す
る。溶媒を蒸発させ、得られた粗精製物をエタノールか
ら再結晶して、３−［２−（２−ヒドロキシプロピル）
−３−オキソ−２，３−ジヒドロピリダジン−６−イ
ル］−２−フェニルピラゾロ［１，５−ａ］ピリジンを
得る（７９０ｍｇ、収率７９．０％）。 ｍ．ｐ．：２０３．０〜２０３．９℃（エタノール） ＦＴ ＩＲ（ＫＢｒ）：１６５０．８， １５７９．
４， １５２３．５， １４９４．６， １４６５．６
ｃｍ-1 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3， δ）： １．３５（３Ｈ，ｄ，
Ｊ＝６．０Ｈｚ）， ３．７１（１Ｈ，Ｓ）， ４．３
５〜４．３７（３Ｈ，ｍ）， ６．８２（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝９．７Ｈｚ）， ６．８８〜６．９７（１Ｈ，ｍ），
７．０６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．７Ｈｚ）， ７．２７
〜７．３６（１Ｈ，ｍ）， ７．４４〜７．４８（３
Ｈ，ｍ）， ７．５８〜７．６４（２Ｈ，ｍ）， ７．
９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ）， ８．５４（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ） （＋）ＡＰＣＩ／ＭＳ（ｍ／ｚ）：３４７（ Ｍ+＋
１） 元素分析：Ｃ2OＨ18Ｎ4Ｏ2として 計算値：Ｃ；６９．３５， Ｈ；５．２４， Ｎ；１６．１７ 実測値：Ｃ；６９．２４， Ｈ；５．１５， Ｎ；１５．８３
【０１２１】実施例２２ 実施例１５と実質的に同様の方法で、３−［２−（２−
ヒドロキシプロピル）−３−オキソ−２，３−ジヒドロ
ピリダジン−６−イル］−２−フェニルピラゾロ［１，
５−ａ］ピリジンを収率７１％で得る。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，δ）： １．３５（３Ｈ，ｄ，Ｊ
＝６．１Ｈｚ）， ３．７２（１Ｈ，Ｓ）， ４．３５
〜４．３７（３Ｈ， ｍ）， ６．８２（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝９．６Ｈｚ）， ６．８８〜６．９７（１Ｈ，ｍ），
７．０６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．６Ｈｚ）， ７．２７
〜７．３７（１Ｈ，ｍ），７．４４〜７．４９（３Ｈ，
ｍ）， ７．５９〜７．６４（２Ｈ，ｍ）， ７．９７
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ）， ８．５４（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）
ヒドロキシプロピル）−３−オキソ−２，３−ジヒドロ
ピリダジン−６−イル］−２−フェニルピラゾロ［１，
５−ａ］ピリジンを収率７１％で得る。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，δ）： １．３５（３Ｈ，ｄ，Ｊ
＝６．１Ｈｚ）， ３．７２（１Ｈ，Ｓ）， ４．３５
〜４．３７（３Ｈ， ｍ）， ６．８２（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝９．６Ｈｚ）， ６．８８〜６．９７（１Ｈ，ｍ），
７．０６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．６Ｈｚ）， ７．２７
〜７．３７（１Ｈ，ｍ），７．４４〜７．４９（３Ｈ，
ｍ）， ７．５９〜７．６４（２Ｈ，ｍ）， ７．９７
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ）， ８．５４（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）
【０１２２】実施例２３ ３−（３−オキソ−２，３−ジヒドロピリダジン−６−
イル）−２−フェニルピラゾロ［１，５−ａ］ピリジン
（５ｇ）、Ｎ−アリルオキシカルボニル−２−ヨードエ
チルアミン（４．８７ｇ）、カリウム−ｔ−ブトキシド
（８５０ｍｇ）、１８−クラウン−６−エーテル（４６
０ｍｇ）のテトラヒドロフラン（１００ｍｌ）溶液を外
界温度下で１晩攪拌する。反応混合物を酢酸エチル（５
００ｍｌ）で希釈し、水（２００ｍｌ）で２回、飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液（２００ｍｌ）、飽和塩化ナト
リウム水溶液（２００ｍｌ）で順次洗浄し、硫酸マグネ
シウムで乾燥する。溶媒を蒸発させ、得られた粗精製物
をエタノールから再結晶して、３−［２−（２−アリル
オキシカルボニルアミノ）エチル｝−３−オキソ−２，
３−ジヒドロピリダジン−６−イル］−２−フェニルピ
ラゾロ［１，５−ａ］ピリジンを得る（５．３７ｇ 収
率７４．６％）。 ｍ．ｐ．：１４２．０〜１４３．０℃（エタノール） ＦＴ ＩＲ（ＫＢｒ）； １６９３．２， １６６６．
２， １５８９．１ １５３３，１， １４９６．５ｃ
ｍ-1 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3δ）；３．７０〜３．８０（２Ｈ，
ｍ）， ４．４０〜４．４８（２Ｈ，ｍ）， ４．５２
〜４．５６（２Ｈ，ｍ）， ５．１３〜５．３０（２
Ｈ，ｍ）， ５．４６（１Ｈ， ｂｒ−ｓ）， ５．７
７〜５．９５（１Ｈ，ｍ）， ６．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝９．７Ｈｚ）， ６．８８〜６，９７（１Ｈ，ｍ），
７．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．７Ｈｚ），７．２６〜
７．３７（１Ｈ，ｍ）， ７．４４〜７．４９（３Ｈ，
ｍ）， ７．５７〜７．６４（２Ｈ，ｍ）， ８．０１
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ）， ８．５３（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），（＋）−ＡＰＣＩ／ＭＳ（ｍ／
ｚ）；４１６（ Ｍ+＋１）
イル）−２−フェニルピラゾロ［１，５−ａ］ピリジン
（５ｇ）、Ｎ−アリルオキシカルボニル−２−ヨードエ
チルアミン（４．８７ｇ）、カリウム−ｔ−ブトキシド
（８５０ｍｇ）、１８−クラウン−６−エーテル（４６
０ｍｇ）のテトラヒドロフラン（１００ｍｌ）溶液を外
界温度下で１晩攪拌する。反応混合物を酢酸エチル（５
００ｍｌ）で希釈し、水（２００ｍｌ）で２回、飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液（２００ｍｌ）、飽和塩化ナト
リウム水溶液（２００ｍｌ）で順次洗浄し、硫酸マグネ
シウムで乾燥する。溶媒を蒸発させ、得られた粗精製物
をエタノールから再結晶して、３−［２−（２−アリル
オキシカルボニルアミノ）エチル｝−３−オキソ−２，
３−ジヒドロピリダジン−６−イル］−２−フェニルピ
ラゾロ［１，５−ａ］ピリジンを得る（５．３７ｇ 収
率７４．６％）。 ｍ．ｐ．：１４２．０〜１４３．０℃（エタノール） ＦＴ ＩＲ（ＫＢｒ）； １６９３．２， １６６６．
２， １５８９．１ １５３３，１， １４９６．５ｃ
ｍ-1 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3δ）；３．７０〜３．８０（２Ｈ，
ｍ）， ４．４０〜４．４８（２Ｈ，ｍ）， ４．５２
〜４．５６（２Ｈ，ｍ）， ５．１３〜５．３０（２
Ｈ，ｍ）， ５．４６（１Ｈ， ｂｒ−ｓ）， ５．７
７〜５．９５（１Ｈ，ｍ）， ６．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝９．７Ｈｚ）， ６．８８〜６，９７（１Ｈ，ｍ），
７．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．７Ｈｚ），７．２６〜
７．３７（１Ｈ，ｍ）， ７．４４〜７．４９（３Ｈ，
ｍ）， ７．５７〜７．６４（２Ｈ，ｍ）， ８．０１
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ）， ８．５３（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），（＋）−ＡＰＣＩ／ＭＳ（ｍ／
ｚ）；４１６（ Ｍ+＋１）
【０１２３】実施例２４ ３−［２−｛（２−アリルオキシカルボニルアミノ）エ
チル｝−３−オキソ−２，３−ジヒドロピリダジン−６
−イル］−２−フェニルピラゾロ［１，５−ａ］ピリジ
ン（４．８１ｇ）の６Ｎ塩酸（３０ｍｌ）溶液を５時間
還流する。溶媒を蒸発させ、得られた粗精製物をエタノ
ールから再結晶して、３−［２−（２−アミノエチル）
−３−オキソ−２，３−ジヒドロピリダジン−６−イ
ル］−２−フェニルピラゾロ［１，５−ａ］−ピリジン
・塩酸塩を得る（４．０ｇ 収率９４．１％）。 ｍ．ｐ．：２６０℃以上（エタノール） ＦＴ ＩＲ（ＫＢｒ）； １６６４．３， １５８９．
１， １５２３．５，１４７７．２ｃｍ-1 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6， δ）；３（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝
５．９Ｈｚ）， ４．４２（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．９Ｈ
ｚ）， ６．９２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．７Ｈｚ），７．
０５〜７．１３（２Ｈ，ｍ）， ７．３９〜７．５１
（４Ｈ，ｍ）， ７．６４〜７．６９（２Ｈ，ｍ），
８．０４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ）， ８．２０
（２Ｈ，ｂｒ−ｓ）， ８．８３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．
９Ｈｚ） （＋）−ＦＡＢ／ＭＳ（ｍ／ｚ）；３３２（ Ｍ+＋
１） 元素分析Ｃ19Ｈ18ＣｌＮ5Ｏ・３／８Ｈ2Ｏとして 計算値：Ｃ：６０．９２ Ｈ：５．０５ Ｎ：１８．７０ 実測値：Ｃ：６０．９１ Ｈ：４．７７ Ｎ：１８．５０
チル｝−３−オキソ−２，３−ジヒドロピリダジン−６
−イル］−２−フェニルピラゾロ［１，５−ａ］ピリジ
ン（４．８１ｇ）の６Ｎ塩酸（３０ｍｌ）溶液を５時間
還流する。溶媒を蒸発させ、得られた粗精製物をエタノ
ールから再結晶して、３−［２−（２−アミノエチル）
−３−オキソ−２，３−ジヒドロピリダジン−６−イ
ル］−２−フェニルピラゾロ［１，５−ａ］−ピリジン
・塩酸塩を得る（４．０ｇ 収率９４．１％）。 ｍ．ｐ．：２６０℃以上（エタノール） ＦＴ ＩＲ（ＫＢｒ）； １６６４．３， １５８９．
１， １５２３．５，１４７７．２ｃｍ-1 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6， δ）；３（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝
５．９Ｈｚ）， ４．４２（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．９Ｈ
ｚ）， ６．９２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．７Ｈｚ），７．
０５〜７．１３（２Ｈ，ｍ）， ７．３９〜７．５１
（４Ｈ，ｍ）， ７．６４〜７．６９（２Ｈ，ｍ），
８．０４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ）， ８．２０
（２Ｈ，ｂｒ−ｓ）， ８．８３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．
９Ｈｚ） （＋）−ＦＡＢ／ＭＳ（ｍ／ｚ）；３３２（ Ｍ+＋
１） 元素分析Ｃ19Ｈ18ＣｌＮ5Ｏ・３／８Ｈ2Ｏとして 計算値：Ｃ：６０．９２ Ｈ：５．０５ Ｎ：１８．７０ 実測値：Ｃ：６０．９１ Ｈ：４．７７ Ｎ：１８．５０
【０１２４】３−［２−（２−アミノエチル）−３−オ
キソ−２，３−ジヒドロピリダジン−６−イル］−２−
フェニルピラゾロ［１，５−ａ］ピリジン・塩酸塩
（１．５ｇ）と無水酢酸（７７０μｌ）のピリジン（３
０ｍｌ）溶液の混合物を外界温度下で１時間攪拌する。
溶媒を蒸発させ、得られた残留物をクロロホルム（１
００ｍｌ）に溶解し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液
（２０ｍｌ）を注意深く加えて過剰な無水酢酸を中和す
る。有機層を集め、飽和塩化ナトリウム水溶液（２０ｍ
ｌ）で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を蒸
発させ、得られた粗精製物をエタノールから再結晶して
３−［２−｛２−（アセチルアミノ）エチル｝−３−オ
キソ−２，３−ジヒドロピリダジン−６−イル］−２−
フェニルピラゾロ［１，５−ａ］ピリジンを得る（１．
５ｇ 収率９８．７％）。 ｍ．ｐ．：１７８．０〜 １８０．０℃（エタノール） ＦＴ ＩＲ（ＫＢｒ）； １６５０．８， １５８１．
３ １５３８．９， １４９６．５ｃｍ-1 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6， δ）；１．７９（３Ｈ，
Ｓ）， ３．５０（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝５．９Ｈｚ），
４．２０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ）， ６．９２
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．７Ｈｚ）， ７．０２〜７．１２
（２Ｈ，ｍ）， ７．３８〜７．５５（４Ｈ，ｍ），
７．５９〜７．６６（２Ｈ，ｍ）， ８．００（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ）， ８．０９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝
５．９Ｈｚ）， ８．８２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈ
ｚ）， （＋）−ＡＰＣＩ／ＭＳ（ｍ／ｚ）；３７４（ Ｍ+＋
１） 元素分析Ｃ21Ｈ18Ｎ5Ｏ2・Ｈ2Ｏとして 計算値：Ｃ：６４．４４ Ｈ：５．４１ Ｎ：１７．８９ 実測値：Ｃ：６４．５４ Ｈ：５．０５ Ｎ：１７．８６
キソ−２，３−ジヒドロピリダジン−６−イル］−２−
フェニルピラゾロ［１，５−ａ］ピリジン・塩酸塩
（１．５ｇ）と無水酢酸（７７０μｌ）のピリジン（３
０ｍｌ）溶液の混合物を外界温度下で１時間攪拌する。
溶媒を蒸発させ、得られた残留物をクロロホルム（１
００ｍｌ）に溶解し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液
（２０ｍｌ）を注意深く加えて過剰な無水酢酸を中和す
る。有機層を集め、飽和塩化ナトリウム水溶液（２０ｍ
ｌ）で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を蒸
発させ、得られた粗精製物をエタノールから再結晶して
３−［２−｛２−（アセチルアミノ）エチル｝−３−オ
キソ−２，３−ジヒドロピリダジン−６−イル］−２−
フェニルピラゾロ［１，５−ａ］ピリジンを得る（１．
５ｇ 収率９８．７％）。 ｍ．ｐ．：１７８．０〜 １８０．０℃（エタノール） ＦＴ ＩＲ（ＫＢｒ）； １６５０．８， １５８１．
３ １５３８．９， １４９６．５ｃｍ-1 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6， δ）；１．７９（３Ｈ，
Ｓ）， ３．５０（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝５．９Ｈｚ），
４．２０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ）， ６．９２
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．７Ｈｚ）， ７．０２〜７．１２
（２Ｈ，ｍ）， ７．３８〜７．５５（４Ｈ，ｍ），
７．５９〜７．６６（２Ｈ，ｍ）， ８．００（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ）， ８．０９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝
５．９Ｈｚ）， ８．８２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈ
ｚ）， （＋）−ＡＰＣＩ／ＭＳ（ｍ／ｚ）；３７４（ Ｍ+＋
１） 元素分析Ｃ21Ｈ18Ｎ5Ｏ2・Ｈ2Ｏとして 計算値：Ｃ：６４．４４ Ｈ：５．４１ Ｎ：１７．８９ 実測値：Ｃ：６４．５４ Ｈ：５．０５ Ｎ：１７．８６
【０１２５】実施例２５ ３−［２−｛２−（アセチルアミノ）エチル｝−３−オ
キソ−２，３−ジヒドロピリダジン−６−イル］−２−
フェニル−ピラゾロ［１，５−ａ］ピリジン（８００ｍ
ｇ）、水素化ナトリウム（２０６ｍｇ、６０％湿潤）の
テトラヒドロフラン（２０ｍｌ）とＮ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド（２０ｍｌ）の混合液を溶媒とする溶液に、
ヨウ化メチル（３５０μｌ）を外界温度の窒素雰囲気下
で加え、混合物を５時間攪拌する。反応混合物に注意深
く水を加え、過剰の水素化ナトリウムを中和する。溶媒
を減圧下で除去し、得られた残留物をクロロホルム（８
０ｍｌ）に溶解して、水（２０ｍｌ）で２回、飽和塩化
ナトリウム水溶液（２０ｍｌ）で順次洗浄し，硫酸マグ
ネシウムで乾燥する。溶媒を除去し、得られた残留物を
シリカゲルクロマトグラフィー（シリカゲル５０ｍｌ）
で５％メタノール−クロロホルムを用いて溶出する。目
的画分を集め、減圧濃縮して得られた成分をエタノール
から再結晶して、３−［２−｛２−（Ｎ−アセチル−Ｎ
−メチルアミノ）エチル｝−３−オキソ−２，３−ジヒ
ドロピリダジン−６−イル］−２−フェニルピラゾロ
［１，５−ａ］−ピリジン（７９１．０ｍｇ 収率９
５．４％）。 ｍ．ｐ．：１３９．０〜 １４０．５℃（メタノール−
クロロホルム） ＦＴ ＩＲ（ＫＢｒ）； １７３１．８， １６６０．
４ １５８７．１， １５２９．３， １４９２．６ｃ
ｍ- ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3， δ）； ２．０１・２．０６
（３Ｈ（２：１）， ２×Ｓ）， ３．０５（３Ｈ，
Ｓ）， ３．８２ ａｎｄ ３．９２（２Ｈ（１：
２）， ２×ｔ， Ｊ＝６．５Ｈｚ・５．９Ｈｚ），
４．４１〜４．５０（２Ｈ，ｍ）， ６．６９〜６．８
０（１Ｈ，ｍ）， ６．８８〜７．０７（２Ｈ，ｍ），
７．３０〜７．４７（４Ｈ，ｍ）， ７．５６〜７．
６３（２Ｈ，ｍ）， ７．９１・８．１８（１Ｈ（１：
２）， ２×ｄ， Ｊ＝８．９Ｈｚ），８．５２ （１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ） （＋）−ＡＰＣＩ／ＭＳ（ｍ／ｚ）；３８８（ Ｍ+＋
１） 元素分析Ｃ22Ｈ21Ｎ5Ｏ2・１／４Ｈ2Ｏとして 計算値：Ｃ：６７．４２ Ｈ：５．５３ Ｎ：１７．８７ 実測値：Ｃ：６７．６７ Ｈ：５．５０ Ｎ：１７．９０
キソ−２，３−ジヒドロピリダジン−６−イル］−２−
フェニル−ピラゾロ［１，５−ａ］ピリジン（８００ｍ
ｇ）、水素化ナトリウム（２０６ｍｇ、６０％湿潤）の
テトラヒドロフラン（２０ｍｌ）とＮ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド（２０ｍｌ）の混合液を溶媒とする溶液に、
ヨウ化メチル（３５０μｌ）を外界温度の窒素雰囲気下
で加え、混合物を５時間攪拌する。反応混合物に注意深
く水を加え、過剰の水素化ナトリウムを中和する。溶媒
を減圧下で除去し、得られた残留物をクロロホルム（８
０ｍｌ）に溶解して、水（２０ｍｌ）で２回、飽和塩化
ナトリウム水溶液（２０ｍｌ）で順次洗浄し，硫酸マグ
ネシウムで乾燥する。溶媒を除去し、得られた残留物を
シリカゲルクロマトグラフィー（シリカゲル５０ｍｌ）
で５％メタノール−クロロホルムを用いて溶出する。目
的画分を集め、減圧濃縮して得られた成分をエタノール
から再結晶して、３−［２−｛２−（Ｎ−アセチル−Ｎ
−メチルアミノ）エチル｝−３−オキソ−２，３−ジヒ
ドロピリダジン−６−イル］−２−フェニルピラゾロ
［１，５−ａ］−ピリジン（７９１．０ｍｇ 収率９
５．４％）。 ｍ．ｐ．：１３９．０〜 １４０．５℃（メタノール−
クロロホルム） ＦＴ ＩＲ（ＫＢｒ）； １７３１．８， １６６０．
４ １５８７．１， １５２９．３， １４９２．６ｃ
ｍ- ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3， δ）； ２．０１・２．０６
（３Ｈ（２：１）， ２×Ｓ）， ３．０５（３Ｈ，
Ｓ）， ３．８２ ａｎｄ ３．９２（２Ｈ（１：
２）， ２×ｔ， Ｊ＝６．５Ｈｚ・５．９Ｈｚ），
４．４１〜４．５０（２Ｈ，ｍ）， ６．６９〜６．８
０（１Ｈ，ｍ）， ６．８８〜７．０７（２Ｈ，ｍ），
７．３０〜７．４７（４Ｈ，ｍ）， ７．５６〜７．
６３（２Ｈ，ｍ）， ７．９１・８．１８（１Ｈ（１：
２）， ２×ｄ， Ｊ＝８．９Ｈｚ），８．５２ （１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ） （＋）−ＡＰＣＩ／ＭＳ（ｍ／ｚ）；３８８（ Ｍ+＋
１） 元素分析Ｃ22Ｈ21Ｎ5Ｏ2・１／４Ｈ2Ｏとして 計算値：Ｃ：６７．４２ Ｈ：５．５３ Ｎ：１７．８７ 実測値：Ｃ：６７．６７ Ｈ：５．５０ Ｎ：１７．９０
【０１２６】実施例２６ 実施例９と実質的に同様の方法で、３−［２−（２−ジ
メチルアミノ−２−メチル）プロピル−３−オキソ−
２，３−ジヒドロピリダジン−６−イル］−２−フェニ
ルピラゾロ［１，５−ａ］ピリジン・塩酸塩を収率２
０．８％で得る。 ｍ．ｐ．：１７６℃（ｄｅｃ） （エタノール） （＋）−ＦＡＢ／ＭＳ（ｍ／ｚ）；３８８（Ｍ+＋１） ＦＴ ＩＲ（ＫＢｒ）； １６６０．４， １５９１．
０， １５２７．３，１４７３．３， １４１７．４ｃ
ｍ-1 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6， δ）；１．７５（６Ｈ，
Ｓ）， ２．６７（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．７Ｈｚ） ３．
８８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．６Ｈｚ）， ６．８９（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．５Ｈｚ）， ７．０９（１Ｈ，ｄｔ，
Ｊ＝１．３Ｈｚ， ６．９Ｈｚ）， ７．２０（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝９．５Ｈｚ）， ７．４１〜７．４９（４Ｈ，
ｍ）， ７．６３〜７．６８（２Ｈ，ｍ）， ８．０２
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ）， ８．８３（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）
メチルアミノ−２−メチル）プロピル−３−オキソ−
２，３−ジヒドロピリダジン−６−イル］−２−フェニ
ルピラゾロ［１，５−ａ］ピリジン・塩酸塩を収率２
０．８％で得る。 ｍ．ｐ．：１７６℃（ｄｅｃ） （エタノール） （＋）−ＦＡＢ／ＭＳ（ｍ／ｚ）；３８８（Ｍ+＋１） ＦＴ ＩＲ（ＫＢｒ）； １６６０．４， １５９１．
０， １５２７．３，１４７３．３， １４１７．４ｃ
ｍ-1 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6， δ）；１．７５（６Ｈ，
Ｓ）， ２．６７（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．７Ｈｚ） ３．
８８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．６Ｈｚ）， ６．８９（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．５Ｈｚ）， ７．０９（１Ｈ，ｄｔ，
Ｊ＝１．３Ｈｚ， ６．９Ｈｚ）， ７．２０（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝９．５Ｈｚ）， ７．４１〜７．４９（４Ｈ，
ｍ）， ７．６３〜７．６８（２Ｈ，ｍ）， ８．０２
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ）， ８．８３（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）
【０１２７】実施例２７ 実施例９と実質的に同様の方法で、３−［２−（２−
（Ｎ−ベンジル−Ｎ−メチルアミノ）−２−メチルプロ
ピル）−３−オキソ−２，３−ジヒドロピリダジン−６
−イル］−２−フェニルピラゾロ［１，５−ａ］ピリジ
ン・塩酸塩を収率２８．１％で得る。 ｍ．ｐ．；２０４．５〜 ２０６．５℃（エタノール） （＋）−ＡＰＣＩ／ＭＳ（ｍ／ｚ）；４６４（ Ｍ+＋
１） ＦＴ ＩＲ（ＫＢｒ）； １６６６．２， １６３３．
４， １５９４．８，１５２１．６， １４９４．７，
１４６３．７， １４１１．６， １４００．１ｃｍ
-1 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6， δ）；１．５４（６Ｈ，
Ｓ）， ２．５７（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．６Ｈｚ），
４．００〜４．１５（１Ｈ，ｍ）， ４．６２（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝１４．３Ｈｚ）， ４．８３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
１４．３Ｈｚ），５．００（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２．４Ｈ
ｚ），７．０６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．７Ｈｚ）， ７．
００〜７．１０（１Ｈ，ｍ）， ７．２４（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝９．７Ｈｚ）， ７．３０〜７．７０（１１Ｈ，
ｍ）， ８．０４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），
８．８４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ） 元素分析Ｃ28Ｈ27ＣｌＮ5・１／２Ｈ2Ｏとして 計算値：Ｃ：６８．４３ Ｈ：６．１４ Ｎ：１３．７６ 実測値：Ｃ：６８．６２ Ｈ：６．０６ Ｎ：１３．８２
（Ｎ−ベンジル−Ｎ−メチルアミノ）−２−メチルプロ
ピル）−３−オキソ−２，３−ジヒドロピリダジン−６
−イル］−２−フェニルピラゾロ［１，５−ａ］ピリジ
ン・塩酸塩を収率２８．１％で得る。 ｍ．ｐ．；２０４．５〜 ２０６．５℃（エタノール） （＋）−ＡＰＣＩ／ＭＳ（ｍ／ｚ）；４６４（ Ｍ+＋
１） ＦＴ ＩＲ（ＫＢｒ）； １６６６．２， １６３３．
４， １５９４．８，１５２１．６， １４９４．７，
１４６３．７， １４１１．６， １４００．１ｃｍ
-1 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6， δ）；１．５４（６Ｈ，
Ｓ）， ２．５７（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．６Ｈｚ），
４．００〜４．１５（１Ｈ，ｍ）， ４．６２（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝１４．３Ｈｚ）， ４．８３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
１４．３Ｈｚ），５．００（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２．４Ｈ
ｚ），７．０６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．７Ｈｚ）， ７．
００〜７．１０（１Ｈ，ｍ）， ７．２４（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝９．７Ｈｚ）， ７．３０〜７．７０（１１Ｈ，
ｍ）， ８．０４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），
８．８４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ） 元素分析Ｃ28Ｈ27ＣｌＮ5・１／２Ｈ2Ｏとして 計算値：Ｃ：６８．４３ Ｈ：６．１４ Ｎ：１３．７６ 実測値：Ｃ：６８．６２ Ｈ：６．０６ Ｎ：１３．８２
【０１２８】実施例２８ 実施例９と実質的に同様の方法で、３−［２−（２−メ
チルアミノプロピル）−３−オキソ−２，３−ジヒドロ
ピリダジン−６−イル］−２−フェニルピラゾロ［１，
５−ａ］ピリジンを収率２２．５％で得る。 ｍ．ｐ．：１４５．５〜１４７．０℃（エタノール水溶
液） （＋）−ＡＰＣＩ／ＭＳ（ｍ／ｚ）；３６０（Ｍ+＋
１） ＦＴ ＩＲ（ＫＢｒ）； １６６６．２， １６３３．
４， １５８９．１，１５２７．３， １４９２．６，
１４６７．６， １４４６．４， １４１９．４ｃｍ
-1 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6， δ）；１．０２（３Ｈ，
ｄ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），２．３０（３Ｈ， Ｓ），
２．９０〜３．１０（１Ｈ，ｍ）， ３．９９（１Ｈ，
ｄｄ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，１２．７Ｈｚ）， ４．１７
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．５Ｈｚ， １２．７Ｈｚ），
６．８７（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝９．６Ｈｚ ），７．０４
〜７．１２（１Ｈ，ｍ）， ７．１０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ
＝９．６Ｈｚ）， ７．４０〜７．６５（６Ｈ，ｍ），
７．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ）， ８．８２
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ） 元素分析Ｃ21Ｈ21Ｎ5Ｏ・１／４Ｈ2Ｏとして 計算値：Ｃ：６９．３１ Ｈ：５．９５ Ｎ：１９．２４ 実測値：Ｃ：６９．５４ Ｈ：５．８１ Ｎ：１９．２１
チルアミノプロピル）−３−オキソ−２，３−ジヒドロ
ピリダジン−６−イル］−２−フェニルピラゾロ［１，
５−ａ］ピリジンを収率２２．５％で得る。 ｍ．ｐ．：１４５．５〜１４７．０℃（エタノール水溶
液） （＋）−ＡＰＣＩ／ＭＳ（ｍ／ｚ）；３６０（Ｍ+＋
１） ＦＴ ＩＲ（ＫＢｒ）； １６６６．２， １６３３．
４， １５８９．１，１５２７．３， １４９２．６，
１４６７．６， １４４６．４， １４１９．４ｃｍ
-1 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6， δ）；１．０２（３Ｈ，
ｄ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），２．３０（３Ｈ， Ｓ），
２．９０〜３．１０（１Ｈ，ｍ）， ３．９９（１Ｈ，
ｄｄ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，１２．７Ｈｚ）， ４．１７
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．５Ｈｚ， １２．７Ｈｚ），
６．８７（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝９．６Ｈｚ ），７．０４
〜７．１２（１Ｈ，ｍ）， ７．１０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ
＝９．６Ｈｚ）， ７．４０〜７．６５（６Ｈ，ｍ），
７．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ）， ８．８２
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ） 元素分析Ｃ21Ｈ21Ｎ5Ｏ・１／４Ｈ2Ｏとして 計算値：Ｃ：６９．３１ Ｈ：５．９５ Ｎ：１９．２４ 実測値：Ｃ：６９．５４ Ｈ：５．８１ Ｎ：１９．２１
【０１２９】実施例２９ 実施例１４と実質的に同様の方法で、３−［２−（２−
ベンジルアミノプロピル）−３−オキソ−２，３−ジヒ
ドロピリダジン−６−イル］−２−フェニルピラゾロ
［１，５−ａ］ピリジン・塩酸塩を収率２２．７％で得
る。 ｍ．ｐ．：２２４．０〜２２６．０℃（エタノール水溶
液） （＋）−ＡＰＣＩ／ＭＳ（ｍ／ｚ）；４３６（Ｍ+＋
１） ＦＴ ＩＲ（ＫＢｒ）； １６６６．２， １５９２．
９．４， １５２５．４， １４９６．５， １４６
３．７， １４１９．４ｃｍ-1 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6， δ）；１．４２（３Ｈ，
ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），３．６５〜３．９０（１Ｈ，
ｍ）， ４．２７（２Ｈ， ｂｒ−ｓ）， ４．４６
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．６Ｈｚ， １３．８Ｈｚ），
４．６３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ， １３．８Ｈ
ｚ）， ６．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．７Ｈｚ），
７．０５〜７．１５（２Ｈ，ｍ）， ７．３０〜７．０
０（１１Ｈ，ｍ）， ７．９６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９
Ｈｚ）， ８．８４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ） 元素分析Ｃ27Ｈ26ＣｌＮ5Ｏ・１／２Ｈ2Ｏとして 計算値：Ｃ：６７．４２ Ｈ：５．６６ Ｎ：１４．５６ 実測値：Ｃ：６７．４０ Ｈ：５．４８ Ｎ：１４．４９
ベンジルアミノプロピル）−３−オキソ−２，３−ジヒ
ドロピリダジン−６−イル］−２−フェニルピラゾロ
［１，５−ａ］ピリジン・塩酸塩を収率２２．７％で得
る。 ｍ．ｐ．：２２４．０〜２２６．０℃（エタノール水溶
液） （＋）−ＡＰＣＩ／ＭＳ（ｍ／ｚ）；４３６（Ｍ+＋
１） ＦＴ ＩＲ（ＫＢｒ）； １６６６．２， １５９２．
９．４， １５２５．４， １４９６．５， １４６
３．７， １４１９．４ｃｍ-1 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6， δ）；１．４２（３Ｈ，
ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），３．６５〜３．９０（１Ｈ，
ｍ）， ４．２７（２Ｈ， ｂｒ−ｓ）， ４．４６
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．６Ｈｚ， １３．８Ｈｚ），
４．６３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ， １３．８Ｈ
ｚ）， ６．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．７Ｈｚ），
７．０５〜７．１５（２Ｈ，ｍ）， ７．３０〜７．０
０（１１Ｈ，ｍ）， ７．９６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９
Ｈｚ）， ８．８４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ） 元素分析Ｃ27Ｈ26ＣｌＮ5Ｏ・１／２Ｈ2Ｏとして 計算値：Ｃ：６７．４２ Ｈ：５．６６ Ｎ：１４．５６ 実測値：Ｃ：６７．４０ Ｈ：５．４８ Ｎ：１４．４９
【０１３０】実施例３０ 実施例９と実質的に同様の方法で、３−［２−｛２−
（Ｎ−ベンジル−Ｎ−メチルアミノ）プロピル｝−３−
オキソ−２，３−ジヒドロピリダジン−６−イル］−２
−フェニルピラゾロ［１，５−ａ］ピリジンを収率４
７．１％で得る。 ｍ．ｐ．：１４３．０〜１４４．０℃（エタノール水溶
液） （＋）−ＡＰＣＩ／ＭＳ（ｍ／ｚ）；４５０（Ｍ+＋
１） ＦＴ ＩＲ（ＫＢｒ）； １６６２．３， １６３３．
４， １５８７．１，１５２９．３， １４９２．６，
１４６５．６， １４１３．６ｃｍ-1 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6， δ）；１．０４（３Ｈ，
ｄ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），２．２０（３Ｈ， Ｓ），
３．２７〜３．４６（１Ｈ，ｍ）， ３．４９・３．６
５（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１３．６Ｈｚ）， ４．０２
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．２Ｈｚ， １３．０Ｈｚ），
４．３５（１Ｈ，ｄｄ， Ｊ＝９．３Ｈｚ， １３．０
Ｈｚ）， ６．８６（１Ｈ，ｄ， Ｊ＝９．６Ｈｚ），
７．００〜７．１３（１Ｈ，ｍ）， ７．２８〜７．３
７（１Ｈ，ｍ）， ７．４５〜７．５０（３Ｈ，ｍ），
７．５８〜７．６４（２Ｈ，ｍ）， ７．８４（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ）， ８．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝６．９Ｈｚ） 元素分析Ｃ28Ｈ27Ｎ5Ｏ・Ｈ2Ｏとして 計算値：Ｃ：７１．９３ Ｈ：６．２５ Ｎ：１４．９８ 実測値：Ｃ：７１．５３ Ｈ：５．７７ Ｎ：１４．９０
（Ｎ−ベンジル−Ｎ−メチルアミノ）プロピル｝−３−
オキソ−２，３−ジヒドロピリダジン−６−イル］−２
−フェニルピラゾロ［１，５−ａ］ピリジンを収率４
７．１％で得る。 ｍ．ｐ．：１４３．０〜１４４．０℃（エタノール水溶
液） （＋）−ＡＰＣＩ／ＭＳ（ｍ／ｚ）；４５０（Ｍ+＋
１） ＦＴ ＩＲ（ＫＢｒ）； １６６２．３， １６３３．
４， １５８７．１，１５２９．３， １４９２．６，
１４６５．６， １４１３．６ｃｍ-1 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6， δ）；１．０４（３Ｈ，
ｄ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），２．２０（３Ｈ， Ｓ），
３．２７〜３．４６（１Ｈ，ｍ）， ３．４９・３．６
５（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１３．６Ｈｚ）， ４．０２
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．２Ｈｚ， １３．０Ｈｚ），
４．３５（１Ｈ，ｄｄ， Ｊ＝９．３Ｈｚ， １３．０
Ｈｚ）， ６．８６（１Ｈ，ｄ， Ｊ＝９．６Ｈｚ），
７．００〜７．１３（１Ｈ，ｍ）， ７．２８〜７．３
７（１Ｈ，ｍ）， ７．４５〜７．５０（３Ｈ，ｍ），
７．５８〜７．６４（２Ｈ，ｍ）， ７．８４（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ）， ８．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝６．９Ｈｚ） 元素分析Ｃ28Ｈ27Ｎ5Ｏ・Ｈ2Ｏとして 計算値：Ｃ：７１．９３ Ｈ：６．２５ Ｎ：１４．９８ 実測値：Ｃ：７１．５３ Ｈ：５．７７ Ｎ：１４．９０
【０１３１】実施例３１ 水酸化ナトリウム（８３３ｍｇ）の、水（５０ｍｌ）と
クロロホルム（５０ｍｌ）の混合液を溶媒とする溶液に
３−（３−オキソ−２，３−ジヒドロピリダジン−６
−イル）−２−フェニルピラゾロ［１，５−ａ］ピリジ
ン（２ｇ）、ベンジルトリエチルアンモニウムクロライ
ド（１５８ｍｇ）、２−（ヘキサメチレンイミノ）エチ
ルクロライド・塩酸塩（１．９３ｇ）を順次加え、外界
温度下で４時間攪拌する。反応混合物をクロロホルム
（１００ｍｌ）と４Ｎ水酸化ナトリウム水溶液に分配
し、有機層を分離して、飽和塩化ナトリウム水溶液（２
０ｍｌ）で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒
を蒸発させ、得られた粗精製物をエタノールから再結晶
して、３−［２−｛２−（ヘキサメチレンイミノ）エチ
ル｝−３−オキソ−２，３−ジヒドロピリダジン−６−
イル］−２−フェニルピラゾロ［１，５−ａ］−ピリジ
ンを得る（２．０１ｇ 収率７０．０％）。 ｍ．ｐ．；１３２．０〜 １３３．０℃（エタノール） ＦＴ ＩＲ（ＫＢｒ）；１６５８．５， １５８９．
１， １５２９．３， １４９４．６， １４６７．６
ｃｍ-1 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6， δ）；１．５０（８Ｈ，
ｂｒ−ｓ）， ２．６３〜２．７０（４Ｈ，ｍ），
２．８８（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ）， ４．２２
（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ）， ６．８６（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝９．６Ｈｚ），７．００〜７．１１（２Ｈ，
ｍ）， ７．３９〜７．６３（６Ｈ，ｍ）， ７．９５
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ）， ８．８１（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ） （＋）−ＡＰＣＩ／ＭＳ（ｍ／ｚ）；４１４（Ｍ+＋
１） 元素分析Ｃ25Ｈ27Ｎ5Ｏとして 計算値：Ｃ：７２．６１ Ｈ：６．５８ Ｎ：１６．９４ 実測値：Ｃ：７２．４７ Ｈ：６．５０ Ｎ：１６．９１
クロロホルム（５０ｍｌ）の混合液を溶媒とする溶液に
３−（３−オキソ−２，３−ジヒドロピリダジン−６
−イル）−２−フェニルピラゾロ［１，５−ａ］ピリジ
ン（２ｇ）、ベンジルトリエチルアンモニウムクロライ
ド（１５８ｍｇ）、２−（ヘキサメチレンイミノ）エチ
ルクロライド・塩酸塩（１．９３ｇ）を順次加え、外界
温度下で４時間攪拌する。反応混合物をクロロホルム
（１００ｍｌ）と４Ｎ水酸化ナトリウム水溶液に分配
し、有機層を分離して、飽和塩化ナトリウム水溶液（２
０ｍｌ）で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒
を蒸発させ、得られた粗精製物をエタノールから再結晶
して、３−［２−｛２−（ヘキサメチレンイミノ）エチ
ル｝−３−オキソ−２，３−ジヒドロピリダジン−６−
イル］−２−フェニルピラゾロ［１，５−ａ］−ピリジ
ンを得る（２．０１ｇ 収率７０．０％）。 ｍ．ｐ．；１３２．０〜 １３３．０℃（エタノール） ＦＴ ＩＲ（ＫＢｒ）；１６５８．５， １５８９．
１， １５２９．３， １４９４．６， １４６７．６
ｃｍ-1 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6， δ）；１．５０（８Ｈ，
ｂｒ−ｓ）， ２．６３〜２．７０（４Ｈ，ｍ），
２．８８（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ）， ４．２２
（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ）， ６．８６（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝９．６Ｈｚ），７．００〜７．１１（２Ｈ，
ｍ）， ７．３９〜７．６３（６Ｈ，ｍ）， ７．９５
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ）， ８．８１（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ） （＋）−ＡＰＣＩ／ＭＳ（ｍ／ｚ）；４１４（Ｍ+＋
１） 元素分析Ｃ25Ｈ27Ｎ5Ｏとして 計算値：Ｃ：７２．６１ Ｈ：６．５８ Ｎ：１６．９４ 実測値：Ｃ：７２．４７ Ｈ：６．５０ Ｎ：１６．９１
【０１３２】実施例３２ 実施例３１と実質的に同様の方法で、３−［２−｛２−
（シス−２，６−ジメチルピペリジン−１−イル）エチ
ル｝−３−オキソ−２，３−ジヒドロピリダジン−６−
イル］−２−フェニルピラゾロ［１，５−ａ］ピリジン
・塩酸塩を収率９３．２％で得る。 ｍ．ｐ．；２５０℃以上（エタノール） ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6， δ）；１．３０〜２．００
（９Ｈ， ｍ）， ３．３０〜３．５５（４Ｈ，ｍ），
４．４０〜４．５０（２Ｈ，ｍ）， ６．９７（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．７Ｈｚ）， ７．０９（１Ｈ，ｔ，Ｊ
＝６．９Ｈｚ），７．２３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．７Ｈ
ｚ）， ７．４０〜７．６５（６Ｈ，ｍ），７．９９
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ）， ８．８４（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）， １０．６４（１Ｈ，ｂｒ−
ｓ） （＋）−ＦＡＢ／ＭＳ（ｍ／ｚ）；４２７（Ｍ+＋１） ＦＴ ＩＲ（ＫＢｒ）；１６６０．４， １５８７．
０， １５２７．３ｃｍ-1
（シス−２，６−ジメチルピペリジン−１−イル）エチ
ル｝−３−オキソ−２，３−ジヒドロピリダジン−６−
イル］−２−フェニルピラゾロ［１，５−ａ］ピリジン
・塩酸塩を収率９３．２％で得る。 ｍ．ｐ．；２５０℃以上（エタノール） ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6， δ）；１．３０〜２．００
（９Ｈ， ｍ）， ３．３０〜３．５５（４Ｈ，ｍ），
４．４０〜４．５０（２Ｈ，ｍ）， ６．９７（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．７Ｈｚ）， ７．０９（１Ｈ，ｔ，Ｊ
＝６．９Ｈｚ），７．２３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．７Ｈ
ｚ）， ７．４０〜７．６５（６Ｈ，ｍ），７．９９
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ）， ８．８４（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）， １０．６４（１Ｈ，ｂｒ−
ｓ） （＋）−ＦＡＢ／ＭＳ（ｍ／ｚ）；４２７（Ｍ+＋１） ＦＴ ＩＲ（ＫＢｒ）；１６６０．４， １５８７．
０， １５２７．３ｃｍ-1
【０１３３】実施例３３ 実施例３１と実質的に同様の方法で、３−［２−｛２−
（ヘプタメチレンイミノ）エチル｝−３−オキソ−２，
３−ジヒドロピリダジン−６−イル］−２−フェニルピ
ラゾロ［１，５−ａ］−ピリジン・塩酸塩を収率９９．
３％で得る。 ＦＴ ＩＲ（ＫＢｒ）；１６５８．５， １５８５．
２， １５２７．３， １４６９．５ｃｍ-1 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6， δ）；１．２０〜２．００
（１０Ｈ， ｍ）， ３．１０〜３．６０（６Ｈ，
ｍ）， ４．５０〜４．６５（２Ｈ，ｍ）， ６．９３
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．７Ｈｚ）， ７．０６〜７．１５
（１Ｈ，ｍ）， ７．１２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．７Ｈ
ｚ）， ７．４０〜７．６０（４Ｈ，ｍ）， ７．６５
〜７．７５（２Ｈ，ｍ）， ８．０９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
８．９Ｈｚ），８．８３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈ
ｚ）， １１．０３（１Ｈ，ｂｒ−ｓ） （＋）−ＦＡＢ／ＭＳ（ｍ／ｚ）；４２８（Ｍ+＋１） 元素分析Ｃ26Ｈ30ＣｌＮ5Ｏ・１９／８Ｈ2Ｏとして 計算値：Ｃ：６１．６２ Ｈ：６．９１ Ｎ：１３．８２ 実測値：Ｃ：６１．９９ Ｈ：６．８６ Ｎ：１３．３８
（ヘプタメチレンイミノ）エチル｝−３−オキソ−２，
３−ジヒドロピリダジン−６−イル］−２−フェニルピ
ラゾロ［１，５−ａ］−ピリジン・塩酸塩を収率９９．
３％で得る。 ＦＴ ＩＲ（ＫＢｒ）；１６５８．５， １５８５．
２， １５２７．３， １４６９．５ｃｍ-1 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6， δ）；１．２０〜２．００
（１０Ｈ， ｍ）， ３．１０〜３．６０（６Ｈ，
ｍ）， ４．５０〜４．６５（２Ｈ，ｍ）， ６．９３
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．７Ｈｚ）， ７．０６〜７．１５
（１Ｈ，ｍ）， ７．１２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．７Ｈ
ｚ）， ７．４０〜７．６０（４Ｈ，ｍ）， ７．６５
〜７．７５（２Ｈ，ｍ）， ８．０９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
８．９Ｈｚ），８．８３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈ
ｚ）， １１．０３（１Ｈ，ｂｒ−ｓ） （＋）−ＦＡＢ／ＭＳ（ｍ／ｚ）；４２８（Ｍ+＋１） 元素分析Ｃ26Ｈ30ＣｌＮ5Ｏ・１９／８Ｈ2Ｏとして 計算値：Ｃ：６１．６２ Ｈ：６．９１ Ｎ：１３．８２ 実測値：Ｃ：６１．９９ Ｈ：６．８６ Ｎ：１３．３８
Claims (14)
- 【請求項１】 一般式： 式中、Ｒ1はアリール基、およびＲ2は、２−ヒドロキシ
プロピル基；２−ヒドロキシ−２−メチルプロピル基；
低級アルカノイルアミノ（低級）アルキル基；Ｎ−（低
級）アルカノイル−Ｎ−（低級）アルキルアミノ（低
級）アルキル基；低級アルケニルオキシカルボニルアミ
ノ（低級）アルキル基；２−Ｎ、Ｎ−ジ（低級）アルキ
ルアミノ−２−メチルプロピル基；低級アルキルアミノ
（低級）アルキル基；アル（低級）アルキルアミノ（低
級）アルキル基；Ｎ−（低級）アルキル−Ｎ−アル（低
級）アルキルアミノ（低級）アルキル基；ぺルヒドロア
ゼピニル（低級）アルキル基；ぺルヒドロアゾシニル
（低級）アルキル基；低級アルキル置換ピペリジル（低
級）アルキル基；２（または３）−ピリジル（低級）ア
ルキル基；置換基を有していてもよいピラゾリル（低
級）アルキル基；または、置換基を有していてもよいイ
ミダゾリル（低級）アルキル基、で示されるピラゾロピ
リジン化合物またはその塩類。 - 【請求項２】Ｒ1がフェニル基、およびＲ2が、２−ヒド
ロキシプロピル基；２−ヒドロキシ−２−メチルプロピ
ル基；低級アルカノイルアミノ（低級）アルキル基；Ｎ
−（低級）アルカノイル−Ｎ−（低級）アルキルアミノ
（低級）アルキル基；低級アルケニルオキシカルボニル
アミノ（低級）アルキル基；２−Ｎ、Ｎ−ジ（低級）ア
ルキルアミノ−２−メチルプロピル基；低級アルキルア
ミノ（低級）アルキル基；アル（低級）アルキルアミノ
（低級）アルキル基；Ｎ−（低級）アルキル−Ｎ−アル
（低級）アルキルアミノ（低級）アルキル基；ぺルヒド
ロアゼピニル（低級）アルキル基；ぺルヒドロアゾシニ
ル（低級）アルキル基；低級アルキルジ置換ピペリジル
（低級）アルキル基；２（または３）−ピリジル（低
級）アルキル基；低級アルキル、アル（低級）アルキ
ル、カルボキシ（低級）アルキル、保護されたカルボキ
シ（低級）アルキルおよびアミノからなる群より選ばれ
た置換基を１から３個有していてもよいピラゾリル（低
級）アルキル基；または、低級アルキル、アル（低級）
アルキル、カルボキシ（低級）アルキル、保護されたカ
ルボキシ（低級）アルキルおよびアミノからなる群より
選ばれた置換基を１から３個有していてもよいイミダゾ
リル（低級）アルキル基、で示される請求項１記載のピ
ラゾロピリジン化合物またはその塩類。 - 【請求項３】Ｒ2が、低級アルキル、アル（低級）アル
キル、カルボキシ（低級）アルキル、保護されたカルボ
キシ（低級）アルキルおよびアミノからなる群より選ば
れた置換基を１から３個有していてもよいピラゾリル
（低級）アルキル基；または、低級アルキル、アル（低
級）アルキル、カルボキシ（低級）アルキル、保護され
たカルボキシ（低級）アルキルおよびアミノからなる群
より選ばれた置換基を１から３個有していてもよいイミ
ダゾリル（低級）アルキル基である請求項２記載のピラ
ゾロピリジン化合物またはその塩類。 - 【請求項４】 Ｒ2が、アミノを１から３個有していて
もよいイミダゾリル（低級）アルキル基である請求項３
記載のピラゾロピリジン化合物またはその塩類。 - 【請求項５】 式： （式中、Ｒ1はアリール基を意味する。）で示される化
合物またはその塩を式： ＨＯ−Ｒ2 a （式中、Ｒ2 aは、アミノ基が保護されたアル（低級）ア
ルキルアミノ（低級）アルキル基、置換基として保護さ
れたアミノ基を有するピラゾリル（低級）アルキル基、
アミノ基が保護されたイミダゾリル（低級）アルキル
基、アミノ基が保護された低級アルキルアミノ（低級）
アルキル基を意味する。）で示される化合物またはその
塩と反応させて、式： （式中、Ｒ1は前記定義のとおりであり、Ｒ2 bは、アル
（低級）アルキルアミノ（低級）アルキル基、置換基と
してアミノ基を有するピラゾリル（低級）アルキル基、
イミダゾリル（低級）アルキル基、低級アルキルアミノ
（低級）アルキル基を意味する。）で示される化合物ま
たはその塩を得ることを特徴とするピラゾロピリジン化
合物の製造方法。 - 【請求項６】 式： （式中、Ｒ1はアリール基を意味する。）で示される化
合物またはその塩を式： Ｘ−Ｒ2 c （式中、Ｒ2 cは、低級アルケニルオキシカルボニルアミ
ノ（低級）アルキル基、２−Ｎ、Ｎ−ジ（低級）アルキ
ルアミノ−２−メチルプロピル基、Ｎ−（低級）アルキ
ル−Ｎ−アル（低級）アルキルアミノ（低級）アルキル
基、ぺルヒドロアゼピニル（低級）アルキル基、ぺルヒ
ドロアゾシニル（低級）アルキル基、低級アルキル置換
ピペリジル（低級）アルキル基、２（または３）−ピリ
ジル（低級）アルキル基、置換基として低級アルキルあ
るいはアル（低級）アルキルを有するピラゾリル（低
級）アルキル基、置換基として低級アルキルあるいはア
ル（低級）アルキルを有するイミダゾリル（低級）アル
キル基、Ｘは、ハロゲン原子または水酸基を意味す
る。）で示される化合物またはその塩と反応させて、
式： （式中、Ｒ1、Ｒ2 cは前記定義のとおりである。）で示
される化合物またはその塩を得ることを特徴とするピラ
ゾロピリジン化合物の製造方法。 - 【請求項７】 式： （式中、Ｒ1はアリール基を意味する。）で示される化
合物またはその塩を 式： （式中、Ｒ3 はメチル基、Ｒ4 はメチル基あるいは水素を
意味する。）で示される化合物またはその塩と反応させ
て、式： （式中、Ｒ1、Ｒ3 、Ｒ4 は前記定義のとおりである。）
で示される化合物またはその塩を得ることを特徴とする
ピラゾロピリジン化合物の製造方法。 - 【請求項８】 式： （式中、Ｒ1はアリール基を意味する。）で示される化
合物またはその塩を還元反応に付し、式： （式中、Ｒ1はアリール基を意味する。）で示される化
合物またはその塩を得ることを特徴とするピラゾロピリ
ジン化合物の製造方法。 - 【請求項９】 式： （式中、Ｒ1はアリール基、Ｒ2 dは、アミノ基が保護さ
れたピラゾリル（低級）アルキル基、アミノ基が保護さ
れたイミダゾリル（低級）アルキル基を意味する。）で
示される化合物またはその塩をアミノ保護基の脱離反応
に付し、式： （式中、Ｒ1は前記定義のとおりであり、Ｒ2 eは、ピラ
ゾリル（低級）アルキル基、イミダゾリル（低級）アル
キル基を意味する。）で示される化合物またはその塩を
得ることを特徴とするピラゾロピリジン化合物の製造方
法。 - 【請求項１０】式： （式中、Ｒ1はアリール基を意味する。）で示される化
合物またはその塩をカルボキシ保護基の脱離反応に付
し、式： （式中、Ｒ1はアリール基を意味する。）で示される化
合物またはその塩を得ることを特徴とするピラゾロピリ
ジン化合物の製造方法。 - 【請求項１１】 式： （式中、Ｒ1はアリール基を意味する。）で示される化
合物またはその塩をアミノ保護基の脱離反応に付し、
式： （式中、Ｒ1はアリール基を意味する。）で示される化
合物またはその塩を得、次に該化合物またはその塩を、
無水酢酸と反応させて、式： （式中、Ｒ1はアリール基を意味する。）で示される化
合物またはその塩を得ることを特徴とするピラゾロピリ
ジン化合物の製造方法。 - 【請求項１２】 式： （式中、Ｒ1はアリール基を意味する。）で示される化
合物またはその塩をＮ−アルキル化反応に付し、式： （式中、Ｒ1はアリール基を意味する。）で示される化
合物またはその塩を得ることを特徴とするピラゾロピリ
ジン化合物の製造方法。 - 【請求項１３】 （式中、Ｒ1はアリール基を意味する。）で示される化
合物またはその塩を式： （式中、Ｙは酸残基を意味する。）で示される化合物ま
たはその塩と反応させて、式： （式中、Ｒ1はアリール基を意味する。）で示される化
合物またはその塩を得ることを特徴とするピラゾロピリ
ジン化合物の製造方法。 - 【請求項１４】 請求項１記載のピラゾロピリジン化合
物またはその塩類を有効成分として含有する医薬。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25275197A JPH1180157A (ja) | 1997-09-01 | 1997-09-01 | ピラゾロピリジンアデノシン拮抗剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25275197A JPH1180157A (ja) | 1997-09-01 | 1997-09-01 | ピラゾロピリジンアデノシン拮抗剤 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1180157A true JPH1180157A (ja) | 1999-03-26 |
Family
ID=17241783
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25275197A Pending JPH1180157A (ja) | 1997-09-01 | 1997-09-01 | ピラゾロピリジンアデノシン拮抗剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1180157A (ja) |
-
1997
- 1997-09-01 JP JP25275197A patent/JPH1180157A/ja active Pending
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