JPH1173785A - Multiple level memory device and data writing method - Google Patents

Multiple level memory device and data writing method

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JPH1173785A
JPH1173785A JP17729498A JP17729498A JPH1173785A JP H1173785 A JPH1173785 A JP H1173785A JP 17729498 A JP17729498 A JP 17729498A JP 17729498 A JP17729498 A JP 17729498A JP H1173785 A JPH1173785 A JP H1173785A
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JP
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threshold voltage
data
cell
state
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JP17729498A
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Yong-Nam Ko
コー,ヨング−ナム
Dae-Shikku Won
ウォン,ダエ−シック
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Samsung Electronics Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To increase the number of relieves of error bits when one threshold voltage changes successively along the threshold voltage levels corresponding to the plural conditions that can be displayed by multiple bit data by changing only one of the corresponding data bits. SOLUTION: Suppose that a multiple level memory is provided with the threshold voltage levels distributing at a specified interval in correspondence to four possible states A-D which display two-bit multiple bit data. For example, based on technique 1, '11', '10', '00', '01' of bit data are successively allotted from the lowest threshold voltage level toward higher levels. When, for example, the threshold voltage level of the cell storing '10' ascends in external factors or reliability data, only one bit changes for the bit data corresponding to the former threshold level.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は半導体メモリ装置に
関するものであり、具体的には少なくとも三つの可能な
データ状態中、一つを選択的に貯蔵することができるメ
モリセルを具備した多重レベルメモリ装置及びそれのデ
ータ書込方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly, to a multi-level memory having a memory cell capable of selectively storing one of at least three possible data states. The present invention relates to an apparatus and a data writing method thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】コンピューターシステム、ディジタルハ
ンディターミナル等で不揮発性半導体メモリ装置は重要
な構成要素になっている。高密度不揮発性メモリ装置、
特にそれら中、フラッシュEEPROM(electrically
erable programmable read only memory)装置は高いプ
ログラミング速度(higher programming speed)そして、
低い電力消費(lower power consumption)等の長所を持
つので、ディジタルカメラ、個人用コンピューター(P
C)用集積回路カード(ICカード)等で大容量媒体と
して、そして、ハードディスクの代わりに使用されてい
る。
2. Description of the Related Art Non-volatile semiconductor memory devices are important components in computer systems, digital handy terminals and the like. High density nonvolatile memory device,
Among them, flash EEPROM (electrically
erable programmable read only memory) device has higher programming speed and
With advantages such as lower power consumption, digital cameras and personal computers (P
C) as a large-capacity medium in an integrated circuit card (IC card) or the like, and instead of a hard disk.

【0003】データが不揮発性メモリに貯蔵される基本
的なメカニズムはメモリセルである。多くの従来メモリ
技術はセル当最大一つのビットあるいは二つの状態の貯
蔵能力を提供する。二つの可能な状態より多くの状態を
持つ半導体メモリセルはこの技術分野によく知られてい
る。
The basic mechanism by which data is stored in a non-volatile memory is a memory cell. Many conventional memory technologies provide a storage capacity of up to one bit or two states per cell. Semiconductor memory cells having more than two possible states are well known in the art.

【0004】一つのフラッシュメモリセルは制御ゲート
(controlgate)、フローティングゲート(floating gat
e)、ソース(source)、そして、ドレーン(drain)を含む
単一展開効果トランジスター(field effect transisto
r:FET)で構成される。情報はフラッシュセルのスレショ
ルド電圧(threshold voltage:以下Vt)が変化されるよう
にフローティングゲート上の電荷の量を変えることによ
りフラッシュセルに貯蔵される。フラッシュセルは制御
ゲートにワードラインを通じて選択電圧を印可するによ
り読出される。選択電圧が印可される時、フラッシュセ
ルが電導する電流の量はフラッシュセルのスレショルド
電圧(Vt)により決定される。
One flash memory cell has a control gate.
(controlgate), floating gate (floating gat
e) a single effect transistor including a source and a drain.
r: FET). Information is stored in the flash cell by changing the amount of charge on the floating gate such that the threshold voltage (Vt) of the flash cell is changed. Flash cells are read by applying a select voltage to the control gate through a word line. When a selection voltage is applied, the amount of current conducted by the flash cell is determined by the threshold voltage (Vt) of the flash cell.

【0005】フラッシュセルは、理論的に、フローティ
ングゲートに加えた各電子に対して独立的で、確認可能
な(identifiable)状態を持つことができる。実質的に言
うと、しかし、従来フラッシュセルの大部分はフラッシ
ュセル構造、時間の流れによる電荷損失、そして、熱的
な問題点と設計する時のそれらの不一致と、フラッシュ
セルに貯蔵されたデータを決定する能力に影響を及ばす
フローティングゲートの電荷を感知するにより不正確性
のため、ただし二つの可能な状態を持つ。このような、
二つの状態は典型的にプログラムされた(programmed)状
態及び消去された(erased)状態に呼ばれ、そして、各状
態は所定範囲のスレショルド電圧(a range of Vt volta
ge)に対応される。二つの可能な状態を判別するため
に、状態はスレショルド電圧に対応される状態の間の所
定範囲である分離範囲により分離される。
[0005] Flash cells can theoretically have an independent and identifiable state for each electron applied to the floating gate. In essence, however, most flash cells traditionally rely on the flash cell structure, charge loss over time, and thermal issues and their inconsistencies when designing and the data stored in flash cells. Due to the inaccuracy of sensing the charge on the floating gate, which affects the ability to determine, there are two possible states. like this,
The two states are typically referred to as a programmed state and an erased state, and each state is referred to as a range of Vt volta.
ge). To determine the two possible states, the states are separated by a separation range, which is a predetermined range between the states corresponding to the threshold voltages.

【0006】フラッシュセルが読出される時、フラッシ
ュセルのスレショルド電圧Vtは分離範囲内の電圧であ
る基準電圧に設定されたスレショルド電圧Vtを持つ基
準フラッシュセルと比較される。この技術分野でよく知
られているように、比較器は典型的に基準電圧とフラッ
シュセルのスレショルド電圧Vtを比較し、その結果を
出力する。万一、フラッシュセルがプログラムされた
ら、余分の電子はフローティングゲートに捕獲され、そ
して、フラッシュセルのスレショルド電圧は選択された
フラッシュセルが基準フラッシュセルより少なくドレー
ンソース電流(drain-sourcecurrent)を電導するように
増加する。従来フラッシュセルのプログラムされた状態
は一般的に論理’0’で表示される。従来フラッシュセ
ルが消去された場合、余分の電子はフローティングゲー
トに少なかったり又は全くなかったりし、そして、フラ
ッシュセルは基準フラッシュセルより大きなドレーンソ
ース電流を電導する。従来フラッシュセルの消去された
状態は一般的に論理’1’として表示される。
When a flash cell is read, the threshold voltage Vt of the flash cell is compared with a reference flash cell having a threshold voltage Vt set to a reference voltage that is within the isolation range. As is well known in the art, a comparator typically compares a reference voltage with a threshold voltage Vt of a flash cell and outputs the result. Should the flash cell be programmed, the extra electrons will be trapped in the floating gate, and the threshold voltage of the flash cell will cause the selected flash cell to conduct less drain-source current than the reference flash cell To increase. Conventionally, the programmed state of a flash cell is generally indicated by a logic '0'. Conventionally, when a flash cell is erased, there are few or no extra electrons in the floating gate, and the flash cell conducts a greater drain source current than the reference flash cell. Conventionally, the erased state of a flash cell is generally indicated as logic '1'.

【0007】初期にフラッシュセルが消去された状態に
あると仮定すると、フラッシュセルはフラッシュセルの
スレショルド電圧Vtが増加するようにフローティング
ゲート上の電荷を配列することによりプログラムされ
る。典型的な従来フラッシュセルはフラッシュセルのソ
ースにソース電圧を印可し、フラッシュセルのドレーン
にプログラム電圧を印可し、フラッシュセルの制御ゲー
トにフラッシュセルに貯蔵された電荷の量を変化させる
に十分な電圧を印可することにより、ホットエレクトロ
ンインジェクション(hot electron injection)を通じて
プログラムされる。ソース電圧は、一般的にシステムグ
ラウンド(system ground)である。プログラム動作は、
一般的に制御エンジン(control engine)又は書込状態マ
シーン(write state machine)により制御される。他の
メモリ技術はフラッシュセルのフローティングゲートと
似てる貯蔵素子(storage element)に貯蔵された電荷の
量を変化させるによりメモリセルをプログラムする。
[0007] Assuming that the flash cell is initially in an erased state, the flash cell is programmed by arranging the charge on the floating gate such that the threshold voltage Vt of the flash cell is increased. A typical conventional flash cell has a source voltage applied to the source of the flash cell, a program voltage applied to the drain of the flash cell, and a control gate of the flash cell sufficient to change the amount of charge stored in the flash cell. By applying a voltage, it is programmed through hot electron injection. The source voltage is generally a system ground. The program operation is
Generally, it is controlled by a control engine or a write state machine. Other memory technologies program a memory cell by changing the amount of charge stored in a storage element similar to the floating gate of a flash cell.

【0008】フラッシュEEPROM装置は、メモリセ
ル構造の観点で、一般的にNAND構造になった装置と
NOR構造になった装置に区分される。NOR構造メモ
リはセル各々が独立的にビットラインとワードラインに
連結される構造を持つので、あるセルの書込動作や読出
動作の間に該当セルが他のセルによりあまり干渉を受け
ない長所を持つ。しかし、このNOR構造メモリは各セ
ルとこれに対応されるビットラインにこれらを相互連結
するため接続(contact)を必要とするので、集積度の観
点で、複数のセルが直列に連結された一つのユニット(u
nit)、すなわち、ストリング(string)当一つのコンタク
だけを必要とするNAND構造メモリと比較する時、不
利である。従って、高集積フラッシュメモリ装置は主に
NAND構造を採用している。
A flash EEPROM device is generally classified into a NAND type device and a NOR type device in terms of a memory cell structure. Since the NOR structure memory has a structure in which each cell is independently connected to a bit line and a word line, it has an advantage that a corresponding cell is not much interfered by another cell during a write operation or a read operation of one cell. Have. However, since the NOR structure memory requires a contact for interconnecting each cell and its corresponding bit line, a plurality of cells are connected in series from the viewpoint of integration. Unit (u
nit), ie, a string, is disadvantageous when compared to a NAND structure memory that requires only one contact. Therefore, the highly integrated flash memory device mainly adopts the NAND structure.

【0009】大量貯蔵用装置の重要な必須要件は、ビッ
ト当たりのコストを低くすることである。フラッシュメ
モリ装置の集積度向上のために一つのメモリセルに数多
くのビットのデータを貯蔵する技術として、多重ビット
フラッシュEEPROM技術に対した研究が活発に進行
されている。多重ビットEEPROMは多重レベル、あ
るいは多重状態EEPROMと呼ばれる。
An important prerequisite for mass storage devices is a low cost per bit. 2. Description of the Related Art Multi-bit flash EEPROM technology has been actively studied as a technology for storing a large number of bits of data in one memory cell in order to improve the integration degree of a flash memory device. Multi-bit EEPROMs are called multi-level or multi-state EEPROMs.

【0010】フラッシュEEPROM装置のビット単価
を画期的に減させることができる技術が1995年2
月、IEEE、ISSCCDigest of Technical Papers、pp132-133
に、M.Bauer等により、"A Multilevel-Cell 32Mb Flash
Memory"という題目で掲載されている。前記の文献で開
示されたフラッシュメモリ装置はNOR構造のセルアレ
イを持つ装置であり、セル大きさの減少と共にセル当2
ビット、又は四つの状態の貯蔵能力を持つ。
A technology capable of dramatically reducing the unit cost per bit of a flash EEPROM device was introduced in February 1995.
Moon, IEEE, ISSCCDigest of Technical Papers, pp132-133
M. Bauer et al., "A Multilevel-Cell 32Mb Flash
The flash memory device disclosed in the above-mentioned document is a device having a NOR-structured cell array, and the cell size decreases as the cell size decreases.
It has a bit or four state storage capacity.

【0011】文献に開示されたフラッシュメモリ装置に
おいて、2ビット当4状態に該当するデータを2進法と
表現すると、“00”、“01”、“10”、“11”
になり、各データには特定なスレショルド電圧、例え
ば、データ“00”に対しては2.5V、“01”に対
しては1.5V、そして、“11”に対しては−3Vの
スレショルド電圧が各々与えられる。各メモリセルが四
つのスレショルド電圧中、特定な一つのスレショルド電
圧を持つので、00,01,10,11の2進データが
各メモリセルに貯蔵される。このような多重状態フラッ
シュメモリ装置は通常的に二つ以上のスレショルド電圧
分布と各々のスレショルド電圧に対応される状態を持
つ。
In the flash memory device disclosed in the literature, data corresponding to the 4-bit 4-bit state is expressed as a binary system, which is "00", "01", "10", "11".
Where each data has a specific threshold voltage, for example, a threshold of 2.5V for data "00", 1.5V for "01", and -3V for "11". Voltages are each provided. Since each memory cell has a specific one of the four threshold voltages, binary data of 00, 01, 10, and 11 is stored in each memory cell. Such a multi-state flash memory device generally has two or more threshold voltage distributions and states corresponding to each threshold voltage.

【0012】一つの状態に複数のデータビットを貯蔵す
る多重レベルセル(multi-level cell:以下MLCと称す
る)の場合、通常的に二つ以上のデータ入力を組み合っ
て一つの独立的な状態で定義する。例えば、四つの可能
な状態を持つ入出力が×8である構造のMLCを仮定す
ると、前で説明したように、状態各々は“11”、“1
0”、“01”、“00”と定義され、各状態は二つの
データ出力を組み合って示したことである。すなわち、
“11”の場合I/O 0が’1’であり、I/O 1
も’1’である場合、“10”の場合I/O 2が’
1’であり、I/O 3が’0’である場合になること
ができる。データ入出力に対した組合はセルデータある
いは回路具現方法により多様に組み合えることはこの分
野の通常的な知識を習得した者に自明である。このよう
に少なくとも2ビット以上の多重ビットデータを独立的
に一つの状態に定義するためには他のデータ出力を組み
合う概念は多重レベルセル(MLC)を具現する半導体
メモリ装置で広く適用されている。
In a multi-level cell (MLC) storing a plurality of data bits in one state, two or more data inputs are usually combined to form one independent state. Define. For example, assuming an MLC with four possible inputs / outputs having a structure of × 8, as described above, the states are “11” and “1”, respectively.
0, 01, and 00, and each state is a combination of two data outputs.
In the case of “11”, I / O 0 is “1” and I / O 1
Is also “1”, if “10”, I / O 2 is “
1 'and I / O 3 may be' 0 '. It is obvious to those who have acquired ordinary knowledge in this field that the combination for data input / output can be variously combined by cell data or circuit implementation method. In order to independently define at least two bits of multi-bit data into one state, the concept of combining other data outputs is widely applied to a semiconductor memory device implementing a multi-level cell (MLC). .

【0013】便宜上、従来の問題点を説明するため、四
つの可能な状態中、一つを持つメモリセルを具備し、×
8の入出力構造を持つ多重レベルメモリ装置で、セルに
貯蔵された状態をそれのスレショルド電圧による電流あ
るいは電圧の差を感知して一つの状態を定義する多重状
態不揮発性メモリ装置を例として説明する。四つの可能
な状態中、一つを持つセルにおいて、セルのスレショル
ド電圧は四つの可能な状態に各々対応されるスレショル
ド電圧分布を従って順次的に変化される。スレショルド
電圧中、一番低い電圧は“11”に対応され、一番高い
電圧は“00”に対応され、その他は“11”と“0
0”の間で“10”と“01”の順番に対応されると定
義しよう。
For convenience, in order to explain the conventional problem, a memory cell having one of four possible states is provided.
8 is a multi-level memory device having an input / output structure of 8, wherein a state stored in a cell is sensed by detecting a current or voltage difference depending on a threshold voltage of the cell to define one state. I do. In a cell having one of the four possible states, the threshold voltage of the cell is sequentially changed according to a threshold voltage distribution corresponding to each of the four possible states. Among the threshold voltages, the lowest voltage corresponds to “11”, the highest voltage corresponds to “00”, and the others correspond to “11” and “0”.
Let us define that "0" corresponds to the order of "10" and "01".

【0014】このような場合、一つの状態が二つの入出
力を組み合って定義される時、すなわち、一つのセルに
2ビットデータが貯蔵される時、信頼性テストのような
電気的ストレスあるいは温度ストレスを加える条件や他
の外部要因によってセルのスレショルド電圧が変わって
しまうと、セルに貯蔵された状態、すなわち、それのス
レショルド電圧が変わるようになる。例えば、“10”
状態に対応されるセルのスレショルド電圧が上昇して
“01”状態に対応されるセルのスレショルド電圧に変
化されたら、入出力の差では2ビットの変化が生じる。
一方“10”状態に対応されるセルのスレショルド電圧
が低くなって“11”状態に対応されるセルのスレショ
ルド電圧に変化されたら、入出力の差では1ビットだけ
が変化する。
In such a case, when one state is defined by combining two inputs and outputs, that is, when two bits of data are stored in one cell, an electric stress or a temperature such as a reliability test may occur. If the threshold voltage of the cell changes due to stressing conditions or other external factors, the state stored in the cell, that is, its threshold voltage, changes. For example, "10"
If the threshold voltage of the cell corresponding to the state rises and is changed to the threshold voltage of the cell corresponding to the “01” state, a 2-bit change occurs in the input / output difference.
On the other hand, if the threshold voltage of the cell corresponding to the "10" state is lowered and changed to the threshold voltage of the cell corresponding to the "11" state, only one bit changes in the input / output difference.

【0015】一般的に、前記のような信頼性テストや外
部要因によりセルのスレショルド電圧は大きく変わらな
かったので、通常的にセルのスレショルド電圧が隣接し
た状態に、例えば“10”のデータで“01”のデータ
あるいは“10”のデータで“11”のデータに変化さ
れる場合が大部分である。しかし、“10”状態に対応
されるセルのスレショルド電圧が“01”状態に対応さ
れるスレショルド電圧に変化される2ビットのが変化も
生じ得る。この場合、エラー検査及び訂正(error check
ing and correction:以下ECCと称する)回路が支援
される多重レベルメモリ装置において、前記な要因によ
りセルのスレショルド電圧(Vt)が低くなり、前の状
態のビットに関連して2ビットが変化する場合、以前状
態のビットに関連して1ビットだけが変化する場合と比
較して全体的なエラー救済回数の減少を招来する。
In general, the threshold voltage of the cell does not change significantly due to the reliability test or external factors as described above. Therefore, the threshold voltage of the cell is usually set to be adjacent to the threshold voltage of the cell. In most cases, data of "01" or data of "10" is changed to data of "11". However, a change in the threshold voltage of the cell corresponding to the “10” state to the threshold voltage corresponding to the “01” state may occur. In this case, error check and correction (error check
In a multi-level memory device where the circuit is supported, if the above factors cause the threshold voltage (Vt) of the cell to be low and the two bits change relative to the bit in the previous state. , As compared with the case where only one bit changes in relation to the bit in the previous state, the overall number of times of error rescue is reduced.

【0016】[0016]

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、多重ビットデータを表示する少なくとも三つ以上の
状態中、一つを持つメモリセルにおいて、外部要因ある
いはテストする時、セルの状態が引接した状態に変化さ
れた場合、以前状態のビットと関連して可変された状態
のビット中、1ビットだけを変化させる多重レベルメモ
リ装置及びそれのデータ書込方法を提供することであ
る。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, it is an object of the present invention to provide a memory cell having one of at least three or more states for displaying multi-bit data, when an external factor or a test is performed, the state of the cell is changed. An object of the present invention is to provide a multi-level memory device that changes only one bit among bits in a state changed in relation to a bit in a previous state when the state is changed to a contact state, and a data writing method thereof.

【0017】[0017]

【課題を解決するための手段】上述したように目的を達
成するための本発明の一つの特徴によると、少なくとも
2ビットの多重ビットデータにより表示可能な少なくと
も三つの状態に各々対応され、所定の間隔に分布される
スレショルド電圧レベル中、一つを持つメモリセルを含
むが、メモリセルのスレショルド電圧レベルが分布され
たスレショルド電圧レベルに沿って順次的に変化される
時、可能な状態に各々対応されるデータビット中、一つ
のビットだけを変化させる。
According to one aspect of the present invention, as described above, at least three states, each of which can be represented by at least two bits of multi-bit data, each having a predetermined state. Each memory cell has one of the threshold voltage levels distributed in the interval, but corresponds to each possible state when the threshold voltage level of the memory cell is sequentially changed along the distributed threshold voltage level. Only one of the data bits is changed.

【0018】この実施例において、メモリセルは電気的
に消去及びプログラム可能なフラッシュEEPROMセ
ルを含む。
In this embodiment, the memory cells include electrically erasable and programmable flash EEPROM cells.

【0019】本発明の他の特徴によると、少なくとも2
ビットの多重ビットデータにより表示可能な少なくとも
三つの状態に各々対応され、所定の間隔で分布されるス
レショルド電圧レベル中一つを持ち、電気的に消去及び
プログラム可能なフラッシュEEPROMセルのアレイ
及び、メモリセル各々のスレショルド電圧レベルが分布
されたスレショルド電圧レベルに沿って順次的に変化さ
れる時、書込動作の間に可能な状態中、一つを示す電圧
レベルに選択されたセルに書込み、可能な状態に各々対
応されるデータビット中、1ビットだけが変化されるよ
うに可能な状態がスレショルド電圧レベルに各々対応さ
れ、読出動作の間に選択されたセルに貯蔵された状態に
対応される電圧レベルを感知する手段を含む。
According to another feature of the present invention, at least two
An array of electrically erasable and programmable flash EEPROM cells having one of a plurality of threshold voltage levels distributed at predetermined intervals, each corresponding to at least three states representable by multi-bit data of bits; When the threshold voltage level of each cell is sequentially changed along the distributed threshold voltage level, during a write operation, a selected cell can be written to a voltage level that indicates one of the possible states during a write operation. The states in which only one bit of the data bits corresponding to the various states can be changed correspond to the threshold voltage levels, respectively, and correspond to the states stored in the selected cells during the read operation. Means for sensing the voltage level is included.

【0020】本発明の他の特徴によると、少なくとも2
ビットの多重ビットデータにより表示可能な少なくとも
三つの状態に各々対応され、各々が所定間隔で分布さ
れ、順次的に変化されるスレショルド電圧レベル中、一
つを持つメモリセルのアレイと、外部から印可されるn
ビットの情報を所定ビットで区分した多重ビットデータ
を電圧レベルに各々対応させ、引接した二つの電圧レベ
ルに各々対応される可能な状態と関連して二つの状態
中、一つの状態で他の一つの状態に変化される時、変化
された状態のビットと以前状態のビットの間に1ビット
だけが変化されるように多重ビットデータを対応させる
手段及び、選択されたセルに対応された多重ビットデー
タの状態に該当する電圧レベルを書込する手段を含む。
According to another feature of the present invention, at least two
An array of memory cells each having at least three states respectively corresponding to at least three states that can be displayed by multi-bit data of a bit, each of which is distributed at predetermined intervals and has a sequentially changed threshold voltage level; N
The multi-bit data obtained by dividing the bit information by a predetermined bit corresponds to each of the voltage levels, and one of the two states corresponds to one of the other states in relation to the possible states respectively corresponding to the two contacted voltage levels. Means for associating multi-bit data such that only one bit is changed between a bit in a changed state and a bit in a previous state when the state is changed to one state, and a multi-bit corresponding to a selected cell. Means for writing a voltage level corresponding to a data state is included.

【0021】この実施例において、メモリセルは電気的
に消去及びプログラム可能なフラッシュEEPROMセ
ルを含む。
In this embodiment, the memory cells include electrically erasable and programmable flash EEPROM cells.

【0022】この実施例において、nビットの情報は半
導体メモリ装置のデータ入出力構造と一致する。
In this embodiment, the n-bit information matches the data input / output structure of the semiconductor memory device.

【0023】本発明の他の特徴によると、少なくとも2
ビットの多重ビットデータを各々表示し、少なくとも三
つの可能な状態で各々対応され、所定間隔で分布される
スレショルド電圧レベル中、一つを持ち、電気的に消去
及びプログラム可能なフラッシュEEPROMセルを含
む多重レベルメモリ装置のデータ書込方法において、セ
ルのスレショルド電圧レベルが分布されたスレショルド
電圧レベルに沿って順次的に変化される時、電圧レベル
に各々対応される可能な状態中、一つに対応するデータ
ビットが一つの状態と隣接する他の一つの状態に対応す
るデータビットと1ビットだけが別のことに変化される
ようにセルに書込されることを特徴とする。
According to another feature of the invention, at least two
A plurality of bit data, each of which corresponds to at least three possible states and has one of threshold voltage levels distributed at predetermined intervals, and includes an electrically erasable and programmable flash EEPROM cell. In a data writing method of a multi-level memory device, when a threshold voltage level of a cell is sequentially changed along a distributed threshold voltage level, one of the possible states corresponding to the voltage level corresponds to one. The data bits corresponding to one state and one adjacent to another state are written to the cell such that only one bit is changed to another.

【0024】このような装置及び方法により、多重ビッ
トデータを表示する少なくとも三つ以上の状態に対応さ
れるスレショルド電圧中、一つを持つセルにおいて、ス
レショルド電圧が可変され、可変される以前の状態に隣
接した状態に変化される場合、可変されたスレショルド
電圧に対応される状態のビット中、1ビットだけを変化
させることができる。
According to the apparatus and the method, the threshold voltage is changed in a cell having one of the threshold voltages corresponding to at least three or more states indicating the multi-bit data, and the state before the change is made. , Only one bit among the bits in the state corresponding to the changed threshold voltage can be changed.

【0025】以下、本発明の実施例に対して参照図面図
2ないし図4に依拠して詳細に説明する。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to FIGS.

【0026】図2は本発明による四つの可能な状態のデ
ータビット配列方法を示す。図2を参照すると、少なく
とも2ビットの多重ビットデータを表示する四つの可能
な状態に各々対応され、所定間隔で分布されるスレショ
ルド電圧レベル中、一つを持つメモリセルを具備した本
発明の新規な多重レベルメモリ装置で、外部的な要因あ
るいは信頼性テストする時、それのスレショルド電圧レ
ベルが可変されることができる。このような場合、スレ
ショルド電圧レベルに各々対応される状態中、二つの状
態の観点で見る時、一つの状態で他の状態に変化される
場合、以前状態のビットが次の状態のビットと比較して
1ビットだけが別に変化されるように状態を定義するよ
うになる。
FIG. 2 illustrates four possible states of the data bit arrangement method according to the present invention. Referring to FIG. 2, the present invention includes a memory cell having one of threshold voltage levels distributed at predetermined intervals, each of which corresponds to four possible states indicating at least two bits of multi-bit data. In a multi-level memory device, when an external factor or reliability test is performed, its threshold voltage level can be varied. In such a case, when the state is changed from one state to another state in terms of two states among the states corresponding to the threshold voltage levels, the bit of the previous state is compared with the bit of the next state. Then, the state is defined so that only one bit is changed separately.

【0027】言い換えれば、一番低いスレショルド電圧
レベルに対応される状態“11”と仮定すると、状態に
対応される一番低いスレショルド電圧が順次的に変化さ
れるにより変化されたスレショルド電圧レベルに対応さ
れる次の状態のビットを以前状態のビットと比較して1
ビットだけが別に変化されるように前記状態を割り当て
(assign)ることができる。このようなデータビット割り
当て方法の一例によると、四つの状態は、図2に図示さ
れたように、順次的に変化するスレショルド電圧レベル
により“11”、“10”、“00”、“01”の順次
に変化される。そして、状態中、一番低い電圧レベルに
対応される状態のデータビットが“10”と割り当てる
場合、四つの状態はスレショルド電圧レベルにより“1
0”、“11”、“01”、“01”あるいは“1
0”、“00”、“01”、“11”の順番に変化され
る。
In other words, assuming the state "11" corresponding to the lowest threshold voltage level, the lowest threshold voltage corresponding to the state is sequentially changed to correspond to the changed threshold voltage level. The next state bit to be compared with the previous state bit is 1
Assign the state so that only the bits are changed separately
(assign). According to an example of such a data bit allocation method, the four states are “11”, “10”, “00”, and “01” according to a sequentially changing threshold voltage level, as shown in FIG. Are sequentially changed. When the data bit of the state corresponding to the lowest voltage level among the states is assigned “10”, the four states are set to “1” according to the threshold voltage level.
0, “11”, “01”, “01” or “1”
The number is changed in the order of "0", "00", "01", "11".

【0028】従って、外部要因あるいは信頼性データに
より一つの状態(例えば、“10”)を貯蔵しているセ
ルのスレショルド電圧レベルが上昇(例えば、“00”
の状態に対応される)したり、低くなり(例えば、“1
1”の状態に対応される)それに対応される電圧レベル
に変化される場合、変化される以前のスレショルド電圧
レベルに対応される状態(例えば、“10”)のビット
は変化されたスレショルド電圧レベルに対応される状態
(例えば、“11”あるいは“00”)のビットとただ
し1ビットだけが別に変化される。これにより、ECC
を支援する多重レベルメモリ装置の救済回数を増加させ
ることができるようになった。
Therefore, the threshold voltage level of a cell storing one state (eg, “10”) increases (eg, “00”) due to an external factor or reliability data.
Or lower (eg, “1”).
When changed to the corresponding voltage level (corresponding to a state of "1"), the bits of the state (e.g., "10") corresponding to the threshold voltage level before the change are changed to the changed threshold voltage level. (For example, “11” or “00”), but only one bit is changed separately.
, The number of rescue operations of a multi-level memory device that supports the above can be increased.

【0029】再び、図2を参照すると、本発明による技
術的思想(あるいは概念)を達成するために必要な構成
要素は通常的なメモリを持つ多重レベルメモリ装置のそ
れで構成される。従って、本発明による技術的概念は単
純に回路自体構成ではなく、多重レベルセルの任意の状
態を決定するセルの情報、例えば、それのスレショルド
電圧が低い順次あるいは高い順次により2進データを割
り当てる時、引接した状態の間の2進データビットが1
ビットだけが別に動作する場合に割り当てる。本発明に
よる技術的思想を通じてディバイス設計する時、多重レ
ベルメモリ装置の感知増幅及びそれを制御する回路(例
えば、制御エンジンあるいは書込状態マーシン)を通じ
て可能な状態に対応されるプログラム時間及びプログラ
ム電圧を可変させるにより、可能なことはこの技術分野
の通常的な知識を習得した者に自明な事実である。
Referring again to FIG. 2, the components necessary to achieve the technical idea (or concept) according to the present invention are those of a multi-level memory device having a conventional memory. Therefore, the technical concept according to the present invention is not simply a circuit configuration itself, but rather information on a cell that determines an arbitrary state of a multi-level cell, for example, when allocating binary data in order of low or high threshold voltage. , The binary data bit during the contact state is 1
Assign if only the bits operate separately. When a device is designed through the technical idea according to the present invention, a program time and a program voltage corresponding to a possible state through a sense amplification of a multi-level memory device and a circuit for controlling the same (eg, a control engine or a write state machine) are determined. With the variability, what is possible is a fact that is obvious to those who have acquired a common knowledge in this technical field.

【0030】図3はXの状態を持つ多重ビット状態を概
略的に図示したことであり、参照番号10は多重ビット
状態中、任意の一つの状態を意味し、2ビット以上の2
進データで構成される。例えば、3あるいは4の状態を
持つMLCは“10”、“11”、“01”等のように
2ビットで構成され、5〜8の状態を持つMLCは“1
11”、“110”等のように3ビットで構成されるこ
とを意味する。
FIG. 3 schematically illustrates a multi-bit state having a state of X. Reference numeral 10 denotes an arbitrary one of the multi-bit states.
It consists of binary data. For example, an MLC having 3 or 4 states is composed of 2 bits such as "10", "11", "01", and the like, and an MLC having 5 to 8 states is "1".
11 ”,“ 110 ”, etc., which means three bits.

【0031】四つの状態を持つMLCの場合、図1に図
示されたように、従来技術による四つの状態は11−1
0−01−00の順番に順次的に変化されるスレショル
ド電圧レベルに各々対応されるように割り当てった。し
かし、図2に図示されたように、本発明の技術による四
つの状態は引接した状態のビットの間に1ビットだけが
別に配列される方法は全て八つの方法がある。このよう
な技術的思想を三つの状態を持つMLCに適用する場
合、表1のように配列されることが知られる。
In the case of an MLC having four states, as shown in FIG. 1, the four states according to the prior art are 11-1.
The threshold voltages are sequentially assigned in the order of 0-01-00 so as to correspond to the respective threshold voltage levels. However, as shown in FIG. 2, there are eight methods in which only one bit is separately arranged between bits in the four states according to the technique of the present invention. When such a technical concept is applied to an MLC having three states, it is known that the MLC is arranged as shown in Table 1.

【0032】[0032]

【表1】 Case1 11−10−00 Case2 11−01−00 Case3 10−11−01 Case4 10−00−01 Case5 01−11−10 Case6 01−00−10 Case7 00−01−11 Case8 00−10−11 前記表1及び図2から知られるように、セルのスレショ
ルド電圧レベルが順次的に変化するスレショルド電圧レ
ベルに沿って可変される時、セルのスレショルド電圧が
外部要因あるいは信頼性テストする時変化する場合、以
前状態のビットが変化された状態のビットと比較して1
ビットだけを変化させる本発明の技術的思想あるいは概
念が少なくとも三つの可能な状態中、一つの状態を持つ
メモリセルを含む多重レベルメモリ装置に適用されるこ
とはこの分野の通常的な知識を持つ者に自明である。ス
レショルド電圧に関連されたセル制御による多重レベル
メモリ装置に限りなく、半導体メモリ装置中、多重レベ
ルセルを持つことは本発明の技術的思想が全て適用され
ることに注意しなければならない。
Table 1 Case 1 11-10-00 Case 2 11-01-00 Case 3 10-11-01 Case 4 10-00-01 Case 5 01-11-10 Case 6 01-00-10 Case 7 00-01-11 Case 8000-100 -11 As can be seen from Table 1 and FIG. 2, when the threshold voltage level of the cell is varied along the sequentially changing threshold voltage level, the threshold voltage of the cell changes when an external factor or reliability test is performed. The bit in the previous state is 1 compared to the bit in the changed state.
It is common knowledge in the art that the concept or concept of the present invention in which only bits are changed is applied to a multi-level memory device including a memory cell having one of at least three possible states. Self-evident. It should be noted that not only the multi-level memory device based on the cell control related to the threshold voltage but also the multi-level cell in the semiconductor memory device applies the technical idea of the present invention.

【0033】図4は本発明の好ましい実施例による多重
レベルメモリ装置の構成を示すブロック図である。
FIG. 4 is a block diagram showing a configuration of a multi-level memory device according to a preferred embodiment of the present invention.

【0034】図4に図示された多重レベルメモリ装置は
少なくともn個以上(nは2より大きい定数、ここでn
=4)のスレショルド電圧レベルが低いレベルから順次
的に変化されるにより四つの状態(例えば、11−10
−01−00、あるいは00−01−10−11)が各
々対応されるように設計された多重レベルメモリ装置に
本発明の技術的思想を適用する場合の例である。図4に
図示されたメモリセルアレイ(memory cell array)10
0,ロー選択回路すなわち行選択回路(row selecting c
ircuit)110、コラム選択回路すなわち列選択回路(co
lumn selectingcircuit)120,読出及び書込制御回路
(read and write controlling circuit)130,センス
増幅回路即ち感知増幅回路(sense and amplifier circu
it)140,そして、熱ゲーティング回路(Y-gating cir
cuit)150は通常の多重レベルメモリ装置のそれらと
同一な役割を遂行することにより、当業者によく知られ
ているから、ここでこれらに対した説明は省略する。
The multi-level memory device shown in FIG. 4 has at least n (n is a constant larger than 2;
= 4), the threshold voltage level is sequentially changed from a low level to four states (for example, 11-10).
-01-00 or 00-01-10-11) is an example in which the technical idea of the present invention is applied to a multi-level memory device designed to correspond to each. The memory cell array 10 shown in FIG.
0, row selecting circuit, ie, row selecting circuit
ircuit) 110, a column selection circuit or a column selection circuit (co
(lumn selecting circuit) 120, read and write control circuit
(read and write controlling circuit) 130, a sense amplifier circuit, that is, a sense amplifier circuit.
it) 140 and thermal gating circuit (Y-gating cir
The cuit) 150 is well known to those skilled in the art by performing the same role as those of a conventional multi-level memory device, and thus a description thereof will be omitted here.

【0035】図4のデータ変換回路(data convertingc
ircuit)160は図2の第1方法による四つの状態が配
列される場合、すなわち、11−10−00−01の順
次に配列される場合、“10”に入力されるデータを
“00”に変換し、“00”に入力されるデータを“0
1”に変換するた場合である。この回路もよく知られて
いる技術であるので、図面にそれの詳細回路を記載しな
かった。これにより、外部から“10”のデータが入力
される場合、変換回路160はこれを“00”に変換さ
れるようになる。
The data conversion circuit shown in FIG.
When the four states according to the first method of FIG. 2 are arranged, that is, when the states are arranged in order of 11-10-00-01, the data input to “10” is changed to “00”. Convert the data input to “00” to “0”.
This is a case where the data is converted to "1". Since this circuit is also a well-known technique, its detailed circuit is not shown in the drawing. , The conversion circuit 160 converts this to “00”.

【0036】書込動作の間に外部から印可されるアドレ
ス信号をデコーディングするロー及びカラム選択回路1
20及び130を通じて一つのメモリセルが選択され、
書込制御回路130及び感知増幅回路140を通じて変
換されたデータを選択されたセルに書込するようにな
る。ここで、この分野でよく知られているように、選択
されたセルに書込されるデータが変換回路160を通じ
て“00”である場合、プログラム動作及び検証動作を
反復的に遂行して書込動作が遂行される。すなわち、
“00”の状態である場合、二回のプログラムループを
反復するにより成立される。そして、読出動作の間に、
書込されたデータは読出制御回路130及び感知増幅回
路140により感知増幅され、熱ゲーティング回路15
0を通じて変換回路160に伝達される。前で説明した
ように、書込動作する時、“10”のデータを“00”
に変換させたから、読出されたデータが“00”である
場合、変換回路160を通じて本来入力された状態の
“10”に変換され外部に出力される。
Row and column selection circuit 1 for decoding an externally applied address signal during a write operation
One memory cell is selected through 20 and 130,
The data converted through the write control circuit 130 and the sense amplifier circuit 140 is written to a selected cell. Here, as is well known in the art, when data to be written to a selected cell is "00" through a conversion circuit 160, a program operation and a verify operation are repeatedly performed to perform a write operation. The operation is performed. That is,
If the state is "00", it is established by repeating two program loops. Then, during the read operation,
The written data is sensed and amplified by the read control circuit 130 and the sense amplifier circuit 140, and the thermal gating circuit 15
0 is transmitted to the conversion circuit 160. As described above, when a write operation is performed, data “10” is changed to “00”.
When the read data is “00”, it is converted to “10” as originally input through the conversion circuit 160 and output to the outside.

【0037】このような構成を持つ多重レベルメモリ装
置も本発明の技術的思想が適用されることが知られる。
従って、外部的な要因あるいは信頼性テストによりセル
のスレショルド電圧レベルが上昇あるいは低くなっても
フェイルされる(failed)ビット数、即ち変化す
るビット数は1ビットであるので、ECCを支援する多
重レベルメモリ装置のエラー救済回数を増加させること
ができるようになる。
It is known that the technical concept of the present invention is applied to a multilevel memory device having such a configuration.
Accordingly, even if the threshold voltage level of the cell rises or falls due to an external factor or a reliability test, the number of failed bits, that is, the number of changing bits is one, so that the multi-level supporting ECC is required. It is possible to increase the number of error relief operations of the memory device.

【0038】[0038]

【発明の効果】前記したように、多重ビットデータを表
示する少なくとも三つ以上の状態に対応されるスレショ
ルド電圧中、一つを持つセルにおいてスレショルド電圧
が可変され、可変される以前状態に引接した状態に変化
される場合、可変されたスレショルド電圧に対応される
状態のビット中、1ビットだけを変化させることによ
り、多重レベルメモリ装置の全体的なエラービットに対
した救済回数を増加させることができる。
As described above, among the threshold voltages corresponding to at least three or more states indicating the multi-bit data, the threshold voltage is changed in the cell having one, and the state before contact is changed. When the state is changed, it is possible to increase the number of repairs for the entire error bit of the multi-level memory device by changing only one bit among the bits corresponding to the changed threshold voltage. it can.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】従来多重レベルメモリ装置によるセルのスレシ
ョルド電圧に各々対応される状態を示す図面。
FIG. 1 is a diagram illustrating states corresponding to cell threshold voltages in a conventional multi-level memory device.

【図2】本発明の一つの実施例による四つの状態に対し
たデータビット配列方法を示す図面。
FIG. 2 is a diagram illustrating a data bit arrangement method for four states according to one embodiment of the present invention.

【図3】本発明による複数の状態を持つ多重レベルセル
のデータビットデータを示す図面。
FIG. 3 is a diagram illustrating data bit data of a multi-level cell having a plurality of states according to the present invention;

【図4】本発明によるデータ変換回路を持つ多重レベル
メモリ装置の構成を示すブロック図。
FIG. 4 is a block diagram showing a configuration of a multi-level memory device having a data conversion circuit according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

100…メモリセルアレイ 110…ロー選択回路 120…カラム選択回路 130…読出/書込制御回路 140…感知増幅回路 150…熱ゲーティング回路 160…変換回路 REFERENCE SIGNS LIST 100 memory cell array 110 row selection circuit 120 column selection circuit 130 read / write control circuit 140 sense amplifier circuit 150 thermal gating circuit 160 conversion circuit

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ウォン,ダエ−シック 大韓民国,ソウル,セオチョ−ク,ジャム オン−ドング,ハンシン 16チャ アパー トメント 120−910 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Wong, Daesic, Korea, Seoul, Theochok, Jam on Dong, Hanshin 16-cha apartment 120-910

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 少なくとも2ビットの多重ビットデータ
により表示可能な少なくとも三つの状態に各々対応さ
れ、所定の間隔に分布されるスレショルド電圧レベル
中、一つを持つメモリセルを含み、 前記メモリセルのスレショルド電圧レベルが前記分布さ
れたスレショルド電圧レベルに沿って順次的に変化され
る時、前記可能な状態に各々対応されるデータビット
中、一つのビットだけを変化させる多重レベルメモリ装
置。
1. A memory cell having one of threshold voltage levels corresponding to at least three states that can be displayed by at least two bits of multi-bit data and distributed at predetermined intervals, and A multi-level memory device, wherein when a threshold voltage level is sequentially changed along the distributed threshold voltage level, only one bit among data bits corresponding to each of the possible states is changed.
【請求項2】 前記メモリセルは電気的に消去及びプロ
グラム可能なフラッシュEEPROMセルを含む請求項
1に記載の多重レベルメモリ装置。
2. The multi-level memory device of claim 1, wherein said memory cells include electrically erasable and programmable flash EEPROM cells.
【請求項3】 少なくとも2ビットの多重ビットデータ
により表示可能な少なくとも三つの状態に各々対応さ
れ、所定の間隔で分布されるスレショルド電圧レベル中
一つを持ち、電気的に消去及びプログラム可能なフラッ
シュEEPROMセルのアレイ及び、 前記メモリセル各々のスレショルド電圧レベルが分布さ
れたスレショルド電圧レベルに沿って順次的に変化され
る時、書込動作の間に前記可能な状態中、一つを示す電
圧レベルに選択されたセルに書込み、前記可能な状態に
各々対応されるデータビット中、1ビットだけが変化さ
れるように可能な状態がスレショルド電圧レベルに各々
対応され、読出動作の間に選択されたセルに前記貯蔵さ
れた状態に対応される電圧レベルを感知する手段を含む
多重レベルメモリ装置。
3. An electrically erasable and programmable flash having one of threshold voltage levels distributed at predetermined intervals, each flash corresponding to at least three states that can be represented by at least two bits of multi-bit data. An array of EEPROM cells and a voltage level that indicates one of the possible states during a write operation when a threshold voltage level of each of the memory cells is sequentially changed along a distributed threshold voltage level. The possible states are written to the selected cells, and among the data bits respectively corresponding to the possible states, only the possible states are changed such that only one bit is changed corresponding to the threshold voltage level and selected during the read operation. A multi-level memory device including means for sensing a voltage level corresponding to the stored state in a cell.
【請求項4】 少なくとも2ビットの多重ビットデータ
により表示可能な少なくとも三つの状態に各々対応さ
れ、各々が所定間隔で分布され、順次的に変化されるス
レショルド電圧レベル中、一つを持つメモリセルのアレ
イと、 外部から印可されるnビットの情報を所定ビットで区分
した多重ビットデータを前記電圧レベルに各々対応させ
るが、引接した二つの電圧レベルに各々対応される前記
可能な状態と関連して二つの状態中、一つの状態で他の
一つの状態に変化される時、前記変化された状態のビッ
トと以前状態のビットの間に1ビットだけが変化される
ように多重ビットデータを対応させる手段及び、 選択されたセルに対応された多重ビットデータの状態に
該当する電圧レベルを書込する手段を含む多重レベルメ
モリ装置。
4. A memory cell having at least three states respectively corresponding to at least three states that can be represented by at least two bits of multi-bit data, each of which is distributed at a predetermined interval, and has one of sequentially changed threshold voltage levels. And n-bit information applied from the outside is divided into predetermined bits by multi-bit data corresponding to the respective voltage levels, but associated with the possible states respectively corresponding to the two contacted voltage levels. When two states are changed from one state to another state, the multi-bit data is corresponded so that only one bit is changed between the bit of the changed state and the bit of the previous state. And a means for writing a voltage level corresponding to the state of the multi-bit data corresponding to the selected cell.
【請求項5】 前記メモリセルは電気的に消去及びプロ
グラム可能なフラッシュEEPROMセルを含む請求項
4に記載の多重レベルメモリ装置。
5. The multi-level memory device according to claim 4, wherein said memory cells include electrically erasable and programmable flash EEPROM cells.
【請求項6】 前記nビットの情報は前記半導体メモリ
装置のデータ入出力構造と一致する請求項4に記載の多
重レベルメモリ装置。
6. The multi-level memory device according to claim 4, wherein the n-bit information matches a data input / output structure of the semiconductor memory device.
【請求項7】 少なくとも2ビットの多重ビットデータ
を各々表示し、少なくとも三つの可能な状態で各々対応
され、所定間隔で分布されるスレショルド電圧レベル
中、一つを持ち、電気的に消去及びプログラム可能なフ
ラッシュEEPROMセルを含む多重レベルメモリ装置
のデータ書込方法において、 前記セルのスレショルド電圧レベルが前記分布されたス
レショルド電圧レベルに沿って順次的に変化される時、
前記電圧レベルに各々対応される前記可能な状態中、一
つに対応するデータビットが前記一つの状態と引接する
他の一つの状態に対応するデータビットと1ビットだけ
が別の状態に変化されるようにセルに書込まれることを
特徴とする多重レベルメモリ装置のデータ書込方法。
7. Each of at least two bits of multi-bit data, each of which has at least three possible states, has one of threshold voltage levels distributed at predetermined intervals, and is electrically erased and programmed. A method of writing data in a multi-level memory device including possible flash EEPROM cells, wherein when a threshold voltage level of the cell is sequentially changed along the distributed threshold voltage level,
In the possible states respectively corresponding to the voltage levels, only one data bit corresponding to one state and one bit corresponding to another state are changed to another state. Writing data to a cell in a multi-level memory device.
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