JPH1166887A - Semiconductor storage device and readout method therefor and storage medium stored with the method - Google Patents

Semiconductor storage device and readout method therefor and storage medium stored with the method

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JPH1166887A
JPH1166887A JP23027397A JP23027397A JPH1166887A JP H1166887 A JPH1166887 A JP H1166887A JP 23027397 A JP23027397 A JP 23027397A JP 23027397 A JP23027397 A JP 23027397A JP H1166887 A JPH1166887 A JP H1166887A
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Tatsuo Nakajima
辰雄 中島
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To make the redundant bit added to the information bit very short and to efficiently and exactly perform error correction by making error correc tion on the assumption that error occurs in response to the first transition in the case where it is judged that the number of bits corresponding to the condition that charge is accumulated in the charge accumulation layer or the condition that charge is extracted is odd. SOLUTION: An EEPROM has a memory means composed of plural memory cells arranged in a matrix form and a readout means which selects two specified memory cells from the memory means, detects the bits stored in each memory cell to form a data string and corrects any error to output it. When a memory cell of EEPROM is deteriorated, compared with the probability that the condition that charge is accumulated in the floating gate 5 transits to the condition that the charge is extracted, the probability opposite to it is overwhelmingly small. The error of the readout data string is corrected by making use of the property peculiar to this non-volatile semiconductor memory device.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、情報ビットに当該
情報ビットと同一の冗長ビットが付加されてなるデータ
列が記憶される半導体記憶装置及び読み出し方法並びに
その読み出し方法が記憶された記憶媒体に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device for storing a data string in which information bits are added with the same redundant bits as the information bits, a read method, and a storage medium storing the read method. .

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、不揮発性半導体記憶装置を含む
半導体記憶装置においては、メモリセルアレイに記憶デ
ータを書き込む際に、その誤り訂正データを冗長ビット
として付帯させる。そして、記憶データをメモリセルア
レイから読み出す際に、その内容の誤りの有無を検査
し、誤りが判明したときにはその誤りを訂正し、読み出
しデータとして出力する。通常この誤り訂正では、nビ
ットの記憶データにmビットの誤り訂正データを付加し
て、tビットの誤りを訂正可能とするためには、以下の
(1)式の関係を満たす必要がある。
2. Description of the Related Art Generally, in a semiconductor memory device including a nonvolatile semiconductor memory device, when storing data is written in a memory cell array, the error correction data is added as redundant bits. Then, when the stored data is read from the memory cell array, the presence or absence of an error in the content is checked, and when the error is found, the error is corrected and output as read data. Normally, in this error correction, it is necessary to satisfy the following equation (1) in order to add m-bit error correction data to n-bit storage data to enable correction of a t-bit error.

【0003】[0003]

【数1】 (Equation 1)

【0004】この(1)式によれば、例えば、最も頻繁
に発生する1ビットの誤り訂正を行うには、t=1とし
て、以下の(2)式を満足するmビットの誤り訂正デー
タの付加が必要である。
According to the equation (1), for example, in order to perform the most frequently occurring 1-bit error correction, assuming that t = 1, the m-bit error correction data satisfying the following equation (2) is set as follows: Addition is required.

【0005】[0005]

【数2】 (Equation 2)

【0006】この(2)式によれば、1ビットの記憶デ
ータに対して1ビットの誤り訂正を行うには、2ビット
以上の誤り訂正データが必要であり、2ビットの記憶デ
ータに対して1ビットの誤り訂正を行うには、3ビット
以上の誤り訂正データが必要である。
According to the equation (2), performing one-bit error correction on one-bit storage data requires two or more bits of error correction data. To perform one-bit error correction, three or more bits of error correction data are required.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】上述のように、記憶デ
ータに対して1ビットの誤り訂正を行うには、記憶デー
タよりも長い誤り訂正データが必要であり、上述の手法
は誤り訂正の方法としては極めて効率が劣るといわざる
を得ない。
As described above, in order to perform one-bit error correction on storage data, error correction data longer than the storage data is required. It must be said that the efficiency is extremely poor.

【0008】なお、メモリセルに記憶情報とともにパリ
ティビットを記憶させ、メモリの大容量化及びデータの
信頼性の向上を図る不揮発性半導体記憶装置が、特開平
6−282992号公報に開示されているが、付加する
ビットがパリティビットであるため、誤りが生じたか否
かを効率良く判定することは可能であるものの、この不
揮発性半導体記憶装置では誤り訂正を行うことはできな
い。
Japanese Patent Laid-Open Publication No. Hei 6-282992 discloses a nonvolatile semiconductor memory device in which a parity bit is stored in a memory cell together with storage information to increase the memory capacity and improve data reliability. However, since the added bit is a parity bit, it is possible to efficiently determine whether or not an error has occurred, but this nonvolatile semiconductor memory device cannot perform error correction.

【0009】そこで、本発明の目的は、情報ビットに付
加する冗長ビットを極めて短いものとし、効率良く正確
に誤り訂正を行う半導体記憶装置及び読み出し方法並び
に読み出し方法が記憶された記憶媒体を提供することで
ある。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a semiconductor memory device, a reading method, and a storage medium in which a reading method is stored, in which redundant bits added to information bits are made extremely short and error correction is performed efficiently and accurately. That is.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明の半導体記憶装置
は、電荷蓄積層及びゲート電極を有し、前記ゲート電極
に所定電圧を印加することにより前記電荷蓄積層に電荷
を蓄積し又は引き抜いて情報ビットの書き込みを行い、
前記電荷蓄積層における電荷の蓄積状態を判定して前記
情報ビットの読み出しを行う複数の半導体メモリを備え
た半導体記憶装置であって、前記情報ビットに前記情報
ビットと同一の冗長ビットが付加されてなるデータ列に
ついて、前記データ列を構成する各ビットがそれぞれ前
記各半導体メモリに対応して書き込み及び読み出しが行
われるものであり、前記データ列を読み出す際に、前記
電荷蓄積層に電荷が蓄積された状態から引き抜かれた状
態へ変化する第1の遷移が発生する確率に比して電荷が
引き抜かれた状態から蓄積された状態へ変化する第2の
遷移が発生する確率が無視し得るほど小さいことを利用
し、前記データ列において前記電荷蓄積層に電荷が蓄積
された状態又は電荷が引き抜かれた状態に対応するビッ
ト数が奇数個であると判定した場合に、前記第1の遷移
に対応して誤りが生じたものと見做して誤り訂正を行
う。
A semiconductor memory device according to the present invention has a charge storage layer and a gate electrode. By applying a predetermined voltage to the gate electrode, a charge is stored in or extracted from the charge storage layer. Write information bits,
A semiconductor memory device comprising a plurality of semiconductor memories for reading out the information bits by judging a charge accumulation state in the charge accumulation layer, wherein the same redundant bits as the information bits are added to the information bits. With respect to a data string, each bit constituting the data string is written and read in correspondence with each of the semiconductor memories, and when reading the data string, charges are accumulated in the charge storage layer. The probability that a second transition that changes from a state where electric charges are extracted to a state where electric charges are extracted is negligibly small compared to the probability that a first transition that changes from a state where the electric charge is extracted to a state where the electric charge is extracted will occur. In the data sequence, the number of bits corresponding to the state in which the charge is stored in the charge storage layer or the state in which the charge is extracted is an odd number. And if it is determined, performs error correction and regarded as an error occurs in response to the first transition.

【0011】本発明の半導体記憶装置の一態様例は、前
記データ列のうち、2ビット以上について、前記電荷蓄
積層に電荷が蓄積された状態から引き抜かれた状態へ共
に変化する第3の遷移が発生する確率も、前記第2の遷
移と同様に前記第1の遷移の発生確率に比して無視し得
るほど小さいことを利用し、前記データ列において前記
電荷蓄積層に電荷が蓄積された状態又は電荷が引き抜か
れた状態に対応するビット数が奇数個であると判定した
場合に、前記第1の遷移に対応して1ビットのみに誤り
が生じたものと見做して誤り訂正を行う。
In one embodiment of the semiconductor memory device according to the present invention, a third transition in which at least two bits of the data sequence change from a state in which charges are stored in the charge storage layer to a state in which charges are withdrawn is included. Is also negligible compared to the probability of occurrence of the first transition as in the case of the second transition, and charges are stored in the charge storage layer in the data sequence. If it is determined that the number of bits corresponding to the state or the state from which the charge has been extracted is an odd number, it is considered that an error has occurred in only one bit corresponding to the first transition, and error correction is performed. Do.

【0012】本発明の半導体記憶装置の一態様例におい
ては、前記半導体メモリが、前記電荷蓄積層として浮遊
ゲートが、前記ゲート電極として制御ゲートが設けられ
てなるものである。
In one embodiment of the semiconductor memory device of the present invention, the semiconductor memory includes a floating gate as the charge storage layer and a control gate as the gate electrode.

【0013】本発明の半導体記憶装置は、電荷蓄積層及
びゲート電極を備えた複数のメモリセルが行列状に配さ
れ、所定値の情報ビット及び前記情報ビットと同一の冗
長ビットが付加されてなるデータ列を構成する各ビット
がそれぞれ前記各メモリセルに記憶されるようになされ
た記憶手段と、前記記憶手段のうちから所定の前記メモ
リセルを選択し、前記各メモリセルに記憶された前記ビ
ットを検出して前記データ列を構成し、前記電荷蓄積層
に電荷が蓄積された状態から引き抜かれた状態へ変化す
る第1の遷移が発生する確率に比して電荷が引き抜かれ
た状態から蓄積された状態へ変化する第2の遷移が発生
する確率が無視し得るほど小さいことを利用し、前記デ
ータ列において前記各メモリセルの前記電荷蓄積層に電
荷が蓄積された状態又は電荷が引き抜かれた状態に対応
するビット数が奇数個であると判定した場合に、前記第
1の遷移に対応して誤りが生じたものと見做して誤り訂
正を行って出力する読み出し手段とを備えている。
In the semiconductor memory device of the present invention, a plurality of memory cells each having a charge storage layer and a gate electrode are arranged in a matrix, and an information bit having a predetermined value and the same redundant bit as the information bit are added. A storage unit in which each bit constituting a data string is stored in each of the memory cells, and a predetermined memory cell is selected from the storage unit, and the bit stored in each of the memory cells is selected. To form the data string, and store the charge from the state in which the charge is withdrawn compared to the probability that the first transition that changes from the state in which the charge is stored in the charge storage layer to the state in which the charge is withdrawn occurs. Utilizing the fact that the probability of the occurrence of the second transition to the changed state being negligible is negligible, and the charge is stored in the charge storage layer of each of the memory cells in the data string. Alternatively, when it is determined that the number of bits corresponding to the state in which the electric charge has been extracted is an odd number, it is considered that an error has occurred in response to the first transition, and error correction is performed and output is performed. Means.

【0014】本発明の半導体記憶装置の一態様例は、前
記読み出し手段は、前記データ列のうち、2ビット以上
について、前記電荷蓄積層に電荷が蓄積された状態から
引き抜かれた状態へ共に変化する第3の遷移が発生する
確率も、前記第2の遷移と同様に前記第1の遷移の発生
確率に比して無視し得るほど小さいことを利用し、前記
データ列において前記電荷蓄積層に電荷が蓄積された状
態又は電荷が引き抜かれた状態に対応するビット数が奇
数個であると判定した場合に、前記第1の遷移に対応し
て1ビットのみに誤りが生じたものと見做して誤り訂正
を行う。
In one embodiment of the semiconductor memory device according to the present invention, the read means changes at least two bits of the data sequence from a state where charges are stored in the charge storage layer to a state where the charges are extracted. The probability that the third transition occurs is also negligibly small compared to the probability of occurrence of the first transition similarly to the second transition. When it is determined that the number of bits corresponding to the state where the charge is accumulated or the state where the charge is removed is an odd number, it is considered that only one bit has an error corresponding to the first transition. Error correction.

【0015】本発明の半導体記憶装置においては、前記
メモリセルが、前記電荷蓄積層として浮遊ゲートが、前
記ゲート電極として制御ゲートが設けられてなる半導体
素子を有する。
In the semiconductor memory device according to the present invention, the memory cell has a semiconductor element in which a floating gate is provided as the charge storage layer and a control gate is provided as the gate electrode.

【0016】本発明の半導体記憶装置の読み出し方法
は、電荷蓄積層及びゲート電極を有し、前記ゲート電極
に所定電圧を印加することにより前記電荷蓄積層に電荷
を蓄積し又は引き抜いて情報ビットの書き込みを行い、
前記電荷蓄積層における電荷の蓄積状態を判定して前記
情報ビットの読み出しを行う複数の半導体メモリを備え
た半導体記憶装置の読み出し方法であって、前記各半導
体メモリは、前記情報ビットに前記情報ビットと同一の
冗長ビットが付加されてなるデータ列について、前記デ
ータ列を構成する各ビットのうち所定の1ビットが記憶
されるものであり、記憶された前記データ列を読み出す
際に、前記電荷蓄積層に電荷が蓄積された状態から引き
抜かれた状態へ変化する第1の遷移が発生する確率に比
して電荷が引き抜かれた状態から蓄積された状態へ変化
する第2の遷移が発生する確率が無視し得るほど小さい
ことを利用し、前記データ列において前記電荷蓄積層に
電荷が蓄積された状態又は電荷が引き抜かれた状態に対
応するビット数が奇数個であると判定した場合に、前記
第1の遷移に対応して誤りが生じたものと見做して誤り
訂正を行う。
According to a read method of a semiconductor memory device of the present invention, a charge storage layer and a gate electrode are provided, and by applying a predetermined voltage to the gate electrode, charges are stored in or extracted from the charge storage layer to store information bits. Write,
A method for reading a semiconductor memory device comprising a plurality of semiconductor memories for reading out the information bits by determining an accumulation state of charges in the charge accumulation layer, wherein each of the semiconductor memories includes the information bits in the information bits. In the data string to which the same redundant bits are added, a predetermined one bit of each bit constituting the data string is stored. When the stored data string is read, the charge accumulation Probability that a second transition that changes from a state where charge is extracted to a state where charge is stored is generated compared to a probability that a first transition that changes from a state where charge is stored in the layer to a state where the charge is extracted occurs. Utilizing the fact that is negligibly small, the number of bits corresponding to the state in which the charge is stored in the charge storage layer or the state in which the charge is extracted in the data string is If it is determined that the few, performs error correction and regarded as an error occurs in response to the first transition.

【0017】本発明の半導体記憶装置の読み出し方法の
一態様例は、前記データ列のうち、2ビット以上につい
て、前記電荷蓄積層に電荷が蓄積された状態から引き抜
かれた状態へ共に変化する第3の遷移が発生する確率
も、前記第2の遷移と同様に前記第1の遷移の発生確率
に比して無視し得るほど小さいことを利用し、前記デー
タ列において前記電荷蓄積層に電荷が蓄積された状態又
は電荷が引き抜かれた状態に対応するビット数が奇数個
であると判定した場合に、前記第1の遷移に対応して1
ビットのみに誤りが生じたものと見做して誤り訂正を行
う。
In one embodiment of the reading method of the semiconductor memory device according to the present invention, the data string is changed from a state where charges are stored in the charge storage layer to a state where the charges are extracted for at least two bits of the data string. The probability that the transition 3 occurs is also negligibly small compared to the probability of the first transition as in the case of the second transition, and the charge is stored in the charge storage layer in the data sequence. If it is determined that the number of bits corresponding to the accumulated state or the state from which the electric charge has been extracted is an odd number, one bit corresponds to the first transition.
Error correction is performed on the assumption that an error has occurred only in the bits.

【0018】本発明の半導体記憶装置の読み出し方法の
一態様例においては、前記半導体メモリが、前記電荷蓄
積層として浮遊ゲートが、前記ゲート電極として制御ゲ
ートが設けられてなるものである。
In one embodiment of the reading method of the semiconductor memory device according to the present invention, the semiconductor memory comprises a floating gate as the charge storage layer and a control gate as the gate electrode.

【0019】本発明の半導体記憶装置の読み出し方法
は、電荷蓄積層及びゲート電極を有し、前記ゲート電極
に所定電圧を印加することにより前記電荷蓄積層に電荷
を蓄積し又は引き抜いて情報ビットの書き込みを行い、
前記電荷蓄積層における電荷の蓄積状態を判定して前記
情報ビットの読み出しを行う複数の半導体メモリを備え
た半導体記憶装置の読み出し方法であって、前記半導体
メモリの前記電荷蓄積層に電荷が蓄積された状態を”
1”、電荷が引き抜かれた状態を”0”とし、前記半導
体メモリは、前記情報ビットに前記情報ビットと同一の
冗長ビットが付加されてなるデータ列を構成する各ビッ
トのうち、所定の1ビットが記憶されるものであり、前
記各半導体メモリから前記各ビットをそれぞれ読み出
し、前記データ列を構成する第1のステップと、前記デ
ータ列中の”0”又は”1”の個数を計数する第2のス
テップと、計数された前記個数の偶奇を判定する第3の
ステップと、前記第3のステップにおいて偶数と判定さ
れた場合には、前記データ列を訂正することなく出力す
る第4のステップと、前記第3のステップにおいて奇数
と判定された場合には、前記データ列において前記情報
ビットと前記冗長ビットとで異なるビットを判定する第
5のステップと、前記第5のステップにおいて判定され
た前記ビットのうち、”0”である方を”1”に訂正し
て出力する第6のステップとを備えている。
According to a method of reading a semiconductor memory device of the present invention, a charge storage layer and a gate electrode are provided. By applying a predetermined voltage to the gate electrode, charges are stored in or extracted from the charge storage layer, and information bits are extracted. Write,
A method for reading a semiconductor memory device including a plurality of semiconductor memories for reading the information bits by determining a charge storage state of the charge storage layer, wherein the charge is stored in the charge storage layer of the semiconductor memory. State
1 "; the state in which the charge has been extracted is" 0 "; and the semiconductor memory has a predetermined 1 of a predetermined number of bits constituting a data string in which the same redundant bits as the information bits are added to the information bits. Each bit is stored, each bit is read from each of the semiconductor memories, and the first step of forming the data string and the number of “0” or “1” in the data string are counted. A second step, a third step of determining the evenness of the counted number, and a fourth step of outputting the data string without correction when the third step determines that the number is even. And a fifth step of determining, in the third step, a different bit between the information bit and the redundant bit in the data string if it is determined to be an odd number; Among the bits determined in the fifth step, and a sixth step of outputting the corrected to "0" is toward the "1".

【0020】本発明の半導体記憶装置の読み出し方法
は、電荷蓄積層及びゲート電極を有し、前記ゲート電極
に所定電圧を印加することにより前記電荷蓄積層に電荷
を蓄積し又は引き抜いて情報ビットの書き込みを行い、
前記電荷蓄積層における電荷の蓄積状態を判定して前記
情報ビットの読み出しを行う複数の半導体メモリを備え
た半導体記憶装置の読み出し方法であって、前記電荷蓄
積層に電荷が蓄積された状態を”1”、電荷が引き抜か
れた状態を”0”とし、前記半導体メモリは、前記情報
ビットに前記情報ビットと同一の冗長ビットが付加され
てなるデータ列を構成する各ビットのうち、所定の1ビ
ットが記憶されるものであり、前記各半導体メモリから
前記各ビットをそれぞれ読み出し、前記データ列を構成
する第1のステップと、前記データ列中の”0”又は”
1”の個数を計数する第2のステップと、計数された前
記個数の偶奇を判定する第3のステップと、前記第3の
ステップにおいて偶数と判定された場合に、前記データ
列を訂正することなく出力する第4のステップと、前記
第3のステップにおいて奇数と判定された場合に、前記
データ列を”11”に訂正して出力する第5のステップ
とを備えている。
A read method of a semiconductor memory device according to the present invention has a charge storage layer and a gate electrode, and stores or extracts a charge in the charge storage layer by applying a predetermined voltage to the gate electrode to store information bits. Write,
A method for reading a semiconductor memory device including a plurality of semiconductor memories for reading the information bits by determining a charge storage state in the charge storage layer, wherein a state in which charges are stored in the charge storage layer is defined as " 1 "; the state in which the charge has been extracted is" 0 "; and the semiconductor memory has a predetermined 1 of a predetermined number of bits constituting a data string in which the same redundant bits as the information bits are added to the information bits. A first step of reading each bit from each of the semiconductor memories to form the data string; and "0" or "0" in the data string.
A second step of counting the number of 1 ", a third step of determining whether the counted number is even or odd, and correcting the data string if the third step determines that the number is even. And a fifth step of correcting and outputting the data string to "11" when it is determined that the data string is odd in the third step.

【0021】本発明の半導体記憶装置の読み出し方法
は、電荷蓄積層及びゲート電極を有し、前記ゲート電極
に所定電圧を印加することにより前記電荷蓄積層に電荷
を蓄積し又は引き抜いて情報ビットの書き込みを行い、
前記電荷蓄積層における電荷の蓄積状態を判定して前記
情報ビットの読み出しを行う複数の半導体メモリを備え
た半導体記憶装置の読み出し方法であって、前記電荷蓄
積層に電荷が蓄積された状態を”1”、電荷が引き抜か
れた状態を”0”とし、前記半導体メモリは、2ビット
の前記情報ビットに前記情報ビットと同一の2ビットの
冗長ビットが付加されてなる4ビットのデータ列を構成
する各ビットのうち、所定の1ビットが記憶されるもの
であり、前記データ列を読む出す第1のステップと、前
記データ列中の”1”の個数を計数する第2のステップ
と、計数された前記個数の偶奇を判定する第3のステッ
プと、前記第3のステップにおいて偶数と判定された場
合に、前記データ列を訂正することなく出力する第4の
ステップと、前記第3のステップにおいて奇数と判定さ
れた場合に、それが1個か3個かを判定する第5のステ
ップと、前記第5のステップにおいて3個であると判定
された場合に、前記データ列を”1111”に訂正して
出力する第6のステップと、前記第5のステップにおい
て1個であると判定された場合に、その位置が前記デー
タ列中で最上位ビットから見て偶数位置か奇数位置かを
判定する第7のステップと、前記第7のステップにおい
て偶数位置と判定された場合に、前記データ列を”10
10”に訂正して出力する第8のステップと、前記第7
のステップにおいて、奇数位置と判定された場合に、前
記データ列を”0101”に訂正して出力する第9のス
テップとを備えている。
According to a read method of a semiconductor memory device of the present invention, a charge storage layer and a gate electrode are provided, and by applying a predetermined voltage to the gate electrode, charges are stored in or extracted from the charge storage layer to store information bits. Write,
A method for reading a semiconductor memory device including a plurality of semiconductor memories for reading the information bits by determining a charge storage state in the charge storage layer, wherein a state in which charges are stored in the charge storage layer is defined as " 1 ", the state where the charge is extracted is" 0 ", and the semiconductor memory forms a 4-bit data string in which the same two redundant bits as the information bits are added to the two information bits. A predetermined one bit of the bits to be stored, a first step of reading out the data string, a second step of counting the number of "1" in the data string, A third step of judging the number of odds and odds, and a fourth step of outputting the data string without correction when it is judged that the number is even in the third step; A fifth step of determining whether the number is one or three when it is determined in step 3 that the number is an odd number, and the data string is determined when the number is three in the fifth step. A sixth step of correcting the data to "1111" and outputting the data, and if it is determined that the number is one in the fifth step, the position is either an even position or an odd number when viewed from the most significant bit in the data string. A seventh step of determining whether the data string is a position, and when the seventh step determines that the data string is an even number position, the data string is set to "10".
An eighth step of correcting the output to 10 "and outputting
And a ninth step of correcting the data string to "0101" and outputting the corrected data string when it is determined that the data string is an odd-numbered position.

【0022】本発明の半導体記憶装置の読み出し方法の
一態様例においては、前記半導体メモリが、前記電荷蓄
積層として浮遊ゲートが、前記ゲート電極として制御ゲ
ートが設けられてなるものである。
In one embodiment of the reading method of the semiconductor memory device according to the present invention, the semiconductor memory comprises a floating gate as the charge storage layer and a control gate as the gate electrode.

【0023】本発明の半導体記憶装置の読み出し方法が
記憶された記憶媒体においては、上述の読み出し方法を
構成する第1〜第6のステップがコンピュータから読み
出し可能に格納されている。
In the storage medium storing the read method of the semiconductor storage device of the present invention, the first to sixth steps constituting the above read method are stored so as to be readable by a computer.

【0024】本発明の半導体記憶装置の読み出し方法が
記憶された記憶媒体においては、上述の読み出し方法を
構成する第1〜第5のステップがコンピュータから読み
出し可能に格納されている。
In the storage medium storing the read method of the semiconductor memory device of the present invention, the first to fifth steps constituting the above read method are stored so as to be readable by a computer.

【0025】本発明の半導体記憶装置の読み出し方法が
記憶された記憶媒体においては、上述の読み出し方法を
構成する第1〜第9のステップがコンピュータから読み
出し可能に格納されている。
In the storage medium storing the read method of the semiconductor memory device of the present invention, the first to ninth steps constituting the above read method are stored so as to be readable by a computer.

【0026】[0026]

【作用】通常、DRAM等の揮発性半導体記憶装置にお
いては、各半導体メモリの電荷蓄積層に電荷が蓄積され
た状態から引き抜かれた状態へ変化する第1の遷移と、
電荷が引き抜かれた状態から蓄積された状態へ変化する
第2の遷移とはほぼ等確率で生じる。一方、EEPRO
M等の不揮発性半導体記憶装置においては、第1の遷移
に比して第2の遷移が生じる確率は無視し得るほど小さ
い。更に、前記データ列のうち、2ビット以上につい
て、前記電荷蓄積層に電荷が蓄積された状態から引き抜
かれた状態へ共に変化する第3の遷移が発生する確率
も、前記第2の遷移と同様に前記第1の遷移の発生確率
に比して無視し得るほど小さい本発明は、この性質を積
極的に利用するものである。
Normally, in a volatile semiconductor memory device such as a DRAM, a first transition from a state where electric charges are accumulated in a charge accumulation layer of each semiconductor memory to a state where the electric charges are drawn out,
The second transition that changes from the state in which the charge is extracted to the state in which the charge is stored occurs with almost equal probability. On the other hand, EEPRO
In a nonvolatile semiconductor memory device such as M, the probability that the second transition occurs will be negligibly small compared to the first transition. Furthermore, the probability of the occurrence of the third transition in which the state is changed from the state in which the charge is stored in the charge storage layer to the state in which the charge is extracted is the same as that of the second transition for two or more bits in the data string. In the present invention, the probability of occurrence of the first transition is so small that it can be ignored.

【0027】具体的には、情報ビットにこの情報ビット
と同一の冗長ビットが付加されてなり、情報ビットの2
倍のビット数を有するデータ列を用いて書き込み及び読
み出しを行う。そして、このデータ列を読み出す際に、
当該データ列に生じる誤りは第1の遷移に対応して生じ
たものと見做し、好ましくは第3の遷移も考慮して、こ
の誤りを訂正する。即ち、第2の遷移及び第3の遷移の
可能性を排除して、第1の遷移の可能性のみ考慮する
と、データ列を構成する各ビットのうち、各半導体メモ
リの電荷蓄積層に電荷が蓄積された状態(例えば”
1”)又は電荷が引き抜かれた状態(例えば”0”)に
対応するビット数(つまり、”1”又は”0”の数)が
奇数個である場合には、当該データ列に誤りが生じたと
判定され、第1の遷移に該当するビットを訂正(上記の
例では”0”から”1”に訂正)して出力する。
More specifically, the same redundant bits as those of the information bits are added to the information bits.
Writing and reading are performed using a data string having twice the number of bits. Then, when reading this data string,
An error occurring in the data sequence is regarded as having occurred in response to the first transition, and is preferably corrected in consideration of the third transition. That is, when the possibility of the second transition and the third transition is excluded and only the possibility of the first transition is considered, the electric charge is stored in the charge storage layer of each semiconductor memory among the bits constituting the data string. The accumulated state (for example, "
1 ”) or an odd number of bits (that is, the number of“ 1 ”or“ 0 ”) corresponding to the state where the charge is extracted (for example,“ 0 ”), an error occurs in the data string. Is determined, the bit corresponding to the first transition is corrected (in the above example, corrected from "0" to "1") and output.

【0028】このように、本発明においては、情報ビッ
トに当該情報ビットと同一の冗長ビットを付加してデー
タ列を作成し、このデータ列を用いて半導体記憶装置に
書き込み及び読み出しを行い、第1の遷移のみを考慮し
て読み出し時に簡易且つ正確に誤り訂正を行うことが可
能となる。
As described above, in the present invention, a data string is created by adding the same redundant bits as the information bits to the information bits, and writing and reading are performed on the semiconductor memory device using the data strings. It is possible to easily and accurately perform error correction at the time of reading in consideration of only the transition of 1.

【0029】[0029]

【発明の実施の形態】以下、本発明のいくつかの好適な
実施形態について図面を参照しながら詳細に説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Some preferred embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.

【0030】(第1の実施形態)先ず、第1の実施形態
について説明する。この第1の実施形態においては、各
メモリセルに2値(=1ビット)の情報を記憶すること
が可能な不揮発性半導体記憶装置であるEEPROMを
用いて、2値(1ビット)の情報ビットに誤り訂正用の
2値(1ビット)の冗長ビットを付加したデータ列(2
ビット)の書き込み及び読み出しを行う場合について例
示する。図1は、第1の実施形態のEEPROMを構成
する各メモリセルの主要構成を示す概略断面図であり、
図2は遷移確率に基づいて誤りが発生する様子を示す模
式図、図3は読み出し時において誤り訂正を施すフロー
チャート図である。
(First Embodiment) First, a first embodiment will be described. In the first embodiment, a binary (1 bit) information bit is stored in an EEPROM which is a nonvolatile semiconductor memory device capable of storing binary (= 1 bit) information in each memory cell. A data string (2 bits) in which binary (1 bit) redundant bits for error correction are added to
The case of performing writing and reading of (bit) will be exemplified. FIG. 1 is a schematic sectional view showing a main configuration of each memory cell constituting the EEPROM of the first embodiment,
FIG. 2 is a schematic diagram showing how an error occurs based on the transition probability, and FIG. 3 is a flowchart for performing error correction at the time of reading.

【0031】第1の実施形態のEEPROMは、複数の
メモリセルが行列状に配されてなる記憶手段と、記憶手
段のうちから所定の2つのメモリセルを選択し、各メモ
リセルに記憶されたビットを検出してデータ列を構成し
て、後述するように誤りがあれば訂正を行って出力する
読み出し手段(記憶手段の全体構成と同様に図示を省略
する。)とを有して構成されている。
In the EEPROM of the first embodiment, a memory means in which a plurality of memory cells are arranged in a matrix, and two predetermined memory cells are selected from the memory means and stored in each memory cell. It has a reading means (not shown in the drawing similar to the overall structure of the storage means) for detecting a bit to form a data string, correcting and outputting an error as described later. ing.

【0032】記憶手段を構成する各メモリセルは、図1
に示すように、p型のシリコン半導体基板1上におい
て、フィールド酸化膜等の素子分離構造により画定され
た素子活性領域2の表面領域にリン(P)や砒素(A
s)等のn型不純物がイオン注入されて形成された一対
の不純物拡散層であるソース3及びドレイン4と、ソー
ス3とドレイン4との間のチャネル領域C上にトンネル
酸化膜7を介してパターン形成された電子捕獲層である
浮遊ゲート電極5と、浮遊ゲート電極5上に誘電体膜8
を介してパターン形成された制御ゲート電極6とを有し
て構成されている。
Each memory cell constituting the storage means is shown in FIG.
As shown in FIG. 1, on a p-type silicon semiconductor substrate 1, phosphorus (P) or arsenic (A) is formed on a surface region of an element active region 2 defined by an element isolation structure such as a field oxide film.
a source 3 and a drain 4 which are a pair of impurity diffusion layers formed by ion implantation of n-type impurities such as s) and a channel region C between the source 3 and the drain 4 via a tunnel oxide film 7 A floating gate electrode 5 serving as a patterned electron capture layer; and a dielectric film 8 on the floating gate electrode 5.
And a control gate electrode 6 which is patterned through the control gate electrode 6.

【0033】そして、選択されたメモリセルに書き込み
手段からソース3、ドレイン4及び制御ゲート電極6に
所定電圧が印加されて、それに応じて浮遊ゲート電極5
に電荷が蓄積され、或いは浮遊ゲート電極5から電荷が
引き抜かれて記憶状態が変化する。
Then, a predetermined voltage is applied to the selected memory cell from the write means to the source 3, drain 4, and control gate electrode 6, and the floating gate electrode 5
Or the charge is extracted from the floating gate electrode 5 to change the storage state.

【0034】各メモリセルにおいては、浮遊ゲート電極
5に電荷が蓄積された状態が”1”、浮遊ゲート電極5
から電荷が引き抜かれた状態が”0”と規定されてい
る。このEEPROMには、2つのメモリセルM1,M
2を1単位として、2値(”00”,”11”)のデー
タ列の書き込み及び4値(”00”,”01”,”1
0”,”11”)のデータ列の読み出しが可能である。
即ち、1単位のうち、一方のメモリセルM1に記憶デー
タ”0”,”1”を書き込んでこれを上位ビットと規定
するとともに、他方のメモリセルM2に記憶データと同
一の冗長ビットを誤り訂正用として書き込んでこれを下
位ビットとして規定し、1単位を構成する2つのメモリ
セルM1,M2からデータ列(”00”,”11”)の
うちの1つが構成される。一方、読み出し時において
は、後述するようにデータ列を構成するビットに誤りが
発生した場合を考慮して、データ列(”00”,”0
1”,”10”,”11”)の読み出しが可能であり、
誤りがあると判定された場合には後述するように訂正を
施して出力する。
In each memory cell, the state where charge is stored in the floating gate electrode 5 is “1”, and the floating gate electrode 5
Is defined as "0". This EEPROM has two memory cells M1, M
2 as one unit, writing a binary (“00”, “11”) data string and quaternary (“00”, “01”, “1”)
0 ”,“ 11 ”) can be read.
That is, in one unit, the storage data "0" and "1" are written to one memory cell M1 and defined as upper bits, and the same redundant bit as the storage data is corrected in the other memory cell M2. The data is defined as lower bits, and one of the data strings ("00", "11") is constituted by the two memory cells M1 and M2 forming one unit. On the other hand, at the time of reading, the data string ("00", "0") is considered in consideration of the case where an error occurs in the bits forming the data string as described later.
1 "," 10 "," 11 ") is possible,
If it is determined that there is an error, it is corrected and output as described later.

【0035】ここで、EEPROMの使用を重ねてメモ
リセルに劣化が生じた場合等において、メモリセルにデ
ータ化けが生じることがある。浮遊ゲート電極5に電荷
が蓄積された状態から電荷が引き抜かれた状態へ遷移す
る確率に比して、浮遊ゲート電極5に電荷が引き抜かれ
た状態から電荷が蓄積された状態へ遷移する確率は圧倒
的に小さい。即ち、状態”1”から状態”0”への遷移
確率に比して状態”1”から状態”0”への遷移確率は
殆ど無視し得る程度の値である。更に、2つのメモリセ
ルM1,M2に記憶された各ビットが共にデータ化けを
起こす確率、即ち、データ列の上位ビット及び下位ビッ
トが共に状態”1”から状態”0”へ遷移する確率もま
た、上位ビット或いは下位ビットのどちらか1方が状
態”1”から状態”0”へ遷移する確率に比して殆ど無
視し得る程度に小さい。第1の実施形態においては、E
EPROMを代表とする不揮発性半導体記憶装置に特有
なこの性質を利用して、読み出されたデータ列の誤り訂
正を行う。
Here, when the memory cell is deteriorated due to repeated use of the EEPROM, data may be garbled in the memory cell. Compared to the probability of transition from the state where charges are accumulated in the floating gate electrode 5 to the state where charges are extracted, the probability of transition from the state where charges are extracted to the floating gate electrode 5 to the state where charges are accumulated is higher. Overwhelmingly small. That is, the transition probability from the state “1” to the state “0” is almost negligible compared to the transition probability from the state “1” to the state “0”. Furthermore, the probability that each bit stored in the two memory cells M1 and M2 causes data corruption, that is, the probability that both the upper bit and the lower bit of the data string transition from the state “1” to the state “0” also increases. , The probability that either the upper bit or the lower bit transitions from state “1” to state “0” is small enough to be almost ignored. In the first embodiment, E
By utilizing this property peculiar to a nonvolatile semiconductor memory device such as an EPROM, error correction of a read data string is performed.

【0036】具体的には、図2に示すように、書き込み
時のデータ列”11”が読み出し時にデータ列”01”
や”10”にデータ化けする確率P1,P2に比して、
書き込み時のデータ列”00”が読み出し時にデータ
列”01”や”10”にデータ化けする確率P3,P
4、書き込み時のデータ列”11”が読み出し時にデー
タ列”00”にデータ化けする確率P5は極めて小さ
く、無視することができる。
Specifically, as shown in FIG. 2, the data string "11" at the time of writing is replaced with the data string "01" at the time of reading.
And the probability P1, P2 that the data is garbled into "10",
Probability P3, P that data string "00" at the time of writing is garbled into data string "01" or "10" at the time of reading
4. The probability P5 that the data string "11" at the time of writing is garbled into the data string "00" at the time of reading is extremely small and can be ignored.

【0037】従って、読み出されたデータ列が”01”
又は”10”であれば、このデータ列には誤りがあるこ
とになる。このことは、1単位(2つ)のメモリセルに
書き込まれた情報ビット(上位ビット)と冗長ビット
(下位ビット)とが同一であることを考慮すると、デー
タ列中の”0”又は”1”の個数が奇数であることと等
価となる。このときの正しいデータ列は、前記遷移確率
の性質から、”11”であることが分かる。
Therefore, the read data string is "01".
Or, if "10", this data string has an error. This means that, considering that the information bits (upper bits) and the redundant bits (lower bits) written in one unit (two) of memory cells are the same, “0” or “1” in the data string is considered. "Is an odd number. The correct data string at this time is "11" from the nature of the transition probability.

【0038】上述の性質を利用したEEPROMからの
データ列の誤り訂正を含む読み出し方法について、図3
を用いて説明する。
FIG. 3 shows a reading method including error correction of a data string from an EEPROM utilizing the above-described characteristics.
This will be described with reference to FIG.

【0039】先ず、各メモリセルにそれぞれ記憶された
ビットを読み出し、2ビットのデータ列Aを構成する
(ステップS1)。
First, the bits stored in each memory cell are read out to form a 2-bit data string A (step S1).

【0040】次に、読み出されたデータ列A中の”0”
又は”1”の個数C1を計数する(ステップS2)。
Next, "0" in the read data string A
Alternatively, the number C1 of "1" is counted (step S2).

【0041】次に、ステッ4S2において計数された個
数C1の偶奇を判定する(ステップS3)。
Next, it is determined whether the number C1 counted in step 4S2 is even or odd (step S3).

【0042】次に、ステップS3において個数C1が偶
数であると判定された場合、即ちデータ列Aが”00”
又は”11”であるときには、データ列Aに誤りはない
ので、このデータ列Aをそのまま出力する(ステップS
4)。
Next, when it is determined in step S3 that the number C1 is an even number, that is, the data string A is "00".
Alternatively, if the value is "11", there is no error in the data string A, and this data string A is output as it is (step S
4).

【0043】一方、ステップS3において個数C1が奇
数であると判定された場合、即ちデータ列Aが”01”
又は”10”であるときには、データ列Aを”11”に
訂正して出力する(ステップS5)。
On the other hand, when it is determined in step S3 that the number C1 is an odd number, that is, the data string A is "01".
Or, when it is "10", the data string A is corrected to "11" and output (step S5).

【0044】上述のように、第1の実施形態のEEPR
OMによれば、従来では1ビットの情報ビットに少なく
とも2ビット以上の冗長データを付加しなければ誤り訂
正を行うことができなかったのに対して、1ビットの情
報ビットに1ビットの冗長データを付加することで、容
易且つ確実に誤り訂正を行うことが可能となる。
As described above, the EEPR of the first embodiment
According to the OM, error correction cannot be performed unless at least two bits or more of redundant data are added to one information bit in the prior art, whereas one bit of redundant data is added to one information bit. Is added, error correction can be performed easily and reliably.

【0045】(第2の実施形態)次いで、本発明の第2
の実施形態について説明する。この第2の実施形態にお
いては、各メモリセルに2値(=1ビット)の情報を記
憶することが可能な不揮発性半導体記憶装置であるEE
PROMを用いて、4値(2ビット)の情報ビットに誤
り訂正用の4値(2ビット)の冗長ビットを付加したデ
ータ列(4ビット)の書き込み及び読み出しを行う場合
について例示する。図4は、遷移確率に基づいて誤りが
発生する様子を示す模式図であり、図5は読み出し時に
おいて誤り訂正を施すフローチャート図である。なお、
第2の実施形態のEEPROMの各メモリセルの概略構
成は、第1の実施形態の図1のものと同様である。
(Second Embodiment) Next, the second embodiment of the present invention
An embodiment will be described. In the second embodiment, an EE which is a nonvolatile semiconductor memory device capable of storing binary (= 1 bit) information in each memory cell
An example will be described in which a PROM is used to write and read a data string (4 bits) in which quaternary (2 bits) information bits are added with quaternary (2 bits) redundant bits for error correction. FIG. 4 is a schematic diagram showing how an error occurs based on the transition probability, and FIG. 5 is a flowchart for performing error correction at the time of reading. In addition,
The schematic configuration of each memory cell of the EEPROM of the second embodiment is the same as that of FIG. 1 of the first embodiment.

【0046】各メモリセルにおいては、浮遊ゲート電極
5に電荷が蓄積された状態が”1”、浮遊ゲート電極5
から電荷が引き抜かれた状態が”0”と規定されてい
る。このEEPROMには、4値(”0000”,”0
101”,”1010”,”1111”)のデータ列の
書き込み及び16値(”0000”,”0001”,”
0010”,”0011”,”0100”,”010
1”,”0110”,”0111”,”1000”,”
1001”,”1010”,”1011”,”110
0”,”1101”,”1110”,”1111”)の
データ列の読み出しが可能である。
In each memory cell, the state where charge is stored in the floating gate electrode 5 is “1”, and the floating gate electrode 5
Is defined as "0". This EEPROM has four values (“0000”, “0”).
101 "," 1010 "," 1111 ") and write 16-value (" 0000 "," 0001 ","
0010 "," 0011 "," 0100 "," 010
1 "," 0110 "," 0111 "," 1000 ","
1001 "," 1010 "," 1011 "," 110 "
0 "," 1101 "," 1110 "," 1111 ").

【0047】即ち、1単位を構成する4つのメモリセル
M1〜M4において、2つのメモリセルM1,M2のう
ち、一方のメモリセルM1に書き込む記憶データ”
0”,”1”を最上位ビットと規定し、他方のメモリセ
ルM2に書き込む記憶データ”0”,”1”を次の2位
の上位ビットと規定する。この場合、これら2つのメモ
リセルM1,M2に記憶された最上位ビット及び2位の
上位ビットにより、4値の情報ビット(”00”,”0
1”,”10”,”11”)のうちの1つが構成され
る。
That is, in the four memory cells M1 to M4 forming one unit, the storage data to be written to one memory cell M1 of the two memory cells M1 and M2 "
0 "and" 1 "are defined as the most significant bits, and the storage data" 0 "and" 1 "to be written into the other memory cell M2 are defined as the next two most significant bits. The quaternary information bits (“00”, “0”) are determined by the most significant bit and the second most significant bit stored in M1 and M2.
1 "," 10 "," 11 ").

【0048】更に、残りの2つのメモリセルM3,M4
のうち、一方のメモリセルM3にメモリセルM1の記憶
データと同一のビットを、他方のメモリセルM4にメモ
リセルM2の記憶データと同一のビットを書き込み、メ
モリセルM3に記憶されるビットを3位の上位ビット
(2位の下位ビット)、メモリセルM3に記憶されるビ
ットを最下位ビットと規定する。この場合、これら2つ
のメモリセルM3,M4に記憶された3位の上位ビット
及び最下位ビットにより、上述の情報ビットと同一の冗
長ビットが構成される。
Further, the remaining two memory cells M3, M4
Of these, the same bit as the storage data of the memory cell M1 is written into one memory cell M3, the same bit as the storage data of the memory cell M2 is written into the other memory cell M4, and the bit stored in the memory cell M3 is set to 3 The higher order bit (second lower order bit) and the bit stored in the memory cell M3 are defined as the least significant bit. In this case, the same high-order bit and the least-significant bit stored in the two memory cells M3 and M4 form the same redundant bit as the above-mentioned information bit.

【0049】そして、メモリセルM1〜M4に書き込ま
れた最上位ビット〜最下位ビットにより、4値(”00
00”,”0101”,”1010”,”1111”)
のデータ列が構成されることになる。
The most significant bit to the least significant bit written to the memory cells M1 to M4 are quaternary (“00”).
00 "," 0101 "," 1010 "," 1111 ")
Is formed.

【0050】一方、読み出し時においては、後述するよ
うにデータ列を構成するビットに誤りが発生した場合を
考慮して、16値(”0000”,”0001”,”0
010”,”0011”,”0100”,”010
1”,”0110”,”0111”,”1000”,”
1001”,”1010”,”1011”,”110
0”,”1101”,”1110”,”1111”)の
データ列をメモリセルM1〜M4から読み出した各ビッ
トから構成することが可能であり、誤りがあると判定さ
れた場合には後述するように訂正を施して出力する。
On the other hand, at the time of reading, 16 values ("0000", "0001", "0") are considered in consideration of the case where an error occurs in the bits constituting the data string as described later.
010 "," 0011 "," 0100 "," 010
1 "," 0110 "," 0111 "," 1000 ","
1001 "," 1010 "," 1011 "," 110 "
0 "," 1101 "," 1110 "," 1111 ") can be composed of each bit read from the memory cells M1 to M4. If it is determined that there is an error, it will be described later. And then output.

【0051】この第2の実施形態においても、第1の実
施形態の場合と同様に、各メモリセルの浮遊ゲート電極
5に電荷が蓄積された状態”1”から電荷が引き抜かれ
た状態”0”へ遷移する確率に比して、浮遊ゲート電極
5に電荷が引き抜かれた状態”0”から電荷が蓄積され
た状態”1”へ遷移する確率は圧倒的に小さく、更に、
4つのメモリセルM1〜M4中で2つのメモリセルに記
憶された各ビットが共にデータ化けを起こす確率、即
ち、データ列中の2ビット以上が共に状態”1”から状
態”0”へ遷移する確率もまた小さいことを利用して、
読み出されたデータ列の誤り訂正を行う。
In the second embodiment, as in the first embodiment, the state "1" in which electric charges are extracted from the state "1" in which electric charges are stored in the floating gate electrode 5 of each memory cell is "0". The probability of transition from the state “0” in which charges are extracted to the floating gate electrode 5 to the state “1” in which charges are accumulated is significantly smaller than the probability of transition to “1”.
Probability that each of the bits stored in the two memory cells in the four memory cells M1 to M4 causes data corruption, that is, two or more bits in the data string transition from state “1” to state “0”. Utilizing that the probability is also small,
Error correction of the read data string is performed.

【0052】具体的な誤り訂正法を図4に示す。ここ
で、書き込み時のデータ列”1111”が読み出し時に
データ列”0111”や”1011”,”110
1”,”1110”にデータ化けする確率P11,P1
2,P13,P14に比して、書き込み時のデータ列”
1111”が”0101”や”1010”等にデータ化
けする確率P15,P16は極めて小さく、無視するこ
とができる。
FIG. 4 shows a specific error correction method. Here, the data sequence "1111" at the time of writing is replaced with the data sequence "0111", "1011", "110" at the time of reading.
Probability P11, P1 of garbled data at 1 "," 1110 "
2, P13, P14, the data string at the time of writing "
The probabilities P15 and P16 of "1111" being garbled into "0101" or "1010" are extremely small and can be ignored.

【0053】同様に、書き込み時のデータ列”010
1”である場合には、”0”から”1”にデータ化けす
る確率を無視すれば、読み出し時にデータ列”000
1”や”0100”にデータ化けする確率P17,P1
8のみを考慮すればよい。
Similarly, the data string "010" at the time of writing
In the case of “1”, the data string “000” can be read at the time of reading if the probability of data conversion from “0” to “1” is ignored.
Probability P17, P1 that data is garbled to "1" or "0100"
Only eight need be considered.

【0054】また、書き込み時のデータ列”1010”
である場合には、”0”から”1”にデータ化けする確
率を無視すれば、読み出し時にデータ列”0010”
や”1000”にデータ化けする確率P19,P20の
みを考慮すればよい。
The data string "1010" at the time of writing
In the case of, if the probability of garbled data from “0” to “1” is ignored, the data string “0010” at the time of reading is obtained.
And only the probabilities P19 and P20 of garbled data to "1000" need to be considered.

【0055】また、書き込み時のデータ列”0000”
である場合には、”0”から”1”にデータ化けする確
率を無視すれば、誤りがなく読み出し時にも”000
0”となると見做せる。
Also, the data string "0000" at the time of writing
In this case, if the probability that data is garbled from “0” to “1” is ignored, there is no error and “000” is obtained at the time of reading.
0 "can be considered.

【0056】従って、読み出されたデータ列が”011
1”、”1011”、”1101”の何れかであれば、
このデータ列には誤りがあることになる。このことは、
メモリセルM1,M2に書き込まれた情報ビット(上位
の2ビット)とメモリセルM3,M4に書き込まれた冗
長ビット(下位の2ビット)とが同一であることを考慮
すると、データ列中の”1”の個数が3個であることと
等価となる。このときの正しいデータ列は、前記遷移確
率の性質から、”1111”であることが分かる。
Therefore, the read data string is "011".
1 ”,“ 1011 ”, or“ 1101 ”
This data string will have an error. This means
Considering that the information bits (upper two bits) written to the memory cells M1 and M2 and the redundant bits (lower two bits) written to the memory cells M3 and M4 are the same, " This is equivalent to three 1 ". At this time, the correct data string is "1111" from the nature of the transition probability.

【0057】同様に、読み出されたデータ列が”000
1”、”0100”の何れかであれば、このデータ列に
は誤りがあることになる。このときの正しいデータ列
は、前記遷移確率の性質から、”0101”であること
が分かる。また、読み出されたデータ列が”001
0”、”1000”の何れかであれば、このデータ列に
は誤りがあることになり、このときの正しいデータ列
は、前記遷移確率の性質から、”1010”であること
が分かる。
Similarly, the read data string is "000".
If the data string is one of 1 "and" 0100 ", there is an error in this data string, and the correct data string at this time is" 0101 "from the nature of the transition probability. And the read data string is “001”.
If it is either "0" or "1000", this data string has an error, and the correct data string at this time is "1010" from the nature of the transition probability.

【0058】このことから、データ列中の”1”の個数
が1個であれば、当該データ列には誤りがあることにな
る。正しいデータ列が”0101”又は”1010”の
何れであるかを判別するには、データ列中の”1”の位
置をLSBから検索し、その位置が偶数位置であれば”
1010”に、奇数位置であれば”0101”にデータ
列を訂正すればよい。
From this, if the number of "1" in the data string is one, the data string has an error. In order to determine whether the correct data string is “0101” or “1010”, the position of “1” in the data string is searched from the LSB.
The data string may be corrected to “1010” or “0101” if it is an odd number position.

【0059】上述の性質を利用したEEPROMからの
データ列の誤り訂正を含む読み出し方法について、図5
を用いて説明する。
FIG. 5 shows a method of reading data from an EEPROM using the above-mentioned characteristics, including error correction of a data string.
This will be described with reference to FIG.

【0060】先ず、各メモリセルM1〜M4にそれぞれ
記憶された各ビットを読み出し、4ビットのデータ列B
を構成する(ステップS11)。
First, each bit stored in each of the memory cells M1 to M4 is read, and a 4-bit data string B is read.
(Step S11).

【0061】次に、読み出されたデータ列B中の”1”
の個数C2を計数する(ステップS12)。
Next, "1" in the read data string B
Is counted (step S12).

【0062】次に、ステップS12において計数された
個数C2の偶奇を判定する(ステップS13)。
Next, it is determined whether the number C2 counted in step S12 is even or odd (step S13).

【0063】次に、ステップS13において個数C2が
偶数であると判定された場合、即ちデータ列Bが”00
00”,”0101”,”1010”,”1111”で
あるときには、データ列Bに誤りはないので、このデー
タ列Aをそのまま出力する(ステップS14)。
Next, when it is determined in step S13 that the number C2 is an even number, that is, when the data string B is "00"
If it is 00 "," 0101 "," 1010 ", or" 1111 ", there is no error in the data string B, so this data string A is output as it is (step S14).

【0064】一方、ステップS13において個数C2が
奇数であると判定された場合、個数C2が1個或いは3
個の何れかを判定する(ステップS15)。
On the other hand, when it is determined in step S13 that the number C2 is an odd number, the number C2 is one or three.
One of the numbers is determined (step S15).

【0065】次に、ステップS15において個数C2が
3個であると判定された場合、即ちデータ列Bが”01
11”,”1011,”,”1101”,”111
0,”であるときには、データ列Bを”1111”に訂
正して出力する(ステップS16)。
Next, when it is determined in step S15 that the number C2 is three, that is, the data string B is "01".
11 "," 1011, "," 1101 "," 111
If it is "0,", the data string B is corrected to "1111" and output (step S16).

【0066】一方、ステップS15において個数C2が
1個であると判定された場合、当該データ列Bにおけ
る”1”の位置C3を検索する(ステップS17)。
On the other hand, if it is determined in step S15 that the number C2 is one, the position C3 of "1" in the data string B is searched (step S17).

【0067】次に、ステップS17において検索された
位置C3が最下位ビットから数えて偶数位置か奇数位置
かを判定する(ステップS18)。
Next, it is determined whether the position C3 searched in step S17 is an even position or an odd position counting from the least significant bit (step S18).

【0068】次に、ステップS18において位置C3が
偶数位置であると判定された場合、即ちデータ列Bが”
0010”又は”1000,”であるときには、データ
列Bを”1010”に訂正して出力する(ステップS1
9)。
Next, in step S18, when it is determined that the position C3 is an even position, that is, when the data string B is "
If it is "0010" or "1000," the data string B is corrected to "1010" and output (step S1).
9).

【0069】一方、ステップS18において位置C3が
奇数位置であると判定された場合、即ちデータ列Bが”
0001”又は”0100,”であるときには、データ
列Bを”0101”に訂正して出力する(ステップS2
0)。
On the other hand, if it is determined in step S18 that the position C3 is an odd position, that is, if the data string B is "
If it is "0001" or "0100,", the data string B is corrected to "0101" and output (step S2).
0).

【0070】上述のように、第2の実施形態のEEPR
OMによれば、従来では2ビットの情報ビットに少なく
とも3ビット以上の冗長データを付加しなければ誤り訂
正を行うことができなかったのに対して、2ビットの情
報ビットに2ビットの冗長データを付加することで、容
易且つ確実に誤り訂正を行うことが可能となる。
As described above, the EEPR of the second embodiment
According to OM, error correction cannot be performed unless at least 3 bits or more of redundant data are added to 2 bits of information bits, whereas 2 bits of redundant data are added to 2 bits of information bits. Is added, error correction can be performed easily and reliably.

【0071】なお、第2の実施形態においては、2ビッ
トの情報ビットに当該情報ビットと同一の2ビットの冗
長ビットを付加してデータ列を作成したが、2ビットの
情報ビットに当該情報ビットのビット位置を逆にした2
ビットの冗長ビットを付加してデータ列を作成し、書き
込み及び読み出しを行うようにしてもよい。この場合、
EEPROMからのデータ列の誤り訂正を含む読み出し
時には、ステップS19とステップS20の順序が入れ
替わる。
In the second embodiment, the data string is created by adding the same two redundant bits as the information bits to the two information bits, but the information bits are replaced with the two information bits. 2 with bit position reversed
A data string may be created by adding redundant bits, and writing and reading may be performed. in this case,
In reading from the EEPROM including error correction of the data string, the order of step S19 and step S20 is switched.

【0072】また、前述の第1及び第2の実施形態にお
いて図3及び図5を用いて説明した書き込み方法及び読
み出し方法の機能を実現するように、各種のデバイスを
動作させるためのプログラムコード自体及びそのプログ
ラムコードをコンピュータに供給するための手段、例え
ばかかるプログラムコードを格納した記憶媒体は本発明
の範疇に属する。かかるプログラムコードを記憶する記
憶媒体としては、例えばフロッピーディスク、ハードデ
ィスク、光ディスク、光磁気ディスク、CD−ROM、
磁気テープ、不揮発性のメモリカード、ROM等を用い
ることができる。
The program code itself for operating various devices so as to realize the functions of the writing method and the reading method described with reference to FIGS. 3 and 5 in the first and second embodiments. Means for supplying the program code to a computer, for example, a storage medium storing the program code belong to the scope of the present invention. As a storage medium for storing such a program code, for example, a floppy disk, hard disk, optical disk, magneto-optical disk, CD-ROM,
A magnetic tape, a nonvolatile memory card, a ROM, or the like can be used.

【0073】また、コンピュータが供給されたプログラ
ムコードを実行することにより、第1及び第2の実施形
態の機能が実現されるだけでなく、そのプログラムコー
ドがコンピュータにおいて稼働しているOS(オペレー
ティングシステム)或いは他のアプリケーションソフト
等の共同して第1及び第2の実施形態の機能が実現され
る場合にもかかるプログラムコードは本発明に含まれ
る。
When the computer executes the supplied program code, not only the functions of the first and second embodiments are realized, but also the OS (operating system) in which the program code runs on the computer. Also, the present invention includes such a program code in a case where the functions of the first and second embodiments are realized in cooperation with other application software or the like.

【0074】更に、供給されたプログラムコードがコン
ピュータの機能拡張ボードやコンピュータに接続された
機能拡張ユニットに備わるメモリに格納された後、その
プログラムコードの指示に基づいてその機能拡張ボード
や機能拡張ユニットに備わるCPU等が実際の処理の一
部または全部を行い、その処理によって第1及び第2の
実施形態の機能が実現されるシステムも本発明に含まれ
る。
Further, after the supplied program code is stored in the memory provided in the function expansion board of the computer or the function expansion unit connected to the computer, the function expansion board or the function expansion unit is specified based on the instruction of the program code. The present invention also includes a system in which a CPU or the like provided in the system performs part or all of the actual processing, and the processing realizes the functions of the first and second embodiments.

【0075】[0075]

【発明の効果】本発明によれば、情報ビットに付加する
冗長ビットを極めて短いものとし、効率良く正確に誤り
訂正を行うことができる。具体的には、情報ビットに当
該情報ビットと同一の誤り訂正用の冗長ビットを付加す
ることで、容易且つ確実に誤り訂正を行うことが可能と
なる。
According to the present invention, redundant bits added to information bits can be made extremely short, and error correction can be performed efficiently and accurately. Specifically, by adding the same error-correcting redundant bits as the information bits to the information bits, error correction can be performed easily and reliably.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施形態に係るEEPROMを
構成する1つのメモリセルの主要構成を示す概略断面図
である。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view illustrating a main configuration of one memory cell included in an EEPROM according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第1の実施形態において、遷移確率に
基づいて誤りが発生する様子を示す模式図である。
FIG. 2 is a schematic diagram showing a state in which an error occurs based on a transition probability in the first embodiment of the present invention.

【図3】本発明の第1の実施形態において、読み出し時
において誤り訂正を施すフローチャート図である。
FIG. 3 is a flowchart for performing error correction at the time of reading in the first embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第2の実施形態において、遷移確率に
基づいて誤りが発生する様子を示す模式図である。
FIG. 4 is a schematic diagram showing a state in which an error occurs based on a transition probability in a second embodiment of the present invention.

【図5】本発明の第2の実施形態において、読み出し時
において誤り訂正を施すフローチャート図である。
FIG. 5 is a flowchart for performing error correction at the time of reading in the second embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 シリコン半導体基板 2 素子形成領域 3 ソース 4 ドレイン 5 浮遊ゲート電極 6 制御ゲート電極 7 トンネル酸化膜 8 誘電体膜 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Silicon semiconductor substrate 2 Element formation area 3 Source 4 Drain 5 Floating gate electrode 6 Control gate electrode 7 Tunnel oxide film 8 Dielectric film

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI H01L 29/788 29/792 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI H01L 29/788 29/792

Claims (16)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 電荷蓄積層及びゲート電極を有し、前記
ゲート電極に所定電圧を印加することにより前記電荷蓄
積層に電荷を蓄積し又は引き抜いて情報ビットの書き込
みを行い、前記電荷蓄積層における電荷の蓄積状態を判
定して前記情報ビットの読み出しを行う複数の半導体メ
モリを備えた半導体記憶装置において、 前記情報ビットに前記情報ビットと同一の冗長ビットが
付加されてなるデータ列について、前記データ列を構成
する各ビットがそれぞれ前記各半導体メモリに対応して
書き込み及び読み出しが行われるものであり、 前記データ列を読み出す際に、前記電荷蓄積層に電荷が
蓄積された状態から引き抜かれた状態へ変化する第1の
遷移が発生する確率に比して電荷が引き抜かれた状態か
ら蓄積された状態へ変化する第2の遷移が発生する確率
が無視し得るほど小さいことを利用し、前記データ列に
おいて前記電荷蓄積層に電荷が蓄積された状態又は電荷
が引き抜かれた状態に対応するビット数が奇数個である
と判定した場合に、前記第1の遷移に対応して誤りが生
じたものと見做して誤り訂正を行うことを特徴とする半
導体記憶装置。
A charge storage layer and a gate electrode, wherein a predetermined voltage is applied to the gate electrode to store or extract a charge in the charge storage layer to write an information bit; In a semiconductor memory device having a plurality of semiconductor memories for reading out the information bits by judging a charge accumulation state, a data string in which the same redundant bits as the information bits are added to the information bits, Each bit forming a column is written and read corresponding to each of the semiconductor memories. When reading the data sequence, a state where charges are extracted from a state where charges are stored in the charge storage layer. The second transition that changes from the state in which the charge is extracted to the state in which the charge is stored is smaller than the probability that the first transition that changes to Utilizing that the probability of generation is negligibly small, and it is determined that the number of bits corresponding to the state where charges are stored in the charge storage layer or the state where charges are extracted in the data string is an odd number A semiconductor memory device that performs error correction on the assumption that an error has occurred in response to the first transition.
【請求項2】 前記データ列のうち、2ビット以上につ
いて、前記電荷蓄積層に電荷が蓄積された状態から引き
抜かれた状態へ共に変化する第3の遷移が発生する確率
も、前記第2の遷移と同様に前記第1の遷移の発生確率
に比して無視し得るほど小さいことを利用し、前記デー
タ列において前記電荷蓄積層に電荷が蓄積された状態又
は電荷が引き抜かれた状態に対応するビット数が奇数個
であると判定した場合に、前記第1の遷移に対応して1
ビットのみに誤りが生じたものと見做して誤り訂正を行
うことを特徴とする請求項1に記載の半導体記憶装置。
2. The probability that a third transition, in which at least two bits of the data sequence change from a state in which charges are stored in the charge storage layer to a state in which the charges are drawn out, is also generated in the second sequence, Utilizing the fact that it is negligibly small compared to the probability of occurrence of the first transition as in the case of the transition, it corresponds to the state where charges are stored in the charge storage layer or the state where charges are extracted in the data sequence. When it is determined that the number of bits to be changed is an odd number, one bit corresponds to the first transition.
2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein error correction is performed on the assumption that an error has occurred only in the bit.
【請求項3】 前記半導体メモリが、前記電荷蓄積層と
して浮遊ゲートが、前記ゲート電極として制御ゲートが
設けられてなるものであることを特徴とする請求項1又
は2に記載の半導体記憶装置。
3. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein said semiconductor memory is provided with a floating gate as said charge storage layer and a control gate as said gate electrode.
【請求項4】 電荷蓄積層及びゲート電極を備えた複数
のメモリセルが行列状に配され、所定値の情報ビット及
び前記情報ビットと同一の冗長ビットが付加されてなる
データ列を構成する各ビットがそれぞれ前記各メモリセ
ルに記憶されるようになされた記憶手段と、 前記記憶手段のうちから所定の前記メモリセルを選択
し、前記各メモリセルに記憶された前記ビットを検出し
て前記データ列を構成し、前記電荷蓄積層に電荷が蓄積
された状態から引き抜かれた状態へ変化する第1の遷移
が発生する確率に比して電荷が引き抜かれた状態から蓄
積された状態へ変化する第2の遷移が発生する確率が無
視し得るほど小さいことを利用し、前記データ列におい
て前記各メモリセルの前記電荷蓄積層に電荷が蓄積され
た状態又は電荷が引き抜かれた状態に対応するビット数
が奇数個であると判定した場合に、前記第1の遷移に対
応して誤りが生じたものと見做して誤り訂正を行って出
力する読み出し手段とを備えたことを特徴とする半導体
記憶装置。
4. A plurality of memory cells each having a charge storage layer and a gate electrode are arranged in rows and columns, each of which forms a data string to which an information bit having a predetermined value and the same redundant bit as the information bit are added. A storage unit in which bits are respectively stored in the respective memory cells, a predetermined memory cell is selected from the storage units, the bit stored in the respective memory cells is detected, and the data is detected. A row is formed, and the state is changed from the state where the charges are extracted to the state where the charges are stored compared to the probability that the first transition that changes from the state where the charges are stored in the charge storage layer to the extracted state occurs. Utilizing the fact that the probability that the second transition will occur is negligibly small, the state where charges are stored in the charge storage layer of each memory cell or the charges are extracted in the data string Reading means for performing error correction and outputting when it is determined that an error has occurred in response to the first transition when it is determined that the number of bits corresponding to the state is an odd number A semiconductor memory device characterized by the above-mentioned.
【請求項5】 前記読み出し手段は、前記データ列のう
ち、2ビット以上について、前記電荷蓄積層に電荷が蓄
積された状態から引き抜かれた状態へ共に変化する第3
の遷移が発生する確率も、前記第2の遷移と同様に前記
第1の遷移の発生確率に比して無視し得るほど小さいこ
とを利用し、前記データ列において前記電荷蓄積層に電
荷が蓄積された状態又は電荷が引き抜かれた状態に対応
するビット数が奇数個であると判定した場合に、前記第
1の遷移に対応して1ビットのみに誤りが生じたものと
見做して誤り訂正を行うことを特徴とする請求項4に記
載の半導体記憶装置。
5. The reading means according to claim 3, wherein at least two bits of the data string change from a state where charges are stored in the charge storage layer to a state where the charges are extracted.
The probability of occurrence of the transition is also negligibly small compared to the probability of occurrence of the first transition as in the case of the second transition, and charges are stored in the charge storage layer in the data string. If it is determined that the number of bits corresponding to the extracted state or the state from which the charge has been extracted is an odd number, it is considered that an error has occurred in only one bit in response to the first transition, and the error is determined. 5. The semiconductor memory device according to claim 4, wherein correction is performed.
【請求項6】 前記メモリセルが、前記電荷蓄積層とし
て浮遊ゲートが、前記ゲート電極として制御ゲートが設
けられてなる半導体素子を有することを特徴とする請求
項4又は5に記載の半導体記憶装置。
6. The semiconductor memory device according to claim 4, wherein said memory cell has a semiconductor element provided with a floating gate as said charge storage layer and a control gate as said gate electrode. .
【請求項7】 電荷蓄積層及びゲート電極を有し、前記
ゲート電極に所定電圧を印加することにより前記電荷蓄
積層に電荷を蓄積し又は引き抜いて情報ビットの書き込
みを行い、前記電荷蓄積層における電荷の蓄積状態を判
定して前記情報ビットの読み出しを行う複数の半導体メ
モリを備えた半導体記憶装置の読み出し方法において、 前記各半導体メモリは、前記情報ビットに前記情報ビッ
トと同一の冗長ビットが付加されてなるデータ列につい
て、前記データ列を構成する各ビットのうち所定の1ビ
ットが記憶されるものであり、 記憶された前記データ列を読み出す際に、前記電荷蓄積
層に電荷が蓄積された状態から引き抜かれた状態へ変化
する第1の遷移が発生する確率に比して電荷が引き抜か
れた状態から蓄積された状態へ変化する第2の遷移が発
生する確率が無視し得るほど小さいことを利用し、前記
データ列において前記電荷蓄積層に電荷が蓄積された状
態又は電荷が引き抜かれた状態に対応するビット数が奇
数個であると判定した場合に、前記第1の遷移に対応し
て誤りが生じたものと見做して誤り訂正を行うことを特
徴とする半導体記憶装置の読み出し方法。
7. A charge storage layer and a gate electrode, wherein a predetermined voltage is applied to the gate electrode to store or extract a charge in the charge storage layer to write an information bit, and to write information bits in the charge storage layer. In a reading method of a semiconductor memory device including a plurality of semiconductor memories for reading out the information bits by judging a charge accumulation state, each semiconductor memory has the same redundant bits as the information bits added to the information bits A predetermined one bit of each bit constituting the data string is stored in the data string thus formed. When the stored data string is read, charges are accumulated in the charge storage layer. The probability that the first transition that changes from the state to the extracted state occurs to the second transition that changes from the state in which the charge is extracted to the state in which the charge is stored. Utilizing that the probability of occurrence of the transition is negligibly small, the number of bits corresponding to the state in which the charge is stored in the charge storage layer or the state in which the charge is extracted in the data string is an odd number. A method for reading a semiconductor memory device, comprising determining that an error has occurred in response to the first transition and performing error correction when the determination is made.
【請求項8】 前記データ列のうち、2ビット以上につ
いて、前記電荷蓄積層に電荷が蓄積された状態から引き
抜かれた状態へ共に変化する第3の遷移が発生する確率
も、前記第2の遷移と同様に前記第1の遷移の発生確率
に比して無視し得るほど小さいことを利用し、前記デー
タ列において前記電荷蓄積層に電荷が蓄積された状態又
は電荷が引き抜かれた状態に対応するビット数が奇数個
であると判定した場合に、前記第1の遷移に対応して1
ビットのみに誤りが生じたものと見做して誤り訂正を行
うことを特徴とする請求項7に記載の半導体記憶装置の
読み出し方法。
8. The probability that, for two or more bits of the data sequence, a third transition that changes from a state in which charges are stored in the charge storage layer to a state in which charges are extracted is also generated by the second transition. Utilizing the fact that it is negligibly small compared to the probability of occurrence of the first transition as in the case of the transition, it corresponds to the state where charges are stored in the charge storage layer or the state where charges are extracted in the data sequence. When it is determined that the number of bits to be changed is an odd number, one bit corresponds to the first transition.
8. The method according to claim 7, wherein the error correction is performed assuming that an error has occurred only in the bit.
【請求項9】 前記半導体メモリが、前記電荷蓄積層と
して浮遊ゲートが、前記ゲート電極として制御ゲートが
設けられてなるものであることを特徴とする請求項7又
は8に記載の半導体記憶装置の読み出し方法。
9. The semiconductor memory device according to claim 7, wherein said semiconductor memory is provided with a floating gate as said charge storage layer and a control gate as said gate electrode. Read method.
【請求項10】 電荷蓄積層及びゲート電極を有し、前
記ゲート電極に所定電圧を印加することにより前記電荷
蓄積層に電荷を蓄積し又は引き抜いて情報ビットの書き
込みを行い、前記電荷蓄積層における電荷の蓄積状態を
判定して前記情報ビットの読み出しを行う複数の半導体
メモリを備えた半導体記憶装置の読み出し方法におい
て、 前記半導体メモリの前記電荷蓄積層に電荷が蓄積された
状態を”1”、電荷が引き抜かれた状態を”0”とし、 前記半導体メモリは、前記情報ビットに前記情報ビット
と同一の冗長ビットが付加されてなるデータ列を構成す
る各ビットのうち、所定の1ビットが記憶されるもので
あり、 前記各半導体メモリから前記各ビットをそれぞれ読み出
し、前記データ列を構成する第1のステップと、 前記データ列中の”0”又は”1”の個数を計数する第
2のステップと、 計数された前記個数の偶奇を判定する第3のステップ
と、 前記第3のステップにおいて偶数と判定された場合に
は、前記データ列を訂正することなく出力する第4のス
テップと、 前記第3のステップにおいて奇数と判定された場合に
は、前記データ列において前記情報ビットと前記冗長ビ
ットとで異なるビットを判定する第5のステップと、 前記第5のステップにおいて判定された前記ビットのう
ち、”0”である方を”1”に訂正して出力する第6の
ステップとを備えたことを特徴とする半導体記憶装置の
読み出し方法。
10. A charge storage layer and a gate electrode, wherein a predetermined voltage is applied to the gate electrode to store or extract a charge in the charge storage layer to write an information bit. In a reading method of a semiconductor memory device including a plurality of semiconductor memories, each of which determines a charge storage state and reads the information bits, a state in which charges are stored in the charge storage layer of the semiconductor memory is “1”. The state in which the charge is extracted is set to “0”, and the semiconductor memory stores a predetermined one bit of each bit constituting a data string in which the same redundant bits as the information bits are added to the information bits. A first step of reading each of the bits from each of the semiconductor memories to form the data string; and A second step of counting the number of “0” or “1”, a third step of determining the evenness of the counted number, and a case where the third step determines that the number is even. A fourth step of outputting the data string without correction, and a step of judging a different bit between the information bit and the redundant bit in the data string when it is determined that the data string is odd. A semiconductor memory comprising: a fifth step; and, among the bits determined in the fifth step, a bit that is “0” is corrected to “1” and output. How to read the device.
【請求項11】 電荷蓄積層及びゲート電極を有し、前
記ゲート電極に所定電圧を印加することにより前記電荷
蓄積層に電荷を蓄積し又は引き抜いて情報ビットの書き
込みを行い、前記電荷蓄積層における電荷の蓄積状態を
判定して前記情報ビットの読み出しを行う複数の半導体
メモリを備えた半導体記憶装置の読み 出し方法において、前記電荷蓄積層に電荷が蓄積された
状態を”1”、電荷が引き抜かれた状態を”0”とし、 前記半導体メモリは、前記情報ビットに前記情報ビット
と同一の冗長ビットが付加されてなるデータ列を構成す
る各ビットのうち、所定の1ビットが記憶され るものであり、前記各半導体メモリから前記各ビットを
それぞれ読み出し、前記データ列を構成する第1のステ
ップと、 前記データ列中の”0”又は”1”の個数を計数する第
2のステップと、 計数された前記個数の偶奇を判定する第3のステップ
と、 前記第3のステップにおいて偶数と判定された場合に、
前記データ列を訂正することなく出力する第4のステッ
プと、 前記第3のステップにおいて奇数と判定された場合に、
前記データ列を”11”に訂正して出力する第5のステ
ップとを備えたことを特徴とする半導体記憶装置の読み
出し方法。
11. A charge storage layer and a gate electrode, wherein a predetermined voltage is applied to the gate electrode to store or extract a charge in the charge storage layer to write an information bit. In a reading method of a semiconductor memory device having a plurality of semiconductor memories for reading the information bits by judging a charge accumulation state, a state in which charges are accumulated in the charge accumulation layer is set to “1”, and the charges are subtracted. The extracted state is set to “0”, and the semiconductor memory stores one predetermined bit among the bits forming a data string in which the same redundant bits as the information bits are added to the information bits. A first step of reading each of the bits from each of the semiconductor memories to form the data string; and “0” or “1” in the data string. A second step of counting the number of, and a third step of determining parity of counted the number, if it is determined that the even in the third step,
A fourth step of outputting the data string without correction, and when the third step is determined to be odd,
A fifth step of correcting the data string to "11" and outputting the corrected data string.
【請求項12】 電荷蓄積層及びゲート電極を有し、前
記ゲート電極に所定電圧を印加することにより前記電荷
蓄積層に電荷を蓄積し又は引き抜いて情報ビットの書き
込みを行い、前記電荷蓄積層における電荷の蓄積状態を
判定して前記情報ビットの読み出しを行う複数の半導体
メモリを備えた半導体記憶装置の読み出し方法におい
て、 前記電荷蓄積層に電荷が蓄積された状態を”1”、電荷
が引き抜かれた状態を”0”とし、 前記半導体メモリは、2ビットの前記情報ビットに前記
情報ビットと同一の2ビットの冗長ビットが付加されて
なる4ビットのデータ列を構成する各ビットのうち、所
定の1ビットが記憶されるものであり、 前記データ列を読む出す第1のステップと、 前記データ列中の”1”の個数を計数する第2のステッ
プと、 計数された前記個数の偶奇を判定する第3のステップ
と、 前記第3のステップにおいて偶数と判定された場合に、
前記データ列を訂正することなく出力する第4のステッ
プと、 前記第3のステップにおいて奇数と判定された場合に、
それが1個か3個かを判定する第5のステップと、 前記第5のステップにおいて3個であると判定された場
合に、前記データ列を”1111”に訂正して出力する
第6のステップと、 前記第5のステップにおいて1個であると判定された場
合に、その位置が前記データ列中で最上位ビットから見
て偶数位置か奇数位置かを判定する第7のステップと、 前記第7のステップにおいて偶数位置と判定された場合
に、前記データ列を”1010”に訂正して出力する第
8のステップと、 前記第7のステップにおいて、奇数位置と判定された場
合に、前記データ列を”0101”に訂正して出力する
第9のステップとを備えたことを特徴とする半導体記憶
装置の読み出し方法。
12. A charge storage layer and a gate electrode, wherein a predetermined voltage is applied to the gate electrode to store or extract a charge in the charge storage layer to write an information bit. In a reading method for a semiconductor memory device including a plurality of semiconductor memories for reading out the information bits by judging a charge accumulation state, a state in which charges are accumulated in the charge accumulation layer is set to “1”, and the charges are extracted. The state of the semiconductor memory is set to “0”, and the semiconductor memory includes a predetermined number of bits constituting a 4-bit data string in which the same two information bits are added to the two information bits. A first step of reading out the data string, and a second step of counting the number of “1” in the data string. A third step of determining parity of counted the number, if it is determined that the even in the third step,
A fourth step of outputting the data string without correction, and when the third step is determined to be odd,
A fifth step of determining whether the number is one or three, and a sixth step of correcting and outputting the data string to "1111" when it is determined that the number is three in the fifth step. A step for determining whether the position is an even position or an odd position when viewed from the most significant bit in the data string, when it is determined that the number is one in the fifth step; An eighth step of correcting the data string to "1010" when it is determined in the seventh step to be an even position and outputting the data string in an odd position in the seventh step; A ninth step of correcting the data string to “0101” and outputting the corrected data string.
【請求項13】 前記半導体メモリが、前記電荷蓄積
層として浮遊ゲートが、前記ゲート電極として制御ゲー
トが設けられてなるものであることを特徴とする請求項
10〜12のいずれか1項に記載の半導体記憶装置の読
み出し方法。
13. The semiconductor memory according to claim 10, wherein a floating gate is provided as the charge storage layer, and a control gate is provided as the gate electrode. Reading method of the semiconductor memory device of the above.
【請求項14】 請求項10に記載の半導体記憶装置の
読み出し方法を構成する第1〜第6のステップがコンピ
ュータから読み出し可能に格納されていることを特徴と
する記録媒体。
14. A recording medium, wherein the first to sixth steps constituting the method for reading a semiconductor memory device according to claim 10 are stored so as to be readable by a computer.
【請求項15】 請求項11に記載の半導体記憶装置の
読み出し方法を構成する第1〜第5のステップがコンピ
ュータから読み出し可能に格納されていることを特徴と
する記録媒体。
15. A recording medium, wherein the first to fifth steps constituting the method of reading a semiconductor memory device according to claim 11 are stored so as to be readable by a computer.
【請求項16】 請求項12に記載の半導体記憶装置の
読み出し方法を構成する第1〜第9のステップがコンピ
ュータから読み出し可能に格納されていることを特徴と
する記録媒体。
16. A recording medium wherein the first to ninth steps constituting the method for reading a semiconductor memory device according to claim 12 are stored so as to be readable by a computer.
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