JPH1165481A - Formation of dielectric layer - Google Patents

Formation of dielectric layer

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JPH1165481A
JPH1165481A JP22390097A JP22390097A JPH1165481A JP H1165481 A JPH1165481 A JP H1165481A JP 22390097 A JP22390097 A JP 22390097A JP 22390097 A JP22390097 A JP 22390097A JP H1165481 A JPH1165481 A JP H1165481A
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JP
Japan
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dielectric layer
dielectric
glass
liquid
substrate
Prior art date
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Withdrawn
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JP22390097A
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Japanese (ja)
Inventor
Yasuo Yanagibashi
靖男 柳橋
Akira Shimoyoshi
旭 下吉
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for formation of a dielectric layer capable of forming the dielectric layer which is smooth in surface without generating gaps and dents which are the cause for generation of bubbles by using a dielectric thin-film sheet (green sheet). SOLUTION: In the method for formation of the dielectric layer by forming the dielectric layer 17 so as cover electrodes on a substrate disposed with the electrodes, a liquid or semiliquid dielectric material is adhered onto the substrate disposed with the electrodes and a dielectric thin-film sheet 14 is disposed in lamination on the liquid or semiliquid dielectric material and this laminated liquid or semiliquid dielectric material is solidified and is integrated to the dielectric thin-film sheet 14.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は表示装置等における
基板の誘電体層を形成する誘電体層形成方法に関し、特
に誘電性の薄膜シートを用いて基板上に誘電体層を形成
する誘電体層形成方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for forming a dielectric layer on a substrate in a display device or the like, and more particularly to a method for forming a dielectric layer on a substrate using a dielectric thin film sheet. It relates to a forming method.

【0002】[0002]

【従来の技術】表示装置の中で大画面表示及び大表示容
量の要求を満足するものとしてプラズマディスプレイ
(PDP)がある。このPDPは、画面を表示する表示
放電がDC(直流)か、AC(交流)かにより、DC
型、AC型に分類することができる。このAC型のPD
Pは、前面及び背面の少なくとも一方のガラス基板に放
電セルを構成する1対の表示電極を設けると共にそれら
電極を誘電体層で被覆し、この誘電体層により表示電極
を放電空間から絶縁すると共に放電セルのプラズマ放電
に伴って発生した壁電荷を蓄積するメモリ機能を持たせ
ている。
2. Description of the Related Art Among display devices, a plasma display (PDP) is one that satisfies the requirements for large screen display and large display capacity. This PDP is based on whether the display discharge for displaying the screen is DC (direct current) or AC (alternating current).
Type and AC type. This AC type PD
P provides a pair of display electrodes constituting a discharge cell on at least one of the front and back glass substrates, covers the electrodes with a dielectric layer, and insulates the display electrodes from the discharge space with the dielectric layer. It has a memory function of accumulating wall charges generated by the plasma discharge of the discharge cells.

【0003】この誘電体層をガラス基板上に形成する従
来の誘電体層形成方法としては、スクリーン印刷技術に
より形成する方法、スロットコータと称する厚膜塗布装
置により厚膜塗布で形成する方法があり、最近では新し
い方法として誘電性の薄膜シートを貼り付けて形成する
ドライフィルムの方法が提案されている。前記スクリー
ン印刷技術及び厚膜塗布装置を用いる方法においては、
いづれも低触点ガラス粉末をペースト状にしたガラスペ
ーストをガラス基板上に印刷若しくは塗布して厚膜を形
成し、この厚膜を600℃等の高温下で長時間焼成する
ことにより誘電体層を形成する構成である。
As a conventional method for forming a dielectric layer on a glass substrate, there are a method of forming the dielectric layer by a screen printing technique and a method of forming a thick film by a thick film coating apparatus called a slot coater. Recently, a dry film method in which a dielectric thin film sheet is attached and formed has been proposed as a new method. In the method using the screen printing technology and the thick film coating device,
In each case, a thick film is formed by printing or applying a glass paste obtained by forming a low contact glass powder into a paste on a glass substrate, and the thick film is fired at a high temperature such as 600 ° C. for a long time to form a dielectric layer. Is formed.

【0004】また、前記ドライフィルムの方法は、表示
面側の電極基板の場合図6に示すように、透明電極11
及びバス電極12をガラス基板10上に積層して表示電
極を形成し(同図(A)、(B))、この電極が形成さ
れたガラス基板10上にガラス粉末をシート状にしたグ
リーンシートと称される薄膜ガラスシート(以下ガラス
シートと記す)14をラミネートし(同図(C))、こ
のガラスシート14を600℃等の高温下で長時間焼成
することにより誘電体層17として形成する(同図
(D))。この長時間の焼成によりガラスシート14
は、前記ガラスペーストと同様に熔解して固化するとガ
ラス固形体の誘電体層17となる。この誘電体層17上
にMgOからなる保護層15を形成する(同図
(E))。
In the case of the electrode substrate on the display surface side, as shown in FIG.
And a bus electrode 12 laminated on a glass substrate 10 to form a display electrode (FIGS. 1A and 1B), and a green sheet in which glass powder is formed into a sheet on the glass substrate 10 on which the electrode is formed. A thin film glass sheet (hereinafter, referred to as a glass sheet) 14 is laminated (FIG. 3C), and the glass sheet 14 is fired at a high temperature such as 600 ° C. for a long time to form a dielectric layer 17. ((D) in the figure). By this long-time firing, the glass sheet 14 is formed.
When melted and solidified in the same manner as the above-mentioned glass paste, the dielectric layer 17 becomes a solid glass body. A protective layer 15 made of MgO is formed on the dielectric layer 17 (FIG. 3E).

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】従来の誘電体層形成方
法は以上のように構成されていたことから、スクリーン
印刷技術を用いる場合においては簡略にガラスペースト
の厚膜を形成できるが、誘電体層となるガラスペースト
の厚みが不均一(例えば、7〜8μmの凹凸面)とな
り、誘電体層の表面を平滑に形成することができないと
いう課題を有する。また、厚膜塗布装置を用いる場合に
おいては、スクリーン印刷の1/10以下(例えば、1
μm程度の凹凸面)の平滑な誘電体層を形成することが
できるが、厚膜塗布装置を精密に調整して塗布動作を行
わなければならず、ガラスペースト13の塗布作業が簡
略化できないという課題を有する。
Since the conventional method for forming a dielectric layer is constituted as described above, when a screen printing technique is used, a thick glass paste film can be simply formed. There is a problem that the thickness of the glass paste to be a layer becomes non-uniform (for example, an uneven surface of 7 to 8 μm), and the surface of the dielectric layer cannot be formed smoothly. Further, when a thick film coating apparatus is used, 1/10 or less of screen printing (for example, 1
It is possible to form a smooth dielectric layer having a roughness of about μm), but the coating operation must be performed by precisely adjusting the thick film coating apparatus, and the coating operation of the glass paste 13 cannot be simplified. Have issues.

【0006】また、ドライフィルムの方法を用いる場合
においては、電極が配設されたガラス基板10上にガラ
スシート14をラミネートすると、この電極端部の段差
近傍に隙間が形成され、この隙間の空気がガラスシート
14が熔融固化され誘電体層として形成された後に気泡
として残存することとなる。この誘電体層中の気泡は、
ガラス基板10が表末側基板の場合には放電セル内で発
生した放電光の透過率を減衰させて表示の輝度を低下さ
せるという課題を有する。
In the case of using the dry film method, when a glass sheet 14 is laminated on a glass substrate 10 on which electrodes are provided, a gap is formed near a step at an end of the electrode, and air in the gap is formed. Will remain as bubbles after the glass sheet 14 is melted and solidified to form a dielectric layer. Bubbles in this dielectric layer are
When the glass substrate 10 is a front end substrate, there is a problem in that the transmittance of the discharge light generated in the discharge cells is attenuated to lower the display brightness.

【0007】特に、前記バス電極12は、図7に示すよ
うにクロム12a−銅12b−クロム12c(Cr−C
u−Cr)の三層構造で形成され、この三層構造のバス
電極12の形成プロセスにおいて中間の銅12bがクロ
ム12a、12cより多くエッチングされて凹溝状の窪
み12dが形成される。このバス電極12のように側部
に凹溝状の窪み12dを有する電極構造では、前記ガラ
スシート14をラミネートする時はもとより高温で焼成
し熔融させた状態においてもガラスシートのガラスが前
記凹溝状の窪み12dに充填されず、気泡が生じる。こ
のバス電極12の凹溝状の窪み12dに生じる気泡は、
ガラスシート焼成時においてその熔融ガラス中に生じる
他の気泡とつながってガラス表面に通ずる貫通孔とな
り、図示を省略する燃焼炉内の熱気がこの貫通孔を通し
てバス電極12の銅12bを熔解して断線させたり、骸
死させるという課題を有する。また、前面及び背面の各
基板(10、20)の封着組付け完了後において、経時
的に前記バス電極12の凹溝状の窪み12dに誘電体層
中にピンホールを介して放電空間の表示用放電ガスが流
入し、放電セル内の放電ガス量が規定量以下となって放
電不能となるという課題を有する。
Particularly, as shown in FIG. 7, the bus electrode 12 is made of chromium 12a-copper 12b-chrome 12c (Cr-C
u-Cr) is formed in a three-layer structure. In the process of forming the bus electrode 12 having the three-layer structure, the intermediate copper 12b is etched more than the chromium 12a and 12c, thereby forming a concave groove-shaped depression 12d. In the electrode structure having a concave groove-shaped depression 12d on the side like the bus electrode 12, when the glass sheet 14 is laminated and fired at a high temperature and melted, the glass of the glass sheet is not covered with the concave groove. Bubbles are not filled in the hollows 12d and bubbles are generated. Bubbles generated in the concave grooves 12d of the bus electrode 12 are:
When the glass sheet is fired, it is connected to other bubbles generated in the molten glass to form a through hole communicating with the glass surface, and hot air in a combustion furnace (not shown) melts the copper 12b of the bus electrode 12 through the through hole to break the wire. There is a problem of letting them be killed. After completion of the sealing and assembling of the front and rear substrates (10, 20), the discharge space of the discharge space is gradually inserted into the recessed groove 12d of the bus electrode 12 through the pinhole in the dielectric layer. There is a problem that the discharge gas for display flows into the discharge cell and the discharge gas amount in the discharge cell becomes equal to or less than a specified amount, so that the discharge becomes impossible.

【0008】本発明は前記課題を解消するためになされ
たもので、誘電性の薄膜シート(グリーンシート)を用
いて気泡発生原因となる隙間・窪みを発生させることな
く表面が平滑な誘電体層を形成することがきでる誘電体
層形成方法を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and a dielectric layer having a smooth surface without using a dielectric thin film sheet (green sheet) to generate gaps or depressions which cause bubbles. It is an object of the present invention to provide a method for forming a dielectric layer that can form a dielectric layer.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明に係る誘電体層形
成方法は、基板上に電極が配設され、当該電極上に重畳
して誘電体層を形成する誘電体層形成方法において、前
記電極が配設された基板上に液体状又は半液体状の誘電
体材料を付着し、前記液体状又は半液体状の誘電体材料
に積層して誘電性の薄膜シートを配設し、前記積層され
た液体状又は半液体状の誘電体材料を固化して誘電性の
薄膜シートと一体化するものである。
According to the present invention, there is provided a method for forming a dielectric layer, wherein an electrode is provided on a substrate, and the dielectric layer is formed so as to overlap the electrode. A liquid or semi-liquid dielectric material is adhered to a substrate on which electrodes are disposed, and a dielectric thin film sheet is disposed by laminating on the liquid or semi-liquid dielectric material. The liquid or semi-liquid dielectric material thus obtained is solidified and integrated with a dielectric thin film sheet.

【0010】このように本発明においては、電極が配設
された基板とこの基板上に積層配設される誘電性の薄膜
シートとの間に液体状又は半液体状の誘電体材料を介装
し、この液体状又は半液体状の誘電体材料によって電極
端部の段差を埋めて平坦化するので、基板と誘電性の薄
膜シートとの間に隙間(気泡)を発生させることなく簡
易に誘電体層を形成することができる。特に、PDPの
ガラス基板上に誘電体層を形成する場合には、誘電体層
中に気泡が存在しなくなることから、放電セル内で発生
した光を減衰させることなく透過して高い輝度で表示を
行なうことができる。また、基板上に配設される電極が
酸化されることがなくなることから、電極の断線を防止
できる。
As described above, according to the present invention, a liquid or semi-liquid dielectric material is interposed between a substrate on which electrodes are disposed and a dielectric thin film sheet laminated on the substrate. However, since the liquid or semi-liquid dielectric material fills the level difference at the end of the electrode and flattens it, the dielectric can be easily formed without generating gaps (bubbles) between the substrate and the dielectric thin film sheet. A body layer can be formed. In particular, when a dielectric layer is formed on a glass substrate of a PDP, since bubbles are not present in the dielectric layer, light generated in the discharge cells is transmitted without attenuating and display is performed with high luminance. Can be performed. Further, since the electrodes provided on the substrate are not oxidized, disconnection of the electrodes can be prevented.

【0011】また、本発明に係る誘電体層形成方法は、
スクリーン印刷法により液体状又は半液体状の誘電体材
料を基板上に付着させるのが望ましい。このスクリーン
印刷法によれば、簡略且つ迅速に誘電体材料を基板上に
付着できる。
Further, the method for forming a dielectric layer according to the present invention comprises the steps of:
It is desirable to deposit a liquid or semi-liquid dielectric material on the substrate by screen printing. According to this screen printing method, a dielectric material can be simply and quickly attached onto a substrate.

【0012】さらに、本発明に係る誘電体層形成方法
は、液体状又は半液体状の誘電体材料と誘電性の薄膜シ
ートとを同一材料又は同一屈折率の材料で形成されるの
が望ましい。このように同一材料又は同一屈折率の材料
で形成することにより、基板が表示側に用いられた場合
に誘電体層内での屈折又は乱反射がなくなり、表示光の
減衰をなくして表示輝度を向上させることができる。
Further, in the dielectric layer forming method according to the present invention, it is desirable that the liquid or semi-liquid dielectric material and the dielectric thin film sheet are formed of the same material or the same refractive index material. By using the same material or a material having the same refractive index as described above, when the substrate is used on the display side, refraction or irregular reflection in the dielectric layer is eliminated, and display light is not reduced and display brightness is improved. Can be done.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION

(本発明の第1の実施形態)以下、本発明の第1の実施
形態に係る誘電体層形成方法をAC型のPDPに適用し
た一例について図1ないし図4に基づいて説明する。こ
の図1及び図2は本実施形態に係る誘電体層形成方法の
概略的な製造工程説明図、図3及び図4は図1、図2に
記載の誘電体層形成方法の作動フローチャートを示す。
(First Embodiment of the Present Invention) An example in which the dielectric layer forming method according to the first embodiment of the present invention is applied to an AC type PDP will be described below with reference to FIGS. FIGS. 1 and 2 are schematic explanatory diagrams of manufacturing steps of a method of forming a dielectric layer according to the present embodiment, and FIGS. 3 and 4 are operation flowcharts of the method of forming a dielectric layer shown in FIGS. .

【0014】前記各図において本実施形態に係るAC型
PDPは、透明電極11とバス電極12からなる表示電
極(アドレス電極21)を前面ガラス基板10(背面ガ
ラス基板20)上に配設し(図1(A)、(B)、図2
(A))、この前面ガラス基板10(背面ガラス基板2
0)上にガラス粉末をペースト状にしたガラスペースト
13(23)をスクリーン印刷法により印刷し(図1
(C)、図2(B))、このガラスペースト13(2
3)に誘電性のガラスシート(グリーンシート)14
(24)を積層して配設し(図1(D)、図2
(C))、このガラスペースト13(23)及びガラス
シート14(24)を焼成して固化一体化して誘電体層
17(27)を形成し(図1(E)、図2(D))、こ
の後前面ガラス基板10においては誘電体層17上に酸
化マグネシウム(MgO)等からなる保護層15を蒸着
形成し、背面ガラス基板20においては、誘電体層27
上に誘電体物質からなる放電部を仕切るための隔壁25
及びこの隔壁25間の溝内に蛍光体層26を形成する
(図2(E)、(F))構成である。
In each of the drawings, the AC type PDP according to the present embodiment has a display electrode (address electrode 21) composed of a transparent electrode 11 and a bus electrode 12 disposed on a front glass substrate 10 (back glass substrate 20). 1 (A), 1 (B), 2
(A)), the front glass substrate 10 (the rear glass substrate 2).
0) A glass paste 13 (23) in which a glass powder was formed into a paste form was printed thereon by a screen printing method (FIG. 1).
(C), FIG. 2 (B)) and the glass paste 13 (2
3) Dielectric glass sheet (green sheet) 14
(24) are stacked and arranged (FIG. 1 (D), FIG.
(C)), the glass paste 13 (23) and the glass sheet 14 (24) are baked, solidified and integrated to form a dielectric layer 17 (27) (FIGS. 1E and 2D). Thereafter, on the front glass substrate 10, a protective layer 15 made of magnesium oxide (MgO) or the like is formed by vapor deposition on the dielectric layer 17, and on the rear glass substrate 20, the dielectric layer 27 is formed.
A partition wall 25 for partitioning a discharge portion made of a dielectric material on the top
And a phosphor layer 26 is formed in a groove between the partition walls 25 (FIGS. 2E and 2F).

【0015】前記ガラスシート14は、二酸化シリコン
(SiO2)及び三酸化硼素(B2 3)を主成分とする
硼珪酸ガラス、又はソーダライムガラス等を主成分とす
るフィルム状体で構成することもできる。このガラスシ
ート14を硼珪酸ガラス又はソーダライムガラスを主成
分とするフィルム状体で構成した場合には、ガラスペー
スト13は硼珪酸ガラス又はソーダライムガラスの粉末
をペースト状の半液体で構成することが望ましい。ま
た、このガラスペースト13は、酸化鉛(PbO)を主
成分とする低融点ガラスの粉末をペースト状にして形成
することもできる。この場合には前記ガラスシート14
も酸化鉛(PbO)を主成分とする低融点ガラスをシー
ト状に形成することが望ましい。
The glass sheet 14 is made of silicon dioxide
(SiOTwo) And boron trioxide (BTwoO Three) As the main component
Borosilicate glass or soda lime glass
It can also be constituted by a film-like body. This glass
The plate 14 is mainly made of borosilicate glass or soda lime glass.
If it is composed of a film-like material
The strike 13 is a powder of borosilicate glass or soda lime glass
Is desirably composed of a paste-like semi-liquid. Ma
The glass paste 13 is mainly composed of lead oxide (PbO).
Formed as a paste from low melting glass powder as a component
You can also. In this case, the glass sheet 14
Also uses low-melting glass containing lead oxide (PbO) as the main component.
It is desirable to form it in the shape of a triangle.

【0016】前記透明電極11は、透明性且つ導電性を
有し、例えば酸化インジウム(In 23)と酸化すず
(SnO2)の半導体ITO(Ingium Tin Oxide)で形
成される。この透明電極11上に設けられるバス電極1
2は、例えばクロム・銅・クロム(Cr・Cu・Cr)
の三層構造からなるメタル電極で形成される。
The transparent electrode 11 has transparency and conductivity.
For example, indium oxide (In) TwoOThree) And tin oxide
(SnOTwo) Semiconductor ITO (Ingium Tin Oxide)
Is done. Bus electrode 1 provided on transparent electrode 11
2 is, for example, chromium / copper / chromium (Cr / Cu / Cr)
And a metal electrode having a three-layer structure.

【0017】次に、前記構成に基づく本実施形態に係る
誘電体層形成方法を含むPDP用基板構体の製造工程に
ついて説明する。まず、前面ガラス基板10上に透明電
極11をスパッタリング法により薄膜形成し、リソグラ
フィー技術によりパターニング形成し(ステップ1)、
この透明電極11上の長手方向端部にクロム・銅・クロ
ムの三層構造からなるバス電極12をスパッタリング法
及びリソグラフィー技術により形成する(ステップ
2)。
Next, a description will be given of a process of manufacturing a PDP substrate structure including the method of forming a dielectric layer according to the present embodiment based on the above configuration. First, a thin film of the transparent electrode 11 is formed on the front glass substrate 10 by a sputtering method, and is patterned by lithography (step 1).
A bus electrode 12 having a three-layer structure of chromium, copper, and chromium is formed at an end in the longitudinal direction on the transparent electrode 11 by a sputtering method and a lithography technique (step 2).

【0018】この透明電極11とバス電極12とからな
る表示電極を含む前面ガラス基板10上にガラスペース
ト13をスクリーン印刷技術により表示電極が埋まる程
度の膜厚で形成する(ステップ3)。この工程によっ
て、前記前面ガラス基板10上に突出して形成される透
明電極11及びバス電極12の端部に生じる段差部分並
びにバス電極12のCu層における凹溝状の窪み12d
にそれぞれガラスペーストが充填され気泡発生を未然に
防止できる。
A glass paste 13 is formed on the front glass substrate 10 including the display electrodes including the transparent electrodes 11 and the bus electrodes 12 so as to fill the display electrodes by a screen printing technique (step 3). By this step, a step formed at the ends of the transparent electrode 11 and the bus electrode 12 protruding from the front glass substrate 10 and a concave groove 12d in the Cu layer of the bus electrode 12
Is filled with a glass paste to prevent the occurrence of bubbles.

【0019】このガラスペースト13の厚膜上に積層し
てガラスシート14を配設する(ステップ4)。このガ
ラスシート14及びガラスペースト13の厚膜を焼成炉
により所定の高温下で焼成することにより、ガラスペー
スト13とガラスシート14とを一体化して誘電体層1
7を形成する(ステップ5)。
The glass sheet 14 is disposed on the thick film of the glass paste 13 (step 4). By firing the thick film of the glass sheet 14 and the glass paste 13 at a predetermined high temperature in a firing furnace, the glass paste 13 and the glass sheet 14 are integrated to form the dielectric layer 1.
7 is formed (step 5).

【0020】この工程によって、膜厚が不均一で表面が
不平滑なガラスペースト13の厚膜上は、均一且つ平滑
なシート体として予め形成されたガラスシート14で平
滑化され、これを焼成して一体化することにより、表面
が平滑な誘電体層17を形成できることとなる。
In this step, the thick film of the glass paste 13 having a non-uniform film thickness and an uneven surface is smoothed by a glass sheet 14 formed in advance as a uniform and smooth sheet body, which is then fired. Thus, the dielectric layer 17 having a smooth surface can be formed.

【0021】前記誘電体層17上に例えば、蒸着法によ
り酸化マグネシウム(MgO)の薄膜を保護層15とし
て形成する(ステップ6)。以上の工程によって前面側
のPDP用基板構体が完成する。
On the dielectric layer 17, for example, a thin film of magnesium oxide (MgO) is formed as a protective layer 15 by a vapor deposition method (step 6). Through the above steps, the PDP substrate structure on the front side is completed.

【0022】次に、前面ガラス基板10に対する加工の
後に又は並行して背面ガラス基板20に対する加工を行
なう。この背面ガラス基板20上にスッパッタリング法
及びリソグラフィー技術によりCr−Cu−Crのアド
レス電極21を形成する(ステップ11)。このアドレ
ス電極21が形成された背面ガラス基板20上にガラス
ペースト23の厚膜をスクリーン印刷技術により形成す
る(ステップ12)。
Next, after or in parallel with the processing on front glass substrate 10, processing on rear glass substrate 20 is performed. An address electrode 21 of Cr-Cu-Cr is formed on the rear glass substrate 20 by a sputtering method and a lithography technique (step 11). A thick film of a glass paste 23 is formed on the rear glass substrate 20 on which the address electrodes 21 are formed by a screen printing technique (step 12).

【0023】このガラスペースト23の厚膜上にガラス
シート24を積層配設し(ステップ13)、このガラス
ペースト23の厚膜及びガラスシート24を焼成炉で所
定高温下で焼成して誘電体層27を形成する(ステップ
14)。この誘電体層27は、前記前面ガラス基板10
の誘電体層17と同様に、突出して配設されるアドレス
電極21の端部に隙間(気泡)を発生させることなく、
また膜厚を均一且つ表面を平滑な膜体として形成される
こととなる。
A glass sheet 24 is laminated on the thick film of the glass paste 23 (step 13), and the thick film of the glass paste 23 and the glass sheet 24 are fired at a predetermined high temperature in a firing furnace to form a dielectric layer. 27 are formed (step 14). This dielectric layer 27 is formed on the front glass substrate 10.
As in the case of the dielectric layer 17, no gap (bubble) is generated at the end of the protrudingly disposed address electrode 21.
In addition, a film having a uniform thickness and a smooth surface is formed.

【0024】この誘電体層27上に誘電体物質の厚膜を
スロットコータ法と呼ばれる厚膜技術により形成し、こ
の厚膜をサンドブラスト法により隔壁パターンに切削し
て隔壁(リブ)25を形成する(ステップ15)。この
隔壁25はサンドブラスト法以外にスクリーン印刷法、
ドライフィルム法、感光性障壁材法等の周知技術を用い
て形成することもできる。この隔壁25間における溝内
に蛍光体層26を塗布して形成する(ステップ16)。
この蛍光体層26は、スクリーン印刷技術により隔壁2
5の側面及び誘色体層表面に塗布して形成し、他にサン
ドブラスト法により形成することもできる。
On this dielectric layer 27, a thick film of a dielectric substance is formed by a thick film technique called a slot coater method, and this thick film is cut into a partition pattern by sandblasting to form partition walls (ribs) 25. (Step 15). This partition 25 is screen-printed in addition to sandblasting,
It can also be formed using a known technique such as a dry film method or a photosensitive barrier material method. A phosphor layer 26 is applied and formed in the groove between the partitions 25 (step 16).
The phosphor layer 26 is formed on the partition 2 by screen printing technology.
5 and the surface of the attraction layer, and may be formed by sandblasting.

【0025】これによって背面側のPDP用基板構体が
完成する。
Thus, the PDP substrate structure on the rear side is completed.

【0026】前記各加工された前面ガラス基板10及び
背面ガラス基板20を図2(G)に示すように組付けて
一体化し(ステップ7)、この一体化した前面ガラス基
板10及び背面ガラス基板20を封着し(ステップ
8)、この封着された前面ガラス基板10及び背面ガラ
ス基板20の空間のガスを排気すると共に、この空間に
放電ガスを封入してPDPを完成する(ステップ9)。
このように作成されたPDPは、前面ガラス基板10に
おいては誘電体層17が気泡を含むことなく形成され、
また表面を平滑面で形成されていることから放電セルで
発生したカラー光を減衰させることなく高輝度で表示で
きるとこととなる。また、前面、背面の各ガラス基板1
0、20の誘電体層17、27は、各電極との間で気泡
を含むことなく形成されているので、絶縁破壊を生じる
ことなく、且つ電極を断線させることもなくなる。
The processed front glass substrate 10 and rear glass substrate 20 are assembled and integrated as shown in FIG. 2G (step 7), and the integrated front glass substrate 10 and rear glass substrate 20 are integrated. Is sealed (step 8), the gas in the space between the sealed front glass substrate 10 and the back glass substrate 20 is exhausted, and a discharge gas is sealed in this space to complete the PDP (step 9).
In the PDP thus manufactured, the dielectric layer 17 is formed without bubbles in the front glass substrate 10,
In addition, since the surface is formed as a smooth surface, it is possible to display with high luminance without attenuating the color light generated in the discharge cells. In addition, each of the front and rear glass substrates 1
Since the dielectric layers 17 and 27 of 0 and 20 are formed without including bubbles between the respective electrodes, no dielectric breakdown occurs and no disconnection of the electrodes occurs.

【0027】(発明の他の実施形態)前記実施形態にお
いては、前面(背面)ガラス基板10(20)上に表示
電極(アドレス電極21)を突出させた状態で配設する
構成としたが、前面(背面)ガラス基板10(20)に
凹部10a(20a)を設け(図5(A)に示す)、こ
の凹部10a(20a)の中に表示電極のバス電極12
(アドレス電極21)を埋め込んだ状態で形成する(図
5(B)ないし(E))構成とすることもできる。この
ように前面(背面)ガラス基板10(20)上に突出さ
せることなくバス電極12(アドレス電極21)を形成
することにより、図5(D)、(E)に示すように表示
電極(アドレス電極21)上に積層される誘電性のガラ
スシート14(24)との間で隙間(気泡)を発生させ
ることなく誘電体層17(27)を形成できる。
(Other Embodiments of the Invention) In the above embodiment, the display electrodes (address electrodes 21) are arranged on the front (back) glass substrate 10 (20) so as to protrude. A concave portion 10a (20a) is provided in the front (back) glass substrate 10 (20) (shown in FIG. 5A), and a bus electrode 12 of a display electrode is provided in the concave portion 10a (20a).
A configuration in which the (address electrode 21) is embedded (FIGS. 5B to 5E) may be employed. By forming the bus electrodes 12 (address electrodes 21) without protruding above the front (rear) glass substrate 10 (20), display electrodes (addresses) as shown in FIGS. The dielectric layer 17 (27) can be formed without generating gaps (bubbles) between the dielectric glass sheet 14 (24) laminated on the electrode 21).

【0028】前記実施形態においては、ガラスペースト
13(23)とガラスシート14(24)とを同一の素
材で形成する構成としたが、焼成により一体化した後に
同一又は近似する屈折率となる異なる素材で構成するこ
ともきでる。
In the above-described embodiment, the glass paste 13 (23) and the glass sheet 14 (24) are formed of the same material. However, after being integrated by firing, different refractive indices become the same or similar. It can also be composed of materials.

【0029】前記実施形態においては、AC型のPDP
に適用した具体例について説明したが、DC型PDPの
背面基板に放電光を反射させる目的で配設する白色誘電
体層(白バック)の形成に適用することもできる。ま
た、PDP以外の表示装置、例えばEL(Electro Lumi
nescence)等にも適用することができる。
In the above embodiment, the AC type PDP
Has been described, but the present invention can also be applied to the formation of a white dielectric layer (white back) disposed on the back substrate of a DC PDP for the purpose of reflecting discharge light. In addition, display devices other than PDP, for example, EL (Electro Lumi)
nescence) and the like.

【0030】[0030]

【発明の効果】以上のように本発明においては、電極が
配設された基板とこの基板上に積層配設される誘電性の
薄膜シートとの間に液体状又は半液体状の誘電体材料を
介装し、この誘電体材料を固化して誘電性の薄膜シート
と一体化することにより、基板上の電極端部に間隙(気
泡)を発生させることなく、しかも表面が均一且つ平滑
な誘電体層を形成することができる。特に、PDPのガ
ラス基板上に誘電体層を形成する場合には、誘電体層中
に気泡が存在しなくなることから、放電セル内で発生し
た光を減衰させることなく透過して高い輝度で表示を行
なうことができ、また表面が均一且つ平滑な誘電体層に
より全ての放電セルで均一な放電を発生させることがで
きる等の効果が得られる。また、PDPの基板上に配設
される銅等で形成される電極が気泡の酸素により酸化さ
れることがなくなることから、電極の断線を防止できる
という効果を奏する。
As described above, according to the present invention, a liquid or semi-liquid dielectric material is placed between a substrate on which electrodes are provided and a dielectric thin film sheet laminated on the substrate. The dielectric material is solidified and integrated with the dielectric thin film sheet, so that gaps (bubbles) are not generated at the ends of the electrodes on the substrate, and the dielectric has a uniform and smooth surface. A body layer can be formed. In particular, when a dielectric layer is formed on a glass substrate of a PDP, since bubbles are not present in the dielectric layer, light generated in the discharge cells is transmitted without attenuating and display is performed with high luminance. And a dielectric layer having a uniform and smooth surface can generate uniform discharge in all discharge cells. Further, since the electrode formed of copper or the like provided on the substrate of the PDP is not oxidized by the oxygen of the bubbles, there is an effect that disconnection of the electrode can be prevented.

【0031】また、本発明においては、スクリーン印刷
法により液体状又は半液体状の誘電体材料を基板上に付
着させるようにしているので、簡略且つ迅速に誘電体材
料を基板上に付着できると共に、誘電体層を均一且つ平
滑に形成できるという効果を有する。また、本発明にお
いては、電極がクロム−銅−クロムの積層構造体で形成
され、その電極を形成する際に銅の部分がクロムより多
くエッチングされて凹溝状の窪みが形成されたとして
も、この凹溝状の窪みに液体状又は半液体状の誘電体材
料が充填されることとなり、誘電体層に気泡を生じさせ
ることなく形成できるという効果を有する。
In the present invention, the liquid or semi-liquid dielectric material is deposited on the substrate by the screen printing method, so that the dielectric material can be deposited on the substrate simply and quickly. This has the effect that the dielectric layer can be formed uniformly and smoothly. Further, in the present invention, even if the electrode is formed of a chromium-copper-chromium laminated structure, and when the electrode is formed, the copper portion is etched more than chromium to form a groove-shaped depression. The concave groove-like depression is filled with a liquid or semi-liquid dielectric material, which has an effect that the dielectric layer can be formed without generating bubbles.

【0032】さらに、本発明においては、基板上に積層
される誘電体材料と誘電性の薄膜シートとを同一材料又
は同一屈折率の材料で形成することにより、基板が表示
装置に用いられた場合に誘電体層内での屈折又は乱反射
がなくなり、表示光の減衰をなくして表示輝度を向上さ
せることができる。という効果を奏するという効果を有
する。
Further, according to the present invention, when the dielectric material and the dielectric thin film sheet laminated on the substrate are formed of the same material or the same refractive index material, the substrate can be used in a display device. In addition, refraction or irregular reflection in the dielectric layer is eliminated, and display brightness can be improved by eliminating display light attenuation. This has the effect of producing the effect described above.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施形態に係る誘電体層形成方
法のPDPにおける前面ガラス基板側製造工程説明図で
ある。
FIG. 1 is an explanatory diagram of a front glass substrate side manufacturing process in a PDP in a dielectric layer forming method according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第1の実施形態に係る誘電体層形成方
法のPDPにおける背面ガラス基板側製造工程説明図で
ある。
FIG. 2 is an explanatory diagram of a back glass substrate side manufacturing process in the PDP in the dielectric layer forming method according to the first embodiment of the present invention.

【図3】図1に記載の製造工程における作動フローチャ
ートである。
FIG. 3 is an operation flowchart in the manufacturing process shown in FIG. 1;

【図4】図2に記載の製造工程における作動フローチャ
ートである。
FIG. 4 is an operation flowchart in the manufacturing process shown in FIG. 2;

【図5】本発明の他の実施形態に係る誘電体層形成方法
のPDPにおける前面(背面)ガラス基板上の電極配設
説明図である。
FIG. 5 is an explanatory view of disposing electrodes on a front (rear) glass substrate in a PDP in a method of forming a dielectric layer according to another embodiment of the present invention.

【図6】従来の誘電体層形成方法のPDPにおける前面
ガラス基板側製造工程説明図である。
FIG. 6 is an explanatory view of a front glass substrate side manufacturing process in a PDP according to a conventional dielectric layer forming method.

【図7】従来の誘電体層形成方法のPDPにおける電極
部分の拡大断面図である。
FIG. 7 is an enlarged sectional view of an electrode portion in a PDP according to a conventional dielectric layer forming method.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 前面ガラス基板 10a、20a 凹部 11 透明電極 12 バス電極 12a、12c クロム 12b 銅 12d 凹溝状の窪み 13、23 ガラスペースト 14、24 ガラスシート 15 保護層 17、27 誘電体層 20 背面ガラス基板 21 アドレス電極 25 隔壁 26 蛍光体層 REFERENCE SIGNS LIST 10 front glass substrate 10 a, 20 a recess 11 transparent electrode 12 bus electrode 12 a, 12 c chrome 12 b copper 12 d concave recess 13, 23 glass paste 14, 24 glass sheet 15 protective layer 17, 27 dielectric layer 20 back glass substrate 21 Address electrode 25 Partition wall 26 Phosphor layer

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 電極が配設された基板上に、当該電極を
覆うように誘電体層を形成する誘電体層形成方法におい
て、 前記電極が配設された基板上に液体状又は半液体状の誘
電体材料を付着し、 前記液体状又は半液体状の誘電体材料に積層して誘電性
の薄膜シートを配設し、 前記積層された液体状又は半液体状の誘電体材料を固化
して誘電性の薄膜シートと一体化することを特徴とする
誘電体層形成方法。
1. A method for forming a dielectric layer on a substrate on which an electrode is provided so as to cover the electrode, wherein a liquid or semi-liquid is formed on the substrate on which the electrode is provided. A dielectric thin film sheet is disposed on the liquid or semi-liquid dielectric material by laminating the dielectric material, and the laminated liquid or semi-liquid dielectric material is solidified. A dielectric layer forming method by integrating the dielectric layer with a dielectric thin film sheet.
【請求項2】 前記請求項1に記載の誘電体層形成方法
において、 前記液体状又は半液体状の誘電体材料がスクリーン印刷
法により基板上に付着されることを特徴とする誘電体層
形成方法。
2. The method for forming a dielectric layer according to claim 1, wherein the liquid or semi-liquid dielectric material is attached onto a substrate by a screen printing method. Method.
【請求項3】 前記請求項1又は2に記載の誘電体層形
成方法において、 前記液体状又は半液体状の誘電体材料と誘電性の薄膜シ
ートとを同一材料又は同一屈折率の材料で形成されるこ
とを特徴とする誘電体層形成方法。
3. The method for forming a dielectric layer according to claim 1, wherein the liquid or semi-liquid dielectric material and the dielectric thin film sheet are formed of the same material or a material having the same refractive index. A method of forming a dielectric layer.
【請求項4】 前記基板にクロム、銅、クロムをその順
に積層した三層構造の電極を配設し、前記電極をガラス
からなる誘電体層で覆ったガス放電パネルの誘電体層形
成方法であって、 前記電極の配設された基板上に、ガラスペーストを塗布
して所定膜厚の第1ガラス層を形成する工程と、 前記第1ガラス層の上にガラスのグリーンシートを配設
して所定膜厚の第2のガラス層を形成する工程と、 前記積層された第1ガラス層及び第2ガラス層を同時に
焼成して一体化されたガラスの誘電体層を形成する工程
とからなることを特徴とする誘電体層形成方法。
4. A method for forming a dielectric layer of a gas discharge panel, wherein a three-layer electrode in which chromium, copper, and chromium are laminated in that order on the substrate is provided, and the electrode is covered with a dielectric layer made of glass. A step of applying a glass paste on a substrate on which the electrodes are provided to form a first glass layer having a predetermined thickness; and providing a green sheet of glass on the first glass layer. Forming a second glass layer having a predetermined thickness by heating, and simultaneously firing the laminated first glass layer and second glass layer to form an integrated glass dielectric layer. A method for forming a dielectric layer, comprising:
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7291050B2 (en) * 2004-06-30 2007-11-06 Lg Electronics Inc. Method of forming dielectric on an upper substrate of a plasma display panel
WO2009016689A1 (en) * 2007-08-02 2009-02-05 Hitachi, Ltd. Plasma display panel

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JPWO2009016689A1 (en) * 2007-08-02 2010-10-07 株式会社日立製作所 Plasma display panel
JP4577452B2 (en) * 2007-08-02 2010-11-10 株式会社日立製作所 Plasma display panel

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