JPH116065A - Ｃｖｄに供する液体ソースのバブラー - Google Patents
Ｃｖｄに供する液体ソースのバブラーInfo
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- JPH116065A JPH116065A JP15877297A JP15877297A JPH116065A JP H116065 A JPH116065 A JP H116065A JP 15877297 A JP15877297 A JP 15877297A JP 15877297 A JP15877297 A JP 15877297A JP H116065 A JPH116065 A JP H116065A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】ＣＶＤに供する液体ソースのバブラーに関し、
液面センサーへの液体ソース液面の波の影響を防ぎ、誤
検知をなくす。 【解決手段】ＣＶＤに供する液体ソースのバブラーのう
ちバブラー内の液体ソースの量をバブラー内の液面セン
サーにより検知するバブラーにおいて、液面センサー４
の周囲に液体ソースの移動を妨げないようなじゃま板７
を設け、キャリアガス導入管２及び液体ソース導入管３
から導入されるキャリアガス又は液体ソースによって液
体ソース６液面に生ずる波を遮り、液面センサー４周辺
で波が生じないようにする。 【効果】じゃま板を設けたので、液面センサーの誤検知
なく液面を正確にモニターすることが可能となる。ま
た、キャリアガス導入管及び液体ソース導入管上に水平
に多孔質材料による板を置いたので液体ソースの液面を
均一にできる。
液面センサーへの液体ソース液面の波の影響を防ぎ、誤
検知をなくす。 【解決手段】ＣＶＤに供する液体ソースのバブラーのう
ちバブラー内の液体ソースの量をバブラー内の液面セン
サーにより検知するバブラーにおいて、液面センサー４
の周囲に液体ソースの移動を妨げないようなじゃま板７
を設け、キャリアガス導入管２及び液体ソース導入管３
から導入されるキャリアガス又は液体ソースによって液
体ソース６液面に生ずる波を遮り、液面センサー４周辺
で波が生じないようにする。 【効果】じゃま板を設けたので、液面センサーの誤検知
なく液面を正確にモニターすることが可能となる。ま
た、キャリアガス導入管及び液体ソース導入管上に水平
に多孔質材料による板を置いたので液体ソースの液面を
均一にできる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ＣＶＤに供する液
体ソースのバブラーのうちバブラー内の液体ソースの量
をバブラー内の液面センサーにより検知するバブラーに
関し、キャリアガス導入管又は液体ソース導入管より押
し出されるガス又は液体ソースにより生ずる液体ソース
液面の波の液面センサーに対する影響を防ぐ構造のバブ
ラーに関する。
体ソースのバブラーのうちバブラー内の液体ソースの量
をバブラー内の液面センサーにより検知するバブラーに
関し、キャリアガス導入管又は液体ソース導入管より押
し出されるガス又は液体ソースにより生ずる液体ソース
液面の波の液面センサーに対する影響を防ぐ構造のバブ
ラーに関する。
【０００２】
【従来の技術】ＣＶＤに供する液体ソースのバブラーの
うちバブラー内の液体ソースの量をバブラー内の液面セ
ンサーにより検知するバブラーにおいては、キャリアガ
ス導入管、液体ソース導入管、液面センサーを備えたも
のとなっている。このような従来のＣＶＤに供する液体
ソースのバブラーの構造を以下の図４を用いて説明す
る。
うちバブラー内の液体ソースの量をバブラー内の液面セ
ンサーにより検知するバブラーにおいては、キャリアガ
ス導入管、液体ソース導入管、液面センサーを備えたも
のとなっている。このような従来のＣＶＤに供する液体
ソースのバブラーの構造を以下の図４を用いて説明す
る。
【０００３】従来のＣＶＤに供する液体ソースのバブラ
ーのうちバブラー内の液体ソースの量をバブラー内の液
面センサーにより検知するバブラーの断面は図４に示す
様にバブラー容器１０、キャリアガス導入管１１、液体
ソース導入管１２、液面センサー１３、原料ガス出口１
４から成り、該バブラー容器には液体ソース１５が満た
されている。
ーのうちバブラー内の液体ソースの量をバブラー内の液
面センサーにより検知するバブラーの断面は図４に示す
様にバブラー容器１０、キャリアガス導入管１１、液体
ソース導入管１２、液面センサー１３、原料ガス出口１
４から成り、該バブラー容器には液体ソース１５が満た
されている。
【０００４】該バブラーの動作としてはキャリアガス導
入管１２よりキャリアガスを導入し液体ソース１５に泡
を発生させ、飽和水蒸気圧によりキャリアガスに液体ソ
ース１５を含ませ、原料ガス出口１４から原料ガスを送
り出すものである。このとき液面センサー１３は液体ソ
ース１５の液面をモニターし、液体ソース１５の液面が
液面センサー１３よりも低くなると信号を発し液体ソー
ス導入管１２から液体ソースをバブラー容器１０に導入
する構造となっている。
入管１２よりキャリアガスを導入し液体ソース１５に泡
を発生させ、飽和水蒸気圧によりキャリアガスに液体ソ
ース１５を含ませ、原料ガス出口１４から原料ガスを送
り出すものである。このとき液面センサー１３は液体ソ
ース１５の液面をモニターし、液体ソース１５の液面が
液面センサー１３よりも低くなると信号を発し液体ソー
ス導入管１２から液体ソースをバブラー容器１０に導入
する構造となっている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来のＣＶＤに供する液体ソースのバブラーのうちバブラ
ー内の液体ソースの量をバブラー内の液面センサーによ
り検知するバブラーにあっては、キャリアガス導入管又
は液体ソース導入管より押し出されるガス又は液体ソー
スにより生ずる液体ソース液面の波が液面センサーの誤
検知を引き起こし、液面の正確な検知ができないという
問題点を有していた。
来のＣＶＤに供する液体ソースのバブラーのうちバブラ
ー内の液体ソースの量をバブラー内の液面センサーによ
り検知するバブラーにあっては、キャリアガス導入管又
は液体ソース導入管より押し出されるガス又は液体ソー
スにより生ずる液体ソース液面の波が液面センサーの誤
検知を引き起こし、液面の正確な検知ができないという
問題点を有していた。
【０００６】そこで、本発明は、液面センサーの誤検知
をなくした、ＣＶＤに供する液体ソースのバブラーのう
ちバブラー内の液体ソースの量をバブラー内の液面セン
サーにより検知するバブラーを提供することを目的とす
る。
をなくした、ＣＶＤに供する液体ソースのバブラーのう
ちバブラー内の液体ソースの量をバブラー内の液面セン
サーにより検知するバブラーを提供することを目的とす
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】請求項１記載のＣＶＤに
供する液体ソースのバブラーは、ＣＶＤに供する液体ソ
ースのバブラーのうちバブラー内の液体ソースの量をバ
ブラー内の液面センサーにより検知するバブラーにおい
て、液面センサーの周囲に液体ソースの移動を妨げない
じゃま板を設けることを特徴とする。
供する液体ソースのバブラーは、ＣＶＤに供する液体ソ
ースのバブラーのうちバブラー内の液体ソースの量をバ
ブラー内の液面センサーにより検知するバブラーにおい
て、液面センサーの周囲に液体ソースの移動を妨げない
じゃま板を設けることを特徴とする。
【０００８】上記構成によれば液面センサーの誤検知を
なくすという効果を有する。
なくすという効果を有する。
【０００９】請求項２記載のＣＶＤに供する液体ソース
のバブラーのうちバブラー内の液体ソースの量をバブラ
ー内の液面センサーにより検知するバブラーにおいて、
キャリアガス導入管及び液体ソース導入管上に水平に多
孔質材料による板を置くことを特徴とする。
のバブラーのうちバブラー内の液体ソースの量をバブラ
ー内の液面センサーにより検知するバブラーにおいて、
キャリアガス導入管及び液体ソース導入管上に水平に多
孔質材料による板を置くことを特徴とする。
【００１０】上記構成によれば液体ソース液面の波を一
様にし、液面センサーの誤検知をなくすという効果を有
する。
様にし、液面センサーの誤検知をなくすという効果を有
する。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図面に
基づいて説明する。
基づいて説明する。
【００１２】（実施例１）図１は、請求項１記載の発明
に係るＣＶＤに供する液体ソースのバブラーの第１の実
施例の要部の断面を示す図である。その構成を説明する
と該バブラーはバブラー容器１、キャリアガス導入管
２、液体ソース導入管３、液面センサー４、原料ガス出
口５、液体ソース６、じゃま板７より成る。
に係るＣＶＤに供する液体ソースのバブラーの第１の実
施例の要部の断面を示す図である。その構成を説明する
と該バブラーはバブラー容器１、キャリアガス導入管
２、液体ソース導入管３、液面センサー４、原料ガス出
口５、液体ソース６、じゃま板７より成る。
【００１３】ここで、液面センサー４の周囲に液体ソー
スの移動を妨げないようなじゃま板７を設け、キャリア
ガス導入管２及び液体ソース導入管３から導入されるキ
ャリアガス又は液体ソースによって液体ソース６液面に
生ずる波を遮り、液面センサー４周辺で波が生じないよ
うにしたことにより、液面センサー４の液体ソース６液
面の誤検知をなくすことができる。
スの移動を妨げないようなじゃま板７を設け、キャリア
ガス導入管２及び液体ソース導入管３から導入されるキ
ャリアガス又は液体ソースによって液体ソース６液面に
生ずる波を遮り、液面センサー４周辺で波が生じないよ
うにしたことにより、液面センサー４の液体ソース６液
面の誤検知をなくすことができる。
【００１４】特に、じゃま板７の下端は液体ソースの移
動を妨げない範囲で低くすれば、キャリアガス導入管よ
り供給されるキャリアガスの泡または液体ソース導入管
より供給される液体ソースの流れ及び好ましくない液体
ソース押し出しのためのガスの泡が直接液面センサー４
に影響しないという点から好ましい。
動を妨げない範囲で低くすれば、キャリアガス導入管よ
り供給されるキャリアガスの泡または液体ソース導入管
より供給される液体ソースの流れ及び好ましくない液体
ソース押し出しのためのガスの泡が直接液面センサー４
に影響しないという点から好ましい。
【００１５】なお、じゃま板７は網状の形状とし、構成
しても良い。このようなじゃま板構造においてはじゃま
板下端をバブラー容器１の底に付ける構造としてもキャ
リアガス導入管より供給されるキャリアガスの泡または
液体ソース導入管より供給される液体ソースの流れ及び
好ましくない液体ソース押し出しのためのガスの泡が直
接液面センサー４に影響しないという点から好ましい。
しても良い。このようなじゃま板構造においてはじゃま
板下端をバブラー容器１の底に付ける構造としてもキャ
リアガス導入管より供給されるキャリアガスの泡または
液体ソース導入管より供給される液体ソースの流れ及び
好ましくない液体ソース押し出しのためのガスの泡が直
接液面センサー４に影響しないという点から好ましい。
【００１６】上記のような構成によれば、キャリアガス
導入管より供給されるキャリアガスの泡または液体ソー
ス導入管より供給される液体ソースの流れ及び好ましく
ない液体ソース押し出しのためのガスの泡がおよびこれ
らによる液体ソース６液面の波が直接液面センサー４に
影響しないため、液面センサーの誤検知なく液面を正確
にモニターすることが可能となる。
導入管より供給されるキャリアガスの泡または液体ソー
ス導入管より供給される液体ソースの流れ及び好ましく
ない液体ソース押し出しのためのガスの泡がおよびこれ
らによる液体ソース６液面の波が直接液面センサー４に
影響しないため、液面センサーの誤検知なく液面を正確
にモニターすることが可能となる。
【００１７】（実施例２）図２は、請求項１記載の発明
に係るＣＶＤに供する液体ソースのバブラーの第２の実
施例の要部の断面を示す図である。なお、説明に際し、
その構成部分が図１と同一の部分に付いては符号を統一
し説明することとする。その構成を説明すると該バブラ
ーはバブラー容器１、キャリアガス導入管２、液体ソー
ス導入管３、液面センサー４、原料ガス出口５、液体ソ
ース６、筒型のじゃま板８より成る。液面センサー４は
筒型のじゃま板８の内側に置かれている。
に係るＣＶＤに供する液体ソースのバブラーの第２の実
施例の要部の断面を示す図である。なお、説明に際し、
その構成部分が図１と同一の部分に付いては符号を統一
し説明することとする。その構成を説明すると該バブラ
ーはバブラー容器１、キャリアガス導入管２、液体ソー
ス導入管３、液面センサー４、原料ガス出口５、液体ソ
ース６、筒型のじゃま板８より成る。液面センサー４は
筒型のじゃま板８の内側に置かれている。
【００１８】特に、じゃま板８の下端は液体ソースの移
動を妨げない範囲で低くすれば、キャリアガス導入管よ
り供給されるキャリアガスの泡または液体ソース導入管
より供給される液体ソースの流れ及び好ましくない液体
ソース押し出しのためのガスの泡が直接液面センサー４
に影響しないという点から好ましい。
動を妨げない範囲で低くすれば、キャリアガス導入管よ
り供給されるキャリアガスの泡または液体ソース導入管
より供給される液体ソースの流れ及び好ましくない液体
ソース押し出しのためのガスの泡が直接液面センサー４
に影響しないという点から好ましい。
【００１９】上記のような構成によれば、キャリアガス
導入管より供給されるキャリアガスの泡または液体ソー
ス導入管より供給される液体ソースの流れ及び好ましく
ない液体ソース押し出しのためのガスの泡がおよびこれ
らによる液体ソース６液面の波が直接液面センサー４に
影響しないため、液面センサーの誤検知なく液面を正確
にモニターすることが可能となる。
導入管より供給されるキャリアガスの泡または液体ソー
ス導入管より供給される液体ソースの流れ及び好ましく
ない液体ソース押し出しのためのガスの泡がおよびこれ
らによる液体ソース６液面の波が直接液面センサー４に
影響しないため、液面センサーの誤検知なく液面を正確
にモニターすることが可能となる。
【００２０】（実施例３）図３は、請求項２記載の発明
に係るＣＶＤに供する液体ソースのバブラーの第１の実
施例の要部の断面を示す図である。なお、説明に際し、
その構成部分が図１と同一の部分に付いては符号を統一
し説明することとする。その構成を説明すると該バブラ
ーはバブラー容器１、キャリアガス導入管２、液体ソー
ス導入管３、液面センサー４、原料ガス出口５、液体ソ
ース６、多孔質材料による板９より成る。
に係るＣＶＤに供する液体ソースのバブラーの第１の実
施例の要部の断面を示す図である。なお、説明に際し、
その構成部分が図１と同一の部分に付いては符号を統一
し説明することとする。その構成を説明すると該バブラ
ーはバブラー容器１、キャリアガス導入管２、液体ソー
ス導入管３、液面センサー４、原料ガス出口５、液体ソ
ース６、多孔質材料による板９より成る。
【００２１】ここで、キャリアガス導入管２、液体ソー
ス導入管３の上部に水平に多孔質材料による板９を設
け、キャリアガス導入管２及び液体ソース導入管３から
導入されるキャリアガス又は液体ソースによって液体ソ
ース６液面に生ずる波を均一にし、液面センサー４周辺
で波が均一になるようにしたことにより、液面センサー
４の液体ソース６液面の誤検知をなくすことができる。
ス導入管３の上部に水平に多孔質材料による板９を設
け、キャリアガス導入管２及び液体ソース導入管３から
導入されるキャリアガス又は液体ソースによって液体ソ
ース６液面に生ずる波を均一にし、液面センサー４周辺
で波が均一になるようにしたことにより、液面センサー
４の液体ソース６液面の誤検知をなくすことができる。
【００２２】なお、請求項１に示したじゃま板と併用す
る構成としても良い。特に、じゃま板を併用すれば、キ
ャリアガス導入管より供給されるキャリアガスの泡また
は液体ソース導入管より供給される液体ソースの流れ及
び好ましくない液体ソース押し出しのためのガスの泡が
均一になるとともに直接液面センサー４に影響しないと
いう点から好ましい。
る構成としても良い。特に、じゃま板を併用すれば、キ
ャリアガス導入管より供給されるキャリアガスの泡また
は液体ソース導入管より供給される液体ソースの流れ及
び好ましくない液体ソース押し出しのためのガスの泡が
均一になるとともに直接液面センサー４に影響しないと
いう点から好ましい。
【００２３】上記のような構成によれば、キャリアガス
導入管より供給されるキャリアガスの泡または液体ソー
ス導入管より供給される液体ソースの流れ及び好ましく
ない液体ソース押し出しのためのガスの泡がおよびこれ
らによる液体ソース６液面の波が均一になるため、液面
センサーの誤検知なく液面を正確にモニターすることが
可能となる。
導入管より供給されるキャリアガスの泡または液体ソー
ス導入管より供給される液体ソースの流れ及び好ましく
ない液体ソース押し出しのためのガスの泡がおよびこれ
らによる液体ソース６液面の波が均一になるため、液面
センサーの誤検知なく液面を正確にモニターすることが
可能となる。
【００２４】
【発明の効果】以上述べたように、本発明のＣＶＤに供
する液体ソースのバブラーによれば、じゃま板を設けた
ので、液面センサーの誤検知なく液面を正確にモニター
することが可能となる。
する液体ソースのバブラーによれば、じゃま板を設けた
ので、液面センサーの誤検知なく液面を正確にモニター
することが可能となる。
【００２５】また、本発明のＣＶＤに供する液体ソース
のバブラーによれば、キャリアガス導入管及び液体ソー
ス導入管上に水平に多孔質材料による板を置いたので液
体ソースの液面が均一にすることができる。
のバブラーによれば、キャリアガス導入管及び液体ソー
ス導入管上に水平に多孔質材料による板を置いたので液
体ソースの液面が均一にすることができる。
【図１】本発明の請求項１の一実施例を示す要部断面
図。
図。
【図２】図１におけるじゃま板の形状を説明するための
図。
図。
【図３】本発明の請求項２の一実施例を示す要部断面
図。
図。
【図４】従来のＣＶＤに供する液体ソースのバブラーの
要部断面図。
要部断面図。
１．バブラー容器 ２．キャリアガス導入管 ３．液体ソース導入管 ４．液面センサー ５．原料ガス出口 ６．液体ソース ７．じゃま板 ８．筒型のじゃま板 ９．多孔質材料による板 １０．バブラー容器 １１．キャリアガス導入管 １２．液体ソース導入管 １３．液面センサー １４．原料ガス出口 １５．液体ソース
Claims (2)
- 【請求項１】ＣＶＤに供する液体ソースのバブラーのう
ちバブラー内の液体ソースの量をバブラー内の液面セン
サーにより検知するバブラーにおいて、液面センサーの
周囲にじゃま板を設けることを特徴とするＣＶＤに供す
る液体ソースのバブラー。 - 【請求項２】ＣＶＤに供する液体ソースのバブラーのう
ちバブラー内の液体ソースの量をバブラー内の液面セン
サーにより検知するバブラーにおいて、キャリアガス導
入管及び液体ソース導入管上に水平に多孔質材料による
板を置くことを特徴とするＣＶＤに供する液体ソースの
バブラー。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15877297A JPH116065A (ja) | 1997-06-16 | 1997-06-16 | Ｃｖｄに供する液体ソースのバブラー |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15877297A JPH116065A (ja) | 1997-06-16 | 1997-06-16 | Ｃｖｄに供する液体ソースのバブラー |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH116065A true JPH116065A (ja) | 1999-01-12 |
Family
ID=15679013
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15877297A Withdrawn JPH116065A (ja) | 1997-06-16 | 1997-06-16 | Ｃｖｄに供する液体ソースのバブラー |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH116065A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002029368A1 (fr) * | 2000-10-03 | 2002-04-11 | Applied Materials, Inc. | Capteur de niveau de liquide et contenant pour le stockage de liquide |
| JP2002131113A (ja) * | 2000-10-11 | 2002-05-09 | Applied Materials Inc | センサ、液体貯蔵容器およびバブリング検知方法 |
| JP2002162285A (ja) * | 2000-10-31 | 2002-06-07 | Applied Materials Inc | 液体収容装置および液面検知方法 |
| JP2002162282A (ja) * | 2000-10-30 | 2002-06-07 | Applied Materials Inc | 液面センサ、液体容器および液量検知方法 |
| JP2002162283A (ja) * | 2000-10-30 | 2002-06-07 | Applied Materials Inc | 液面センサ、液体容器および液量検知方法 |
| KR100864646B1 (ko) | 2007-03-16 | 2008-10-23 | 세메스 주식회사 | 가스 공급 장치 |
| JP2009533556A (ja) * | 2006-04-11 | 2009-09-17 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 化学気相堆積のための装置及び方法 |
-
1997
- 1997-06-16 JP JP15877297A patent/JPH116065A/ja not_active Withdrawn
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002029368A1 (fr) * | 2000-10-03 | 2002-04-11 | Applied Materials, Inc. | Capteur de niveau de liquide et contenant pour le stockage de liquide |
| JP2002122463A (ja) * | 2000-10-03 | 2002-04-26 | Applied Materials Inc | 液面レベルセンサ及び液体貯蔵容器 |
| JP2002131113A (ja) * | 2000-10-11 | 2002-05-09 | Applied Materials Inc | センサ、液体貯蔵容器およびバブリング検知方法 |
| JP2002162282A (ja) * | 2000-10-30 | 2002-06-07 | Applied Materials Inc | 液面センサ、液体容器および液量検知方法 |
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| JP2002162285A (ja) * | 2000-10-31 | 2002-06-07 | Applied Materials Inc | 液体収容装置および液面検知方法 |
| JP2009533556A (ja) * | 2006-04-11 | 2009-09-17 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 化学気相堆積のための装置及び方法 |
| US8313804B2 (en) | 2006-04-11 | 2012-11-20 | Applied Materials, Inc. | Apparatus and methods for chemical vapor deposition |
| JP2013040410A (ja) * | 2006-04-11 | 2013-02-28 | Applied Materials Inc | 化学気相堆積のための装置及び方法 |
| KR100864646B1 (ko) | 2007-03-16 | 2008-10-23 | 세메스 주식회사 | 가스 공급 장치 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20040907 |