JPH11504114A - スペクトロスコピー処方とそれに適したスペクトロメータ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 本スペクトロスコピー処方は、光導電性半導体物質でできた検出器ユニットの直線列の形状の検出器を使用する。サンプルからの放射がスロットで制限され、そのスペクトルに分離される。こうして得られたスペクトルが検出器を照射するのに使われ、半導体物質の導電率の放射強度依存性を利用してスペクトルが測定される。サンプルと検出器の間の放射ビームの通路がチョッパーによって周期的に遮られ、明と暗の位相をつくる。少なくとも一測定サイクルが実行され、その測定サイクルは、明の位相での完全なスペクトルの測定と、となりの暗の位相での完全なスペクトルの測定とから構成され、検出器の検出器要素の導電率に依存する測定すべき量の測定値は、一つの測定期間において明と暗の両位相で測定される。明の位相で検出器に入る放射の強度は、明の位相で測定された測定値と暗の位相で測定された測定値を比較することにより得られる。放射の遮断と測定期間は、測定期間が明の位相の中にだけ入るか、または暗の位相の中だけに入るように、お互いに同期がとられる。測定期間は可変で調節可能であり、ビーム通路の遮断は測定期間に合わせて調節され、スペクトルは、チョッパーの位相と測定期間の同期が保証されている時にだけ測定される。

Description

【発明の詳細な説明】 発明の名称：スペクトロスコピー処方とそれに適したスペクトロメータ 本発明は、特に近赤外線（ＩＲ）に適したスペクトロスコピー処方に関する。 アメリカ合衆国特許ＵＳ４．１５８．５０５Ａｌによりスペクトロスコピー処方 が知られており、それは、光導電性半導体物質でできた検出器を使用する。この 処方では、サンプルから出てくる放射がチャンネルのようなもので制限され、ス ペクトル方式で分析され、検出器は上記の方式で受けるスペクトルで照射され、 半導体物質の放射の強度に対する電導度依存性が利用され、明の位相と暗の位相 をつくるために放射を出すサンプルから検出器までの経路がチョッパにより周期 的に遮られ、少なくとも一回の測定が実行され、検出器の電導度に明確に依存す る、測定される量の測定値が、明の位相と共に暗の位相の間にも測定される。 スペクトロメータの検出器物質として、その電導度のビーム強度依存性を利用 する、光導電性半導体が使われることが知られている。そのような検出器は、一 般的に、キャパシタと組み合わせて直流電圧に接続され、キャパシタは入射ビー ムの強度とゲート時間に依存してある電圧レベルに充電される。ゲート時間が過 ぎた後でキャパシタで測定される電圧が、測定されるべき量をあらわしている。 赤外線スペクトロスコピーは、ガス、液体、固体物質の成分の検出とその定量 測定に適して使用され、使用されるＩＲ放射と必要とする成分分子のコロイド状 の動きとの相互作用が分析に利用される。この種の相互作用は約１．５μｍから ２．５μｍのスペクトル範囲で最大となり、放射の対応する振動数は結合振動お よび第一の上音振動の振動数に一致している。 現在では、このスペクトル範囲をおおうものとして、光導電性半導体物質Ｐｂ ＳおよびＰｂＳｅが知られている。スペクトロスコピーでそのような光導電性抵 抗を使用するとき、特に次の二つの理由によって問題が生じる。一つは、そのよ うな物質の電導度が温度に敏感に依存していることである。これは、なぜ光導電 性抵抗が、一般的に、例えばペルチエ冷却法によって０°Ｃよりもわずかに下の 十分一定の温度に保たれなければならないかの理由であるが、しかしながら、検 出器要素での温度ドリフトは排除しきれない。一方、放射によりつくられる電荷 キャリヤーは、光導電性抵抗の単純な回路短絡によっては再結合されず、これが 、光導電性抵抗が前の露光の状態に対する”記憶”をもつ理由となっている。後 者の理由により、同じ照度の放射が、同じ検出器の前の露光の状態に依存して、 異なる導電度を生じることになる。 前の露光の状態の影響を避けるためには、半導体の光導電性検出器に入射する 放射を、周期的な電気的又は機械的な方法で遮り、交互に明の位相と暗の位相が 生じるようにできる。暗の位相は、基準となるグラウンド・レベルの状態を規則 的につくる目的である。 放射の周期的な遮断の目的のためには、一定の回転周波数をもつ機械式チョッ パーが使用されることが知られている。放射の周期的な遮光と同時に、検出器も 、チョッパーの周波数以上の倍数の高い周波数で、既知の処方で選択される。し たがって、暗の位相での多数回の測定が行われ、さらにいくつかの測定が暗と明 の位相の中間状態で行われ、同様に明の位相での測定が多数回行われて、チョッ パーが何回か回転すると、その結果は測定値が波状に振動する形で得られる。明 の位相での測定量を暗の位相での測定量と比較することにより、検出器に入る放 射の強度が決定される。 この処方は、特に、測定すべき必要な量の決定のために、いくつかの明の位相 と暗の位相にわたる測定が行われなければならないような場合には、欠点がある 。測定精度は実行される測定の回数により向上する。このように、既知の処方で の測定の速度は、放射強度の決定のためには多数回の測定が必要であるために制 限を受ける。したがって、いくつかの個々の測定の時間枠の中での放射強度の変 化が検知できないことになる。 本発明の目的は、上記のような処方で、一方では検出器要素に対する温度ドリ フトの影響を劇的に減少させ、もう一方では高速の測定が可能な処方を提供する ことにある。 この目的は、処方についての請求項１の特徴をもつ上記の種類の処方により達 成され、さらに、この目的は、請求項５の特徴をもつスペクトロメータによる装 置によって達成される。 そのような同期化は、例えば明の位相でスタートし暗の位相でストップすると いうゲート時間が必要ないという事実をみちびく。このように、純粋に明の位相 の測定と暗の位相の測定とが比較できる可能性を生み出す。暗の位相は検出器要 素でグラウンド・レベルを生じるので、明の位相で検出器要素に入る放射の強度 が、暗の位相で求められる測定量と直後の明の位相で求められる測定量を比較す ることにより直接に決定される。したがって、明のそれぞれの位相で測定が完結 し、非常に高速の測定が実行される。これにより、二つの連続する明の位相での 放射強度の変動もまた測定できる。さらに、検出器要素の温度ドリフトにたいす るこの処方の感受性も劇的に減少できる。 本発明による処方は、また、次のような方法で実行される。すなわち、それぞ れのゲート時間が、明または暗それぞれの位相が始まった後のある一定の初期ス ペア時間の後の最も早い時期に始まり、明または暗それぞれの位相が終わる前の ある一定の終期スペア時間の前の最も遅い時期に終わる方法で実行される。 このようして、測定が、明と暗の位相の間および暗と明の位相の間の移行期間 の光の状態によって影響を受けないことが保証される。暗の位相および明の位相 の始まりと終わりは、それぞれ、チョッパーのしかるべき位置手段によって、ま たは、放射を遮る他のデバイスによって決めることができ、したがって、明の位 相が暗の位相の後ですぐに続き、そして逆に明の位相が暗の位相の後ですぐに続 くようになっている。 本発明による処方は、また、次のような方法で実行される。すなわち、放射の 遮断をゲート時間に同期化するために、放射の遮断の周波数と位相は、ゲート時 間の開始および終了点とともに、制御のためのエレクトロニックス・デバイスの 手段により与えられる。 処理過程の個々のステップの同期化は、処理過程のすべての過程と、処理過程 の個々のステップに対する時間点を制御する一つの制御用エレクトロニクス・デ バイスが指令するいう事実によって単純化される。その理由で、例えば、処理過 程の全過程を、放射の遮断の指令された一定の周波数に調節しなければならない ことが避けられる。 本発明による処理過程は、また、次のような方法で実行される。すなわち、ゲ ート時間が過ぎた後、それぞれの検出器での測定値がまずそれぞれサンプル・ア ンド・ホールド部にみちびかれ、そこで一時的に蓄えられ、その後のゲート時間 の間にサンプル・アンド・ホールド部が選択される方法で実行される。 処理過程のこのステップは、大量の検出器要素をもつ検出器列を使用するとき に、とりわけ有効である。一般的に、もし幾つかの検出器要素があるならば、そ れらは順番に選択される。この過程は時間がかかり、それが、ゲート時間が短く されるか、または暗と明の位相が長くされねばならない理由となっている。これ を避けるため、それぞれの検出器での測定値が、ゲート時間の終わりに、それぞ れのサンプル・アンド・ホールド部にみちびかれる。これは一時的な保管で、測 定値に到達した直後に、保管部分は検出器から切り離され、同時に検出器は再び 次の測定に利用できる。これらの次の測定の過程では、サンプル・アンド・ホー ルド部は順次選択され、測定における時間の損失が起こらない。 本発明の処理過程を、放射の遮断をゲート時間と同期させるために、放射の遮 断の振動数および位相が、開始時間および終了時間と同じく、一つの制御用エレ クトロニクス・デバイスによって指令されるような方法で実行するのが有利であ る。 本発明の処理過程の実行のために、サンプルから出てくる放射のスペクトル分 離の目的で機能するスペクトル・ユニットと、少なくとも一個の光導電性半導体 検出器要素から構成される検出器ユニットと、サンプルと検出器ユニットの間に 位置し、放射線の通路を周期的に遮って、チョッパーの位相と周波数および検出 器ユニット上に明と暗の位相を作り出す機械式チョッパーと、制御用エレクトロ ニクス・デバイスの開始と終了がそれぞれのゲート時間の前にある、スペクトロ メータを提供する。 放射線の通路がより制限され、ビームの束が細くなると、暗と明のより精密な 位相が、放射の機械的な遮断によってつくられる。したがって、サンプルとチョ ッパーの間で放射の通路をつくる光ファイバーによる光ガイドをもつような、本 発明によるスペクトロメータを形成することは利点がある。 本発明によるスペクトロメータは、また、それが放射の通路にあるスペクトル ・ユニットの前面に位置するスクリーンとして機能する光チャンネルをもつ方法 で実現されるのが望ましい。この場合、チャンネルの外面の大きさは、対応する 検出器要素の外面の大きさよりも大きくはない。 このように、放射の通路の断面が、検出器要素の大きさに対応して制限され、 したがって、対応するスペクトル範囲が検出器要素に一義的に割り付けられる。 チョッパーの位相と周波数は制御用エレクトロニクス・デバイスにより制御さ れる。これは、制御用エレクトロニクス・デバイスが基準入力としてディジタル 信号をきめ、その時点でチョッパーがある一定の位置を取るようにすることによ り実行される。実際のチョッパーの位置が制御の実際の値を表し、それは例えば サンプルから出てくる放射の手段で決められる。この処理過程には、測定の重要 でない性質を考慮に入れなければならないために欠点がある。 この欠点は、もし、本発明によるスペクトロメータがチョッパーの位相を検知 する検知要素をもつならば、避けることができる。 チョッパー円盤に適切な材質を使用する時、本発明によるスペクトロメータは 、検知要素が近似センサーであるような方法で実現される。 チョッパー円盤のどんな材質でも、本発明によるスペクトロメータは、検知要 素が光反射ネジであるような方法で形成される。ここでは、望ましくは、緑の可 視光領域の光が使用される。 使用される検知要素は、光の通路に対してある角度をもつように、チョッパー の回転軸に対して平行にならないように取り付けられる。 本発明による装置の更なる利点をもつ実施例は、さらなるサブクレームから明 らかにされる。 以下では、本発明によるスペクトロメータの望ましい実施例が、本発明による 処理方法の望ましい実施例とともに、図表の助けを借りて、例示されている。 図１ 本発明によるスペクトロメータの模式的実例。 図２ 制御用エレクトロニクス・ユニットから得られる信号の時間系列を例示 する図表。 図１は、検出器、信号処理ユニット２、Ａ／Ｄ変換器３、測定値を処理し測定 結果を表示するターミナル、制御用エレクトロニクス・デバイス５およびチョッ パーの同期をとるための制御ユニット６を含むスペクトロメータ全体の模式図を 示す。 検出器は真っすぐな列になっている二つの検出器列７と８から構成され、ここ の例では個々に示されていないが、それぞれに３２個のＰｂＳ検出器要素があり 、それらは、それぞれが検出器列７、８に接続された二つのマルチプレクサ・チ ップ９と１０を経由して順次選択され、また、格子定数１６００ｎｍから２００ ０ｎｍをもつホログラフィック・トランスミッション格子１１があり、さらに、 矢印１３で示される放射の通路を周期的に遮るチョッパー１２がある。ここでは 図示されていないが、放射の通路は光ファイバーの光ガイドで、チョッパー１２ の直接の前面に位置する光チャンネル２０に導かれる。このチャンネルは、光線 の断面領域を、トランスミッション格子により検出器列７、８の位置につくるチ ャンネルの回折パターンの測定寸法が検出器要素での測定寸法に対応するように 制限する。 スペクトルの測定は絶対測定が行われるのではなく、光がある時とない時で交 互に測定される二つの引き続くスペクトルの差を測定することにより行われる。 したがって、チョッパー１２の位相と周波数およびスペクトルを測定するための ゲート時間は制御されなければならない。ゲート時間と、チョッパー１２でつく られる明と暗の位相との同期化は、制御用エレクトロニクス・デバイス５が対応 する時間の指令をつくる、すなわちそれがチョッパー１２の周波数と位相及び同 じくゲート時間の開始時刻と終了時刻を指令し、この指令によって制御ユニット ６がチョッパーの通路を制御することにより実現される。このような方法で、チ ョッパー１２は決まったゲート時間に追随するが、一方通常のチョッパーの配置 ではチョッパーの周波数が一定で、ゲート時間がそれに合わせられなければなら ない。 スペクトロメータでの時間過程の制御のために、矢印１４、１５、１６、１７ で示されるように、制御用エレクトロニクス・デバイス５が、スペクトロメータ の異なる要素部品２、３、６、９、１０でのある過程を進行させるための信号を つくる。制御用エレクトロニクス・デバイスは中心カードをもち、その中心カー ドが時間的な指令の管理に責任をもち、それは基本的には、それぞれ１６ビット のアドレスと８ビットのデータをもつ二つのＥＰＲＯＭ部品で構成される。その 並列動作により、２１６ビットの状態が自由にプログラムされ、これが対応する 出力のディジタル信号の時間シーケンスを表現する。これらの状態は、内部でつ くられる１ＭＨｚのビートで伝達され、その状態は０から始まるカウンターによ って数える方法でアドレスされる。１６の出力の一つが単にある時刻でカウンタ ーを０にリセットするためだけに使われる。対応する信号ＦＲＡＭＥ ＳＹＮＣ （図２参照）が、調節可能な時刻に始まる周期的な継続期間をもつ周期的な動作 をエネイブル（可能）にする。この信号は、チョッパー１２、信号処理回路２、 Ａ／Ｄ変換器３の制御のために、他の１５の回路と共に、自由にプログラムされ るデータ回路を経由して外に導かれ、その結果これらの部品は互いに同期がとら れる。 図２は、制御用エレクトロニクス・デバイスから送り出される信号の時間シー ケンスの例を図示する。ＦＲＡＭＥ ＳＹＮＣ信号で与えられる期間をもつ測定 サイクルは、二つの完全なスペクトルの測定、すなわち、一つは明の位相での測 定、もう一つは暗の位相での測定を含む。このように、明の位相と暗の位相での 連続したスペクトルが常時測定される。測定サイクルの期間は、測定量の決定の ために振り向けられる。通常、検出器要素に合致した放射強度の決定のためには 、一定電圧が検出器要素にかけられ、ゲート時間の間、検出器要素に並列にスイ ッチされたキャパシタが充電される。ある時間間隔の間にそこに充電された電荷 は、検出器要素の導電率に依存し、したがってそこに入る放射の強度に依存する 。ゲート時間は、キャパシタが飽和に達する前に終了しなければならない。今の 場合には、ゲート時間は３ｍｓから７ｍｓの間の値が選ばれる。ゲート時間は、 常に、明または暗の位相の後で初期スペアー時間１８が終わった後に始まり、常 に、対応する位相の終了の前で終期スペアー時間１９が始まる前に終わる。これ は、特に、ゲート時間の間に、対応する検出器要素が実際に完全に暗くなってい るか、または完全に明るくなっていることを保証する。ここで初期スペアー時間 １８と 終期スペアー時間１９は、例えば、暗と明の位相の約４％となり、したがって一 つの測定サイクルは選択されたゲート時間に応じて約６ｍｓから１５ｍｓの間続 く。明と暗の位相は理想的な位相と考えられ、規則性からの定常的なずれがなく 、チョッパー１２のある種の残留リップルもないものと仮定される。 チョッパー１２は、チョッパー１２の制御のための基準入力として機能する信 号ＣＨＯＰを経由してアドレスされる。もしチョッパー１２が過渡的な状態にあ れば、光線の通路はＣＨＯＰ信号の立ち上がり端の伝達の時点で開き、明の位相 が始まる。 ゲート時間の開始は、信号ＲＳＴの立ち上がり端により決められる。ＲＳＴ信 号は、検出器列の制御のリセットを行い、したがって、新しく始まる積分は、個 々の検出器要素で測定される測定量により開始される。 ゲート時間の終わりに、Ｓ／Ｈ信号が、個々の検出器要素で測定された測定量 のその時点での値を、ここには図示されていないが、個々にサンプル・アンド・ ホールド部に導き、そこに一時的に記憶されるようにする。測定量が供給された 後、サンプル・アンド・ホールド部は対応する検出器要素から切り離され、した がって、検出器要素は次のゲート時間に対して使用可能となる。 矩形信号ＰＩＸＥＬで、二つのマルチプレクサ・チップ９、１０がそれぞれ一 個のサンプル・アンド・ホールド部により２５０ｋＨｚで次に進めさせられる。 ＣＥＡとＣＥＢのそれぞれの信号の立ち上がりが二つのマルチプレクサ・チップ の一つをアドレスし、マルチプレクサ・チップ９、１０にその瞬間に隣接するサ ンプル・アンド・ホールドが選択されるようにする。すでに強調した周波数で、 それぞれの検出器列７、８に対する３２個のサンプル・アンド・ホールド部が、 ０．１２８ｍｓの時間内に選択される。この選択は、測定値をつくるゲート時間 に続く対応する位相で行われる。これらの選択の後に、測定値が、ここでは図示 されていないが測定増幅器で遅滞なく処理され、測定値がリアルタイムでＡ／Ｄ 変換器の入り口の隣接する位置にくる。それぞれ個々の測定値の変更は、Ａ／Ｄ 信号の立ち上がりで行われ、この信号もまた制御用エレクトロニックス・デバイ ス５でつくられる。 制御用エレクトロニックス・デバイス５によるチョッパー１２の位相と周波数 の指令は、基準入力であるＣＨＯＰ信号で行われ、その立ち上がり端が、チョッ パー１２が開く時間点を決める。このように、チョッパー１２の周波数と位相が はっきりと決定される。チョッパー制御の実際の値として、信号ＳＥＮＳＯＲが 使われ、この信号は、ここには図示されていないが、チョッパー近傍の固定位置 に取り付けられたインダクティブ近似センサーにより供給される。このセンサー は、チョッパー円盤の軸に対して光路の直接の反対側に取り付けられる。こうす ると、光路とセンサーの間の位相のシフトが、チョッパー円盤のちょうど半回転 に対応する。チョッパー円盤に偶数個のチャンネルがあると、信号ＳＥＮＳＯＲ は、暗の位相にあるのか明の位相にあるのかを直接反映する。チョッパーは、数 ボルトの大きさのアナログ電圧ＵＳＯＬＬの手段で制御され、この信号がチョッ パー１２の適切なモータ駆動カードの入り口に送られる。このカード自身は、個 々では図示されていないが、チョッパー円盤が取り付けられたシャフトにある小 型の三相モータの速度を制御する。 基準入力信号ＣＨＯＰと実際の値を示すＳＥＮＳＯＲ信号が、制御ユニット６ にある位相比較スイッチに入力され、それが、これらの信号の立ち上がり端から 正または負の周期的な矩形信号ＤＥＬＴＡをつくり、その正負の数値信号が、モ ータ駆動カード、三相モータおよびチョッパー円盤の制御範囲が早過ぎるか、遅 すぎるかについての情報を提供する。パルスのデューティ・ファクターが位相の ずれの測定となる。瞬時的な等価部はロー・パン・フィルターで検知され、その 後で調整量ＵＳＯＬＬに積分される。この制御原理はよく知られた遅延同期化を 意味する。 チョッパーの円盤は二つに分割され、したがって、測定サイクルはチョッパー 円盤の一回転で行われる。制御に対して円盤の機械的処理の不規則性の影響をな くすために、制御ユニットの二つの入り口に周波数分割器がつくられ、周波数分 割器はＣＨＯＰとＳＥＮＳＯＲ信号のそれぞれの第二の信号だけが測定の対象と なることを保証する目的に使用される。こうしてチョッパー１２の同じ端が常に 観測される。 チョッパー１２が過渡的状態になると直ぐに、そして過渡的状態に保たれる限 り、信号ＬＯＫＥＤの立ち上がりにより、この状態が制御用エレクトロニクス・ デバイス５に知らされる。この信号が立ち上がっていない限り、ターミナル４へ のデータの転送が中止され、したがって、スペクトルは、チョッパー位相のゲー ト時間との同期がとれていることが保証されるときにだけ評価される。信号ＬＯ ＫＥＤは位相比較器によりつくられるＤＥＬＴＡ信号から受け取られる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 シユーマツハー・ハメダート，ウルズラ ドイツ連邦共和国 デー−52070 アーヒ エン アム チボリ 24 (72)発明者 ウゼマン，トーマス ドイツ連邦共和国 デー−52068 アーヒ エン アイフエルシユトラーセ ３ 【要約の続き】 間に合わせて調節され、スペクトルは、チョッパーの位 相と測定期間の同期が保証されている時にだけ測定され る。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．光導電性半導体物質でつくられる検出器要素が直線列に並んだ形状の検出器 を使用するスペクトロスコピーの処方で、 −サンプルから出てくる放射が開口部のようなもので制限され、スペクトル 法で分析され、検出器がそのような方法で分析されたスペクトルで照射され、半 導体物質の導電性の放射強度に対する依存性を使ってスペクトルが評価され、 −暗の位相と明の位相をつくるために、放射の通路がチョッパーの手段によ ってサンプルと検出器の間で周期的に遮られ、 −少なくとも一測定サイクルが実行され、その測定サイクルは、明の位相で の完全なスペクトルの測定と、隣りの暗の位相での完全なスペクトルの測定とか ら構成され、検出器の検出器要素の導電率に依存する測定すべき量の測定値は、 明の位相の期間とともに暗の位相の期間においても、それぞれゲート時間の中で 測定され、 −明の位相に測定された測定値と暗の位相に測定された測定値を比較するこ とにより、明の位相で検出器にはいる放射の強度が決められ、 −放射の遮光とゲート時間が、ゲート時間が明の位相の中に入っているか、 または暗の位相の中に入っているかどちらかであるように、同期がとられ、 −ゲート時間が可変で調節可能であり、放射の通路の遮断がゲート時間に依 存して調整され、チョッパーの位相のゲート時間との同期が保証されているとき だけスペクトルが測定されることを特徴とするスペクトロスコピーの処方。 ２．それぞれのゲート時間が、明と暗のそれぞれの位相が始まった後である一定 の初期スペア時間が経過した後に始まり、チョッパーの明と暗の位相が終わる前 のある一定のスペア時間が始まる前の最も遅い時間に終わることを特徴とする、 請求項１に記載の処方。 ３．放射の通路の遮断をゲートと同期化するために、チョッパーの周波数と位相 が、ゲート時間の開示時刻および終了時刻と共に、制御用エレクトロニクス装置 （５）によって決定されることを特徴とする、請求項１に記載の処方。 ４．ゲート時間が終了した後で、それぞれの検出器要素の測定値がまずサンプル ・アンド・ホールド部に導かれ、そこで一時的に保持され、サンプル・アンド・ ホールド部が後で順番に選択され、特に、個々のサンプル・アンド・ホールド部 の一連の選択の時間点が制御用エレクトロニクス・デバイス（５）によって指令 されることを特徴とする、請求項１に記載の処方。 ５．請求項１から４のいずれかによる処方を実行するためのスペクトロメータで 、 −サンプルから出てくる放射のスペクトル分析のためのスペクトル・ユニッ ト（１１）があり、 −光導電性半導体物質でつくられた検出器要素（７、８）でできたが直線列 の形状の検出器があり、 −機械的チョッパー（１２）がサンプルと検出器の間に位置して、周期的に 光線の通路を遮り、したがって検出器上に明と暗の位相をつくり、 チョッパー（１２）の周波数と位相が、ゲート時間の開始と終了とともに制 御用エレクトロニクス・デバイス（５）によりそれぞれのゲート時間に対して指 令され、その方式が、ゲート時間が可変で調節可能で、放射の通路の遮断がゲー ト時間に応じて制御され、チョッパーの位相とゲート時間との同期が保証されて いるときだけスペクトルが測定されることを特徴とするスペクトロメータ。 ６．放射の通路でスペクトル・ユニット（１１）の前の位置に光学チャンネルが あり、ブラインドとしての機能を果たし、その表面の広さが検出器の対応する表 面の広さよりも望ましくは大きくないことを特徴とする、請求項５に記載の装置 。 ７．特に、インダクション近似センター又は光反射ネジとして形成された、チョ ッパー（１２）の位相を決めるセンサー要素で特徴づけられる、請求項５に記載 のスペクトロメータ。 ８．光導電性半導体物質がＰｂＳまたはＰｂＳｃであることを特徴とする、請求 項５に記載のスペクトロメータ。 ９．個々の検出器要素の測定値の順次の選択の目的で使用される少なくとも一個 のマルチプレクサ（９、１０）により特徴づけられる、請求項５に記載の装置。 １０．それぞれの検出器要素にサンプル・アンド・ホールド部が割り当てられ、 測定値を、一時、保持するために使用されることを特徴とする、請求項５に記載 の装置。