JPH1143514A - Styrenic monomer, styrenic monomer composition, styrenic polymers and plastic optical material using the same - Google Patents

Styrenic monomer, styrenic monomer composition, styrenic polymers and plastic optical material using the same

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Publication number
JPH1143514A
JPH1143514A JP20324797A JP20324797A JPH1143514A JP H1143514 A JPH1143514 A JP H1143514A JP 20324797 A JP20324797 A JP 20324797A JP 20324797 A JP20324797 A JP 20324797A JP H1143514 A JPH1143514 A JP H1143514A
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JP
Japan
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monomer
styrene
meth
group
general formula
Prior art date
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Pending
Application number
JP20324797A
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Japanese (ja)
Inventor
Hideji Ichikawa
秀二 市川
Takanori Fujita
隆範 藤田
Masaru Matsushima
勝 松島
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NOF Corp
Original Assignee
NOF Corp
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Publication date
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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a new compounds useful for plastic lens for eyeglasses, camera lens, optical elements, etc., having high refractive index and Abbe's number, exhibiting excellent impact resistance while retaining excellent physical properties such as heat resistance, stainability and specific gravity, etc. SOLUTION: The styrenic monomer is expressed by formula I (R is a 2 to 11C alkylene containing sulfur atom; X is H, methyl), for example, compound expressed by formula II. The styrenic monomer of formula I is obtained by carrying out the reaction of a sulfur atom containing dihydroxy compound (for example; the compound of formula III) having hydroxy groups blocked with 2-tetrahydro-pyranyl group, etc., with a vinyl(or isopropenyl)benzyl halogen compounds such as 4-vinylbenzylchloride, etc., in the presence of a catalyst such as sodium hydroxide, etc., followed by deprotection.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、眼鏡用プラスチ
ックレンズ、カメラレンズ、光学素子などの原料として
好適に使用されるスチレン系単量体、スチレン系単量体
組成物、スチレン系重合体及び耐衝撃性に優れ、かつ屈
折率の高いプラスチック光学材料に関するものである。
The present invention relates to a styrene-based monomer, a styrene-based monomer composition, a styrene-based polymer and a styrene-based monomer which are suitably used as raw materials for plastic lenses for eyeglasses, camera lenses, optical elements and the like. The present invention relates to a plastic optical material having excellent impact properties and a high refractive index.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、眼鏡レンズの分野においては、無
機ガラスに代わって有機ガラスが広く用いられている。
有機ガラスが用いられる理由は、有機ガラスが耐衝撃
性、軽量性、成形性及び染色性に優れているからであ
る。
2. Description of the Related Art In recent years, in the field of spectacle lenses, organic glass has been widely used in place of inorganic glass.
Organic glass is used because organic glass is excellent in impact resistance, light weight, moldability, and dyeability.

【0003】このような有機ガラスを形成する樹脂とし
ては、ポリメチルメタクリレ−ト、ポリジエチレングリ
コ−ルビスアリルカ−ボネ−ト、ポリスチレンなどが挙
げられる。
Examples of the resin forming such an organic glass include polymethyl methacrylate, polydiethylene glycol bisallyl carbonate, and polystyrene.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところが、ポリメチル
メタクリレ−トは、色収差の程度を示すアッベ数が58
と大きく優れているものの、屈折率が1.49程度と低
い。このため、強度の近視のためのレンズを作製する場
合、レンズのコバを厚くしなければならないという問題
があった。
However, polymethyl methacrylate has an Abbe number indicating the degree of chromatic aberration of 58.
However, the refractive index is as low as about 1.49. For this reason, when producing a lens for strong myopia, there is a problem that the edge of the lens must be thickened.

【0005】また、ポリジエチレングリコ−ルビスアリ
ルカ−ボネ−トは、耐衝撃性に優れ、さらにアッベ数も
58と大きい。しかし、比重が1.33程度と比較的大
きく、またポリメチルメタクリレ−トと同様に屈折率が
1.49程度と低い。このため、強度の近視のためのレ
ンズを作製する場合、レンズのコバを厚くしなければな
らないという問題があった。
[0005] Polydiethylene glycol bisallyl carbonate is excellent in impact resistance and has a large Abbe number of 58. However, the specific gravity is relatively large at about 1.33, and the refractive index is as low as about 1.49 similarly to polymethyl methacrylate. For this reason, when producing a lens for strong myopia, there is a problem that the edge of the lens must be thickened.

【0006】さらに、ポリスチレンは屈折率が1.59
と高く優れているが、耐衝撃性に劣っている。しかも、
耐熱性、染色性及びハ−ドコ−ト皮膜の密着性にも劣る
という問題があった。また、特開平6−184241号
公報には、下記一般式(5)で表されるエ−テル結合を
有するスチレンの重合体が開示されているが、ポリスチ
レンと同様に耐衝撃性及び染色性に劣っている。
Furthermore, polystyrene has a refractive index of 1.59.
And high, but inferior in impact resistance. Moreover,
There is a problem that heat resistance, dyeability and adhesion of a hard coat film are also poor. Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-184241 discloses a styrene polymer having an ether bond represented by the following general formula (5). Inferior.

【0007】[0007]

【化4】 この発明は、上記のような従来技術の問題点に着目して
なされたものである。その目的とするところは、耐熱
性、染色性及び比重などの物性を良好に維持しつつ、屈
折率及びアッベ数が高く、かつ優れた耐衝撃性を発揮で
きるスチレン系単量体、スチレン系単量体組成物、スチ
レン系重合体及びプラスチック光学材料を提供すること
にある。
Embedded image The present invention has been made by paying attention to the above-mentioned problems of the prior art. The objective is to maintain styrene-based monomers and styrene-based monomers that have high refractive index and Abbe number and can exhibit excellent impact resistance while maintaining good physical properties such as heat resistance, dyeability and specific gravity. To provide a monomer composition, a styrenic polymer and a plastic optical material.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、第1の発明のスチレン系単量体は、下記一般式
(1)で表されるものである。
Means for Solving the Problems In order to achieve the above object, the styrene monomer of the first invention is represented by the following general formula (1).

【0009】[0009]

【化5】 (但し、式中Rは硫黄原子を含む総炭素数2〜11のア
ルキレン基、Xは水素原子又はメチル基である。)ま
た、第2の発明のスチレン系単量体は、第1の発明の一
般式(1)におけるRが、下記一般式(2)で表される
アルキレン基である。
Embedded image (Wherein, R is an alkylene group having a total of 2 to 11 carbon atoms including a sulfur atom, and X is a hydrogen atom or a methyl group.) The styrene monomer of the second invention is a styrene monomer of the first invention. In the general formula (1) is an alkylene group represented by the following general formula (2).

【0010】 −(CH2 CH2 S)m −(CH2 n − ・・・(2) (但し、式中m及びnはそれぞれ1〜5の整数であ
る。) 第3の発明のスチレン系重合体は、第1の発明のスチレ
ン系単量体を含む単量体を重合してなるものである。
-(CH 2 CH 2 S) m- (CH 2 ) n- (2) (where m and n are each an integer of 1 to 5) The styrene of the third invention The system polymer is obtained by polymerizing a monomer containing the styrene monomer of the first invention.

【0011】第4の発明のプラスチック光学材料用のス
チレン系重合体は、第1又は第2の発明のスチレン系単
量体を含む単量体を加熱硬化法又は活性エネルギ−線硬
化法により重合してなるものである。
The styrenic polymer for a plastic optical material of the fourth invention is obtained by polymerizing the monomer containing the styrenic monomer of the first or second invention by a heat curing method or an active energy ray curing method. It is made.

【0012】第5の発明のプラスチック光学材料は、第
3又は第4の発明のスチレン系重合体を所定形状に成形
してなるものである。第6の発明のスチレン系単量体組
成物は、第1又は第2の発明のスチレン系単量体と、ビ
ニル基を有する単量体を少なくとも一種含有してなるも
のである。
A plastic optical material according to a fifth aspect of the present invention is obtained by molding the styrene-based polymer according to the third or fourth aspect into a predetermined shape. The styrene monomer composition of the sixth invention comprises the styrene monomer of the first or second invention and at least one monomer having a vinyl group.

【0013】第7の発明のスチレン系単量体組成物は、
第6の発明において、前記ビニル基を有する単量体が、
(メタ)アクリロイル基を有する単量体である。第8の
発明のスチレン系単量体組成物は、第7の発明におい
て、前記(メタ)アクリロイル基を有する単量体が、下
記一般式(3)で表される単量体である。
[0013] The styrene monomer composition of the seventh invention comprises:
In the sixth invention, the monomer having a vinyl group is
It is a monomer having a (meth) acryloyl group. In a styrene-based monomer composition according to an eighth aspect, in the seventh aspect, the monomer having a (meth) acryloyl group is a monomer represented by the following general formula (3).

【0014】[0014]

【化6】 (但し、式中Yは水素原子又はメチル基、Aは炭素数2
〜6のアルキレン基、pは1〜25の整数を表す。) 第9の発明のスチレン系単量体組成物は、第6の発明に
おいて、前記ビニル基を有する単量体が、下記一般式
(4)で表される単量体である。
Embedded image (Where Y is a hydrogen atom or a methyl group, and A is C 2
An alkylene group of 6 to 6, p represents an integer of 1 to 25; In a styrene-based monomer composition according to a ninth aspect, in the sixth aspect, the monomer having a vinyl group is a monomer represented by the following general formula (4).

【0015】[0015]

【化7】 (但し、式中αは水素原子又はメチル基、βは水素原
子、塩素原子、臭素原子、炭素数1〜6のアルキル基又
はビニル基を表す。) 第10の発明のスチレン系重合体は、第6〜第9の発明
のいずれかに記載のスチレン系単量体組成物を重合して
なるものである。
Embedded image (Where α represents a hydrogen atom or a methyl group, β represents a hydrogen atom, a chlorine atom, a bromine atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a vinyl group.) The styrene polymer of the tenth invention is It is obtained by polymerizing the styrene monomer composition according to any one of the sixth to ninth inventions.

【0016】第11の発明のプラスチック光学材料用の
スチレン系重合体は、第6〜第9の発明のいずれかに記
載のスチレン系単量体組成物を加熱硬化法又は活性エネ
ルギ−線硬化法により重合してなるものである。
According to an eleventh aspect of the present invention, there is provided a styrenic polymer for a plastic optical material, wherein the styrenic monomer composition according to any one of the sixth to ninth aspects is cured by heating or active energy ray curing. By polymerization.

【0017】第12の発明のプラスチック光学材料は、
第10又は第11の発明のスチレン系重合体を所定形状
に成形してなるものである。
A plastic optical material according to a twelfth aspect is:
The styrene polymer of the tenth or eleventh invention is formed into a predetermined shape.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】以下、この発明を具体化した実施
形態について詳細に説明する。新規なスチレン系単量体
は下記一般式(1)で表される。一般式(1)中のR
は、硫黄原子を含む炭素数2〜11のアルキレン基であ
る。R中の総炭素数は3〜7が好ましく、3〜5がさら
に好ましい。総炭素数が11を越えると、得られるスチ
レン系重合体の耐熱性などの物性が低下する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail. The novel styrene monomer is represented by the following general formula (1). R in the general formula (1)
Is an alkylene group having 2 to 11 carbon atoms including a sulfur atom. The total number of carbon atoms in R is preferably from 3 to 7, more preferably from 3 to 5. When the total number of carbon atoms exceeds 11, physical properties such as heat resistance of the obtained styrene-based polymer are reduced.

【0019】また、R中における硫黄原子数に対する炭
素原子数の割合は、大きすぎると屈折率が小さくなって
しまうために、その割合は2〜5が好ましく、2〜4が
さらに好ましく、2〜3が特に好ましい。
If the ratio of the number of carbon atoms to the number of sulfur atoms in R is too large, the refractive index becomes small. Therefore, the ratio is preferably 2 to 5, more preferably 2 to 4, and more preferably 2 to 4. 3 is particularly preferred.

【0020】[0020]

【化8】 (但し、式中Rは硫黄原子を含む総炭素数2〜11のア
ルキレン基、Xは水素原子又はメチル基である。) この一般式(1)で表されるスチレン系単量体は、2分
子のスチレンが硫黄原子を含むアルキレン基を介して結
合した特定構造を有していることから、スチレン系単量
体を重合して得られる重合体よりなるプラスチック光学
材料の屈折率及びアッベ数を向上できる機能を備えてい
る。また、そのスチレン系単量体より得られる重合体
は、水素結合を介する結合構造を有するとともに、2分
子のスチレンにより架橋構造をとることから、得られる
重合体の耐衝撃性、耐熱性及び耐溶剤性を高める機能を
備えている。
Embedded image (Where R is an alkylene group having 2 to 11 carbon atoms including a sulfur atom, and X is a hydrogen atom or a methyl group.) The styrene monomer represented by the general formula (1) is Since the molecular styrene has a specific structure linked via an alkylene group containing a sulfur atom, the refractive index and Abbe number of a plastic optical material made of a polymer obtained by polymerizing a styrene monomer are determined. It has functions that can be improved. Further, the polymer obtained from the styrene-based monomer has a bonding structure via a hydrogen bond and has a cross-linked structure with two molecules of styrene, so that the obtained polymer has impact resistance, heat resistance and resistance to heat. It has a function to enhance solvent properties.

【0021】さらに、上記スチレン系単量体は極性基で
あるヒドロキシル基を有しているため、得られる重合体
の染色性を高めることができる機能を備えている。加え
て、スチレン系単量体は2つのベンゼン環を有している
ことから、得られる重合体の比重を小さくすることがで
きる機能を備えている。
Further, since the styrenic monomer has a hydroxyl group which is a polar group, it has a function of improving the dyeability of the obtained polymer. In addition, since the styrene monomer has two benzene rings, it has a function of reducing the specific gravity of the obtained polymer.

【0022】前記一般式(1)のRは次の一般式(2)
で表されるものが好ましい。 −(CH2 CH2 S)m −(CH2 n − ・・・(2) (但し、式中m及びnはそれぞれ1〜5の整数であ
る。) この一般式(2)で表されるものは、硫黄原子数に対す
る炭素原子数の割合が小さく、すなわち硫黄密度が高
く、得られる重合体が高屈折率のものになるとともに、
その原料としてHSCH2 CH2 OHやHSCH2 CH
2 SHなどのものの入手が容易で、経済的だからであ
る。
In the general formula (1), R is the following general formula (2)
Is preferably represented by -(CH 2 CH 2 S) m- (CH 2 ) n- (2) (where m and n are each an integer of 1 to 5) represented by the general formula (2). The ones in which the ratio of the number of carbon atoms to the number of sulfur atoms is small, that is, the sulfur density is high, and the resulting polymer has a high refractive index,
HSCH 2 CH 2 OH or HSCH 2 CH
This is because it is easy and economical to obtain things such as 2SH.

【0023】前記m及びnはそれぞれ1〜5の整数であ
り、mが5を越えると、得られるスチレン系重合体の耐
熱性が低下し、nが5を越えると、得られるスチレン系
重合体の屈折率が低くなる。これらのm及びnはそれぞ
れ1〜3が好ましく、1〜2がさらに好ましい。
The above m and n are each an integer of 1 to 5, and when m exceeds 5, the heat resistance of the obtained styrene-based polymer decreases, and when n exceeds 5, the obtained styrene-based polymer becomes Has a low refractive index. These m and n are each preferably 1 to 3, and more preferably 1 to 2.

【0024】前記一般式(1)におけるCH2 =CX−
基はベンゼン環に対して、オルト位、メタ位及びパラ位
のいずれの位置に結合していてもよいが、生成の容易性
から通常メタ又はパラ位であるのが好ましい。オルト位
は立体障害が大きく生成しにくいが、オルト位であって
もよい。
In the general formula (1), CH 2 CCX-
The group may be bonded to any of the ortho, meta and para positions with respect to the benzene ring, but is usually preferably in the meta or para position for ease of formation. The ortho position has a large steric hindrance and is difficult to generate, but may be in the ortho position.

【0025】一般式(1)で表されるスチレン系単量体
の代表的な化合物を例示すると、下記の化学式(6)〜
(29)に示される化合物が挙げられるが、これらに限
定されるものではない。
The typical compounds of the styrene monomer represented by the general formula (1) are exemplified by the following chemical formulas (6) to (6).
Examples include the compound shown in (29), but are not limited thereto.

【0026】[0026]

【化9】 Embedded image

【0027】[0027]

【化10】 Embedded image

【0028】[0028]

【化11】 Embedded image

【0029】[0029]

【化12】 Embedded image

【0030】[0030]

【化13】 Embedded image

【0031】[0031]

【化14】 Embedded image

【0032】[0032]

【化15】 Embedded image

【0033】[0033]

【化16】 Embedded image

【0034】[0034]

【化17】 Embedded image

【0035】[0035]

【化18】 Embedded image

【0036】[0036]

【化19】 Embedded image

【0037】[0037]

【化20】 Embedded image

【0038】[0038]

【化21】 Embedded image

【0039】[0039]

【化22】 Embedded image

【0040】[0040]

【化23】 Embedded image

【0041】[0041]

【化24】 Embedded image

【0042】[0042]

【化25】 Embedded image

【0043】[0043]

【化26】 Embedded image

【0044】[0044]

【化27】 Embedded image

【0045】[0045]

【化28】 Embedded image

【0046】[0046]

【化29】 Embedded image

【0047】[0047]

【化30】 Embedded image

【0048】[0048]

【化31】 Embedded image

【0049】[0049]

【化32】 前記一般式(1)で表されるスチレン系単量体は前述の
ように新規化合物であり、その合成方法は、保護化水酸
基を有するとともに硫黄原子を含むジヒドロキシ化合物
と、ビニル(又はイソプロペニル)ベンジルハロゲン体
とを、触媒存在下に反応させた後に脱保護化するもので
ある。その触媒としては、トリエチルアミン、イミダゾ
−ル、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ
−7−エン(DBU)、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、炭酸カリウム、水素化ナトリウム等が使用され
る。水酸基の保護基としては2−テトラヒドロピラニル
基、2−テトラヒドロフラニル基、1−エトキシエチル
基、1−イソプロポキシエチル基、1−ブトキシエチル
基、1−(2−エチルヘキシルオキシ)エチル基、1−
(t−ブトキシ)エチル基、1−(t−アミルオキシ)
エチル基、1−(シクロヘキシルオキシ)エチル基、t
−ブチルジメチルシリル基等が挙げられる。
Embedded image The styrene-based monomer represented by the general formula (1) is a novel compound as described above, and is synthesized by a dihydroxy compound having a protected hydroxyl group and containing a sulfur atom, and vinyl (or isopropenyl). A benzyl halide is reacted in the presence of a catalyst and then deprotected. As the catalyst, triethylamine, imidazole, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undec-7-ene (DBU), sodium hydroxide, potassium hydroxide, potassium carbonate, sodium hydride and the like are used. You. Examples of the hydroxyl-protecting group include a 2-tetrahydropyranyl group, a 2-tetrahydrofuranyl group, a 1-ethoxyethyl group, a 1-isopropoxyethyl group, a 1-butoxyethyl group, a 1- (2-ethylhexyloxy) ethyl group, −
(T-butoxy) ethyl group, 1- (t-amyloxy)
Ethyl group, 1- (cyclohexyloxy) ethyl group, t
-Butyldimethylsilyl group and the like.

【0050】さらに、別法として、ビニル(又はイソプ
ロペニル)ベンジルオキシル基を有するメルカプト化合
物と2,3−エポキシプロパンのハロゲン化物又はヒド
ロキシル基を有するジハロゲン化合物とを塩基存在下で
反応させることによっても得られる。
Further, as another method, a mercapto compound having a vinyl (or isopropenyl) benzyloxyl group is reacted with a halide of 2,3-epoxypropane or a dihalogen compound having a hydroxyl group in the presence of a base. can get.

【0051】また、スチレン系単量体組成物は、前記ス
チレン系単量体とその他のビニル基を有する単量体を含
有する。そのようなビニル基を有する単量体としては、
例えば(メタ)アクリロイル基を有する単量体が、アッ
ベ数を高めたり、耐衝撃性を向上させるために使用され
る。
The styrenic monomer composition contains the styrenic monomer and another monomer having a vinyl group. Examples of such a monomer having a vinyl group include:
For example, a monomer having a (meth) acryloyl group is used for increasing the Abbe number or improving the impact resistance.

【0052】次に、新規なスチレン系重合体は、前記一
般式(1)で表されるスチレン系単量体又は前記スチレ
ン系単量体組成物を重合することにより得られる。すな
わち、このスチレン系重合体は、スチレン系単量体の単
独重合体、又はスチレン系単量体を必須成分とし他の共
重合可能な単量体を併用して共重合した共重合体であ
る。共重合体の場合、一般式(1)で表されるスチレン
系単量体を主成分とする単量体混合物を共重合して得ら
れるものが、スチレン系単量体の機能を有効に発揮させ
るために好ましい。
Next, a novel styrene-based polymer is obtained by polymerizing the styrene-based monomer represented by the general formula (1) or the styrene-based monomer composition. That is, the styrene-based polymer is a homopolymer of a styrene-based monomer, or a copolymer obtained by copolymerizing a styrene-based monomer as an essential component with another copolymerizable monomer. . In the case of a copolymer, a copolymer obtained by copolymerizing a monomer mixture containing a styrene-based monomer represented by the general formula (1) as a main component effectively exhibits the function of the styrene-based monomer. Preferred for

【0053】他の共重合可能な単量体としては、例え
ば、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、
エチルスチレン、p−クロロスチレン、o−クロロスチ
レン、クロロメチルスチレン、p−ブロモスチレン、m
−ブロモスチレン、ジビニルベンゼン、ジビニルビフェ
ニル、ビニルフェノ−ル、ビニルナフタレン、2,4−
ジフェニル−4−メチル−1−ペンテン、ビニルカルバ
ゾ−ル、ビニルピリジン、ビニルチオフェン、ビニルフ
ラン等のビニル芳香族単量体が挙げられる。
Other copolymerizable monomers include, for example, styrene, α-methylstyrene, vinyltoluene,
Ethylstyrene, p-chlorostyrene, o-chlorostyrene, chloromethylstyrene, p-bromostyrene, m
-Bromostyrene, divinylbenzene, divinylbiphenyl, vinylphenol, vinylnaphthalene, 2,4-
Examples include vinyl aromatic monomers such as diphenyl-4-methyl-1-pentene, vinyl carbazole, vinyl pyridine, vinyl thiophene, and vinyl furan.

【0054】さらに、他の共重合可能な単量体として
は、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、安息香酸ビニ
ル、(メタ)アクリル酸、メチル(メタ)アクリレ−
ト、エチル(メタ)アクリレ−ト、イソプロピル(メ
タ)アクリレ−ト、2−エチルヘキシル(メタ)アクリ
レ−ト、グリシジル(メタ)アクリレ−ト、テトラヒド
ロフリル(メタ)アクリレ−ト、メチルトリグリコ−ル
(メタ)アクリレ−ト、n−ブトキシエチル(メタ)ア
クリレ−ト、メトキシジエチレングリコ−ル(メタ)ア
クリレ−ト、メトキシテトラエチレングリコ−ル(メ
タ)アクリレ−ト、フェノキシエチル(メタ)アクリレ
−ト、フェノキシプロピル(メタ)アクリレ−ト、2−
ヒドロキシエチル(メタ)アクリレ−ト、2−ヒドロキ
シプロピル(メタ)アクリレ−ト、アリル(メタ)アク
リレ−ト、フェニル(メタ)アクリレ−ト、ベンジル
(メタ)アクリレ−ト、p−クロルフェニル(メタ)ア
クリレ−ト、p−クロルベンジル(メタ)アクリレ−
ト、p−ブロモフェニル(メタ)アクリレ−ト、p−ブ
ロモベンジル(メタ)アクリレ−ト、ナフチル(メタ)
アクリレ−ト、(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメ
チル(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリロニトリ
ル、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)
アクリレ−ト、エチレングリコ−ルジ(メタ)アクリレ
−ト、1,6−ヘキサンジオ−ルジ(メタ)アクリレ−
ト、1,3−ブチレングリコ−ルジ(メタ)アクリレ−
ト、ジエチレングリコ−ルジ(メタ)アクリレ−ト、ポ
リエチレングリコ−ルジ(メタ)アクリレ−ト、プロピ
レングリコ−ルジ(メタ)アクリレ−ト、ジプロピレン
グリコ−ル ジ(メタ)アクリレ−ト、ポリプロピレン
グリコ−ルジ(メタ)アクリレ−ト、グリセリンジ(メ
タ)アクリレ−ト、3−アクリロイルグリセリンモノメ
タクリレ−ト、トリメチロ−ルプロパントリ(メタ)ア
クリレ−ト、ペンタエリスリト−ルテトラ(メタ)アク
リレ−ト、2,2−ビス[4−[(メタ)アクリロイル
オキシ]フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−
[(メタ)アクリロイルオキシエトキシ]フェニル]プ
ロパン、2,2−ビス[4−[(メタ)アクリロイルオ
キシジエトキシ]フェニル]プロパン、2,2−ビス
[4−[(メタ)アクリロイルオキシトリエトキシ]フ
ェニル]プロパン、2,2−ビス[4−[(メタ)アク
リロイルオキシテトラエトキシ]フェニル]プロパン、
2,2−ビス[4−[(メタ)アクリロイルオキシヘキ
サエトキシ]フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−
[(メタ)アクリロイルオキシプロピルオキシ]フェニ
ル]プロパン、2,2−ビス[4−[(メタ)アクリロ
イルオキシポリエトキシ]フェニル]プロパン、2,2
−ビス[4−[2−(メタクリロイルオキシ)エトキシ
カルボニルオキシ]フェニル]プロパン、2,2−ビス
[4−[3−[(メタ)アクリロイルオキシ]−2−
[ヒドロキシプロピルオキシ]]フェニル]プロパン、
2,2−ビス[4−[2−[3−[(メタ)アクリロイ
ルオキシ]−2−ヒドロキシプロポキシ]プロポキシ]
フェニル]プロパン、ビスフェノ−ルS−ジ(メタ)ア
クリレ−ト、ビスフェノ−ルケトンジ(メタ)アクリレ
−ト、ビスフェノ−ルスルフィドジ(メタ)アクリレ−
ト、2,2−ビス[4−[3−[(メタ)アクリロイル
オキシ]−2−ヒドロキシプロポキシ]フェニル]プロ
パン、トリメチロ−ルプロパントリ(メタ)アクリレ−
ト、ジエチレングリコ−ルビスアリルカ−ボネ−ト、ジ
イソプロピルフマレ−ト、ジイソプロピルマレ−ト、ジ
アリルフマレ−ト、ジアリルマレ−ト、ジベンジルフマ
レ−ト、ジベンジルマレ−ト、ジベンジルメサコネ−
ト、無水マレイン酸、無水イタコン酸、フタル酸ジアリ
ル、イソフタル酸ジアリル、テレフタル酸ジアリル、シ
アヌル酸アリル、イソシアヌル酸アリル、ナフタレンジ
カルボン酸ジアリル、アリルメタクリレ−ト等が挙げら
れる。これらの単量体は、単独又は混合物として使用さ
れる。
Further, other copolymerizable monomers include vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl benzoate, (meth) acrylic acid and methyl (meth) acrylic acid.
, Ethyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, tetrahydrofuryl (meth) acrylate, methyl triglycol (Meth) acrylate, n-butoxyethyl (meth) acrylate, methoxydiethylene glycol (meth) acrylate, methoxytetraethylene glycol (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate Phenoxypropyl (meth) acrylate, 2-
Hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, allyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, p-chlorophenyl (meth) ) Acrylate, p-chlorobenzyl (meth) acrylate
P-bromophenyl (meth) acrylate, p-bromobenzyl (meth) acrylate, naphthyl (meth)
Acrylate, (meth) acrylamide, N, N-dimethyl (meth) acrylamide, (meth) acrylonitrile, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth)
Acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate
G, 1,3-butyleneglycol di (meth) acrylate
Diethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol Rudi (meth) acrylate, glycerin di (meth) acrylate, 3-acryloylglycerin monomethacrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, 2 , 2-bis [4-[(meth) acryloyloxy] phenyl] propane, 2,2-bis [4-
[(Meth) acryloyloxyethoxy] phenyl] propane, 2,2-bis [4-[(meth) acryloyloxydiethoxy] phenyl] propane, 2,2-bis [4-[(meth) acryloyloxytriethoxy] Phenyl] propane, 2,2-bis [4-[(meth) acryloyloxytetraethoxy] phenyl] propane,
2,2-bis [4-[(meth) acryloyloxyhexaethoxy] phenyl] propane, 2,2-bis [4-
[(Meth) acryloyloxypropyloxy] phenyl] propane, 2,2-bis [4-[(meth) acryloyloxypolyethoxy] phenyl] propane, 2,2
-Bis [4- [2- (methacryloyloxy) ethoxycarbonyloxy] phenyl] propane, 2,2-bis [4- [3-[(meth) acryloyloxy] -2-
[Hydroxypropyloxy]] phenyl] propane,
2,2-bis [4- [2- [3-[(meth) acryloyloxy] -2-hydroxypropoxy] propoxy]
Phenyl] propane, bisphenol S-di (meth) acrylate, bisphenolketone di (meth) acrylate, bisphenolsulfidedi (meth) acrylate
G, 2,2-bis [4- [3-[(meth) acryloyloxy] -2-hydroxypropoxy] phenyl] propane, trimethylolpropane tri (meth) acryle
Diethylene glycol bisallyl carbonate, diisopropyl fumarate, diisopropyl maleate, diallyl fumarate, diallyl maleate, dibenzyl fumarate, dibenzyl maleate, dibenzyl mesa cone
G, maleic anhydride, itaconic anhydride, diallyl phthalate, diallyl isophthalate, diallyl terephthalate, allyl cyanurate, allyl isocyanurate, diallyl naphthalenedicarboxylate, allyl methacrylate and the like. These monomers are used alone or as a mixture.

【0055】また、第6の発明における他の共重合可能
なビニル基を有する単量体としては、アッベ数を高める
のに有効な下記の一般式(3)で表される単量体が好ま
しい。
Further, as the other monomer having a copolymerizable vinyl group in the sixth invention, a monomer represented by the following general formula (3), which is effective for increasing the Abbe number, is preferable. .

【0056】[0056]

【化33】 (但し、式中Yは水素原子又はメチル基を表す。Aは炭
素数2〜6のアルキレン基を表す。pは1〜25の整数
である。) そのような単量体としては、例えば、エチレングリコ−
ルジメタクリレ−ト、ジエチレングリコ−ルジメタクリ
レ−ト、トリエチレングリコ−ルジメタクリレ−ト、テ
トラエチレングリコ−ルジメタクリレ−ト、ペンタエチ
レングリコ−ルジメタクリレ−ト、ヘキサエチレングリ
コ−ルジメタクリレ−ト、ヘプタエチレングリコ−ルジ
メタクリレ−ト、オクタエチレングリコ−ルジメタクリ
レ−ト、ノナエチレングリコ−ルジメタクリレ−ト、デ
カエチレングリコ−ルジメタクリレ−ト、テトラデカエ
チレングリコ−ルジメタクリレ−ト、トリコサエチレン
グリコ−ルジメタクリレ−ト、1,2−プロピレングリ
コ−ルジメタクリレ−ト、1,3−プロピレングリコ−
ルジメタクリレ−ト、1,3−ブチレングリコ−ルジメ
タクリレ−ト、1,4−ブチレングリコ−ルジメタクリ
レ−ト、1,6−ヘキサンジオ−ルジメタクリレ−ト、
ネオペンチルグリコ−ルジメタクリレ−ト、ヘプタプロ
ピレングリコ−ルジメタクリレ−ト、エチレングリコ−
ルジアクリレ−ト、ヘキサエチレングリコ−ルジアクリ
レ−ト、ノナエチレングリコ−ルジアクリレ−ト、テト
ラデカエチレングリコ−ルジアクリレ−ト、トリプロピ
レングリコ−ルジアクリレ−ト、ヘプタプロピレングリ
コ−ルジアクリレ−ト、ドデカプロピレングリコ−ルジ
アクリレ−ト等が挙げられる。
Embedded image (In the formula, Y represents a hydrogen atom or a methyl group. A represents an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms. P is an integer of 1 to 25.) As such a monomer, for example, Ethylene glyco-
Rudimethacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, tetraethylene glycol dimethacrylate, pentaethylene glycol dimethacrylate, hexaethylene glycol dimethacrylate, heptaethylene glycol dimethacrylate, Octaethylene glycol dimethacrylate, nonaethylene glycol dimethacrylate, decaethylene glycol dimethacrylate, tetradecaethylene glycol dimethacrylate, tricosaethylene glycol dimethacrylate, 1,2-propylene glycol dimethacrylate -G, 1,3-propylene glyco-
Rudimethacrylate, 1,3-butyleneglycoldimethacrylate, 1,4-butyleneglycoldimethacrylate, 1,6-hexanediol-dimethacrylate,
Neopentyl glycol dimethacrylate, heptapropylene glycol dimethacrylate, ethylene glycol
Rudiacrylate, hexaethylene glycol diacrylate, nonaethylene glycol diacrylate, tetradecaethylene glycol diacrylate, tripropylene glycol diacrylate, heptapropylene glycol diacrylate, dodecapropylene glycol diacrylate -And the like.

【0057】また、ビニル基を有する単量体としては、
屈折率とアッベ数を高めるのに有効な下記の一般式(3
0)で表される単量体が好ましい。
Further, as the monomer having a vinyl group,
The following general formula (3) effective for increasing the refractive index and Abbe number
The monomer represented by 0) is preferred.

【0058】[0058]

【化34】 (但し、式中Yは水素原子またはメチル基を表す。Bは
炭素数2〜6のアルキレン基を表す。aは水素原子、塩
素原子又は臭素原子である。qは1〜20の整数であ
る。Zは炭素数1〜10のアルキレン基、酸素原子、ス
ルフォキシド基またはスルフォン基である。) そのような単量体としては、例えば、2,2−ビス[4
−(メタクリロイルオキシ)フェニル]プロパン、2,
2−ビス[4−(メタクリロイルオキシエトキシ)フェ
ニル]プロパン、2,2−ビス[4−(メタクリロイル
オキシジエトキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス
[4−(メタクリロイルオキシトリエトキシ)フェニ
ル]プロパン、2,2−ビス[4−(メタクリロイルオ
キシテトラエトキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビ
ス[4−(メタクリロイルオキシペンタエトキシ)フェ
ニル]プロパン、2,2−ビス[4−(メタクリロイル
オキシヘキサエトキシ)フェニル]プロパン、2,2−
ビス[4−(メタクリロイルオキシデカエトキシ)フェ
ニル]プロパン、2,2−ビス[4−(メタクリロイル
オキシペンタデカエトキシ)フェニル]プロパン、2,
2−ビス[4−(アクリロイルオキシジエトキシ)フェ
ニル]プロパン、2,2−ビス[4−(アクリロイルオ
キシエトキシ)フェニル]プロパン、1,1−ビス[4
−(メタクリロイルオキシジエトキシ)フェニル]シク
ロヘキサン、ビス[4−(メタクリロイルオキシ)フェ
ニル]エ−テル、ビス[4−(メタクリロイルオキシ)
フェニル]スルフォン、2,2−ビス[4−[(メタ)
アクリロイルオキシプロピルオキシ]フェニル]プロパ
ン、2,2−ビス[4−[(メタ)アクリロイルオキシ
ヘキシルオキシ]フェニル]プロパン、2,2−ビス
[4−(メタクリロイルオキシエトキシ)3,5−ジブ
ロモフェニル]プロパン等が挙げられる。
Embedded image (Wherein, Y represents a hydrogen atom or a methyl group; B represents an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms; a represents a hydrogen atom, a chlorine atom or a bromine atom; and q represents an integer of 1 to 20). Z is an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, an oxygen atom, a sulfoxide group or a sulfone group.) Examples of such a monomer include 2,2-bis [4
-(Methacryloyloxy) phenyl] propane, 2,
2-bis [4- (methacryloyloxyethoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (methacryloyloxydiethoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (methacryloyloxytriethoxy) phenyl] propane 2,2-bis [4- (methacryloyloxytetraethoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (methacryloyloxypentaethoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (methacryloyloxyhexaethoxy) ) Phenyl] propane, 2,2-
Bis [4- (methacryloyloxydecaethoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (methacryloyloxypentadecaethoxy) phenyl] propane, 2,
2-bis [4- (acryloyloxydiethoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (acryloyloxyethoxy) phenyl] propane, 1,1-bis [4
-(Methacryloyloxydiethoxy) phenyl] cyclohexane, bis [4- (methacryloyloxy) phenyl] ether, bis [4- (methacryloyloxy)
Phenyl] sulfone, 2,2-bis [4-[(meth)
Acryloyloxypropyloxy] phenyl] propane, 2,2-bis [4-[(meth) acryloyloxyhexyloxy] phenyl] propane, 2,2-bis [4- (methacryloyloxyethoxy) 3,5-dibromophenyl] And propane.

【0059】また、ビニル基を有する単量体としては、
屈折率とアッベ数を高めるのに有効な下記の一般式(3
1)で表される単量体が好ましい。
Further, as the monomer having a vinyl group,
The following general formula (3) effective for increasing the refractive index and Abbe number
The monomer represented by 1) is preferred.

【0060】[0060]

【化35】 (但し、式中Yは水素原子またはメチル基を表す。Dは
炭素数2〜6のアルキレン基を表す。bは水素原子、塩
素原子又は臭素原子である。rは1〜20の整数であ
る。Zは炭素数1〜10のアルキレン基、酸素原子、ス
ルフォキシド基またはスルフォン基である。) そのような単量体としては、例えば、2,2−ビス[4
−(メタクリロイルオキシエトキシカルボニルオキシ)
フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(メタクリロ
イルオキシジエトキシカルボニルオキシ)フェニル]プ
ロパン、2,2−ビス[4−(メタクリロイルオキシト
リエトキシカルボニルオキシ)フェニル]プロパン、
2,2−ビス[4−(メタクリロイルオキシテトラエト
キシカルボニルオキシ)フェニル]プロパン、2,2−
ビス[4−(メタクリロイルオキシペンタエトキシカル
ボニルオキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4
−(メタクリロイルオキシヘキサエトキシカルボニルオ
キシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(メタ
クリロイルオキシデカエトキシカルボニルオキシ)フェ
ニル]プロパン、2,2−ビス[4−(メタクリロイル
オキシペンタデカエトキシカルボニルオキシ)フェニ
ル]プロパン、2,2−ビス[4−(メタクリロイルオ
キシブトキシカルボニルオキシ)フェニル]プロパン、
2,2−ビス[4−(アクリロイルオキシエトキシカル
ボニルオキシ)フェニル]プロパン、ビス[4−(アク
リロイルオキシトリヘキシルオキシカルボニルオキシ)
フェニル]エ−テル、2,2−ビス[4−(メタクリロ
イルオキシエトキシカルボニルオキシ)−3,5−ジブ
ロモフェニル]プロパン等が挙げられる。
Embedded image (Where Y represents a hydrogen atom or a methyl group; D represents an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms; b is a hydrogen atom, a chlorine atom or a bromine atom; and r is an integer of 1 to 20). Z is an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, an oxygen atom, a sulfoxide group or a sulfone group.) Examples of such a monomer include 2,2-bis [4
-(Methacryloyloxyethoxycarbonyloxy)
Phenyl] propane, 2,2-bis [4- (methacryloyloxydiethoxycarbonyloxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (methacryloyloxytriethoxycarbonyloxy) phenyl] propane,
2,2-bis [4- (methacryloyloxytetraethoxycarbonyloxy) phenyl] propane, 2,2-
Bis [4- (methacryloyloxypentaethoxycarbonyloxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4
-(Methacryloyloxyhexaethoxycarbonyloxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (methacryloyloxydecaethoxycarbonyloxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (methacryloyloxypentadecaethoxycarbonyloxy) Phenyl] propane, 2,2-bis [4- (methacryloyloxybutoxycarbonyloxy) phenyl] propane,
2,2-bis [4- (acryloyloxyethoxycarbonyloxy) phenyl] propane, bis [4- (acryloyloxytrihexyloxycarbonyloxy)
Phenyl] ether, 2,2-bis [4- (methacryloyloxyethoxycarbonyloxy) -3,5-dibromophenyl] propane and the like.

【0061】また、ビニル基を有する単量体としては、
アッベ数を高めるのに有効な下記の一般式(32)で表
される単量体が好ましい。
Further, as the monomer having a vinyl group,
A monomer represented by the following general formula (32), which is effective for increasing the Abbe number, is preferred.

【0062】[0062]

【化36】 (但し、式中Yは水素原子、またはメチル基を表す。E
は炭素数2〜6のアルキレン基を表す。tは0〜25の
整数である。Gはハロゲン原子で置換されていてもよい
フェニル基、ベンジル基、炭素数1〜6のアルキル基を
表す。) そのような単量体としては、例えば、メチルメタクリレ
−ト、エチルメタクリレ−ト、イソプロピルメタクリレ
−ト、ヘキシルメタクリレ−ト、(メトキシジエチレン
グリコ−ル)モノメタクリレ−ト、(メトキシテトラエ
チレングリコ−ル)モノメタクリレ−ト、(メトキシノ
ナエチレングリコ−ル)モノメタクリレ−ト、(メトキ
シペンタデカエチレングリコ−ル)モノメタクリレ−
ト、(メトキシトリコサエチレングリコ−ル)モノメタ
クリレ−ト、(メトキシエチレングリコ−ル)モノアク
リレ−ト、(メトキシジエチレングリコ−ル)モノアク
リレ−ト、(メトキシテトラエチレングリコ−ル)モノ
アクリレ−ト、(メトキシデカエチレングリコ−ル)モ
ノアクリレ−ト、(メトキシドデカエチレングリコ−
ル)モノアクリレ−ト、(メトキシヘキサデカエチレン
グリコ−ル)モノアクリレ−ト、フェニルメタクリレ−
ト、ベンジルメタクリレ−ト、フェニルアクリレ−ト、
ベンジルアクリレ−ト、フェノキシエチルメタクリレ−
ト、フェノキシジエチレングリコ−ルメタクリレ−ト、
フェノキシエチルアクリレ−ト、(フェノキシジエチレ
ングリコ−ル)モノアクリレ−ト、(フェノキシノナエ
チレングリコ−ル)モノアクリレ−ト、(フェノキシペ
ンタデカエチレングリコ−ル)モノメタクリレ−ト、フ
ェノキシプロピルメタクリレ−ト、フェノキシヘキシル
メタクリレ−ト、2−(2,4,6−トリブロモフェニ
ルオキシ)エチルアクリレ−ト、2,4,6−トリブロ
モフェニルメタクリレ−ト等が挙げられる。
Embedded image (Wherein, Y represents a hydrogen atom or a methyl group.
Represents an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms. t is an integer of 0 to 25. G represents a phenyl group, a benzyl group, or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom. Examples of such a monomer include methyl methacrylate, ethyl methacrylate, isopropyl methacrylate, hexyl methacrylate, (methoxydiethylene glycol) monomethacrylate, and (methoxytetraethylene). (Glycol) monomethacrylate, (methoxynonaethyleneglycol) monomethacrylate, (methoxypentadecaethyleneglycol) monomethacrylate
, (Methoxytricosaethylene glycol) monomethacrylate, (methoxyethylene glycol) monoacrylate, (methoxydiethylene glycol) monoacrylate, (methoxytetraethylene glycol) monoacrylate, (methoxy (Decaethylene glycol) monoacrylate, (Methoxydodecaethylene glycol)
G) monoacrylate, (methoxyhexadecaethylene glycol) monoacrylate, phenyl methacrylate
Benzyl methacrylate, phenyl acrylate,
Benzyl acrylate, phenoxyethyl methacrylate
Phenoxydiethylene glycol methacrylate,
Phenoxyethyl acrylate, (phenoxydiethylene glycol) monoacrylate, (phenoxynonaethylene glycol) monoacrylate, (phenoxypentadecaethylene glycol) monomethacrylate, phenoxypropyl methacrylate, phenoxy Hexyl methacrylate, 2- (2,4,6-tribromophenyloxy) ethyl acrylate, 2,4,6-tribromophenyl methacrylate and the like can be mentioned.

【0063】また、ビニル基を有する単量体としては、
アッベ数を高めるのに有効な下記の一般式(33)で表
される単量体が好ましい。
Further, as the monomer having a vinyl group,
A monomer represented by the following general formula (33), which is effective for increasing the Abbe number, is preferable.

【0064】[0064]

【化37】 (但し、式中Yは水素原子又はメチル基を表す。Jは炭
素数2〜6のアルキレン基を表す。uは0〜10の整数
である。Kは炭素数1〜6のアルキレン基を表す。vは
3または4である。vが3のときは、Lは水素原子また
は炭素数1〜6のアルキル基であり、vが4のときは、
Lはない。) そのような単量体としては、例えば、トリメチロ−ルプ
ロパントリメタクリレ−ト、トリメチロ−ルプロパント
リアクリレ−ト、テトラメチロ−ルメタンテトラメタク
リレ−ト、テトラメチロ−ルメタンテトラアクリレ−
ト、トリメチロ−ルプロパントリ(メタクリロイルエト
キシル)、トリメチロ−ルプロパントリ(アクリロイル
エトキシル)、トリメチロ−ルプロパントリ(メタクリ
ロイルジエトキシル)、トリメチロ−ルプロパントリ
(アクリロイルジエトキシル)、トリメチロ−ルプロパ
ントリ(メタクリロイルトリエトキシル)、トリメチロ
−ルプロパントリ(アクリロイルトリエトキシル)、ト
リメチロ−ルプロパントリ(メタクリロイルヘキサエト
キシル)、トリメチロ−ルプロパントリ(アクリロイル
ヘキサエトキシル)等が挙げられる。
Embedded image (Wherein, Y represents a hydrogen atom or a methyl group; J represents an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms; u is an integer of 0 to 10; K represents an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms). And v is 3 or 4. When v is 3, L is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
There is no L. Examples of such monomers include, for example, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolpropane triacrylate, tetramethylolmethanetetramethacrylate, tetramethylolmethanetetraacrylate.
, Trimethylolpropane tri (methacryloyl ethoxyl), trimethylol propane tri (acryloyl ethoxy), trimethylol propane tri (methacryloyl diethoxy), trimethylol propane tri (acryloyl diethoxyl), trimethylol tripropytritriol Triethoxyl), trimethylolpropane tri (methacryloyl hexaethoxy), and trimethylol propane tri (acryloyl hexaethoxy).

【0065】また、ビニル基を有する単量体としては、
屈折率を高めるのに有効である下記一般式(4)で表さ
れる単量体が好ましい。
Further, as the monomer having a vinyl group,
Preferred is a monomer represented by the following general formula (4), which is effective for increasing the refractive index.

【0066】[0066]

【化38】 (但し、式中αは水素原子又はメチル基を表す。βは水
素原子、塩素原子、臭素原子、炭素数1〜6のアルキル
基、またはビニル基を表す。) そのような単量体としては、例えば、スチレン、α−メ
チルスチレン、p−メチルスチレン、m−メチルスチレ
ン、p−エチルスチレン、m−エチルスチレン、p−イ
ソプロピルスチレン、m−イソプロピルスチレン、p−
(t−ブチル)スチレン、m−(t−ブチル)スチレ
ン、p−クロロスチレン、m−クロロスチレン、o−ク
ロロスチレン、p−ブロモスチレン、m−ブロモスチレ
ン、p−ビニルスチレン、m−ビニルスチレン、α−メ
チル−p−クロロスチレン、α−メチル−m−クロロス
チレン、α−メチル−p−ブロモスチレン、α−メチル
−m−ブロモスチレン等が挙げられる。
Embedded image (In the formula, α represents a hydrogen atom or a methyl group; β represents a hydrogen atom, a chlorine atom, a bromine atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a vinyl group.) As such a monomer, For example, styrene, α-methylstyrene, p-methylstyrene, m-methylstyrene, p-ethylstyrene, m-ethylstyrene, p-isopropylstyrene, m-isopropylstyrene, p-methylstyrene
(T-butyl) styrene, m- (t-butyl) styrene, p-chlorostyrene, m-chlorostyrene, o-chlorostyrene, p-bromostyrene, m-bromostyrene, p-vinylstyrene, m-vinylstyrene , Α-methyl-p-chlorostyrene, α-methyl-m-chlorostyrene, α-methyl-p-bromostyrene, α-methyl-m-bromostyrene and the like.

【0067】さらに、他の共重合可能な単量体として
は、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、安息香酸ビニ
ル、(メタ)アクリル酸、2−エチルヘキシル(メタ)
アクリレ−ト、グリシジル(メタ)アクリレ−ト、テト
ラヒドロフリル(メタ)アクリレ−ト、2−ヒドロキシ
エチル(メタ)アクリレ−ト、2−ヒドロキシプロピル
(メタ)アクリレ−ト、アリル(メタ)アクリレ−ト、
p−クロルフェニル(メタ)アクリレ−ト、p−クロル
ベンジル(メタ)アクリレ−ト、p−ブロモフェニル
(メタ)アクリレ−ト、p−ブロモベンジル(メタ)ア
クリレ−ト、ナフチル(メタ)アクリレ−ト、(メタ)
アクリルアミド、N,N−ジメチル(メタ)アクリルア
ミド、(メタ)アクリロニトリル、2−ヒドロキシ−3
−フェノキシプロピル(メタ)アクリレ−ト、グリセリ
ンジ(メタ)アクリレ−ト、(3−アクリロイルグリセ
リン)モノメタクリレ−ト、2,2−ビス[4−[3−
[(メタ)アクリロイルオキシ]−2−[ヒドロキシプ
ロピルオキシ]]フェニル]プロパン、2,2−ビス
[4−[2−[3−[(メタ)アクリロイルオキシ]−
2−ヒドロキシプロポキシ]プロポキシ]フェニル]プ
ロパン、ビスフェノ−ルケトンジ(メタ)アクリレ−
ト、2,2−ビス[4−[3−[(メタ)アクリロイル
オキシ]−2−ヒドロキシプロポキシ]フェニル]プロ
パン、ジエチレングリコ−ルビスアリルカ−ボネ−ト、
ジイソプロピルフマレ−ト、ジイソプロピルマレ−ト、
ジアリルフマレ−ト、ジアリルマレ−ト、ジベンジルフ
マレ−ト、ジベンジルマレ−ト、ジベンジルメサコネ−
ト、無水マレイン酸、無水イタコン酸、フタル酸ジアリ
ル、イソフタル酸ジアリル、テレフタル酸ジアリル、シ
アヌル酸アリル、イソシアヌル酸アリル、ナフタレンジ
カルボン酸ジアリル、アリルメタクリレ−ト、2,9−
ジヒドロキシ−1,10−ビス(メタクリロイルオキ
シ)−4,7−ジオキサデカン、p−フェニルスチレ
ン、ジビニルビフェニル、ビニルフェノ−ル、ビニルナ
フタレン、2,4−ジフェニル−4−メチル−1−ペン
テン、ビニルカルバゾ−ル、ビニルピリジン、ビニルチ
オフェン、ビニルフラン、p−(クロロメチル)スチレ
ン、m−(クロロメチル)スチレン、p−(ヒドロキシ
メチル)スチレン、m−(ヒドロキシメチル)スチレン
等が挙げられる。これらの単量体は、単独又は混合物と
して使用される。
Further, other copolymerizable monomers include vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl benzoate, (meth) acrylic acid, 2-ethylhexyl (meth)
Acrylate, glycidyl (meth) acrylate, tetrahydrofuryl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, allyl (meth) acrylate ,
p-Chlorophenyl (meth) acrylate, p-chlorobenzyl (meth) acrylate, p-bromophenyl (meth) acrylate, p-bromobenzyl (meth) acrylate, naphthyl (meth) acrylate G, (meta)
Acrylamide, N, N-dimethyl (meth) acrylamide, (meth) acrylonitrile, 2-hydroxy-3
-Phenoxypropyl (meth) acrylate, glycerin di (meth) acrylate, (3-acryloylglycerin) monomethacrylate, 2,2-bis [4- [3-
[(Meth) acryloyloxy] -2- [hydroxypropyloxy]] phenyl] propane, 2,2-bis [4- [2- [3-[(meth) acryloyloxy]-
2-hydroxypropoxy] propoxy] phenyl] propane, bisphenol ketone di (meth) acryle
2,2-bis [4- [3-[(meth) acryloyloxy] -2-hydroxypropoxy] phenyl] propane, diethylene glycol bisallyl carbonate,
Diisopropyl fumarate, diisopropyl maleate,
Diallyl fumarate, diallyl maleate, dibenzyl fumarate, dibenzyl maleate, dibenzyl mesa cone
G, maleic anhydride, itaconic anhydride, diallyl phthalate, diallyl isophthalate, diallyl terephthalate, allyl cyanurate, allyl isocyanurate, diallyl naphthalenedicarboxylate, allyl methacrylate, 2,9-
Dihydroxy-1,10-bis (methacryloyloxy) -4,7-dioxadecane, p-phenylstyrene, divinylbiphenyl, vinylphenol, vinylnaphthalene, 2,4-diphenyl-4-methyl-1-pentene, vinylcarbazole , Vinylpyridine, vinylthiophene, vinylfuran, p- (chloromethyl) styrene, m- (chloromethyl) styrene, p- (hydroxymethyl) styrene, m- (hydroxymethyl) styrene and the like. These monomers are used alone or as a mixture.

【0068】前記第6の発明におけるビニル基を有する
単量体としては、例えば(メタ)アクリロイル基を有す
る単量体と、前記一般式(4)で表される単量体との組
合せからなるものが用いられる。
The monomer having a vinyl group in the sixth invention is, for example, a combination of a monomer having a (meth) acryloyl group and a monomer represented by the general formula (4). Things are used.

【0069】この場合、(メタ)アクリロイル基を有す
る単量体としては、下記(A)〜(D)に示される単量
体が挙げられる。 (A) 前記一般式(3)で表される単量体 (B) 前記一般式(30)で表される単量体 (C) 前記一般式(31)で表される単量体 (D) 前記一般式(32)で表される単量体 (E) 前記一般式(33)で表される単量体 また、ビニル基を有する単量体が(メタ)アクリロイル
基を有する単量体であり、具体的には前記一般式(3)
で表される単量体と、一般式(30)で表される単量体
との組合せからなるものであってもよい。
In this case, examples of the monomer having a (meth) acryloyl group include the following monomers (A) to (D). (A) a monomer represented by the general formula (3) (B) a monomer represented by the general formula (30) (C) a monomer represented by the general formula (31) (D The monomer represented by the general formula (32) (E) The monomer represented by the general formula (33) The monomer having a vinyl group has a (meth) acryloyl group And specifically, the general formula (3)
And a combination of the monomer represented by the general formula (30).

【0070】さらに、ビニル基を有する単量体が(メ
タ)アクリロイル基を有する単量体である一般式(3)
で表される単量体と、同じく(メタ)アクリロイル基を
有する単量体である一般式(30)で表される単量体
と、一般式(4)で表される単量体との組合せからなる
ものであってもよい。
Further, the monomer having a vinyl group is a monomer having a (meth) acryloyl group represented by the following general formula (3):
A monomer represented by the general formula (30), which is also a monomer having a (meth) acryloyl group, and a monomer represented by the general formula (4) It may be a combination.

【0071】さらに、ビニル基を有する単量体が(メ
タ)アクリロイル基を有する単量体であり、具体的には
一般式(3)で表される単量体と、一般式(31)で表
される単量体との組合せからなるものであってもよい。
Further, the monomer having a vinyl group is a monomer having a (meth) acryloyl group, and specifically, a monomer represented by the general formula (3) and a monomer represented by the general formula (31) It may be composed of a combination with the represented monomer.

【0072】また、ビニル基を有する単量体が(メタ)
アクリロイル基を有する単量体である一般式(3)で表
される単量体と、同じく(メタ)アクリロイル基を有す
る単量体である一般式(31)で表される単量体と、ビ
ニル基を有する単量体である一般式(4)で表される単
量体との組合せからなるものであってもよい。
Further, the monomer having a vinyl group is (meth)
A monomer represented by the general formula (3), which is a monomer having an acryloyl group, and a monomer represented by the general formula (31), which is also a monomer having a (meth) acryloyl group, It may be a combination of a monomer having a vinyl group and a monomer represented by the general formula (4).

【0073】加えて、ビニル基を有する単量体が(メ
タ)アクリロイル基を有する単量体であり、具体的には
一般式(3)で表される単量体と、一般式(32)で表
される単量体との組合せからなるものであってもよい。
In addition, the monomer having a vinyl group is a monomer having a (meth) acryloyl group, and specifically, a monomer represented by the general formula (3) and a monomer represented by the general formula (32) May be used in combination with the monomer represented by

【0074】また、ビニル基を有する単量体が(メタ)
アクリロイル基を有する単量体である一般式(3)で表
される単量体と、同じく(メタ)アクリロイル基を有す
る単量体である一般式(32)で表される単量体と、ビ
ニル基を有する単量体である一般式(4)で表される単
量体との組合せからなるものであってもよい。
The monomer having a vinyl group is (meth)
A monomer represented by the general formula (3), which is a monomer having an acryloyl group, and a monomer represented by the general formula (32), which is also a monomer having a (meth) acryloyl group, It may be a combination of a monomer having a vinyl group and a monomer represented by the general formula (4).

【0075】加えて、ビニル基を有する単量体が(メ
タ)アクリロイル基を有する単量体であり、具体的には
一般式(3)で表される単量体と、一般式(33)で表
される単量体との組合せからなるものであってもよい。
In addition, the monomer having a vinyl group is a monomer having a (meth) acryloyl group, specifically, a monomer represented by the general formula (3) and a monomer represented by the general formula (33) May be used in combination with the monomer represented by

【0076】また、ビニル基を有する単量体が(メタ)
アクリロイル基を有する単量体である一般式(3)で表
される単量体と、同じく(メタ)アクリロイル基を有す
る単量体である一般式(33)で表される単量体と、ビ
ニル基を有する単量体である一般式(4)で表される単
量体との組合せからなるものであってもよい。
The monomer having a vinyl group is (meth)
A monomer represented by the general formula (3), which is a monomer having an acryloyl group, and a monomer represented by the general formula (33), which is also a monomer having a (meth) acryloyl group, It may be a combination of a monomer having a vinyl group and a monomer represented by the general formula (4).

【0077】共重合体において、一般式(1)で表され
るスチレン系単量体と上記他の共重合可能な単量体との
組成比は、所望とする光学材料に要求される光学特性、
機械的特性及び製造の際要求される重合条件等により異
なる。このため、一律には規定できないが、一般式
(1)で表されるスチレン系単量体が10重量%以上、
好ましくは20重量%以上となるように設定される。ス
チレン系単量体が10重量%より少ない場合、得られる
共重合体は、屈折率及び耐衝撃性の向上効果は得られな
い。
In the copolymer, the composition ratio between the styrene monomer represented by the general formula (1) and the other copolymerizable monomer depends on the optical characteristics required for the desired optical material. ,
It depends on the mechanical properties and the polymerization conditions required for production. For this reason, although it cannot be uniformly defined, the styrene monomer represented by the general formula (1) is not less than 10% by weight,
Preferably, it is set to be 20% by weight or more. When the amount of the styrene-based monomer is less than 10% by weight, the obtained copolymer does not have the effect of improving the refractive index and impact resistance.

【0078】次に、プラスチック光学材料は、通常スチ
レン系単量体若しくはスチレン系単量体組成物を重合す
ると同時に所定形状に成形することにより得られ、又は
スチレン系単量体若しくはスチレン系単量体組成物の重
合後に加工することによっても得られる。成形方法とし
ては、例えば加熱硬化法と活性エネルギ−線硬化法があ
る。加熱硬化法は、前述の単量体と重合開始剤を混合し
て単量体混合物を調製し、それを所望形状の成形凹部を
有する金型内に流し込んで加熱硬化させる方法である。
Next, the plastic optical material is usually obtained by polymerizing a styrene-based monomer or a styrene-based monomer composition and simultaneously molding it into a predetermined shape, or a styrene-based monomer or a styrene-based monomer. It can also be obtained by processing after the polymerization of the body composition. Examples of the molding method include a heat curing method and an active energy ray curing method. The heat-curing method is a method in which a monomer mixture is prepared by mixing the above-mentioned monomer and a polymerization initiator, and the mixture is poured into a mold having a molding concave portion having a desired shape, followed by heat-curing.

【0079】重合に際して用いられる重合開始剤として
は、10時間半減期温度が120℃以下のアゾ系重合開
始剤又は有機過酸化物が挙げられる。これらの重合開始
剤は1種又は2種以上が用いられる。この重合開始剤の
うちアゾ系重合開始剤としては、例えば2,2’−アゾ
ビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−
アゾビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾビス(2
−メチロブチロニトリル)、1,1−アゾビス(シクロ
ヘキサン−1−カルボニトリル)、ジメチル2,2’−
アゾビスイソブチレ−ト等が好ましい。
Examples of the polymerization initiator used in the polymerization include an azo polymerization initiator or an organic peroxide having a 10-hour half-life temperature of 120 ° C. or less. One or more of these polymerization initiators are used. Among these polymerization initiators, azo-based polymerization initiators include, for example, 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2′-
Azobisisobutyronitrile, 2,2′-azobis (2
-Methylobtyronitrile), 1,1-azobis (cyclohexane-1-carbonitrile), dimethyl 2,2′-
Azobisisobutyrate is preferred.

【0080】また、有機過酸化物としては、過酸化ベン
ゾイル、ジイソプロピルパ−オキシジカ−ボネ−ト、ジ
−n−プロピルパ−オキシジカ−ボネ−ト、ビス(4−
t−ブチルシクロヘキシル)パ−オキシジカ−ボネ−
ト、t−ブチルパ−オキシイソプロピルカ−ボネ−ト、
t−ブチルパ−オキシベンゾエ−ト、t−ブチルパ−オ
キシ−2−エチルヘキサノエ−ト、t−ブチルパ−オキ
シネオデカノエ−ト、ジ−t−ブチルパ−オキサイド、
1,1−ビス(t−ブチル)パ−オキシ−3,3,5−
トリメチルシクロヘキサン等が好ましい。
Examples of the organic peroxide include benzoyl peroxide, diisopropyl peroxydica carbonate, di-n-propyl peroxydica carbonate, and bis (4-
(t-butylcyclohexyl) peroxydica-bone-
G, t-butyl peroxyisopropyl carbonate,
t-butyl peroxybenzoate, t-butyl peroxy-2-ethylhexanoate, t-butyl peroxy neodecanoate, di-t-butyl peroxide,
1,1-bis (t-butyl) peroxy-3,3,5-
Trimethylcyclohexane and the like are preferred.

【0081】この重合開始剤の使用量は、単量体又は単
量体組成物中0.05〜5重量%が好適で、0.1〜4
重量%がさらに好適である。この使用量が0.05重量
%未満の場合は単量体の硬化が不十分で、得られる成形
物の物性が低下し、5重量%を越える場合は硬化反応の
制御が困難となり、成形物表面にクラックが生じ易くな
るので好ましくない。
The amount of the polymerization initiator used is preferably 0.05 to 5% by weight in the monomer or the monomer composition, and 0.1 to 4% by weight.
% By weight is more preferred. When the amount is less than 0.05% by weight, the curing of the monomer is insufficient, and the physical properties of the obtained molded article are deteriorated. When the amount exceeds 5% by weight, control of the curing reaction becomes difficult, and It is not preferable because cracks easily occur on the surface.

【0082】また、硬化反応時には、酸素による硬化速
度の低下や成形物の着色を防ぐため、不活性ガス例えば
窒素、ヘリウム、二酸化炭素等で置換もしくはその雰囲
気下で行うことが望ましい。硬化温度及び硬化時間は、
使用する硬化剤により異なるが、20〜130℃の範囲
で5〜48時間とするのが好ましい。硬化時間の短縮、
硬化反応の完結及び未反応の硬化剤の分解処理を目的と
して適時昇温することができる。例えば、使用する硬化
剤の10時間半減期温度より約30℃低い温度から徐々
に昇温し、最終的には10時間半減期温度より約30℃
高い温度で硬化を完結させる。
During the curing reaction, it is desirable to carry out the reaction with an inert gas such as nitrogen, helium, carbon dioxide or the like or in an atmosphere thereof in order to prevent the curing rate from being lowered by oxygen and to prevent the molded product from being colored. Curing temperature and curing time,
Although it depends on the curing agent to be used, it is preferably in the range of 20 to 130 ° C. for 5 to 48 hours. Shortening of curing time,
The temperature can be raised as appropriate for the purpose of completing the curing reaction and decomposing the unreacted curing agent. For example, the temperature is gradually increased from a temperature about 30 ° C. lower than the 10-hour half-life temperature of the curing agent to be used, and finally, the temperature is increased by about 30 ° C. from the 10-hour half-life temperature.
Complete curing at elevated temperatures.

【0083】このような加熱硬化により得られる成形物
には内部歪みが存在するので、好ましくは60〜140
℃、さらに好ましくは100〜130℃で、30分以上
6時間未満、好ましくは1〜4時間加熱してアニ−リン
グ処理を行うのが良い。また、単量体又は単量体組成物
の粘度が低い場合、あるいは硬化収縮の大きい場合に
は、予め予備重合を行った後に所望の金型内に仕込んで
硬化させることができる。
Since the molded product obtained by such heat curing has internal strain, it is preferably 60 to 140.
C., more preferably 100 to 130.degree. C., for 30 minutes to less than 6 hours, preferably 1 to 4 hours to perform the annealing treatment. When the viscosity of the monomer or the monomer composition is low or the curing shrinkage is large, it can be preliminarily polymerized and then charged into a desired mold and cured.

【0084】一方、活性エネルギ−線硬化法は、単量体
と増感剤を型内に仕込み、紫外線や電子線などの活性エ
ネルギ−線を照射して硬化させる方法である。増感剤と
しては、例えばベンゾフェノン、4−フェニルベンゾフ
ェノン、4−フェノキシベンゾフェノン、2,2−ジエ
トキシアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−
1−フェニルプロパン−1−オン、ベンジルジメチルケ
タ−ル等が使用される。これらは単独又は混合物として
用いられる。
On the other hand, the active energy ray curing method is a method in which a monomer and a sensitizer are charged in a mold and irradiated with an active energy ray such as an ultraviolet ray or an electron beam to be cured. Examples of the sensitizer include benzophenone, 4-phenylbenzophenone, 4-phenoxybenzophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, and 2-hydroxy-2-methyl-
1-phenylpropan-1-one, benzyldimethylketal and the like are used. These are used alone or as a mixture.

【0085】増感剤の使用量は、単量体組成物中0.0
1〜1重量%が好ましく、0.02〜0.5重量%がさ
らに好ましい。使用量が0.01重量%未満の場合には
単量体の重合が不十分となり、得られる成形物の物性が
低下する。1重量%を越える場合は重合反応の制御が困
難となり、成形物に着色や表面クラックが生じ易くなる
ので好ましくない。
The amount of the sensitizer used is 0.0% in the monomer composition.
The content is preferably 1 to 1% by weight, more preferably 0.02 to 0.5% by weight. If the amount used is less than 0.01% by weight, the polymerization of the monomer becomes insufficient, and the physical properties of the obtained molded product decrease. If the content exceeds 1% by weight, it is difficult to control the polymerization reaction, and the molded product is liable to be colored and surface cracks, which is not preferable.

【0086】硬化反応時には、酸素による硬化速度の低
下や成形物の着色を防ぐため、不活性ガス例えば窒素、
ヘリウム、二酸化炭素等で置換もしくはその雰囲気下で
行うことが望ましい。活性エネルギ−線としては、波長
100〜600nm程度の範囲のものが好ましい。ま
た、その線源としてはケミカルランプ、キセノンラン
プ、低圧水銀灯、高圧水銀灯、金属ハロゲンランプ等が
挙げられる。例えば、10〜400nmの紫外線を5〜
50J/cm2 となるように照射して硬化させればよ
い。さらに、硬化成形物の内部歪みを除去するために、
加熱硬化法と同様のアニ−リング処理を施すのが好まし
い。
At the time of the curing reaction, an inert gas such as nitrogen,
It is desirable to perform the replacement with helium, carbon dioxide, or the like or in the atmosphere. The active energy ray preferably has a wavelength in the range of about 100 to 600 nm. Examples of the radiation source include a chemical lamp, a xenon lamp, a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, and a metal halogen lamp. For example, ultraviolet rays of 10 to 400 nm
Irradiation and curing may be performed to 50 J / cm 2 . Furthermore, in order to remove the internal distortion of the cured molding,
It is preferable to perform an annealing treatment similar to the heat curing method.

【0087】また、加熱硬化法と活性エネルギ−線硬化
法を併用することができる。すなわち、単量体に重合開
始剤及び増感剤を混合し、重合開始剤による加熱予備重
合を行った後、所望の型内に仕込み、活性エネルギ−線
照射による重合を行う。逆に、活性エネルギ−線照射に
よる重合を行った後に、加熱重合によって重合を完結す
ることができる。
Further, the heat curing method and the active energy ray curing method can be used in combination. That is, after a polymerization initiator and a sensitizer are mixed with a monomer, and preliminarily heated by a polymerization initiator, the mixture is charged into a desired mold and polymerization is performed by irradiation with active energy rays. Conversely, after performing polymerization by irradiation with active energy rays, the polymerization can be completed by heating polymerization.

【0088】さらに、一般式(1)で表されるスチレン
系単量体のスチレン部分を加熱硬化法で重合させる場
合、同時に一般式(1)で表される単量体の有するヒド
ロキシ基と反応する官能基を有する化合物を共存させて
も良い。そのような化合物としては、例えば、ヒドロキ
シル基とウレタン結合を形成するイソシアネ−ト化合物
が使用され、イソシアネ−ト化合物の例としては、3−
イソプロペニル−α,α−ジメチルベンジルイソシアネ
−ト、4−イソプロペニル−α,α−ジメチルベンジル
イソシアネ−ト、3−ビニルベンジルイソシアネ−ト、
m−キシリレンジイソシアネ−ト、p−キシリレンジイ
ソシアネ−ト、α,α,α’,α’−テトラメチル−m
−キシリレンジイソシアネ−ト、ヘキサメチレンジイソ
シアネ−ト、イソホロンジイソシアネ−ト、テトラクロ
ロ−m−キシリレンジイソシアネ−ト、テトラクロロ−
p−キシリレンジイソシアネ−ト、p−フェニレンジイ
ソシアネ−ト、m−フェニレンジイソシアネ−ト、トリ
レンジイソシアネ−ト、4,4’−ジフェニルメタンジ
イソシアネ−ト、ベンジルイソシアネ−ト、フェニルイ
ソシアネ−ト、ノルボルナンジイソシアネ−ト、水添メ
タキシリレンジイソシアネ−ト、水添パラフェニレンジ
イソシアネ−ト等が挙げられる。そのウレタン形成条件
は、重合開始剤を使用するときの設定条件で良い。その
場合、一般式(1)で表されるスチレン系単量体とイソ
シアネ−ト化合物の使用量は、イソシアネ−ト基(NC
O)/ヒドロキシル基(OH)のモル比率が0.001
から2.0の範囲内、好ましくは0.01〜1.0の範
囲内が反応性の点から好ましい。
Further, when the styrene portion of the styrenic monomer represented by the general formula (1) is polymerized by a heat curing method, it simultaneously reacts with the hydroxyl group of the monomer represented by the general formula (1). A compound having a functional group described below may coexist. As such a compound, for example, an isocyanate compound which forms a urethane bond with a hydroxyl group is used. As an example of the isocyanate compound, 3-isocyanate compound is used.
Isopropenyl-α, α-dimethylbenzyl isocyanate, 4-isopropenyl-α, α-dimethylbenzyl isocyanate, 3-vinylbenzyl isocyanate,
m-xylylene diisocyanate, p-xylylene diisocyanate, α, α, α ′, α′-tetramethyl-m
-Xylylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, tetrachloro-m-xylylene diisocyanate, tetrachloro-
p-xylylene diisocyanate, p-phenylene diisocyanate, m-phenylene diisocyanate, tolylene diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, benzyl isocyanate G, phenyl isocyanate, norbornane diisocyanate, hydrogenated meta-xylylene diisocyanate, hydrogenated paraphenylene diisocyanate and the like. The urethane formation conditions may be set conditions when a polymerization initiator is used. In this case, the amounts of the styrene monomer represented by the general formula (1) and the isocyanate compound are determined based on the isocyanate group (NC)
O) / hydroxyl group (OH) molar ratio of 0.001
From 2.0 to 2.0, preferably from 0.01 to 1.0 from the viewpoint of reactivity.

【0089】なお、単量体組成物に必要に応じて染料、
顔料等の着色剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、各種安定
剤、帯電防止剤、フォトクロミック化合物、蛍光増白
剤、反応促進剤、内部離型剤、重合度調製剤(2,4−
ジフェニル−4−メチル−1−ペンテン、メルカプト化
合物等)等を添加することができる。
In the monomer composition, if necessary, a dye,
Colorants such as pigments, ultraviolet absorbers, antioxidants, various stabilizers, antistatic agents, photochromic compounds, fluorescent brighteners, reaction accelerators, internal mold release agents, polymerization degree adjusting agents (2,4-
Diphenyl-4-methyl-1-pentene, a mercapto compound, etc.).

【0090】前述したように、所定形状をなすプラスチ
ック光学材料は、前記単量体を加熱硬化法又は活性エネ
ルギ−線硬化法により型内で重合すると同時に所定形状
に成形することにより得られる。あるいは、このプラス
チック光学材料は単量体を加熱硬化法又は活性エネルギ
−線硬化法により予備重合した後、型内でさらに重合し
て所定形状に成形することにより得られる。さらに、プ
ラスチック光学材料は単量体を加熱硬化法又は活性エネ
ルギ−線硬化法により重合して一定形状の成形物を得、
この成形物をレンズ形状に切削研磨することにより得ら
れる。
As described above, a plastic optical material having a predetermined shape can be obtained by polymerizing the monomer in a mold by a heat curing method or an active energy ray curing method and simultaneously molding the monomer into a predetermined shape. Alternatively, the plastic optical material is obtained by pre-polymerizing a monomer by a heat curing method or an active energy ray curing method, and then further polymerizing in a mold to form a predetermined shape. Further, the plastic optical material is obtained by polymerizing the monomer by a heat curing method or an active energy ray curing method to obtain a molded product having a predetermined shape,
This molded product is obtained by cutting and polishing into a lens shape.

【0091】なお、プラスチック光学材料は、予めスチ
レン系単量体又はスチレン系単量体組成物を重合してス
チレン系重合体を製造し、その重合体を射出成形法、押
出成形法などの成形法により所定形状に成形することに
よっても得られる。
The plastic optical material is prepared by previously polymerizing a styrene monomer or a styrene monomer composition to produce a styrene polymer, and molding the polymer by injection molding, extrusion molding, or the like. It can also be obtained by molding into a predetermined shape by a method.

【0092】また、成形物の表面にハ−ドコ−ト皮膜を
設け、表面の耐磨耗性をさらに向上させることができ
る。このハ−ドコ−ト剤の塗布は、硬化終了後の成形物
又はハ−ドコ−ト皮膜の密着性を向上させるために、プ
ライマ−液が塗布された成形物表面に対しても行われ
る。プライマ−液としては、ポリウレタンやメラミン等
の溶液が用いられる。塗布方法としては、ディッピング
法、スピンコ−ト法、フロ−コ−ト法、スプレ−法等が
採用される。
Further, a hard coat film is provided on the surface of the molded product, so that the abrasion resistance of the surface can be further improved. The application of the hard coat agent is also performed on the surface of the molded product to which the primer liquid has been applied in order to improve the adhesion of the molded product after hardening or the hard coat film. A solution such as polyurethane or melamine is used as the primer solution. As a coating method, a dipping method, a spin coating method, a flow coating method, a spraying method or the like is employed.

【0093】さらに、成形物表面に反射防止膜を設け、
表面反射を抑制することによって可視光線透過率を高め
ることができる。以上のように、この実施形態によれ
ば、次のような効果が発揮される。 ・ 一般式(1)で表されるスチレン系単量体中のR
は、硫黄原子を含む総炭素数2〜11のアルキレン基で
構成されている。このため、スチレン系単量体を重合し
て得られる重合体よりなるプラスチック光学材料の屈折
率を1.60以上まで高めることができる。しかも、ア
ッベ数を高く維持できて、屈折率の分散を小さくするこ
とができ、色収差を抑制することができる。 ・ 一般式(1)中には水酸基が含まれているため、そ
のスチレン系単量体より得られる重合体は水素結合を介
する結合構造をとることにより、プラスチック光学材料
の耐衝撃性を向上させることができる。さらに、一般式
(1)のスチレン系単量体はスチレンと異なり、有機基
を介して2分子のスチレンが結合する2官能性単量体で
あって重合により架橋構造(網目構造)をとることか
ら、その効果を一層高めることができる。 ・ さらに、一般式(1)のスチレン系単量体による分
子間の水素結合や架橋構造に基づき、スチレン系重合体
の耐熱性や耐溶剤性などの物性を向上させることができ
る。 ・ 一般式(1)のスチレン系単量体中の水酸基とイソ
シアネ−ト化合物とを反応させることにより、ウレタン
結合が形成され、その水素結合効果により耐衝撃性をさ
らに向上させることができる。 ・ 一般式(1)のスチレン系単量体を重合して得られ
る重合体はヒドロキシル基を有していることから、その
表面の密着性に優れ、ハードコートの皮膜の形成に有利
である。 ・ 一般式(1)のスチレン系単量体を重合して得られ
る重合体は、硫黄がベンジル位又はベンゼン環に直接結
合していないため、耐光性及び耐候性に優れている。 ・ 一般式(1)のスチレン系単量体を重合して得られ
る重合体はヒドロキシル基を有していることから、染色
性に優れ、染料によるレンズなどのプラスチック光学材
料の染色に有利である。 ・ 一般式(1)のスチレン系単量体に(メタ)アクリ
ロイル基を有する単量体などのビニル基を有する単量体
を配合することにより、それらの単量体の性質に基づい
てアッベ数を高めることができる。 ・ また、2官能性の(メタ)アクリロイル基を有する
単量体を使用することにより、得られる重合体は架橋構
造を有し、耐衝撃性や耐溶剤性などの物性をより向上さ
せることができる。 ・ 前記一般式(4)で表わされる単量体を使用するこ
とにより、ベンゼン環を有する単量体の性質に基づき屈
折率を高く維持することができる。
Further, an antireflection film is provided on the surface of the molded product,
Visible light transmittance can be increased by suppressing surface reflection. As described above, according to this embodiment, the following effects are exhibited. R in the styrene monomer represented by the general formula (1)
Is composed of an alkylene group having a total carbon number of 2 to 11, including a sulfur atom. Therefore, the refractive index of a plastic optical material made of a polymer obtained by polymerizing a styrene-based monomer can be increased to 1.60 or more. Moreover, the Abbe number can be kept high, the dispersion of the refractive index can be reduced, and the chromatic aberration can be suppressed. -Since the hydroxyl group is contained in the general formula (1), the polymer obtained from the styrene monomer has a bonding structure via a hydrogen bond, thereby improving the impact resistance of the plastic optical material. be able to. Furthermore, unlike styrene, the styrene monomer of the general formula (1) is a bifunctional monomer to which two molecules of styrene are bonded via an organic group, and has a crosslinked structure (network structure) by polymerization. Therefore, the effect can be further enhanced. Further, the physical properties such as heat resistance and solvent resistance of the styrene-based polymer can be improved based on the intermolecular hydrogen bond and crosslinked structure of the styrene-based monomer of the general formula (1). -A urethane bond is formed by reacting a hydroxyl group in the styrene-based monomer of the general formula (1) with the isocyanate compound, and the impact resistance can be further improved by the hydrogen bonding effect. -Since the polymer obtained by polymerizing the styrene monomer of the general formula (1) has a hydroxyl group, it has excellent surface adhesion and is advantageous for forming a hard coat film. -The polymer obtained by polymerizing the styrene monomer of the general formula (1) is excellent in light resistance and weather resistance because sulfur is not directly bonded to the benzyl position or the benzene ring. The polymer obtained by polymerizing the styrene-based monomer of the general formula (1) has a hydroxyl group, and therefore has excellent dyeability and is advantageous for dyeing plastic optical materials such as lenses with dyes. . By blending monomers having a vinyl group such as a monomer having a (meth) acryloyl group with the styrene monomer of the general formula (1), the Abbe number is determined based on the properties of those monomers. Can be increased. Also, by using a monomer having a bifunctional (meth) acryloyl group, the obtained polymer has a cross-linked structure and can further improve physical properties such as impact resistance and solvent resistance. it can. -By using the monomer represented by the general formula (4), the refractive index can be kept high based on the properties of the monomer having a benzene ring.

【0094】[0094]

【実施例】以下に、実施例及び比較例を挙げて前記実施
形態をさらに具体的に説明するが、この発明はこれら実
施例により何ら限定されるものではない。また、以下の
説明で用いる単量体の略記号を下記に示す。
EXAMPLES Hereinafter, the embodiment will be described more specifically with reference to examples and comparative examples, but the present invention is not limited to these examples. The abbreviations of the monomers used in the following description are shown below.

【0095】単量体の略記号 MONO−1は前記化学式(6)の化合物を示す。MO
NO−2は前記化学式(6)と(7)と(8)の混合物
を示す。
The abbreviation MONO-1 of the monomer represents the compound of the above formula (6). MO
NO-2 represents a mixture of the chemical formulas (6), (7) and (8).

【0096】MONO−3は前記化学式(9)の化合物
を示す。MONO−4は前記化学式(9)と(10)と
(11)の混合物を示す。MONO−5は前記化学式
(12)の化合物を示す。
MONO-3 is a compound of the above formula (9). MONO-4 represents a mixture of the chemical formulas (9), (10) and (11). MONO-5 represents a compound of the above formula (12).

【0097】MONO−6は前記化学式(14)と(1
5)と(16)の混合物を示す。MONO−7は前記化
学式(19)と(20)と(21)の混合物を示す。R
EFE−1は前記化学式(5)を示す。
MONO-6 is represented by the above formulas (14) and (1)
5 shows a mixture of 5) and (16). MONO-7 represents a mixture of the chemical formulas (19), (20) and (21). R
EFE-1 represents the aforementioned chemical formula (5).

【0098】ST: スチレン BZ: ベンジルメタクリレ−ト PA: (フェノキシジエチレングリコ−ル)アクリレ
−ト MP: 2,2−ビス[4−(メタクリロイルオキシエ
トキシ)フェニル]プロパン TP: 2,2−ビス[4−(メタクリロイルオキシト
リエトキシ)フェニル]プロパン PP: 2,2−ビス[4−(メタクリロイルオキシペ
ンタエトキシ)フェニル]プロパン CP: 2,2−ビス[4−[2−(メタクリロイルオ
キシ)エトキシカルボニルオキシ]フェニル]プロパン 2G: (ジエチレングリコ−ル)ジメタクリレ−ト 4G: (テトラエチレングリコ−ル)ジメタクリレ−
ト 4A: (テトラエチレングリコ−ル)ジアクリレ−ト 9G: (ノナエチレングリコ−ル)ジメタクリレ−ト 9A: (ノナエチレングリコ−ル)ジアクリレ−ト 14G:(テトラデカエチレングリコ−ル)ジメタクリ
レ−ト 14A:(テトラデカエチレングリコ−ル)ジアクリレ
−ト TM: トリメチロ−ルプロパントリメタクリレ−ト MM: (メトキシジエチレングリコ−ル)モノメタク
リレ−ト MS: α−メチルスチレン 3M: 3−メチルスチレン CS: 4−クロロスチレン BR: 2,2−ビス[4−(メタクリロイルオキシエ
トキシカルボニルオキシ)3,5−ジブロモフェニル]
プロパン DV: ジビニルベンゼン DP: 2,4−ジフェニル−4−メチル−1−ペンテ
ン XC: キシリレンジイソシアネート SC: 水添キシリレンジイソシアネート 上記単量体MONO−1〜MONO−7の合成を下記の
実施例で説明する。 (実施例1、MONO−1の合成)窒素雰囲気下、1,
3−ジクロロ−2−プロパノ−ル36.0g(279m
mol)と3,4−ジヒドロ−2H−ピラン23.5g
(279mmol)のジクロロメタン30ml溶液にピ
リジニウム−p−トルエンスルフォネ−ト0.070g
(0.28mmol)を加え、室温にて24時間反応さ
せた。
ST: styrene BZ: benzyl methacrylate PA: (phenoxydiethylene glycol) acrylate MP: 2,2-bis [4- (methacryloyloxyethoxy) phenyl] propane TP: 2,2-bis [ 4- (methacryloyloxytriethoxy) phenyl] propane PP: 2,2-bis [4- (methacryloyloxypentaethoxy) phenyl] propane CP: 2,2-bis [4- [2- (methacryloyloxy) ethoxycarbonyloxy ] Phenyl] propane 2G: (diethylene glycol) dimethacrylate 4G: (tetraethylene glycol) dimethacrylate
G 4A: (tetraethylene glycol) diacrylate 9G: (nonaethylene glycol) dimethacrylate 9A: (nonaethylene glycol) diacrylate 14G: (tetradecaethylene glycol) dimethacrylate 14A: (tetradecaethylene glycol) diacrylate TM: trimethylolpropane trimethacrylate MM: (methoxydiethylene glycol) monomethacrylate MS: α-methylstyrene 3M: 3-methylstyrene CS: 4 -Chlorostyrene BR: 2,2-bis [4- (methacryloyloxyethoxycarbonyloxy) 3,5-dibromophenyl]
Propane DV: divinylbenzene DP: 2,4-diphenyl-4-methyl-1-pentene XC: xylylene diisocyanate SC: hydrogenated xylylene diisocyanate Will be described. Example 1 Synthesis of MONO-1 In a nitrogen atmosphere, 1,
36.0 g of 3-dichloro-2-propanol (279 m
mol) and 2,3.5 g of 3,4-dihydro-2H-pyran
(279 mmol) in a 30 ml solution of dichloromethane in 0.070 g of pyridinium-p-toluenesulfonate
(0.28 mmol) and reacted at room temperature for 24 hours.

【0099】その反応液を減圧濃縮し、その残渣に2−
メルカプトエタノ−ル44.7g(572mmol)、
エタノ−ル250ml、水酸化ナトリウム44.7g
(1.12mol)を加え、窒素雰囲気下にて80℃に
て16時間反応させた。反応液を酢酸エチル−10%食
塩水にて抽出操作を行い、有機層を減圧濃縮した。その
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ−(ジクロロ
メタン−メタノ−ル 20:1)にて精製することによ
り、下記化学式(34)に示すジオ−ル体を76.1g
(256mmol)得た。
The reaction solution was concentrated under reduced pressure, and 2-D was added to the residue.
44.7 g (572 mmol) of mercaptoethanol,
250 ml of ethanol, 44.7 g of sodium hydroxide
(1.12 mol) and reacted at 80 ° C. for 16 hours under a nitrogen atmosphere. The reaction solution was extracted with ethyl acetate-10% saline, and the organic layer was concentrated under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (dichloromethane-methanol 20: 1) to give 76.1 g of a diol derivative represented by the following chemical formula (34).
(256 mmol) were obtained.

【0100】[0100]

【化39】 このジオ−ル体76.1g(256mmol)のトルエ
ン液172mlに4−ビニルベンジルクロライド80.
1g(525mmol)、水酸化ナトリウム85.8g
(2.15mol)、水172ml、テトラブチルアン
モニウムブロマイド8.28g(25.7mmol)を
加えて、室温にて48時間反応させた。その反応液を酢
酸エチル−水にて抽出操作し、有機層を硫酸ナトリウム
で脱水処理した後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィ−(ジクロロメタン)に
て精製することにより、下記化学式(35)に示すアル
コ−ル保護体を129g(244mmol)得た。
Embedded image To 172 ml of a toluene solution containing 76.1 g (256 mmol) of this diol form, 4-vinylbenzyl chloride was added.
1 g (525 mmol), 85.8 g sodium hydroxide
(2.15 mol), 172 ml of water and 8.28 g (25.7 mmol) of tetrabutylammonium bromide were added and reacted at room temperature for 48 hours. The reaction solution was extracted with ethyl acetate-water, the organic layer was dehydrated with sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography (dichloromethane) to obtain 129 g (244 mmol) of a protected alcohol represented by the following chemical formula (35).

【0101】[0101]

【化40】 このアルコ−ル保護体129g(244mmol)のメ
タノ−ル液492mlにピリジニウム−p−トルエンス
ルフォネ−ト3.07g(12.2mmol)を加え、
室温にて24時間反応させた。その反応液を減圧濃縮
し、得られる残渣を酢酸エチル−水にて抽出操作した。
有機層を硫酸ナトリウムで脱水処理した後、減圧濃縮し
て得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ−
(ジクロロメタン−メタノ−ル 100:1)にて精製
することにより、MONO−1を106g(238mm
ol)得た。
Embedded image To 492 ml of a methanol solution containing 129 g (244 mmol) of the protected alcohol was added 3.07 g (12.2 mmol) of pyridinium-p-toluenesulfonate.
The reaction was performed at room temperature for 24 hours. The reaction solution was concentrated under reduced pressure, and the obtained residue was extracted with ethyl acetate-water.
After the organic layer was dehydrated with sodium sulfate, the residue obtained by concentration under reduced pressure was subjected to silica gel column chromatography.
(Dichloromethane-methanol 100: 1) to give 106 g (238 mm) of MONO-1.
ol) obtained.

【0102】純度(液体クロマトグラフィ−): 9
9.8% マススペクトル〔ファブ(FAB)法、即ちマトリック
スのニトロベンジルアルコ−ルとサンプルを混合した後
に測定し、分子量MにH+ が付加したイオンM + +1を
検出する方法である。〕 M+ +1: 445 元素分析(C25323 2 として): C H S 測定値(%) 67.56 7.20 14.38 計算値(%) 67.53 7.25 14.42 赤外線吸収スペクトル(cm-1、CHCl3 ):3448
(-OH )、1629、1604(CH2=CH-Ph-)1 H−核磁気共鳴スペクトル(ppm、CDCl3 ):7.
38〜7.25(8H)、6.75〜6.65(2
H)、5.76〜5.70(2H)、5.25〜5.2
1(2H)、4.52(4H)、3.82(1H)、
3.65〜3.60(4H)、3.31(1H)、2.
82〜2.61(8H) (実施例2、MONO−2の合成)窒素雰囲気下、1,
3−ジクロロ−2−プロパノ−ル33.4g(259m
mol)と3,4−ジヒドロ−2H−ピラン21.8g
(259mmol)のジクロロメタン28ml溶液にピ
リジニウム−p−トルエンスルフォネ−ト0.065g
(0.26mmol)を加え、室温にて24時間反応さ
せた。
Purity (liquid chromatography): 9
9.8% mass spectrum [FAB method, ie Matric
After mixing the sample with the nitrobenzyl alcohol
To the molecular weight M and H+Added ion M ++1
It is a method of detecting. ] M++1: 445 elemental analysis (Ctwenty fiveH32OThreeSTwo): CHS measured value (%) 67.56 7.20 14.38 Calculated value (%) 67.53 7.25 14.42 Infrared absorption spectrum (cm)-1, CHClThree): 3448
(-OH), 1629, 1604 (CHTwo= CH-Ph-)1 H-nuclear magnetic resonance spectrum (ppm, CDClThree): 7.
38-7.25 (8H), 6.75-6.65 (2
H) 5.76-5.70 (2H), 5.25-5.2
1 (2H), 4.52 (4H), 3.82 (1H),
3.65 to 3.60 (4H), 3.31 (1H), 2.
82 to 2.61 (8H) (Example 2, synthesis of MONO-2)
33.4 g of 3-dichloro-2-propanol (259 m
mol) and 2,1.8 g of 3,4-dihydro-2H-pyran
(259 mmol) in 28 ml of dichloromethane
0.065 g of lydinium-p-toluenesulfonate
(0.26 mmol) and react at room temperature for 24 hours.
I let you.

【0103】その反応液を減圧濃縮し、その残渣に2−
メルカプトエタノ−ル41.5g(531mmol)、
エタノ−ル232ml、水酸化ナトリウム41.5g
(1.04mol)を加え、窒素雰囲気下にて80℃に
て16時間反応させた。反応液を酢酸エチル−10%食
塩水にて抽出操作を行い、有機層を減圧濃縮した。その
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ−(ジクロロ
メタン−メタノ−ル 20:1)にて精製することによ
り、下記化学式(36)に示すジオ−ル体を69.5g
(234mmol)得た。
The reaction solution was concentrated under reduced pressure, and 2-D was added to the residue.
41.5 g (531 mmol) of mercaptoethanol,
232 ml of ethanol, 41.5 g of sodium hydroxide
(1.04 mol), and reacted at 80 ° C. for 16 hours under a nitrogen atmosphere. The reaction solution was extracted with ethyl acetate-10% saline, and the organic layer was concentrated under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (dichloromethane-methanol 20: 1) to give 69.5 g of a diol derivative represented by the following chemical formula (36).
(234 mmol) obtained.

【0104】[0104]

【化41】 このジオ−ル体69.5g(234mmol)のトルエ
ン液157mlにビニルベンジルクロライド[m体−p
体の混合物(6:4)]73.2g(480mmo
l)、水酸化ナトリウム78.6g(1.97mo
l)、水157ml、テトラブチルアンモニウムブロマ
イド7.54g(23.4mmol)を加え、室温にて
48時間反応させた。その反応液を酢酸エチル−水にて
抽出操作し、有機層を硫酸ナトリウムで脱水処理した
後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィ−(ジクロロメタン)にて精製すること
により、下記化学式(37)に示すアルコ−ル保護体を
115g(217mmol)得た。
Embedded image To 157 ml of a toluene solution containing 69.5 g (234 mmol) of the diol form, vinylbenzyl chloride [m-p
Body mixture (6: 4)] 73.2 g (480 mmo
l), 78.6 g of sodium hydroxide (1.97 mo)
l), water (157 ml) and tetrabutylammonium bromide (7.54 g, 23.4 mmol) were added, and the mixture was reacted at room temperature for 48 hours. The reaction solution was extracted with ethyl acetate-water, the organic layer was dehydrated with sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography (dichloromethane) to obtain 115 g (217 mmol) of a protected alcohol represented by the following chemical formula (37).

【0105】[0105]

【化42】 このアルコ−ル保護体115g(217mmol)のメ
タノ−ル液439mlにピリジニウム−p−トルエンス
ルフォネ−ト2.74g(10.9mmol)を加え、
室温にて24時間反応させた。その反応液を減圧濃縮
し、得られる残渣を酢酸エチル−水にて抽出操作した。
有機層を硫酸ナトリウムで脱水処理した後、減圧濃縮し
得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ−
(ジクロロメタン- メタノ−ル 100:1)にて精製
することにより、MONO−2を92.8g(209m
mol)得た。
Embedded image To 439 ml of a methanol solution containing 115 g (217 mmol) of the protected alcohol, 2.74 g (10.9 mmol) of pyridinium-p-toluenesulfonate was added.
The reaction was performed at room temperature for 24 hours. The reaction solution was concentrated under reduced pressure, and the obtained residue was extracted with ethyl acetate-water.
After dehydrating the organic layer with sodium sulfate, the residue obtained by concentration under reduced pressure is subjected to silica gel column chromatography.
(Dichloromethane-methanol 100: 1) to give 92.8 g (209 m) of MONO-2.
mol).

【0106】純度(液体クロマトグラフィ−): 9
9.7% マススペクトル(ファブ法、マトリックスはニトロベン
ジルアルコ−ル) M+ +1: 445 元素分析(C25323 2 として): C H S 測定値(%) 67.48 7.29 14.46 計算値(%) 67.53 7.25 14.42 赤外線吸収スペクトル(cm-1、CHCl3 ):3446
(-OH )、1630、1605(CH2=CH-Ph-)1 H−核磁気共鳴スペクトル(ppm、CDCl3 ):7.
38〜7.23(8H)、6.76〜6.65(2
H)、5.79〜5.70(2H)、5.27〜5.2
1(2H)、4.53〜4.52(4H)、3.82
(1H)、3.66〜3.60(4H)、3.30(1
H)、2.82〜2.61(8H) (実施例3、MONO−3の合成)窒素雰囲気下、1,
3−ジクロロ−2−プロパノ−ル29.3g(227m
mol)と3,4−ジヒドロ−2H−ピラン19.1g
(227mmol)のジクロロメタン25ml溶液にピ
リジニウム−p−トルエンスルフォネ−ト0.057g
(0.23mmol)を加え、室温にて24時間反応さ
せた。
Purity (liquid chromatography): 9
9.7% Mass spectrum (FAB method, matrix-nitrobenzyl alcohol - le) M + +1: (as C 25 H 32 O 3 S 2 ) 445 Elemental analysis: C H S measured value (%) 67.48 7. 29 14.46 Calculated value (%) 67.53 7.25 14.42 Infrared absorption spectrum (cm -1 , CHCl 3 ): 3446
(-OH), 1630,1605 (CH 2 = CH-Ph-) 1 H- nuclear magnetic resonance spectrum (ppm, CDCl 3): 7 .
38 to 7.23 (8H), 6.76 to 6.65 (2
H) 5.79-5.70 (2H), 5.27-5.2
1 (2H), 4.53 to 4.52 (4H), 3.82
(1H), 3.66 to 3.60 (4H), 3.30 (1
H) 2.82 to 2.61 (8H) (Example 3, Synthesis of MONO-3)
29.3 g of 3-dichloro-2-propanol (227 m
mol) and 19.1 g of 3,4-dihydro-2H-pyran
(227 mmol) in 25 ml of dichloromethane in 0.057 g of pyridinium-p-toluenesulfonate
(0.23 mmol) was added and reacted at room temperature for 24 hours.

【0107】その反応液を減圧濃縮し、その残渣に5−
メルカプト−3−チア−1−ペンタノ−ル64.3g
(465mmol)、エタノ−ル203ml、水酸化ナ
トリウム36.3g(908mmol)を加え、窒素雰
囲気下にて80℃にて16時間反応させた。反応液を酢
酸エチル−10%食塩水にて抽出操作を行い、有機層を
減圧濃縮した。その残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィ−(ジクロロメタン−メタノ−ル 20:1)に
て精製することにより、下記化学式(38)に示すジオ
−ル体を78.5g(188mmol)得た。
The reaction solution was concentrated under reduced pressure, and 5-
64.3 g of mercapto-3-thia-1-pentanol
(465 mmol), 203 ml of ethanol and 36.3 g (908 mmol) of sodium hydroxide were added, and reacted at 80 ° C. for 16 hours under a nitrogen atmosphere. The reaction solution was extracted with ethyl acetate-10% saline, and the organic layer was concentrated under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (dichloromethane-methanol 20: 1) to obtain 78.5 g (188 mmol) of a diol derivative represented by the following chemical formula (38).

【0108】[0108]

【化43】 このジオ−ル体78.5g(188mmol)のトルエ
ン液150mlに4−ビニルベンジルクロライド58.
8g(385mmol)、水酸化ナトリウム75.2g
(1.88mol)、水150ml、テトラブチルアン
モニウムブロマイド6.06g(18.8mmol)を
加えて、室温にて48時間反応させた。その反応液を酢
酸エチル−水にて抽出操作し、有機層を硫酸ナトリウム
で脱水処理した後、減圧濃縮した。得られる残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィ−(ジクロロメタン)に
て精製することにより、下記化学式(39)に示すアル
コ−ル保護体を107g(165mmol)得た。
Embedded image To 150 ml of a toluene solution containing 78.5 g (188 mmol) of the diol was added 4-vinylbenzyl chloride.
8 g (385 mmol), 75.2 g of sodium hydroxide
(1.88 mol), 150 ml of water and 6.06 g (18.8 mmol) of tetrabutylammonium bromide were added and reacted at room temperature for 48 hours. The reaction solution was extracted with ethyl acetate-water, the organic layer was dehydrated with sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography (dichloromethane) to obtain 107 g (165 mmol) of a protected alcohol represented by the following chemical formula (39).

【0109】[0109]

【化44】 このアルコ−ル保護体107g(165mmol)のメ
タノ−ル液333mlにピリジニウム−p−トルエンス
ルフォネ−ト2.07g(8.24mmol)を加え、
室温にて24時間反応させた。その反応液を減圧濃縮
し、得られた残渣を酢酸エチル−水にて抽出操作した。
有機層を硫酸ナトリウムで脱水処理した後、減圧濃縮
し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
−(ジクロロメタン- メタノ−ル 100:1)にて精
製することにより、MONO−3を89.5g(158
mmol)得た。
Embedded image To 333 ml of a methanol solution of 107 g (165 mmol) of the protected alcohol was added 2.07 g (8.24 mmol) of pyridinium-p-toluenesulfonate.
The reaction was performed at room temperature for 24 hours. The reaction solution was concentrated under reduced pressure, and the obtained residue was extracted with ethyl acetate-water.
The organic layer was dehydrated with sodium sulfate, concentrated under reduced pressure, and the obtained residue was purified by silica gel column chromatography (dichloromethane-methanol 100: 1) to give 89.5 g (158) of MONO-3.
mmol).

【0110】純度(液体クロマトグラフィ−): 9
9.7% マススペクトル(ファブ法、マトリックスはニトロベン
ジルアルコ−ル) M+ +1: 565 元素分析(C29403 4 として): C H S 測定値(%) 61.63 7.16 22.66 計算値(%) 61.66 7.14 22.71 赤外線吸収スペクトル(cm-1、CHCl3 ):3492
(-OH )、1632、1604(CH2=CH-Ph-)1 H−核磁気共鳴スペクトル(ppm、CDCl3 ):7.
37〜7.25(8H)、6.75〜6.66(2
H)、5.77〜5.71(2H)、5.25〜5.2
2(2H)、4.52(4H)、3.70(1H)、
3.65〜3.62(4H)、2.93(1H)、2.
78〜2.57(16H) (実施例4、MONO−4の合成)窒素雰囲気下、ビス
(2−ヒドロキシエチル)スルフィド93.5g(76
5mmol)とビニルベンジルクロライド(メタ体とパ
ラ体の6:4の混合物)93.5g(613mmol)
のジメチルフォルムアミド935mlに水素化ナトリウ
ム(65%油性品)49.6g(1.34mol)を加
え、0℃にて3時間反応させた。
Purity (liquid chromatography): 9
9.7% Mass spectrum (FAB method, matrix-nitrobenzyl alcohol - le) M + +1: (as C 29 H 40 O 3 S 4 ) 565 Elemental analysis: C H S measured value (%) 61.63 7. 16 22.66 Calculated value (%) 61.66 7.14 22.71 Infrared absorption spectrum (cm -1 , CHCl 3 ): 3492
(-OH), 1632,1604 (CH 2 = CH-Ph-) 1 H- nuclear magnetic resonance spectrum (ppm, CDCl 3): 7 .
37-7.25 (8H), 6.75-6.66 (2
H) 5.77-5.71 (2H), 5.25-5.2
2 (2H), 4.52 (4H), 3.70 (1H),
3.65-3.62 (4H), 2.93 (1H), 2.
78 to 2.57 (16H) (Example 4, synthesis of MONO-4) 93.5 g of bis (2-hydroxyethyl) sulfide (76) under a nitrogen atmosphere.
5mmol) and 93.5 g (613 mmol) of vinylbenzyl chloride (a 6: 4 mixture of meta- and para-forms)
Sodium hydride (65% oily product) (49.6 g, 1.34 mol) was added to 935 ml of dimethylformamide, and reacted at 0 ° C. for 3 hours.

【0111】この反応液を氷水に加えた後、酢酸エチル
にて抽出操作した。有機層を5回水洗し硫酸ナトリウム
で脱水処理した後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィ−(ジクロロメタン−メ
タノ−ル 100:1)にて精製することにより、5−
(ビニルベンジルオキシ)−3−チア−1−ペンタノ−
ルを75.9g(318mmol)得た。このアルコ−
ル体は、下記化学式(40)に示すものである。
The reaction solution was added to ice water and extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed five times with water, dehydrated with sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The resulting residue was purified by silica gel column chromatography (dichloromethane-methanol 100: 1) to give 5-
(Vinylbenzyloxy) -3-thia-1-pentano-
75.9 g (318 mmol) were obtained. This alcohol
The compound is represented by the following chemical formula (40).

【0112】[0112]

【化45】 該アルコ−ル体75.9g(318mmol)のピリジ
ン液250ml溶液にトシルクロライド63.6g(3
34mmol)を加え、0℃にて6時間、室温にて2時
間反応させた。その反応液を酢酸エチル−2N塩酸水溶
液にて抽出操作した。有機層を水洗し、硫酸ナトリウム
で脱水処理した後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィ−(ジクロロメタン-ヘ
キサン4:1)にて精製することにより、下記化学式
(41)に示すトシル化体を77.4g(197mmo
l)得た。
Embedded image To a solution of 75.9 g (318 mmol) of the alcohol compound in 250 ml of pyridine solution, 63.6 g (3
34 mmol) and reacted at 0 ° C. for 6 hours and at room temperature for 2 hours. The reaction solution was extracted with ethyl acetate-2N aqueous hydrochloric acid. The organic layer was washed with water, dehydrated with sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography (dichloromethane-hexane 4: 1) to give 77.4 g (197 mmol) of a tosylated compound represented by the following chemical formula (41).
l) obtained.

【0113】[0113]

【化46】 このトシル体77.4g(197mmol)のジメチル
フォルムアミド液1550mlにチオアセテ−トのカリ
ウム塩45.0g(394mmol)を加え、0℃にて
1時間、室温にて4時間反応させた。その反応液を酢酸
エチル−水にて抽出操作し、有機層を5回水洗し、硫酸
ナトリウムで脱水処理した後、減圧濃縮した。得られた
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ−(ジクロロ
メタン−ヘキサン 2:1)にて精製することにより、
下記化学式(42)に示すアセチルチオ体を54.9g
(185mmol)得た。
Embedded image 45.0 g (394 mmol) of a potassium salt of thioacetate was added to 1550 ml of a dimethylformamide solution of 77.4 g (197 mmol) of the tosyl compound, and the mixture was reacted at 0 ° C. for 1 hour and at room temperature for 4 hours. The reaction solution was extracted with ethyl acetate-water, the organic layer was washed five times with water, dehydrated with sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. By purifying the obtained residue by silica gel column chromatography (dichloromethane-hexane 2: 1),
54.9 g of an acetylthio compound represented by the following chemical formula (42)
(185 mmol) obtained.

【0114】[0114]

【化47】 このアセチルチオ体54.9g(185mmol)のト
ルエン液296ml溶液にエピクロロヒドリン8.15
g(88.1mmol)、テトラブチルアンモニウムブ
ロマイド5.96g(18.5mmol)、水酸化ナト
リウム74.0g(1.85mol)の水溶液296m
lを加え、室温にて24時間反応させた。その反応液を
トルエン−水にて抽出操作し、有機層を硫酸ナトリウム
で脱水処理した後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィ−(ジクロロメタン−メ
タノ−ル 100:1)にて精製することにより、MO
NO−4を43.3g(76.7mmol)得た。
Embedded image Epichlorohydrin 8.15 was added to a solution of 54.9 g (185 mmol) of this acetylthio compound in 296 ml of toluene.
g (88.1 mmol), 5.96 g (18.5 mmol) of tetrabutylammonium bromide, and 296 m of an aqueous solution of 74.0 g (1.85 mol) of sodium hydroxide
1 was added and reacted at room temperature for 24 hours. The reaction solution was extracted with toluene-water, the organic layer was dehydrated with sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The resulting residue was purified by silica gel column chromatography (dichloromethane-methanol 100: 1) to give MO.
43.3 g (76.7 mmol) of NO-4 was obtained.

【0115】純度(液体クロマトグラフィ−): 9
9.6% マススペクトル(ファブ法、マトリックスはニトロベン
ジルアルコ−ル) M+ +1: 565 元素分析(C29403 4 として): C H S 測定値(%) 61.61 7.18 22.75 計算値(%) 61.66 7.14 22.71 赤外線吸収スペクトル(cm-1、CHCl3 ):3490
(-OH )、1630、1605(CH2=CH-Ph-)1 H−核磁気共鳴スペクトル(ppm、CDCl3 ):7.
40〜7.24(8H)、6.77〜6.66(2
H)、5.79〜5.71(2H)、5.27〜5.2
2(2H)、4.53〜4.52(4H)、3.68
(1H)、3.66〜3.62(4H)、2.89(1
H)、2.79〜2.55(16H) (実施例5、MONO−5の合成)窒素雰囲気下、1,
3−ジクロロ−2−プロパノ−ル25.4g(197m
mol)と3,4−ジヒドロ−2H−ピラン16.6g
(197mmol)のジクロロメタン22ml溶液にピ
リジニウム−p−トルエンスルフォネ−ト0.050g
(0.20mmol)を加え、室温にて24時間反応さ
せた。
Purity (liquid chromatography): 9
9.6% Mass spectrum (FAB method, matrix-nitrobenzyl alcohol - le) M + +1: (as C 29 H 40 O 3 S 4 ) 565 Elemental analysis: C H S measured value (%) 61.61 7. 18 22.75 Calculated value (%) 61.66 7.14 22.71 Infrared absorption spectrum (cm -1 , CHCl 3 ): 3490
(-OH), 1630,1605 (CH 2 = CH-Ph-) 1 H- nuclear magnetic resonance spectrum (ppm, CDCl 3): 7 .
40-7.24 (8H), 6.77-6.66 (2
H) 5.79-5.71 (2H), 5.27-5.2
2 (2H), 4.53-4.52 (4H), 3.68
(1H), 3.66 to 3.62 (4H), 2.89 (1
H) 2.79 to 2.55 (16H) (Example 5, synthesis of MONO-5)
25.4 g of 3-dichloro-2-propanol (197 m
mol) and 1,6.6 g of 3,4-dihydro-2H-pyran
(197 mmol) in a 22 ml solution of dichloromethane in 0.050 g of pyridinium-p-toluenesulfonate
(0.20 mmol) was added and reacted at room temperature for 24 hours.

【0116】その反応液を減圧濃縮し、その残渣に8−
メルカプト−3,6−ジチア−1−オクタノ−ル80.
1g(404mmol)、エタノ−ル176ml、水酸
化ナトリウム31.5g(788mmol)を加え、窒
素雰囲気下にて80℃にて16時間反応させた。反応液
を酢酸エチル−10%食塩水にて抽出操作を行い、有機
層を減圧濃縮した。その残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィ−(ジクロロメタン−メタノ−ル 20:
1)にて精製することにより、下記化学式(43)に示
すジオ−ル体を82.5g(154mmol)得た。
The reaction solution was concentrated under reduced pressure, and 8-
Mercapto-3,6-dithia-1-octanol 80.
1 g (404 mmol), 176 ml of ethanol and 31.5 g (788 mmol) of sodium hydroxide were added, and reacted at 80 ° C. for 16 hours under a nitrogen atmosphere. The reaction solution was extracted with ethyl acetate-10% saline, and the organic layer was concentrated under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel column chromatography (dichloromethane-methanol 20:
By purifying in 1), 82.5 g (154 mmol) of a diol compound represented by the following chemical formula (43) was obtained.

【0117】[0117]

【化48】 このジオ−ル体82.5g(154mmol)のトルエ
ン液123mlに4−イソプロペニルベンジルクロライ
ド52.7g(316mmol)、水酸化ナトリウム6
1.6g(1.54mol)、水123ml、テトラブ
チルアンモニウムブロマイド4.96g(15.4mm
ol)を加えて、室温にて48時間反応させた。その反
応液を酢酸エチル−水にて抽出操作し、有機層を硫酸ナ
トリウムで脱水処理した後、減圧濃縮した。得られた残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ−(ジクロロメ
タン)にて精製することにより、下記化学式(44)に
示すアルコ−ル保護体を101g(127mmol)得
た。
Embedded image 52.7 g (316 mmol) of 4-isopropenylbenzyl chloride and 123 ml of a toluene solution of 82.5 g (154 mmol) of this diol form were added to 123 ml of a toluene solution.
1.6 g (1.54 mol), 123 ml of water, 4.96 g (15.4 mm) of tetrabutylammonium bromide
ol) and reacted at room temperature for 48 hours. The reaction solution was extracted with ethyl acetate-water, the organic layer was dehydrated with sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography (dichloromethane) to obtain 101 g (127 mmol) of a protected alcohol represented by the following chemical formula (44).

【0118】[0118]

【化49】 このアルコ−ル保護体101g(127mmol)のメ
タノ−ル液256mlにピリジニウム−p−トルエンス
ルフォネ−ト1.60g(6.37mmol)を加え、
室温にて24時間反応させた。その反応液を減圧濃縮
し、得られた残渣を酢酸エチル−水にて抽出操作した。
有機層を硫酸ナトリウムで脱水処理した後、減圧濃縮
し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
−(ジクロロメタン−メタノ−ル 100:1)にて精
製することにより、MONO−5を84.2g(118
mmol)得た。
Embedded image Pyridinium-p-toluenesulfonate (1.60 g, 6.37 mmol) was added to 256 ml of a methanol solution containing 101 g (127 mmol) of the protected alcohol.
The reaction was performed at room temperature for 24 hours. The reaction solution was concentrated under reduced pressure, and the obtained residue was extracted with ethyl acetate-water.
The organic layer was dehydrated with sodium sulfate, concentrated under reduced pressure, and the obtained residue was purified by silica gel column chromatography (dichloromethane-methanol 100: 1) to give 84.2 g (118) of MONO-5.
mmol).

【0119】純度(液体クロマトグラフィ−): 9
9.6% マススペクトル(ファブ法、マトリックスはニトロベン
ジルアルコ−ル) M+ +1: 713 元素分析(C35523 6 として): C H S 測定値(%) 58.88 7.40 26.91 計算値(%) 58.94 7.35 26.98 赤外線吸収スペクトル(cm-1、CHCl3 ):3485
(-OH )、1629、1603(CH2=CCH3-Ph-)1 H−核磁気共鳴スペクトル(ppm、CDCl3 ):7.
51〜7.22(8H)、5.37(2H)、5.20
(2H)、4.56(4H)、3.71(1H)、3.
64(4H),2.91〜2.52(25H)、2.1
6(6H) (実施例6、MONO−6の合成)窒素雰囲気下、1,
5−ジクロロ−3−プロパノ−ル31.9g(203m
mol)とエチルビニルエ−テル14.7g(204m
mol)のジクロロメタン22ml溶液にピリジニウム
−p−トルエンスルフォネ−ト0.051g(0.20
mmol)を加え、室温にて24時間反応させた。
Purity (liquid chromatography): 9
9.6% Mass spectrum (FAB method, matrix-nitrobenzyl alcohol - le) M + +1: (as C 35 H 52 O 3 S 6 ) 713 Elemental analysis: C H S measured value (%) 58.88 7. 40 26.91 Calculated value (%) 58.94 7.35 26.98 Infrared absorption spectrum (cm -1 , CHCl 3 ): 3485
(-OH), 1629,1603 (CH 2 = CCH 3 -Ph-) 1 H- nuclear magnetic resonance spectrum (ppm, CDCl 3): 7 .
51-7.22 (8H), 5.37 (2H), 5.20
(2H), 4.56 (4H), 3.71 (1H), 3.
64 (4H), 2.91 to 2.52 (25H), 2.1
6 (6H) (Example 6, synthesis of MONO-6)
31.9 g of 5-dichloro-3-propanol (203 m
mol) and 14.7 g of ethyl vinyl ether (204 m
mol) in 0.05 ml of a pyridinium-p-toluenesulfonate (0.20 mol) in a 22 ml solution of dichloromethane.
mmol) and reacted at room temperature for 24 hours.

【0120】その反応液を減圧濃縮し、その残渣に2−
メルカプトエタノ−ル33.0g(422mmol)、
エタノ−ル185ml、水酸化ナトリウム33.1g
(828mmol)を加え、窒素雰囲気下にて80℃に
て16時間反応させた。反応液を酢酸エチル−10%食
塩水にて抽出操作を行い、有機層を減圧濃縮した。その
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ−(ジクロロ
メタン−メタノ−ル 20:1)にて精製することによ
り、下記化学式(45)に示すジオ−ル体を55.8g
(179mmol)得た。
The reaction solution was concentrated under reduced pressure, and 2-D was added to the residue.
33.0 g (422 mmol) of mercaptoethanol,
185 ml of ethanol, 33.1 g of sodium hydroxide
(828 mmol) and reacted at 80 ° C. for 16 hours under a nitrogen atmosphere. The reaction solution was extracted with ethyl acetate-10% saline, and the organic layer was concentrated under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (dichloromethane-methanol 20: 1) to give 55.8 g of a diol derivative represented by the following chemical formula (45).
(179 mmol) were obtained.

【0121】[0121]

【化50】 このジオ−ル体55.8g(179mmol)のトルエ
ン液143mlにビニルベンジルクロライド[m体−p
体の混合物(6:4)]56.0g(367mmo
l)、水酸化ナトリウム71.6g(1.79mo
l)、水143ml、テトラブチルアンモニウムブロマ
イド5.77g(17.9mmol)を加えて、室温に
て48時間反応させた。その反応液を酢酸エチル−水に
て抽出操作し、有機層を硫酸ナトリウムで脱水処理した
後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィ−(ジクロロメタン)にて精製すること
により、下記化学式(46)に示すアルコ−ル保護体を
90.7g(166mmol)得た。
Embedded image To 143 ml of a toluene solution containing 55.8 g (179 mmol) of the diol form was added vinylbenzyl chloride [m-p
Mixture of bodies (6: 4)] 56.0 g (367 mmol)
l), 71.6 g of sodium hydroxide (1.79 mol)
l), 143 ml of water and 5.77 g (17.9 mmol) of tetrabutylammonium bromide were added and reacted at room temperature for 48 hours. The reaction solution was extracted with ethyl acetate-water, the organic layer was dehydrated with sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography (dichloromethane) to obtain 90.7 g (166 mmol) of a protected alcohol represented by the following chemical formula (46).

【0122】[0122]

【化51】 このアルコ−ル保護体90.7g(166mmol)の
メタノ−ル液335mlにピリジニウム−p−トルエン
スルフォネ−ト2.09g(8.32mmol)を加
え、室温にて24時間反応させた。その反応液を減圧濃
縮し、得られた残渣を酢酸エチル−水にて抽出操作し
た。有機層を硫酸ナトリウムで脱水処理した後、減圧濃
縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィ−(ジクロロメタン−メタノ−ル 100:1)にて
精製することにより、MONO−6を75.3g(15
9mmol)得た。
Embedded image To 335 ml of a methanol solution of 90.7 g (166 mmol) of the protected alcohol was added 2.09 g (8.32 mmol) of pyridinium-p-toluenesulfonate, and the mixture was reacted at room temperature for 24 hours. The reaction solution was concentrated under reduced pressure, and the obtained residue was extracted with ethyl acetate-water. The organic layer was dehydrated with sodium sulfate, concentrated under reduced pressure, and the obtained residue was purified by silica gel column chromatography (dichloromethane-methanol 100: 1) to obtain 75.3 g (15%) of MONO-6.
9 mmol).

【0123】純度(液体クロマトグラフィ−): 9
9.8% マススペクトル(ファブ法、マトリックスはニトロベン
ジルアルコ−ル) M+ +1: 473 元素分析(C27363 2 として): C H S 測定値(%) 68.64 7.71 13.51 計算値(%) 68.60 7.68 13.57 赤外線吸収スペクトル(cm-1、CHCl3 ):3462
(-OH )、1630、1605(CH2=CH-Ph-)1 H−核磁気共鳴スペクトル(ppm、CDCl3 ):7.
38〜7.22(8H)、6.76〜6.65(2
H)、5.79〜5.70(2H)、5.27〜5.2
0(2H)、4.53〜4.52(4H)、3.71〜
3.60(5H)、2.92〜2.55(9H)、1.
96〜1.80(4H) (実施例7、MONO−7の合成)窒素雰囲気下、1,
3−ジクロロ−2−プロパノ−ル33.2g(257m
mol)とブチルビニルエ−テル25.8g(258m
mol)のジクロロメタン28ml溶液にピリジニウム
−p−トルエンスルフォネ−ト0.065g(0.26
mmol)を加え、室温にて24時間反応させた。
Purity (liquid chromatography): 9
9.8% Mass spectrum (FAB method, matrix-nitrobenzyl alcohol - le) M + +1: (as C 27 H 36 O 3 S 2 ) 473 Elemental analysis: C H S measured value (%) 68.64 7. 71 13.51 Calculated value (%) 68.60 7.68 13.57 Infrared absorption spectrum (cm -1 , CHCl 3 ): 3462
(-OH), 1630,1605 (CH 2 = CH-Ph-) 1 H- nuclear magnetic resonance spectrum (ppm, CDCl 3): 7 .
38 to 7.22 (8H), 6.76 to 6.65 (2
H) 5.79-5.70 (2H), 5.27-5.2
0 (2H), 4.53-4.52 (4H), 3.71-
3.60 (5H), 2.92 to 2.55 (9H), 1.
96 to 1.80 (4H) (Example 7, Synthesis of MONO-7)
33.2 g of 3-dichloro-2-propanol (257 m
mol) and 25.8 g (258 m) of butyl vinyl ether
mol) in 0.028 g of pyridinium-p-toluenesulfonate (0.26 mol).
mmol) and reacted at room temperature for 24 hours.

【0124】その反応液を減圧濃縮し、その残渣に3−
メルカプト−1−プロパノ−ル48.6g(527mm
ol)、エタノ−ル230ml、水酸化ナトリウム4
1.1g(1.03mol)を加え、窒素雰囲気下にて
80℃にて16時間反応させた。反応液を酢酸エチル−
10%食塩水にて抽出操作を行い、有機層を減圧濃縮し
た。その残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ−
(ジクロロメタン−メタノ−ル 20:1)にて精製す
ることにより、下記化学式(47)に示すジオ−ル体を
75.3g(221mmol)得た。
The reaction solution was concentrated under reduced pressure, and 3-D was added to the residue.
48.6 g of mercapto-1-propanol (527 mm
ol), 230 ml of ethanol, sodium hydroxide 4
1.1 g (1.03 mol) was added and reacted at 80 ° C. for 16 hours under a nitrogen atmosphere. The reaction solution was ethyl acetate-
An extraction operation was performed with 10% saline, and the organic layer was concentrated under reduced pressure. The residue is purified by silica gel column chromatography.
By purifying with (dichloromethane-methanol 20: 1), 75.3 g (221 mmol) of a diol derivative represented by the following chemical formula (47) was obtained.

【0125】[0125]

【化52】 このジオ−ル体75.3g(221mmol)のトルエ
ン液177mlにビニルベンジルクロライド[m体−p
体の混合物(6:4)]69.2g(453mmo
l)、水酸化ナトリウム88.4g(2.21mo
l)、水177ml、テトラブチルアンモニウムブロマ
イド7.12g(22.1mmol)を加えて、室温に
て48時間反応させた。その反応液を酢酸エチル−水に
て抽出操作し、有機層を硫酸ナトリウムで脱水処理した
後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィ−(ジクロロメタン)にて精製すること
により、下記化学式(48)に示すアルコ−ル保護体を
118g(206mmol)得た。
Embedded image To 177 ml of a toluene solution containing 75.3 g (221 mmol) of the diol form, vinylbenzyl chloride [m-p
Mixture of bodies (6: 4)] 69.2 g (453 mmo)
l), 88.4 g of sodium hydroxide (2.21 mol)
l), water (177 ml) and tetrabutylammonium bromide (7.12 g, 22.1 mmol) were added, and the mixture was reacted at room temperature for 48 hours. The reaction solution was extracted with ethyl acetate-water, the organic layer was dehydrated with sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography (dichloromethane) to obtain 118 g (206 mmol) of a protected alcohol represented by the following chemical formula (48).

【0126】[0126]

【化53】 このアルコ−ル保護体118g(206mmol)のメ
タノ−ル液416mlにピリジニウム−p−トルエンス
ルフォネ−ト2.59g(10.3mmol)を加え、
室温にて24時間反応させた。その反応液を減圧濃縮
し、得られた残渣を酢酸エチル−水にて抽出操作した。
有機層を硫酸ナトリウムで脱水処理した後、減圧濃縮
し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
−(ジクロロメタン- メタノ−ル 100:1)にて精
製することにより、MONO−7を92.5g(196
mmol)得た。
Embedded image To 416 ml of a methanol solution containing 118 g (206 mmol) of the protected alcohol was added 2.59 g (10.3 mmol) of pyridinium-p-toluenesulfonate.
The reaction was performed at room temperature for 24 hours. The reaction solution was concentrated under reduced pressure, and the obtained residue was extracted with ethyl acetate-water.
The organic layer was dehydrated with sodium sulfate, concentrated under reduced pressure, and the resulting residue was purified by silica gel column chromatography (dichloromethane-methanol 100: 1) to give 92.5 g (196) of MONO-7.
mmol).

【0127】純度(液体クロマトグラフィ−): 9
9.7% マススペクトル(ファブ法、マトリックスはニトロベン
ジルアルコ−ル) M+ +1: 473 元素分析(C27363 2 として): C H S 測定値(%) 68.56 7.65 13.62 計算値(%) 68.60 7.68 13.57 赤外線吸収スペクトル(cm-1、CHCl3 ):3466
(-OH )、1630、1605(CH2=CH-Ph-)1 H−核磁気共鳴スペクトル(ppm、CDCl3 ):7.
39〜7.22(8H)、6.77〜6.65(2
H)、5.79〜5.70(2H)、5.27〜5.2
0(2H)、4.53〜4.52(4H)、3.83〜
3.60(5H)、3.26(1H)、2.87〜2.
58(8H)、1.94〜1.78(4H) 次に、上記で合成された各単量体を用いて重合を行い、
所定形状のプラスチック光学材料を調製した。それにつ
いて、以下の実施例にて示す。
Purity (liquid chromatography): 9
9.7% Mass spectrum (FAB method, matrix-nitrobenzyl alcohol - le) M + +1: (as C 27 H 36 O 3 S 2 ) 473 Elemental analysis: C H S measured value (%) 68.56 7. 65 13.62 Calculated value (%) 68.60 7.68 13.57 Infrared absorption spectrum (cm -1 , CHCl 3 ): 3466
(-OH), 1630,1605 (CH 2 = CH-Ph-) 1 H- nuclear magnetic resonance spectrum (ppm, CDCl 3): 7 .
39 to 7.22 (8H), 6.77 to 6.65 (2
H) 5.79-5.70 (2H), 5.27-5.2
0 (2H), 4.53-4.52 (4H), 3.83-
3.60 (5H), 3.26 (1H), 2.87-2.
58 (8H), 1.94 to 1.78 (4H) Next, polymerization was performed using each of the monomers synthesized above,
A plastic optical material having a predetermined shape was prepared. This will be described in the following examples.

【0128】なお、そのプラスチック光学材料の諸物性
を以下に示す方法により測定し、評価した。 屈折率、アッベ数: アッベ屈折率計[アタゴ(株)社
製の商品名2T]を用いて、成形物の屈折率及びアッベ
数を測定した。
The physical properties of the plastic optical material were measured and evaluated by the following methods. Refractive index and Abbe number: The refractive index and Abbe number of the molded article were measured using an Abbe refractometer [trade name 2T manufactured by Atago Co., Ltd.].

【0129】比重: 比重測定計[島津製作所(株)社
製の商品名SGM−300P]を用いて、成形物の比重
を測定した。 耐衝撃性: 成形物(直径8cm、厚さ1.8mm)に
127cmの高さより45gの鋼球を落下し、割れなか
ったものを○、割れたものを×とした。
Specific gravity: The specific gravity of the molded product was measured using a specific gravity measuring device [SGM-300P (trade name, manufactured by Shimadzu Corporation)]. Impact resistance: A steel ball of 45 g was dropped from a height of 127 cm onto a molded product (diameter: 8 cm, thickness: 1.8 mm).

【0130】耐熱性: 成形物を130℃の乾燥機中に
2時間放置した後、目視及び「フィルム配向ビュア−」
(ユニチカリサ−チラボ社製の商品名)にて成形物を観
察した。変形、割れ、表面劣化、着色等の変化が全く認
められないものを○、いずれかが認められたものを×と
した。
Heat resistance: After the molded product was left in a dryer at 130 ° C. for 2 hours, it was visually observed and “film orientation viewer”.
The molded product was observed under a trade name (trade name of Unitika Risa-Chilabo).も の indicates no change in deformation, cracking, surface deterioration, coloring, etc., and × indicates any of them.

【0131】耐溶剤性: 成形物をアセトン中に2時間
放置した後、成形物に変形、割れ、着色等の変化が認め
られないものを○、認められたものを×とした。 染色性: 90℃の水1リットルにセイコ−プラックス
ダイヤコ−トブラウンDを2g分散させ染色液を調整し
た。この染色液に、10分間浸漬させて染色を行い、染
色ムラがなく、かつ、視感度透過率(測定器:朝日分光
(株)製MODEL304)で染色前と染色後の差が4
0%以上のものを○とし、40%ないものを×とした。 (実施例8)MONO−1を20g、重合開始剤として
t−ブチルパ−オキシ−2−エチルヘキサノエ−トを
0.2g混合し、脱気操作した後、直径8cmの二枚の
ガラスとシリコ−ン製ガスケットとからなるレンズ注型
鋳型に注入した。それらを窒素置換された恒温槽中で4
0℃から110℃まで15時間かけて加熱し、さらに1
10℃にて2時間加熱した。加熱硬化後、型から硬化し
た成形物を取り出し、120℃にて4時間アニ−リング
処理を行った。
Solvent resistance: After leaving the molded article in acetone for 2 hours, the molded article was evaluated as ○ when no deformation, cracking, or change in color was observed, and was evaluated as × when observed. Stainability: 2 g of Seiko-Plax Diamond Coat Brown D was dispersed in 1 liter of water at 90 ° C. to prepare a stain solution. This dyeing solution was immersed in the dyeing solution for 10 minutes to perform dyeing. There was no unevenness in dyeing, and the difference between before and after staining was 4 in luminous transmittance (measurement instrument: MODEL304 manufactured by Asahi Spectroscopy Co., Ltd.).
Those with 0% or more were rated as ○, and those with less than 40% were rated as x. (Example 8) 20 g of MONO-1 and 0.2 g of t-butyl peroxy-2-ethylhexanoate as a polymerization initiator were mixed and deaerated. Then, two pieces of glass having a diameter of 8 cm and silica were mixed. And into a lens casting mold consisting of a gasket made of-. Place them in a constant temperature bath purged with nitrogen.
Heat from 0 ° C to 110 ° C over 15 hours, then add
Heated at 10 ° C. for 2 hours. After the heat curing, the cured molded product was taken out of the mold and annealed at 120 ° C. for 4 hours.

【0132】その成形物について、屈折率、アッベ数、
比重、耐衝撃性、耐熱性、耐溶剤性及び染色性の物性を
測定し、その結果を表1に示した。 (実施例9〜86)実施例8において、MONO−1の
代わりにMONO−2、3、4、6、7の単独と、MO
NO−2と5に他の単量体を配合したものを各々用い
て、実施例8と同様にして、熱硬化成形、アニ−リング
を行った。その成形物について、屈折率、アッベ数、比
重、耐衝撃性、耐熱性、耐溶剤性及び染色性の物性を測
定し、その結果を表1〜7に示した。 (比較例1及び2)ST、BZを各々20g、重合開始
剤としてt−ブチルパ−オキシ−2−エチルヘキサノエ
−トを0.2g混合し、脱気操作した後、直径8cmの
二枚のガラスとシリコ−ン製ガスケットとからなるレン
ズ注型鋳型に注入した。それらを窒素置換された恒温槽
中で40℃から80℃まで15時間かけて加熱し、さら
に80℃にて2時間加熱した。加熱硬化後、型から硬化
した成形物を取り出し、80℃にて4時間アニ−リング
処理を行った。その成形物の屈折率、アッベ数、比重、
耐衝撃性、耐熱性、耐溶剤性及び染色性の物性を測定
し、その結果を表7に示した。 (比較例3)単量体としてREFE−1のみを用い、実
施例8と同様にして、熱硬化成形、アニ−リングを行っ
た。その成形物について、屈折率、アッベ数、比重、耐
衝撃性、耐熱性、耐溶剤性及び染色性の物性を測定し、
その結果を表7に示した。
For the molded product, the refractive index, Abbe number,
The specific gravity, impact resistance, heat resistance, solvent resistance and physical properties of the dyeing property were measured, and the results are shown in Table 1. (Examples 9 to 86) In Example 8, MONO-2, 3, 4, 6, and 7 alone and MONO-1 were substituted for MONO-1.
Thermosetting molding and annealing were performed in the same manner as in Example 8 except that each of NO-2 and 5 mixed with another monomer was used. For the molded product, the refractive index, Abbe number, specific gravity, impact resistance, heat resistance, solvent resistance, and dyeing properties were measured, and the results are shown in Tables 1 to 7. (Comparative Examples 1 and 2) ST and BZ (20 g each) and t-butyl peroxy-2-ethylhexanoate (0.2 g) as a polymerization initiator were mixed and degassed. It was poured into a lens casting mold consisting of glass and a silicone gasket. They were heated from 40 ° C. to 80 ° C. over 15 hours in a constant temperature bath purged with nitrogen, and further heated at 80 ° C. for 2 hours. After the heat curing, the cured molded product was taken out of the mold and annealed at 80 ° C. for 4 hours. The refractive index, Abbe number, specific gravity,
The physical properties of impact resistance, heat resistance, solvent resistance and dyeability were measured, and the results are shown in Table 7. (Comparative Example 3) Thermosetting molding and annealing were performed in the same manner as in Example 8, except that only REFE-1 was used as the monomer. For the molded product, the refractive index, Abbe number, specific gravity, impact resistance, heat resistance, solvent resistance and dyeing properties were measured,
Table 7 shows the results.

【0133】なお、実施例8〜86、比較例1、2及び
3のいずれの成形物においても着色は認められず、無色
透明であった。
No coloring was observed in any of the molded products of Examples 8 to 86 and Comparative Examples 1, 2 and 3, and the molded products were colorless and transparent.

【0134】[0134]

【表1】 [Table 1]

【0135】[0135]

【表2】 [Table 2]

【0136】[0136]

【表3】 [Table 3]

【0137】[0137]

【表4】 [Table 4]

【0138】[0138]

【表5】 [Table 5]

【0139】[0139]

【表6】 [Table 6]

【0140】[0140]

【表7】 表1〜表7に示したように、実施例8〜86の単独重合
体においては、屈折率が1.59以上で、アッベ数も高
く、かつ耐衝撃性に優れている。しかも、耐熱性、耐溶
剤性及び染色性にも優れ、比重も1.21以下と小さ
い。
[Table 7] As shown in Tables 1 to 7, in the homopolymers of Examples 8 to 86, the refractive index is 1.59 or more, the Abbe number is high, and the impact resistance is excellent. Moreover, it has excellent heat resistance, solvent resistance, and dyeability, and has a small specific gravity of 1.21 or less.

【0141】一方、表7に示したように、本発明の範囲
外の単独重合体である比較例1及び2においては、屈折
率が1.59以下であり、耐衝撃性と染色性に劣ってい
る。しかも、耐熱性及び耐溶剤性が不良である。また、
本発明の範囲外の重合体である比較例3においても、耐
衝撃性と染色性に劣っている。
On the other hand, as shown in Table 7, Comparative Examples 1 and 2, which are homopolymers outside the scope of the present invention, had a refractive index of 1.59 or less and were inferior in impact resistance and dyeability. ing. In addition, heat resistance and solvent resistance are poor. Also,
Comparative Example 3, which is a polymer outside the scope of the present invention, is also inferior in impact resistance and dyeability.

【0142】なお、前記実施形態より把握される技術的
思想について以下に記載する。 (イ) 前記一般式(1)中のRは、硫黄原子を含む総
炭素数3〜7のアルキレン基である請求項1又は2に記
載のスチレン系単量体。
The technical idea grasped from the above embodiment will be described below. (A) The styrene monomer according to claim 1 or 2, wherein R in the general formula (1) is an alkylene group having a total carbon number of 3 to 7 including a sulfur atom.

【0143】このように構成した場合、得られるスチレ
ン系重合体の耐衝撃性や染色性などの物性を向上させ、
屈折率を確実に高めることができる。 (ロ) 前記一般式(1)中のRは、硫黄原子数に対す
る炭素原子数の割合が2〜5のものである請求項1又は
2に記載のスチレン系単量体。
In the case of such a constitution, physical properties such as impact resistance and dyeability of the obtained styrenic polymer are improved,
The refractive index can be reliably increased. (B) The styrene monomer according to claim 1 or 2, wherein R in the general formula (1) has a ratio of the number of carbon atoms to the number of sulfur atoms of 2 to 5.

【0144】このように構成した場合、得られるスチレ
ン系重合体の屈折率を効果的に高めることができる。 (ハ) 前記一般式(1)中のCH2 =CX−基がベン
ゼン環のメタ位又はパラ位に結合している請求項1又は
2に記載のスチレン系単量体。
With such a constitution, the refractive index of the obtained styrenic polymer can be effectively increased. (C) CH 2 = CX- group styrene monomer according to claim 1 or 2 in meta or para position of the benzene ring in the general formula (1).

【0145】このように構成した場合、一般式(1)で
表わされるスチレン系単量体を効率良く得ることができ
る。 (ニ) 保護化水酸基を有すると共に硫黄原子を含むジ
ヒドロキシ化合物と、ビニル又はイソプロペニルベンジ
ルハロゲン体とを触媒存在下に反応させた後に脱保護化
することによって得られるものである請求項1又は2に
記載の一般式(1)で表されるスチレン系単量体。
With such a constitution, the styrene monomer represented by the general formula (1) can be obtained efficiently. (D) a compound obtained by reacting a dihydroxy compound having a protected hydroxyl group and containing a sulfur atom with a vinyl or isopropenyl benzyl halide in the presence of a catalyst, followed by deprotection. A styrene-based monomer represented by the general formula (1).

【0146】この構成によれば、一般式(1)で表され
るスチレン系単量体を容易に、しかも収率良く得ること
ができる。 (ホ) 前記スチレン系単量体のみを重合してなる請求
項3又は4に記載のスチレン系重合体。
According to this configuration, the styrene-based monomer represented by the general formula (1) can be easily obtained with a high yield. (E) The styrene-based polymer according to claim 3 or 4, wherein only the styrene-based monomer is polymerized.

【0147】このように構成した場合、前記スチレン系
単量体に基づいて、スチレン系重合体の屈折率や耐衝撃
性などの物性を確実に発揮させることができる。 (ヘ) 前記スチレン系単量体を主成分とし、それと共
重合可能な単量体を共重合してなる請求項3又は4に記
載のスチレン系重合体。
In the case of such a constitution, the physical properties such as the refractive index and the impact resistance of the styrene-based polymer can be reliably exhibited based on the styrene-based monomer. (F) The styrene-based polymer according to claim 3 or 4, wherein the styrene-based monomer is a main component, and a monomer copolymerizable therewith is copolymerized.

【0148】このように構成した場合、スチレン系重合
体の屈折率や耐衝撃性などの物性を有効に発揮させるこ
とができる。 (ト) 一般式(1)で表されるスチレン系単量体を含
む単量体を、重合開始剤により不活性ガスの雰囲気下で
重合してなる請求項3に記載のスチレン系重合体の製造
方法。
With such a constitution, physical properties such as the refractive index and impact resistance of the styrenic polymer can be effectively exhibited. (G) The styrene-based polymer according to claim 3, wherein a monomer containing a styrene-based monomer represented by the general formula (1) is polymerized with a polymerization initiator under an inert gas atmosphere. Production method.

【0149】この方法によれば、スチレン系単量体の重
合時における重合速度の低下や重合物の着色を防止する
ことができる。 (チ) 一般式(1)で表されるスチレン系単量体と、
そのスチレン系単量体のヒドロキシル基と反応する官能
基を有する化合物とを混合し、加熱硬化法により重合し
てなる請求項3又は4に記載のスチレン系重合体。
According to this method, it is possible to prevent a reduction in the polymerization rate and a coloring of the polymer during the polymerization of the styrene monomer. (H) a styrene monomer represented by the general formula (1):
The styrenic polymer according to claim 3 or 4, wherein the styrenic polymer is mixed with a compound having a functional group that reacts with the hydroxyl group of the styrenic monomer and polymerized by a heat curing method.

【0150】このように構成すれば、得られる重合体の
耐衝撃性や耐熱性などの物性を向上させることができ
る。 (リ) 上記スチレン系単量体のヒドロキシル基と反応
する官能基を有する化合物が、イソシアネ−ト化合物で
ある(チ)に記載のスチレン系重合体。
With such a constitution, it is possible to improve physical properties such as impact resistance and heat resistance of the obtained polymer. (I) The styrene polymer according to (h), wherein the compound having a functional group that reacts with the hydroxyl group of the styrene monomer is an isocyanate compound.

【0151】このように構成した場合、得られる重合体
の耐衝撃性や耐熱性などの物性を確実に向上させること
ができる。 (ヌ) さらに加熱処理を施した請求項5に記載のプラ
スチック光学材料。
In the case of such a constitution, physical properties such as impact resistance and heat resistance of the obtained polymer can be surely improved. (V) The plastic optical material according to claim 5, further subjected to a heat treatment.

【0152】このように構成した場合、プラスチック光
学材料の内部歪みを除去することができる。 (ル) 前記スチレン系単量体を主成分とし、それと共
重合可能な単量体を共重合してなる請求項10に記載の
スチレン系重合体。
With such a configuration, the internal distortion of the plastic optical material can be removed. (11) The styrene-based polymer according to claim 10, wherein the styrene-based monomer is a main component, and a monomer copolymerizable therewith is copolymerized.

【0153】このように構成した場合、スチレン系重合
体の屈折率や耐衝撃性などの物性を有効に発揮させるこ
とができる。
With such a constitution, physical properties such as the refractive index and impact resistance of the styrenic polymer can be effectively exhibited.

【0154】[0154]

【発明の効果】以上詳述したように、この発明によれば
以下のような優れた効果を奏する。第1の発明の新規な
スチレン系単量体及び第3の発明の新規なスチレン系重
合体によれば、スチレン系単量体より得られる重合体の
耐熱性や耐溶剤性などの物性を良好に維持しつつ、屈折
率とアッベ数を高くでき、しかも耐衝撃性と染色性を向
上させることができる。
As described above, according to the present invention, the following excellent effects can be obtained. According to the novel styrene monomer of the first invention and the novel styrene polymer of the third invention, the polymer obtained from the styrene monomer has good physical properties such as heat resistance and solvent resistance. , The refractive index and Abbe number can be increased, and the impact resistance and the dyeability can be improved.

【0155】第2の発明のスチレン系単量体によれば、
第1の発明の効果をより確実に発揮させることができ
る。第4の発明のプラスチック光学材料用のスチレン系
重合体によれば、第3の発明の効果に加え、加熱硬化法
により所定形状をなす光学材料を容易に得ることができ
ると共に、活性エネルギ−線硬化法により所定形状の光
学材料を速やかに得ることができる。第5の発明のプラ
スチック光学材料によれば、光学材料は耐熱性及び耐溶
剤性などの物性が良好に維持され、屈折率とアッベ数を
高くでき、かつ耐衝撃性と染色性を向上できるため、眼
鏡用プラスチックレンズ等として好適に使用することが
できる。さらに、硫黄原子がベンジル位あるいはベンゼ
ン環に直接結合していないため、耐光性及び耐候性に優
れている。加えて、ヒドロキシル基を有しているためハ
−ドコ−トの密着性にも優れている。従って、この発明
は工業的に極めて有用である。
According to the styrene monomer of the second invention,
The effect of the first invention can be more reliably exerted. According to the styrenic polymer for a plastic optical material of the fourth invention, in addition to the effects of the third invention, an optical material having a predetermined shape can be easily obtained by a heat-curing method, and an active energy ray can be obtained. An optical material having a predetermined shape can be quickly obtained by a curing method. According to the plastic optical material of the fifth invention, the optical material maintains good physical properties such as heat resistance and solvent resistance, can increase the refractive index and Abbe number, and can improve impact resistance and dyeability. It can be suitably used as a plastic lens for eyeglasses and the like. Further, since the sulfur atom is not directly bonded to the benzyl position or the benzene ring, it is excellent in light resistance and weather resistance. In addition, since it has a hydroxyl group, it has excellent hard coat adhesion. Therefore, the present invention is extremely useful industrially.

【0156】第6の発明の新規なスチレン系単量体組成
物によれば、第1の発明の効果に加え、ビニル基を有す
る単量体の性質に基づき、得られるスチレン系重合体の
屈折率やアッベ数、さらに耐衝撃性や染色性などの物性
をより向上させることができる。
According to the novel styrene-based monomer composition of the sixth invention, in addition to the effects of the first invention, the refractive index of the obtained styrene-based polymer is determined based on the properties of the monomer having a vinyl group. It is possible to further improve physical properties such as a rate, an Abbe number, and impact resistance and dyeability.

【0157】第7の発明のスチレン系単量体組成物によ
れば、第6の発明の効果に加え、(メタ)アクリロイル
基を有する単量体の性質に基づいて、得られる重合体の
アッベ数を向上させることができる。
According to the styrene-based monomer composition of the seventh invention, in addition to the effects of the sixth invention, the resulting polymer has an abbe based on the properties of the monomer having a (meth) acryloyl group. The number can be improved.

【0158】第8の発明のスチレン系単量体組成物によ
れば、第7の発明の効果に加え、2官能性の(メタ)ア
クリロイル基を有する単量体により、得られる重合体は
架橋構造を有するものとなり、耐衝撃性及び耐熱性を向
上させることができる。
According to the styrenic monomer composition of the eighth invention, in addition to the effect of the seventh invention, the polymer obtained is crosslinked by a monomer having a bifunctional (meth) acryloyl group. It has a structure and can improve impact resistance and heat resistance.

【0159】第9の発明のスチレン系単量体組成物によ
れば、第6の発明の効果に加え、特定のビニル基を有す
る単量体の性質に基づいて、屈折率を高く維持すること
ができる。
According to the styrenic monomer composition of the ninth aspect, in addition to the effects of the sixth aspect, it is possible to maintain a high refractive index based on the properties of the monomer having a specific vinyl group. Can be.

【0160】第10及び第11の発明のプラスチック光
学材料用のスチレン系重合体によれば、第6〜第9の発
明の効果に加え、加熱硬化法により所定形状をなす光学
材料を容易に得ることができると共に、活性エネルギ−
線硬化法により所定形状の光学材料を速やかに得ること
ができる。
According to the styrenic polymers for plastic optical materials of the tenth and eleventh aspects, in addition to the effects of the sixth to ninth aspects, an optical material having a predetermined shape can be easily obtained by a heat curing method. Active energy
An optical material having a predetermined shape can be promptly obtained by the line curing method.

【0161】第12の発明のプラスチック光学材料によ
れば、第6の発明の効果を、目的に応じてさらに向上さ
せることができる。
According to the plastic optical material of the twelfth aspect, the effects of the sixth aspect can be further improved according to the purpose.

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 下記一般式(1)で表されるスチレン系
単量体。 【化1】 (但し、式中Rは硫黄原子を含む総炭素数2〜11のア
ルキレン基、Xは水素原子又はメチル基である。)
1. A styrene monomer represented by the following general formula (1). Embedded image (Wherein, R is an alkylene group having a total of 2 to 11 carbon atoms including a sulfur atom, and X is a hydrogen atom or a methyl group.)
【請求項2】 前記一般式(1)におけるRが、下記一
般式(2)で表されるアルキレン基である請求項1に記
載のスチレン系単量体。 −(CH2 CH2 S)m −(CH2 n − ・・・(2) (但し、式中m及びnはそれぞれ1〜5の整数であ
る。)
2. The styrene monomer according to claim 1, wherein R in the general formula (1) is an alkylene group represented by the following general formula (2). − (CH 2 CH 2 S) m − (CH 2 ) n − (2) (where m and n are each an integer of 1 to 5)
【請求項3】 請求項1に記載のスチレン系単量体を含
む単量体を重合してなるスチレン系重合体。
3. A styrene polymer obtained by polymerizing a monomer containing the styrene monomer according to claim 1.
【請求項4】 請求項1又は請求項2に記載のスチレン
系単量体を含む単量体を加熱硬化法又は活性エネルギ−
線硬化法により重合してなるプラスチック光学材料用の
スチレン系重合体。
4. A method for curing a monomer containing the styrenic monomer according to claim 1 or 2 using a heat curing method or an active energy method.
Styrene-based polymer for plastic optical materials obtained by polymerization by the line curing method.
【請求項5】 請求項3又は請求項4に記載のスチレン
系重合体を所定形状に成形してなるプラスチック光学材
料。
5. A plastic optical material obtained by molding the styrenic polymer according to claim 3 into a predetermined shape.
【請求項6】 請求項1又は請求項2に記載のスチレン
系単量体と、ビニル基を有する単量体を少なくとも一種
含有してなるスチレン系単量体組成物。
6. A styrene monomer composition comprising the styrene monomer according to claim 1 and at least one monomer having a vinyl group.
【請求項7】 前記ビニル基を有する単量体が、(メ
タ)アクリロイル基を有する単量体である請求項6に記
載のスチレン系単量体組成物。
7. The styrene monomer composition according to claim 6, wherein the monomer having a vinyl group is a monomer having a (meth) acryloyl group.
【請求項8】 前記(メタ)アクリロイル基を有する単
量体が、下記一般式(3)で表される単量体である請求
項7に記載のスチレン系単量体組成物。 【化2】 (但し、式中Yは水素原子又はメチル基、Aは炭素数2
〜6のアルキレン基、pは1〜25の整数を表す。)
8. The styrene monomer composition according to claim 7, wherein the monomer having a (meth) acryloyl group is a monomer represented by the following general formula (3). Embedded image (Where Y is a hydrogen atom or a methyl group, and A is C 2
An alkylene group of 6 to 6, p represents an integer of 1 to 25; )
【請求項9】 前記ビニル基を有する単量体が、下記一
般式(4)で表される単量体である請求項6に記載のス
チレン系単量体組成物。 【化3】 (但し、式中αは水素原子又はメチル基、βは水素原
子、塩素原子、臭素原子、炭素数1〜6のアルキル基又
はビニル基を表す。)
9. The styrene monomer composition according to claim 6, wherein the monomer having a vinyl group is a monomer represented by the following general formula (4). Embedded image (Where α represents a hydrogen atom or a methyl group, β represents a hydrogen atom, a chlorine atom, a bromine atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a vinyl group).
【請求項10】 請求項6〜請求項9のいずれかに記載
のスチレン系単量体組成物を重合してなるスチレン系重
合体。
10. A styrenic polymer obtained by polymerizing the styrenic monomer composition according to any one of claims 6 to 9.
【請求項11】 請求項6〜請求項9のいずれかに記載
のスチレン系単量体組成物を加熱硬化法又は活性エネル
ギ−線硬化法により重合してなるプラスチック光学材料
用のスチレン系重合体。
11. A styrene polymer for a plastic optical material obtained by polymerizing the styrene monomer composition according to claim 6 by a heat curing method or an active energy ray curing method. .
【請求項12】 請求項10又は請求項11に記載のス
チレン系重合体を所定形状に成形してなるプラスチック
光学材料。
12. A plastic optical material obtained by molding the styrene-based polymer according to claim 10 into a predetermined shape.
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