JPH11344375A - Linear infrared detecting element and its manufacture - Google Patents

Linear infrared detecting element and its manufacture

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JPH11344375A
JPH11344375A JP15273398A JP15273398A JPH11344375A JP H11344375 A JPH11344375 A JP H11344375A JP 15273398 A JP15273398 A JP 15273398A JP 15273398 A JP15273398 A JP 15273398A JP H11344375 A JPH11344375 A JP H11344375A
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linear
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a linear infrared detecting element which removes an offset, which reduces the influence by a temperature drift and whose detecting accuracy is enhanced. SOLUTION: In a linear infrared detecting element, a plurality of bolometer elements 1 are arranged on a substrate, and infrared rays are detected by sequentially selecting the bolometer elements 1. A plurality of first bolometer elements 1d which are provided with a thermal isolation structure used to thermally cut off the substrate from the bolometer elements 1 formed on the substrate and which directly receive the infrared rays and a plurality of second bolometer elements 1c which are provided with a thermal isolation structure used to thermally cut off the substrate from the bolometer elements 1 formed on the substrate and which do not receive any infrared rays constitute the linear infrared detecting element.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はリニア型赤外線検出
素子とその製造方法に係わり、特に、オフセットを除去
すると共に温度ドリフトの影響をなくし、以って、赤外
線の精度良い検出を可能にした赤外線カメラに好適なリ
ニア型赤外線検出素子に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a linear infrared detecting element and a method of manufacturing the same, and more particularly to an infrared detecting element which eliminates offsets and eliminates the influence of temperature drift, thereby enabling accurate detection of infrared rays. The present invention relates to a linear infrared detecting element suitable for a camera.

【0002】[0002]

【従来の技術】ボロメータ素子は温度変化に応じてその
抵抗値が変化し、その特性を生かし赤外線の検出に広く
用いられている。その応用例であるボロメータ素子を用
いた従来のリニア型赤外線検出素子の動作のしくみを図
4を用いて説明する。ボロメータ素子32を含むユニッ
トセル31がリニアアレイ状に配列され、ユニットセル
31内のボロメータ素子32はユニットセル選択用トラ
ンジスタ33を介してグランド端子34に接続されてい
る。ここで、ユニットセル選択用トランジスタ33のゲ
ート電極は図の左から順番に投入するようにシフトレジ
スタ35によって制御される。これにより、出力端子3
6には、いずれか一つのユニットセル31のボロメータ
素子32が選択的に接続される。ボロメータ素子32の
受光部は、基板と高い熱的絶縁状態にあり、これにより
赤外輻射による熱エネルギーが、一時的にボロメータ素
子32に貯えられる。その結果、ボロメータ素子32の
温度が上昇し、それに応じた抵抗変化が生じる。この抵
抗変化を出力端子36から外部に読み出すことにより、
被写体の温度情報を得ることができる。
2. Description of the Related Art A bolometer element changes its resistance value in accordance with a change in temperature, and is widely used for detecting infrared rays by utilizing its characteristics. The operation of a conventional linear infrared detecting element using a bolometer element as an application example will be described with reference to FIG. The unit cells 31 including the bolometer elements 32 are arranged in a linear array, and the bolometer elements 32 in the unit cells 31 are connected to a ground terminal 34 via a unit cell selection transistor 33. Here, the gate electrode of the unit cell selection transistor 33 is controlled by the shift register 35 so as to be turned on in order from the left in the figure. Thereby, the output terminal 3
6, the bolometer element 32 of any one of the unit cells 31 is selectively connected. The light receiving portion of the bolometer element 32 is in a state of high thermal insulation from the substrate, whereby thermal energy due to infrared radiation is temporarily stored in the bolometer element 32. As a result, the temperature of the bolometer element 32 rises, and a corresponding resistance change occurs. By reading this resistance change from the output terminal 36 to the outside,
Object temperature information can be obtained.

【0003】読み出し回路として、例えば、積分回路3
7が用いられる。これはボロメータ素子に一定時間、定
電圧を印加し、この時の電流を積分用キャパシタ39で
積分する。実際には、ボロメータ素子32と直列に接続
した積分用キャパシタ39を予め一定電圧に充電し、一
定時間、定電圧で通電した後、積分用キャパシタの残電
圧を読み出す。この残電圧は積分期間中のボロメータ素
子32の抵抗値に依存し、被写体から受けた熱輻射量に
関する情報を含んでいる。
As a read circuit, for example, an integrating circuit 3
7 is used. In this method, a constant voltage is applied to the bolometer element for a fixed time, and the current at this time is integrated by the integration capacitor 39. Actually, the integration capacitor 39 connected in series with the bolometer element 32 is charged to a constant voltage in advance, and after a constant time is supplied with a constant voltage, the remaining voltage of the integration capacitor is read. This residual voltage depends on the resistance value of the bolometer element 32 during the integration period and includes information on the amount of heat radiation received from the subject.

【0004】このようにして、赤外輻射量の情報を電気
的に読み出すことができる。しかし、上記したボロメー
タ素子を用いたリニア型赤外線検出素子では、信号のオ
フセット成分が大きく、十分大きなゲインが得られない
ことが問題となっていた。この信号のオフセット成分の
主たる部分は、積分期間中のボロメータ素子の自己加熱
による温度上昇でボロメータ抵抗が大きく変化すること
により発生する。このオフセット成分は出力信号の大半
を占めるが、被写体の温度情報を全く含まない。このた
めアンプのダイナミックレンジを有効に使えず、信号ゲ
インが上げられない。又、積分時間を延ばすとそれだけ
温度分解能が向上するが、このオフセット量も同時に大
きくなるため、十分な積分時間を確保することができな
かった。
[0004] In this manner, information on the amount of infrared radiation can be electrically read. However, in the linear infrared detecting element using the above-mentioned bolometer element, there is a problem that the offset component of the signal is large and a sufficiently large gain cannot be obtained. The main part of the offset component of this signal is generated by a large change in the bolometer resistance due to a temperature rise due to self-heating of the bolometer element during the integration period. This offset component occupies most of the output signal, but does not include any temperature information of the subject. Therefore, the dynamic range of the amplifier cannot be used effectively, and the signal gain cannot be increased. Further, if the integration time is extended, the temperature resolution is improved accordingly, but the offset amount also increases at the same time, so that a sufficient integration time cannot be secured.

【0005】更に、大きな問題として温度ドリフトがあ
る。ボロメータ素子は基板から熱的に分離されているも
のの、実際には信号読み出し配線を介し僅かながら基板
との熱交換が存在する。このため環境温度が変化し基板
温度が変化すると、長い時定数でボロメータの素子温度
が変化する。これが温度ドリフトの原因となる。これを
防ぐために、動作中に頻繁にFPN(固定パターンノイ
ズ)補正をかけなければならず、赤外線カメラとしての
操作性を著しく損ねていた。
[0005] Another major problem is temperature drift. Although the bolometer element is thermally separated from the substrate, there is actually a small amount of heat exchange with the substrate via the signal readout wiring. Therefore, when the environmental temperature changes and the substrate temperature changes, the element temperature of the bolometer changes with a long time constant. This causes a temperature drift. In order to prevent this, frequent correction of FPN (fixed pattern noise) must be performed during operation, which significantly impairs the operability as an infrared camera.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
した従来技術の欠点を改良し、特に、オフセットを除去
すると共に温度ドリフトの影響をなくし、以って、赤外
線の検出精度を向上させた新規なリニア型赤外線検出素
子とその製造方法を提供するものである。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to improve the above-mentioned disadvantages of the prior art, and in particular, to eliminate offsets and eliminate the effects of temperature drift, thereby improving the accuracy of infrared detection. And a novel linear infrared detecting element and a method of manufacturing the same.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明は上記した目的を
達成するため、基本的には、以下に記載されたような技
術構成を採用するものである。即ち、本発明に係わるリ
ニア型赤外線検出素子の第1態様は、基板上に複数のボ
ロメータ素子が形成されて配列され、これらのボロメー
タ素子を順に選択することで赤外線を検出するようにし
たリニア型赤外線検出素子において、基板とこの基板上
に形成されたボロメータ素子とが熱的に遮断された熱分
離構造を有し、赤外線を直接受光する複数の第1のボロ
メータ素子と、基板とこの基板上に形成されたボロメー
タ素子とが熱的に遮断された熱分離構造を有し、赤外線
を受光しないようにした第2のボロメータ素子とで構成
したことを特徴とするものであり、又、第2態様は、前
記第2のボロメータ素子は複数設けられていることを特
徴とするものであり、又、第3態様は、第1のボロメー
タ素子に於いて、熱分離構造を有さない第3及び第4の
ボロメータ素子を設け、第1の電源と第2の電源との間
に前記第3のボロメータ素子と第2のボロメータ素子と
を直列に接続し、第1の電源と第2の電源との間に前記
第4のボロメータ素子と第1のボロメータ素子とを直列
に接続し、夫々のボロメータ素子の接続点の電圧の差を
検出するように構成したことを特徴とするものであり、
又、第4態様は、赤外線を受光しないようにした同一構
造の第3及び第4のボロメータ素子を設け、第1の電源
と第2の電源との間に前記第3のボロメータ素子と第4
のボロメータ素子とを直列に接続し、第1の電源と第2
の電源との間に前記第1のボロメータ素子と第2のボロ
メータ素子とを直列に接続し、夫々のボロメータ素子の
接続点の電圧の差を検出するように構成したことを特徴
とするものであり、又、第5態様は、前記第1のボロメ
ータ素子が整列して配置される第1の列と、前記第1の
ボロメータ素子に対応して、前記第2のボロメータ素子
が整列して配置される第2の列とを備えたことを特徴と
するものであり、又、第6態様は、前記第3及び第4の
ボロメータ素子と基板とは熱的に一体的に形成されたこ
とを特徴とするものであり、又、第7態様は、前記基板
上には赤外線反射膜が設けられていることを特徴とする
ものであり、又、第8態様は、前記第2のボロメータ素
子の受光側には、赤外線の入射を遮断する遮光手段が設
けられていることを特徴とするものであり、又、第9態
様は、前記ボロメータ素子が形成された基板には、第1
のボロメータ素子を選択するためのスイッチングトラン
ジスタと共に検出用の差動増幅器が形成されていること
を特徴とするものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention basically employs the following technical configuration to achieve the above object. That is, the first aspect of the linear infrared detecting element according to the present invention is a linear infrared detecting element in which a plurality of bolometer elements are formed and arranged on a substrate, and infrared rays are detected by sequentially selecting these bolometer elements. In the infrared detecting element, a substrate and a bolometer element formed on the substrate have a thermal isolation structure in which the substrate is thermally cut off, and a plurality of first bolometer elements that directly receive infrared rays; And a second bolometer element having a thermal isolation structure in which the bolometer element formed in the second bolometer element is thermally cut off and not receiving infrared rays. An aspect is characterized in that a plurality of the second bolometer elements are provided, and a third aspect is the first and the second bolometer elements in the first bolometer element which do not have a heat separation structure. 4 bolometer element, the third bolometer element and the second bolometer element are connected in series between a first power supply and a second power supply, and a first power supply and a second power supply are connected to each other. Wherein the fourth bolometer element and the first bolometer element are connected in series, and a voltage difference between connection points of the respective bolometer elements is detected.
Further, in a fourth aspect, third and fourth bolometer elements having the same structure which are configured not to receive infrared rays are provided, and the third bolometer element and the fourth bolometer element are disposed between a first power supply and a second power supply.
Bolometer elements are connected in series, the first power supply and the second
The first bolometer element and the second bolometer element are connected in series between the bolometer element and a power supply, and a voltage difference between connection points of the bolometer elements is detected. In a fifth aspect, the first bolometer element is arranged and arranged in a first row, and the second bolometer element is arranged and arranged corresponding to the first bolometer element. The sixth aspect is characterized in that the third and fourth bolometer elements and the substrate are formed integrally thermally. According to a seventh aspect, an infrared reflecting film is provided on the substrate, and in an eighth aspect, the infrared reflecting film is provided in the second bolometer element. The light-receiving side must be provided with light-blocking means to block infrared light Which is characterized, also, the ninth aspect, the substrate on which the bolometer element is formed, the first
A differential amplifier for detection is formed together with a switching transistor for selecting the bolometer element.

【0008】又、本発明に係るリニア型赤外線検出素子
の製造方法の第1態様は、基板上に複数のボロメータ素
子が配列され、これらボロメータ素子を順に選択するこ
とで赤外線を検出するようにしたリニア型赤外線検出素
子の製造方法において、基板に前記ボロメータ素子を選
択するためのスイッチングトランジスタを形成する第1
の工程と、基板上に犠牲層を形成する第2の工程と、前
記犠牲層上にボロメータ材料からなる膜とこの膜を挟む
ように保護膜を形成する第3の工程と、前記膜を所定の
形状にエッチングすると共に前記膜を保護膜で被覆する
第4の工程と、前記ボロメータ材料上に赤外線吸収膜又
は赤外線反射膜又は遮光膜を形成し、所定の形状にパタ
ーニングする第5の工程と、前記犠牲層をエッチングし
て除去して空間部を形成する第6の工程と、前記空間部
を略真空状態にする第7の工程と、を含むことを特徴と
するものであり、又、第2態様は、前記ボロメータ素子
は、同一材料を用い、且つ、同一プロセスで製造される
ことを特徴とするものである。
In a first aspect of the method of manufacturing a linear infrared detecting element according to the present invention, a plurality of bolometer elements are arranged on a substrate, and infrared rays are detected by sequentially selecting these bolometer elements. In the method for manufacturing a linear infrared detecting element, a first transistor for forming a switching transistor for selecting the bolometer element is formed on a substrate.
A second step of forming a sacrificial layer on the substrate, a third step of forming a film made of a bolometer material on the sacrificial layer and a protective film so as to sandwich the film, A fourth step of etching the film with a protective film and covering the film with a protective film, and a fifth step of forming an infrared absorbing film or an infrared reflecting film or a light shielding film on the bolometer material and patterning the film into a predetermined shape. A sixth step of forming a space by removing the sacrificial layer by etching, and a seventh step of bringing the space to a substantially vacuum state. A second aspect is characterized in that the bolometer elements are manufactured using the same material and in the same process.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】本発明のリニア型ボロメータ素子
は、任意時間にシフトレジスタでアドレスされたボロメ
ータ素子が常にブリッジ回路を構成し、かつそのブリッ
ジ回路は赤外線信号以外のオフセット成分を除去するよ
うに構成されている。前記ブリッジ回路は受光素子であ
るボロメータ素子と、これに遮光板を設けたボロメータ
素子と、熱分離構造を有さないボロメータ素子で構成さ
れ、いずれのボロメータ素子も、電極端子の一方が差動
増幅器の入力に、他方がユニットセル選択用トランジス
タに接続する。電源、グランド間には、いずれの動作タ
イミングにおいても同一電気特性を備えた2つのボロメ
ータ素子が直列に接続されて、その中点電位が差動アン
プの入力となるよう構成されている(図2参照)。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The linear bolometer element of the present invention is such that the bolometer element addressed by the shift register at an arbitrary time always forms a bridge circuit, and the bridge circuit removes offset components other than infrared signals. Is configured. The bridge circuit is composed of a bolometer element which is a light receiving element, a bolometer element provided with a light-shielding plate on the bolometer element, and a bolometer element having no thermal isolation structure. And the other is connected to the unit cell selection transistor. Two bolometer elements having the same electrical characteristics are connected in series between the power supply and the ground at any operation timing, and the midpoint potential is configured to be the input of the differential amplifier (FIG. 2). reference).

【0010】各ボロメータ素子は同一条件、同一プロセ
スで形成されるから同じ抵抗温度係数を有し、ブリッジ
回路からは背景輻射および自己発熱によるオフセット成
分が除去された正味の赤外線信号のみが取り出される。
このため、温度ドリフトが低減される。
Since each bolometer element is formed under the same conditions and under the same process, it has the same temperature coefficient of resistance. From the bridge circuit, only a net infrared signal from which offset components due to background radiation and self-heating have been removed is extracted.
Therefore, temperature drift is reduced.

【0011】[0011]

【実施例】以下に、本発明に係わるリニア型赤外線検出
素子とその製造方法の具体例を図面を参照しながら詳細
に説明する。図1は、本発明に係わるリニア型赤外線検
出素子の具体例の構造を示す図であって、これらの図に
は、基板20上に複数のボロメータ素子1が形成されて
配列され、これらのボロメータ素子1を順に選択するこ
とで赤外線を検出するようにしたリニア型赤外線検出素
子において、基板20とこの基板上に形成されたボロメ
ータ素子1とが熱的に遮断された熱分離構造を有し、赤
外線を直接受光する複数の第1のボロメータ素子1d
と、基板20とこの基板上に形成されたボロメータ素子
1とが熱的に遮断された熱分離構造を有し、赤外線を受
光しないようにした第2のボロメータ素子1cとで構成
したことを特徴とするリニア型赤外線検出素子が示さ
れ、又、赤外線を受光しないようにした同一構造の第3
及び第4のボロメータ素子1a、1bを設け、第1の電
源6と第2の電源5との間に前記第3のボロメータ素子
1aと第2のボロメータ素子1cとを直列に接続すると
共に前記第3のボロメータ素子1aを前記第1の電源6
側に接続し、第1の電源6と第2の電源5との間に前記
第4のボロメータ素子1bと第1のボロメータ素子1d
とを直列に接続すると共に前記第4のボロメータ素子1
bを前記第1の電源6側に接続し、夫々のボロメータ素
子の接続点C1、C2の電圧の差を検出するように構成
したことを特徴とするリニア型赤外線検出素子が示さ
れ、又、前記第1のボロメータ素子1dが整列して配置
される第1の列Aと、前記第1のボロメータ素子1dに
対応して、前記第2のボロメータ素子1cが整列して配
置される第2の列Bとを備えたことを特徴とするリニア
型赤外線検出素子が示されている。
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a perspective view of a linear type infrared detecting element according to the present invention. FIG. 1 is a view showing the structure of a specific example of a linear infrared detecting element according to the present invention. In these figures, a plurality of bolometer elements 1 are formed and arranged on a substrate 20, In a linear infrared detecting element configured to detect infrared rays by sequentially selecting the elements 1, the linear infrared detecting element has a thermal isolation structure in which the substrate 20 and the bolometer element 1 formed on the substrate are thermally cut off, A plurality of first bolometer elements 1d for directly receiving infrared rays
And a second bolometer element 1c having a thermal isolation structure in which the substrate 20 and the bolometer element 1 formed on the substrate are thermally cut off and not receiving infrared rays. Is shown, and a third infrared detector having the same structure as described above, which does not receive infrared rays.
And a fourth bolometer element 1a, 1b, the third bolometer element 1a and the second bolometer element 1c are connected in series between a first power supply 6 and a second power supply 5, and 3 is connected to the first power source 6.
And the fourth bolometer element 1b and the first bolometer element 1d between the first power supply 6 and the second power supply 5.
And the fourth bolometer element 1
b is connected to the first power supply 6 side, and the configuration is such that the difference between the voltages at the connection points C1 and C2 of the respective bolometer elements is detected. A first column A in which the first bolometer elements 1d are arranged in alignment, and a second column A in which the second bolometer elements 1c are arranged in correspondence with the first bolometer elements 1d. A linear infrared detecting element having a column B is shown.

【0012】以下に、本発明を更に詳細に説明する。本
発明のリニア型赤外線検出素子の第1の具体例を図1に
示す。この具体例では赤外線検出素子としてボロメータ
素子を用いている。この例では、上下A、B2列に配列
したユニットセル3と差動アンプ8とシフトレジスタ9
とで構成される。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail. FIG. 1 shows a first specific example of the linear infrared detecting element of the present invention. In this specific example, a bolometer element is used as an infrared detecting element. In this example, unit cells 3, a differential amplifier 8, and a shift register 9
It is composed of

【0013】ユニットセル3はボロメータ素子1とユニ
ットセル選択用トランジスタ4とグランド端子5と電源
6とで構成される。いずれのボロメータ素子1も、端子
の一方が差動アンプ8の入力に、他方がユニットセル選
択用トランジスタ4に接続される。本具体例ではデバイ
ス面積を小さくするため、ユニットセル選択用トランジ
スタ4とボロメータ素子1とを同一セル中に二階建て構
造に設計しているが、別の領域に並べて作成しても特に
問題ない。
The unit cell 3 includes a bolometer element 1, a unit cell selection transistor 4, a ground terminal 5, and a power supply 6. Each of the bolometer elements 1 has one terminal connected to the input of the differential amplifier 8 and the other terminal connected to the unit cell selection transistor 4. In this specific example, in order to reduce the device area, the unit cell selection transistor 4 and the bolometer element 1 are designed to have a two-story structure in the same cell.

【0014】ユニットセル3に含まれるボロメータ素子
には2種類あり、第1のタイプは基板と熱分離構造を有
するボロメータ素子1Aであり、他のタイプは熱分離構
造を有さないボロメータ素子1Bである。詳しい構造の
違いは、図3を用いて後述する。本具体例では、リニア
アレイの左端上下2つのユニットセル3A、3Bのみ
が、熱分離構造でないボロメータ素子であり、他のユニ
ットセル3C、3Dはすべて熱分離構造を備えたボロメ
ータ素子である。また、ユニットセルのアレイの上側の
横一列のユニットセル3Cは、赤外線入射面に赤外線の
入射を阻止するための遮光板7が備えられている。
There are two types of bolometer elements included in the unit cell 3. The first type is a bolometer element 1A having a substrate and a heat separation structure, and the other type is a bolometer element 1B having no heat separation structure. is there. The detailed difference in the structure will be described later with reference to FIG. In this specific example, only the upper and lower two unit cells 3A and 3B at the left end of the linear array are bolometer elements having no heat separation structure, and all other unit cells 3C and 3D are bolometer elements having a heat separation structure. Further, the unit cells 3C in a horizontal row above the unit cell array are provided with a light shielding plate 7 for blocking the incidence of infrared rays on the infrared incidence surface.

【0015】ユニットセル選択用トランジスタ4は、上
下に隣接する2つのユニットセルを一対として、左から
順に走査されるように、シフトレジスタ9で制御され
る。このようにして、任意のタイミングで、左端の2つ
のユニットセル3A、3Bとその時点で選択されている
上下一対のユニットセル3C、3Dの計4つのボロメー
タ素子1が図1(b)のブリッジ回路を構成する。
The unit cell selection transistor 4 is controlled by a shift register 9 so that two vertically adjacent unit cells are paired and scanned in order from the left. Thus, at an arbitrary timing, a total of four bolometer elements 1 of the two leftmost unit cells 3A and 3B and the pair of upper and lower unit cells 3C and 3D selected at that time are connected to the bridge of FIG. Configure the circuit.

【0016】任意のタイミングにおいて構成するこのブ
リッジ回路を、図1(b)に基づき説明する。2つのボ
ロメータ素子1a、1bと、2つのボロメータ素子1
c、1dの計4つのボロメータ素子が、電源(第1の電
源)6とグランド(第2の電源)5との間に設けられて
ブリッジ回路を構成し、2つの中点電位、即ち、中点C
1、C2が差動アンプ8の入力となり、2つの中点C
1、C2の電位の差が差動アンプ8を経て、出力端子9
に出力される。この構成により、図1(b)の右下のボ
ロメータ素子1dに入射した赤外線S入射光による熱エ
ネルギーのみがブリッジ回路の平衡点からのズレを生じ
させる原因となり、有効な赤外線信号のみが外部に読み
出される。また、基板の温度が変化しても、2つの中点
電位、即ち、中点C1、C2の電圧は同一の方向に同一
の値だけ変化するから、出力端子9には温度ドリフトが
生じない。
The bridge circuit formed at an arbitrary timing will be described with reference to FIG. Two bolometer elements 1a, 1b and two bolometer elements 1
A total of four bolometer elements c and 1d are provided between a power supply (first power supply) 6 and a ground (second power supply) 5 to form a bridge circuit. Point C
1, C2 become the inputs of the differential amplifier 8 and the two midpoints C
1, the potential difference between C2 and differential terminal 8 passes through output terminal 9
Is output to With this configuration, only the thermal energy due to the infrared light S incident on the bolometer element 1d at the lower right in FIG. 1B causes a deviation from the equilibrium point of the bridge circuit, and only the effective infrared signal is transmitted to the outside. Is read. Even if the temperature of the substrate changes, the two midpoint potentials, that is, the voltages at the midpoints C1 and C2 change by the same value in the same direction, so that no temperature drift occurs at the output terminal 9.

【0017】次に、図3を用いて本発明の各ボロメータ
素子の構造を説明する。図3(a)ではボロメータ材料
13を基板20から熱的に分離するために、キャビティ
16を設け、このキャビティ16を真空にして、更に基
板20との熱的分離を確実にするために、ボロメータ材
料13上の赤外線S入射光側に赤外線吸収膜12を設け
ると共に、基板20上に赤外線反射膜15を設け、これ
らの膜12、15の干渉により基板20との熱的分離を
より確実なものにしている、従って、図3(a)のユニ
ットセルでは、赤外線吸収膜12と赤外線反射膜15の
光学的干渉により、赤外入射光Sの熱エネルギーは赤外
線吸収膜12に有効に吸収され、その熱は、保護膜14
で覆われたボロメータ材料13に伝わり、その結果温度
変化が生じボロメータ材料の抵抗値が変化する。
Next, the structure of each bolometer element of the present invention will be described with reference to FIG. In FIG. 3A, a cavity 16 is provided for thermally separating the bolometer material 13 from the substrate 20, and the bolometer 16 is evacuated to further ensure thermal separation from the substrate 20. The infrared absorbing film 12 is provided on the infrared S incident light side of the material 13, and the infrared reflecting film 15 is provided on the substrate 20, and the thermal separation from the substrate 20 is further ensured by the interference of these films 12 and 15. Therefore, in the unit cell of FIG. 3A, the thermal energy of the infrared incident light S is effectively absorbed by the infrared absorbing film 12 due to the optical interference between the infrared absorbing film 12 and the infrared reflecting film 15, The heat is applied to the protective film 14.
To the bolometer material 13 covered by the bolometer material, resulting in a temperature change and a change in the resistance value of the bolometer material.

【0018】従って、このタイプのユニットセルは、ユ
ニットセル3D用に用いられる。次に図3(b)はユニ
ットセル3A、3Bのボロメータ素子1a、1bを示し
ている。図1(a)のボロメータ素子との違いは、キャ
ビティーが存在しないことである。このため、入射赤外
光の熱エネルギーは速やかに基板20に拡散し、ボロメ
ータ材料の温度変化は殆ど生じない。なお、抵抗値、温
度係数は前記図3(a)のボロメータ素子と同じ電気特
性であるから、ブリッジの基準電位C1、C2を得るの
に好都合である。
Therefore, this type of unit cell is used for the unit cell 3D. Next, FIG. 3B shows the bolometer elements 1a and 1b of the unit cells 3A and 3B. The difference from the bolometer element of FIG. 1A is that there is no cavity. Therefore, the thermal energy of the incident infrared light is quickly diffused into the substrate 20, and the temperature of the bolometer material hardly changes. Since the resistance value and the temperature coefficient have the same electrical characteristics as those of the bolometer element of FIG. 3A, it is convenient to obtain the reference potentials C1 and C2 of the bridge.

【0019】図3(c)、(d)は赤外入射光の熱エネ
ルギーをボロメータ素子に与えないように、図3(a)
の構造を一部変えたものであり、このため、赤外光入射
面に遮光板7を設置している。また、図3(c)は、ボ
ロメータ材料13の上方に赤外線反射膜12を設けた例
である。従って、図3(c)、(d)の構造のボロメー
タ素子は、ユニットセル3Cとして利用する。
FIGS. 3 (c) and 3 (d) show FIGS. 3 (a) and 3 (b) so that thermal energy of infrared incident light is not applied to the bolometer element.
The light shielding plate 7 is provided on the infrared light incident surface. FIG. 3C shows an example in which the infrared reflecting film 12 is provided above the bolometer material 13. Therefore, the bolometer element having the structure shown in FIGS. 3C and 3D is used as a unit cell 3C.

【0020】図2は、本発明の他の具体例であり、ユニ
ットセル13Aに熱分離構造を有する遮光板7付きのボ
ロメータ素子1A(図3(d))を用い、ユニットセル
13Cに熱分離構造を有するボロメータ素子(図3
(a))を用い、ユニットセル13B、13Dに基板2
0と熱的に一体的に構成した熱分離構造を有しないボロ
メータ素子1B(図3(b))を用いて構成したもので
ある。
FIG. 2 shows another embodiment of the present invention, in which a bolometer element 1A with a light-shielding plate 7 having a heat separation structure (FIG. 3D) is used for a unit cell 13A, and a heat separation is performed for a unit cell 13C. Bolometer element having a structure (Fig. 3
(A)), the substrate 2 is provided in the unit cells 13B and 13D.
This is configured using a bolometer element 1B (FIG. 3B) which does not have a thermal isolation structure which is thermally integrated with the bolometer element 1B.

【0021】この回路の場合も、ユニットセル選択用ト
ランジスタ4は、上下に隣接する2つのユニットセルを
一対として、左から順に走査されるように、シフトレジ
スタ9で制御される。このようにして、任意のタイミン
グで、左端の2つのユニットセル13A、13Bとその
時点で選択されている上下一対のユニットセル13C、
13Dの計4つのボロメータ素子1が図2(b)のブリ
ッジ回路を構成する。
Also in this circuit, the unit cell selecting transistor 4 is controlled by the shift register 9 so that two vertically adjacent unit cells are paired and scanned in order from the left. In this way, at an arbitrary timing, the two leftmost unit cells 13A, 13B and the pair of upper and lower unit cells 13C selected at that time,
A total of four 13D bolometer elements 1 constitute the bridge circuit of FIG.

【0022】任意のタイミングにおいて構成するこのブ
リッジ回路を、図2(b)に基づき説明する。ボロメー
タ素子11a〜11dが、電源(第1の電源)6とグラ
ンド(第2の電源)5との間に設けられてブリッジ回路
を構成し、2つの中点電位、即ち、中点C1、C2が差
動アンプ8の入力となり、2つの中点C1、C2の電位
の差が差動アンプ8を経て、出力端子9に出力されるこ
の構成により、図2(b)の右下のボロメータ素子11
cに入射した赤外線S入射光による熱エネルギーのみが
ブリッジ回路の平衡点からのズレを生じさせる原因とな
り、有効な赤外線信号のみが外部に読み出される。ま
た、基板の温度が変化しても、2つの中点電位、即ち、
中点C1、C2の電位は一定であるから、出力端子9に
は温度ドリフトが生じなく、所定の検出出力のみが取り
出せる。
This bridge circuit formed at an arbitrary timing will be described with reference to FIG. The bolometer elements 11a to 11d are provided between a power supply (first power supply) 6 and a ground (second power supply) 5 to form a bridge circuit, and have two midpoint potentials, that is, midpoints C1 and C2. Is the input of the differential amplifier 8, and the potential difference between the two middle points C1 and C2 is output to the output terminal 9 through the differential amplifier 8, whereby the bolometer element at the lower right of FIG. 11
Only thermal energy due to the infrared S incident light incident on c causes a deviation from the equilibrium point of the bridge circuit, and only a valid infrared signal is read out. Also, even if the temperature of the substrate changes, two midpoint potentials, namely,
Since the potentials of the middle points C1 and C2 are constant, no temperature drift occurs at the output terminal 9, and only a predetermined detection output can be taken out.

【0023】従って、この回路では、ブリッジ回路は、
赤外線を受光しないようにした同一構造の第3及び第4
のボロメータ素子11a、11bを設け、第1の電源6
と第2の電源5との間に前記第3のボロメータ素子11
aと第4のボロメータ素子11bとを直列に接続し、第
1の電源6と第2の電源5との間に前記第1のボロメー
タ素子11dと第2のボロメータ素子11cとを直列に
接続し、夫々のボロメータ素子の接続点C1、C2の電
圧の差を検出するように構成している。
Therefore, in this circuit, the bridge circuit
Third and fourth identical structures not receiving infrared light
Bolometer elements 11a and 11b are provided, and the first power supply 6
The third bolometer element 11 is connected between the power supply 5 and the second power supply 5.
a and the fourth bolometer element 11b are connected in series, and between the first power supply 6 and the second power supply 5, the first bolometer element 11d and the second bolometer element 11c are connected in series. , The voltage difference between the connection points C1 and C2 of the respective bolometer elements is detected.

【0024】なお、本発明に係るリニア型赤外線検出素
子の製造方法は、基板20に前記ボロメータ素子を選択
するためのスイッチングトランジスタ4を形成する第1
の工程と、基板20上に犠牲層(図示していない)を形
成する第2の工程と、前記犠牲層上にボロメータ材料か
らなる膜13とこの膜13を挟むように保護膜14を形
成する第3の工程と、前記ボロメータ材料からなる膜1
3を所定の形状にエッチングすると共に前記膜13を保
護膜14で被覆する第4の工程と、前記ボロメータ材料
上に赤外線吸収膜又は赤外線反射膜を形成し、所定の形
状にパターニングする第5の工程と、前記犠牲層を除去
して空間部(キャビティ)を形成する第6の工程と、前
記空間部を略真空状態にする第7の工程と、を含むもの
であり、この場合、前記ボロメータ素子は、同一材料を
用い、且つ、同一プロセスで製造される必要がある。
In the method for manufacturing a linear infrared detecting element according to the present invention, a first method in which a switching transistor 4 for selecting the bolometer element is formed on a substrate 20.
And a second step of forming a sacrificial layer (not shown) on the substrate 20, and forming a film 13 made of a bolometer material on the sacrificial layer and a protective film 14 with the film 13 interposed therebetween. A third step, and a film 1 comprising the bolometer material
A fourth step of etching 3 into a predetermined shape and covering the film 13 with a protective film 14, and a fifth step of forming an infrared absorbing film or an infrared reflecting film on the bolometer material and patterning the film into a predetermined shape. And a sixth step of forming a space (cavity) by removing the sacrificial layer and a seventh step of bringing the space into a substantially vacuum state. In this case, the bolometer The devices need to be manufactured using the same material and by the same process.

【0025】[0025]

【発明の効果】本発明に係るリニア赤外線検出素子は上
述のように構成したので、以下のような効果を奏する。
第1の効果は、オフセット成分の除去である。背景輻射
および自己発熱によるオフセット成分が除去された正味
の信号のみが取り出されることにより、信号検出後のゲ
インを十分大きく取れることである。
The linear infrared detecting element according to the present invention is constructed as described above, and has the following effects.
The first effect is removal of the offset component. By extracting only a net signal from which offset components due to background radiation and self-heating have been removed, a sufficiently large gain after signal detection can be obtained.

【0026】第2の効果は、温度ドリフトの低減であ
る。これにより、従来のように動作中に頻繁にFPN補
正を行う必要がなくなり、赤外線カメラの操作性が向上
する。
The second effect is a reduction in temperature drift. This eliminates the need to frequently perform FPN correction during operation as in the related art, and improves the operability of the infrared camera.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】(a)は、本発明に係るリニア型赤外線検出素
子の回路図、(b)は、本発明の測定原理を説明するた
めの図である。
FIG. 1A is a circuit diagram of a linear infrared detecting element according to the present invention, and FIG. 1B is a diagram for explaining a measurement principle of the present invention.

【図2】本発明に係る他の具体例のリニア型赤外線検出
素子を示し、(a)は回路図、(b)はその等価回路図
である。
2A and 2B show another specific example of a linear infrared detecting element according to the present invention, wherein FIG. 2A is a circuit diagram and FIG. 2B is an equivalent circuit diagram thereof.

【図3】本発明のユニットセル構造を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing a unit cell structure of the present invention.

【図4】従来のリニア型赤外線検出素子の回路図であ
る。
FIG. 4 is a circuit diagram of a conventional linear infrared detecting element.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1、1a〜1d、11a〜11d ボロメータ素子 3、3A〜3D、13A〜13D ユニットセル 4 ユニットセル選択トランジスタ 5 グランド端子 6 電源 7 遮光板 8 差動アンプ 9 シフトレジスタ 10 出力端子 12 赤外線吸収膜 13 ボロメータ材料 14 保護膜 15 赤外線反射膜 16 キャビティ 20 基板 S 赤外線 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 1a-1d, 11a-11d Bolometer element 3, 3A-3D, 13A-13D Unit cell 4 Unit cell selection transistor 5 Ground terminal 6 Power supply 7 Shielding plate 8 Differential amplifier 9 Shift register 10 Output terminal 12 Infrared absorbing film 13 Bolometer material 14 Protective film 15 Infrared reflective film 16 Cavity 20 Substrate S Infrared

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板上に複数のボロメータ素子が形成さ
れて配列され、これらのボロメータ素子を順に選択する
ことで赤外線を検出するようにしたリニア型赤外線検出
素子において、 基板とこの基板上に形成されたボロメータ素子とが熱的
に遮断された熱分離構造を有し、赤外線を直接受光する
複数の第1のボロメータ素子と、 基板とこの基板上に形成されたボロメータ素子とが熱的
に遮断された熱分離構造を有し、赤外線を受光しないよ
うにした第2のボロメータ素子と、 で構成したことを特徴とするリニア型赤外線検出素子。
1. A linear infrared detecting element in which a plurality of bolometer elements are formed and arranged on a substrate, and infrared rays are detected by selecting these bolometer elements in order. A plurality of first bolometer elements that directly receive infrared rays, and a substrate and a bolometer element formed on the substrate have a thermal isolation structure in which the separated bolometer element is thermally interrupted. A second bolometer element having a heat separation structure and not receiving infrared light, and a linear infrared detection element.
【請求項2】 前記第2のボロメータ素子は複数設けら
れていることを特徴とする請求項1記載のリニア型赤外
線検出素子。
2. The linear infrared detecting element according to claim 1, wherein a plurality of said second bolometer elements are provided.
【請求項3】 第1のボロメータ素子に於いて、熱分離
構造を有さない第3及び第4のボロメータ素子を設け、
第1の電源と第2の電源との間に前記第3のボロメータ
素子と第2のボロメータ素子とを直列に接続し、第1の
電源と第2の電源との間に前記第4のボロメータ素子と
第1のボロメータ素子とを直列に接続し、夫々のボロメ
ータ素子の接続点の電圧の差を検出するように構成した
ことを特徴とする請求項1又は2記載のリニア型赤外線
検出素子。
3. A first bolometer element, wherein third and fourth bolometer elements having no heat separation structure are provided.
The third bolometer element and the second bolometer element are connected in series between a first power supply and a second power supply, and the fourth bolometer is connected between the first power supply and the second power supply. 3. The linear infrared detecting element according to claim 1, wherein the element and the first bolometer element are connected in series, and a difference between voltages at connection points of the respective bolometer elements is detected.
【請求項4】 赤外線を受光しないようにした同一構造
の第3及び第4のボロメータ素子を設け、第1の電源と
第2の電源との間に前記第3のボロメータ素子と第4の
ボロメータ素子とを直列に接続し、第1の電源と第2の
電源との間に前記第1のボロメータ素子と第2のボロメ
ータ素子とを直列に接続し、夫々のボロメータ素子の接
続点の電圧の差を検出するように構成したことを特徴と
する請求項1記載のリニア型赤外線検出素子。
4. A third and fourth bolometer element having the same structure so as not to receive infrared rays, wherein the third and fourth bolometer elements are provided between a first power supply and a second power supply. The first bolometer element and the second bolometer element are connected in series between a first power supply and a second power supply, and a voltage of a connection point of each bolometer element is connected. 2. The linear infrared detecting device according to claim 1, wherein the difference is detected.
【請求項5】 前記第1のボロメータ素子が整列して配
置される第1の列と、前記第1のボロメータ素子に対応
して、前記第2のボロメータ素子が整列して配置される
第2の列とを備えたことを特徴とする請求項1乃至3の
何れかに記載のリニア型赤外線検出素子。
5. A first column in which the first bolometer elements are arranged in alignment, and a second column in which the second bolometer elements are arranged corresponding to the first bolometer elements. The linear type infrared detecting element according to any one of claims 1 to 3, further comprising:
【請求項6】 前記第3及び第4のボロメータ素子と基
板とは熱的に一体的に形成されたことを特徴とする請求
項1乃至5の何れかに記載のリニア型赤外線検出素子。
6. The linear infrared detecting element according to claim 1, wherein the third and fourth bolometer elements and the substrate are formed integrally thermally.
【請求項7】 前記基板上には赤外線反射膜が設けられ
ていることを特徴とする請求項1乃至6の何れかに記載
のリニア型赤外線検出素子。
7. The linear infrared detecting element according to claim 1, wherein an infrared reflecting film is provided on the substrate.
【請求項8】 前記第2のボロメータ素子の受光側に
は、赤外線の入射を遮断する遮光手段が設けられている
ことを特徴とする請求項1乃至7の何れかに記載のリニ
ア型赤外線検出素子。
8. The linear infrared detecting device according to claim 1, wherein a light blocking means for blocking incidence of infrared light is provided on a light receiving side of said second bolometer element. element.
【請求項9】 前記ボロメータ素子が形成された基板に
は、第1のボロメータ素子を選択するためのスイッチン
グトランジスタと共に検出用の差動増幅器が形成されて
いることを特徴とする請求項1乃至8の何れかに記載の
リニア型赤外線検出素子。
9. A differential amplifier for detection is formed on a substrate on which the bolometer element is formed, together with a switching transistor for selecting a first bolometer element. The linear infrared detecting element according to any one of the above.
【請求項10】 基板上に複数のボロメータ素子が配列
され、これらボロメータ素子を順に選択することで赤外
線を検出するようにしたリニア型赤外線検出素子の製造
方法において、 基板に前記ボロメータ素子を選択するためのスイッチン
グトランジスタを形成する第1の工程と、 基板上に犠牲層を形成する第2の工程と、 前記犠牲層上にボロメータ材料からなる膜とこの膜を挟
むように保護膜を形成する第3の工程と、 前記ボロメータ材料からなる膜を所定の形状にエッチン
グすると共に前記膜を保護膜で被覆する第4の工程と、 前記保護膜上に赤外線吸収膜又は赤外線反射膜又は遮光
膜を形成し、所定の形状にパターニングする第5の工程
と、 前記犠牲層を除去して空間部を形成する第6の工程と、 前記空間部を略真空状態にする第7の工程と、 を含むことを特徴とするリニア型赤外線検出素子の製造
方法。
10. A method for manufacturing a linear infrared detecting element in which a plurality of bolometer elements are arranged on a substrate, and infrared rays are detected by sequentially selecting these bolometer elements, wherein the bolometer element is selected as a substrate. A second step of forming a sacrifice layer on a substrate, a second step of forming a sacrifice layer on a substrate, and a second step of forming a bolometer material film on the sacrifice layer and a protection film so as to sandwich the film. A third step of etching the film made of the bolometer material into a predetermined shape and covering the film with a protective film; and forming an infrared absorbing film, an infrared reflecting film, or a light shielding film on the protective film. A fifth step of patterning into a predetermined shape; a sixth step of forming a space by removing the sacrificial layer; and a step of setting the space to a substantially vacuum state. Method for producing a linear infrared detector characterized by comprising between step.
【請求項11】 前記ボロメータ素子は、同一材料を用
い、且つ、同一プロセスで製造されることを特徴とする
請求項10記載のリニア型赤外線検出素子の製造方法。
11. The method according to claim 10, wherein the bolometer elements are manufactured using the same material and in the same process.
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