JPH11338336A - Hologram optical element - Google Patents

Hologram optical element

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JPH11338336A
JPH11338336A JP14183798A JP14183798A JPH11338336A JP H11338336 A JPH11338336 A JP H11338336A JP 14183798 A JP14183798 A JP 14183798A JP 14183798 A JP14183798 A JP 14183798A JP H11338336 A JPH11338336 A JP H11338336A
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JP
Japan
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hologram
silicone
optical element
layer
hologram optical
Prior art date
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Pending
Application number
JP14183798A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yasushi Oe
靖 大江
Makoto Kume
誠 久米
Yasuyuki Demachi
泰之 出町
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Toppan Inc
Original Assignee
Toppan Printing Co Ltd
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Publication date
Application filed by Toppan Printing Co Ltd filed Critical Toppan Printing Co Ltd
Priority to JP14183798A priority Critical patent/JPH11338336A/en
Publication of JPH11338336A publication Critical patent/JPH11338336A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a hologram optical element which is excellent in resolution, diffraction efficiency, transparency and preservable stability and is further excellent in chemical resistance and scratching resistance. SOLUTION: This element 1 is formed by providing the surface of a base material 10 with a hologram layer 20 and laminating a compsn. contg. silicone which has a visible light transmittance of >=80% and a thickness of <=100 μm and is monofunctional or bifunctional in functional unit as a silicone compsn. layer 30. The silicone compsn. layer 30 may also be formed of the silicone compsn. which is cured by addition of a hardener or catalyst and by heating or the silicons compsn. which consists of silicone having at least one among an acryl group, mercapto group, unsatd. double bonds and epoxy group and a photopolymn. initiator and is cured by irradiation with UV light or the compsn. which contains the silicone having the acryl group and is cured by irradiation with electronic beams.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、体積位相型ホログ
ラム記録材料を表示素子として用いた場合の層構成に関
するものであり、さらに詳しくは、種々の形状を有する
ホログラム表示素子の保護層に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a layer structure when a volume phase hologram recording material is used as a display element, and more particularly to a protective layer of a hologram display element having various shapes.

【0002】[0002]

【従来の技術】ホログラムは三次元立体像を再生するこ
とから、その優れた意匠性が好まれ、書籍、雑誌等の表
紙、POPディスプレイ、ギフト等に利用されている。
また、ホログラムはサブミクロンオーダーの情報を記
録していることと等価である為、有価証券、クレジット
カード等の偽造防止にも利用されている。さらに、近年
においては、ディスプレイ用途の他に、自動車搭載用の
ヘッドアップディスプレイ(HUD)のコンバイナや反
射型液晶表示デバイス用の反射板に代表されるホログラ
ム光学素子(HOE)への応用が期待されている。
2. Description of the Related Art Holograms, which reproduce a three-dimensional image, are preferred for their excellent design, and are used for covers of books and magazines, POP displays, gifts and the like.
Further, since the hologram is equivalent to recording information on the order of submicron, it is also used to prevent forgery of securities, credit cards and the like. Further, in recent years, in addition to display applications, application to a hologram optical element (HOE) typified by a combiner for a head-up display (HUD) mounted on an automobile or a reflector for a reflective liquid crystal display device is expected. ing.

【0003】ホログラム記録材料は、可視発振波長を持
つレーザ光に高感度で感光し、しかも高い解像性を示す
ことが要求される。また、実際に使用するに当たって
は、ホログラムの回折効率、再生光の波長再現性やバン
ド幅(再生光ピークの半値幅)、色収差(ぼけ)等の特
性が目的に合うことが要求される。具体的には、HOE
用の記録材料とするためには、回折効率が空間周波数5
000〜6000本で90%以上、再生光のピークの半
値幅(バンド幅)が10〜30nm、再生波長のピーク
波長は、撮影波長から5nm以内であることが望まし
く、さらに、耐湿熱性、耐光性、耐溶剤性、耐擦傷性等
の耐久性が必要であり、長期にわたって保存安定性に優
れていることも必要となる。
[0003] The hologram recording material is required to be sensitive to laser light having a visible oscillation wavelength with high sensitivity and to exhibit high resolution. In actual use, it is required that characteristics such as diffraction efficiency of the hologram, reproducibility of the wavelength of the reproduction light, bandwidth (half-width of the reproduction light peak), chromatic aberration (blur), etc. meet the purpose. Specifically, HOE
In order to obtain a recording material for the
90% or more for 000 to 6000 lines, the half width (band width) of the peak of the reproduction light is preferably 10 to 30 nm, and the peak wavelength of the reproduction wavelength is preferably within 5 nm from the photographing wavelength. In addition, durability such as solvent resistance and abrasion resistance is required, and it is also necessary to have excellent storage stability for a long period of time.

【0004】従来、ホログラム材料として、漂白処理銀
塩および重クロム酸ゼラチン系の感光材料が一般に使用
されてきた。しかし、これらのホログラム記録材料は、
いずれも感光板の製作、記録後に煩雑な処理を必要と
し、さらに、耐環境特性、例えば耐湿性、耐候性に劣る
という問題点を有していた。
Hitherto, as a hologram material, a photosensitive material based on a bleached silver salt and gelatin dichromate has been generally used. However, these hologram recording materials are
In each case, complicated processing is required after the production and recording of the photosensitive plate, and further, there is a problem that environmental resistance properties, for example, moisture resistance and weather resistance are inferior.

【0005】これに対して、耐環境特性に優れ、かつ、
高解像度、高回折効率などのホログラム記録材料の有す
べき特性を備えた材料として、ホログラム層内に空隙を
持たない乾式処理の記録材料があり、具体的には、溶媒
可溶性でカチオン重合可能なエチレンオキシド環を構造
単位中に少なくともひとつ有する熱硬化性樹脂と、ラジ
カル重合可能なエチレン性モノマーよりなるホログラム
記録材料として特開平8−1676号公報、特開平8−
1677号公報、特開平8−1678号公報、特開平8
−1679号公報に開示されている。
On the other hand, it has excellent environmental resistance characteristics and
As a material having characteristics that a hologram recording material should have, such as high resolution and high diffraction efficiency, there is a dry-processed recording material having no voids in a hologram layer, specifically, a solvent-soluble and cationically polymerizable material. JP-A-8-1676 and JP-A-8-1676 disclose a hologram recording material comprising a thermosetting resin having at least one ethylene oxide ring in a structural unit and a radically polymerizable ethylenic monomer.
No. 1677, Japanese Unexamined Patent Application Publication No.
No. -1679.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ホログ
ラム作成時には、最外層にホログラムがあるため、耐薬
品性、耐擦傷性等を具備していない場合は問題が残るも
のであった。また、このような記録材料で作製したホロ
グラムは、厚さ10〜40μm程度のフィルム状であ
り、光学素子として用いる場合は、平滑な基材に貼る必
要があった。さらに、フィルム状記録材料でホログラム
を作製する場合、フィルムのうねりや平滑性等の点から
再生像のぼけが生じ易く、特にHUDのコンバイナ等に
用いる場合は、再生像を視点からある程度離すことか
ら、ぼけが目立ち易くなる。さらにまた、光源からの光
がホログラム或いは基材に反射するため正反射の成分を
除かないと非常に見にくくなってしまうことから、ある
程度再生像を正反射像の軸から外すと、ぼけが目立って
しまうものであった。
However, when the hologram is formed, the hologram is present in the outermost layer, so that a problem remains if the hologram is not provided with chemical resistance, scratch resistance and the like. Further, the hologram made of such a recording material is in the form of a film having a thickness of about 10 to 40 μm, and when used as an optical element, it was necessary to attach it to a smooth base material. Further, when a hologram is produced from a film-like recording material, a reproduced image is likely to be blurred from the viewpoint of undulation and smoothness of the film. , Blur becomes more noticeable. Furthermore, since the light from the light source is reflected on the hologram or the base material, it becomes very difficult to see unless the specular reflection component is removed. It was a mess.

【0007】以上のことから、ホログラムを作製する場
合は表面が平滑で、複屈折がなく、感光液の溶剤に侵さ
れない基材が必要となるが、これらの条件を満たすもの
としてはガラス板が挙げられる。しかしながら、ガラス
基板で作製したホログラムを任意の形状に成形すること
は困難である。従って、ガラス基板で作製したホログラ
ムを他の基材に転写することが考えらるが、他の基材に
転写後ガラス基板から剥離して得られるホログラム表示
素子も、最外層にホログラムがあるため、耐薬品性、耐
擦傷性等を具備していない場合は問題があった。さら
に、転写する基材は透明性が必要であり、透明性を保持
したまま、ホログラムを接着させる必要があり、かつ該
接着剤によってホログラムが侵されないようにしなけれ
ばならず、被転写基材とホログラムの接着性が十分でな
い場合が多い。
From the above, when producing a hologram, a substrate having a smooth surface, having no birefringence, and being not affected by the solvent of the photosensitive liquid is required. No. However, it is difficult to form a hologram made of a glass substrate into an arbitrary shape. Therefore, it is conceivable to transfer a hologram made of a glass substrate to another substrate, but the hologram display element obtained by peeling off the glass substrate after transferring to another substrate also has a hologram in the outermost layer. However, there is a problem in the case where it does not have chemical resistance, scratch resistance and the like. Further, the substrate to be transferred needs to be transparent, it is necessary to adhere the hologram while maintaining the transparency, and it is necessary to prevent the hologram from being attacked by the adhesive. In many cases, the adhesiveness of the hologram is not sufficient.

【0008】本発明は、かかる従来技術の問題点を解決
するものであり、その課題とするところは、高解像度、
高回折効率、高透明性を有し、再生波長再現性、保存安
定性に優れ、さらに色収差の少ない体積位相型ホログラ
ムを用いた、耐薬品性、耐擦傷性に優れたホログラム光
学素子を提供することにある。
The present invention has been made to solve the above-mentioned problems of the prior art.
Provide a hologram optical element having high diffraction efficiency, high transparency, excellent reproduction wavelength reproducibility, storage stability, and excellent in chemical resistance and scratch resistance using a volume phase type hologram with less chromatic aberration. It is in.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明に於いて上記課題
を達成するために、まず請求項1の発明では、基材上に
ホログラム層を設け、その上に可視光透過率80%以上
で厚み1〜100μmの、官能性単位が単官能或いは2
官能のシリコーンを含む組成物を積層してなることを特
徴とするホログラム光学素子としたものである。
In order to achieve the above object, according to the first aspect of the present invention, a hologram layer is provided on a base material, and a hologram layer is provided thereon with a visible light transmittance of 80% or more. Monofunctional or 2 functional units with a thickness of 1 to 100 μm
A hologram optical element characterized by being laminated with a composition containing a functional silicone.

【0010】また、請求項2の発明は、前記シリコーン
を含む組成物に、硬化剤もしくは触媒の添加し、それを
加熱によって硬化することを特徴とする請求項1記載の
ホログラム光学素子としたものである。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a hologram optical element according to the first aspect, wherein a curing agent or a catalyst is added to the composition containing silicone and the composition is cured by heating. It is.

【0011】また、請求項3の発明では、前記シリコー
ンを含む組成物が、アクリル基、メルカプト基および不
飽和二重結合、エポキシ基のうち少なくともひとつを有
するシリコーンと光重合開始剤からなり、それに紫外光
の照射により硬化することを特徴とする請求項1記載の
ホログラム光学素子としたものである。
Further, in the invention according to claim 3, the composition containing the silicone comprises a silicone having at least one of an acrylic group, a mercapto group, an unsaturated double bond and an epoxy group, and a photopolymerization initiator. The hologram optical element according to claim 1, wherein the hologram optical element is cured by irradiation with ultraviolet light.

【0012】さらにまた、請求項4の発明では、前記シ
リコーンを含む組成物が、アクリル基を有するシリコー
ンを含有してなり、電子線照射により硬化することを特
徴とする請求項1記載のホログラム光学素子としたもの
である。
Further, according to the invention of claim 4, the hologram optical element according to claim 1, wherein the composition containing silicone contains silicone having an acryl group and is cured by electron beam irradiation. It is an element.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】以下本発明の実施の形態を説明す
る。本発明のホログラム光学素子において、請求項1の
発明は、図1に示すように、基材(10)上にホログラ
ム層(20)を設け、その上に可視光透過率80%以上
で厚み1〜100μmの、官能性単位が単官能或いは2
官能のシリコーンを含むシリコーン組成物層(30)を
積層してなるホログラム光学素子(1)である。
Embodiments of the present invention will be described below. In the hologram optical element according to the present invention, as shown in FIG. 1, a hologram layer (20) is provided on a substrate (10), and a visible light transmittance of 80% or more and a thickness of 1 ~ 100 μm, the functional unit is monofunctional or 2
This is a hologram optical element (1) obtained by laminating a silicone composition layer (30) containing a functional silicone.

【0014】また、請求項2の発明は、図1に示す上記
シリコーン組成物層(30)が、前記シリコーンを含む
組成物に硬化剤もしくは触媒を添加して、それを加熱す
ることによって硬化するホログラム光学素子(1)であ
り、請求項3の発明は、図1に示す上記シリコーン組成
物層(30)が、アクリル基、メルカプト基および不飽
和二重結合、エポキシ基のうち少なくともひとつを有す
るシリコーンと光重合開始剤からなる組成物に、紫外光
を照射して硬化するホログラム光学素子(1)であり、
さらにまた、請求項4の発明は、図1に示すシリコーン
組成物層(30)が、アクリル基を有するシリコーンを
含有してなるシリコーン組成物に、電子線を照射して硬
化するホログラム光学素子(1)である。
According to a second aspect of the present invention, the silicone composition layer (30) shown in FIG. 1 is cured by adding a curing agent or a catalyst to the composition containing silicone and heating the composition. The hologram optical element (1), wherein the silicone composition layer (30) shown in FIG. 1 has at least one of an acrylic group, a mercapto group, an unsaturated double bond, and an epoxy group. A hologram optical element (1), which is cured by irradiating a composition comprising silicone and a photopolymerization initiator with ultraviolet light,
Furthermore, the invention of claim 4 provides a hologram optical element in which the silicone composition layer (30) shown in FIG. 1 is cured by irradiating the silicone composition containing silicone having an acrylic group with an electron beam. 1).

【0015】上記のようなシリコーン組成物層(30)
をホログラム層(20)上に積層されたホログラム光学
素子(1)は、高解像度、高回折効率、高透明性を有
し、再生波長再現性、保存安定性に優れ、さらに耐薬品
性、耐擦傷性に優れたものとすることができる。
The above-mentioned silicone composition layer (30)
The hologram optical element (1) laminated on the hologram layer (20) has high resolution, high diffraction efficiency, and high transparency, is excellent in reproduction wavelength reproducibility, storage stability, and is also resistant to chemicals and resistance. Excellent scratch resistance can be obtained.

【0016】以下本発明のホログラム表示素子の実施の
形態を使用材料等を含めさらに詳細に説明する。
Hereinafter, embodiments of the hologram display element of the present invention will be described in more detail including the materials used.

【0017】本発明で使用されるホログラムは、体積位
相型ホログラムでリップマンホログラムと呼ばれる反射
型のホログラム及び、透過型ホログラムである。すなわ
ち、干渉縞を記録した位相分布が屈折率の異なる層数の
多い周期構造を有する多層膜となり、その結果、レーザ
の誘電体反射鏡のように、特定の波長(多くは記録波
長)に対してのみ非常に大きい反射率を持つようになる
(反射型)、反射型よりも層数が少なく、再生光のピー
クが幅広いホログラムとなる(透過型)。さらに、ホロ
グラムは光の回折を利用してレンズ機能やプリズムの機
能を持たせることが可能であり、これらの特性を利用す
れば、虚像の遠方表示が可能な表示素子が作製できる。
また、表示素子として用いる場合は、耐熱性、耐湿性、
耐光性等の耐環境特性を具備している必要があり、比較
的回折効率の高い空隙形成による湿式現像により作製し
たホログラムでは仕様を満足できない場合が多いため、
ホログラム層中に空隙のない、乾式処理によるホログラ
ムが望ましい。
The hologram used in the present invention is a reflection type hologram called a Lippmann hologram which is a volume phase type hologram and a transmission type hologram. That is, the phase distribution in which the interference fringes are recorded becomes a multilayer film having a periodic structure with a large number of layers having different refractive indices. Only when the hologram has a very high reflectance (reflection type), the number of layers is smaller than that of the reflection type, and the hologram has a broader peak of the reproduction light (transmission type). Further, the hologram can have a lens function or a prism function by utilizing the diffraction of light, and by using these characteristics, a display element capable of displaying a virtual image at a long distance can be manufactured.
When used as a display element, heat resistance, moisture resistance,
It is necessary to have environmental resistance characteristics such as light resistance, and holograms produced by wet development by forming voids with relatively high diffraction efficiency often do not satisfy specifications.
It is desirable to use a hologram obtained by dry processing without any voids in the hologram layer.

【0018】本発明で用いる可視光透過率80%以上で
厚み1〜100μmのシリコーン組成物層(30)は、
その官能性単位が単官能或いは2官能であるシリコーン
化合物を含み、化学放射線あるいは熱等によって硬化す
ると同時に、形成したホログラム層(20)上に設置す
ることから、該ホログラム層(20)を侵さないことが
必要である。例えば、選択するシリコーン化合物或い
は、その溶剤によってはホログラム層(20)が膨潤
し、反射型ホログラムでは再生光波長が変化したり、透
過型ホログラムでは、回折角度が変化する。
The silicone composition layer (30) having a visible light transmittance of 80% or more and a thickness of 1 to 100 μm used in the present invention comprises:
Since the functional unit contains a monofunctional or bifunctional silicone compound and is cured by actinic radiation or heat, it is placed on the formed hologram layer (20), so that the hologram layer (20) is not affected. It is necessary. For example, depending on the selected silicone compound or its solvent, the hologram layer (20) swells, and the reproduction hologram changes the reproduction light wavelength, and the transmission hologram changes the diffraction angle.

【0019】また、上記シリコーン組成物層(30)の
厚さが1μm未満では、耐薬品性および耐擦傷性に劣
り、100μmを越すと所望の可視光透過率が得られ
ず、使用するシリコーン組成物が必要以上に多くなり不
経済でかつ硬化等に多くのエネルギーを要することにな
る。
When the thickness of the silicone composition layer (30) is less than 1 μm, chemical resistance and scratch resistance are poor, and when it exceeds 100 μm, a desired visible light transmittance cannot be obtained. The number of objects is increased more than necessary, which is uneconomical and requires much energy for curing and the like.

【0020】ここで用いられるシリコーン組成物層(3
0)となるシリコーン組成物としては、剥離紙用シリコ
ーン等を応用でき、縮合反応型、付加反応型、無溶剤
型、紫外線硬化型、電子線硬化型を挙げることができる
がこの限りではない。
The silicone composition layer (3) used here
Examples of the silicone composition that can be used as 0) include silicone for release paper, and examples thereof include a condensation reaction type, an addition reaction type, a solventless type, an ultraviolet curable type, and an electron beam curable type, but are not limited thereto.

【0021】上記縮合反応型シリコーンは、量末端シラ
ノール官能性長鎖ジメチルシロキサン、メチルハイドロ
ジェンポリシロキサン、メチルメトキシポリシロキサン
等を有機錫系触媒の存在下、脱水素縮合反応、脱メタノ
ール縮合反応させるものである。形態的には、溶剤型、
エマルジョン型が用いられる。具体的には、信越化学社
製、KS−705F、KS−708(溶剤型)、KM−
763、KM−764−E(エマルジョン型)、東レシ
リコーン社製、Syl off23、SD−7206
(溶剤型)、 Syl off22、SM−7270
(エマルジョン型)等が挙げられる。
The above condensation reaction type silicone is subjected to a dehydrogenation condensation reaction and a methanol removal condensation reaction of a long-chain silanol-functional dimethylsiloxane, methylhydrogenpolysiloxane, methylmethoxypolysiloxane, etc. in the presence of an organotin-based catalyst. Things. Morphologically, solvent type,
An emulsion type is used. Specifically, KS-705F, KS-708 (solvent type), KM-
763, KM-764-E (emulsion type), manufactured by Toray Silicone Co., Syl off23, SD-7206
(Solvent type), Syl off22, SM-7270
(Emulsion type) and the like.

【0022】また上記付加反応型シリコーンは、両末
端、或いは両末端および鎖中に、ビニル基を有する直鎖
状メチルビニルポリシロキサンとメチルハイドロジェン
ポリシロキサン等を白金系触媒存在下で反応させる型で
ある。付加反応型は溶剤型、無溶剤型が用いられる。具
体的には信越化学社製KS−837、KS−778、K
S―847、KS−847H、KS−774A、KS−
839,KS−830シリーズ、KS−775(溶剤
型)、KN−316、KN−320A(無溶剤型)が挙
げられる。この場合の架橋剤+触媒としてはCAT―P
L−56が挙げられる。東レシリコーン社製SRX−3
57,SD−7227、SRX−211,SD−722
0、SRX−345、SRX−370(溶剤型、硬化
剤:SRX212CAT等)、東芝シリコーン社製、T
S56−707,TPR−6721、XS56−61
9,XS56−604、TPR−6700(溶剤型、硬
化剤:CM670)等を挙げることができる。
The addition reaction type silicone is a type in which a linear methylvinylpolysiloxane having a vinyl group at both terminals or at both terminals and a chain is reacted with methylhydrogenpolysiloxane in the presence of a platinum-based catalyst. It is. As the addition reaction type, a solvent type or a non-solvent type is used. Specifically, KS-837, KS-778, K
S-847, KS-847H, KS-774A, KS-
839, KS-830 series, KS-775 (solvent type), KN-316, KN-320A (solvent-free type). In this case, CAT-P is used as a crosslinking agent and a catalyst.
L-56. Toray Silicone SRX-3
57, SD-7227, SRX-211, SD-722
0, SRX-345, SRX-370 (solvent type, curing agent: SRX212CAT, etc.), manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd., T
S56-707, TPR-6721, XS56-61
9, XS56-604, TPR-6700 (solvent type, curing agent: CM670) and the like.

【0023】また紫外線硬化型シリコーンは、アクリル
基を有するシリコーンに光重合開始剤を加えたもので特
公昭53−36515号公報、特公昭57−52371
号公報、特公昭58−53656号公報、特公昭61−
17863号公報に記載の組成物、メルカプト基と不飽
和二重結合を有するポリシロキサンに、光開始剤を加え
たもので特公昭57−34318号公報、特公昭57−
52371号公報、特公昭62−24017号公報に記
載の組成物、エポキシ基を有するシロキサンにオニウム
塩触媒を添加したもので特公昭53−48198号公
報、特公昭61−53383号公報、特公昭64399
1号公報、特開昭59−168061号公報、特開昭6
0−177029号公報に記載の組成物を挙げることが
出来る。
The ultraviolet-curable silicone is obtained by adding a photopolymerization initiator to silicone having an acryl group and is disclosed in JP-B-53-36515 and JP-B-57-52371.
JP, JP-B-58-53656, JP-B-61-
No. 17863, a composition obtained by adding a photoinitiator to a polysiloxane having a mercapto group and an unsaturated double bond.
No. 52371, JP-B-62-24017, and a composition obtained by adding an onium salt catalyst to a siloxane having an epoxy group. JP-B-53-48198, JP-B-61-53383, JP-B-64399
No. 1, JP-A-59-180661, JP-A-59-68061
The composition described in JP-A-177029 can be mentioned.

【0024】さらにまた電子線硬化型シリコーンは、ラ
ジカル重合性基を有するシリコーンが好適であるが、照
射量を増やせば、まったく官能基を持たないシリコーン
でも硬化可能となる。具体的にはアクリル含有シリコー
ンであればよい。
Further, the electron beam-curable silicone is preferably a silicone having a radical polymerizable group. However, if the irradiation amount is increased, even a silicone having no functional group can be cured. Specifically, any acrylic-containing silicone may be used.

【0025】本発明で用いるホログラム層(20)とし
ては、担持体となるポリマーと光により発生した重合開
始種により重合するモノマーの屈折率差を利用したホロ
グラム記録材料から作製したものであればよい。具体的
には、溶媒可溶性でカチオン重合可能なエチレンオキシ
ド環を構造単位中に少なくともひとつ有する熱硬化性樹
脂(成分(A))と、ラジカル重合可能なエチレン性モ
ノマー(成分(B))と、化学作用放射線に露光すると
ラジカル重合とカチオン重合を活性化する光開始剤(成
分(C))系と、前記光開始剤(成分(C))を増感せ
しめる増感色素(成分(D))よりなるホログラム記録
材料から作製したホログラムを挙げることが出来る。
The hologram layer (20) used in the present invention may be made of a hologram recording material utilizing a difference in refractive index between a polymer serving as a carrier and a monomer polymerized by a polymerization initiation species generated by light. . Specifically, a thermosetting resin (component (A)) having at least one solvent-soluble and cationically polymerizable ethylene oxide ring in its structural unit, an ethylenic monomer capable of radical polymerization (component (B)), A photoinitiator (component (C)) that activates radical polymerization and cationic polymerization upon exposure to actinic radiation, and a sensitizing dye (component (D)) that sensitizes the photoinitiator (component (C)) Holograms produced from such hologram recording materials.

【0026】上記成分(A)である溶媒可溶でカチオン
重合可能なエチレンオキシド環を構造単位中に少なくと
もひとつ有する熱硬化性樹脂としては、一般式
The thermosetting resin having at least one ethylene oxide ring in the structural unit which is a solvent-soluble and cationically polymerizable component (A) is a compound represented by the following general formula:

【化1】 (式中、n=1〜20である。)Embedded image (Where n = 1 to 20)

【0027】または、一般式Or a general formula

【化2】 (式中、Rはアルキル基を示し、n=1〜20であ
る。)
Embedded image (In the formula, R represents an alkyl group, and n = 1 to 20.)

【0028】または、一般式Or the general formula

【化3】 (式中、n=1〜20である。)で表され、例えば、ビ
スフェノールA、ビスフェノールAD、ビスフェノール
B、ビスフェノールAF、ビスフェノールS、ブロム化
ビスフェノールA、ノボラック、o−クレゾールノボラ
ック、p−アルキルフェノールノボラック、水添ビスフ
ェノールA、水添ビスフェノールAD、水添ビスフェノ
ールB、水添ビスフェノールAF、水添ビスフェノール
S、水添ブロム化ビスフェノールAなどの各種フェノー
ル化合物とエピクロロヒドリンとの縮合反応により生成
されるエポキシ化合物を挙げることができる。なお、こ
れらに限定されるものではない。
Embedded image Wherein n = 1 to 20. For example, bisphenol A, bisphenol AD, bisphenol B, bisphenol AF, bisphenol S, brominated bisphenol A, novolak, o-cresol novolak, p-alkylphenol novolak Formed by the condensation reaction of various phenol compounds such as hydrogenated bisphenol A, hydrogenated bisphenol AD, hydrogenated bisphenol B, hydrogenated bisphenol AF, hydrogenated bisphenol S and hydrogenated brominated bisphenol A with epichlorohydrin. Epoxy compounds can be mentioned. However, the present invention is not limited to these.

【0029】上記成分(A)である熱硬化性樹脂の分子
量は900から6000が好ましく、これよりも小さい
と成膜性が劣化し、均一な塗布ができない。また、この
範囲よりも大きな分子量は一般的に合成が困難となる。
該熱硬化性樹脂のエポキシ当量は400から6700の
範囲が好ましく、これ以外では良好なカチオン重合が進
行しない。
The molecular weight of the thermosetting resin as the component (A) is preferably from 900 to 6000. If the molecular weight is smaller than this, the film-forming property is deteriorated and uniform coating cannot be performed. Further, a molecular weight larger than this range generally makes synthesis difficult.
The epoxy equivalent of the thermosetting resin is preferably in the range of 400 to 6700, otherwise good cationic polymerization does not proceed.

【0030】また、上記成分(B)であるラジカル重合
可能なエチレン性モノマーとしては、構造単位中にエチ
レン性の不飽和結合を少なくとも1個以上含むものであ
り、1官能であるビニルモノマーの他に多官能ビニルモ
ノマーを含むものであり、またこれらの混合物であって
もよい。具体的には、(メタ)アクリル酸、イタコン
酸、マレイン酸、(メタ)アクリルアミド、ジアセトン
アクリルアミド、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリ
レート等の高沸点ビニルモノマー、さらには、脂肪族ポ
リヒドロキシ化合物、例えば、エチレングリコール、ジ
エチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラ
エチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペン
チルグリコール、1,3−プロパンジオール、1,4−
ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−
ヘキサンジオール、1,10−デカンジオール、トリメ
チロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエ
リスリトール、ソルビトール、マンニトールなどのジあ
るいはポリ(メタ)アクリル酸エステル類等が挙げられ
るがこの限りではない。
The radically polymerizable ethylenic monomer as the component (B) includes at least one ethylenically unsaturated bond in its structural unit, and may be a monofunctional vinyl monomer. And a polyfunctional vinyl monomer, or a mixture thereof. Specifically, (meth) acrylic acid, itaconic acid, maleic acid, (meth) acrylamide, diacetone acrylamide, high boiling vinyl monomers such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, and further, an aliphatic polyhydroxy compound, For example, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, propylene glycol, neopentyl glycol, 1,3-propanediol, 1,4-
Butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-
Examples thereof include, but are not limited to, di- or poly (meth) acrylates such as hexanediol, 1,10-decanediol, trimethylolpropane, pentaerythritol, dipentaerythritol, sorbitol, and mannitol.

【0031】また、上記成分(C)である化学作用放射
線に露光するとラジカル重合とカチオン重合を活性化す
る光開始剤系としては、J.Photochem.Sc
i.Technol.,2,283(1977).に記
載される化合物、具体的には鉄アレーン錯体、トリハロ
ゲノメチル置換s−トリアジン、スルフォニウム塩、ジ
アゾニウム塩、フォスフォニウム塩、セレノニウム塩、
アルソニウム塩、ヨードニウム塩等が挙げられ、またヨ
ードニウム塩としては、Macromolecule
s、10、1307(1977).に記載の化合物、例
えば、ジフェニルヨードニウム、ジトリルヨードニウ
ム、フェニル(p−アニシル)ヨードニウム、ビス(m
−ニトロフェニル)ヨードニウム、ビス(p −tert−ブ
チルフェニル)ヨードニウム、ビス(p −クロロフェニ
ル)ヨードニウムなどのヨードニウムのクロリド、ブロ
ミド、あるいはホウフッ化塩、ヘキサフルオロフォスフ
ェート塩、ヘキサフルオロアルセネート塩、芳香族スル
ホン酸塩等を挙げることが出来る。
Further, as a photoinitiator system which activates radical polymerization and cationic polymerization when exposed to actinic radiation which is the component (C), J. Pharm. Photochem. Sc
i. Technol. , 2,283 (1977). Compounds, specifically iron arene complex, trihalogenomethyl-substituted s-triazine, sulfonium salt, diazonium salt, phosphonium salt, selenonium salt,
Arsonium salts, iodonium salts and the like, and examples of iodonium salts include Macromolecule
s, 10 , 1307 (1977). And diphenyliodonium, ditolyliodonium, phenyl (p-anisyl) iodonium, bis (m
-Nitrophenyl) iodonium, bis (p-tert-butylphenyl) iodonium, bis (p-chlorophenyl) iodonium and the like, iodonium chloride, bromide, or borofluoride, hexafluorophosphate salt, hexafluoroarsenate salt, aromatic Group sulfonates and the like.

【0032】さらに、本発明に関わる成分(D)である
増感色素としては、シアニンまたはメロシアニン誘導
体、クマリン誘導体、カルコン誘導体、キサンテン誘導
体、チオキサンテン誘導体、アズレニウム誘導体、スク
アリリウム誘導体、ポルフィリン誘導体などの有機染料
化合物が使用でき、その他に「色素ハンドブック」(大
河原信他編 講談社1986年)、「機能性色素の化
学」(大河原信他編、シーエムシー 1981年)、
「特殊機能材料」(池森忠三郎他編 シーエムシー19
86年)に記載されている色素及び増感剤が用いられ
る。なお、これらに限定されるものではなく、その他の
可視域の光に対して吸収を示す色素及び増感剤であれば
用いることが出来る。これらは必要に応じて任意の比率
で二種以上で用いてもかまわない。
Further, the sensitizing dye which is the component (D) according to the present invention includes organic sensitizing dyes such as cyanine or merocyanine derivatives, coumarin derivatives, chalcone derivatives, xanthene derivatives, thioxanthene derivatives, azurenium derivatives, squarylium derivatives, porphyrin derivatives and the like. Dye compounds can be used, and in addition, "Dye Handbook" (Shin Okawara et al., Edited by Kodansha 1986), "Chemistry of functional dyes" (Shin Okawara et al., Edited by CMC 1981),
"Specially Functional Materials" (CEM 19 by Chuzaburo Ikemori et al.)
1986) are used. It should be noted that the present invention is not limited to these, and any other dyes and sensitizers that absorb light in the visible region can be used. These may be used in two or more at any ratio as needed.

【0033】本発明に関わるホログラム記録材料に含有
される成分(B)の量は、上記成分(A)100重量部
に対して20から200重量部の範囲をとることが可能
であり、好ましくは30から100重量部である。ま
た、上記成分(C)の光開始剤の量は、成分(A)10
0重量部に対し、0.1から20重量部、好ましくは1
から10重量部である。成分(D)の量は、成分(A)
100重量部に対して0.1から5重量部の範囲をとる
ことが可能であり、好ましくは0.2から0.5重量部
である。使用量は、感光層膜厚と該膜厚の光学濃度によ
って制限を受ける。すなわち、光学濃度が2を越えない
範囲で使用することが好ましい。
The amount of the component (B) contained in the hologram recording material according to the present invention can be in the range of 20 to 200 parts by weight, preferably 100 parts by weight of the component (A). 30 to 100 parts by weight. In addition, the amount of the photoinitiator of the component (C) is 10
0.1 to 20 parts by weight, preferably 1 to 0 parts by weight
To 10 parts by weight. The amount of component (D) depends on the amount of component (A)
It can range from 0.1 to 5 parts by weight per 100 parts by weight, preferably from 0.2 to 0.5 part by weight. The amount used is limited by the thickness of the photosensitive layer and the optical density of the thickness. That is, it is preferable to use the optical density within a range not exceeding 2.

【0034】この様にこれらの各成分を適宜選択し、任
意の割合で混合して得た感光液をバーコーター、アプリ
ケーター、ドクターブレード、ロールコーター、ダイコ
ーター、コンマーコーター等の公知の塗工手段を用いて
基材(10)に感光液を同様に塗布する。なお、感光液
を塗布する際は、必要に応じて適当な溶剤で希釈しても
よいが、その場合には基材上に塗布した後に、乾燥を要
する。上記溶剤としては、ジクロルメタン、クロロホル
ム、アセトン、2−ブタノン、シクロヘキサノン、エチ
ルアセテート、2−メトキシエタノール、2−エトキシ
エタノール、2−ブトキシエタノール、2−エトキシエ
チルアセテート、2−ブトキシエチルアセテート、2−
メトキシエチルエーテル、2−エトキシエチルエーテ
ル、2−(2−エトキシエトキシ)エタノール、2−
(2−ブトキシエトキシ)エタノール、2−(2−エト
キシエトキシ)エチルアセテート、2−(2−ブトキシ
エトキシ)エチルアセテート、テトラヒドロフラン、
1,4−ジオキサン等が挙げられる。乾燥後、ホログラ
ム露光を行い、後処理が必要な場合は所定の処理を施し
て体積位相型のホログラム層(20)を得る。
As described above, these components are appropriately selected, and the photosensitive solution obtained by mixing them at an arbitrary ratio is coated with a known coating means such as a bar coater, an applicator, a doctor blade, a roll coater, a die coater, and a comma coater. A photosensitive liquid is applied to the substrate (10) in the same manner. When the photosensitive liquid is applied, it may be diluted with an appropriate solvent as necessary, but in that case, drying is required after application on the substrate. Examples of the solvent include dichloromethane, chloroform, acetone, 2-butanone, cyclohexanone, ethyl acetate, 2-methoxyethanol, 2-ethoxyethanol, 2-butoxyethanol, 2-ethoxyethyl acetate, 2-butoxyethyl acetate and 2-butoxyethyl acetate.
Methoxyethyl ether, 2-ethoxyethyl ether, 2- (2-ethoxyethoxy) ethanol, 2-
(2-butoxyethoxy) ethanol, 2- (2-ethoxyethoxy) ethyl acetate, 2- (2-butoxyethoxy) ethyl acetate, tetrahydrofuran,
1,4-dioxane and the like can be mentioned. After drying, hologram exposure is performed, and if post-processing is required, predetermined processing is performed to obtain a volume phase hologram layer (20).

【0035】本発明に関わるホログラム記録材料で体積
位相型ホログラムを光学的な複製法で作製する際、ホロ
グラムマスター或いはミラーとホログラム記録材料の密
着性を上げるために中間液を用いてもよい。具体的に
は、ホログラムマスターやホログラム記録材料を侵さ
ず、屈折率が1.4〜1.5程度の比較的高沸点のもの
が好ましい。具体的には、n−ヘプタン、n−オクタ
ン、イソオクタン、n−ノナン、n−デカン等の飽和炭
化水素やそれらの混合物であるアイソパー、或いは、ト
ルエン、キシレン等の芳香族炭化水素等が挙げられるが
この限りではない。
When a volume phase type hologram is produced from the hologram recording material according to the present invention by an optical duplication method, an intermediate liquid may be used to increase the adhesion between the hologram master or mirror and the hologram recording material. Specifically, a material having a relatively high boiling point having a refractive index of about 1.4 to 1.5 without affecting the hologram master or the hologram recording material is preferable. Specific examples include saturated hydrocarbons such as n-heptane, n-octane, isooctane, n-nonane, and n-decane, and isoper which is a mixture thereof, and aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene. However, this is not the case.

【0036】本発明のホログラム光学素子(1)に用い
られる基材(10)としては、石英ガラス、青板ガラ
ス、ポリカーボネート板、アクリル板、三酢酸セルロー
ス(TAC)板の他、ポリメチルペンテン樹脂或いは、
第5回ポリマー材料フォーラム講演要旨集、p.35
(1966)記載の非晶質ポリオレフィン等のシート板
を挙げることが出来るが、この限りではない。また、ガ
ラス基材上で作製したホログラムを上記基材(10)に
接着剤等を介して転写したものを用いても構わない。
The base material (10) used in the hologram optical element (1) of the present invention may be quartz glass, blue plate glass, polycarbonate plate, acrylic plate, cellulose triacetate (TAC) plate, polymethylpentene resin or the like. ,
Abstracts of 5th Polymer Material Forum Lectures, p. 35
(1966), but not limited thereto. Alternatively, a hologram produced on a glass substrate may be transferred to the substrate (10) via an adhesive or the like.

【0037】本発明のホログラム光学素子(1)は、ホ
ログラム層(20)上に、上記シリコーン化合物をスピ
ン塗布、ディッピング処理するもので、シリコーン組成
物は、粘度に応じて適当な溶媒で希釈しても良い
The hologram optical element (1) of the present invention is obtained by spin-coating and dipping the above-mentioned silicone compound on the hologram layer (20). The silicone composition is diluted with an appropriate solvent according to the viscosity. May be

【0038】また、ホログラム層(20)上に、ハード
コート層或いはアンカー層を設けても構わない。
Further, a hard coat layer or an anchor layer may be provided on the hologram layer (20).

【0039】以上に述べた本発明のホログラム光学素子
(1)は、耐薬品性、耐擦傷性、防汚性を有し、ホログ
ラム層(20)と基材(10)との接着性が弱い場合の
剥がれを抑え得るホログラム光学素子(1)とすること
ができる。
The hologram optical element (1) of the present invention described above has chemical resistance, scratch resistance, and stain resistance, and has poor adhesion between the hologram layer (20) and the substrate (10). A hologram optical element (1) capable of suppressing peeling in such a case can be provided.

【0040】[0040]

【実施例】次に本発明を実施例により、本発明を具体的
に説明する。 〈実施例1〉ビスフェノール系エポキシ樹脂エピコート
1007(重合度n=10.8、エポキシ当量:175
0−2100、油化シェルエポキシ(株)社製)100
重量部、トリエチレングリコールジアクリレート50重
量部および4、4’−ビス(tert−ブチルフェニ
ル)ヨードニウムヘキサフルオロフォスフェート5重量
部、3,3’−カルボニルビス(7−ジエチルアミノ)
クマリン0.5重量部を2- ブタノン100重量部に混
合溶解してホログラム層(20)のための感光液とし
た。
Next, the present invention will be described in detail with reference to examples. <Example 1> Bisphenol epoxy resin epicoat 1007 (degree of polymerization n = 10.8, epoxy equivalent: 175)
0-2100, Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.) 100
Parts by weight, 50 parts by weight of triethylene glycol diacrylate and 5 parts by weight of 4,4'-bis (tert-butylphenyl) iodonium hexafluorophosphate, 3,3'-carbonylbis (7-diethylamino)
0.5 parts by weight of coumarin was mixed and dissolved in 100 parts by weight of 2-butanone to prepare a photosensitive solution for the hologram layer (20).

【0041】上記で得られた感光液を青板ガラス(1.
1mm厚、5インチ角、SiO2 表面処理品)に、膜厚
が約30μmになるようにドクターブレードで塗布、乾
燥して、ホログラム層(20)とするためのホログラム
記録材料層を作製した。
The photosensitive solution obtained above was used in a blue plate glass (1.
A 1 mm thick, 5 inch square, SiO2 surface-treated product) was applied with a doctor blade so as to have a film thickness of about 30 μm, and dried to produce a hologram recording material layer for forming a hologram layer (20).

【0042】上記ホログラム記録材料層の塗布面を、図
2に示すような光学系を用いて、レーザービーム(6
1)により、銀塩感光材料(67)に記録作成したホロ
グラムマスターに、イソオクタンで液浸させながら密着
させたものに、光源としてアルゴンレーザ(514.5
nm)をレンズを用いて広げた光で基材面から露光する
ことでホログラムを作製した後、80℃で10分加熱
し、さらに高圧水銀灯で該ホログラム記録用媒体を全面
照射することで定着し、体積位相型ホログラムを得た。
The hologram recording material layer was coated with a laser beam (6) using an optical system as shown in FIG.
An argon laser (514.5) was used as a light source on a hologram master recorded and formed on the silver halide photosensitive material (67) according to 1) while being in close contact with the hologram master while being immersed in isooctane.
(nm) from the substrate surface with light spread by using a lens, and then heated at 80 ° C. for 10 minutes, and further fixed by irradiating the entire hologram recording medium with a high-pressure mercury lamp. Thus, a volume phase hologram was obtained.

【0043】得られた体積位相型ホログラムの回折効率
は、島津製作所(株)製の分光光度計で測定した。該装
置で検出した時の吸収ピークのベースラインから極小値
を引いた透過率を回折効率とした。さらに、表面反射率
はホログラム光学素子の可視域でのベースラインの透過
率で相対評価した。
The diffraction efficiency of the obtained volume phase hologram was measured with a spectrophotometer manufactured by Shimadzu Corporation. The transmittance obtained by subtracting the minimum value from the baseline of the absorption peak detected by the apparatus was defined as the diffraction efficiency. Further, the surface reflectance was relatively evaluated based on the transmittance of the hologram optical element at the baseline in the visible region.

【0044】続いて上記青板ガラス上で作製したホログ
ラム層(20)面に、光接着剤ハードロック0P−10
45K(電気化学工業社製商品名)を均一に塗布し、耐
熱メタクリル樹脂(スミペックス−B TR、住友化学
工業社製)で成形した2mm厚の基材(10)を置き、
加圧して脱泡し、前記UV照射装置(500mJ/cm
2 )で硬化させた後、青板ガラス板から剥離した。該転
写されたホログラム層(20)面上に、信越化学社製溶
剤型シリコーン(KS−3705)をトルエンで希釈
後、硬化剤(CAT−PL−50T)を添加し、該シリ
コーン組成物をスピンコートした。100℃のオーブン
で10分間加熱し、ホログラム光学素子(1)を得た。
Subsequently, the surface of the hologram layer (20) formed on the blue sheet glass was coated with an optical adhesive hard lock 0P-10.
45K (trade name, manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd.) is uniformly applied, and a 2 mm-thick base material (10) molded with a heat-resistant methacrylic resin (Sumipex-BTR, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) is placed.
Depressurized by depressurization, the UV irradiation device (500 mJ / cm
After being cured in 2 ), it was peeled off from the blue glass plate. After diluting solvent-type silicone (KS-3705) manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. with toluene on the surface of the transferred hologram layer (20), a curing agent (CAT-PL-50T) is added, and the silicone composition is spun. Coated. The mixture was heated in an oven at 100 ° C. for 10 minutes to obtain a hologram optical element (1).

【0045】上記で得られたホログラム光学素子(1)
は、回折効率80%(再生光ピークの半値幅:20n
m)で、400−600nmでのベースラインの透過率
は90%であり、像のぼけによる影響はみられなかっ
た。さらに、該ホログラム層(20)面に片刃カミソリ
で1mm角の碁盤目を100個作り、その上にニットー
セロハンテープ幅12mmを消しゴムでしごいて完全に
密着させた後、テープを瞬間的に剥がしたところ、ホロ
グラム面でのひとつの剥がれも見られなかった。さら
に、ガーゼを押しつけながら擦ったところ、剥がれは起
こらず、傷も発生しなかった。
The hologram optical element (1) obtained above
Is the diffraction efficiency of 80% (half-width of the reproduction light peak: 20 n
In m), the transmittance of the baseline at 400 to 600 nm was 90%, and no effect due to image blur was observed. Furthermore, 100 squares of 1 mm square were made on the surface of the hologram layer (20) with a single-edge razor, and a 12 mm width of Nitto cellophane tape was erased with an eraser to completely adhere the pieces, and then the tape was instantaneously peeled off. As a result, no peeling was observed on the hologram surface. Further, when the gauze was rubbed while being pressed, no peeling occurred and no scratch was generated.

【0046】〈実施例2〉基材(10)をポリカーボネ
ート樹脂(ユーピロン、三菱エンジニアリングプラスチ
ック社製)とした以外は、実施例1と同様の材料や操作
によって、ホログラム光学素子(1)を得た。
<Example 2> A hologram optical element (1) was obtained by the same materials and operations as in Example 1 except that the substrate (10) was a polycarbonate resin (Iupilon, manufactured by Mitsubishi Engineering-Plastics Corporation). .

【0047】上記で得られたホログラム光学素子(1)
は、回折効率は79%(再生光ピークの半値幅:22n
m)で、400−600nmでのベースラインの透過率
は84%であり、像のぼけによる悪影響はみられなかっ
た。さらに、該ホログラム面に片刃カミソリで1mm角
の碁盤目を100個作り、その上にニットーセロハンテ
ープ幅12mmを消しゴムでしごいて完全に密着させた
後、テープを瞬間的に剥がしたところ、ホログラム面で
は、ひとつの剥がれも見られなかった。さらに、ガーゼ
を押しつけながら擦ったところ、剥がれは起こらず、傷
も発生しなかった。
The hologram optical element (1) obtained above
Means that the diffraction efficiency is 79% (half-width of the reproduction light peak: 22 n
In m), the transmittance of the baseline at 400 to 600 nm was 84%, and no adverse effect due to image blur was observed. Furthermore, 100 pieces of 1 mm square grid were made on the hologram surface with a single-edge razor, and a 12 mm width of Nitto cellophane tape was erased with an eraser to completely adhere the tape, and the tape was instantaneously peeled off. On the surface, no peeling was seen. Further, when the gauze was rubbed while being pressed, no peeling occurred and no scratch was generated.

【0048】〈実施例3〉基材(10)をポリメチルペ
ンテン樹脂(TPX、三井石油化学工業社製)とした以
外は、実施例1と同様の材料や操作によってホログラム
光学素子(1)を得た。
<Example 3> The hologram optical element (1) was manufactured using the same materials and operations as in Example 1 except that the base material (10) was a polymethylpentene resin (TPX, manufactured by Mitsui Petrochemical Industries, Ltd.). Obtained.

【0049】上記で得られたホログラム光学素子(1)
の回折効率は76%(再生光ピークの半値幅:23n
m)で、400−600nmでのベースラインの透過率
は85%であり、像のぼけによる悪影響はみられなかっ
た。さらに、該ホログラム面に片刃カミソリで1mm角
の碁盤目を100個作り、その上にニットーセロハンテ
ープ幅12mmを消しゴムでしごいて完全に密着させた
後、テープを瞬間的に剥がしたところ、ホログラム面で
はひとつの剥がれも見られなかった。さらに、ガーゼを
押しつけながら擦ったところ、剥がれは起こらず、傷も
発生しないものであった。
The hologram optical element (1) obtained above
Has a diffraction efficiency of 76% (half-width of the reproduction light peak: 23n).
m), the transmittance of the baseline at 400-600 nm was 85%, and no adverse effect due to image blur was observed. Furthermore, 100 pieces of 1 mm square grid were made on the hologram surface with a single-edge razor, and a 12 mm width of Nitto cellophane tape was erased with an eraser to completely adhere the tape, and the tape was instantaneously peeled off. No peeling was seen on the surface. Further, when the gauze was rubbed while being pressed, no peeling occurred and no scratch was generated.

【0050】〈実施例4〉シリコーン組成物として、東
レシリコーン社製溶剤硬化型(SD−7227)をトル
エンで希釈後、硬化剤(SRX212CAT)を添加し
たものとした以外は、実施例1と同様の材料と操作によ
ってホログラム光学素子(1)を得た。
Example 4 The same procedure as in Example 1 was carried out except that a solvent-curable type (SD-7227) manufactured by Toray Silicone Co., Ltd. was diluted with toluene and a curing agent (SRX212CAT) was added as a silicone composition. A hologram optical element (1) was obtained by the above materials and operation.

【0051】〈実施例5〉シリコーン組成物として、東
レシリコーン社製溶剤硬化型(SD−7227)をトル
エンで希釈後、硬化剤(SRX212CAT)を添加し
たものとした以外は、実施例2と同様の材料と操作によ
ってホログラム光学素子(1)を得た。
Example 5 A silicone composition was prepared in the same manner as in Example 2 except that a solvent-curable type (SD-7227) manufactured by Toray Silicone Co., Ltd. was diluted with toluene and a curing agent (SRX212CAT) was added. A hologram optical element (1) was obtained by the above materials and operation.

【0052】〈実施例6〉シリコーン組成物として、東
レシリコーン社製溶剤硬化型(SD−7227)をトル
エンで希釈後、硬化剤(SRX212CAT)を添加し
たものとした以外は、実施例3と同様の材料と操作によ
ってホログラム光学素子(1)を得た。
Example 6 The same as Example 3 except that a solvent-curable type (SD-7227) manufactured by Toray Silicone Co., Ltd. was diluted with toluene and a curing agent (SRX212CAT) was added as a silicone composition. A hologram optical element (1) was obtained by the above materials and operation.

【0053】上記実施例4〜6で得られたホログラム光
学素子(1)の回折効率や透過率の測定結果を表1に示
した。
Table 1 shows the measurement results of the diffraction efficiency and transmittance of the hologram optical element (1) obtained in Examples 4 to 6 above.

【0054】[0054]

【表1】 [Table 1]

【0055】表1に示した回折効率や透過率から明らか
なように、これらのホログラム光学素子(1)での、像
のぼけによる悪影響はみられなかった。さらに、該ホロ
グラム面に片刃カミソリで1mm角の碁盤目を100個
作り、その上にニットーセロハンテープ幅12mmを消
しゴムでしごいて完全に密着させた後、テープを瞬間的
に剥がしたところ、ホログラム面ではひとつの剥がれも
見られなかった。さらに、ガーゼを押しつけながら擦っ
たところ、剥がれは起こらず、傷も発生しなかった。
As is evident from the diffraction efficiency and transmittance shown in Table 1, no adverse effect of these hologram optical elements (1) due to image blur was observed. Furthermore, 100 pieces of 1 mm square grid were made on the hologram surface with a single-edge razor, and a 12 mm width of Nitto cellophane tape was erased with an eraser to completely adhere the tape, and the tape was instantaneously peeled off. No peeling was seen on the surface. Further, when the gauze was rubbed while being pressed, no peeling occurred and no scratch was generated.

【0056】〈実施例7〉シリコーン組成物層(30)
として、信越化学社製紫外線硬化型X−62−7028
(二液タイプ)を調製し、トルエンで希釈した後、ホロ
グラム層(20)面にスピンコートし、溶剤を乾燥にて
除去した後、ハンディUVランプ(高圧水銀灯・オーク
製作所社製OHD−320M)で約2分間照射を行いシ
リコーン組成物層(30)とした以外は、実施例1と同
様の材料や操作によってホログラム光学素子(1)を得
た。
Example 7 Silicone Composition Layer (30)
UV-curable X-62-7028 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
After preparing (two-pack type), diluting with toluene, spin-coating the hologram layer (20) surface, and removing the solvent by drying, a handy UV lamp (OHD-320M, manufactured by Oak High Pressure Co., Ltd.) The hologram optical element (1) was obtained by the same material and operation as in Example 1 except that irradiation was performed for about 2 minutes to obtain a silicone composition layer (30).

【0057】〈実施例8〉シリコーン組成物層(30)
として、信越化学社製紫外線硬化型X−62−7028
(二液タイプ)を調製し、トルエンで希釈した後、ホロ
グラム層(20)面にスピンコートし、溶剤を乾燥にて
除去した後、ハンディUVランプ(高圧水銀灯・オーク
製作所社製OHD−320M)で約2分間照射を行いシ
リコーン組成物層(30)とした以外は、実施例2と同
様の材料や操作によってホログラム光学素子(1)を得
た。
Example 8 Silicone Composition Layer (30)
UV-curable X-62-7028 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
After preparing (two-pack type), diluting with toluene, spin-coating the hologram layer (20) surface, and removing the solvent by drying, a handy UV lamp (OHD-320M, manufactured by Oak High Pressure Co., Ltd.) The hologram optical element (1) was obtained by the same materials and operations as in Example 2 except that the irradiation was performed for about 2 minutes to obtain a silicone composition layer (30).

【0058】〈実施例9〉シリコーン組成物層(30)
として、信越化学社製紫外線硬化型X−62−7028
(二液タイプ)を調製し、トルエンで希釈した後、ホロ
グラム層(20)面にスピンコートし、溶剤を乾燥にて
除去した後、ハンディUVランプ(高圧水銀灯・オーク
製作所社製OHD−320M)で約2分間照射を行いシ
リコーン組成物層(30)とした以外は、実施例3と同
様の材料や操作によってホログラム光学素子(1)を得
た。
Example 9 Silicone Composition Layer (30)
UV-curable X-62-7028 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
After preparing (two-pack type), diluting with toluene, spin-coating the hologram layer (20) surface, and removing the solvent by drying, a handy UV lamp (OHD-320M, manufactured by Oak High Pressure Co., Ltd.) The hologram optical element (1) was obtained by using the same materials and operations as in Example 3 except that irradiation was performed for about 2 minutes to obtain a silicone composition layer (30).

【0059】〈実施例10〉シリコーン組成物層(3
0)として、信越化学社製紫外線硬化型X−62−70
28(二液タイプ)を調製し、トルエンで希釈した後、
ホログラム層(20)面にスピンコートし、溶剤を乾燥
にて除去した後、ハンディUVランプ(高圧水銀灯・オ
ーク製作所社製OHD−320M)で約2分間照射を行
いシリコーン組成物層(30)とした以外は、実施例4
と同様の材料や操作によってホログラム光学素子(1)
を得た。
Example 10 Silicone Composition Layer (3
0): UV-curable X-62-70 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
After preparing 28 (two-pack type) and diluting with toluene,
After spin-coating the hologram layer (20) and removing the solvent by drying, irradiation with a handy UV lamp (high pressure mercury lamp, OHD-320M manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd.) is performed for about 2 minutes to form a silicone composition layer (30). Example 4 except that
Holographic optical element (1)
I got

【0060】〈実施例11〉シリコーン組成物層(3
0)として、信越化学社製紫外線硬化型X−62−70
28(二液タイプ)を調製し、トルエンで希釈した後、
ホログラム層(20)面にスピンコートし、溶剤を乾燥
にて除去した後、ハンディUVランプ(高圧水銀灯・オ
ーク製作所社製OHD−320M)で約2分間照射を行
いシリコーン組成物層(30)とした以外は、実施例5
と同様の材料や操作によってホログラム光学素子(1)
を得た。
Example 11 Silicone Composition Layer (3
0): UV-curable X-62-70 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
After preparing 28 (two-pack type) and diluting with toluene,
After spin-coating the hologram layer (20) and removing the solvent by drying, irradiation with a handy UV lamp (high pressure mercury lamp, OHD-320M manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd.) is performed for about 2 minutes to form a silicone composition layer (30). Example 5 except that
Holographic optical element (1)
I got

【0061】〈実施例12〉シリコーン組成物層(3
0)として、信越化学社製紫外線硬化型X−62−70
28(二液タイプ)を調製し、トルエンで希釈した後、
ホログラム層(20)面にスピンコートし、溶剤を乾燥
にて除去した後、ハンディUVランプ(高圧水銀灯・オ
ーク製作所社製OHD−320M)で約2分間照射を行
いシリコーン組成物層(30)とした以外は、実施例6
と同様の材料や操作によってホログラム光学素子(1)
を得た。
Example 12 Silicone Composition Layer (3
0): UV-curable X-62-70 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
After preparing 28 (two-pack type) and diluting with toluene,
After spin-coating the hologram layer (20) and removing the solvent by drying, irradiation with a handy UV lamp (high pressure mercury lamp, OHD-320M manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd.) is performed for about 2 minutes to form a silicone composition layer (30). Example 6 except that
Holographic optical element (1)
I got

【0062】上記実施例7〜12で得られたホログラム
光学素子(1)の回折効率や透過率の測定結果を表2に
示した。
Table 2 shows the measurement results of the diffraction efficiency and transmittance of the hologram optical element (1) obtained in Examples 7 to 12 above.

【0063】[0063]

【表2】 [Table 2]

【0064】表2に示した回折効率や透過率から明らか
なように、これらのホログラム光学素子(1)での、像
のぼけによる悪影響はみられなかった。さらに、該ホロ
グラム面に片刃カミソリで1mm角の碁盤目を100個
作り、その上にニットーセロハンテープ幅12mmを消
しゴムでしごいて完全に密着させた後、テープを瞬間的
に剥がしたところ、ホログラム面ではひとつの剥がれも
見られなかった。さらに、ガーゼを押しつけながら擦っ
たところ、剥がれは起こらず、傷も発生しなかった。
As is evident from the diffraction efficiency and transmittance shown in Table 2, no adverse effect due to image blur was observed in these hologram optical elements (1). Furthermore, 100 pieces of 1 mm square grid were made on the hologram surface with a single-edge razor, and a 12 mm width of Nitto cellophane tape was erased with an eraser to completely adhere the tape, and the tape was instantaneously peeled off. No peeling was seen on the surface. Further, when the gauze was rubbed while being pressed, no peeling occurred and no scratch was generated.

【0065】〈比較例1〉実施例1における青板ガラス
の代わりにPETフィルム(100μm厚、メリネック
ス518、ICI社製)とした以外は、実施例1と同様
の材料や操作によってホログラム光学素子(1)を得
た。
<Comparative Example 1> The hologram optical element (1) was manufactured using the same material and operation as in Example 1 except that a PET film (100 μm thick, Melinex 518, manufactured by ICI) was used instead of the blue plate glass in Example 1. ) Got.

【0066】得られたホログラム光学素子(1)は、回
折効率78%であったが、再生像が歪んでみえた。
The hologram optical element (1) obtained had a diffraction efficiency of 78%, but the reproduced image appeared distorted.

【0067】〈比較例2〉実施例1と同様に操作しホロ
グラムを作製し、耐熱メタクリル樹脂(スミペックス−
B TR、住友化学工業社製)で成形した2mm厚の基
材(10)に貼付したものにシリコーン組成物を設けな
かった。該ホログラム表示素子は、回折効率79%(再
生光ピークの半値幅:22nm)で、400−600n
mでのベースラインの透過率は90%であり、像のぼけ
による影響はみられなかったが、さらに、該ホログラム
面に片刃カミソリで1mm角の碁盤目を100個作り、
その上にニットーセロハンテープ幅12mmを消しゴム
でしごいて完全に密着させた後、テープを瞬間的に剥が
したところ、ホログラム面で63個のます目が剥がれ
た。さらに、ガーゼを押しつけながら擦ったところ、剥
がれは起こらなかったが、傷ついた。
<Comparative Example 2> A hologram was prepared in the same manner as in Example 1, and a heat-resistant methacrylic resin (Sumipex-
BTR, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) and attached to a 2 mm thick substrate (10) were not provided with a silicone composition. The hologram display element has a diffraction efficiency of 79% (half-width of the reproduction light peak: 22 nm) and a wavelength of 400 to 600 n.
The transmittance of the baseline at m was 90%, and the effect of blurring of the image was not observed. However, 100 1-mm square grids were formed on the hologram surface with a single-edge razor.
Nitto cellophane tape 12 mm wide was rubbed with an eraser to completely adhere, and then the tape was instantaneously peeled off. As a result, 63 grids were peeled off on the hologram surface. Further, when the gauze was rubbed while being pressed, the gauze was not peeled off but was hurt.

【0068】[0068]

【発明の効果】本発明は以上の構成であるから、下記に
示す如き効果がある。すなわち、基材上にホログラム層
を設け、その上に可視光透過率80%以上で厚み1〜1
00μmの、官能性単位が単官能或いは2官能のシリコ
ーンを含む組成物をシリコーン組成物層としてなり、該
シリコーン組成物層が、硬化剤もしくは触媒の添加およ
び加熱によって硬化するもの、もしくは、アクリル基、
メルカプト基および不飽和二重結合、エポキシ基のうち
少なくともひとつを有するシリコーンと光重合開始剤か
らなるシリコーン組成物が、紫外光照射により硬化する
もの、もしくはアクリル基を有するシリコーンを含有し
てなるシリコーン組成物が、電子線照射により硬化する
ものとすることによって、得られたホログラム光学素子
は、回折効率、透明性に優れ、さらに耐薬品性、耐擦傷
性を有するものとすることができる。
As described above, the present invention has the following effects. That is, a hologram layer is provided on a base material, and a visible light transmittance of 80% or more and a thickness of 1 to 1 are formed thereon.
A composition containing a monofunctional or bifunctional silicone having a functional unit of 100 μm as a silicone composition layer, wherein the silicone composition layer is cured by adding a curing agent or a catalyst and heating, or an acrylic group ,
A silicone composition comprising a silicone having at least one of a mercapto group, an unsaturated double bond, and an epoxy group and a photopolymerization initiator, which is cured by irradiation with ultraviolet light, or a silicone containing a silicone having an acryl group When the composition is cured by irradiation with an electron beam, the obtained hologram optical element can have excellent diffraction efficiency and transparency, and can have chemical resistance and scratch resistance.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施の形態を示すホログラム光学素
子を側断面で表した説明図である。
FIG. 1 is an explanatory diagram showing a hologram optical element according to an embodiment of the present invention in a side cross section.

【図2】本発明の一実施の形態を示すホログラム光学素
子を複製するためのホログラムマスターを作製する光学
系を表した説明図である。
FIG. 2 is an explanatory diagram showing an optical system for producing a hologram master for replicating a hologram optical element according to an embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1‥‥ホログラム光学素子 10‥‥基材 20‥‥ホログラム層 30‥‥シリコーン組成物層 60‥‥レーザー 61‥‥レーザービーム 62‥‥ミラー 63‥‥ハーフミラー 64‥‥対物レンズ 65‥‥スペイシャルフィルター 66‥‥レンズ 67‥‥銀塩感光材料 Reference Signs List 1 hologram optical element 10 base 20 hologram layer 30 silicone composition layer 60 laser 61 laser beam 62 mirror 63 half mirror 64 objective lens 65 spey Char filter 66mm lens 67mm silver halide photosensitive material

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】基材上にホログラム層を設け、その上に可
視光透過率80%以上で厚み1〜100の、官能性単位
が単官能或いは2官能のシリコーンを含む組成物を積層
してなることを特徴とするホログラム光学素子。
1. A hologram layer is provided on a substrate, and a composition containing monofunctional or bifunctional silicone having a monofunctional or bifunctional functional unit having a visible light transmittance of 80% or more and a thickness of 1 to 100 is laminated thereon. A hologram optical element, comprising:
【請求項2】前記シリコーンを含む組成物に、硬化剤も
しくは触媒の添加し、それを加熱によって硬化すること
を特徴とする請求項1記載のホログラム光学素子。
2. The hologram optical element according to claim 1, wherein a curing agent or a catalyst is added to the composition containing silicone, and the composition is cured by heating.
【請求項3】前記シリコーンを含む組成物が、アクリル
基、メルカプト基および不飽和二重結合、エポキシ基の
うち少なくともひとつを有するシリコーンと光重合開始
剤からなり、それに紫外光を照射することにより硬化す
ることを特徴とする請求項1記載のホログラム光学素
子。
3. The composition containing silicone comprises a silicone having at least one of an acrylic group, a mercapto group, an unsaturated double bond, and an epoxy group, and a photopolymerization initiator, and is irradiated with ultraviolet light. The hologram optical element according to claim 1, wherein the hologram optical element is cured.
【請求項4】前記シリコーンを含む組成物が、アクリル
基を有するシリコーンを含有してなり、電子線照射によ
り硬化することを特徴とする請求項1記載のホログラム
光学素子。
4. The hologram optical element according to claim 1, wherein the composition containing silicone contains silicone having an acryl group, and is cured by electron beam irradiation.
JP14183798A 1998-05-22 1998-05-22 Hologram optical element Pending JPH11338336A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2021528680A (en) * 2018-06-15 2021-10-21 コンチネンタル オートモーティヴ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングContinental Automotive GmbH Optical waveguides for display devices

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