JPH1133545A - Ion exchange apparatus and polishing filter - Google Patents
Ion exchange apparatus and polishing filterInfo
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- JPH1133545A JPH1133545A JP9191432A JP19143297A JPH1133545A JP H1133545 A JPH1133545 A JP H1133545A JP 9191432 A JP9191432 A JP 9191432A JP 19143297 A JP19143297 A JP 19143297A JP H1133545 A JPH1133545 A JP H1133545A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は向流再生型のイオン
交換装置、特にポリッシングフィルタ付のイオン交換装
置およびポリッシングフィルタに関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a countercurrent regeneration type ion exchange apparatus, and more particularly to an ion exchange apparatus with a polishing filter and a polishing filter.
【０００２】[0002]
【従来の技術】純水装置、軟化装置等のイオン交換装置
では、イオン交換時における通液方向と再生時における
再生剤の通液方向を逆にした向流再生型のイオン交換装
置が、少ない再生剤量で再生できる装置として広く使用
されている。このような向流再生型イオン交換装置に
は、原水を上から下に流し、再生剤は下から上に流す方
式と、原水を下から上に流し、再生剤は上から下に流す
方式の２種類がある。いずれの場合もイオン交換時と再
生時で通液方向が変わる際、樹脂層が乱れるため、処理
水の純度が低下しやすい。2. Description of the Related Art In ion exchange devices such as a pure water device and a softening device, there are few counter-current regeneration type ion exchange devices in which the flow direction of a regenerant is reversed during ion exchange and the flow direction of a regenerant during regeneration. It is widely used as a device that can regenerate with the amount of regenerant. Such a countercurrent regeneration type ion exchange apparatus has a system in which raw water flows down from above and a regenerant flows from bottom to top, and a system in which raw water flows from bottom to top and regenerant flows from top to bottom. There are two types. In any case, when the flow direction changes between ion exchange and regeneration, the resin layer is disturbed, so that the purity of the treated water tends to decrease.
【０００３】すなわち向流再生型において原水を上から
下向流で流してイオン交換する方式では、再生時におい
てイオン交換樹脂層は再生剤流の上向きの力を受けるた
め、下部（処理水出口側）のイオン交換樹脂が持ち上げ
られて、下部に隙間が形成される。特にイオン交換樹脂
はイオン性にかかわらず再生剤と接触すると浸透圧の関
係で収縮するため隙間は大きくなる。That is, in the counter-current regeneration type in which raw water flows downward from above and ion-exchanges, the ion-exchange resin layer receives an upward force of the regenerant during regeneration, so that the lower portion (the treated water outlet side) The ion-exchange resin is raised to form a gap at the bottom. In particular, the ion exchange resin shrinks due to the osmotic pressure when it comes into contact with the regenerant irrespective of ionicity, so that the gap becomes large.
【０００４】このため再生終了後、再生剤の流れが停止
するときに、イオン交換樹脂が流動化し、十分再生され
ていない中間部以上のイオン交換樹脂が下部の樹脂層に
混ざり込むことがある。こうして処理水出口側のイオン
交換樹脂層に、十分に再生されていない樹脂が混入する
と、イオン交換時における処理水の純度が低下する。For this reason, when the flow of the regenerant is stopped after the regeneration, the ion exchange resin is fluidized, and the ion exchange resin not sufficiently regenerated may be mixed in the lower resin layer above the intermediate portion. When the resin that has not been sufficiently regenerated is mixed into the ion-exchange resin layer on the treated water outlet side, the purity of the treated water at the time of ion exchange decreases.
【０００５】この対策として従来、再生後にイオン交
換樹脂を下方へ押しつけるためのリフトダウン水を供給
する方法、イオン交換樹脂をできるだけ密に充填し、
隙間を発生させない方法などが実施されている。しかし
上記の方法では、再生、押出とは反対の方向に水を流
すため、イオン交換樹脂の洗浄効果を悪化させることに
なり、またリフトダウン水供給のための弁が必要になり
制御関係が複雑になり、水使用量が増大する。の方法
では、差圧が上昇し、流入した濁質を排出しにくくなる
などの問題が新たに発生する。Conventionally, as a countermeasure, a method of supplying lift-down water for pressing the ion exchange resin downward after regeneration, filling the ion exchange resin as densely as possible,
A method that does not generate a gap has been implemented. However, in the above method, water flows in the direction opposite to the direction of regeneration and extrusion, which deteriorates the cleaning effect of the ion exchange resin, and requires a valve for supplying lift-down water, which complicates the control relationship. And water usage increases. In the method (1), a new problem arises that the differential pressure rises and it becomes difficult to discharge the inflowing turbid substance.
【０００６】また原水を下から上向流で流してイオン交
換する方式では、通水時においてイオン交換樹脂層は原
水流の上向きの力を受けるため、下部（原水入口側）の
イオン交換樹脂が持ち上げられて、下部に隙間が形成さ
れる。特に強酸または強塩基性のイオン交換樹脂の場合
は原水と接触することによりイオン交換反応が起こって
収縮するため、隙間が大きくなる。In the method of performing ion exchange by flowing raw water in an upward flow from below, the ion-exchange resin layer is subjected to an upward force of the raw water flow during the flow of water, so that the ion-exchange resin in the lower portion (raw water inlet side) is removed. When lifted, a gap is formed at the bottom. In particular, in the case of a strong acid or strong basic ion exchange resin, an ion exchange reaction occurs upon contact with raw water and shrinks, so that a gap becomes large.
【０００７】このため採水途中で、運転を停止すると
き、イオン交換樹脂が下方へ沈降して流動化し、十分再
生されていない中間部以下のイオン交換樹脂が十分再生
されている上部の処理水側のイオン交換樹脂層に混ざり
込むことがある。こうして処理水出口側のイオン交換樹
脂層が十分に再生されていない樹脂が混入すると、イオ
ン交換時の処理水の純度が低下する。For this reason, when the operation is stopped in the middle of water sampling, the ion-exchange resin sediments downward and fluidizes, and the treated water in the upper portion where the ion-exchange resin below the intermediate portion that has not been sufficiently regenerated is sufficiently regenerated. In the ion exchange resin layer on the side. When the resin whose ion exchange resin layer at the outlet of the treated water is not sufficiently regenerated is mixed in this way, the purity of the treated water at the time of ion exchange decreases.
【０００８】この対策として従来、前記と同様に、運
転停止時にイオン交換樹脂を下方へ押しつけるためのリ
フトダウン水を供給する方法、イオン交換樹脂をでき
るだけ密に充填し、隙間を発生させない方法などが実施
されている。しかしこの場合も前記下向流の場合と同様
に、の方法では、リフトダウン水供給のため、弁が必
要になり、制御関係が複雑になるほか、純水使用量が増
大する。またの方法では、差圧が上昇し、流入した濁
質を排出しにくくなる、イオン交換樹脂の割れが多くな
る、などの問題が新たに発生する。Conventionally, as a countermeasure, a method of supplying lift-down water for pressing the ion exchange resin downward when the operation is stopped, a method of filling the ion exchange resin as densely as possible and preventing a gap from occurring, as described above, have been proposed. It has been implemented. However, in this case, as in the case of the downward flow, the method requires a valve for supplying lift-down water, which complicates the control relationship and increases the amount of pure water used. In the other method, problems such as an increase in the differential pressure, difficulty in discharging the inflowing turbid matter, and an increase in the number of cracks in the ion exchange resin are newly generated.
【０００９】一方、４床５塔型純水装置のように、陽イ
オン交換塔−脱炭酸塔−陰イオン交換塔−陽イオン交換
塔−陰イオン交換塔の組合せにおいて、後段の陽または
陰イオン交換塔から前段の陽または陰イオン交換塔に再
生剤を通液することにより向流再生する装置が知られて
おり、少ない再生剤使用量で高純度の脱イオン水を得る
ことができるとされている。On the other hand, in a combination of a cation exchange column, a decarboxylation column, an anion exchange column, a cation exchange column, and an anion exchange column, as in a four-bed, five-column type pure water apparatus, a cation or anion in the latter stage is used. An apparatus for countercurrent regeneration by passing a regenerant from an exchange tower to a preceding cation or anion exchange tower is known, and it is said that high-purity deionized water can be obtained with a small amount of regenerant used. ing.
【００１０】しかしながら、このような装置では陽また
は陰イオン交換樹脂について各２個の塔が必要となり、
それぞれに弁、配管、制御系が必要となるため、装置が
大型化かつ複雑化し、操作および制御も複雑になるなど
の問題点がある。However, such an apparatus requires two columns each for cation or anion exchange resin,
Since each of them requires a valve, a pipe, and a control system, there are problems such as an increase in size and complexity of the device, and a complicated operation and control.
【００１１】[0011]
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、簡単
な装置と操作により、イオン交換樹脂を塔内に密に充填
することなく、これにより差圧を上昇させることなく、
樹脂の展開による洗浄が可能であり、かつ少ない再生剤
量で高純度のイオン交換処理液を得ることができるイオ
ン交換装置を得ることである。本発明の第２の課題は、
イオン交換塔に取付けて上記のイオン交換装置を形成す
ることができ、従来のイオン交換装置にも取付け可能な
イオン交換装置用ポリッシングフィルタを得ることであ
る。SUMMARY OF THE INVENTION The object of the present invention is to provide a simple apparatus and operation without densely filling an ion exchange resin in a column, thereby increasing the pressure difference.
An object of the present invention is to provide an ion exchange apparatus which can be washed by developing a resin and which can obtain a high-purity ion exchange treatment liquid with a small amount of a regenerant. A second object of the present invention is to
It is an object of the present invention to provide a polishing filter for an ion exchange apparatus which can be attached to an ion exchange tower to form the above-mentioned ion exchange apparatus and which can also be attached to a conventional ion exchange apparatus.
【００１２】[0012]
【課題を解決するための手段】本発明は次のイオン交換
装置およびポリッシングフィルタである。 （１） フリーボードを有するように陽イオン交換樹脂
または陰イオン交換樹脂を充填したイオン交換塔と、こ
のイオン交換塔に上向流または下向流で通液してイオン
交換を行い、これと逆方向に再生剤を通液して再生を行
うように設けられた配管系と、イオン交換塔に充填され
た樹脂と同種の少量の樹脂を二重のストレーナ間に密に
充填し、かつ処理液出口側口の配管に取付けられるポリ
ッシングフィルタとを有するイオン交換装置。 （２） フリーボードを有するように陽イオン交換樹脂
または陰イオン交換樹脂を充填したイオン交換塔と、こ
のイオン交換塔に上向流または下向流で通液してイオン
交換を行い、これと逆方向に再生剤を通液して再生を行
うように設けられた配管系とを有するイオン交換装置に
取付けられるポリッシングフィルタであって、イオン交
換塔の処理液出口側配管への接続部を有するケーシング
と、このケーシング内に設けられた二重のストレーナ間
に密に充填されたイオン交換樹脂層とを有するイオン交
換装置用ポリッシングフィルタ。The present invention relates to the following ion exchange apparatus and polishing filter. (1) An ion exchange tower filled with a cation exchange resin or an anion exchange resin so as to have a free board, and liquid is passed through the ion exchange tower in an upward or downward flow to perform ion exchange. A pipe system provided to regenerate by passing the regenerant in the opposite direction, and a small amount of resin of the same type as the resin charged in the ion exchange tower is densely filled between the double strainers and treated. An ion exchange device having a polishing filter attached to a pipe at a liquid outlet side port. (2) An ion exchange tower filled with a cation exchange resin or an anion exchange resin so as to have a free board, and liquid is passed through the ion exchange tower in an upward or downward flow to perform ion exchange. A polishing filter attached to an ion exchange apparatus having a piping system provided to perform regeneration by passing a regenerating agent in a reverse direction, the polishing filter having a connection portion to a processing liquid outlet side pipe of an ion exchange tower. A polishing filter for an ion exchange device, comprising: a casing; and an ion exchange resin layer densely filled between double strainers provided in the casing.
【００１３】本発明のイオン交換装置は純水装置、軟化
装置等に用いられるもので、陽イオン交換樹脂または陰
イオン交換樹脂を充填したイオン交換塔を有する。軟化
装置の場合は陽イオン交換樹脂を充填した陽イオン交換
塔を有するが、純水装置の場合は陽イオン交換樹脂を充
填した陽イオン交換塔、および陰イオン交換樹脂を充填
した陰イオン交換塔を有する。The ion exchange apparatus of the present invention is used for a pure water apparatus, a softening apparatus and the like, and has an ion exchange column filled with a cation exchange resin or an anion exchange resin. The softening unit has a cation exchange column filled with a cation exchange resin, while the pure water unit has a cation exchange column filled with a cation exchange resin and an anion exchange column filled with an anion exchange resin Having.
【００１４】これらのイオン交換塔はフリーボード（逆
洗空間）を有するように陽または陰イオン交換樹脂が充
填される。フリーボードはイオン交換樹脂層の１／５〜
１／２０程度とするのが好ましい。このイオン交換塔は
従来から純水装置、軟化装置等に使用されているものと
同じ構造のもので、樹脂層に通液できるように原水の流
入側と流出側にストレーナを有する構造とする。すでに
イオン交換塔として使用されている既設のイオン交換塔
を本発明のイオン交換塔として使用することも可能であ
る。These ion exchange towers are filled with a cation or anion exchange resin so as to have a free board (backwash space). Free board is 1/5 of ion exchange resin layer
It is preferably set to about 1/20. This ion exchange tower has the same structure as that conventionally used in a pure water apparatus, a softening apparatus, and the like, and has a structure having strainers on an inflow side and an outflow side of raw water so as to be able to pass through a resin layer. An existing ion exchange column already used as an ion exchange column can be used as the ion exchange column of the present invention.
【００１５】本発明では上記のイオン交換塔に向流再生
を行えるように、上向流または下向流で被処理液を通液
してイオン交換を行い、イオン交換時の処理液流と逆方
向すなわち下向流または上向流で再生剤を通液して再生
を行うように、配管系が設けられる。すなわち上向流通
水でイオン交換を行う場合は、下向流再生を行い、下向
流通水でイオン交換を行う場合は上向流再生を行うよう
にイオン交換塔の上部および下部に配管を設ける。上向
流通水、上向流再生の場合とも、樹脂層の少なくとも一
部をイオン交換塔の上側に押しつけて固定床を形成する
ような流速で通水、通液を行うように構成される。In the present invention, in order to perform countercurrent regeneration in the above-mentioned ion exchange tower, the liquid to be treated is passed through the liquid to be treated in an upward flow or a downward flow to perform ion exchange, and the flow is reverse to the flow of the treatment liquid at the time of ion exchange. A piping system is provided so that the regeneration is performed by passing the regenerant in the direction, that is, the downward flow or the upward flow. That is, when performing ion exchange with upward flowing water, perform downward flow regeneration, and when performing ion exchange with downward flowing water, provide piping at the upper and lower parts of the ion exchange tower so as to perform upward flow regeneration. . In the case of upward flow water or upward flow regeneration, at least a portion of the resin layer is pressed against the upper side of the ion exchange tower to flow water and flow at such a flow rate as to form a fixed bed.
【００１６】本発明では上記のようなイオン交換塔から
イオン交換処理液を取出し、再生剤を注入する配管にポ
リッシングフィルタを取付ける。ポリッシングフィルタ
はイオン交換塔の処理液出口側配管に接続する接続部を
両側に有するケーシング内に、両側の接続部に対向する
ように設けられた二重のストレーナを設け、この二重の
ストレーナ間に、イオン交換樹脂を密に充填した構成と
される。In the present invention, an ion exchange treatment liquid is taken out of the ion exchange tower as described above, and a polishing filter is attached to a pipe into which a regenerant is injected. The polishing filter is provided with a double strainer provided so as to face the connection portion on both sides in a casing having connection portions on both sides connected to the processing liquid outlet side pipe of the ion exchange tower. And a densely packed ion exchange resin.
【００１７】イオン交換樹脂としてはイオン交換塔に充
填された樹脂と同種の樹脂を充填する。すなわちイオン
交換塔に充填した樹脂が陽イオン交換樹脂の場合は同じ
陽イオン交換樹脂を充填し、イオン交換塔に充填した樹
脂が陰イオン交換樹脂の場合は陰イオン交換樹脂とす
る。ポリッシングフィルタに充填するイオン交換樹脂量
はイオン交換塔に充填されたイオン交換樹脂量の１／１
０〜１／５０、好ましくは１／２０〜１／３０程度の容
量とする。As the ion exchange resin, a resin of the same type as the resin charged in the ion exchange tower is filled. That is, when the resin charged in the ion exchange tower is a cation exchange resin, the same cation exchange resin is charged, and when the resin charged in the ion exchange tower is an anion exchange resin, the resin is an anion exchange resin. The amount of ion exchange resin charged in the polishing filter is 1/1 of the amount of ion exchange resin charged in the ion exchange tower.
The capacity is set to about 0 to 1/50, preferably about 1/20 to 1/30.
【００１８】ストレーナとしては通液可能なものであれ
ばその構造は制限されないが、通液抵抗の小さい構造の
ものを使用する。樹脂は二重に設けられたストレーナ間
に、樹脂が収縮した状態において隙間が生成せず流動し
ない程度に密に充填する。樹脂の容量変化を吸収するた
めにスポンジ等の緩衝材を設けることもできる。この樹
脂層の通液方向およびポリッシングフィルタの設置方向
は任意である。樹脂層の通液方向の厚さは５〜３０ｃ
ｍ、好ましくは１０〜２０ｃｍ程度とするのが好まし
い。この樹脂層は通液速度がイオン交換塔における通液
速度の５〜５０倍、好ましくは１０〜２０倍となるよう
にストレーナの通液面積を決める。The structure of the strainer is not limited as long as it allows the liquid to pass therethrough, but a structure having a small resistance to liquid flow is used. The resin is densely filled between the double strainers such that no gap is generated and the resin does not flow when the resin is contracted. A buffer material such as a sponge may be provided to absorb a change in the capacity of the resin. The flowing direction of the resin layer and the installation direction of the polishing filter are arbitrary. The thickness of the resin layer in the flowing direction is 5 to 30 c.
m, preferably about 10 to 20 cm. In this resin layer, the liquid passing area of the strainer is determined so that the liquid passing speed is 5 to 50 times, preferably 10 to 20 times the liquid passing speed in the ion exchange tower.
【００１９】上記のポリッシングフィルタはイオン交換
塔の処理液出口側配管に挿入するように取付けてイオン
交換装置が形成される。このイオン交換装置はポリッシ
ングフィルタを通してイオン交換塔に再生剤（純水装置
の場合は酸またはアルカリ、軟化装置の場合は食塩）を
上向流または下向流で通液して再生を行い、逆方向に被
処理液を通液してイオン交換を行う。The above-mentioned polishing filter is mounted so as to be inserted into the treatment liquid outlet side pipe of the ion exchange tower to form an ion exchange apparatus. In this ion exchange apparatus, regeneration is performed by passing a regenerant (acid or alkali in the case of a pure water apparatus, or salt in the case of a softening apparatus) in an upward or downward flow through an ion exchange tower through a polishing filter. Ion exchange is performed by passing the liquid to be treated in the direction.
【００２０】この場合、全体のイオン交換樹脂量に対す
る再生剤の全量をポリッシングフィルタを通して通液す
るため、ポリッシングフィルタは完全再生される。その
後再生剤はイオン交換塔に処理液出口側から通液される
ので、処理液出口側の樹脂層が完全再生に近い状態に再
生され、反対側ほど不完全再生状態となる。In this case, since the entire amount of the regenerant relative to the total amount of the ion exchange resin is passed through the polishing filter, the polishing filter is completely regenerated. Thereafter, the regenerating agent is passed through the ion exchange tower from the treatment liquid outlet side, so that the resin layer on the treatment liquid outlet side is regenerated to a state close to complete regeneration, and the opposite side is in an incomplete regeneration state.
【００２１】再生後反対方向に通液してイオン交換を行
うとき、通液方向の切換えにより樹脂層の乱れがなけれ
ば、被処理液はその入口側から樹脂層を通過することに
よりイオン交換処理を受け、出口側では高純度の処理液
として流出する。しかし通液方向の反転により樹脂層が
移動する際、樹脂層が部分的に乱れるため、一部の不完
全再生樹脂が処理液の出口側の樹脂層に混入することが
ある。When ion exchange is performed by passing the liquid in the opposite direction after the regeneration, if the resin layer is not disturbed by switching the liquid flowing direction, the liquid to be treated passes through the resin layer from the inlet side thereof, thereby performing ion exchange treatment. On the outlet side, it flows out as a high-purity processing solution. However, when the resin layer moves due to the reversal of the flow direction, the resin layer is partially disturbed, so that some incompletely regenerated resin may be mixed into the resin layer on the outlet side of the processing liquid.
【００２２】この場合は出口側の不完全再生部分からイ
オンが漏出して処理液の純度が低下する。本発明ではこ
のように純度が低下した処理液はポリッシングフィルタ
を通過する際漏出したイオンが除去され、高純度のイオ
ン交換処理液が得られる。ポリッシングフィルタでは樹
脂層の乱れがないので、イオン漏出による純度の低下は
ない。またイオン交換塔における樹脂層の乱れは、フリ
ーボードを前記範囲にすることにより最少限にすること
ができ、このため少容量の樹脂層を有するポリッシング
フィルタを用いてイオン交換塔における漏出イオンを除
去することが可能となる。In this case, ions leak from the incompletely regenerated portion on the outlet side, and the purity of the processing solution decreases. In the present invention, the treatment liquid having such reduced purity is removed of ions leaked when passing through the polishing filter, and a high-purity ion exchange treatment liquid is obtained. Since the polishing filter does not disturb the resin layer, the purity does not decrease due to ion leakage. In addition, the disturbance of the resin layer in the ion exchange tower can be minimized by setting the free board in the above range. Therefore, a leakage filter in the ion exchange tower is removed by using a polishing filter having a small capacity resin layer. It is possible to do.
【００２３】このように本発明では、イオン交換塔の処
理液側にポリッシングフィルタを設置することにより、
塔内のイオン交換樹脂が展開して、塔出口の処理水純度
が低下しても、ポリッシングフィルタで純度を高くでき
るため、イオン交換塔内に樹脂を密に充填する必要がな
くなり、差圧の上昇を解消することができる。また、密
度充填しないため、樹脂の逆洗展開率を大きくできるた
め、イオン交換樹脂層に流入した濁質の逆洗による排出
が向上する。As described above, according to the present invention, by installing a polishing filter on the treatment liquid side of the ion exchange tower,
Even if the ion exchange resin in the tower expands and the purity of the treated water at the tower outlet decreases, the purity can be increased by the polishing filter.Therefore, there is no need to densely fill the ion exchange tower with the resin, and the differential pressure The rise can be eliminated. In addition, since the density is not filled, the backwashing development rate of the resin can be increased, and the discharge of the turbid matter flowing into the ion exchange resin layer by the backwashing is improved.
【００２４】ポリッシングフィルタに充填されるイオン
交換樹脂は、再生時にイオン交換塔内の樹脂を再生する
再生剤と最初に接触するため、純度の高い再生剤と接触
することになり、また塔内の樹脂量に比べてポリッシン
グフィルタ内のイオン交換樹脂量は少ないため再生レベ
ルが高くなり、このため処理水純度が向上する。再生後
の押出し水量も充填樹脂量に対して大量であるため、再
生剤の残留を心配する必要もない。The ion-exchange resin filled in the polishing filter first comes into contact with a regenerating agent for regenerating the resin in the ion-exchange tower at the time of regeneration, so that the ion-exchange resin comes into contact with a high-purity regenerating agent. Since the amount of the ion exchange resin in the polishing filter is smaller than the amount of the resin, the regeneration level is high, and the purity of the treated water is improved. Since the amount of extruded water after the regeneration is also large relative to the amount of the filled resin, there is no need to worry about the residual regenerant.
【００２５】本発明のポリッシングフィルタはイオン交
換塔の面前配管に取り付けられ、弁が不要のため、容易
に既設装置に取付けて使用することができる。弁は不要
であるが修理、点検等のために、簡単な遮断弁を設ける
ことは差支えない。The polishing filter of the present invention is attached to the piping in front of the ion exchange tower and does not require a valve, so that it can be easily attached to an existing device for use. No valve is required, but a simple shut-off valve may be provided for repair, inspection, etc.
【００２６】[0026]
【発明の効果】本発明のイオン交換装置は、フリーボー
ドを有するようにイオン交換樹脂を充填したイオン交換
塔の処理液出口側に、少量のイオン交換樹脂を密に充填
したポリッシングフィルタを設置したので、簡単な装置
と操作により、イオン交換樹脂を塔内に密に充填するこ
となく、これにより差圧を上昇させることなく、樹脂の
展開による洗浄が可能であり、かつ少ない再生剤量で高
純度のイオン交換処理液を得ることができる。According to the ion exchange apparatus of the present invention, a polishing filter densely filled with a small amount of ion exchange resin is installed at the treatment liquid outlet side of an ion exchange tower filled with ion exchange resin so as to have a free board. Therefore, with a simple apparatus and operation, it is possible to wash the resin by developing the resin without densely filling the ion-exchange resin in the column, thereby increasing the pressure difference, and by using a small amount of regenerant. It is possible to obtain a pure ion exchange solution.
【００２７】本発明のポリッシングフィルタは、ケーシ
ング内の二重のフィルタ間にイオン交換樹脂を密に充填
したので、イオン交換塔に簡単に取付けて上記のイオン
交換装置を形成することができ、既設のイオン交換装置
にも取付け可能なイオン交換装置用ポリッシングフィル
タが得られる。In the polishing filter of the present invention, since the ion exchange resin is densely filled between the double filters in the casing, the polishing filter can be easily attached to the ion exchange tower to form the above ion exchange apparatus. Thus, a polishing filter for an ion exchange device that can be attached to the ion exchange device is obtained.
【００２８】[0028]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
により説明する。図１は実施形態の純水装置の系統図、
図２はポリッシングフィルタの断面図である。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a system diagram of a pure water apparatus according to the embodiment,
FIG. 2 is a sectional view of the polishing filter.
【００２９】図１は下向流通水によりイオン交換を行
い、上向流再生を行うにようにされた向流再生型の純水
装置を示し、１ａは陽イオン交換塔、１ｂは陰イオン交
換塔で、それぞれ陽イオン交換樹脂および陰イオン交換
樹脂を充填して陽イオン交換樹脂層２ａ、陰イオン交換
樹脂層２ｂがフリーボード３ａ、３ｂを塔内に残すよう
に形成されている。フリーボード３ａ、３ｂは陽、陰イ
オン交換樹脂層２ａ、２ｂの１／５〜１／２０の容量と
されている。イオン交換塔１ａ、１ｂにはストレーナ４
ａ、４ｂを有する支持板５ａ、５ｂ、ならびにストレー
ナ６ａ、６ｂを有する支持板７ａ、７ｂが上部または下
部に設けられて樹脂層２ａ、２ｂが支持されている。FIG. 1 shows a countercurrent regeneration type pure water apparatus in which ion exchange is carried out by downward flowing water and upward flow regeneration is carried out. 1a is a cation exchange column, and 1b is an anion exchange column. The tower is filled with a cation exchange resin and an anion exchange resin, respectively, and a cation exchange resin layer 2a and an anion exchange resin layer 2b are formed so as to leave the free boards 3a and 3b in the tower. The free boards 3a, 3b have a capacity of 1/5 to 1/20 of the positive and anion exchange resin layers 2a, 2b. A strainer 4 is provided in the ion exchange towers 1a and 1b.
Support plates 5a and 5b having a and b, and support plates 7a and 7b having strainers 6a and 6b are provided at the upper or lower portions to support the resin layers 2a and 2b.
【００３０】イオン交換塔１ａ、１ｂの上部には被処理
液入口配管８ａ、８ｂが設けられていて、それぞれポン
プＰ1a、Ｐ1b、弁Ｖ1a、Ｖ1bを有する被処理液路９ａ、
９ｂ；ならびに弁Ｖ2a、Ｖ2bを有する洗浄排液路１０
ａ、１０ｂが接続している。イオン交換塔１ａ、１ｂの
下部にはポリッシングフィルタ１１ａ、１１ｂを有する
処理液出口配管１２ａ、１２ｂが設けられていて、弁Ｖ
3a、Ｖ3bを有する処理液路１３ａ、１３ｂ；ポンプ
Ｐ2a、Ｐ2b、弁Ｖ4a、Ｖ4bを有する洗浄水路１４ａ、１
４ｂ；ポンプＰ3a、Ｐ3b、弁Ｖ5a、Ｖ5bを有する薬注路
１５ａ、１５ｂ；ならびに弁Ｖ6a、Ｖ6bを有する排液路
１６ａ、１６ｂが接続している。処理液路１３ａと被処
理液路９ｂは脱炭酸塔１７を介して連絡している。Liquid inlet pipes 8a and 8b are provided above the ion exchange towers 1a and 1b, and the liquid passages 9a having pumps P 1a and P 1b and valves V 1a and V 1b , respectively.
9b; and a flush drain 10 having valves V 2a , V 2b
a and 10b are connected. Processing liquid outlet pipes 12a and 12b having polishing filters 11a and 11b are provided below the ion exchange towers 1a and 1b.
3a, the processing liquid path 13a having a V 3b, 13b; pump P 2a, P 2b, the valve V 4a, washed waterways 14a having a V 4b, 1
4b; and and valve V 6a, it drains 16a having a V 6b, 16b are connected; pump P 3a, P 3b, the valve V 5a, Kusurichuro 15a having a V 5b, 15b. The processing liquid path 13a and the processing target liquid path 9b are connected via a decarbonation tower 17.
【００３１】ポリッシングフィルタ１１ａ、１１ｂは図
２に示すように、処理液出口配管１２ａ、１２ｂに接続
される接続部２１、２２を両端部に有する円筒状のケー
シング２０内に、ケーシング２０と同心円の二重円筒状
に設けられたストレーナ２３、２４間に、イオン交換塔
１ａ、１ｂの樹脂と同種であって樹脂層２ａ、２ｂの１
／１０〜１／５０のイオン交換樹脂が密に充填された樹
脂層２５ａ、２５ｂが形成されている。上流側の接続部
２１に対向するように隔壁２６が設けられており、これ
により接続部２１、ストレーナ２３、樹脂層２５ａ、２
５ｂ、ストレーナ２４、接続部２２の順に流路が形成さ
れている。接続部２１、２２には処理液出口配管１２
ａ、１２ｂに接続するためのフランジ２７、２８が形成
されている。接続部２１に一体化した蓋２９は、ケーシ
ング２０のフランジ３０にボルト３１により固着されて
いる。隔壁２６はパッキン３２を介してねじ３３により
ストレーナ２３、２４に固着されている。As shown in FIG. 2, the polishing filters 11a and 11b are concentric with the casing 20 in a cylindrical casing 20 having connecting portions 21 and 22 connected to the processing liquid outlet pipes 12a and 12b at both ends. Between the strainers 23 and 24 provided in a double cylindrical shape, one of the resin layers 2a and 2b of the same type as the resin of the ion exchange towers 1a and 1b.
Resin layers 25a and 25b densely filled with an ion exchange resin of / 10 to 1/50 are formed. The partition wall 26 is provided so as to face the upstream connection portion 21, and thereby the connection portion 21, the strainer 23, the resin layer 25 a,
A flow path is formed in the order of 5b, the strainer 24, and the connecting portion 22. The processing liquid outlet pipe 12 is connected to the connection portions 21 and 22.
The flanges 27 and 28 for connecting to a and 12b are formed. The lid 29 integrated with the connection part 21 is fixed to the flange 30 of the casing 20 by a bolt 31. The partition 26 is fixed to the strainers 23 and 24 by screws 33 via a packing 32.
【００３２】上記のポリッシングフィルタ１１ａ、１１
ｂは、図１のイオン交換塔１ａ、１ｂの処理液出口配管
１２ａ、１２ｂに挿入するように取付けてイオン交換装
置を形成する。イオン交換塔１ａ、１ｂとしては既設の
ものであっても、新設のものであってもよい。この場
合、配管１２ａ、１２ｂに操作用の弁を設ける必要はな
いが、修理、点検のための遮断弁等を設けることは差支
えない。The above polishing filters 11a, 11
b is attached so as to be inserted into the processing solution outlet pipes 12a and 12b of the ion exchange towers 1a and 1b in FIG. 1 to form an ion exchange apparatus. The ion exchange towers 1a and 1b may be existing ones or may be new ones. In this case, it is not necessary to provide an operating valve in the pipes 12a and 12b, but it is possible to provide a shutoff valve for repair and inspection.
【００３３】上記のように構成されたイオン交換装置に
おいては、ポンプＰ1a、Ｐ1bを駆動（他は停止）し、弁
Ｖ1a、Ｖ3a、Ｖ1b、Ｖ3bを開（他は閉）としてイオン交
換を行う。このとき、被処理液路９ａから原水が陽イオ
ン交換塔１に供給され、下向流で樹脂層２ａを通過して
陽イオン交換され、原水中の陽イオンが除去される。樹
脂層２ａ下部の乱れにより純度が低下した処理液は、処
理液出口配管１２ａからポリッシングフィルタ１１ａに
入って樹脂層２５ａを通過することにより、陽イオン交
換を受け、残留する陽イオンが除去される。In the ion exchange apparatus configured as described above, the pumps P 1a and P 1b are driven (the others are stopped), and the valves V 1a , V 3a , V 1b and V 3b are opened (the others are closed). To perform ion exchange. At this time, raw water is supplied to the cation exchange tower 1 from the liquid passage 9a to be processed, passes through the resin layer 2a in a downward flow, and is cation-exchanged, and cations in the raw water are removed. The processing liquid whose purity has been reduced due to turbulence below the resin layer 2a enters the polishing filter 11a from the processing liquid outlet pipe 12a, passes through the resin layer 25a, undergoes cation exchange, and removes remaining cations. .
【００３４】処理液路１３ａの処理液は脱炭酸塔１７で
脱炭酸され、被処理液路９ｂから陰イオン交換塔１ｂに
入り、下向流で樹脂層２ｂを通過して陰イオン交換を受
け陰イオンが除去される。樹脂層２ｂの下部の乱れより
純度が低下した処理液は、処理液出口配管１２ｂからポ
リッシングフィルタ１１ｂに入って樹脂層２５ｂを通過
することにより陰イオン交換を受け、残留する陰イオン
が除去される。これにより最終処理液（純水）として処
理液路１３ｂから取出される。The processing liquid in the processing liquid path 13a is decarbonated in the decarbonation tower 17, enters the anion exchange tower 1b from the processing liquid path 9b, passes through the resin layer 2b in a downward flow, and undergoes anion exchange. Anions are removed. The processing liquid whose purity is lower than the turbulence at the lower portion of the resin layer 2b enters the polishing filter 11b from the processing liquid outlet pipe 12b and passes through the resin layer 25b to undergo anion exchange, thereby removing the remaining anions. . Thereby, it is taken out from the processing liquid path 13b as the final processing liquid (pure water).
【００３５】再生は流路を切換えて上向流で再生する。
まず逆洗として、ポンプＰ2a、Ｐ2bを起動（他は停止）
し、弁Ｖ4a、Ｖ4b、Ｖ2a、Ｖ2bを開（他は閉）として、
洗浄水路１４ａ、１４ｂからポリッシングフィルタ１１
ａ、１１ｂを介して洗浄水をイオン交換塔１ａ、１ｂに
導入し、上向流で流水して、樹脂層２ａ、２ｂを展開さ
せて洗浄し、洗浄排液路１０ａ、１０ｂから洗浄排液を
取出す。これにより樹脂層２ａ、２ｂに拒絶された濁質
を除去する。最終的に樹脂層２ａ、２ｂを上側の支持板
５ａ、５ｂに押付けた状態で洗浄を終る。The regeneration is performed in the upward flow by switching the flow path.
First, pumps P 2a and P 2b are started as backwash (others are stopped)
Then, the valves V 4a , V 4b , V 2a and V 2b are opened (the others are closed),
Polishing filter 11 from cleaning water passages 14a and 14b
The washing water is introduced into the ion-exchange towers 1a and 1b through the a and 11b, and is washed by spreading the resin layers 2a and 2b by flowing the water in an upward flow. Take out. Thereby, the suspended matter rejected by the resin layers 2a and 2b is removed. Finally, the cleaning is completed with the resin layers 2a, 2b pressed against the upper support plates 5a, 5b.
【００３６】その後、ポンプＰ3a、Ｐ3bを起動（他は停
止）し、弁Ｖ5a、Ｖ5b、Ｖ2a、Ｖ2bを開（他は閉）とし
て薬注路１５ａ、１５ｂからポリッシングフィルタ１１
ａ、１１ｂを介して再生剤（酸またはアルカリ）をイオ
ン交換塔１ａ、１ｂに導入して上向流で通液し、樹脂層
２ａ、２ｂを上に押付けた状態で再生を行う。下層の一
部の樹脂が流動化してもよい。このとき、再生剤量は樹
脂層２ａまたは２ｂと２５ａまたは２５ｂの全体量に対
する量をすべてポリッシングフィルタ１１ａ、１１ｂを
通過させるので、樹脂層２５ａ、２５ｂは完全再生され
る。そして樹脂２ａ、２ｂは下部から順次再生されて行
き、交換帯は次第に上に移動する。Thereafter, the pumps P 3a and P 3b are started (the others are stopped), the valves V 5a , V 5b , V 2a and V 2b are opened (the others are closed), and the polishing filters 11 from the chemical injection paths 15a and 15b are opened.
A regenerating agent (acid or alkali) is introduced into the ion exchange towers 1a and 1b via a and 11b, and flows therethrough in an upward flow to perform regeneration while the resin layers 2a and 2b are pressed upward. Some resin in the lower layer may be fluidized. At this time, since the amount of the regenerating agent relative to the total amount of the resin layers 2a or 2b and 25a or 25b passes through the polishing filters 11a and 11b, the resin layers 25a and 25b are completely regenerated. Then, the resins 2a and 2b are sequentially regenerated from the lower part, and the exchange zone gradually moves upward.
【００３７】所定量の再生剤の薬注を終った時点で同じ
経路で純水を注入して押出を行う。その後ポンプＰ2a、
Ｐ2bを起動（他は停止）弁Ｖ4a、Ｖ4b、Ｖ2a、Ｖ2bを開
として、純水を通水し上向流に洗浄を行う。一定時間上
向流で洗浄を行った後、ポンプＰ1a、Ｐ1bを起動（他は
停止）し、弁Ｖ1a、Ｖ1b、Ｖ6a、Ｖ6bを開（他は閉）と
して下向流で洗浄を行う。このとき樹脂層２ａ、２ｂは
下に移動するか、その際、樹脂層２ａ、２ｂに若干の乱
れが生じ、不完全再生部分の樹脂が樹脂層２ａ、２ｂの
下層の部分に混入することがあるが、樹脂層２５ａ、２
５ｂには影響はない。所定時間下向流洗浄を行った後、
弁Ｖ6a、Ｖ6bを閉、弁Ｖ3a、Ｖ3bを開として前記と同様
のイオン交換工程に移る。When the injection of a predetermined amount of regenerant has been completed, pure water is injected along the same route to perform extrusion. Then the pump P 2a ,
Start P 2b (other stop) valve V 4a, V 4b, V 2a , the V 2b is opened, pure water was passed through to wash the upflow. After washing in the upward flow for a certain time, the pumps P 1a and P 1b are started (others are stopped), and the valves V 1a , V 1b , V 6a and V 6b are opened (others are closed) and the downward flow is performed. Wash with. At this time, the resin layers 2a and 2b move downward, or at that time, the resin layers 2a and 2b are slightly disturbed, and the resin of the incompletely regenerated portion is mixed into the lower layer of the resin layers 2a and 2b. However, the resin layers 25a,
5b has no effect. After performing downflow cleaning for a predetermined time,
The valves V 6a and V 6b are closed, the valves V 3a and V 3b are opened, and the process proceeds to the same ion exchange process as described above.
【００３８】上記の各操作において、ポリッシングフィ
ルタ１１ａ、１１ｂは常に樹脂が密に充填されて流動し
ない状態を保つので、完全再生された状態でイオン交換
工程に移ることができる。このため樹脂層２ａ、２ｂの
乱れにより純度が低下した処理液を脱イオンして高純度
の処理液とすることができる。このとき樹脂層２ａ、２
ｂに生じる乱れは、フリーボード容量を前記範囲とする
ことにより最少限にすることができ、このため前記樹脂
量の樹脂層２５ａ、２５ｂにより処理液の純度を高い値
に回復することが可能となる。樹脂層２５ａ、２５ｂが
破砕等により容積減少したとき、あるいは性能低下した
ときは、ボルト３１を緩めて蓋２９を外し、さらにねじ
３３を緩めて隔壁２６およびパッキン３２を外して、樹
脂を補給し、あるいは交換する。また、ポリッシングフ
ィルタ１１ａ、１１ｂ自体を配管からはずして新品と交
換してもよい。In each of the above operations, the polishing filters 11a and 11b are constantly filled with the resin so as not to flow, so that it is possible to proceed to the ion exchange step in a completely regenerated state. For this reason, the processing liquid whose purity has decreased due to the disorder of the resin layers 2a and 2b can be deionized to obtain a high-purity processing liquid. At this time, the resin layers 2a, 2a
The disturbance occurring in b can be minimized by setting the free board capacity to the above range. Therefore, the purity of the processing solution can be restored to a high value by the resin layers 25a and 25b having the above resin amount. Become. When the resin layers 25a, 25b are reduced in volume due to crushing or the like, or when the performance is deteriorated, loosen the bolt 31 to remove the lid 29, further loosen the screw 33, remove the partition 26 and the packing 32, and supply the resin. Or exchange. Further, the polishing filters 11a and 11b themselves may be removed from the piping and replaced with new ones.
【００３９】上記実施形態は下向流通液でイオン交換を
行い上向流再生する例であるが、上向流通液にてイオン
交換を行い、下向流再生を行うイオン交換装置の場合
は、イオン交換塔１ａ、１ｂに連絡する流路、配管系を
上下逆にし、下部に被処理液入口配管８ａ、８ｂおよび
被処理液路９ａ、９ｂを連絡し、上部にポリッシングフ
ィルタ１１ａ、１１ｂを有する処理液出口配管１２ａ、
１２ｂ、処理液路１３ａ、１３ｂ、洗浄水路１４ａ、１
４ｂ、薬注路１５ａ、１５ｂを連絡するように構成す
る。この点の構成、操作は従来と同様である。樹脂層２
ａ、２ｂの展開洗浄（逆洗）のためには下部にも洗浄水
路を連絡するのが好ましい。The above embodiment is an example in which ion exchange is performed with a downward flowing liquid to perform upward flow regeneration. In the case of an ion exchange apparatus that performs ion exchange with an upward flowing liquid and performs downward flow regeneration, The flow path and piping system communicating with the ion exchange towers 1a and 1b are turned upside down, and the liquid inlet pipes 8a and 8b and the liquid paths 9a and 9b are connected to the lower part, and the polishing filters 11a and 11b are provided at the upper part. Treatment liquid outlet pipe 12a,
12b, treatment liquid paths 13a, 13b, cleaning water paths 14a, 1
4b, the medicine injection paths 15a and 15b are connected to each other. The configuration and operation in this respect are the same as those in the related art. Resin layer 2
It is preferable to connect a washing channel to the lower portion for developing and washing (backwashing) a and 2b.
【００４０】このようなイオン交換装置では、ポリッシ
ングフィルタ１１ａ、１１ｂを通してイオン交換塔１
ａ、１ｂに再生剤を供給し、下向流で通液して再生する
ことにより、樹脂層２５ａ、２５ｂは完全再生され、樹
脂層２ａ、２ｂは上部から順次再生される。再生後上向
流に切換えて樹脂層を押上げ、上向流でイオン交換を行
う。樹脂層を押上げる際樹脂層２ａ、２ｂに若干の乱れ
が生じるが、この乱れによる純度の低下は、処理液をポ
リッシングフィルタ１１ａ、１１ｂを通過させることに
より純度が回復するのは前記の場合と同様である。In such an ion exchange apparatus, the ion exchange tower 1 is passed through the polishing filters 11a and 11b.
By supplying a regenerating agent to a and 1b and passing the solution in a downward flow to regenerate, the resin layers 25a and 25b are completely regenerated and the resin layers 2a and 2b are sequentially regenerated from the top. After regeneration, the resin layer is pushed up by switching to the upward flow, and ion exchange is performed in the upward flow. When the resin layer is pushed up, a slight disturbance occurs in the resin layers 2a and 2b. The decrease in purity due to the disturbance is caused by the fact that the purity is recovered by passing the treatment liquid through the polishing filters 11a and 11b as in the case described above. The same is true.
【００４１】上記のイオン交換装置では、イオン交換塔
１ａ、１ｂの処理液側にポリッシングフィルタ１１ａ、
１１ｂを設置することにより、塔内のイオン交換樹脂層
２ａ、２ｂが展開して、塔出口の処理水純度が低下して
も、ポリッシングフィルタ１１ａ、１１ｂで純度を高く
できるため、イオン交換塔１ａ、１ｂ内に樹脂を密に充
填する必要がなくなり、差圧の上昇を解消することがで
きる。また、密に充填しないため、樹脂の逆洗展開率を
大きくでき、イオン交換樹脂層２ａ、２ｂに流入した濁
質の逆洗による排出が向上する。In the above-described ion exchange apparatus, the polishing filters 11a, 11b are provided on the processing liquid side of the ion exchange towers 1a, 1b.
When the ion exchange resin layers 2a and 2b in the tower are developed by installing the 11b and the purity of the treated water at the tower outlet is reduced, the purity can be increased by the polishing filters 11a and 11b. , 1b does not need to be densely filled with resin, and an increase in differential pressure can be eliminated. In addition, since the resin is not densely packed, the rate of developing the backwash of the resin can be increased, and the discharge of the suspended matter flowing into the ion-exchange resin layers 2a and 2b by the backwash is improved.
【００４２】ポリッシングフィルタ１１ａ、１１ｂに充
填されるイオン交換樹脂層２５ａ、２５ｂは、再生時に
イオン交換塔１ａ、１ｂ内の樹脂層２ａ、２ｂを再生す
る再生剤と最初に接触するため、純度の良い再生剤と接
触することになり、またイオン交換塔１ａ、１ｂ内の樹
脂量に比べてポリッシングフィルタ１１ａ、１１ｂ内の
イオン交換樹脂量は少ないため再生レベルが高くなり、
このため処理水純度が向上する。再生後の押出し水量も
充填樹脂量に対して大量であるため、再生剤の残留を心
配する必要もない。The ion-exchange resin layers 25a and 25b filled in the polishing filters 11a and 11b first come in contact with a regenerating agent for regenerating the resin layers 2a and 2b in the ion-exchange towers 1a and 1b at the time of regeneration. It comes into contact with a good regenerating agent, and the amount of ion exchange resin in the polishing filters 11a and 11b is smaller than the amount of resin in the ion exchange towers 1a and 1b.
For this reason, the purity of the treated water is improved. Since the amount of extruded water after the regeneration is also large relative to the amount of the filled resin, there is no need to worry about the residual regenerant.
【００４３】また上記のポリッシングフィルタ１１ａ、
１１ｂはイオン交換塔１ａ、１ｂの面前配管に取り付け
られ、弁が不要のため、容易に既設装置に取付けて使用
することができる。弁は不要であるが修理、点検等のた
めに、簡単な遮断弁を設けることは差支えない。The above polishing filters 11a,
11b is attached to the piping in front of the ion exchange towers 1a and 1b and does not require a valve, so that it can be easily attached to existing equipment for use. No valve is required, but a simple shut-off valve may be provided for repair, inspection, etc.
【００４４】このように上記のイオン交換装置は、フリ
ーボード３ａ、３ｂを有するようにイオン交換樹脂層２
ａ、２ｂを形成したイオン交換塔１ａ、１ｂの処理液出
口側に、少量のイオン交換樹脂層２５ａ、２５ｂを密に
充填したポリッシングフィルタ１１ａ、１１ｂを設置し
たので、簡単な装置と操作により、イオン交換樹脂をイ
オン交換塔１ａ、１ｂ内に密に充填することなく、これ
により差圧を上昇させることなく、樹脂の展開による洗
浄が可能であり、かつ少ない再生剤量で高純度のイオン
交換処理液を得ることができる。As described above, the ion-exchange apparatus has the ion-exchange resin layer 2 having the free boards 3a and 3b.
The polishing filters 11a and 11b densely filled with a small amount of the ion-exchange resin layers 25a and 25b are installed on the processing solution outlet side of the ion-exchange towers 1a and 1b in which the a and 2b are formed. The ion-exchange resin is not densely packed in the ion-exchange towers 1a and 1b, whereby it is possible to wash the resin by developing the resin without increasing the pressure difference, and to perform high-purity ion exchange with a small amount of regenerant. A treatment liquid can be obtained.
【００４５】[0045]
【実施例】以下実施例および比較例について説明する。 実施例１、比較例１ 図１のイオン交換装置において、表１の条件でイオン交
換を行った。EXAMPLES Examples and comparative examples will be described below. Example 1, Comparative Example 1 In the ion exchange apparatus of FIG. 1, ion exchange was performed under the conditions shown in Table 1.
【００４６】[0046]
【表１】 [Table 1]
【００４７】比較例１としてポリッシングフィルタ１１
ａ、１１ｂを取付けない場合は、Ｎａリーク量０．５ｍ
ｇ／ｌ、電気伝導率０．５ｍＳ／ｍであったが、ポリッ
シングフィルタ１１ａ、１１ｂを取付けた実施例１では
Ｎａリーク量０．０５ｍｇ／ｌ、電気伝導率０．０５ｍ
Ｓ／ｍとなった。As Comparative Example 1, the polishing filter 11
When a and 11b are not installed, the amount of Na leak is 0.5 m
g / l and the electric conductivity was 0.5 mS / m, but in Example 1 in which the polishing filters 11a and 11b were attached, the amount of Na leak was 0.05 mg / l and the electric conductivity was 0.05 mS / m.
S / m.
【図１】実施形態のイオン交換装置の系統図である。FIG. 1 is a system diagram of an ion exchange device of an embodiment.
【図２】実施形態のポリッシングフィルタの断面図であ
る。FIG. 2 is a cross-sectional view of the polishing filter of the embodiment.
１ａ 陽イオン交換塔 １ｂ 陰イオン交換塔 ２ａ 陽イオン交換樹脂層 ２ｂ 陰イオン交換樹脂層 ３ａ、３ｂ フリーボード ４ａ、４ｂ、６ａ、６ｂ、２３、２４ ストレーナ ５ａ、５ｂ、７ａ、７ｂ 支持板 ８ａ、８ｂ 被処理液入口配管 ９ａ、９ｂ 被処理液路 １０ａ、１０ｂ 洗浄排液路 １１ａ、１１ｂ ポリッシングフィルタ １２ａ、１２ｂ 処理液出口配管 １３ａ、１３ｂ 処理液路 １４ａ、１４ｂ 洗浄水路 １５ａ、１５ｂ 薬注路 １６ａ、１６ｂ 排液路 １７ 脱炭酸塔 ２０ ケーシング ２１、２２ 接続部 ２５ａ、２５ｂ 樹脂層 ２６ 隔壁 ２７、２８ フランジ 1a Cation exchange tower 1b Anion exchange tower 2a Cation exchange resin layer 2b Anion exchange resin layer 3a, 3b Free board 4a, 4b, 6a, 6b, 23, 24 Strainer 5a, 5b, 7a, 7b Support plate 8a, 8b Treatment liquid inlet pipe 9a, 9b Treatment liquid path 10a, 10b Cleaning drainage path 11a, 11b Polishing filter 12a, 12b Processing liquid outlet pipe 13a, 13b Processing liquid path 14a, 14b Cleaning water path 15a, 15b Chemical injection path 16a , 16b Drainage path 17 Decarbonation tower 20 Casing 21, 22 Connection 25a, 25b Resin layer 26 Partition 27, 28 Flange
Claims (2)
換樹脂または陰イオン交換樹脂を充填したイオン交換塔
と、 このイオン交換塔に上向流または下向流で通液してイオ
ン交換を行い、これと逆方向に再生剤を通液して再生を
行うように設けられた配管系と、 イオン交換塔に充填された樹脂と同種の少量の樹脂を二
重のストレーナ間に密に充填し、かつ処理液出口側口の
配管に取付けられるポリッシングフィルタとを有するイ
オン交換装置。1. An ion exchange tower filled with a cation exchange resin or an anion exchange resin so as to have a free board, and an ion exchange is performed by flowing the ion exchange tower in an upward flow or a downward flow. A pipe system provided to perform regeneration by passing the regenerant in the opposite direction, and a small amount of resin of the same type as the resin charged in the ion exchange tower is densely filled between the double strainers, An ion exchange device having a polishing filter attached to a pipe at a processing liquid outlet side port.
換樹脂または陰イオン交換樹脂を充填したイオン交換塔
と、 このイオン交換塔に上向流または下向流で通液してイオ
ン交換を行い、これと逆方向に再生剤を通液して再生を
行うように設けられた配管系とを有するイオン交換装置
に取付けられるポリッシングフィルタであって、 イオン交換塔の処理液出口側配管への接続部を有するケ
ーシングと、このケーシング内に設けられた二重のスト
レーナ間に密に充填されたイオン交換樹脂層とを有する
イオン交換装置用ポリッシングフィルタ。2. An ion exchange tower filled with a cation exchange resin or an anion exchange resin having a free board, and an ion exchange is performed by flowing the ion exchange tower in an upward flow or a downward flow. A polishing filter attached to an ion exchange apparatus having a pipe system provided to perform regeneration by passing a regenerant in the opposite direction, comprising a connection part to a processing liquid outlet side pipe of an ion exchange tower. A polishing filter for an ion exchange device, comprising: a casing having: a casing; and an ion exchange resin layer densely filled between double strainers provided in the casing.
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP19143297A JP3963032B2 (en) | 1997-07-16 | 1997-07-16 | Ion exchange device and polishing filter |
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| JPH1133545A true JPH1133545A (en) | 1999-02-09 |
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009279561A (en) * | 2008-05-26 | 2009-12-03 | Kurita Water Ind Ltd | Treatment method and treatment apparatus for water soluble resin component-containing alkaline waste liquid |
-
1997
- 1997-07-16 JP JP19143297A patent/JP3963032B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009279561A (en) * | 2008-05-26 | 2009-12-03 | Kurita Water Ind Ltd | Treatment method and treatment apparatus for water soluble resin component-containing alkaline waste liquid |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
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| JP3963032B2 (en) | 2007-08-22 |
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