JPH11330110A - Method for supplying solder and semiconductor assembling device - Google Patents

Method for supplying solder and semiconductor assembling device

Info

Publication number
JPH11330110A
JPH11330110A JP15371198A JP15371198A JPH11330110A JP H11330110 A JPH11330110 A JP H11330110A JP 15371198 A JP15371198 A JP 15371198A JP 15371198 A JP15371198 A JP 15371198A JP H11330110 A JPH11330110 A JP H11330110A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
solder
mounting
powdery
semiconductor
supplying
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP15371198A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP3119238B2 (en
Inventor
Toshinobu Kokatsu
俊亘 小勝
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP15371198A priority Critical patent/JP3119238B2/en
Publication of JPH11330110A publication Critical patent/JPH11330110A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3119238B2 publication Critical patent/JP3119238B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/74Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies
    • H01L24/741Apparatus for manufacturing means for bonding, e.g. connectors
    • H01L24/743Apparatus for manufacturing layer connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/74Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and for methods related thereto
    • H01L2224/741Apparatus for manufacturing means for bonding, e.g. connectors
    • H01L2224/743Apparatus for manufacturing layer connectors

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
  • Die Bonding (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a solder supplying method, capable of stably supplying solder and having high solder supplying efficiency and a semiconductor assembling device. SOLUTION: When each loading part 6 such as a semiconductor chip is supplied, and a ceramic part to a loading object 3 such as a package and fixing it through soldering, powder solder 2-a is supplied directly to the surface of the object 3 and heated. In this case, the powdery solder 2-a is supplied by injecting or spraying it to the surface of the object 3, by using an injection nozzle 1 for sucking the powdery solder to be supplied by the injection of high pressure gas such as compressed air.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半田供給方法及び
半導体組立装置に関し、特に半導体チップやセラミック
部品等の搭載部品を、パッケージ等の搭載対象上に供給
した半田で固定する際に利用する技術に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a solder supply method and a semiconductor assembling apparatus, and more particularly to a technique used when a mounted component such as a semiconductor chip or a ceramic component is fixed by solder supplied onto a mounting target such as a package. About.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体チップやセラミック部品をパッケ
ージ上に実装する場合、従来の技術では、AuSn等の
半田片を半田リールより切り出してパッケージ上に供給
し、その上にチップ等の部品を位置決めした後に搭載
し、窒素雰囲気中にて加熱加圧して接合を行っている。
2. Description of the Related Art When a semiconductor chip or a ceramic component is mounted on a package, in the conventional technique, a solder piece such as AuSn is cut out from a solder reel and supplied to a package, and a component such as a chip is positioned thereon. It is mounted later and joined by heating and pressing in a nitrogen atmosphere.

【0003】図3は、従来の半導体組立装置を示す。こ
の装置は、半田片供給機構14によって半田リール19
の帯状半田をカッター18にて所定長さに切り出し、半
田供給ヘッド15の先端の半田吸着ノズル16が移動機
構12によって半田片供給機構14上部へ移動している
状態で下降し、半田片17を吸着して搭載ステージ4上
のセラミックパッケージ3へ移動機構12によって移送
して供給を行う。
FIG. 3 shows a conventional semiconductor assembly apparatus. This apparatus uses a solder piece supply mechanism 14 to control a solder reel 19.
Is cut out to a predetermined length by a cutter 18, and the solder suction nozzle 16 at the tip of the solder supply head 15 is moved down by the moving mechanism 12 to the upper portion of the solder piece supply mechanism 14, and the solder piece 17 is removed. It is sucked and transferred to the ceramic package 3 on the mounting stage 4 by the moving mechanism 12 and supplied.

【0004】位置決めステージ9上の部品6を搭載ヘッ
ド5によって搭載ステージ4へ供給し、半田の融点以上
に加熱を行って半田を溶解しながら、部品6をセラミッ
クパッケージ3に対して平行なまま加圧して半田層を同
一の厚さにのばして接合を行う。
[0004] The component 6 on the positioning stage 9 is supplied to the mounting stage 4 by the mounting head 5, and is heated above the melting point of the solder to melt the solder, while the component 6 is applied in parallel with the ceramic package 3. Pressure is applied to spread the solder layer to the same thickness for joining.

【0005】このとき、窒素雰囲気形成機構13により
窒素雰囲気が形成されているため、溶解した半田は酸化
皮膜を形成することなく接合を行うことができる。
At this time, since the nitrogen atmosphere is formed by the nitrogen atmosphere forming mechanism 13, the melted solder can be joined without forming an oxide film.

【0006】半田片17が十分に溶解して広がった後、
セラミックパッケージ3全体を冷却して半田の融点以下
まで温度を下げて半田が凝固した後、搭載ヘッド5を上
昇させ接合が完了する。
After the solder pieces 17 have sufficiently melted and spread,
After cooling the entire ceramic package 3 and lowering the temperature to below the melting point of the solder to solidify the solder, the mounting head 5 is raised to complete the joining.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】こうした従来の半導体
組立装置では、チップ等の部品6の大きさが微小化する
と、それにあわせて供給する半田量も少なくする必要が
あるが、微小な半田片17を安定して供給することが難
しく供給過剰になりやすいという問題がある。
In such a conventional semiconductor assembling apparatus, when the size of the component 6 such as a chip is reduced, the amount of solder to be supplied must be reduced accordingly. There is a problem that it is difficult to stably supply, and the supply tends to be excessive.

【0008】また、微小な半田片を切断する工程、搬送
する工程を必要とするため、それらの工程において機械
的なミスが生じることがある上に、切断工程及び搬送工
程にも時間がかかり、能率的でないといった問題があ
る。
Further, since a step of cutting and conveying a minute solder piece is required, a mechanical error may occur in those steps, and the cutting step and the conveying step take time. There is a problem that it is not efficient.

【0009】よって、本発明は、安定した半田の供給を
行え、かつ、半田供給能率も良い半田供給方法及び半導
体組立装置を提供することを課題とする。
Accordingly, an object of the present invention is to provide a solder supply method and a semiconductor assembling apparatus which can supply solder stably and have good solder supply efficiency.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】前記課題を解決するた
め、本発明では、半導体チップやセラミック部品等の搭
載部品を、パッケージ等の搭載対象上に供給した半田で
固定する際に、搭載対象上に粉末状半田を直接供給して
加熱する方法とした。その場合、供給すべき前記粉末状
半田を圧縮空気等の高圧気体の噴射によって吸引し、噴
射ノズルを用いて前記搭載対象上に噴射又は散布するこ
とにより供給することもできる。また、搭載対象を、予
め粉末状半田の融点付近まで加熱して置くこともでき
る。また、粉末状半田を供給する前に、必要な供給量を
計量してから供給することもできる。さらに、粉末状半
田の供給後に、その粉末状半田に超音波を印加すること
もできる。一方、本発明の半導体組立装置は、半導体チ
ップやセラミック部品等の搭載部品を供給する搭載ヘッ
ドと、パッケージ等の搭載対象上に粉末状半田を供給す
る噴射ノズルを有する半田噴射ヘッドと、搭載対象を加
熱する手段とを備えたことを特徴とする。ここで、半田
噴射ヘッドは、供給すべき粉末状半田を圧縮空気等の高
圧気体の噴射によって吸引する噴射ノズルを用いて搭載
対象上に噴射又は散布する機能を有する構成とすること
もできる。また、加熱手段は、搭載対象を、予め粉末状
半田の融点付近まで加熱する機能を有するのが好適であ
る。また、半田噴射ヘッドは、粉末状半田を供給する前
に、必要な供給量を計量してから供給するための計量供
給手段を有する構成とすることもできる。搭載ヘッド
は、搭載部品を搭載対象に対して平行な状態を維持した
まま接合を行う機能を有する構成とするのが好ましい。
さらに、搭載ヘッドは、搭載部品を搭載対象に対して加
圧したまま接合を行う機能を有する構成とするのがさら
に好ましい。また、搭載対象に対する搭載部品の接合時
に、半田の酸化を防止するための窒素雰囲気形成機構を
有する構成とするのが好ましい。
In order to solve the above-mentioned problems, according to the present invention, when a mounting component such as a semiconductor chip or a ceramic component is fixed by solder supplied onto the mounting target such as a package, the mounting target is fixed. In this method, powdery solder was directly supplied to the substrate and heated. In this case, the powdery solder to be supplied may be suctioned by jetting a high-pressure gas such as compressed air or the like, and then supplied or sprayed onto the mounting target by using a jet nozzle. Also, the mounting target can be heated and placed in advance near the melting point of the powdery solder. Further, before supplying the powdery solder, a necessary supply amount can be measured and then supplied. Further, after supplying the powdery solder, an ultrasonic wave can be applied to the powdery solder. On the other hand, a semiconductor assembling apparatus of the present invention includes a mounting head for supplying a mounting component such as a semiconductor chip and a ceramic component, a solder injection head having an injection nozzle for supplying powdery solder onto a mounting target such as a package, And means for heating. Here, the solder ejection head may be configured to have a function of ejecting or dispersing the powdery solder to be supplied onto a mounting target by using an ejection nozzle that sucks the powdered solder by injection of a high-pressure gas such as compressed air. Further, it is preferable that the heating means has a function of preliminarily heating the mounting target to around the melting point of the powdery solder. Further, the solder ejecting head may be configured to have a metering / supplying unit for measuring and supplying a required supply amount before supplying the powdery solder. It is preferable that the mounting head has a function of joining the mounted components while keeping the mounted components parallel to the mounting target.
Further, it is more preferable that the mounting head has a function of performing the bonding while the mounting component is pressed against the mounting target. In addition, it is preferable to adopt a configuration having a nitrogen atmosphere forming mechanism for preventing the oxidation of the solder when the mounting component is joined to the mounting target.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して説明する。図1は半導体組立装置の要
部の拡大図で(a)は粉末状の半田を供給している状態
を示す一部断面正面図、(b)は部品供給状態を示す正
面図、図2は半導体組立装置の全体構成を示す外観図で
ある。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is an enlarged view of a main part of a semiconductor assembling apparatus, in which (a) is a partial cross-sectional front view showing a state in which powdery solder is supplied, (b) is a front view showing a component supply state, and FIG. FIG. 1 is an external view showing an overall configuration of a semiconductor assembling apparatus.

【0012】(実施の形態1)本実施の形態に係る半導
体組立装置は、セラミックパッケージ上に光半導体素子
を実装したSi基板等と同じく、光半導体素子を実装し
たセラミック部品を実装するための装置である。
(Embodiment 1) A semiconductor assembling apparatus according to the present embodiment is an apparatus for mounting a ceramic component on which an optical semiconductor element is mounted, like a Si substrate or the like on which an optical semiconductor element is mounted on a ceramic package. It is.

【0013】即ち、この装置は、上下の移動機構を有し
半田微粉末2−aを一定量噴射することができる半田噴
射ヘッド10と、半田微粉末を噴射する噴射ノズル1
と、セラミックパッケージ3を加熱するためのヒータ1
1と、適正な搭載位置へ移動することができるXYθ位
置補正機構8と、ヒータ11及びXYθ位置補正機構8
を有する搭載ステージ4と、上下に移動する機構を有
し、半導体素子・セラミック部品6等を位置決めステー
ジ9から搭載ステージ4へ供給する搭載ヘッド5と、搭
載ヘッド5及び半田噴射ヘッド10をX方向に移動させ
ることができる移動機構12とを備える構成である。
That is, this apparatus has a vertical movement mechanism and is capable of injecting a fixed amount of the solder fine powder 2-a, and an injection nozzle 1 for injecting the solder fine powder.
And a heater 1 for heating the ceramic package 3
1, an XYθ position correcting mechanism 8 capable of moving to an appropriate mounting position, a heater 11 and an XYθ position correcting mechanism 8
And a mounting head 5 that has a mechanism for moving up and down and supplies semiconductor elements and ceramic components 6 and the like from the positioning stage 9 to the mounting stage 4, and mounts the mounting head 5 and the solder ejection head 10 in the X direction. And a moving mechanism 12 that can move the moving mechanism 12.

【0014】さらに、フラックス等を用いないで接合す
るために、AuSn半田粉末を用い、搭載ステージ4周
辺に搭載時のみ酸素濃度が100ppm以下となる窒素
雰囲気を形成するための窒素雰囲気形成機構13を有す
る。
Further, in order to perform bonding without using a flux or the like, a nitrogen atmosphere forming mechanism 13 for forming a nitrogen atmosphere having an oxygen concentration of 100 ppm or less around the mounting stage 4 using AuSn solder powder only during mounting is provided. Have.

【0015】噴射ノズル1は、図5のように、圧縮空気
供給口23より圧縮空気を送り込み、空気噴射ノズル2
1より圧縮空気を噴射すると、空気噴射ノズル21周辺
部の圧力降下により半田供給口22より半田微粉末を吸
い込む構造になっている。7は、位置計測用のCCDカ
メラを示している。
The injection nozzle 1 feeds compressed air from a compressed air supply port 23 as shown in FIG.
When the compressed air is injected from No. 1, the fine powder is sucked from the solder supply port 22 by the pressure drop around the air injection nozzle 21. Reference numeral 7 denotes a CCD camera for position measurement.

【0016】次に、本実施の形態に係る半導体組立装置
の動作について説明する。まず、図2中の搭載ステージ
4上にセラミックパッケージ3を、位置決めステージ9
上に半導体素子、セラミック部品等の搭載部品(以下搭
載部品と称する)6をセットする。
Next, the operation of the semiconductor assembling apparatus according to the present embodiment will be described. First, the ceramic package 3 is placed on the mounting stage 4 in FIG.
A mounting component (hereinafter, referred to as mounting component) 6 such as a semiconductor element and a ceramic component is set thereon.

【0017】搭載部品6、セラミックパッケージ3の位
置をそれぞれCCDカメラ7にて認識して位置を計測
し、XYθ位置補正機構8にて位置補正を行う。
The positions of the mounted component 6 and the ceramic package 3 are recognized by the CCD camera 7 to measure the positions, and the XYθ position correcting mechanism 8 corrects the positions.

【0018】移動機構12によって半田噴射ヘッド10
をセラミックパッケージ3上の位置へ移動させ、半田噴
射ヘッド10と共に噴射ノズル1を下降させる。
The solder ejection head 10 is moved by the moving mechanism 12.
Is moved to a position on the ceramic package 3 and the ejection nozzle 1 is lowered together with the solder ejection head 10.

【0019】ここで、噴射ノズル1は、圧縮空気供給口
23より圧縮空気を送り込み、空気噴射ノズル21より
圧縮空気を噴射すると、空気噴射ノズル21周辺部の圧
力降下により半田供給口22より半田微粉末を吸い込む
構造になっているので、圧縮空気の供給時間によって、
噴射ノズル1からの半田微粉末の供給量を変化させるこ
とができる。よって、この噴射ノズル1から一定量の半
田微粉末2−aを噴射する。
Here, the injection nozzle 1 sends compressed air from the compressed air supply port 23 and injects compressed air from the air injection nozzle 21. Because it has a structure that sucks powder, depending on the supply time of compressed air,
The supply amount of the solder fine powder from the injection nozzle 1 can be changed. Therefore, a fixed amount of the solder fine powder 2-a is injected from the injection nozzle 1.

【0020】セラミックパッケージ3は、搭載ステージ
4に内蔵されたヒータ11により半田の融点付近(融点
−10〜20℃程度)まで加熱されているため、半田微
粉末を噴射しPKG(パッケージ)に接触したときに半
田微粉末が軟化して2−bのようにPKG表面になじむ
ため、半田微粉末の飛散を防止することができる。
Since the ceramic package 3 is heated to the vicinity of the melting point of the solder (the melting point is about -10 to 20 ° C.) by the heater 11 built in the mounting stage 4, the ceramic package 3 is sprayed with the solder fine powder to come into contact with the PKG (package). Then, the solder fine powder is softened and conforms to the PKG surface like 2-b, so that scattering of the solder fine powder can be prevented.

【0021】搭載ヘッド5にて位置決めステージ9から
搭載部品6を吸着して、半田微粉末2−b上にその搭載
部品6をセラミックパッケージ3に対して平行になるよ
うに下降させて搭載する。このとき、搭載部品6、及び
セラミックパッケージ3の周辺は窒素雰囲気形成機構1
3によって窒素雰囲気に形成されている。
The mounting component 6 is sucked from the positioning stage 9 by the mounting head 5, and the mounting component 6 is lowered and mounted on the solder fine powder 2-b so as to be parallel to the ceramic package 3. At this time, the components 6 and the periphery of the ceramic package 3 are surrounded by the nitrogen atmosphere forming mechanism 1.
3 form a nitrogen atmosphere.

【0022】半田の融点以上に加熱を行って半田を溶解
しながら、搭載部品6をセラミックパッケージ3に対し
て平行なまま加圧して半田層を同一の厚さにのばして接
合を行う。このとき、窒素雰囲気が形成されているた
め、溶解した半田は酸化皮膜を形成することなく接合を
行うことができる。
While the solder is melted by heating to a temperature equal to or higher than the melting point of the solder, the mounting component 6 is pressed in parallel with the ceramic package 3 to extend the solder layer to the same thickness and to perform bonding. At this time, since the nitrogen atmosphere is formed, the melted solder can be joined without forming an oxide film.

【0023】半田が十分に溶解して広がった後、セラミ
ックパッケージ3全体を冷却して半田の融点以下まで温
度を下げて半田が凝固した後、搭載ヘッド5を上昇させ
ることで接合が完了する。
After the solder is sufficiently melted and spread, the entire ceramic package 3 is cooled, the temperature is lowered to the melting point of the solder or lower, and the solder is solidified. Then, the mounting head 5 is raised to complete the joining.

【0024】本実施の形態によれば、噴射ノズル1から
噴射される半田微粉末2−aの量で半田の供給量を制御
できるため、安定した半田供給を行うことができる。そ
して、このように半田微粉末で供給するので、微小な半
田片を切断する工程や、搬送する工程が不要になり、従
来のように切断時・搬送時に生じていた機械的なミスを
根本的になくすことが可能になる、さらに、半田微粉末
を直接供給するので、切断、搬送にかかっていた供給時
間を短縮して供給能率を格段に向上させることが可能に
なる。
According to the present embodiment, the supply amount of the solder can be controlled by the amount of the solder fine powder 2-a injected from the injection nozzle 1, so that a stable supply of the solder can be performed. And since the solder powder is supplied in this way, the step of cutting and transporting minute solder pieces is not required, and the mechanical mistakes that occurred during cutting and transport as in the past are fundamentally eliminated. Furthermore, since the solder fine powder is directly supplied, the supply time required for cutting and transporting can be reduced, and the supply efficiency can be significantly improved.

【0025】(実施の形態2)先の実施の形態1におい
て、半田による接合方法が熱圧着ではなく、図4のよう
に搭載部品6を吸着する搭載ヘッド部分を角錐型のコレ
ットにして、超音波印加による接合方法とすることも有
効である。
(Embodiment 2) In Embodiment 1 described above, the bonding method using solder is not thermocompression bonding, but the mounting head portion for sucking the mounting component 6 is made into a pyramid-shaped collet as shown in FIG. It is also effective to use a bonding method by applying sound waves.

【0026】即ち、本実施の形態では、図2における搭
載ヘッド5を、角錐コレット20と超音波を発生する超
音波ユニットに代えた構成としたものである。その他の
構成については、図2で示した半導体組立装置の構成と
基本的に同様であるので、同一符号を付してその説明を
省略する。
That is, in this embodiment, the mounting head 5 in FIG. 2 is replaced with a pyramid collet 20 and an ultrasonic unit for generating ultrasonic waves. The other configuration is basically the same as the configuration of the semiconductor assembling apparatus shown in FIG. 2, and thus the same reference numerals are given and the description is omitted.

【0027】本実施の形態の動作について説明する。ま
ず、図4中の搭載ステージ4上にセラミックパッケージ
3を、位置決めステージ9上に半導体素子、セラミック
部品等の搭載部品6をセットする。搭載部品6、セラミ
ックパッケージ3の位置をそれぞれCCDカメラ7にて
認識して位置を計測し、XYθ位置補正機構8にて位置
補正を行う。
The operation of this embodiment will be described. First, the ceramic package 3 is set on the mounting stage 4 in FIG. 4, and the mounting components 6 such as semiconductor elements and ceramic components are set on the positioning stage 9. The positions of the mounted component 6 and the ceramic package 3 are recognized by the CCD camera 7 to measure the positions, and the XYθ position correcting mechanism 8 performs position correction.

【0028】移動機構12によって噴射ノズル1をセラ
ミックパッケージ3上の位置へ移動させ、半田噴射ヘッ
ド10を下降させて図1のように噴射ノズル1から一定
量の半田微粉末2−aを噴射する。セラミックパッケー
ジ3は搭載ステージ4に内蔵されたヒータ11により半
田の融点以上(融点+10〜20℃程度)まで加熱され
ているため、半田微粉末を噴射しPKGに接触したとき
に半田微粉末は溶解して2−cのようにPKG表面に付
着する。
The injection nozzle 1 is moved to a position on the ceramic package 3 by the moving mechanism 12, and the solder injection head 10 is lowered to inject a predetermined amount of the solder fine powder 2-a from the injection nozzle 1 as shown in FIG. . Since the ceramic package 3 is heated by the heater 11 built in the mounting stage 4 to a temperature equal to or higher than the melting point of the solder (melting point + about 10 to 20 ° C.), the fine solder powder is melted when the fine solder powder is ejected and comes into contact with the PKG. Then, it adheres to the PKG surface like 2-c.

【0029】搭載ヘッド5にて位置決めステージ9から
搭載部品6を吸着して、溶解した半田微粉末2−c上に
搭載部品6をセラミックパッケージ3に対して平行にな
るように下降させて搭載する。搭載部品6をセラミック
パッケージ3に対して平行なまま加圧して超音波を印加
して半田層を同一の厚さにのばして接合を行う。
The mounting component 6 is sucked from the positioning stage 9 by the mounting head 5, and the mounting component 6 is lowered and mounted on the melted solder fine powder 2-c so as to be parallel to the ceramic package 3. . The mounting component 6 is pressed in parallel to the ceramic package 3 and ultrasonic waves are applied to spread the solder layer to the same thickness and perform bonding.

【0030】半田が十分に溶解して広がった後、セラミ
ックパッケージ3全体を冷却して半田の融点以下まで温
度を下げて半田が凝固した後、搭載ヘッド5を上昇させ
て接合を完了する。
After the solder is sufficiently melted and spread, the entire ceramic package 3 is cooled and the temperature is lowered to the melting point or less of the solder to solidify the solder. Then, the mounting head 5 is raised to complete the joining.

【0031】(実施の形態3)図6は、本発明で適用可
能な噴射ノズル1の他の実施の形態を示す断面図であ
る。同図から理解できるように、この噴射ノズル1は、
先の実施の形態で示した図5の吸引式の噴射ノズル1を
90゜傾け(横に寝かせ)、噴射ノズル1の先端に下方
屈曲ノズル24を取り付けた構成としたものである。こ
の場合、噴射ノズル1の移動時等における半田微粉末の
落下を減少または無くすことができる。
(Embodiment 3) FIG. 6 is a sectional view showing another embodiment of the injection nozzle 1 applicable to the present invention. As can be understood from FIG.
The suction type injection nozzle 1 shown in FIG. 5 shown in the previous embodiment is inclined by 90 ° (side down), and the downwardly bent nozzle 24 is attached to the tip of the injection nozzle 1. In this case, it is possible to reduce or eliminate the fall of the solder fine powder when the spray nozzle 1 moves.

【0032】(実施の形態4)また、図7のように、図
5のような噴射ノズル1において、圧縮空気の流量では
なく、半田微粉末の体積または重量を計量して噴射ノズ
ル1へと供給する計量供給手段25を設け、計量した半
田微粉末を噴射ノズル1によって噴射する構成とするの
も大変有効である。これにより、半田微粉末の供給量を
さらに高精度に行うことが可能になる。
(Embodiment 4) In addition, as shown in FIG. 7, in the injection nozzle 1 as shown in FIG. 5, the volume or weight of the solder fine powder is measured instead of the flow rate of the compressed air. It is also very effective to provide the metering / supplying means 25 for supplying and inject the measured solder fine powder by the injection nozzle 1. Thus, the supply amount of the solder fine powder can be more accurately performed.

【0033】[0033]

【発明の効果】以上のように、本発明によれば、次のよ
うな効果が得られる。 (1) 噴射ノズルから噴射される半田微粉末の量で半
田の供給量を制御できため、安定した半田供給を行うこ
とができる。 (2) 微小なソルダ片を切断、搬送することがなくな
るため、切断時・搬送時の機械的なミスを防ぐことがで
る。 (3) 切断、搬送にかかっていた時間を短縮できる。
As described above, according to the present invention, the following effects can be obtained. (1) Since the supply amount of the solder can be controlled by the amount of the solder fine powder injected from the injection nozzle, stable solder supply can be performed. (2) Since it is no longer necessary to cut and transport minute solder pieces, it is possible to prevent mechanical errors during cutting and transport. (3) The time required for cutting and transporting can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の形態に係る半導体組立装置の要
部の拡大図で、(a)は半田供給状態を示す一部断面正
面図、(b)は搭載部品搬送状態を示す正面図である。
FIG. 1 is an enlarged view of a main part of a semiconductor assembling apparatus according to an embodiment of the present invention, wherein (a) is a partial cross-sectional front view showing a solder supply state, and (b) is a front view showing a mounted component transport state. It is.

【図2】本発明の実施の形態1に係る半導体組立装置の
全体構成図である。
FIG. 2 is an overall configuration diagram of a semiconductor assembly device according to the first embodiment of the present invention.

【図3】従来の半導体組立装置を示す全体構成図であ
る。
FIG. 3 is an overall configuration diagram showing a conventional semiconductor assembly device.

【図4】本発明の実施の形態2に係る半導体組立装置の
全体構成図である。
FIG. 4 is an overall configuration diagram of a semiconductor assembling apparatus according to a second embodiment of the present invention.

【図5】本発明の実施の形態に係る噴射ノズルの断面図
である。
FIG. 5 is a cross-sectional view of the injection nozzle according to the embodiment of the present invention.

【図6】本発明の実施の形態3に係る噴射ノズルの断面
図である。
FIG. 6 is a sectional view of an injection nozzle according to Embodiment 3 of the present invention.

【図7】本発明の実施の形態4に係る半導体組立装置の
要部の構成図である。
FIG. 7 is a configuration diagram of a main part of a semiconductor assembling apparatus according to a fourth embodiment of the present invention.

【符合の説明】[Description of sign]

1 噴射ノズル 2−a 半田微粉末 2−b、2−c 軟化した半田微粉末 3 セラミックパッケージ 4 搭載ステージ 5 搭載ヘッド 6 搭載部品 7 CCDカメラ 8 位置補正機構 9 位置決めステージ 10 半田噴射ヘッド 11 ヒータ 12 移動機構 13 窒素雰囲気形成機構 14 半田片供給機構 15 半田供給ヘッド 16 半田吸着ノズル 17 半田片 18 カッター 19 半田リール 20 角錐コレット 21 空気噴射ノズル 22 半田供給口 23 圧縮空気供給口 24 屈曲ノズル 25 計量供給手段 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Injection nozzle 2-a Solder fine powder 2-b, 2-c Softened solder fine powder 3 Ceramic package 4 Mounting stage 5 Mounting head 6 Mounting component 7 CCD camera 8 Position correction mechanism 9 Positioning stage 10 Solder injection head 11 Heater 12 Moving mechanism 13 Nitrogen atmosphere forming mechanism 14 Solder piece supply mechanism 15 Solder supply head 16 Solder suction nozzle 17 Solder piece 18 Cutter 19 Solder reel 20 Pyramid collet 21 Air injection nozzle 22 Solder supply port 23 Compressed air supply port 24 Bending nozzle 25 Metering supply means

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体チップやセラミック部品等の搭載
部品を、パッケージ等の搭載対象上に供給した半田で固
定する際に、搭載対象上に粉末状半田を直接供給して加
熱することを特徴とする、半田供給方法。
When a mounting component such as a semiconductor chip or a ceramic component is fixed with solder supplied onto a mounting target such as a package, powdery solder is directly supplied onto the mounting target and heated. The solder supply method.
【請求項2】 供給すべき前記粉末状半田を圧縮空気等
の高圧気体の噴射によって吸引し、噴射ノズルを用いて
前記搭載対象上に噴射又は散布することにより供給する
ことを特徴とする、請求項1記載の半田供給方法。
2. The method according to claim 1, wherein the powdery solder to be supplied is sucked by jetting a high-pressure gas such as compressed air or the like, and is supplied by jetting or spraying onto the mounting target using an jet nozzle. Item 4. The solder supply method according to Item 1.
【請求項3】 前記搭載対象を、予め粉末状半田の融点
付近まで加熱して置くことを特徴とする、請求項1又は
2記載の半田供給方法。
3. The solder supply method according to claim 1, wherein the mounting object is heated in advance to near the melting point of the powdery solder.
【請求項4】 前記粉末状半田を供給する前に、必要な
供給量を計量してから供給することを特徴とする、請求
項1〜3の何れかに記載の半田供給方法。
4. The solder supply method according to claim 1, wherein a necessary supply amount is measured and supplied before supplying the powdery solder.
【請求項5】 前記粉末状半田の供給後に、その粉末状
半田に超音波を印加することを特徴とする、請求項1〜
4の何れかに記載の半田供給方法。
5. An ultrasonic wave is applied to the powdery solder after the supply of the powdery solder.
5. The method for supplying solder according to any one of 4.
【請求項6】 半導体チップやセラミック部品等の搭載
部品を供給する搭載ヘッドと、パッケージ等の搭載対象
上に粉末状半田を供給する噴射ノズルを有する半田噴射
ヘッドと、搭載対象を加熱する手段とを備えたことを特
徴とする、半導体組立装置。
6. A mounting head for supplying a mounting component such as a semiconductor chip or a ceramic component, a solder injection head having an injection nozzle for supplying powdery solder onto a mounting target such as a package, and a means for heating the mounting target. A semiconductor assembling apparatus comprising:
【請求項7】 前記半田噴射ヘッドは、供給すべき粉末
状半田を圧縮空気等の高圧気体の噴射によって吸引する
噴射ノズルを用いて前記搭載対象上に噴射又は散布する
機能を有することを特徴とする、請求項6記載の半導体
組立装置。
7. The solder ejection head has a function of ejecting or dispersing the powdery solder to be supplied onto the mounting target by using an ejection nozzle that suctions the solder by injection of a high-pressure gas such as compressed air. The semiconductor assembly apparatus according to claim 6, wherein
【請求項8】 前記加熱手段は、前記搭載対象を、予め
粉末状半田の融点付近まで加熱する機能を有することを
特徴とする、請求項6又は7記載の半導体組立装置。
8. The semiconductor assembling apparatus according to claim 6, wherein said heating means has a function of preheating the mounting object to a temperature near the melting point of the powdery solder.
【請求項9】 前記半田噴射ヘッドは、粉末状半田を供
給する前に、必要な供給量を計量してから供給するため
の計量供給手段を有することを特徴とする、請求項6〜
8の何れかに記載の半導体組立装置。
9. The solder jet head according to claim 6, further comprising a metering / supplying unit for measuring a required supply amount before supplying the powdery solder and then supplying the measured amount.
9. The semiconductor assembling apparatus according to any one of 8.
【請求項10】 前記搭載ヘッドは、搭載部品を前記搭
載対象に対して平行な状態を維持したまま接合を行う機
能を有することを特徴とする、請求項6〜9の何れかに
記載の半導体組立装置。
10. The semiconductor according to claim 6, wherein the mounting head has a function of performing bonding while keeping a mounted component parallel to the mounting target. Assembly equipment.
【請求項11】 前記搭載ヘッドは、搭載部品を前記搭
載対象に対して加圧したまま接合を行う機能を有するこ
とを特徴とする、請求項6〜9の何れかに記載の半導体
組立装置。
11. The semiconductor assembly apparatus according to claim 6, wherein the mounting head has a function of performing bonding while pressing a mounted component on the mounting target.
【請求項12】 前記搭載対象に対する前記搭載部品の
接合時に、半田の酸化を防止するための窒素雰囲気形成
機構を有することを特徴とする、請求項6〜11の何れ
かに記載の半導体組立装置。
12. The semiconductor assembly apparatus according to claim 6, further comprising a nitrogen atmosphere forming mechanism for preventing oxidation of solder at the time of bonding the mounted component to the mounted object. .
JP15371198A 1998-05-20 1998-05-20 Solder supply method and semiconductor assembly device Expired - Fee Related JP3119238B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP15371198A JP3119238B2 (en) 1998-05-20 1998-05-20 Solder supply method and semiconductor assembly device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP15371198A JP3119238B2 (en) 1998-05-20 1998-05-20 Solder supply method and semiconductor assembly device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH11330110A true JPH11330110A (en) 1999-11-30
JP3119238B2 JP3119238B2 (en) 2000-12-18

Family

ID=15568435

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP15371198A Expired - Fee Related JP3119238B2 (en) 1998-05-20 1998-05-20 Solder supply method and semiconductor assembly device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3119238B2 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011003580A (en) * 2009-06-16 2011-01-06 Denso Corp Mounting apparatus of semiconductor chip, and method of manufacturing semiconductor device

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011003580A (en) * 2009-06-16 2011-01-06 Denso Corp Mounting apparatus of semiconductor chip, and method of manufacturing semiconductor device

Also Published As

Publication number Publication date
JP3119238B2 (en) 2000-12-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7797820B2 (en) Component mounting apparatus
US20050034302A1 (en) Component connecting apparatus and method and component mounting apparatus
JP4998503B2 (en) Electronic component mounting system and electronic component mounting method
KR101576138B1 (en) Soldering apparatus using induction heating
WO2012160817A1 (en) Method for mounting electronic component, device for mounting electronic component, and system for mounting electronic component
JP2007019207A (en) Apparatus and method for packaging component
JP2007019208A (en) Apparatus and method for packaging component
JP2001036232A (en) Solder removing device
JP3353814B2 (en) Apparatus and method for enhancing stability of dispensed molten solder droplets
CN111203605A (en) Laser welding method and soldering machine
JP2007059652A (en) Electronic component mounting method
JP3119238B2 (en) Solder supply method and semiconductor assembly device
CN105655260B (en) A kind of micro- interconnected salient points preparation method and device
JPH08204327A (en) Mounting apparatus
JP2003188515A (en) Soldering device, method for soldering, and device and method for manufacturing printed circuit board
JP2002050861A (en) Device and method for cold junction
WO2002026007A1 (en) Flux applying method and device, flow soldering method and device and electronic circuit board
JP3063390B2 (en) Soldering equipment for terminals
JPH0964521A (en) Solder feeder and feeding method
JP5719997B2 (en) Electronic component mounting method and mounting system
JP7189216B2 (en) Component mounting method and work system
JP5828095B2 (en) Electronic component mounting structure manufacturing method and electronic component mounting apparatus
JP5887547B2 (en) Flux for solder joint and manufacturing method thereof
JP2001351938A (en) Method and device for manufacturing semiconductor device
JP2823010B1 (en) How to mount electronic components with bumps

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071013

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081013

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091013

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091013

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101013

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111013

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121013

Year of fee payment: 12

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131013

Year of fee payment: 13

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees