JPH11328644A - Manufacture for head slider - Google Patents

Manufacture for head slider

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Publication number
JPH11328644A
JPH11328644A JP13828298A JP13828298A JPH11328644A JP H11328644 A JPH11328644 A JP H11328644A JP 13828298 A JP13828298 A JP 13828298A JP 13828298 A JP13828298 A JP 13828298A JP H11328644 A JPH11328644 A JP H11328644A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
slider
head slider
holding member
head
substrate
Prior art date
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Pending
Application number
JP13828298A
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Japanese (ja)
Inventor
Atsushi Sato
敦 佐藤
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
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Publication of JPH11328644A publication Critical patent/JPH11328644A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacture for a head slider whereby a face of the head slider opposed to an information recording medium can be simply formed in a spherical shape. SOLUTION: A slider substrate 14 set at a holding member 18 of silicon is kept in a recessed part 18a which can hold the slider substrate 14. The holding member 18 is arranged on an abrasive disc 17 having an abrasive face of a predetermined curvature. One face of the slider substrate 14 is slid along the abrasive face by oscillating the holding member 18, thereby being processed to a curve of the predetermined curvature.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば磁気ディス
クや光磁気ディスク等の情報記録媒体に対して情報の記
録再生を行う磁気ヘッドが搭載されたヘッドスライダの
製造方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a head slider having a magnetic head for recording and reproducing information on and from an information recording medium such as a magnetic disk and a magneto-optical disk.

【0002】[0002]

【従来の技術】例えばコンピュータシステムにおいて
は、磁気ディスク装置としてハードディスク装置が用い
られている。このハードディスク装置に内蔵されている
磁気ディスクの両表面には磁性膜が成膜されており、回
転している磁気ディスクの表面上を浮上しながら旋回す
るヘッドスライダに搭載されている磁気ヘッドにより、
磁性膜に情報がトラック状に記録され、また磁性膜にト
ラック状に記録された情報が再生されるようになってい
る。
2. Description of the Related Art For example, in a computer system, a hard disk device is used as a magnetic disk device. Magnetic films are formed on both surfaces of a magnetic disk built in this hard disk device, and a magnetic head mounted on a head slider that turns while floating on the surface of a rotating magnetic disk,
Information is recorded on the magnetic film in the form of a track, and information recorded on the magnetic film in the form of a track is reproduced.

【0003】図5は、一般的なヘッドスライダの一例を
示す斜視図である。このヘッドスライダ1は、その磁気
ディスクに対向する面1aの両側であって磁気ディスク
の回転方向に平行に、エアベアリングサーフェイス(A
BS)として作用するレール1b、1cが形成されてい
る。そして、磁気ディスクに対向する面1aに直交する
面であって磁気ディスクの回転方向に直交する面1d
に、薄膜磁気ヘッド2が搭載されている。
FIG. 5 is a perspective view showing an example of a general head slider. The head slider 1 has an air bearing surface (A) on both sides of the surface 1a facing the magnetic disk and parallel to the rotation direction of the magnetic disk.
Rails 1b and 1c acting as BS) are formed. A surface 1d orthogonal to the surface 1a facing the magnetic disk and orthogonal to the rotation direction of the magnetic disk
, A thin-film magnetic head 2 is mounted.

【0004】このようなヘッドスライダ1は、回転して
いる磁気ディスクの表面に接近したとき、磁気ディスク
の回転に伴ってレール1b、1cと磁気ディスクの表面
との間に流入する空気流により浮揚力を受けるので、磁
気ディスクの表面から微小間隔(浮上量)をもって浮上
走行する。そして、ヘッドスライダ1は、磁気ディスク
に対してシーク動作し、薄膜磁気ヘッド2が、磁気ディ
スクの所定のトラック等に対して情報の記録再生を非接
触で行なう。
When the head slider 1 approaches the surface of a rotating magnetic disk, the head slider 1 flies due to the airflow flowing between the rails 1b and 1c and the surface of the magnetic disk as the magnetic disk rotates. Since the magnetic disk is subjected to the force, the magnetic disk levitates and travels at a minute interval (flying height) from the surface of the magnetic disk. Then, the head slider 1 performs a seek operation on the magnetic disk, and the thin-film magnetic head 2 records and reproduces information on and from a predetermined track of the magnetic disk in a non-contact manner.

【0005】ここで、一般的に磁気ヘッドの電磁変換特
性を向上させるには、磁気ヘッドと磁気ディスクの磁気
的スペーシングを減らすことが有効である。上述したハ
ードディスク装置において上記磁気的スペーシングを減
らす方法としては、ヘッドスライダ1の浮上量を低下さ
せる方法がある。しかし、ヘッドスライダ1の浮上量を
低下させると、ヘッドスライダ1と磁気ディスクとが接
触するおそれがでてくる。
Here, in general, in order to improve the electromagnetic conversion characteristics of a magnetic head, it is effective to reduce the magnetic spacing between the magnetic head and the magnetic disk. As a method of reducing the magnetic spacing in the above-described hard disk drive, there is a method of reducing the flying height of the head slider 1. However, when the flying height of the head slider 1 is reduced, the head slider 1 may come into contact with the magnetic disk.

【0006】そして、ヘッドスライダ1と磁気ディスク
とが接触すると、ヘッドスライダ1のレール1b、1c
のエッジで磁気ディスクの表面を損傷させる場合があ
る。そこで、レール1b、1cのエッジを丸めるため
に、レール1b、1cの磁気ディスクに対向する面(A
BS面)は、図6(A)、(B)に示すように、曲率半
径Rの球面形状(Crown形状)に形成されている。
When the head slider 1 comes into contact with the magnetic disk, the rails 1b, 1c of the head slider 1
May damage the surface of the magnetic disk. Therefore, in order to round the edges of the rails 1b and 1c, the surfaces (A
As shown in FIGS. 6A and 6B, the BS surface is formed in a spherical shape (crown shape) having a radius of curvature R.

【0007】図7及び図8は、従来のヘッドスライダの
製造方法の一例を示す工程図である。先ず、ヘッドスラ
イダ1の基板であるウェーハ10の上面に薄膜磁気ヘッ
ド2を複数個成膜する(図7(a))。このウェーハ1
0を薄膜磁気ヘッド2に沿って棒(バー)状に切断加工
する(図7(b))。即ち、このバー11には、複数個
の薄膜磁気ヘッド2が一列に並んで存在することにな
る。
FIGS. 7 and 8 are process diagrams showing an example of a conventional method of manufacturing a head slider. First, a plurality of thin-film magnetic heads 2 are formed on the upper surface of a wafer 10 which is a substrate of the head slider 1 (FIG. 7A). This wafer 1
0 is cut into a bar along the thin-film magnetic head 2 (FIG. 7B). That is, a plurality of thin film magnetic heads 2 are arranged in a line on the bar 11.

【0008】次に、このバー11の薄膜磁気ヘッド2が
成膜されている面と直交する面を、ワックス等の接着剤
を使用してデプス研磨治具12に貼り付け、その貼付面
に対向する面を所定のデプスまで研磨加工する(図7
(c))。デプス研磨が終了したら、バー11をデプス
研磨治具12から取り外し、エッチングによりレール1
b、1cの幅、即ちABS面の幅を規制するグルーブ溝
13を薄膜磁気ヘッド2に対応するように研磨面に形成
する(図7(d))。このグルーブ溝13が形成された
研磨面がABS面となる。
Next, the surface of the bar 11 orthogonal to the surface on which the thin film magnetic head 2 is formed is attached to a depth polishing jig 12 using an adhesive such as wax, and the bar 11 is opposed to the attached surface. Polishing surface to a predetermined depth (FIG. 7)
(C)). When the depth polishing is completed, the bar 11 is removed from the depth polishing jig 12, and the rail 1 is etched.
Groove grooves 13 for regulating the widths of b and 1c, that is, the width of the ABS surface, are formed on the polished surface so as to correspond to the thin-film magnetic head 2 (FIG. 7D). The polished surface on which the groove 13 is formed becomes the ABS surface.

【0009】グルーブ溝13を形成した後、バー11を
グルーブ溝13に沿ってヘッドスライダ1となるチップ
14に切断加工する(図8(a))。このチップ14を
1個ずつABS面が外側を向くようにして、パッドと呼
ばれる粘着材15あるいはワックス等の接着剤を使用し
て球面研磨治具16に貼り付ける(図8(b))。球面
研磨治具16に貼り付けられたチップ14のABS面を
所定の曲率半径Rの球面形状に仕上げられた研磨盤17
と対向させて接触させる。
After the groove 13 is formed, the bar 11 is cut along the groove 13 into a chip 14 serving as the head slider 1 (FIG. 8A). The chips 14 are attached to the spherical polishing jig 16 using an adhesive such as a pad or an adhesive such as wax so that the ABS faces outward one by one (FIG. 8B). Polishing board 17 in which the ABS surface of chip 14 attached to spherical polishing jig 16 is finished into a spherical shape having a predetermined radius of curvature R.
And contact.

【0010】そして、研磨盤17上にダイヤモンドスラ
リ等を滴下させつつ、球面研磨治具16を図示矢印a方
向に揺動させてABS面を研磨盤17に沿って摺動させ
ることにより、ABS面を研磨加工してCrown形状
とする(図8(c))。球面研磨が終了したら、チップ
14を球面研磨治具16から取り外してヘッドスライダ
1を完成する(図8(d))。
[0010] While the diamond slurry or the like is dropped on the polishing plate 17, the spherical polishing jig 16 is swung in the direction of arrow a in the drawing to slide the ABS surface along the polishing plate 17, thereby obtaining the ABS surface. Is polished into a Crown shape (FIG. 8C). When the spherical polishing is completed, the chip 14 is removed from the spherical polishing jig 16 to complete the head slider 1 (FIG. 8D).

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】上述した従来のヘッド
スライダの製造方法では、チップ14を1個ずつパッド
と呼ばれる粘着材15あるいはワックス等の接着剤を使
用して球面研磨治具16にセット/リセットする作業
や、チップ14に付着した粘着材15あるいは接着剤を
洗浄する作業が必要になるため、工数が膨大となり作業
効率が悪いという問題があった。また、これらの作業が
複雑なため、自動化が困難であるという問題もあった。
In the above-described conventional method for manufacturing a head slider, the chips 14 are set one by one on a spherical polishing jig 16 by using an adhesive 15 called a pad or an adhesive such as wax. Since a resetting operation and an operation of cleaning the adhesive material 15 or the adhesive adhered to the chip 14 are required, there is a problem that the number of steps is increased and the operation efficiency is poor. There is also a problem that automation is difficult because these operations are complicated.

【0012】本発明は上述した事情から成されたもので
あり、ヘッドスライダにおける情報記録媒体との対向面
を球面形状に簡易に形成することができるヘッドスライ
ダの製造方法を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and has as its object to provide a method of manufacturing a head slider in which a surface of the head slider facing an information recording medium can be easily formed in a spherical shape. I do.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】上記目的は、本発明にあ
っては、ディスク状情報記録媒体に対して情報の記録再
生を行う磁気ヘッドが搭載されたヘッドスライダを製造
する方法において、スライダ基板上に前記磁気ヘッドを
形成し、シリコンで成る保持部材に設けられている前記
スライダ基板を保持可能な凹部に前記スライダ基板を保
持させ、前記保持部材を所定の曲率の研磨面を有する研
磨盤上に配置し、前記保持部材を揺動させることにより
前記スライダ基板の一面を前記研磨面に沿って摺動さ
せ、前記スライダ基板の一面を前記所定の曲率の曲面形
状に加工することにより達成される。
According to the present invention, there is provided a method of manufacturing a head slider on which a magnetic head for recording / reproducing information on / from a disk-shaped information recording medium is mounted. The magnetic head is formed thereon, and the slider substrate is held in a recess capable of holding the slider substrate provided on a holding member made of silicon, and the holding member is placed on a polishing plate having a polishing surface having a predetermined curvature. The slider substrate is slid along the polished surface by swinging the holding member, and the slider substrate is processed into the curved surface having the predetermined curvature. .

【0014】上記構成によれば、球面研磨用の保持部材
が弾性力の高いシリコンで形成されているので、保持部
材に設けられている凹部にスライダ基板を嵌め込むのみ
で、スライダ基板を容易に保持させることができると共
に、凹部の周辺部を押すのみで、スライダ基板を容易に
取外すことができる。従って、スライダ基板の一面を球
面形状に形成する工程を簡易に行うことができる。
According to the above construction, since the holding member for spherical polishing is formed of silicon having high elasticity, the slider substrate is easily fitted only by fitting the slider substrate into the recess provided in the holding member. The slider substrate can be held, and the slider substrate can be easily removed only by pressing the peripheral portion of the concave portion. Therefore, the step of forming one surface of the slider substrate into a spherical shape can be easily performed.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施形態を
添付図を参照しながら詳細に説明する。なお、以下に述
べる実施形態は、本発明の好適な具体例であるから、技
術的に好ましい種々の限定が付されているが、本発明の
範囲は、以下の説明において特に本発明を限定する旨の
記載がない限り、これらの形態に限られるものではな
い。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings. The embodiment described below is a preferred specific example of the present invention, and thus various technically preferable limitations are added. However, the scope of the present invention particularly limits the present invention in the following description. It is not limited to these forms unless otherwise stated.

【0016】図1及び図2は、本発明のヘッドスライダ
の製造方法の実施形態を示す工程図である。先ず、ヘッ
ドスライダ1の基板であるウェーハ10の上面に薄膜磁
気ヘッド2を複数個成膜する(図1(a))。このウェ
ーハ10を薄膜磁気ヘッド2に沿って棒(バー)状に切
断加工する(図1(b))。即ち、このバー11には、
複数個の薄膜磁気ヘッド2が一列に並んで存在すること
になる。
FIGS. 1 and 2 are process diagrams showing an embodiment of the method of manufacturing a head slider according to the present invention. First, a plurality of thin-film magnetic heads 2 are formed on the upper surface of a wafer 10 which is a substrate of the head slider 1 (FIG. 1A). The wafer 10 is cut into a bar along the thin-film magnetic head 2 (FIG. 1B). That is, this bar 11
A plurality of thin-film magnetic heads 2 exist in a line.

【0017】次に、このバー11の薄膜磁気ヘッド2が
成膜されている面と直交する面を、ワックス等の接着剤
を使用してデプス研磨治具12に貼り付け、その貼付面
に対向する面を所定のデプスまで研磨加工する(図1
(c))。デプス研磨が終了したら、バー11をデプス
研磨治具12から取り外し、エッチングによりレール1
b、1cの幅、即ちABS面の幅を規制するグルーブ溝
13を薄膜磁気ヘッド2に対応するように研磨面に形成
する(図1(d))。このグルーブ溝13が形成された
研磨面がABS面となる。
Next, the surface of the bar 11 perpendicular to the surface on which the thin film magnetic head 2 is formed is attached to a depth polishing jig 12 using an adhesive such as wax, and the bar 11 is opposed to the attached surface. The surface to be ground is polished to a predetermined depth (Fig. 1
(C)). When the depth polishing is completed, the bar 11 is removed from the depth polishing jig 12, and the rail 1 is etched.
Groove grooves 13 for controlling the widths b and 1c, that is, the width of the ABS surface, are formed on the polished surface so as to correspond to the thin film magnetic head 2 (FIG. 1D). The polished surface on which the groove 13 is formed becomes the ABS surface.

【0018】グルーブ溝13を形成した後、バー11を
グルーブ溝13に沿ってヘッドスライダ1となるチップ
14に切断加工する(図2(a))。次に、チップ14
のABS面を球面研磨する工程に入る。ここで、図2
(b)に示すように、球面研磨治具16の先端面にチッ
プ14を保持するための保持部材18を接着剤等により
貼り付けておく。
After the groove 13 is formed, the bar 11 is cut along the groove 13 into a chip 14 to be the head slider 1 (FIG. 2A). Next, chip 14
The process enters the step of spherically polishing the ABS surface. Here, FIG.
As shown in (b), a holding member 18 for holding the chip 14 is attached to the tip end surface of the spherical polishing jig 16 with an adhesive or the like.

【0019】この保持部材18は、例えばシリコン(商
品名:TSE3450,東芝シリコーン製、商品名:S
Tシリコン,三真物産製、商品名:フジポリEM(サコ
ーンGR),富士高分子工業製)やゴム(JIS−Aシ
ョア硬度:40度〜50度、表面粘着力:1g/m
2 )で成る円柱形状に形成されており、球面研磨治具
16との貼り付け面とは反対側の面、即ち研磨面には、
チップ14の幅及び長さより若干小さい幅及び長さであ
って、チップ14の厚さより浅い深さの直方体状の凹部
18aが設けられている。
The holding member 18 is made of, for example, silicon (trade name: TSE3450, manufactured by Toshiba Silicone, trade name: S
T silicon, manufactured by Sanshin Bussan, trade name: Fujipoly EM (Sakon GR), manufactured by Fuji Kogyo Kogyo) or rubber (JIS-A Shore hardness: 40 to 50 degrees, surface adhesive strength: 1 g / m)
m 2 ), and is formed on the surface opposite to the surface to be attached to the spherical polishing jig 16, that is, on the polishing surface.
A rectangular parallelepiped concave portion 18a having a width and length slightly smaller than the width and length of the chip 14 and a depth smaller than the thickness of the chip 14 is provided.

【0020】このような構成の保持部材18の凹部18
a内にチップ14をABS面が外側を向くようにして押
し込んで嵌め込む(図2(b))。これによりチップ1
4は凹部18aのエッジの弾性・復元力で保持される。
次に、保持部材18の凹部18aに保持されたチップ1
4のABS面を所定の曲率半径Rの球面形状に仕上げら
れた研磨盤17と対向させて接触させる。そして、研磨
盤17上にダイヤモンドスラリ等を滴下させつつ、球面
研磨治具16を図示矢印a方向に揺動させてABS面を
研磨盤17に沿って摺動させることにより、ABS面を
研磨加工してCrown形状とする(図2(c))。
The concave portion 18 of the holding member 18 having such a configuration.
The chip 14 is pushed and fitted into the “a” so that the ABS faces outward (FIG. 2B). This makes chip 1
4 is held by the elasticity / restoring force of the edge of the concave portion 18a.
Next, the chip 1 held in the concave portion 18a of the holding member 18
The ABS surface of No. 4 is opposed to and brought into contact with the polishing plate 17 finished in a spherical shape having a predetermined radius of curvature R. Then, while the diamond slurry or the like is dropped on the polishing plate 17, the spherical polishing jig 16 is swung in the direction of arrow a in the drawing to slide the ABS surface along the polishing plate 17, thereby polishing the ABS surface. To form a Crown shape (FIG. 2C).

【0021】球面研磨が終了したら、保持部材18の凹
部18aの周囲を押すことにより、凹部18aの底面を
弾性変形させて凹部18aからチップ14を押し出し、
ヘッドスライダ1を完成する(図2(d))。このよう
にチップ14を保持部材18から容易に取り外すことが
できるので、従来のようなチップ14を1個ずつパッド
と呼ばれる粘着材15あるいはワックス等の接着剤を使
用して球面研磨治具16にセット/リセットする作業
や、チップ14に付着した粘着材15あるいは接着剤を
洗浄する作業が不要になるため、工数を低減させて作業
効率を高めることができると共に、自動化も容易に実現
することができる。
When the spherical polishing is completed, the periphery of the concave portion 18a of the holding member 18 is pressed, whereby the bottom surface of the concave portion 18a is elastically deformed and the chip 14 is pushed out from the concave portion 18a.
The head slider 1 is completed (FIG. 2D). Since the chips 14 can be easily removed from the holding member 18 in this manner, the chips 14 as in the prior art can be individually attached to the spherical polishing jig 16 by using an adhesive 15 called a pad or an adhesive such as wax. Since the work of setting / resetting and the work of cleaning the adhesive material 15 or the adhesive adhered to the chip 14 are not required, the man-hour can be reduced and the work efficiency can be improved, and automation can be easily realized. it can.

【0022】図3は、保持部材の別の一例を示す斜視図
である。この保持部材19は、上記保持部材18と同様
に、例えばシリコン(商品名:TSE3450,東芝シ
リコーン製、商品名:STシリコン,三真物産製、商品
名:フジポリEM(サコーンGR),富士高分子工業
製)やゴム(JIS−Aショア硬度:40度〜50度、
表面粘着力:1g/mm2 )で成るが、直方体状に形成
されており、研磨面には、チップ14の幅及び長さより
若干小さい幅及び長さであって、チップ14の厚さより
浅い深さの直方体状の凹部19aが複数個(この例では
4個)設けられている。このような構成の保持部材19
によれば、複数のチップ14を同時に研磨加工すること
ができ、作業効率をより向上させることができる。
FIG. 3 is a perspective view showing another example of the holding member. The holding member 19 is made of, for example, silicon (trade name: TSE3450, manufactured by Toshiba Silicone, trade name: ST silicon, manufactured by Sanshin Bussan, trade name: Fujipoly EM (Sakon GR), Fuji Polymer) Industrial) and rubber (JIS-A Shore hardness: 40 to 50 degrees)
Surface adhesive strength: 1 g / mm 2 ), but is formed in a rectangular parallelepiped shape. The polished surface has a width and length slightly smaller than the width and length of the chip 14 and a depth smaller than the thickness of the chip 14. A plurality (four in this example) of rectangular parallelepiped concave portions 19a are provided. Holding member 19 having such a configuration
According to this, a plurality of chips 14 can be polished at the same time, and the working efficiency can be further improved.

【0023】図4は、保持部材のさらに別の一例を示す
斜視図である。この保持部材20は、上記保持部材19
と同様に、例えばシリコン(商品名:TSE3450,
東芝シリコーン製、商品名:STシリコン,三真物産
製、商品名:フジポリEM(サコーンGR),富士高分
子工業製)やゴム(JIS−Aショア硬度:40度〜5
0度、表面粘着力:1g/mm2 )で成る直方体状に形
成されているが、研磨面には、保持部材20の幅一杯の
幅で、チップ14の長さより若干小さい長さであって、
チップ14の厚さより浅い深さの直方体状の凹部20a
が設けられている。
FIG. 4 is a perspective view showing still another example of the holding member. The holding member 20 is provided with the holding member 19.
Similarly, for example, silicon (trade name: TSE3450,
Made by Toshiba Silicone, trade name: ST Silicon, made by Sanshin Bussan, trade name: Fujipoly EM (Sakorn GR), made by Fuji Kogyo Kogyo) or rubber (JIS-A Shore hardness: 40 degrees to 5 degrees)
Although it is formed in a rectangular parallelepiped shape having 0 ° and a surface adhesive force of 1 g / mm 2 ), the polishing surface has a width that is the full width of the holding member 20 and is slightly smaller than the length of the chip 14. ,
A rectangular parallelepiped concave portion 20a having a depth smaller than the thickness of the chip 14
Is provided.

【0024】上述した各保持部材18、19の凹部18
a、19aは、チップ14の4側面を保持するように構
成されていたが、この保持部材20の凹部20aは、複
数(この例では4個)のチップ14の長さ方向の2側面
を保持するように構成されており、複数のチップ14を
同時に研磨加工した後、凹部20aの長手方向の周囲両
端部を図示矢印a方向に押すことにより、凹部20aの
短手方向の周囲を図示矢印b方向に弾性変形させて、複
数のチップ14を同時に取り外すことができ、作業効率
をさらに向上させることができる。
The recess 18 of each of the holding members 18 and 19 described above
a and 19a are configured to hold the four side surfaces of the chip 14, but the concave portion 20a of the holding member 20 holds two (in this example, four) side surfaces of the chip 14 in the length direction. After a plurality of chips 14 are simultaneously polished, by pressing both ends in the longitudinal direction of the recess 20a in the direction of the arrow a in the drawing, the periphery of the recess 20a in the short direction is shown by the arrow b in the drawing. The plurality of chips 14 can be simultaneously removed by elastically deforming in the direction, and the working efficiency can be further improved.

【0025】以上のようなヘッドスライダの製造方法に
よれば、従来使用していたパッドと呼ばれる粘着材15
あるいはワックス等の接着剤を使用する必要がなく、作
業効率を大幅に向上させることができる。また、チップ
14の取り扱い時に発生していた欠けや・傷等の不良発
生が無くなり、歩留りも大幅に向上させることができ
る。
According to the method of manufacturing the head slider as described above, the adhesive 15 called a pad, which has been conventionally used, is used.
Alternatively, there is no need to use an adhesive such as wax, and the working efficiency can be greatly improved. In addition, the occurrence of defects such as chipping and scratches generated when handling the chip 14 is eliminated, and the yield can be greatly improved.

【0026】[0026]

【発明の効果】以上のように本発明によれば、ヘッドス
ライダにおける情報記録媒体との対向面を球面形状に簡
易に形成することができ、大幅な工数低減を図ることが
できる。
As described above, according to the present invention, the surface of the head slider facing the information recording medium can be easily formed in a spherical shape, and the number of steps can be greatly reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明のヘッドスライダの製造方法の実施形態
を示す第1の工程図。
FIG. 1 is a first process chart showing an embodiment of a method of manufacturing a head slider according to the present invention.

【図2】本発明のヘッドスライダの製造方法の実施形態
を示す第2の工程図。
FIG. 2 is a second process chart showing an embodiment of the method for manufacturing a head slider according to the present invention.

【図3】本発明のヘッドスライダの製造方法の実施形態
で用いられる保持部材の別の一例を示す斜視図。
FIG. 3 is a perspective view showing another example of a holding member used in the embodiment of the method for manufacturing a head slider of the present invention.

【図4】本発明のヘッドスライダの製造方法の実施形態
で用いられる保持部材のさらに別の一例を示す斜視図。
FIG. 4 is a perspective view showing still another example of the holding member used in the embodiment of the method of manufacturing a head slider according to the present invention.

【図5】一般的なヘッドスライダの一例を示す斜視図。FIG. 5 is a perspective view showing an example of a general head slider.

【図6】図5に示すヘッドスライダの側面図。FIG. 6 is a side view of the head slider shown in FIG. 5;

【図7】従来のヘッドスライダの製造方法の一例を示す
第1の工程図。
FIG. 7 is a first process chart showing an example of a conventional method for manufacturing a head slider.

【図8】従来のヘッドスライダの製造方法の一例を示す
第2の工程図。
FIG. 8 is a second process diagram showing an example of a conventional method for manufacturing a head slider.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1・・・ヘッドスライダ、1b、1c・・・レール、2
・・・薄膜磁気ヘッド、10・・・ウェーハ、11・・
・バー、12・・・デプス研磨治具、13・・・グルー
ブ溝、14・・・チップ、16・・・球面研磨治具、1
7・・・研磨盤、18、19、20・・・保持部材、1
8a、19a、20a・・・凹部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Head slider, 1b, 1c ... Rail, 2
... Thin film magnetic head, 10 ... Wafer, 11 ...
Bar, 12: depth polishing jig, 13: groove groove, 14: chip, 16: spherical polishing jig, 1
7 ... polishing machine, 18, 19, 20 ... holding member, 1
8a, 19a, 20a ... recess

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ディスク状情報記録媒体に対して情報の
記録再生を行う磁気ヘッドが搭載されたヘッドスライダ
を製造する方法において、 スライダ基板上に前記磁気ヘッドを形成し、 シリコンで成る保持部材に設けられている前記スライダ
基板を保持可能な凹部に前記スライダ基板を保持させ、 前記保持部材を所定の曲率の研磨面を有する研磨盤上に
配置し、 前記保持部材を揺動させることにより前記スライダ基板
の一面を前記研磨面に沿って摺動させ、 前記スライダ基板の一面を前記所定の曲率の曲面形状に
加工することを特徴とするヘッドスライダの製造方法。
1. A method of manufacturing a head slider on which a magnetic head for recording / reproducing information on / from a disk-shaped information recording medium is mounted, comprising: forming the magnetic head on a slider substrate; Holding the slider substrate in a concave portion capable of holding the slider substrate provided, disposing the holding member on a polishing plate having a polishing surface having a predetermined curvature, and swinging the holding member to form the slider A method for manufacturing a head slider, wherein one surface of a substrate is slid along the polishing surface, and one surface of the slider substrate is processed into a curved surface shape having the predetermined curvature.
【請求項2】 ディスク状情報記録媒体に対して情報の
記録再生を行う磁気ヘッドが搭載されたヘッドスライダ
を製造する方法において、 スライダ基板上に前記磁気ヘッドを形成し、 ゴムで成る保持部材に設けられている前記スライダ基板
を保持可能な凹部に前記スライダ基板を保持させ、 前記保持部材を所定の曲率の研磨面を有する研磨盤上に
配置し、 前記保持部材を揺動させることにより前記スライダ基板
の一面を前記研磨面に沿って摺動させ、 前記スライダ基板の一面を前記所定の曲率の曲面形状に
加工することを特徴とするヘッドスライダの製造方法。
2. A method of manufacturing a head slider having a magnetic head for recording and reproducing information on and from a disk-shaped information recording medium, comprising: forming the magnetic head on a slider substrate; Holding the slider substrate in a concave portion capable of holding the slider substrate provided, disposing the holding member on a polishing plate having a polishing surface having a predetermined curvature, and swinging the holding member to form the slider A method for manufacturing a head slider, wherein one surface of a substrate is slid along the polishing surface, and one surface of the slider substrate is processed into a curved surface shape having the predetermined curvature.
【請求項3】 前記ゴムが、ショア硬度が40度〜50
度であって、表面粘着力が1g/mm2 以上の特性を有
する請求項2に記載のヘッドスライダの製造方法。
3. The rubber has a Shore hardness of 40 to 50 degrees.
3. The method for manufacturing a head slider according to claim 2, wherein the head slider has a characteristic that the surface adhesive strength is 1 g / mm 2 or more.
JP13828298A 1998-05-20 1998-05-20 Manufacture for head slider Pending JPH11328644A (en)

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