JPH11327651A - Stopping method and stopping mechanism for movable body - Google Patents

Stopping method and stopping mechanism for movable body

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JPH11327651A
JPH11327651A JP15367398A JP15367398A JPH11327651A JP H11327651 A JPH11327651 A JP H11327651A JP 15367398 A JP15367398 A JP 15367398A JP 15367398 A JP15367398 A JP 15367398A JP H11327651 A JPH11327651 A JP H11327651A
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JP
Japan
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movable body
substrate
stop
coating
stopping
Prior art date
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Pending
Application number
JP15367398A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masayuki Murata
村田  正幸
Takashi Yaguchi
矢口  孝
Shinichiro Murakami
慎一郎 村上
Jun Takemoto
潤 竹本
Yasuhide Nakajima
泰秀 中島
Shunji Miyagawa
俊二 宮川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To stop a movable body at a fixed position in a shortest time with less impact. SOLUTION: This stopping mechanism is constituted of a drive source 5 for rotationally moving a movable body 1, a position detector 6 for detecting the rotating position of the movable body 1 and a controller 7 for controlling driving power to be applied to the drive source based on the output signals of the position detector 6. The stopping method comprises a step of moving the movable body 1 to a deceleration start point O at a high speed, a step of reducing the speed of the movable body 1 from the deceleration start point O to a driving power release point P and a step of moving the movable body 1 from the point P to a stop position Q by utilizing gravity G and inertia acting on the movable body 1, and the movable body 1 moved by the gravity G and the inertia is abutted to a stopper 2 provided on the stop position Q and stopped.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、可動体の停止位置
に設けたストッパーに当接して、可動体を停止させる方
法およびその停止機構に関するものであり、特に、衝撃
が少ない状態でかつ最短時間で、可動体を定位置に停止
させる方法およびその停止機構に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for stopping a movable body by contacting a stopper provided at a stop position of the movable body and a mechanism for stopping the movable body. The present invention relates to a method for stopping a movable body at a fixed position and a mechanism for stopping the method.

【0002】[0002]

【従来の技術】可動体を精度良く定位置に係止させる方
法として、物理的なストッパーが一般に用いられる。つ
まり、可動体をストッパーに当接することによって、可
動体の停止位置を常に定位置に保持することが容易にな
る。しかしながら、高速度で移動している可動体を、停
止位置に設けたストッパーにそのまま当接すると、軽量
の可動体の場合は、ストッパーに当たって跳ね返るの
で、可動体を定位置に保持するのが困難である。一方、
可動体が重量物の場合、ストッパーに加わる衝撃が過大
となり、ストッパーや可動体が衝撃のために破損するこ
とも考えられる。
2. Description of the Related Art A physical stopper is generally used as a method for accurately locking a movable body at a fixed position. That is, by bringing the movable body into contact with the stopper, it is easy to always maintain the stop position of the movable body at the fixed position. However, if the movable body moving at high speed abuts the stopper provided at the stop position as it is, in the case of a lightweight movable body, it hits the stopper and rebounds, so it is difficult to hold the movable body in a fixed position. is there. on the other hand,
When the movable body is heavy, the impact applied to the stopper becomes excessive, and the stopper and the movable body may be damaged due to the impact.

【0003】図4は、定位置Qに設けたストッパー2
に、可動体1を当接して停止させている状態を模式的に
示している。図において、可動体1は、回転軸3を中心
にして図示の方向に回転移動している。図に示すよう
に、定位置Qにストッパー2を設け、定位置Qにて無用
の衝撃を発生することなく可動体1を停止させるために
は、定位置Qにて可動体の移動速度が零になるように、
可動体1の回転移動を高精度に制御しなければならな
い。特に、可動体1が高速に回転移動している場合、可
動体1を定位置Qにてスムーズに停止させるには、可動
体1を回転駆動する駆動源を、高精度かつ強力に制御す
る位置決め制御手段(図示せず)が必要である。また、
可動体1が重量物の場合、図5に示すように、可動体の
移動速度を減速しストッパーに加わる衝撃を吸収するた
めの、ショックアブソーバなどの機械的な制動手段4
を、可動体の停止位置近傍に備える必要がある。
FIG. 4 shows a stopper 2 provided at a fixed position Q.
2 schematically shows a state where the movable body 1 is brought into contact with and stopped. In the figure, a movable body 1 is rotatingly moved about a rotation shaft 3 in the illustrated direction. As shown in the figure, in order to provide the stopper 2 at the fixed position Q and stop the movable body 1 at the fixed position Q without generating unnecessary impact, the moving speed of the movable body at the fixed position Q becomes zero. So that
The rotational movement of the movable body 1 must be controlled with high precision. In particular, when the movable body 1 is rotating and moving at a high speed, in order to smoothly stop the movable body 1 at the fixed position Q, a driving source that rotationally drives the movable body 1 is positioned with high precision and strong control. Control means (not shown) is required. Also,
When the movable body 1 is a heavy object, as shown in FIG. 5, mechanical braking means 4 such as a shock absorber for reducing the moving speed of the movable body and absorbing the impact applied to the stopper.
Needs to be provided near the stop position of the movable body.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】上記従来の可動体停止
機構においては、定位置Qにスムーズに可動体を停止さ
せるため、可動体を回転駆動する駆動源を、高精度かつ
強力に制御する位置決め制御手段や、ショックアブソー
バなどの機械的な制動手段を設けたが、強力かつ高精度
な位置決め制御手段は、可動体の駆動源に大きな負荷を
与えることになり、また、装置コストも高くなる。ま
た、機械的な制動手段を別に設けることは、装置コスト
が高くなるとともに、停止位置の調整がより複雑になる
欠点がある。そこで、本発明は、簡単な構成でかつ迅速
確実に、可動体を定位置に停止できる方法および機構を
提供するのが目的である。
In the above-mentioned conventional movable body stopping mechanism, in order to smoothly stop the movable body at the fixed position Q, the positioning of the drive source for driving the movable body to rotate is controlled with high precision and power. Although a control means and a mechanical braking means such as a shock absorber are provided, a powerful and high-precision positioning control means imposes a large load on the driving source of the movable body, and also increases the cost of the apparatus. Providing a separate mechanical braking means has the disadvantages of increasing the cost of the apparatus and complicating the adjustment of the stop position. Therefore, an object of the present invention is to provide a method and a mechanism capable of stopping a movable body at a fixed position quickly and reliably with a simple configuration.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明の可動体停止方法
では、先ず、可動体の移動速度を減速し、次に、可動体
の停止位置の直前、すなわち、可動体がストッパーに当
接する直前に、可動体の駆動源への動力供給を停止す
る。その後、可動体に作用する重力や慣性を利用して、
可動体を停止位置まで移動し、ストッパーに当接させる
ことによって前記課題を解決した。
In the movable body stopping method of the present invention, first, the moving speed of the movable body is reduced, and then immediately before the stop position of the movable body, that is, immediately before the movable body comes into contact with the stopper. Then, the power supply to the drive source of the movable body is stopped. After that, using the gravity and inertia acting on the movable body,
The above problem was solved by moving the movable body to the stop position and bringing the movable body into contact with the stopper.

【0006】すなわち、本発明の可動体停止方法は、請
求項1に示すように、可動体を減速開始位置まで高速に
移動する工程と、減速開始位置から動力開放位置まで可
動体の移動速度を減速する工程と、動力開放位置から停
止位置まで、可動体に作用する重力や慣性を利用して可
動体を移動する工程とを含み、前記重力や慣性によって
移動している可動体を、停止位置に設けたストッパーに
当接して停止する方法である。
That is, in the moving body stopping method of the present invention, the moving body is moved to the deceleration start position at a high speed, and the moving speed of the movable body is moved from the deceleration start position to the power release position. A step of decelerating, and a step of moving the movable body using gravity or inertia acting on the movable body from the power release position to the stop position, the movable body moving by the gravity or inertia being stopped at the stop position This is a method of stopping by contacting the stopper provided in the above.

【0007】また、本発明の可動体停止機構では、可動
体の駆動軸に可動体の回転位置を検出する検出器を設
け、先ず、前記検出器によって減速開始点を検出し、回
転移動している可動体の移動速度を減速する。次いで、
可動体の停止位置の直前において発せられる前記検出器
の位置信号によって、駆動源への動力供給を停止するよ
うに構成し、動力供給を停止した後、可動体に作用する
重力や慣性を利用して可動体を移動させ、停止位置に設
けたストッパーに可動体を当接して停止させる。
Further, in the movable body stopping mechanism of the present invention, a detector for detecting the rotational position of the movable body is provided on the drive shaft of the movable body. Decrease the moving speed of the moving object. Then
By the position signal of the detector issued immediately before the stop position of the movable body, the power supply to the driving source is configured to be stopped, and after the power supply is stopped, the gravity or inertia acting on the movable body is used. The movable body is moved to stop the movable body by abutting the stopper provided at the stop position.

【0008】すなわち、請求項2に示したように、駆動
軸に固定されて回転移動する可動体を、停止位置に設け
たストッパーに当接して停止させる機構であって、可動
体を回転移動する駆動源と、前記可動体の回転位置を検
出する位置検出器と、前記位置検出器の出力信号に基づ
いて、駆動源に印加する動力を制御する制御装置とで構
成され、可動体の移動速度を減速した後、可動体の停止
位置の直前において、可動体を自由運動状態にし、可動
体に作用する重力や慣性を利用して停止位置に設けたス
トッパーに可動体を当接し停止させるように構成した。
That is, a mechanism for stopping the movable body fixed to the drive shaft and rotatably abutting on the stopper provided at the stop position, wherein the movable body is rotatably moved. A drive source, a position detector that detects a rotational position of the movable body, and a control device that controls power applied to the drive source based on an output signal of the position detector, and a moving speed of the movable body. After decelerating, immediately before the stop position of the movable body, the movable body is set in a free motion state, and the movable body is brought into contact with a stopper provided at the stop position using gravity or inertia acting on the movable body to stop the movable body. Configured.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】本発明の実施の形態について、図
面に基づいて詳細に説明する。なお、図1は、本発明の
停止機構の構成例を示すブロック図である。また、図2
は、前記停止機構の動作チャートである。
Embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a block diagram showing a configuration example of the stop mechanism of the present invention. FIG.
4 is an operation chart of the stop mechanism.

【0010】(可動体停止機構)先ず、本発明の可動体
停止機構の構成について説明する。図1は、可動体停止
機構の構成例を示すブロック図である。図において、1
は可動体である。2は可動体1を定位置に保持するため
のストッパーである。3は前記可動体1を回転駆動する
ための駆動軸である。駆動軸3には可動体1を回転駆動
するための駆動源5と、可動体1の回転位置を検出する
ための位置検出器6とが連結されている。
(Movable Body Stopping Mechanism) First, the structure of the movable body stopping mechanism of the present invention will be described. FIG. 1 is a block diagram illustrating a configuration example of a movable body stopping mechanism. In the figure, 1
Is a movable body. Reference numeral 2 denotes a stopper for holding the movable body 1 at a fixed position. Reference numeral 3 denotes a drive shaft for driving the movable body 1 to rotate. The drive shaft 3 is connected to a drive source 5 for rotating and driving the movable body 1 and a position detector 6 for detecting the rotational position of the movable body 1.

【0011】前記駆動源5には、各種電動モータをはじ
め、エアーモータや油圧モータなどを用いることができ
る。電動モータの具体例としては、誘導モータ、同期モ
ータ、パルスモータ、直流モータなどの、回転数を制御
可能なモータを用いることができ、可動体の質量や慣性
モーメント、可動体の回転速度などを勘案して、適宜選
択するとよい。また、必要に応じて、駆動源5と駆動軸
3との動力伝達経路に、適当な減速比の減速器を組み込
んでもよい。
As the drive source 5, various electric motors, air motors, hydraulic motors and the like can be used. As a specific example of the electric motor, a motor whose rotation speed can be controlled, such as an induction motor, a synchronous motor, a pulse motor, and a DC motor, can be used, and the mass and inertia moment of the movable body, the rotational speed of the movable body, and the like can be used. It is advisable to select as appropriate in consideration of the above. If necessary, a speed reducer having an appropriate reduction ratio may be incorporated in the power transmission path between the drive source 5 and the drive shaft 3.

【0012】位置検出器6は、例えば、1回転あたり数
十〜数千パルスを発生するロータリエンコーダを用い
る。この位置検出器6は、アブソリュートエンコーダを
用いてもよく、また、回転方向の弁別信号を出力できる
形式のものであっても構わない。その場合は、エンコー
ダの出力信号に基づいて、回転位置信号を生成する機構
を備える。具体的には、光電式パルスエンコーダ、電磁
式パルスエンコーダなどを用いることができる。なお、
前記位置検出器6に用いるエンコーダは、駆動軸3に連
結して動作させたとき、駆動軸3の停止時から最大回転
速度までの、全ての範囲の動作領域において、安定した
位置検出信号が得られることが必要である。
As the position detector 6, for example, a rotary encoder that generates several tens to several thousands of pulses per rotation is used. The position detector 6 may use an absolute encoder, or may be of a type that can output a discrimination signal in the rotation direction. In that case, a mechanism for generating a rotational position signal based on the output signal of the encoder is provided. Specifically, a photoelectric pulse encoder, an electromagnetic pulse encoder, or the like can be used. In addition,
When the encoder used for the position detector 6 is operated while being connected to the drive shaft 3, a stable position detection signal can be obtained in the entire range of operation from the stop of the drive shaft 3 to the maximum rotation speed. Need to be done.

【0013】一方、前記駆動源5のモータは制御装置7
に接続され、図示しない動作指令器の信号によって、モ
ータを正転駆動または逆転駆動するように構成されてい
る。さらに、可動体1の駆動軸3に連結された位置検出
器6の出力信号が、前記制御装置7に入力されるように
接続され、制御装置7の内部で前記出力信号に基づいて
可動体1の回転速度信号および回転位置信号が生成さ
れ、可動体1の回転位置を検出しながら、モータの回転
数を制御できるように構成されている。
On the other hand, the motor of the drive source 5 is
, And is configured to drive the motor forward or backward in response to a signal from an operation commander (not shown). Further, an output signal of a position detector 6 connected to the drive shaft 3 of the movable body 1 is connected so as to be input to the control device 7, and the movable body 1 is controlled inside the control device 7 based on the output signal. The rotation speed signal and the rotation position signal are generated, and the rotation number of the motor can be controlled while detecting the rotation position of the movable body 1.

【0014】(運転準備動作)次に、上記構成の可動体
停止機構に関し、その運転準備動作について説明する。
図1に示した可動体停止機構では、通常の運転動作に先
立って運転準備動作を行う。この運転準備動作は、可動
体1の停止位置を制御装置7に学習させる動作である。
可動体1の停止位置は、ストッパー2との当接位置Qで
ある。この停止位置Qを制御装置7に学習させるため、
先ず、制御装置7の学習Lと正転Fの指令端子に信号を
印加する。制御装置7は前記指令信号に基づいて、駆動
源5のモータを低速回転して、可動体1を図示の矢印方
向に回転移動する。可動体1は、駆動源5によって、ス
トッパー2へ向けて回転移動し、ストッパー2に当接し
て停止位置Qにて停止する。
(Operation Preparation Operation) Next, the operation preparation operation of the movable body stopping mechanism having the above-described configuration will be described.
In the movable body stopping mechanism shown in FIG. 1, an operation preparation operation is performed prior to a normal operation operation. This operation preparation operation is an operation for causing the control device 7 to learn the stop position of the movable body 1.
The stop position of the movable body 1 is a contact position Q with the stopper 2. In order for the control device 7 to learn this stop position Q,
First, a signal is applied to the learning L of the control device 7 and the command terminal of the normal rotation F. The control device 7 rotates the motor of the drive source 5 at a low speed based on the command signal, and rotates and moves the movable body 1 in the direction of the arrow shown in the figure. The movable body 1 is rotationally moved toward the stopper 2 by the drive source 5 and contacts the stopper 2 and stops at the stop position Q.

【0015】停止位置Qにおける可動体1の停止時間が
一定時間に達したとき、つまり可動体1の駆動軸3に連
結された位置検出器6の出力信号が一定時間変化しなか
ったとき、制御装置7に組み込まれている図示しない回
転位置記憶手段に、位置検出器6の出力信号によって生
成された位置情報をセットする。これによって可動体1
の停止位置Qに対応する位置情報が、制御装置7に記憶
されることになる。
When the stop time of the movable body 1 at the stop position Q reaches a certain time, that is, when the output signal of the position detector 6 connected to the drive shaft 3 of the movable body 1 does not change for a certain time, the control is performed. The position information generated by the output signal of the position detector 6 is set in a rotation position storage means (not shown) incorporated in the device 7. Thereby, the movable body 1
Is stored in the control device 7.

【0016】もし、図1に示した停止位置Q以外に、例
えば、可動体1の反転方向にも停止位置が設定され、停
止位置Qと同様に、ストッパーが配設されている場合
は、上記と同様な手法で、その停止位置を制御装置7に
記憶する。つまり、制御装置7の学習Lと反転Bの指令
端子に信号を印加して、駆動源5のモータを低速で逆転
し、可動体1が停止位置のストッパーに当接して、反転
方向の停止位置における可動体1の停止時間が一定時間
に達したとき、つまり可動体1の駆動軸3に連結された
位置検出器6の出力信号が一定時間変化しなかったと
き、制御装置7に組み込まれている図示しない反転位置
記憶手段に位置情報をセットする。これによって、もう
一方の停止位置に対応する可動体1の位置情報が、制御
装置7に記憶されることになる。
If, for example, a stop position is set in the reversing direction of the movable body 1 in addition to the stop position Q shown in FIG. 1 and a stopper is provided similarly to the stop position Q, The stop position is stored in the control device 7 in the same manner as described above. That is, a signal is applied to the learning L of the control device 7 and the command terminal of the inversion B, the motor of the drive source 5 is reversely rotated at a low speed, and the movable body 1 abuts the stopper at the stop position, and the stop position in the inversion direction is stopped. When the stop time of the movable body 1 at the time has reached a certain time, that is, when the output signal of the position detector 6 connected to the drive shaft 3 of the movable body 1 has not changed for a certain time, The position information is set in an inverted position storage means (not shown). Thereby, the position information of the movable body 1 corresponding to the other stop position is stored in the control device 7.

【0017】上記準備動作によって、可動体1の停止位
置に関する情報が、制御装置7に記憶される。次いで、
制御装置7に含まれる図示しない演算装置によって、前
記停止位置の情報に基づいて、可動体1の停止動作に必
要なの動作位置が演算され記憶される。図1に示す例で
は、可動体の減速開始位置O、および駆動源の動力開放
位置Pが、可動体の停止位置Qから逆算されて、記憶さ
れる。これらの位置情報は、制御装置7の図示しない不
揮発性記憶手段に半永久的に記憶されるので、以下に説
明する可動体の停止方法、および停止機構の動作におい
ては、その都度上記準備動作を行う必要はない。
By the above-described preparation operation, information on the stop position of the movable body 1 is stored in the control device 7. Then
An operation position required for the stop operation of the movable body 1 is calculated and stored by an arithmetic unit (not shown) included in the control device 7 based on the information on the stop position. In the example shown in FIG. 1, the deceleration start position O of the movable body and the power release position P of the drive source are calculated back from the stop position Q of the movable body and stored. Since such position information is semi-permanently stored in a non-volatile storage unit (not shown) of the control device 7, the above-described preparation operation is performed each time in the method of stopping the movable body and the operation of the stop mechanism described below. No need.

【0018】(可動体の停止方法)次に、本発明の可動
体の停止方法について説明する。図2は、図1に示した
可動体停止機構における可動体の回転位置と回転速度と
の関係を示す動作チャートである。図において、縦軸は
可動体1の回転速度を示し、横軸は可動体1の回転位置
を示す。本発明の可動体停止機構では、図1に示したよ
うに、高速で回転移動している可動体1が、停止位置Q
にてスムーズに停止するように、可動体の移動速度が制
御される。すなわち、可動体1は図1に示した駆動源5
のモータによって、角速度ωで減速開始位置Oへ向けて
高速に回転移動している。このとき、可動体1の駆動軸
3に連結された位置検出器6から、可動体1の回転速度
に反比例した時間間隔でパルス信号が発せられ、この信
号に基づいて制御装置7がモータの回転数を制御してい
る。
(Method of stopping movable body) Next, a method of stopping the movable body of the present invention will be described. FIG. 2 is an operation chart showing a relationship between a rotation position and a rotation speed of the movable body in the movable body stopping mechanism shown in FIG. In the figure, the vertical axis indicates the rotation speed of the movable body 1, and the horizontal axis indicates the rotation position of the movable body 1. In the movable member stopping mechanism of the present invention, as shown in FIG.
The moving speed of the movable body is controlled so as to stop smoothly. That is, the movable body 1 is connected to the drive source 5 shown in FIG.
Is rotated at a high speed toward the deceleration start position O at an angular velocity ω. At this time, a pulse signal is generated at a time interval inversely proportional to the rotation speed of the movable body 1 from the position detector 6 connected to the drive shaft 3 of the movable body 1, and the control device 7 rotates the motor based on this pulse signal. You control the number.

【0019】また、前記位置検出器6の出力信号は、制
御装置7の内部において可動体1の位置信号に変換さ
れ、制御装置7は可動体の回転位置を監視している。こ
の状態で、可動体1が減速開始位置Oに到達したことを
検出すると、制御装置7は、可動体1の回転速度が角速
度Δωになるように、モータの回転数を減速する。可動
体1は、モータの減速にともなって、角速度Δωになる
まで回転速度を低下する。次いで、可動体1は、動力開
放位置Pへ向けて減速した角速度Δωで回転を継続す
る。その後、制御装置7が位置検出器6の出力信号に基
づいて動力開放位置Pを検出すると、制御装置7は駆動
源5のモータに印加していた動力の供給を停止し、可動
体1、および回転軸13を介して可動体1に連結されて
いた駆動源5は、自由運動状態になる。
The output signal of the position detector 6 is converted into a position signal of the movable body 1 inside the controller 7, and the controller 7 monitors the rotational position of the movable body. In this state, when detecting that the movable body 1 has reached the deceleration start position O, the control device 7 reduces the rotational speed of the motor so that the rotational speed of the movable body 1 becomes the angular velocity Δω. The moving speed of the movable body 1 is reduced until the angular speed becomes Δω with the deceleration of the motor. Next, the movable body 1 continues to rotate at the angular velocity Δω decelerated toward the power release position P. Thereafter, when the control device 7 detects the power release position P based on the output signal of the position detector 6, the control device 7 stops the supply of the power applied to the motor of the drive source 5, and the movable body 1 and The drive source 5 connected to the movable body 1 via the rotating shaft 13 enters a free motion state.

【0020】この自由運動状態では、可動体1に重力G
や慣性が作用しており、この重力Gや慣性によって、可
動体1は自由落下状態になり、停止位置Qへ向けて回転
移動を継続する。その後、可動体1は、重力Gによって
回転速度が加速されながら、停止位置Qに到達し、スト
ッパー2に当接して停止する。可動体1がストッパー2
に当接するときの回転速度は、動力開放位置Pと停止位
置Qとの距離が短ければ、減速された可動体1の角速度
Δωにほぼ近似した回転速度となる。
In the free motion state, the movable body 1
Due to the gravity G and the inertia, the movable body 1 is in a free falling state, and continues to rotate toward the stop position Q. Thereafter, the movable body 1 reaches the stop position Q while being accelerated by the gravity G, and comes into contact with the stopper 2 and stops. Movable body 1 is stopper 2
When the distance between the power release position P and the stop position Q is short, the rotational speed at which the movable body 1 comes into contact with the rotational speed becomes approximately the rotational speed Δω of the decelerated movable body 1.

【0021】すなわち、動力開放位置Pと停止位置Qと
の距離を可能な限り、短くすることによって、可動体1
がストッパー2に当接するときの速度が角速度Δωに近
くなり、当接時に発生する衝撃力が減少するとともに、
可動体1が、自由落下状態で動力開放位置Pから停止位
置Qに到達するまでの所要時間が短くなる。なお、可動
体1の減速時の角速度Δωは、前記衝撃力が許容される
範囲内で、可能な限り大きくしておくことにより、可動
体1が減速開始位置Oから停止位置Qに到達するまでの
所要時間が短縮され、可動体1の停止に要する時間が短
くなる。
That is, by making the distance between the power release position P and the stop position Q as short as possible,
The speed when abuts against the stopper 2 approaches the angular speed Δω, and the impact force generated at the time of abutment decreases,
The time required for the movable body 1 to reach the stop position Q from the power release position P in the free fall state is reduced. The angular velocity Δω of the movable body 1 at the time of deceleration is set as large as possible within a range where the impact force is allowed, so that the movable body 1 is moved from the deceleration start position O to the stop position Q. And the time required for stopping the movable body 1 is reduced.

【0022】上述したように、本発明では、可動体1が
ストッパー2に当接する直前の所定位置に、可動体1を
回転駆動する駆動源5に対する動力開放位置Pを設定
し、可動体1が前記動力開放位置Pを通過したとき、駆
動源5への動力供給を停止することによって、可動体1
は自由運動状態になる。その後、可動体1に作用する重
力Gや慣性を利用して、ストッパー2に可動体1を当接
することによって、可動体1やストッパー2に対し過大
な衝撃を生じることなく、可動体1を所定の停止位置Q
にスムーズに停止させることができる。
As described above, in the present invention, the power release position P with respect to the driving source 5 for rotating the movable body 1 is set at a predetermined position immediately before the movable body 1 comes into contact with the stopper 2, and the movable body 1 By stopping the power supply to the drive source 5 when passing through the power release position P, the movable body 1
Is in a state of free movement. Thereafter, the movable body 1 is brought into contact with the stopper 2 by utilizing the gravity G and inertia acting on the movable body 1 so that the movable body 1 can be moved to a predetermined position without generating an excessive impact on the movable body 1 and the stopper 2. Stop position Q
It can be stopped smoothly.

【0023】なお、可動体1がストッパー2に当接する
際の速度は、許容される衝撃力の範囲内で、可動体1の
質量や慣性モーメント、および可動体1やストッパー2
の耐衝撃性を考慮して適切に設定すればよい。また、可
動体1の減速開始位置Oは、前記動力開放位置Pを起点
に、可動体1の角速度が、ωからΔωに到達するまでの
制動距離から逆算し、適切な余裕角度を含めて設定すれ
ばよい。
The speed at which the movable body 1 comes into contact with the stopper 2 is limited to the mass and inertia moment of the movable body 1 and the movable body 1 and the stopper 2 within an allowable range of the impact force.
May be appropriately set in consideration of the impact resistance of the device. Further, the deceleration start position O of the movable body 1 is set back from the power release position P from the braking distance until the angular velocity of the movable body 1 reaches ω from ω, including an appropriate margin angle. do it.

【0024】(実施例)次に、本発明の可動体停止方法
および停止機構の実施例について説明する。図3は、上
記可動体停止方法および停止機構を使用した装置の一例
を示す側面図である。
(Embodiment) Next, an embodiment of the moving body stopping method and the stopping mechanism of the present invention will be described. FIG. 3 is a side view illustrating an example of an apparatus using the above-described movable body stopping method and the stopping mechanism.

【0025】(装置の構成)図3に示した装置は、薄板
状の基板に塗布液を塗布するための塗布装置である。図
において、10は塗布装置の本体である。Sは塗布液を
塗布される被塗布基板であり、11は被塗布基板Sを吸
着保持する基板保持部材である。基板保持部材11は、
前述の停止方法および停止機構で説明した可動体であ
る。前記基板保持部材11は、被塗布基板Sを平面に保
持するための平坦な保持平面を有し、前記保持平面に
は、被塗布基板Sを吸着するための複数の吸引孔(図示
せず)を設けてあり、前記吸引孔は図示しない吸引装置
に接続されている。基板保持部材11は、軽量で、かつ
機械的強度があり、さらに防錆性がある硬質アルミニウ
ム、ジュラルミン、ステンレス鋼、または硬質プラスチ
ックなどを用いて形成される。
(Structure of Apparatus) The apparatus shown in FIG. 3 is an application apparatus for applying an application liquid to a thin plate-shaped substrate. In the figure, reference numeral 10 denotes a main body of the coating apparatus. S denotes a substrate to be coated with a coating liquid, and 11 denotes a substrate holding member that sucks and holds the substrate S to be coated. The substrate holding member 11
It is a movable body described in the above-mentioned stopping method and stopping mechanism. The substrate holding member 11 has a flat holding plane for holding the substrate S to be coated on a plane, and the holding plane has a plurality of suction holes (not shown) for sucking the substrate S to be coated. Is provided, and the suction hole is connected to a suction device (not shown). The substrate holding member 11 is formed of hard aluminum, duralumin, stainless steel, hard plastic, or the like, which is lightweight, has mechanical strength, and has rust resistance.

【0026】前記基板保持部材11は、塗布部枢体14
に軸承された回転軸13に固定されている。回転軸13
は、前述の停止方法および停止機構で説明した駆動軸で
ある。前記回転軸13は塗布部枢体14に固定されたモ
ータM1に伝導手段を介して連結され、モータM1を駆
動することによって、基板保持部材11を、塗布液を塗
布するための被塗布基板Sを下向きに保持する図に実線
で示す塗布位置Rと、被塗布基板Sを装着したり搬出す
るための、保持平面を上向きとする想像線で示す基板着
脱位置Qとの間で、円弧状の矢印方向に回動することが
できる。なお、前記、塗布位置Rと基板着脱位置Qは、
ともに、前述の停止方法および停止機構で説明した停止
位置に相当する。
The substrate holding member 11 includes a coating portion pivot 14
Is fixed to a rotating shaft 13 which is rotatably supported. Rotating shaft 13
Is the drive shaft described in the stop method and stop mechanism described above. The rotating shaft 13 is connected to a motor M1 fixed to a coating unit pivot 14 via a conductive means, and by driving the motor M1, the substrate holding member 11 is coated with a substrate S for coating a coating liquid. Between the application position R indicated by a solid line in the drawing holding the substrate downward and the substrate attaching / detaching position Q indicated by an imaginary line with the holding plane facing upward for mounting and unloading the substrate S to be coated. It can rotate in the direction of the arrow. The application position R and the substrate attaching / detaching position Q are:
Both correspond to the stop position described in the above-described stop method and stop mechanism.

【0027】基板保持部材11は、基板着脱位置Qにお
いて、回転軸13との相対的位置が固定されたストッパ
ー20Aによって位置規制され、ほぼ水平に位置決めさ
れた基板保持部材11の上向きの保持平面に対して、図
示しない基板給排装置によって被塗布基板Sを載置した
り、搬出することができる。一方、塗布位置Rにおいて
は、塗布部枢体14に設けられたストッパー20Bによ
って位置規制され、所定の角度で傾斜して位置決めされ
た基板保持部材11の、下向きの保持平面に吸着保持さ
れた被塗布基板Sに対し塗布液が塗布される。
In the substrate attaching / detaching position Q, the position of the substrate holding member 11 is regulated by a stopper 20A whose relative position with respect to the rotating shaft 13 is fixed. On the other hand, the substrate S to be coated can be placed or unloaded by a substrate supply / discharge device (not shown). On the other hand, at the coating position R, the position of the substrate holding member 11 is regulated by the stopper 20B provided on the coating portion pivot 14, and is held by the downward holding plane of the substrate holding member 11 positioned at a predetermined angle. The application liquid is applied to the application substrate S.

【0028】基板保持部材11が、ストッパー20Bに
係止されて塗布位置Rに位置する状態において、前記基
板保持部材11の保持平面に吸着保持された被塗布基板
Sの下向きの塗布面と平行になるように、リニアガイド
15が塗布部枢体14に傾斜して固定されている。この
リニアガイド15上には、被塗布基板Sの下向きの塗布
面に対して塗布液を塗布する、塗布ヘッド12を含む塗
布手段がスライド可能に保持されている。
In a state where the substrate holding member 11 is locked at the stopper 20B and located at the coating position R, the substrate holding member 11 is held parallel to the downwardly coated surface of the substrate S to be coated and held on the holding plane of the substrate holding member 11. The linear guide 15 is inclined and fixed to the application unit pivot 14 so as to form the linear guide 15. On the linear guide 15, an application unit including an application head 12 for applying an application liquid onto a downward application surface of the substrate S to be applied is slidably held.

【0029】この塗布ヘッド12を含む塗布手段は、リ
ニアガイド15に沿って配置されたボールねじに噛み合
っている。該ボールねじはモータM2に連結されてお
り、モータM2を駆動することによって、塗布ヘッド1
2を含む塗布手段を、被塗布基板Sの塗布面と平行に、
リニアガイド15に沿ってスライドすることができる。
前記塗布ヘッド12を含む塗布手段のスライド範囲は、
基板保持部材11に吸着保持された被塗布基板Sの、少
なくとも全長以上の範囲を移動することができる。
The application means including the application head 12 is engaged with a ball screw arranged along the linear guide 15. The ball screw is connected to a motor M2, and by driving the motor M2, the coating head 1 is rotated.
2 in parallel with the coating surface of the substrate S to be coated,
It can slide along the linear guide 15.
The sliding range of the application unit including the application head 12 is as follows.
It is possible to move at least the entire length of the substrate S to be coated held by the substrate holding member 11.

【0030】なお、本実施例の塗布装置10では、回転
軸13に固定された基板保持部材11を回動可能に軸承
するとともに、リニアガイド15を介して塗布ヘッド1
2を含む塗布手段をスライド可能に保持する塗布部枢体
14を、前記回転軸13を中心に回動可能に構成してい
る。このように構成することにより、ストッパー20B
に係止された基板保持部材11と、塗布ヘッド12をス
ライド自在に保持するリニアガイド15とを、それらの
相対位置を維持したまま、回転軸13を中心とした円軌
道上で角度可変に傾斜可能となり、塗布液の粘度特性等
に対応して水平方向に対する傾斜角度θを最適な塗布条
件に設定することができる。
In the coating apparatus 10 of this embodiment, the substrate holding member 11 fixed to the rotating shaft 13 is rotatably supported, and the coating head 1 is moved via the linear guide 15.
An application unit pivot 14 for slidably holding the application unit including the second unit 2 is configured to be rotatable about the rotation shaft 13. With this configuration, the stopper 20B
The substrate holding member 11 and the linear guide 15 slidably holding the coating head 12 are tiltably and variably tilted on a circular orbit about the rotation shaft 13 while maintaining their relative positions. This makes it possible to set the inclination angle θ with respect to the horizontal direction to an optimal application condition in accordance with the viscosity characteristics of the application liquid and the like.

【0031】さらに、塗布部枢体14の回動中心を、基
板保持部材11の回動中心と同一の軸心位置とすること
により、塗布部枢体14が任意の回動位置にあっても、
ストッパー20Aにより規制される基板着脱位置Qは常
に一定位置となり、かつ、基板保持部材11の保持平面
を水平状態に保つことができる。したがって、基板着脱
位置Qにおける塗布完了後の被塗布基板Sの搬出と、新
たな被塗布基板Sの載置とを常に一定の位置で行うこと
ができ、塗布装置10の塗布条件設定に伴う調整時間を
短縮することができる。
Further, by setting the rotation center of the coating unit pivot 14 at the same axial center position as the rotation center of the substrate holding member 11, even if the coating unit pivot 14 is at an arbitrary rotation position. ,
The substrate attaching / detaching position Q regulated by the stopper 20A is always a fixed position, and the holding plane of the substrate holding member 11 can be kept horizontal. Therefore, the unloading of the substrate S after coating at the substrate attaching / detaching position Q and the mounting of a new substrate S can always be performed at a fixed position, and adjustment accompanying the setting of the coating conditions of the coating apparatus 10 can be performed. Time can be reduced.

【0032】上記塗布装置10において、基板保持部材
11に吸着保持された被塗布基板Sに塗布処理を施すと
きは、先ず、基板保持部材11を塗布位置Rにてストッ
パー20Bに当接し、下向きに傾斜して位置決めする。
次に、前記基板保持部材11に下向きに傾斜して吸着保
持された被塗布基板Sの塗布面と一定の間隙を有し、上
向きに開口した帯状に延びるスリット(図示せず)を備
えた塗布ヘッド12に塗布液を供給して、被塗布基板S
の塗布面と塗布ヘッド12との間隙に塗布液の液溜まり
を形成する。
In the coating apparatus 10, when performing the coating process on the substrate S to be coated sucked and held on the substrate holding member 11, first, the substrate holding member 11 is brought into contact with the stopper 20B at the coating position R, and is turned downward. Position it at an angle.
Next, a coating (not shown) provided with a strip (not shown) extending upward and having a certain gap with the coating surface of the substrate S to be coated, which is suction-held in a downwardly inclined manner on the substrate holding member 11. The coating liquid is supplied to the head 12 and the coating target substrate S
A liquid pool of the coating liquid is formed in a gap between the coating surface of the coating liquid and the coating head 12.

【0033】次いで、前記液溜まりを形成した塗布ヘッ
ド12を、傾斜した被塗布基板Sの塗布面に対して一定
の間隙を維持しながら、被塗布基板Sの塗布面と平行に
リニアガイド15に沿って斜め下方へ移動させることに
よって、前記液溜まりの塗布液を塗布面に順次付着さ
せ、被塗布基板Sに塗布膜を形成する。
Next, the coating head 12 in which the liquid pool is formed is moved to the linear guide 15 in parallel with the application surface of the substrate S while maintaining a constant gap with respect to the application surface of the substrate S to be inclined. By moving the coating liquid obliquely downward, the coating liquid in the liquid pool is sequentially attached to the coating surface, and a coating film is formed on the substrate S to be coated.

【0034】(装置の動作)次に、上記した塗布装置に
おける被塗布基板Sへの塗布処理動作について、より詳
しく説明する。塗布装置10は、先ず、モータM1を駆
動して、基板保持部材11を回転軸13を中心にして回
転し、想像線で示す基板着脱位置Qに回動する。このと
き、基板保持部材11は、基板着脱位置Qに設けられた
ストッパー20Aに当接して停止し、水平に位置決めさ
れる。
(Operation of Apparatus) Next, the operation of coating the substrate S to be coated in the above-described coating apparatus will be described in more detail. The coating apparatus 10 first drives the motor M1 to rotate the substrate holding member 11 about the rotation shaft 13 and to rotate to the substrate attaching / detaching position Q indicated by an imaginary line. At this time, the substrate holding member 11 comes into contact with the stopper 20A provided at the substrate attaching / detaching position Q, stops and is positioned horizontally.

【0035】塗布装置10は、この基板着脱位置Qにお
いて、図示しない基板供給装置によって、上向きになっ
た基板保持部材11の保持平面に被塗布基板Sを装着さ
れる。次いで、被塗布基板Sを吸着保持した基板保持部
材11を、図に実線で示す塗布位置RまでモータM1を
駆動して回動する。塗布位置Rに到達した基板保持部材
11は、塗布部枢体14に設けられたストッパー20B
に当接して停止し、傾斜角度θで位置決めされる。
In the coating apparatus 10, the substrate S to be coated is mounted on the holding plane of the substrate holding member 11 facing upward by a substrate supply device (not shown) at the substrate attaching / detaching position Q. Next, the substrate holding member 11 holding the substrate S to be coated is rotated by driving the motor M1 to a coating position R indicated by a solid line in FIG. The substrate holding member 11 that has reached the application position R is provided with a stopper 20B provided on the application unit pivot 14.
And is stopped at the inclination angle θ.

【0036】次に、塗布ヘッド12を含む塗布手段が、
モーターM2によって駆動され、リニアガイド15に沿
って図に示す塗布開始位置から斜め下方へ向かってスラ
イドされる。塗布ヘッド12がスライドされることによ
って、塗布ヘッド12の塗布液吐出スリット(図示せ
ず)と下向きになった被塗布基板Sの塗布面との間隙に
形成された液溜まりの塗布液が、被塗布基板Sの塗布面
に順次付着し、塗布膜を形成する。被塗布基板Sの全長
にわたって塗布処理を終えた塗布ヘッド2は、その後、
塗布終了位置にて停止する。
Next, the coating means including the coating head 12
It is driven by the motor M2 and is slid obliquely downward along the linear guide 15 from the application start position shown in the figure. When the coating head 12 is slid, the coating liquid in the liquid pool formed in the gap between the coating liquid discharge slit (not shown) of the coating head 12 and the coating surface of the substrate S facing downward is coated. It is sequentially adhered to the application surface of the application substrate S to form an application film. The coating head 2 that has completed the coating process over the entire length of the substrate S to be coated,
Stop at the coating end position.

【0037】次に、モータM1を駆動して回転軸13を
回転し、基板保持部材11を基板着脱位置Qへ向けて再
び回動し、ストッパー20Aに当接して停止する。次い
で、図示しない基板排出装置にて、基板保持部材11上
に保持された塗布完了後の被塗布基板Sを搬出し、後工
程の塗布膜乾燥工程へ向けて搬送する。
Next, the motor M1 is driven to rotate the rotating shaft 13, the substrate holding member 11 is again rotated toward the substrate attaching / detaching position Q, and comes into contact with the stopper 20A to stop. Next, the substrate to be coated S that has been coated and held on the substrate holding member 11 is carried out by a substrate discharge device (not shown), and is transported to a coating film drying process in a later process.

【0038】さらに、塗布処理を受ける次の新しい被塗
布基板Sを、図示しない基板供給装置によって、基板保
持部材11上に載置する。その後、再びモータM1を駆
動して回転軸13を回転し、新しい被塗布基板Sを吸着
保持した基板保持部材11を、塗布位置Rへ向けて回動
し、ストッパー20Bに当接して停止する。この間に、
塗布ヘッド12を含む塗布手段は、モータM2によって
図に示す塗布開始位置に戻り、塗布処理を再開する。上
記一連の動作をを繰り返すことによって、順次連続して
被塗布基板Sに塗布処理を施すことができる。
Further, the next new substrate S to be subjected to the coating process is placed on the substrate holding member 11 by a substrate supply device (not shown). Thereafter, the motor M1 is driven again to rotate the rotating shaft 13, and the substrate holding member 11 holding the new substrate S to be coated is rotated toward the coating position R, and comes into contact with the stopper 20B to stop. During this time,
The application unit including the application head 12 returns to the application start position shown in the figure by the motor M2, and resumes the application process. By repeating the above-described series of operations, the coating process can be sequentially performed on the substrate S to be coated.

【0039】上記塗布装置において、本発明の可動体停
止方法および停止機構が有効に作用する。すなわち、上
述した塗布装置10においては、塗布液を塗布する被塗
布基板Sを基板着脱位置Qから塗布位置Rへ移動した
り、塗布液を塗布した被塗布基板Sを塗布位置Rから基
板着脱位置Qへ移動するために、被塗布基板Sを吸着保
持した基板保持部材11を、回転軸13を介してモータ
M1によって回動移動している。
In the above-described coating apparatus, the movable body stopping method and the stopping mechanism of the present invention effectively work. That is, in the coating apparatus 10 described above, the substrate S to be coated with the coating liquid is moved from the substrate attaching / detaching position Q to the coating position R, or the substrate S having the coating liquid applied is moved from the coating position R to the substrate attaching / detaching position. In order to move to the position Q, the substrate holding member 11 holding the substrate S to be coated by suction is rotated by the motor M1 via the rotating shaft 13.

【0040】このとき、基板着脱位置Qにはストッパー
20Aが設けられ、基板保持部材11が前記ストッパー
20Aに当接して係止された後、前記基板保持部材11
に吸着保持された被塗布基板Sが、図示しない基板排出
装置によって搬出される。すなわち、塗布完了後の被塗
布基板Sを吸着保持した基板保持部材11を、塗布位置
Rから基板着脱位置Qへ移動する際、基板保持部材11
を前記ストッパー20Aに当接して停止するが、本発明
の可動体停止方法を用いると、吸着保持した被塗布基板
Sを衝撃によって破損することなく、短時間、かつスム
ーズに基板保持部材11を基板着脱位置Qに停止させる
ことができる。
At this time, a stopper 20A is provided at the substrate attaching / detaching position Q. After the substrate holding member 11 comes into contact with the stopper 20A and is locked, the substrate holding member 11 is stopped.
The substrate S sucked and held on the substrate is carried out by a substrate discharge device (not shown). That is, when the substrate holding member 11 holding the substrate S to be coated after application is moved from the application position R to the substrate attaching / detaching position Q, the substrate holding member 11
When the movable body stopping method of the present invention is used, the substrate holding member 11 is smoothly and quickly moved without damaging the substrate S to be applied and held by an impact. It can be stopped at the attaching / detaching position Q.

【0041】同様に、塗布処理を受ける被塗布基板Sを
吸着保持した基板保持部材11を、基板着脱位置Qから
塗布位置Rへ移動する際、基板保持部材11を塗布部枢
体14に設けたストッパー20Bに当接して停止する
が、本発明の可動体停止方法を用いると、基板保持部材
11に吸着保持した被塗布基板Sを、衝撃によって脱落
することなく、短時間、かつスムーズに塗布位置Rに停
止させることができる。
Similarly, when the substrate holding member 11 holding the substrate S to be subjected to the coating process by suction is moved from the substrate attaching / detaching position Q to the coating position R, the substrate holding member 11 is provided on the coating portion pivot 14. When the movable body stopping method of the present invention is used, the substrate S sucked and held by the substrate holding member 11 does not fall off due to an impact, and the application position is smoothly and quickly stopped. R can stop.

【0042】ちなみに、本発明の可動体停止方法および
停止機構を用いる前は、1回あたりの塗布処理時間が約
40秒であったが、本発明の可動体停止方法および停止
機構を用いることによって、1回あたりの塗布処理時間
を約30秒に短縮することができ、飛躍的に塗布処理工
程の生産性を向上できた。なお、このとき塗布処理に用
いた被塗布基板Sは、幅300mm、長さ400mm、
厚さ1mmのガラス基板であり、塗布ヘッド2による被
塗布基板Sへの塗布処理速度は毎秒50mmとした。ま
た、前記被塗布基板Sを吸着保持する基板保持部材11
の、塗布位置Rと基板着脱位置Qとの間の回動角度は約
150度であり、この基板保持部材11の回動速度は最
大90度/秒とした。
By the way, before using the moving body stopping method and the stopping mechanism of the present invention, the coating processing time per one application was about 40 seconds, but by using the moving body stopping method and the stopping mechanism of the present invention, (1) The coating processing time per operation can be reduced to about 30 seconds, and the productivity of the coating processing step can be dramatically improved. The substrate S used for the coating process at this time has a width of 300 mm, a length of 400 mm,
It was a glass substrate having a thickness of 1 mm, and the coating speed of the coating head 2 on the substrate S to be coated was 50 mm per second. Further, a substrate holding member 11 for holding the substrate S by suction.
The rotation angle between the application position R and the substrate attachment / detachment position Q was about 150 degrees, and the rotation speed of the substrate holding member 11 was 90 degrees / second at the maximum.

【0043】さらに、上記動作条件にて、ガラス基板に
対する塗布処理動作を、多数回反復したが、基板を損傷
したり脱落することがなかった。また、本発明の可動体
停止方法および停止機構を用いることによって、可動体
がストッパーに当接する際に生じる衝撃が、可動体自体
を含めて、可動体の駆動機構、およびそれらを保持する
枢体に対しても、障害となるような影響を見いだすこと
はできなかった。
Further, under the above operating conditions, the coating processing operation for the glass substrate was repeated many times, but the substrate was not damaged or dropped. Further, by using the movable body stopping method and the stopping mechanism of the present invention, an impact generated when the movable body comes into contact with the stopper causes a drive mechanism of the movable body including the movable body itself, and a pivotal body holding them. Could not find any disturbing effects.

【0044】(他の実施例)上述の可動体停止機構で
は、可動体の回転位置を検出するために、ロータリエン
コーダを用いたが、可動体の回転軌道近傍の所定位置に
可動体検出器を設け、前記検出器によって可動体の回転
位置を検出するように構成してもよい。その場合は、減
速開始位置と動力開放位置とにそれぞれ可動体検出器を
設ける。可動体検出器としては、例えば、反射型もしく
は透過型の光電センサ、あるいは可動体が金属の場合は
電磁誘導式の近接スイッチなどを用いることができる。
なお、可動体検出器によって可動体の回転位置を検出す
るように構成したときは、ストッパーと可動体検出器と
の相対位置を調節することによって、減速開始位置や動
力開放位置を設定することになる。
(Other Embodiments) In the above-described movable body stopping mechanism, a rotary encoder is used to detect the rotational position of the movable body. However, the movable body detector is provided at a predetermined position near the rotation trajectory of the movable body. And a detector configured to detect a rotational position of the movable body by the detector. In that case, a movable body detector is provided at each of the deceleration start position and the power release position. As the movable body detector, for example, a reflection type or transmission type photoelectric sensor, or when the movable body is metal, an electromagnetic induction type proximity switch can be used.
When the rotational position of the movable body is detected by the movable body detector, the deceleration start position and the power release position can be set by adjusting the relative position between the stopper and the movable body detector. Become.

【0045】一方、上記説明では、可動体の回転速度を
減速した後、可動体が動力開放位置に到達したことを検
知した時点で、駆動源への動力供給を停止するように構
成したが、可動体が所定の減速速度に到達したことを検
知したら、駆動源への動力供給を停止するように構成し
てもよい。その場合の動力開放位置は、モータ、または
可動体の回転速度が、所定の速度以下になった位置であ
る。
On the other hand, in the above description, after the rotational speed of the movable body is reduced, the power supply to the drive source is stopped when it is detected that the movable body has reached the power release position. When it is detected that the movable body has reached the predetermined deceleration speed, the power supply to the drive source may be stopped. The power release position in this case is a position where the rotation speed of the motor or the movable body has become equal to or lower than a predetermined speed.

【0046】また、可動体の回転速度を減速した後、動
力開放位置の近傍で、一旦、可動体を停止させ、その
後、可動体を自由運動状態にしてもよい。その場合は、
可動体を回転駆動する駆動源に、例えば、制動器付きモ
ータを使用する。つまり、可動体が減速開始位置に到達
したことを検知したら、駆動源のモータへの動力供給を
停止するとともに制動器に動力を印加し、可動体の移動
速度を減速する。次いで、可動体が停止するのに必要な
一定時間を経過後に、制動器への動力供給を停止する。
すると、モータ、制動器ともに動作を停止するので、可
動体は自由運動状態になり、重力によって落下し、スト
ッパーに当接して停止する。
After the rotation speed of the movable body is reduced, the movable body may be temporarily stopped near the power release position, and then the movable body may be brought into a free motion state. In that case,
For example, a motor with a brake is used as a drive source that rotationally drives the movable body. That is, when it is detected that the movable body has reached the deceleration start position, the power supply to the motor of the drive source is stopped and the power is applied to the brake to reduce the moving speed of the movable body. Next, after a certain period of time required for stopping the movable body has elapsed, the power supply to the brake is stopped.
Then, both the motor and the brake stop operating, so that the movable body is in a free motion state, falls by gravity, comes into contact with the stopper, and stops.

【0047】なお、上記説明では、可動体を回転駆動す
る駆動源のモータへの、動力供給を停止することによっ
て、可動体が自由運動状態になるように構成したが、前
記可動体を固定する回転軸と駆動源のモータとの間を、
電磁クラッチなどの動力伝達制御手段を介して連結する
ように構成してもよい。その場合は、電磁クラッチを開
放することによって、可動体および回転軸のみが自由運
動状態になり、可動体の落下動作が駆動源のモータに直
接伝達されることがなく、したがって、可動体がストッ
パーに当接したときの衝撃によるモータの損傷を効果的
に防止できる。
In the above description, the power supply to the motor of the driving source for rotating the movable body is stopped so that the movable body enters a free motion state. However, the movable body is fixed. Between the rotating shaft and the drive source motor,
You may comprise so that it may connect via power transmission control means, such as an electromagnetic clutch. In this case, by releasing the electromagnetic clutch, only the movable body and the rotating shaft are in a free motion state, and the dropping operation of the movable body is not directly transmitted to the motor of the driving source. The motor can be effectively prevented from being damaged by an impact when the motor contacts the motor.

【0048】[0048]

【発明の効果】以上、詳細に説明した如く、本発明の可
動体停止方法は、請求項1に示したように、可動体を減
速開始位置まで高速に移動する工程と、減速開始位置か
ら動力開放位置まで可動体の移動速度を減速する工程
と、動力開放位置から停止位置まで、可動体に作用する
重力や慣性を利用して可動体を移動する工程とを含み、
可動体を停止位置に設けたストッパーに当接して停止す
るので、ストッパーに当接する際の衝撃が少なく、ま
た、短時間に可動体を停止させることができる。
As described above in detail, according to the first aspect of the present invention, the movable body stopping method according to the present invention comprises the steps of: moving the movable body to the deceleration start position at a high speed; A step of reducing the moving speed of the movable body to the open position, and a step of moving the movable body using gravity or inertia acting on the movable body from the power release position to the stop position,
Since the movable body comes into contact with the stopper provided at the stop position and stops, the impact when contacting the stopper is small, and the movable body can be stopped in a short time.

【0049】また、本発明の可動体停止機構は、請求項
2に示したように、駆動軸に固定されて回転移動する可
動体を、停止位置に設けたストッパーに当接して停止さ
せる機構であって、可動体を回転移動する駆動源と、前
記可動体の回転位置を検出する位置検出器と、前記位置
検出器の出力信号に基づいて、駆動源に印加する動力を
制御する制御装置とで構成され、可動体の移動速度を減
速した後、可動体の停止位置の直前において、可動体を
自由運動状態にし、可動体に作用する重力や慣性を利用
して停止位置に設けたストッパーに可動体を当接し停止
させるので、高精度な位置決め機構や制動手段が不要で
あり、簡単な構成の停止機構を用いて、可動体をスムー
ズに停止させることができる。
Further, the movable body stopping mechanism of the present invention is a mechanism for stopping the movable body fixed to the drive shaft and rotating and rotating by contacting the stopper provided at the stop position. A driving source that rotationally moves the movable body, a position detector that detects a rotational position of the movable body, and a control device that controls power applied to the drive source based on an output signal of the position detector. After the moving speed of the movable body is reduced, immediately before the stop position of the movable body, the movable body is brought into a free motion state, and the stopper provided at the stop position by utilizing gravity or inertia acting on the movable body. Since the movable body is brought into contact with and stopped, a high-precision positioning mechanism and a braking means are not required, and the movable body can be smoothly stopped using a simple stop mechanism.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 停止機構の構成例を示すブロック図である。FIG. 1 is a block diagram illustrating a configuration example of a stop mechanism.

【図2】 停止機構の動作チャートである。FIG. 2 is an operation chart of a stop mechanism.

【図3】 停止機構を組み込んだ装置の概略側面図であ
る。
FIG. 3 is a schematic side view of a device incorporating a stop mechanism.

【図4】 従来の可動体停止機構の一例である。FIG. 4 is an example of a conventional movable body stopping mechanism.

【図5】 従来の可動体停止機構の他の一例である。FIG. 5 is another example of a conventional movable body stopping mechanism.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 可動体 2 ストッパー 3 駆動軸 4 制動手段 5 駆動源 6 位置検出器 7 制御装置 10 塗布装置 11 基板保持部材 12 塗布ヘッド 13 回転軸 14 塗布部枢体 15 リニアガイド 16 架台 20A、20B ストッパー M1、M2 モータ O 減速開始位置 P 動力開放位置 Q 停止位置(基板着脱位置) R 塗布位置(停止位置) S 被塗布基板 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Movable body 2 Stopper 3 Drive shaft 4 Braking means 5 Driving source 6 Position detector 7 Control device 10 Coating device 11 Substrate holding member 12 Coating head 13 Rotation axis 14 Coating part pivot 15 Linear guide 16 Stand 20A, 20B Stopper M1, M2 Motor O Deceleration start position P Power release position Q Stop position (substrate attaching / detaching position) R Coating position (stop position) S Substrate to be coated

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 竹本 潤 東京都新宿区市谷加賀町一丁目1番1号 大日本印刷株式会社内 (72)発明者 中島 泰秀 東京都新宿区市谷加賀町一丁目1番1号 大日本印刷株式会社内 (72)発明者 宮川 俊二 東京都新宿区市谷加賀町一丁目1番1号 大日本印刷株式会社内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Jun Takemoto 1-1-1, Ichigaya Kagacho, Shinjuku-ku, Tokyo Inside Dai Nippon Printing Co., Ltd. (72) Inventor Yasuhide Nakajima 1-chome, Ichigaga-cho, Shinjuku-ku, Tokyo No. 1 Dai Nippon Printing Co., Ltd. (72) Inventor Shunji Miyakawa 1-1 1-1 Ichigaya Kagacho, Shinjuku-ku, Tokyo

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 停止位置に設けたストッパーに当接し
て、可動体を停止する方法であって、可動体を減速開始
位置まで高速に移動する工程と、減速開始位置から動力
開放位置まで可動体の移動速度を減速する工程と、動力
開放位置から停止位置まで、可動体に作用する重力や慣
性を利用して可動体を移動する工程とを含むことを特徴
とする可動体の停止方法。
1. A method for stopping a movable body by contacting a stopper provided at a stop position, wherein the movable body is moved to a deceleration start position at a high speed, and the movable body is moved from a deceleration start position to a power release position. A step of reducing the moving speed of the movable body, and a step of moving the movable body from the power release position to the stop position by utilizing gravity or inertia acting on the movable body.
【請求項2】 駆動軸に固定されて回転移動する可動体
を、停止位置に設けたストッパーに当接して停止させる
機構であって、可動体を回転移動する駆動源と、前記可
動体の回転位置を検出する位置検出器と、前記位置検出
器の出力信号に基づいて、駆動源に印加する動力を制御
する制御装置とで構成され、可動体の移動速度を減速し
た後、可動体の停止位置の直前において、可動体を自由
運動状態にし、可動体に作用する重力や慣性を利用して
停止位置に設けたストッパーに可動体を当接し停止させ
ることを特徴とする可動体の停止機構。
2. A mechanism for stopping a movable body fixed to a drive shaft and rotating and moving by contacting a stopper provided at a stop position, wherein a driving source for rotating the movable body and a rotation of the movable body are provided. It comprises a position detector for detecting a position, and a control device for controlling the power applied to the drive source based on the output signal of the position detector. After the moving speed of the movable body is reduced, the movable body is stopped. A stop mechanism for a movable body, wherein the movable body is brought into a free motion state immediately before the position, and the movable body is stopped by abutting a stopper provided at a stop position using gravity or inertia acting on the movable body.
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