JPH11316917A - 電流による磁化固定型スピンバルブセンサ、スピンバルブセンサのピン層磁化固定方法、磁気ディスク装置、及び読出し/書込みヘッドアセンブリ - Google Patents
電流による磁化固定型スピンバルブセンサ、スピンバルブセンサのピン層磁化固定方法、磁気ディスク装置、及び読出し/書込みヘッドアセンブリInfo
- Publication number
- JPH11316917A JPH11316917A JP11067074A JP6707499A JPH11316917A JP H11316917 A JPH11316917 A JP H11316917A JP 11067074 A JP11067074 A JP 11067074A JP 6707499 A JP6707499 A JP 6707499A JP H11316917 A JPH11316917 A JP H11316917A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- spin valve
- thickness
- valve sensor
- free layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R33/00—Arrangements or instruments for measuring magnetic variables
- G01R33/02—Measuring direction or magnitude of magnetic fields or magnetic flux
- G01R33/06—Measuring direction or magnitude of magnetic fields or magnetic flux using galvano-magnetic devices
- G01R33/09—Magnetoresistive devices
- G01R33/093—Magnetoresistive devices using multilayer structures, e.g. giant magnetoresistance sensors
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y10/00—Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y25/00—Nanomagnetism, e.g. magnetoimpedance, anisotropic magnetoresistance, giant magnetoresistance or tunneling magnetoresistance
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/33—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only
- G11B5/39—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only using magneto-resistive devices or effects
- G11B5/3903—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only using magneto-resistive devices or effects using magnetic thin film layers or their effects, the films being part of integrated structures
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/33—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only
- G11B5/39—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only using magneto-resistive devices or effects
- G11B5/3903—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only using magneto-resistive devices or effects using magnetic thin film layers or their effects, the films being part of integrated structures
- G11B5/3906—Details related to the use of magnetic thin film layers or to their effects
- G11B5/3929—Disposition of magnetic thin films not used for directly coupling magnetic flux from the track to the MR film or for shielding
- G11B5/3932—Magnetic biasing films
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/33—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only
- G11B5/39—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only using magneto-resistive devices or effects
- G11B5/3903—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only using magneto-resistive devices or effects using magnetic thin film layers or their effects, the films being part of integrated structures
- G11B5/3967—Composite structural arrangements of transducers, e.g. inductive write and magnetoresistive read
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/33—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only
- G11B5/39—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only using magneto-resistive devices or effects
- G11B5/3903—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only using magneto-resistive devices or effects using magnetic thin film layers or their effects, the films being part of integrated structures
- G11B5/399—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only using magneto-resistive devices or effects using magnetic thin film layers or their effects, the films being part of integrated structures with intrinsic biasing, e.g. provided by equipotential strips
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B2005/0002—Special dispositions or recording techniques
- G11B2005/0005—Arrangements, methods or circuits
- G11B2005/001—Controlling recording characteristics of record carriers or transducing characteristics of transducers by means not being part of their structure
- G11B2005/0013—Controlling recording characteristics of record carriers or transducing characteristics of transducers by means not being part of their structure of transducers, e.g. linearisation, equalisation
- G11B2005/0016—Controlling recording characteristics of record carriers or transducing characteristics of transducers by means not being part of their structure of transducers, e.g. linearisation, equalisation of magnetoresistive transducers
- G11B2005/0018—Controlling recording characteristics of record carriers or transducing characteristics of transducers by means not being part of their structure of transducers, e.g. linearisation, equalisation of magnetoresistive transducers by current biasing control or regulation
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/33—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only
- G11B5/39—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only using magneto-resistive devices or effects
- G11B2005/3996—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only using magneto-resistive devices or effects large or giant magnetoresistive effects [GMR], e.g. as generated in spin-valve [SV] devices
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/012—Recording on, or reproducing or erasing from, magnetic disks
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/48—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed
- G11B5/4806—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed specially adapted for disk drive assemblies, e.g. assembly prior to operation, hard or flexible disk drives
Abstract
(57)【要約】
【課題】 反強磁性層を必要としないスピンバルブセ
ンサを提供する。 【解決手段】 電流による磁化固定型スピンバルブセ
ンサ32は、第1の膜厚を有する軟質強磁性フリー層3
4と、第1の膜厚より薄い第2の膜厚を有する軟質強磁
性ピン層38と、フリー層とピン層間に挟まれた銅層3
6と、フリー層、ピン層及び銅層に接続されて、ピン層
を磁気飽和させるのに十分な強度の磁界を発生するバイ
アス電流を供給する電流源40とを有する。フリー層及
びピン層の材料は、主にパーマロイ、コバルト、鉄−コ
バルト、及び軟質コバルト系強磁性合金からなる群から
選択する。フリー層のMr・tは少なくとも0.3memu
/cm 2、ピン層のMr・tは最大0.28memu/cm2、フ
リー層とピン層とのMr・tの比は2〜10の範囲とす
る。センサを流れるバイアス電流は、4mA以上が好ま
しく、それによりピン層に接する反強磁性(AFM)層
を必要とすることなく、ピン層の磁化を適当に固定する
磁界が発生する。
ンサを提供する。 【解決手段】 電流による磁化固定型スピンバルブセ
ンサ32は、第1の膜厚を有する軟質強磁性フリー層3
4と、第1の膜厚より薄い第2の膜厚を有する軟質強磁
性ピン層38と、フリー層とピン層間に挟まれた銅層3
6と、フリー層、ピン層及び銅層に接続されて、ピン層
を磁気飽和させるのに十分な強度の磁界を発生するバイ
アス電流を供給する電流源40とを有する。フリー層及
びピン層の材料は、主にパーマロイ、コバルト、鉄−コ
バルト、及び軟質コバルト系強磁性合金からなる群から
選択する。フリー層のMr・tは少なくとも0.3memu
/cm 2、ピン層のMr・tは最大0.28memu/cm2、フ
リー層とピン層とのMr・tの比は2〜10の範囲とす
る。センサを流れるバイアス電流は、4mA以上が好ま
しく、それによりピン層に接する反強磁性(AFM)層
を必要とすることなく、ピン層の磁化を適当に固定する
磁界が発生する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、一般に磁気ディス
クドライブに関するものであり、特にスピンバルブ磁気
抵抗(MR)薄膜読出しヘッド、とりわけスピンバルブ
センサにその磁化方向を固定するピニング(pinning)
機構を付与する方法及び構造に関するものである。
クドライブに関するものであり、特にスピンバルブ磁気
抵抗(MR)薄膜読出しヘッド、とりわけスピンバルブ
センサにその磁化方向を固定するピニング(pinning)
機構を付与する方法及び構造に関するものである。
【0002】
【従来の技術】磁気ディスクドライブは、コンピュータ
のようなデジタル電子装置のためにデータを格納し又は
取り出すために用いられる。図4A及びBに示すよう
に、従来の磁気ディスクドライブDは、密封されたエン
クロージュア1、ディスクドライブモータ2、モータ2
のスピンルS1によって回転可能に支持された磁気ディ
スク3、アクチュエータ4、及びアクチュエータ4のス
ピンルS2に取着されたアーム5を有する。サスペンシ
ョン6は一方の端部においてアーム5に結合され、かつ
他方の端部において読出し/書込みヘッド、即ちトラン
スデューサ7に結合されている。トランスデューサ7
は、通常センサ読出し素子を備えた誘導型書込み素子で
ある。モータ2が、矢印Rで示すようにディスク3を回
転させると、トランスデューサ7の下に空気ベアリング
が形成され、該トランスデューサをディスク3の表面か
ら僅かに浮上させる。磁気「トラック」の情報は、アク
チュエータ4が矢印Pで示すように短い円弧を描いて回
動すると、磁気ディスク3から読み出すことができる。
磁気ディスクドライブの設計及び製造については、当業
者によく知られている。
のようなデジタル電子装置のためにデータを格納し又は
取り出すために用いられる。図4A及びBに示すよう
に、従来の磁気ディスクドライブDは、密封されたエン
クロージュア1、ディスクドライブモータ2、モータ2
のスピンルS1によって回転可能に支持された磁気ディ
スク3、アクチュエータ4、及びアクチュエータ4のス
ピンルS2に取着されたアーム5を有する。サスペンシ
ョン6は一方の端部においてアーム5に結合され、かつ
他方の端部において読出し/書込みヘッド、即ちトラン
スデューサ7に結合されている。トランスデューサ7
は、通常センサ読出し素子を備えた誘導型書込み素子で
ある。モータ2が、矢印Rで示すようにディスク3を回
転させると、トランスデューサ7の下に空気ベアリング
が形成され、該トランスデューサをディスク3の表面か
ら僅かに浮上させる。磁気「トラック」の情報は、アク
チュエータ4が矢印Pで示すように短い円弧を描いて回
動すると、磁気ディスク3から読み出すことができる。
磁気ディスクドライブの設計及び製造については、当業
者によく知られている。
【0003】トランスデューサ7に用いられる最も一般
的な型のセンサは、磁気抵抗センサである。磁気抵抗
(MR)センサは、読出し素子における抵抗値の変化に
より磁界信号を検出するために用いられる。このような
検出のために従来のMRセンサは、読出し素子の抵抗値
が、読出し素子における磁化方向と読出し素子を流れる
センス電流の方向との角度のコサインの二乗に比例して
変化する異方性磁気抵抗(AMR)効果を利用してい
る。MRセンサと磁気媒体(例えば、ディスク表面)と
が相対的に運動すると、媒体からの磁界により読出し素
子の磁化方向に変化が生じ、それに対応した抵抗の変化
を読出し素子に生じさせる。この抵抗の変化を検出し
て、磁気媒体上に記録されたデータを復元することがで
きる。
的な型のセンサは、磁気抵抗センサである。磁気抵抗
(MR)センサは、読出し素子における抵抗値の変化に
より磁界信号を検出するために用いられる。このような
検出のために従来のMRセンサは、読出し素子の抵抗値
が、読出し素子における磁化方向と読出し素子を流れる
センス電流の方向との角度のコサインの二乗に比例して
変化する異方性磁気抵抗(AMR)効果を利用してい
る。MRセンサと磁気媒体(例えば、ディスク表面)と
が相対的に運動すると、媒体からの磁界により読出し素
子の磁化方向に変化が生じ、それに対応した抵抗の変化
を読出し素子に生じさせる。この抵抗の変化を検出し
て、磁気媒体上に記録されたデータを復元することがで
きる。
【0004】磁気抵抗の別の形態は、スピンバルブ磁気
抵抗(SVMR)として知られている。スピンバルブセ
ンサでは、2つの強磁性層が銅層により分離されてい
る。一方の強磁性層は「フリー」層であり、他方の強磁
性層は「ピン」層である。従来技術では、この磁化方向
の固定が、ピン層に隣接して付着された反強磁性層との
交換結合によって達成されている。
抵抗(SVMR)として知られている。スピンバルブセ
ンサでは、2つの強磁性層が銅層により分離されてい
る。一方の強磁性層は「フリー」層であり、他方の強磁
性層は「ピン」層である。従来技術では、この磁化方向
の固定が、ピン層に隣接して付着された反強磁性層との
交換結合によって達成されている。
【0005】詳述すると、図5に示すように、単一素子
のシールド型磁気抵抗ヘッド(MRH)10は、第1シ
ールド12、第2シールド14、及び両シールド12,
14間のギャップ(G)内に設けられたスピンバルブセ
ンサ16を有する。空気ベアリング面SはMRH10に
より画定される。スピンバルブセンサは、自己バイアス
効果を回避するためにギャップGの中心に置かれるのが
好ましい。磁力線がスピンバルブセンサに交わることに
より、検出可能な抵抗値の変化が生ずる。MRH10の
ような磁気抵抗ヘッドの設計及び製造については、当業
者によく知られている。
のシールド型磁気抵抗ヘッド(MRH)10は、第1シ
ールド12、第2シールド14、及び両シールド12,
14間のギャップ(G)内に設けられたスピンバルブセ
ンサ16を有する。空気ベアリング面SはMRH10に
より画定される。スピンバルブセンサは、自己バイアス
効果を回避するためにギャップGの中心に置かれるのが
好ましい。磁力線がスピンバルブセンサに交わることに
より、検出可能な抵抗値の変化が生ずる。MRH10の
ような磁気抵抗ヘッドの設計及び製造については、当業
者によく知られている。
【0006】図6は図5の6−6線における(空気ベア
リング面Sの向きから見た)断面図であって、従来のス
ピンバルブセンサ16の構造が示されている。スピンバ
ルブセンサ16は、フリー層18、銅層20、ピン層2
2、及び反強磁性(AFM)層24を有する。スピンバ
ルブセンサ16は基板17及びバッファ層19に支持さ
れている。強磁性エンド領域21が、スピンバルブセン
サ16の両端に当接している。通常金又は他の低抵抗材
料で作られるリード25が、スピンバルブセンサ16に
電流を供給する。キャップ層27がAFM層24の上に
配設されている。電流源29が、センサ16の各層を流
れる電流Ibを供給し、信号検出回路31が、センサ1
6に磁界が作用したときのセンサ16の抵抗値の変化を
検出する。
リング面Sの向きから見た)断面図であって、従来のス
ピンバルブセンサ16の構造が示されている。スピンバ
ルブセンサ16は、フリー層18、銅層20、ピン層2
2、及び反強磁性(AFM)層24を有する。スピンバ
ルブセンサ16は基板17及びバッファ層19に支持さ
れている。強磁性エンド領域21が、スピンバルブセン
サ16の両端に当接している。通常金又は他の低抵抗材
料で作られるリード25が、スピンバルブセンサ16に
電流を供給する。キャップ層27がAFM層24の上に
配設されている。電流源29が、センサ16の各層を流
れる電流Ibを供給し、信号検出回路31が、センサ1
6に磁界が作用したときのセンサ16の抵抗値の変化を
検出する。
【0007】フリー層及びピン層は、通常パーマロイの
ような軟質強磁性材料から作られる。当業者によく知ら
れているように、パーマロイは名目上81%のニッケル
(Ni)及び19%の鉄(Fe)を含む磁性材料であ
る。層20は銅である。AFM層24は、後でより詳細
に説明するように、ピン層22の磁気方向を設定するた
めに用いられる。
ような軟質強磁性材料から作られる。当業者によく知ら
れているように、パーマロイは名目上81%のニッケル
(Ni)及び19%の鉄(Fe)を含む磁性材料であ
る。層20は銅である。AFM層24は、後でより詳細
に説明するように、ピン層22の磁気方向を設定するた
めに用いられる。
【0008】ピン層22を設ける目的について、図7A
及びBを参照して説明する。図7Aにおいて、フリー層
18は磁化方向を矢印26で示す向きにすることができ
るのに対し、ピン層22は矢印28で示す方向に磁化さ
れる。ピン層22の静磁気結合が無く、銅層20を介し
ての強磁性交換結合が無く、かつセンス電流ISにより
生成される磁界が無い場合、フリー層18は破線の矢印
30で示すような向きに磁化することができる。実際の
磁化角度26は、磁化角度30と、ピン層22の静磁気
結合、銅層20を介しての強磁性交換結合、及びセンス
電流ISにより生成された磁界との和である。
及びBを参照して説明する。図7Aにおいて、フリー層
18は磁化方向を矢印26で示す向きにすることができ
るのに対し、ピン層22は矢印28で示す方向に磁化さ
れる。ピン層22の静磁気結合が無く、銅層20を介し
ての強磁性交換結合が無く、かつセンス電流ISにより
生成される磁界が無い場合、フリー層18は破線の矢印
30で示すような向きに磁化することができる。実際の
磁化角度26は、磁化角度30と、ピン層22の静磁気
結合、銅層20を介しての強磁性交換結合、及びセンス
電流ISにより生成された磁界との和である。
【0009】図7BのR−H曲線に示すように、フリー
層18の磁化30に対して直角をなすピン層22の磁化
28により、比較的大きな傾きを有する比較的線な曲線
上の点33にフリー素子はバイアスされる。勿論、線形
応答となるためには直線性が必要であり、傾きが比較的
大きいことは、それが磁界の変化に対して大きな抵抗値
の変化を生じさせるという点で望ましい。
層18の磁化30に対して直角をなすピン層22の磁化
28により、比較的大きな傾きを有する比較的線な曲線
上の点33にフリー素子はバイアスされる。勿論、線形
応答となるためには直線性が必要であり、傾きが比較的
大きいことは、それが磁界の変化に対して大きな抵抗値
の変化を生じさせるという点で望ましい。
【0010】AFM層24の反強磁性材料は、鉄−マン
ガン(FeMn)のようなマンガン(Mn)合金か、酸
化ニッケル(NiO)のような酸化物の何れかである。
AFM層24は、通常の動作条件の下でピン層22の磁
化が回転するのを防止しており、これによってフリー層
18の磁気モーメントのみが外部磁界の存在下で回転し
得るようになっている。
ガン(FeMn)のようなマンガン(Mn)合金か、酸
化ニッケル(NiO)のような酸化物の何れかである。
AFM層24は、通常の動作条件の下でピン層22の磁
化が回転するのを防止しており、これによってフリー層
18の磁気モーメントのみが外部磁界の存在下で回転し
得るようになっている。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】最も線形な応答と最も
広いダイナミックレンジを有するSVMRセンサは、強
磁性ピン層22の磁化が信号磁界と平行で、フリー層1
8の磁化が信号磁界に対して直角となるようなものであ
る。しかし、ピン層22を固定させるためにAFM層2
4を用いることにより、幾つかの問題が生ずる。一つに
は、AFMによって生ずる交換磁界強度が、非常に温度
の影響を受け易い点である。温度が高くなるにつれて、
AFMは「軟化」し、その強磁性ピン層を固定する能力
が低下する。この結果、SVMRセンサは、静電放電
(ESD)電流、及びそれによって生ずるAFM層24
の加熱の影響を非常に受け易くなる。
広いダイナミックレンジを有するSVMRセンサは、強
磁性ピン層22の磁化が信号磁界と平行で、フリー層1
8の磁化が信号磁界に対して直角となるようなものであ
る。しかし、ピン層22を固定させるためにAFM層2
4を用いることにより、幾つかの問題が生ずる。一つに
は、AFMによって生ずる交換磁界強度が、非常に温度
の影響を受け易い点である。温度が高くなるにつれて、
AFMは「軟化」し、その強磁性ピン層を固定する能力
が低下する。この結果、SVMRセンサは、静電放電
(ESD)電流、及びそれによって生ずるAFM層24
の加熱の影響を非常に受け易くなる。
【0012】更に、FeMnのようなAFM材料は、S
VMRセンサで用いられる他の材料と比較して極めて腐
食し易い。AFM材料が敏感であると、製造プロセスの
各段階において注意深い制御と、SVMRに対する保護
材料の使用が必要となる。また、AFM薄膜24は、そ
れが適当な結晶反強磁性相を呈するように高いアニーリ
ング温度を必要とするという点で、製造が困難である。
VMRセンサで用いられる他の材料と比較して極めて腐
食し易い。AFM材料が敏感であると、製造プロセスの
各段階において注意深い制御と、SVMRに対する保護
材料の使用が必要となる。また、AFM薄膜24は、そ
れが適当な結晶反強磁性相を呈するように高いアニーリ
ング温度を必要とするという点で、製造が困難である。
【0013】
【課題を解決するための手段】本発明は、スピンバルブ
センサにおける反強磁性(AFM)層の必要性を排除す
るものである。この目的は、正しく形成されたフリー層
及びピン層を設け、かつピン層において適当な磁界を誘
導するのに十分な磁界強度を発生するようなバイアス電
流をセンサに供給することにより達成される。
センサにおける反強磁性(AFM)層の必要性を排除す
るものである。この目的は、正しく形成されたフリー層
及びピン層を設け、かつピン層において適当な磁界を誘
導するのに十分な磁界強度を発生するようなバイアス電
流をセンサに供給することにより達成される。
【0014】本発明の電流による磁化固定型スピンバル
ブセンサは、第1の膜厚を有する軟質強磁性フリー層
と、前記第1の膜厚より薄い第2の膜厚を有する軟質強
磁性ピン層と、前記フリー層と前記ピン層との間に挟ま
れた銅層と、線形範囲を大きく失うことなく前記ピン層
を飽和させるのに十分な強度の磁界を発生するバイアス
電流を供給するべく、前記センサの各層に接続された電
流源とを有する。
ブセンサは、第1の膜厚を有する軟質強磁性フリー層
と、前記第1の膜厚より薄い第2の膜厚を有する軟質強
磁性ピン層と、前記フリー層と前記ピン層との間に挟ま
れた銅層と、線形範囲を大きく失うことなく前記ピン層
を飽和させるのに十分な強度の磁界を発生するバイアス
電流を供給するべく、前記センサの各層に接続された電
流源とを有する。
【0015】好ましくは、前記フリー層及びピン層は、
主としてパーマロイ、コバルト、CoFe、及び軟質コ
バルト合金強磁性材料からなる材料の群から選択され
る。また好ましくは、前記フリー層は少なくとも0.3
memu/cm2のMr・tを有し、ピン層は最大0.28mem
u/cm2のMr・tを有する。ここで、Mr・tとは、レ
ムナント磁化(Mr)と薄膜の厚さ(t)との積であ
り、フリー層のMr・tのピン層のMr・tに対する比
は2〜10の範囲が好ましい。また好ましくは、バイア
ス電流は少なくとも4ミリアンペア(mA)である。
主としてパーマロイ、コバルト、CoFe、及び軟質コ
バルト合金強磁性材料からなる材料の群から選択され
る。また好ましくは、前記フリー層は少なくとも0.3
memu/cm2のMr・tを有し、ピン層は最大0.28mem
u/cm2のMr・tを有する。ここで、Mr・tとは、レ
ムナント磁化(Mr)と薄膜の厚さ(t)との積であ
り、フリー層のMr・tのピン層のMr・tに対する比
は2〜10の範囲が好ましい。また好ましくは、バイア
ス電流は少なくとも4ミリアンペア(mA)である。
【0016】本発明によるスピンバルブセンサのピン層
の磁化固定方法は、第1の膜厚の軟質強磁性フリー層、
前記第1の膜厚より薄い第2の膜厚の軟質強磁性ピン
層、及び前記フリー層と前記ピン層との間に挟まれた銅
層を備えたスピンバルブセンサを準備する過程からな
る。この方法は更に、バイアス電流を前記センサに流し
て、ピン層を飽和させるのに十分な強度の電界を発生さ
せる過程を含む。上述したように、好ましくは、前記フ
リー層は少なくとも0.3memu/cm2のMr・tを有
し、ピン層は最大0.28memu/cm2のMr・tを有
し、フリー層のMr・tとピン層のMr・tとの比は、
好ましくは2〜10の範囲である。好ましくは、バイア
ス電流は少なくとも4mAである。
の磁化固定方法は、第1の膜厚の軟質強磁性フリー層、
前記第1の膜厚より薄い第2の膜厚の軟質強磁性ピン
層、及び前記フリー層と前記ピン層との間に挟まれた銅
層を備えたスピンバルブセンサを準備する過程からな
る。この方法は更に、バイアス電流を前記センサに流し
て、ピン層を飽和させるのに十分な強度の電界を発生さ
せる過程を含む。上述したように、好ましくは、前記フ
リー層は少なくとも0.3memu/cm2のMr・tを有
し、ピン層は最大0.28memu/cm2のMr・tを有
し、フリー層のMr・tとピン層のMr・tとの比は、
好ましくは2〜10の範囲である。好ましくは、バイア
ス電流は少なくとも4mAである。
【0017】ピン層及びフリー層の形状とバイアス電流
の大きさとによって、正しく磁化されたピン層が得られ
る。従って、本発明では、ピン層の磁化を固定するため
の反強磁性(AFM)層の必要性が排除されている。こ
れによって、製造上の複雑さが著しく軽減され、センサ
の温度及びESDに対する感度が小さくなり、センサの
信頼性が高まる。
の大きさとによって、正しく磁化されたピン層が得られ
る。従って、本発明では、ピン層の磁化を固定するため
の反強磁性(AFM)層の必要性が排除されている。こ
れによって、製造上の複雑さが著しく軽減され、センサ
の温度及びESDに対する感度が小さくなり、センサの
信頼性が高まる。
【0018】
【発明の実施の形態】本発明の上述した利点及び他の利
点は、以下の実施例の説明及び図面を参照することによ
り、当業者には一層明らかとなろう。図4〜図7は、従
来技術に関連して説明した。図1に示すように、本発明
のスピンバルブセンサ32は、フリー層34、銅層36
及びピン層38を有する。従来技術とは異なり、ピン層
38に隣接する反強磁性(AFM)層が存在しないこと
に注意されたい。ピン層の適当な磁化は、センサ32の
各層を流れるバイアス電流Ibによって生成される磁界
によって誘導される。このバイアス電流は、電流源40
により発生する。この電流により、確実にピン層38の
磁化が電流の向きに対して垂直な方向に飽和するように
する磁界が生成される。
点は、以下の実施例の説明及び図面を参照することによ
り、当業者には一層明らかとなろう。図4〜図7は、従
来技術に関連して説明した。図1に示すように、本発明
のスピンバルブセンサ32は、フリー層34、銅層36
及びピン層38を有する。従来技術とは異なり、ピン層
38に隣接する反強磁性(AFM)層が存在しないこと
に注意されたい。ピン層の適当な磁化は、センサ32の
各層を流れるバイアス電流Ibによって生成される磁界
によって誘導される。このバイアス電流は、電流源40
により発生する。この電流により、確実にピン層38の
磁化が電流の向きに対して垂直な方向に飽和するように
する磁界が生成される。
【0019】フリー層34及びピン層38の材料は、好
ましくは軟質強磁性材料である。最も好ましくは、この
軟質磁性材料は、名目上81%のニッケル及び19%の
鉄を含む周知のパーマロイ磁性材料である。フリー層3
4及びピン層38に適した他の材料には、コバルト(C
o)、鉄−コバルト(CoFe)、及び他の軟質コバル
ト合金強磁性体が含まれる。当業者によく知られている
ように、「軟質」強磁性材料とは、例えば15エルステ
ッド未満の低い飽和保磁力を有する。
ましくは軟質強磁性材料である。最も好ましくは、この
軟質磁性材料は、名目上81%のニッケル及び19%の
鉄を含む周知のパーマロイ磁性材料である。フリー層3
4及びピン層38に適した他の材料には、コバルト(C
o)、鉄−コバルト(CoFe)、及び他の軟質コバル
ト合金強磁性体が含まれる。当業者によく知られている
ように、「軟質」強磁性材料とは、例えば15エルステ
ッド未満の低い飽和保磁力を有する。
【0020】層36は銅であり、フリー層34とピン層
38との間の中間層、つまり「スペーサ」として用いら
れる。即ち、銅層36はフリー層34とピン層38との
間にサンドイッチ状に挟まれている。各層34、36、
及び38を形成するための方法及び装置はスピンバルブ
センサの分野の当業者にとって周知である。
38との間の中間層、つまり「スペーサ」として用いら
れる。即ち、銅層36はフリー層34とピン層38との
間にサンドイッチ状に挟まれている。各層34、36、
及び38を形成するための方法及び装置はスピンバルブ
センサの分野の当業者にとって周知である。
【0021】図2は、図1のスピンバルブセンサ32の
断面図である。各層は膜厚が異なり、図面上での尺度は
正しくないことに注意されたい。フリー層34の膜厚t
fは、40〜100Åの範囲にあるのが好ましい。銅層
35の膜厚tcは、25〜35Åの範囲にあるのが好ま
しい。ピン層38の膜厚tpは、10〜35Åの範囲に
あるのが好ましい。フリー層とピン層のMr・t積の比
は、2〜10の範囲にあるべきであり、2〜5の範囲に
あるのが最も好ましい。
断面図である。各層は膜厚が異なり、図面上での尺度は
正しくないことに注意されたい。フリー層34の膜厚t
fは、40〜100Åの範囲にあるのが好ましい。銅層
35の膜厚tcは、25〜35Åの範囲にあるのが好ま
しい。ピン層38の膜厚tpは、10〜35Åの範囲に
あるのが好ましい。フリー層とピン層のMr・t積の比
は、2〜10の範囲にあるべきであり、2〜5の範囲に
あるのが最も好ましい。
【0022】また、図2に示すのは、センサ16の三つ
の層の、その中を流れる電流Ibによって生ずる磁界分
布である。センサ16を十分な大きさの電流Ibが流れ
ると、ピン層38は電流の向きに対して垂直な方向に飽
和する。従って、この電流は、ピン層の飽和を生じさせ
るのに十分な大きさでなければならないが、センサ16
をその線形範囲からバイアスする程大きくてはならな
い。ここに説明する実施例では、この効果は、約5mA
より大きいバイアス電流、最も好ましくは6又は7mA
以上のバイアス電流において生ずる。しかし、各層の薄
膜がより薄い、即ちMr・tがより小さい本発明の実施
例では、前記効果はより小さいバイアス電流、例えば4
mAで生ずる。
の層の、その中を流れる電流Ibによって生ずる磁界分
布である。センサ16を十分な大きさの電流Ibが流れ
ると、ピン層38は電流の向きに対して垂直な方向に飽
和する。従って、この電流は、ピン層の飽和を生じさせ
るのに十分な大きさでなければならないが、センサ16
をその線形範囲からバイアスする程大きくてはならな
い。ここに説明する実施例では、この効果は、約5mA
より大きいバイアス電流、最も好ましくは6又は7mA
以上のバイアス電流において生ずる。しかし、各層の薄
膜がより薄い、即ちMr・tがより小さい本発明の実施
例では、前記効果はより小さいバイアス電流、例えば4
mAで生ずる。
【0023】この効果を得るためには、ピン層38が、
フリー層34のMr・tと比較して小さいMr・t(即
ち、小さい飽和磁界)を有することが重要である。ピン
層が約0.1〜0.28memu/cm2の極めて小さいMr
・tを有し、フリー層はより大きいMr・t、例えば
0.3〜0.5memu/cm2またはそれ以上のMr・tを
有するのが好ましい。最も好ましくは、フリー層のMr
・tとピン層のMr・tの比が2〜5の範囲である。
フリー層34のMr・tと比較して小さいMr・t(即
ち、小さい飽和磁界)を有することが重要である。ピン
層が約0.1〜0.28memu/cm2の極めて小さいMr
・tを有し、フリー層はより大きいMr・t、例えば
0.3〜0.5memu/cm2またはそれ以上のMr・tを
有するのが好ましい。最も好ましくは、フリー層のMr
・tとピン層のMr・tの比が2〜5の範囲である。
【0024】本発明の好適実施例では、スピンバルブセ
ンサ32がフリー層34に当接するバッファ層35と、
ピン層38に当接するキャップ層39とを有する。バッ
ファ層35は、従来のバッファ層19(図2参照)と同
じ目的で設けられており、キャップ層39は、従来のキ
ャップ層27(同様に図2参照)と同じ目的で設けられ
ている。好ましくは、バッファ層35はチタンかジルコ
ニウムのいずれかで形成される。同様に好ましくは、キ
ャップ層39はタンタルまたはジルコニウムのいずれで
形成される。
ンサ32がフリー層34に当接するバッファ層35と、
ピン層38に当接するキャップ層39とを有する。バッ
ファ層35は、従来のバッファ層19(図2参照)と同
じ目的で設けられており、キャップ層39は、従来のキ
ャップ層27(同様に図2参照)と同じ目的で設けられ
ている。好ましくは、バッファ層35はチタンかジルコ
ニウムのいずれかで形成される。同様に好ましくは、キ
ャップ層39はタンタルまたはジルコニウムのいずれで
形成される。
【0025】実験結果からMr・t及びバイアス電流の
範囲を決定するのに役立つデータが得られる。この実験
データは、ピン層に隣接するAFM層を備えた従来のス
ピンバルブセンサを用いて得られた。
範囲を決定するのに役立つデータが得られる。この実験
データは、ピン層に隣接するAFM層を備えた従来のス
ピンバルブセンサを用いて得られた。
【0026】図3A及びBに示すように、スピンバルブ
センサを流れる電流がIb=−6mAに達したとき、信
号の振幅の大きな変化が観察される。この電流が更に−
7mAまで上昇した場合、抵抗−電界曲線の極性が変わ
り、ピン層の磁界が反転した(図示せず)ことを示す。
このことは、この特定の実験用センサでは、7mAのD
C電流がデバイスの温度を、AFM層が磁気効果を発揮
し得なくなるブロッキング温度より高い温度まで上昇さ
せたことを示している。
センサを流れる電流がIb=−6mAに達したとき、信
号の振幅の大きな変化が観察される。この電流が更に−
7mAまで上昇した場合、抵抗−電界曲線の極性が変わ
り、ピン層の磁界が反転した(図示せず)ことを示す。
このことは、この特定の実験用センサでは、7mAのD
C電流がデバイスの温度を、AFM層が磁気効果を発揮
し得なくなるブロッキング温度より高い温度まで上昇さ
せたことを示している。
【0027】しかしこの実施例では、Ibが正であると
き、Ib=+7mAの辺りで、バイアス点−Ib曲線及び
ピーク間電圧Vpp−Ib曲線の挙動に特別な変化は観察
されなかった。従って、この電流の大きさでは、バイア
ス電流により発生した磁界がピン層を飽和させ、AFM
はその効果を発揮しなくなるので、AFMを除去するこ
とが可能となる。これは、ピン層が非常に低いMr・
t、即ち小さい飽和磁界を有することから達成される。
他の形態では、AFM層を必要とせずにピン層を飽和さ
せて磁化固定磁界を生成するのに、約5mAの電流Ib
で十分である。
き、Ib=+7mAの辺りで、バイアス点−Ib曲線及び
ピーク間電圧Vpp−Ib曲線の挙動に特別な変化は観察
されなかった。従って、この電流の大きさでは、バイア
ス電流により発生した磁界がピン層を飽和させ、AFM
はその効果を発揮しなくなるので、AFMを除去するこ
とが可能となる。これは、ピン層が非常に低いMr・
t、即ち小さい飽和磁界を有することから達成される。
他の形態では、AFM層を必要とせずにピン層を飽和さ
せて磁化固定磁界を生成するのに、約5mAの電流Ib
で十分である。
【0028】上述したように、例えば各層の膜厚tを薄
くしてMr・tを低くすることによって、より小さい電
流Ibで所望の挙動を起こさせることが可能となる。例
えば、各層のMr・tを低くすると、バイアス電流Ib
=4mAで所望の効果を達成できる。
くしてMr・tを低くすることによって、より小さい電
流Ibで所望の挙動を起こさせることが可能となる。例
えば、各層のMr・tを低くすると、バイアス電流Ib
=4mAで所望の効果を達成できる。
【0029】以上、幾つかの好適実施例を用いて本発明
を説明したが、上記実施例についての様々な変形、変
更、及びそれらと均等な範囲のものは、本明細書及び添
付図面の記載から当業者であれば明らかであろう。従っ
て、それら全ての変形・変更及び均等物は本発明の技術
的範囲に含まれるものである。
を説明したが、上記実施例についての様々な変形、変
更、及びそれらと均等な範囲のものは、本明細書及び添
付図面の記載から当業者であれば明らかであろう。従っ
て、それら全ての変形・変更及び均等物は本発明の技術
的範囲に含まれるものである。
【0030】
【発明の効果】本発明によれば、以上述べたようにスピ
ンバルブセンサを構成することにより、ピン層の磁化
を、それに隣接するAFM層を設けるこなく、適当に固
定することが可能となり、製造上有利であると共に、温
度の影響を受け難い安定した性能が得られる。
ンバルブセンサを構成することにより、ピン層の磁化
を、それに隣接するAFM層を設けるこなく、適当に固
定することが可能となり、製造上有利であると共に、温
度の影響を受け難い安定した性能が得られる。
【図1】本発明のスピンバルブセンサの斜視図である。
【図2】図1のスピンバルブセンサの端面図である。
【図3】A図及びB図は、それぞれスピンバルブセンサ
のバイアス電流に対するバイアス点及び電圧の振幅を示
すグラフである。
のバイアス電流に対するバイアス点及び電圧の振幅を示
すグラフである。
【図4】A図は磁気ディスクアセンブリの一部断面正面
図、B図はA図の4B−4B線における断面図である。
図、B図はA図の4B−4B線における断面図である。
【図5】従来のシールド型垂直磁気抵抗スピンバルブセ
ンサヘッドの斜視図である。
ンサヘッドの斜視図である。
【図6】スピンバルブセンサ及び関連する基板、支持構
造、及び回路を示す、図5の6−6線における断面図で
ある。
造、及び回路を示す、図5の6−6線における断面図で
ある。
【図7】A図は図6のスピンバルブセンサのフリー層及
びピン層の磁気モーメントの方向を示す図、B図はスピ
ンバルブセンサの抵抗値対磁界の関係を示すグラフであ
る。
びピン層の磁気モーメントの方向を示す図、B図はスピ
ンバルブセンサの抵抗値対磁界の関係を示すグラフであ
る。
1 エンクロージュア 2 モータ 3 磁気ディスク 4 アクチュエータ 5 アーム 6 サスペンション 7 トランスデューサ 10 MRヘッド 12 第1シールド 14 第2シールド 16 スピンバルブセンサ 17 基板 18 フリー層 19 バッファ層 20 銅層 21 強磁性エンド領域 22 ピン層 24 反強磁性層 25 リード 29 電流源 31 信号検出回路 32 スピンバルブセンサ 34 フリー層 35 バッファ層 36 銅層 38 ピン層 39 キャップ層 40 電流源
Claims (20)
- 【請求項1】 第1の膜厚及び第1のMr・tを有す
る軟質強磁性フリー層と、 前記第1の膜厚より薄い第2の膜厚、及び前記第1のM
r・tより実質的に小さい第2のMr・tを有する軟質
強磁性ピン層と、 前記フリー層と前記ピン層との間に配置された銅層と、 前記フリー層、前記ピン層及び前記銅層に接続されて、
前記ピン層を飽和させるのに十分な強度の磁界を発生さ
せるバイアス電流を供給する電流源とを有することを特
徴とする電流による磁化固定型スピンバルブセンサ。 - 【請求項2】 前記フリー層及び前記ピン層が、主と
してパーマロイ(NiFe)、コバルト(Co)、鉄−
コバルト(CoFe)、及び軟質コバルト系強磁性合金
からなる材料の群から選択されたものであることを特徴
とする請求項1に記載のスピンバルブセンサ。 - 【請求項3】 前記フリー層が少なくとも0.3memu
/cm2のMr・tを有し、前記ピン層が最大0.28mem
u/cm2のMr・tを有し、前記フリー層のMr・tの前
記ピン層のMr・tに対する比が2〜10の範囲にある
ことを特徴とする請求項2に記載のスピンバルブセン
サ。 - 【請求項4】 前記バイアス電流が少なくとも4mA
であることを特徴とする請求項3に記載のスピンバルブ
センサ。 - 【請求項5】 前記フリー層の膜厚が40〜100Å
の範囲にあり、前記ピン層の膜厚が10〜35Åの範囲
にあり、前記銅層の膜厚が20〜35の範囲にあること
を特徴とする請求項1に記載のスピンバルブセンサ。 - 【請求項6】 前記フリー層に当接するバッファ層を
更に有し、前記バッファ層が、主としてタンタル及びジ
ルコニウムからなる群から選択されることを特徴とする
請求項1に記載のスピンバルブセンサ。 - 【請求項7】 前記ピン層に当接するキャップ層を更
に有し、前記キャップ層が、主としてタンタル及びジル
コニウムからなる群から選択されることを特徴とする請
求項6に記載のスピンバルブセンサ。 - 【請求項8】 第1の膜厚及び第1のMr・tを有す
る軟質強磁性フリー層と、 前記第1の膜厚より薄い第2の膜厚、及び前記第1のM
r・tより概ね小さい第2のMr・tを有する軟質強磁
性ピン層と、 前記フリー層と前記ピン層との間に配置された銅層とか
らなることを特徴とする電流による磁化固定型スピンバ
ルブセンサ。 - 【請求項9】 前記フリー層及び前記ピン層が、主と
してパーマロイ(NiFe)、コバルト(Co)、鉄−
コバルト(CoFe)、及び軟質コバルト系強磁性合金
からなる材料の群から選択されたものであることを特徴
とする請求項8に記載のスピンバルブセンサ。 - 【請求項10】 前記フリー層が少なくとも0.3me
mu/cm2のMr・tを有し、前記ピン層が最大0.28m
emu/cm2のMr・tを有し、前記フリー層のMr・tの
前記ピン層のMr・tに対する比が2〜10の範囲にあ
ることを特徴とする請求項9に記載のスピンバルブセン
サ。 - 【請求項11】 前記バイアス電流が少なくとも4m
Aであることを特徴とする請求項10に記載のスピンバ
ルブセンサ。 - 【請求項12】 前記フリー層の膜厚が40〜100
Åの範囲にあり、前記ピン層の膜厚が10〜35Åの範
囲にあり、前記銅層の膜厚が20〜35の範囲にあるこ
とを特徴とする請求項8に記載のスピンバルブセンサ。 - 【請求項13】 前記フリー層に当接するバッファ層
を更に有し、前記バッファ層が、主としてタンタル及び
ジルコニウムからなる群から選択されることを特徴とす
る請求項8に記載のスピンバルブセンサ。 - 【請求項14】 前記ピン層に当接するキャップ層を
更に有し、前記キャップ層が、主としてタンタル及びジ
ルコニウムからなる群から選択されることを特徴とする
請求項13に記載のスピンバルブセンサ。 - 【請求項15】 第1の膜厚を有する軟質強磁性フリ
ー層、前記第1の膜厚より薄い第2の膜厚を有する軟質
強磁性ピン層、及び前記フリー層と前記ピン層との間に
配置された銅層を有するスピンバルブセンサを準備する
過程と、 前記スピンバルブセンサにバイアス電流を流して前記ピ
ン層を飽和させる過程とを有することを特徴とするスピ
ンバルブセンサのピン層磁化固定方法。 - 【請求項16】 前記フリー層が少なくとも0.3me
mu/cm2のMr・tを有し、前記ピン層が最大0.28m
emu/cm2のMr・tを有し、前記フリー層のMr・tの
前記ピン層のMr・tに対する比が2〜10の範囲にあ
ることを特徴とする請求項15に記載の方法。 - 【請求項17】 前記バイアス電流が少なくとも4m
Aであることを特徴とする請求項15に記載の方法。 - 【請求項18】 軸に関して回転するようにモータに
結合された磁気ディスクと、 第1の膜厚及び第1のMr・tを有する軟質強磁性フリ
ー層と、前記第1の膜厚より薄い第2の膜厚、及び前記
第1のMr・tより概ね小さい第2のMr・tを有する
軟質強磁性ピン層と、前記フリー層と前記ピン層との間
に配置された銅層とを有するスピンバルブセンサを備
え、前記磁気ディスクの上に支持されたトランスデュー
サと、 前記スピンバルブセンサに接続されて、前記ピン層を飽
和させるのに十分な強度の磁界を発生させるバイアス電
流を供給する電流源とを有することを特徴とする磁気デ
ィスク装置。 - 【請求項19】 第1の膜厚と第1のMr・tとを有
する軟質強磁性フリー層、前記第1の膜厚より薄い第2
の膜厚と、前記第1のMr・tより概ね小さい第2のM
r・tとを有する軟質強磁性ピン層、及び前記フリー層
と前記ピン層との間に配置された銅層を有するトランス
デューサと、誘導型書込み素子とを備えたトランスデュ
ーサと、 その一端の近傍において前記トランスデューサを支持す
る細長いサスペンションアームとを有することを特徴と
する読出し/書込みヘッドアセンブリ。 - 【請求項20】 前記フリー層が少なくとも0.3me
mu/cm2のMr・tを有し、前記ピン層が最大0.28m
emu/cm2のMr・tを有し、前記フリー層のMr・tの
前記ピン層のMr・tに対する比が2〜10の範囲にあ
ることを特徴とする請求項19に記載の読出し/書込み
ヘッドアセンブリ。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US09/038919 | 1998-03-12 | ||
US09/038,919 US6108166A (en) | 1998-03-12 | 1998-03-12 | Current-pinned spin valve sensor |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11316917A true JPH11316917A (ja) | 1999-11-16 |
Family
ID=21902655
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11067074A Pending JPH11316917A (ja) | 1998-03-12 | 1999-03-12 | 電流による磁化固定型スピンバルブセンサ、スピンバルブセンサのピン層磁化固定方法、磁気ディスク装置、及び読出し/書込みヘッドアセンブリ |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6108166A (ja) |
JP (1) | JPH11316917A (ja) |
Families Citing this family (130)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8689430B1 (en) | 2006-11-29 | 2014-04-08 | Western Digital (Fremont), Llc | Method for providing a perpendicular magnetic recording (PMR)head |
US8404128B1 (en) | 2009-02-23 | 2013-03-26 | Western Digital (Fremont), Llc | Method and system for providing a perpendicular magnetic recording head |
US8400731B1 (en) | 2009-04-19 | 2013-03-19 | Western Digital (Fremont), Llc | Write head with variable side shield gaps |
US8611055B1 (en) | 2009-07-31 | 2013-12-17 | Western Digital (Fremont), Llc | Magnetic etch-stop layer for magnetoresistive read heads |
US9202480B2 (en) | 2009-10-14 | 2015-12-01 | Western Digital (Fremont), LLC. | Double patterning hard mask for damascene perpendicular magnetic recording (PMR) writer |
US8441896B2 (en) | 2010-06-25 | 2013-05-14 | Western Digital (Fremont), Llc | Energy assisted magnetic recording head having laser integrated mounted to slider |
US8997832B1 (en) | 2010-11-23 | 2015-04-07 | Western Digital (Fremont), Llc | Method of fabricating micrometer scale components |
US8441756B1 (en) | 2010-12-16 | 2013-05-14 | Western Digital (Fremont), Llc | Method and system for providing an antiferromagnetically coupled writer |
US9123359B1 (en) | 2010-12-22 | 2015-09-01 | Western Digital (Fremont), Llc | Magnetic recording transducer with sputtered antiferromagnetic coupling trilayer between plated ferromagnetic shields and method of fabrication |
US8456961B1 (en) | 2011-03-22 | 2013-06-04 | Western Digital (Fremont), Llc | Systems and methods for mounting and aligning a laser in an electrically assisted magnetic recording assembly |
US8419954B1 (en) | 2011-10-31 | 2013-04-16 | Western Digital (Fremont), Llc | Method for providing a side shield for a magnetic recording transducer |
US8760823B1 (en) | 2011-12-20 | 2014-06-24 | Western Digital (Fremont), Llc | Method and system for providing a read transducer having soft and hard magnetic bias structures |
US8451563B1 (en) | 2011-12-20 | 2013-05-28 | Western Digital (Fremont), Llc | Method for providing a side shield for a magnetic recording transducer using an air bridge |
US9093639B2 (en) | 2012-02-21 | 2015-07-28 | Western Digital (Fremont), Llc | Methods for manufacturing a magnetoresistive structure utilizing heating and cooling |
US9349392B1 (en) | 2012-05-24 | 2016-05-24 | Western Digital (Fremont), Llc | Methods for improving adhesion on dielectric substrates |
US8724259B1 (en) | 2012-06-11 | 2014-05-13 | Western Digital (Fremont), Llc | Conformal high moment side shield seed layer for perpendicular magnetic recording writer |
US8711528B1 (en) | 2012-06-29 | 2014-04-29 | Western Digital (Fremont), Llc | Tunnel magnetoresistance read head with narrow shield-to-shield spacing |
US9269382B1 (en) | 2012-06-29 | 2016-02-23 | Western Digital (Fremont), Llc | Method and system for providing a read transducer having improved pinning of the pinned layer at higher recording densities |
US9213322B1 (en) | 2012-08-16 | 2015-12-15 | Western Digital (Fremont), Llc | Methods for providing run to run process control using a dynamic tuner |
US9053719B2 (en) | 2012-11-30 | 2015-06-09 | Western Digital (Fremont), Llc | Magnetoresistive sensor for a magnetic storage system read head, and fabrication method thereof |
US8984740B1 (en) | 2012-11-30 | 2015-03-24 | Western Digital (Fremont), Llc | Process for providing a magnetic recording transducer having a smooth magnetic seed layer |
US8980109B1 (en) | 2012-12-11 | 2015-03-17 | Western Digital (Fremont), Llc | Method for providing a magnetic recording transducer using a combined main pole and side shield CMP for a wraparound shield scheme |
US8760818B1 (en) | 2013-01-09 | 2014-06-24 | Western Digital (Fremont), Llc | Systems and methods for providing magnetic storage elements with high magneto-resistance using heusler alloys |
US9042208B1 (en) | 2013-03-11 | 2015-05-26 | Western Digital Technologies, Inc. | Disk drive measuring fly height by applying a bias voltage to an electrically insulated write component of a head |
US9336814B1 (en) | 2013-03-12 | 2016-05-10 | Western Digital (Fremont), Llc | Inverse tapered waveguide for use in a heat assisted magnetic recording head |
US8883017B1 (en) | 2013-03-12 | 2014-11-11 | Western Digital (Fremont), Llc | Method and system for providing a read transducer having seamless interfaces |
US9111564B1 (en) | 2013-04-02 | 2015-08-18 | Western Digital (Fremont), Llc | Magnetic recording writer having a main pole with multiple flare angles |
US9013836B1 (en) | 2013-04-02 | 2015-04-21 | Western Digital (Fremont), Llc | Method and system for providing an antiferromagnetically coupled return pole |
US9104107B1 (en) | 2013-04-03 | 2015-08-11 | Western Digital (Fremont), Llc | DUV photoresist process |
US8993217B1 (en) | 2013-04-04 | 2015-03-31 | Western Digital (Fremont), Llc | Double exposure technique for high resolution disk imaging |
US9064527B1 (en) | 2013-04-12 | 2015-06-23 | Western Digital (Fremont), Llc | High order tapered waveguide for use in a heat assisted magnetic recording head |
US9070381B1 (en) | 2013-04-12 | 2015-06-30 | Western Digital (Fremont), Llc | Magnetic recording read transducer having a laminated free layer |
US9245545B1 (en) | 2013-04-12 | 2016-01-26 | Wester Digital (Fremont), Llc | Short yoke length coils for magnetic heads in disk drives |
US9431047B1 (en) | 2013-05-01 | 2016-08-30 | Western Digital (Fremont), Llc | Method for providing an improved AFM reader shield |
US9064528B1 (en) | 2013-05-17 | 2015-06-23 | Western Digital Technologies, Inc. | Interferometric waveguide usable in shingled heat assisted magnetic recording in the absence of a near-field transducer |
US9431039B1 (en) | 2013-05-21 | 2016-08-30 | Western Digital (Fremont), Llc | Multiple sensor array usable in two-dimensional magnetic recording |
US9263067B1 (en) | 2013-05-29 | 2016-02-16 | Western Digital (Fremont), Llc | Process for making PMR writer with constant side wall angle |
US9361913B1 (en) | 2013-06-03 | 2016-06-07 | Western Digital (Fremont), Llc | Recording read heads with a multi-layer AFM layer methods and apparatuses |
US9406331B1 (en) | 2013-06-17 | 2016-08-02 | Western Digital (Fremont), Llc | Method for making ultra-narrow read sensor and read transducer device resulting therefrom |
US9287494B1 (en) | 2013-06-28 | 2016-03-15 | Western Digital (Fremont), Llc | Magnetic tunnel junction (MTJ) with a magnesium oxide tunnel barrier |
US9318130B1 (en) | 2013-07-02 | 2016-04-19 | Western Digital (Fremont), Llc | Method to fabricate tunneling magnetic recording heads with extended pinned layer |
US8947985B1 (en) | 2013-07-16 | 2015-02-03 | Western Digital (Fremont), Llc | Heat assisted magnetic recording transducers having a recessed pole |
US8923102B1 (en) | 2013-07-16 | 2014-12-30 | Western Digital (Fremont), Llc | Optical grating coupling for interferometric waveguides in heat assisted magnetic recording heads |
US9275657B1 (en) | 2013-08-14 | 2016-03-01 | Western Digital (Fremont), Llc | Process for making PMR writer with non-conformal side gaps |
US9431032B1 (en) | 2013-08-14 | 2016-08-30 | Western Digital (Fremont), Llc | Electrical connection arrangement for a multiple sensor array usable in two-dimensional magnetic recording |
US9042051B2 (en) | 2013-08-15 | 2015-05-26 | Western Digital (Fremont), Llc | Gradient write gap for perpendicular magnetic recording writer |
US9343098B1 (en) | 2013-08-23 | 2016-05-17 | Western Digital (Fremont), Llc | Method for providing a heat assisted magnetic recording transducer having protective pads |
US9343086B1 (en) | 2013-09-11 | 2016-05-17 | Western Digital (Fremont), Llc | Magnetic recording write transducer having an improved sidewall angle profile |
US9441938B1 (en) | 2013-10-08 | 2016-09-13 | Western Digital (Fremont), Llc | Test structures for measuring near field transducer disc length |
US9042058B1 (en) | 2013-10-17 | 2015-05-26 | Western Digital Technologies, Inc. | Shield designed for middle shields in a multiple sensor array |
US9349394B1 (en) | 2013-10-18 | 2016-05-24 | Western Digital (Fremont), Llc | Method for fabricating a magnetic writer having a gradient side gap |
US9007719B1 (en) | 2013-10-23 | 2015-04-14 | Western Digital (Fremont), Llc | Systems and methods for using double mask techniques to achieve very small features |
US9214172B2 (en) | 2013-10-23 | 2015-12-15 | Western Digital (Fremont), Llc | Method of manufacturing a magnetic read head |
US8988812B1 (en) | 2013-11-27 | 2015-03-24 | Western Digital (Fremont), Llc | Multi-sensor array configuration for a two-dimensional magnetic recording (TDMR) operation |
US9194692B1 (en) | 2013-12-06 | 2015-11-24 | Western Digital (Fremont), Llc | Systems and methods for using white light interferometry to measure undercut of a bi-layer structure |
US9280990B1 (en) | 2013-12-11 | 2016-03-08 | Western Digital (Fremont), Llc | Method for fabricating a magnetic writer using multiple etches |
US9001628B1 (en) | 2013-12-16 | 2015-04-07 | Western Digital (Fremont), Llc | Assistant waveguides for evaluating main waveguide coupling efficiency and diode laser alignment tolerances for hard disk |
US8917581B1 (en) | 2013-12-18 | 2014-12-23 | Western Digital Technologies, Inc. | Self-anneal process for a near field transducer and chimney in a hard disk drive assembly |
US9082423B1 (en) | 2013-12-18 | 2015-07-14 | Western Digital (Fremont), Llc | Magnetic recording write transducer having an improved trailing surface profile |
US8971160B1 (en) | 2013-12-19 | 2015-03-03 | Western Digital (Fremont), Llc | Near field transducer with high refractive index pin for heat assisted magnetic recording |
US9147408B1 (en) | 2013-12-19 | 2015-09-29 | Western Digital (Fremont), Llc | Heated AFM layer deposition and cooling process for TMR magnetic recording sensor with high pinning field |
US8970988B1 (en) | 2013-12-31 | 2015-03-03 | Western Digital (Fremont), Llc | Electric gaps and method for making electric gaps for multiple sensor arrays |
US9305583B1 (en) | 2014-02-18 | 2016-04-05 | Western Digital (Fremont), Llc | Method for fabricating a magnetic writer using multiple etches of damascene materials |
US9183854B2 (en) | 2014-02-24 | 2015-11-10 | Western Digital (Fremont), Llc | Method to make interferometric taper waveguide for HAMR light delivery |
US8988825B1 (en) | 2014-02-28 | 2015-03-24 | Western Digital (Fremont, LLC | Method for fabricating a magnetic writer having half-side shields |
US9142233B1 (en) | 2014-02-28 | 2015-09-22 | Western Digital (Fremont), Llc | Heat assisted magnetic recording writer having a recessed pole |
US9202493B1 (en) | 2014-02-28 | 2015-12-01 | Western Digital (Fremont), Llc | Method of making an ultra-sharp tip mode converter for a HAMR head |
US9396743B1 (en) | 2014-02-28 | 2016-07-19 | Western Digital (Fremont), Llc | Systems and methods for controlling soft bias thickness for tunnel magnetoresistance readers |
US9153255B1 (en) | 2014-03-05 | 2015-10-06 | Western Digital (Fremont), Llc | Method for fabricating a magnetic writer having an asymmetric gap and shields |
US9001467B1 (en) | 2014-03-05 | 2015-04-07 | Western Digital (Fremont), Llc | Method for fabricating side shields in a magnetic writer |
US9135930B1 (en) | 2014-03-06 | 2015-09-15 | Western Digital (Fremont), Llc | Method for fabricating a magnetic write pole using vacuum deposition |
US9934811B1 (en) | 2014-03-07 | 2018-04-03 | Western Digital (Fremont), Llc | Methods for controlling stray fields of magnetic features using magneto-elastic anisotropy |
US9190085B1 (en) | 2014-03-12 | 2015-11-17 | Western Digital (Fremont), Llc | Waveguide with reflective grating for localized energy intensity |
US9111558B1 (en) | 2014-03-14 | 2015-08-18 | Western Digital (Fremont), Llc | System and method of diffractive focusing of light in a waveguide |
US9135937B1 (en) | 2014-05-09 | 2015-09-15 | Western Digital (Fremont), Llc | Current modulation on laser diode for energy assisted magnetic recording transducer |
US8953422B1 (en) | 2014-06-10 | 2015-02-10 | Western Digital (Fremont), Llc | Near field transducer using dielectric waveguide core with fine ridge feature |
US8958272B1 (en) | 2014-06-10 | 2015-02-17 | Western Digital (Fremont), Llc | Interfering near field transducer for energy assisted magnetic recording |
US8976635B1 (en) | 2014-06-10 | 2015-03-10 | Western Digital (Fremont), Llc | Near field transducer driven by a transverse electric waveguide for energy assisted magnetic recording |
US9007879B1 (en) | 2014-06-10 | 2015-04-14 | Western Digital (Fremont), Llc | Interfering near field transducer having a wide metal bar feature for energy assisted magnetic recording |
US9508363B1 (en) | 2014-06-17 | 2016-11-29 | Western Digital (Fremont), Llc | Method for fabricating a magnetic write pole having a leading edge bevel |
US9361914B1 (en) | 2014-06-18 | 2016-06-07 | Western Digital (Fremont), Llc | Magnetic sensor with thin capping layer |
US9053735B1 (en) | 2014-06-20 | 2015-06-09 | Western Digital (Fremont), Llc | Method for fabricating a magnetic writer using a full-film metal planarization |
US9214169B1 (en) | 2014-06-20 | 2015-12-15 | Western Digital (Fremont), Llc | Magnetic recording read transducer having a laminated free layer |
US9042052B1 (en) | 2014-06-23 | 2015-05-26 | Western Digital (Fremont), Llc | Magnetic writer having a partially shunted coil |
US9230565B1 (en) | 2014-06-24 | 2016-01-05 | Western Digital (Fremont), Llc | Magnetic shield for magnetic recording head |
US9190079B1 (en) | 2014-09-22 | 2015-11-17 | Western Digital (Fremont), Llc | Magnetic write pole having engineered radius of curvature and chisel angle profiles |
US9007725B1 (en) | 2014-10-07 | 2015-04-14 | Western Digital (Fremont), Llc | Sensor with positive coupling between dual ferromagnetic free layer laminates |
US9087527B1 (en) | 2014-10-28 | 2015-07-21 | Western Digital (Fremont), Llc | Apparatus and method for middle shield connection in magnetic recording transducers |
US9786301B1 (en) | 2014-12-02 | 2017-10-10 | Western Digital (Fremont), Llc | Apparatuses and methods for providing thin shields in a multiple sensor array |
US9721595B1 (en) | 2014-12-04 | 2017-08-01 | Western Digital (Fremont), Llc | Method for providing a storage device |
US9111550B1 (en) | 2014-12-04 | 2015-08-18 | Western Digital (Fremont), Llc | Write transducer having a magnetic buffer layer spaced between a side shield and a write pole by non-magnetic layers |
US9236560B1 (en) | 2014-12-08 | 2016-01-12 | Western Digital (Fremont), Llc | Spin transfer torque tunneling magnetoresistive device having a laminated free layer with perpendicular magnetic anisotropy |
US9286919B1 (en) | 2014-12-17 | 2016-03-15 | Western Digital (Fremont), Llc | Magnetic writer having a dual side gap |
US9881638B1 (en) | 2014-12-17 | 2018-01-30 | Western Digital (Fremont), Llc | Method for providing a near-field transducer (NFT) for a heat assisted magnetic recording (HAMR) device |
US9214165B1 (en) | 2014-12-18 | 2015-12-15 | Western Digital (Fremont), Llc | Magnetic writer having a gradient in saturation magnetization of the shields |
US9741366B1 (en) | 2014-12-18 | 2017-08-22 | Western Digital (Fremont), Llc | Method for fabricating a magnetic writer having a gradient in saturation magnetization of the shields |
US9343087B1 (en) | 2014-12-21 | 2016-05-17 | Western Digital (Fremont), Llc | Method for fabricating a magnetic writer having half shields |
US10074387B1 (en) | 2014-12-21 | 2018-09-11 | Western Digital (Fremont), Llc | Method and system for providing a read transducer having symmetric antiferromagnetically coupled shields |
US9437251B1 (en) | 2014-12-22 | 2016-09-06 | Western Digital (Fremont), Llc | Apparatus and method having TDMR reader to reader shunts |
US9449625B1 (en) | 2014-12-24 | 2016-09-20 | Western Digital (Fremont), Llc | Heat assisted magnetic recording head having a plurality of diffusion barrier layers |
US9123374B1 (en) | 2015-02-12 | 2015-09-01 | Western Digital (Fremont), Llc | Heat assisted magnetic recording writer having an integrated polarization rotation plate |
US9312064B1 (en) | 2015-03-02 | 2016-04-12 | Western Digital (Fremont), Llc | Method to fabricate a magnetic head including ion milling of read gap using dual layer hard mask |
US9431031B1 (en) | 2015-03-24 | 2016-08-30 | Western Digital (Fremont), Llc | System and method for magnetic transducers having multiple sensors and AFC shields |
US9443541B1 (en) | 2015-03-24 | 2016-09-13 | Western Digital (Fremont), Llc | Magnetic writer having a gradient in saturation magnetization of the shields and return pole |
US9449621B1 (en) | 2015-03-26 | 2016-09-20 | Western Digital (Fremont), Llc | Dual free layer magnetic reader having a rear bias structure having a high aspect ratio |
US9384763B1 (en) | 2015-03-26 | 2016-07-05 | Western Digital (Fremont), Llc | Dual free layer magnetic reader having a rear bias structure including a soft bias layer |
US9245562B1 (en) | 2015-03-30 | 2016-01-26 | Western Digital (Fremont), Llc | Magnetic recording writer with a composite main pole |
US9263071B1 (en) | 2015-03-31 | 2016-02-16 | Western Digital (Fremont), Llc | Flat NFT for heat assisted magnetic recording |
US9147404B1 (en) | 2015-03-31 | 2015-09-29 | Western Digital (Fremont), Llc | Method and system for providing a read transducer having a dual free layer |
US9508372B1 (en) | 2015-06-03 | 2016-11-29 | Western Digital (Fremont), Llc | Shingle magnetic writer having a low sidewall angle pole |
US9508365B1 (en) | 2015-06-24 | 2016-11-29 | Western Digital (Fremont), LLC. | Magnetic reader having a crystal decoupling structure |
US9530443B1 (en) | 2015-06-25 | 2016-12-27 | Western Digital (Fremont), Llc | Method for fabricating a magnetic recording device having a high aspect ratio structure |
US9646639B2 (en) | 2015-06-26 | 2017-05-09 | Western Digital (Fremont), Llc | Heat assisted magnetic recording writer having integrated polarization rotation waveguides |
US9842615B1 (en) | 2015-06-26 | 2017-12-12 | Western Digital (Fremont), Llc | Magnetic reader having a nonmagnetic insertion layer for the pinning layer |
US9431038B1 (en) | 2015-06-29 | 2016-08-30 | Western Digital (Fremont), Llc | Method for fabricating a magnetic write pole having an improved sidewall angle profile |
US9666214B1 (en) | 2015-09-23 | 2017-05-30 | Western Digital (Fremont), Llc | Free layer magnetic reader that may have a reduced shield-to-shield spacing |
US9472216B1 (en) | 2015-09-23 | 2016-10-18 | Western Digital (Fremont), Llc | Differential dual free layer magnetic reader |
US9424866B1 (en) | 2015-09-24 | 2016-08-23 | Western Digital (Fremont), Llc | Heat assisted magnetic recording write apparatus having a dielectric gap |
US9384765B1 (en) | 2015-09-24 | 2016-07-05 | Western Digital (Fremont), Llc | Method and system for providing a HAMR writer having improved optical efficiency |
US9595273B1 (en) | 2015-09-30 | 2017-03-14 | Western Digital (Fremont), Llc | Shingle magnetic writer having nonconformal shields |
US9484051B1 (en) | 2015-11-09 | 2016-11-01 | The Provost, Fellows, Foundation Scholars and the other members of Board, of the College of the Holy and Undivided Trinity of Queen Elizabeth near Dublin | Method and system for reducing undesirable reflections in a HAMR write apparatus |
US9953670B1 (en) | 2015-11-10 | 2018-04-24 | Western Digital (Fremont), Llc | Method and system for providing a HAMR writer including a multi-mode interference device |
US10037770B1 (en) | 2015-11-12 | 2018-07-31 | Western Digital (Fremont), Llc | Method for providing a magnetic recording write apparatus having a seamless pole |
US9812155B1 (en) | 2015-11-23 | 2017-11-07 | Western Digital (Fremont), Llc | Method and system for fabricating high junction angle read sensors |
US9564150B1 (en) | 2015-11-24 | 2017-02-07 | Western Digital (Fremont), Llc | Magnetic read apparatus having an improved read sensor isolation circuit |
US9799351B1 (en) | 2015-11-30 | 2017-10-24 | Western Digital (Fremont), Llc | Short yoke length writer having assist coils |
US9754611B1 (en) | 2015-11-30 | 2017-09-05 | Western Digital (Fremont), Llc | Magnetic recording write apparatus having a stepped conformal trailing shield |
US9858951B1 (en) | 2015-12-01 | 2018-01-02 | Western Digital (Fremont), Llc | Method for providing a multilayer AFM layer in a read sensor |
US9740805B1 (en) | 2015-12-01 | 2017-08-22 | Western Digital (Fremont), Llc | Method and system for detecting hotspots for photolithographically-defined devices |
US9767831B1 (en) | 2015-12-01 | 2017-09-19 | Western Digital (Fremont), Llc | Magnetic writer having convex trailing surface pole and conformal write gap |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5341261A (en) * | 1991-08-26 | 1994-08-23 | International Business Machines Corporation | Magnetoresistive sensor having multilayer thin film structure |
JP2784457B2 (ja) * | 1993-06-11 | 1998-08-06 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション | 磁気抵抗センサ装置 |
US5583725A (en) * | 1994-06-15 | 1996-12-10 | International Business Machines Corporation | Spin valve magnetoresistive sensor with self-pinned laminated layer and magnetic recording system using the sensor |
FR2722918B1 (fr) * | 1994-07-21 | 1996-08-30 | Commissariat Energie Atomique | Capteur a magnetoresistance multicouche autopolarisee |
FR2729790A1 (fr) * | 1995-01-24 | 1996-07-26 | Commissariat Energie Atomique | Magnetoresistance geante, procede de fabrication et application a un capteur magnetique |
US5627704A (en) * | 1996-02-12 | 1997-05-06 | Read-Rite Corporation | Thin film giant magnetoresistive CPP transducer with flux guide yoke structure |
US5650887A (en) * | 1996-02-26 | 1997-07-22 | International Business Machines Corporation | System for resetting sensor magnetization in a spin valve magnetoresistive sensor |
US5666248A (en) * | 1996-09-13 | 1997-09-09 | International Business Machines Corporation | Magnetizations of pinned and free layers of a spin valve sensor set by sense current fields |
US5796561A (en) * | 1996-11-27 | 1998-08-18 | International Business Machines Corporation | Self-biased spin valve sensor |
-
1998
- 1998-03-12 US US09/038,919 patent/US6108166A/en not_active Expired - Fee Related
-
1999
- 1999-03-12 JP JP11067074A patent/JPH11316917A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US6108166A (en) | 2000-08-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH11316917A (ja) | 電流による磁化固定型スピンバルブセンサ、スピンバルブセンサのピン層磁化固定方法、磁気ディスク装置、及び読出し/書込みヘッドアセンブリ | |
US6801411B1 (en) | Dual stripe spin valve sensor without antiferromagnetic pinning layer | |
KR100336733B1 (ko) | 자기 터널 접합 센서용 저 모멘트/고 보자력 고정층 | |
US6137662A (en) | Magnetoresistive sensor with pinned SAL | |
US6185079B1 (en) | Disk drive with thermal asperity reduction circuitry using a magnetic tunnel junction sensor | |
US6418000B1 (en) | Dual, synthetic spin valve sensor using current pinning | |
US6185077B1 (en) | Spin valve sensor with antiferromagnetic and magnetostatically coupled pinning structure | |
KR0175984B1 (ko) | 스핀 밸브 자기저항 소자, 스핀 밸브 자기저항 센서, 자기저장 시스템 및 자기기록 디스크 드라이브 | |
KR100278419B1 (ko) | 재설정 가능한 대칭형 스핀 밸브 | |
US6108177A (en) | Tunnel junction structure with FeX ferromagnetic layers | |
US5793207A (en) | Disk drive with a thermal asperity reduction circuitry using a spin valve sensor | |
US7116530B2 (en) | Thin differential spin valve sensor having both pinned and self pinned structures for reduced difficulty in AFM layer polarity setting | |
KR100297080B1 (ko) | 자기저항스핀밸브판독센서,자기디스크드라이브,자기헤드및그제조방법 | |
JPH10105929A (ja) | 改善された磁気抵抗を有するスピン・バルブ・センサ | |
KR19980041806A (ko) | 자기-바이어스된 이중 스핀 밸브 센서 | |
KR19980041805A (ko) | 자기-바이어스된 스핀 밸브 센서 | |
US6801409B2 (en) | Read head shield having improved stability | |
US7038889B2 (en) | Method and apparatus for enhanced dual spin valve giant magnetoresistance effects having second spin valve self-pinned composite layer | |
JP2008112496A (ja) | 磁気抵抗効果型再生磁気ヘッド及びその再生磁気ヘッドを用いた磁気記録装置 | |
KR100553489B1 (ko) | 스핀 밸브 자기 저항 효과 헤드 및 이것을 사용한 복합형자기 헤드 및 자기 기록 매체 구동 장치 | |
US6327123B1 (en) | Magnetic head employing magnetoresistive sensor and magnetic storage and retrieval system | |
US7180714B2 (en) | Apparatus for providing a ballistic magnetoresistive sensor in a current perpendicular-to-plane mode | |
JP3541245B2 (ja) | 磁気ヘッド及びそれを有する磁気記憶装置 | |
US6704176B2 (en) | Spin valve sensor | |
US6414826B1 (en) | High sensitivity AP pinned head |