JPH11312330A - Beam splitter and composite optical element equipped with same, optical pickup device, and optical recording and reproducing device - Google Patents

Beam splitter and composite optical element equipped with same, optical pickup device, and optical recording and reproducing device

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JPH11312330A
JPH11312330A JP10119515A JP11951598A JPH11312330A JP H11312330 A JPH11312330 A JP H11312330A JP 10119515 A JP10119515 A JP 10119515A JP 11951598 A JP11951598 A JP 11951598A JP H11312330 A JPH11312330 A JP H11312330A
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JP
Japan
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layer film
refractive index
film
beam splitter
receiving element
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JP10119515A
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Satohiko Memesawa
聡彦 目々澤
Takashi Sato
敬 佐藤
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
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Publication of JPH11312330A publication Critical patent/JPH11312330A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide the beam splitter whose light absorption loss, incidence angle dependence, and polarized light separation difference are all small, to provide the composite optical element equipped with it, and to provide the optical pickup device and optical recording and reproducing device which have recording and reproducing characteristics of high quality and small power consumption and are small-sized and thin. SOLUTION: A beam splitter film (half-mirror film 2) has a 1st layer film 2a with a refractive index n1 (e.g. TiO2 film with n1 =2.28), a 2nd layer film 2b with a refractive index n2 less than n1 (e.g. Al2 O3 film with n2 =1.63) on the 1st layer film 2a, a 3rd layer film 2c with a refractive index n3 less than n2 (e.g. SiO2 film with n3 =1.46) on the 2nd layer film 2b, a 4th layer film 2d with a refractive index n4 nearly equal to n2 (e.g. Al2 O3 film with n4 =1.63) on the 3rd layer film 2c, a 5th layer film 2e with a refractive index n5 nearly equal to n4 (e.g. n5 =2.28) on the 4th layer film 2d, and a 6th layer film 2f with a refractive index n6 less than or equal to n3 (e.g. MgF2 film with n6 =1.38) on the 5th layer film 2e.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はビームスプリッタお
よびこれを具備した複合光学素子、ならびに光学ピック
アップ装置および光記録再生装置に関し、さらに詳しく
は、半導体レーザから出射された往路光ビームを反射
し、光記録媒体で反射されて戻る復路光ビームを透過す
るビームスプリッタ膜が形成されたビームスプリッタお
よびこれを具備した複合光学素子、ならびに光学ピック
アップ装置および光記録再生装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a beam splitter, a composite optical element having the same, and an optical pickup device and an optical recording / reproducing device. The present invention relates to a beam splitter formed with a beam splitter film that transmits a return light beam reflected by a recording medium and returns, a composite optical element including the same, an optical pickup device, and an optical recording / reproducing device.

【0002】[0002]

【従来の技術】ROM(Read Only Memory)ディスクや
RAM(Random Access Memory)ディスク等の光記録媒
体に記録された情報を再生する、あるいは光記録媒体に
情報を記録する光記録再生装置には、半導体レーザを光
源とする光学ピックアップ装置が用いられている。近年
では光記録再生装置の小型薄型化の要求とともに光学ピ
ックアップ装置の小型薄型化も求められており、この観
点から光源である半導体レーザと光記録媒体で反射され
た戻りの復路光ビームを受光して光電変換する受光素子
とを同一の半導体基板上に一体的に構成した複合光学素
子を用いた光学ピックアップ装置および光記録再生装置
が注目されている。この複合光学素子を用いた光学ピッ
クアップ装置および光記録再生装置の一例について、光
学ピックアップ装置の概略構成図である図6および光記
録再生装置の概略構成図である図7を参照し、その概略
構成について説明する。
2. Description of the Related Art An optical recording / reproducing apparatus for reproducing information recorded on an optical recording medium such as a ROM (Read Only Memory) disk or a RAM (Random Access Memory) disk, or recording information on an optical recording medium, includes: An optical pickup device using a semiconductor laser as a light source is used. In recent years, along with the demand for smaller and thinner optical recording / reproducing devices, there has also been a demand for smaller and thinner optical pickup devices. From this viewpoint, a semiconductor laser as a light source and a return light beam returning from an optical recording medium are received. An optical pickup apparatus and an optical recording / reproducing apparatus using a composite optical element in which a light receiving element for performing photoelectric conversion on a single semiconductor substrate is integrally formed have attracted attention. An example of an optical pickup device and an optical recording / reproducing device using the composite optical element will be described with reference to FIG. 6 which is a schematic configuration diagram of the optical pickup device and FIG. 7 which is a schematic configuration diagram of the optical recording / reproducing device. Will be described.

【0003】複合光学素子8は、図6に示したように、
半導体基板4に形成された一対の第1の受光素子7aお
よび第2の受光素子7bと、この第1の受光素子7aお
よび第2の受光素子7b上に接着剤等により固着され、
半導体基板4の第1の受光素子7aおよび第2の受光素
子7bが形成された面とほぼ45度傾斜するビームスプ
リッタ膜形成面3aとほぼ平行な高反射面3bとが形成
されたビームスプリッタ3と、ビームスプリッタ膜形成
面3aに対向する側の半導体基板4上のスペーサ5上面
に固着された半導体レーザ6で概略構成されている。
[0003] As shown in FIG.
A pair of a first light receiving element 7a and a second light receiving element 7b formed on the semiconductor substrate 4, and fixed on the first light receiving element 7a and the second light receiving element 7b with an adhesive or the like;
A beam splitter 3 having a surface on which a first light receiving element 7a and a second light receiving element 7b are formed on a semiconductor substrate 4 and a high reflection surface 3b substantially parallel to a beam splitter film forming surface 3a inclined at approximately 45 degrees. And a semiconductor laser 6 fixed to the upper surface of the spacer 5 on the semiconductor substrate 4 on the side facing the beam splitter film forming surface 3a.

【0004】そして、複合光学素子8上には2軸アクチ
ュエータ等のサーボアクチュエータ9が配設されてい
る。たとえば、サーボアクチュエータ9が2軸アクチュ
エータである場合には、たとえば図7に示したように、
対物レンズ9aを保持した可動部9bが固定部9dから
延設された一対の平行バネ9cにより支持されており、
可動部9bには、ともに図示を省略するフォーカシング
コイルおよびトラッキングコイルが固着されている。フ
ォーカシングコイルおよびトラッキングコイルは固定部
9dに固着されて鉄等の磁性材で構成され、ともに図示
を省略するヨークと、このヨークに固着されたマグネッ
トとで構成された磁気回路の空隙部に配置される。フォ
ーカシングコイルおよびトラッキングコイルには、後に
説明するフォーカシングエラー信号およびトラッキング
エラー信号に基づく大きさと方向の電流が流され、対物
レンズ9aを保持した可動部9bをフォーカシング方向
およびトラッキング方向に制御駆動する。そして、光学
ピックアップ装置は上記した複合光学素子8やサーボア
クチュエータ9等を接着剤やネジ等により光学ブロック
11に固着した状態で概略構成されている。
[0004] A servo actuator 9 such as a biaxial actuator is disposed on the composite optical element 8. For example, when the servo actuator 9 is a two-axis actuator, for example, as shown in FIG.
The movable portion 9b holding the objective lens 9a is supported by a pair of parallel springs 9c extending from the fixed portion 9d,
A focusing coil and a tracking coil (both not shown) are fixed to the movable portion 9b. The focusing coil and the tracking coil are fixed to the fixed portion 9d and are made of a magnetic material such as iron. Both are arranged in a gap of a magnetic circuit composed of a yoke (not shown) and a magnet fixed to the yoke. You. A current having a magnitude and direction based on a focusing error signal and a tracking error signal, which will be described later, is applied to the focusing coil and the tracking coil, and controls and drives the movable portion 9b holding the objective lens 9a in the focusing direction and the tracking direction. The optical pickup device is schematically configured such that the composite optical element 8 and the servo actuator 9 are fixed to the optical block 11 with an adhesive or a screw.

【0005】光記録再生装置は、たとえば図7に示した
ように、光学ピックアップ装置が構成された光学ブロッ
ク11をトラッキング方向に案内するとともに、フォー
カシング方向とトラッキング方向の何れの方向も規制す
るメインガイド軸12a、メインガイド軸12aとほぼ
平行であり、フォーカシング方向のみを規制するサブガ
イド軸12b、光学ブロック11をトラッキング方向に
駆動し、リニアモータ等で構成された移動手段の他、何
れも図示を省略するが、光記録媒体10を回転させるス
ピンドルモータ、信号処理やシステムコントローラ等の
回路等で概略構成されている。図7は移動手段を一対の
リニアモータで構成した一例であり、マグネット13を
固着した外ヨーク14と内ヨーク15とで磁気回路を構
成し、光学ブロック11に固着されたコイル16の内側
に内ヨーク15を挿通した事例である。
As shown in FIG. 7, for example, an optical recording / reproducing apparatus guides an optical block 11 having an optical pickup device in a tracking direction, and regulates both a focusing direction and a tracking direction. The axis 12a, the sub-guide axis 12b, which is substantially parallel to the main guide axis 12a, restricts only the focusing direction, drives the optical block 11 in the tracking direction, and includes a moving means constituted by a linear motor or the like. Although omitted, it is schematically constituted by a spindle motor for rotating the optical recording medium 10, circuits for signal processing and a system controller, and the like. FIG. 7 shows an example in which the moving means is constituted by a pair of linear motors. A magnetic circuit is constituted by an outer yoke 14 to which a magnet 13 is fixed and an inner yoke 15, and an inner part is provided inside a coil 16 fixed to the optical block 11. This is a case where the yoke 15 is inserted.

【0006】以下、光学系について再び図6を参照して
説明する。半導体レーザ6の発光面6aから出射された
往路光ビーム(図中の1点鎖線)は、ビームスプリッタ
3のビームスプリッタ膜形成面3aで反射され、2軸ア
クチュエータ等のサーボアクチュエータ9に具備された
対物レンズ9aを介して光記録媒体10の信号記録面に
集光される。そして、信号記録面で反射された復路光ビ
ームは再び対物レンズ9aを透過してビームスプリッタ
膜形成面3aからビームスプリッタ3内に導かれ、第1
の受光素子7aに照射される(図中の2点鎖線)。さら
に、ビームスプリッタ3の第1の受光素子7aとの対向
面で反射された復路光ビームは高反射面3bで反射され
て第2の受光素子7bに照射される。この第1の受光素
子7aおよび第2の受光素子7bで光電変換した信号か
ら、フォーカシングエラー信号、トラッキングエラー信
号およびRF信号等が検出される。このフォーカシング
エラー信号、トラッキングエラー信号およびRF信号の
検出法の一例について、図6におけるA方向からみた第
1の受光素子7aおよび第2の受光素子7bの概略A矢
視図である図8を参照して説明する。
Hereinafter, the optical system will be described again with reference to FIG. The outward light beam (dashed-dotted line in the figure) emitted from the light emitting surface 6a of the semiconductor laser 6 is reflected by the beam splitter film forming surface 3a of the beam splitter 3, and provided to the servo actuator 9 such as a biaxial actuator. The light is focused on the signal recording surface of the optical recording medium 10 via the objective lens 9a. Then, the return light beam reflected on the signal recording surface again passes through the objective lens 9a, is guided from the beam splitter film forming surface 3a into the beam splitter 3, and
(A two-dot chain line in the figure). Further, the return light beam reflected on the surface of the beam splitter 3 facing the first light receiving element 7a is reflected on the high reflection surface 3b and irradiates the second light receiving element 7b. A focusing error signal, a tracking error signal, an RF signal, and the like are detected from the signals photoelectrically converted by the first light receiving element 7a and the second light receiving element 7b. For an example of the method of detecting the focusing error signal, the tracking error signal, and the RF signal, see FIG. 8 which is a schematic view of the first light receiving element 7a and the second light receiving element 7b viewed from the direction A in FIG. I will explain.

【0007】第1の受光素子7aおよび第2の受光素子
7bは何れも4分割された受光部を有している。そし
て、第1の受光素子7aに有する受光部をa、b、c、
dとし、第2の受光素子7bに有する受光部をe、f、
g、hとすれば、フォーカシングエラー信号は((ad
−bc)−(eh−fg))で検出され、トラッキング
エラー信号は、たとえばTPP法(Top-hold and Push-
Pull)と称される(cdgh−abef)−Kt((c
dghのミラーレベル)−(abefのミラーレベ
ル))で検出され(但し、Ktはトラッキングエラー信
号のオフセット量を調整する係数)、RF信号はabc
defghで検出される。
Each of the first light receiving element 7a and the second light receiving element 7b has a light receiving portion divided into four. The light receiving portions of the first light receiving element 7a are denoted by a, b, c,
d, and the light receiving portions of the second light receiving element 7b are e, f,
g, h, the focusing error signal is ((ad
-Bc)-(eh-fg)), and the tracking error signal is, for example, TPP (Top-hold and Push-
(Cdgh-abef) -Kt ((c
dgh (mirror level of dgh) − (mirror level of abef)) (where Kt is a coefficient for adjusting the offset amount of the tracking error signal), and the RF signal is abc
Defgh is detected.

【0008】ビームスプリッタ膜形成面3aに形成され
るビームスプリッタ膜は、往路光ビームに対して、たと
えば20%は反射して対物レンズ9aを介して光記録媒
体10へと導き、80%は透過する膜が形成されてい
る。また、ビームスプリッタ3の第1の受光素子7aと
の対向面にもこのようなビームスプリッタ膜が形成され
ており、復路光ビームに対して、たとえば42%は反射
して高反射面3bを介して第2の受光素子7bへと導
き、58%は透過させて第1の受光素子7aに導く膜が
形成されている。これらのビームスプリッタ膜では光吸
収ロスが小であることが求められており、ビームスプリ
ッタ3の2カ所に形成されるビームスプリッタ膜の特性
は、複合光学素子8の光学特性、強いては光学ピックア
ップ装置および光記録再生装置の記録再生特性を大きく
左右する。とくに、往路光ビームを反射させ、復路光ビ
ームを透過させるビームスプリッタ膜形成面3aに形成
されるビームスプリッタ膜は、高性能な光学特性が要求
される。
The beam splitter film formed on the beam splitter film forming surface 3a reflects, for example, 20% of the outward light beam and guides it to the optical recording medium 10 via the objective lens 9a, and 80% transmits the light beam. Film is formed. Further, such a beam splitter film is also formed on the surface of the beam splitter 3 facing the first light receiving element 7a, and for example, 42% of the return light beam is reflected through the high reflection surface 3b. Thus, a film is formed which leads to the second light receiving element 7b and transmits 58% of the light to the first light receiving element 7a. These beam splitter films are required to have a small light absorption loss, and the characteristics of the beam splitter films formed at two locations of the beam splitter 3 are the optical characteristics of the composite optical element 8 and the optical pickup device. In addition, the recording / reproducing characteristics of the optical recording / reproducing apparatus are largely affected. In particular, high performance optical characteristics are required for the beam splitter film formed on the beam splitter film forming surface 3a that reflects the forward light beam and transmits the backward light beam.

【0009】複合光学素子8を用いる光学ピックアップ
装置では、一般的にコリメータレンズを用いない有限光
学系で構成される。しかしながら、コリメータレンズを
用いない有限光学系で構成され、複合光学素子8を用い
る光学ピックアップ装置には、以下のような問題点があ
る。第1の問題点は、ビームスプリッタ膜における反射
率および透過率が入射光の入射角度に大きく依存性を有
することである。ビームスプリッタ3のビームスプリッ
タ膜形成面3aや第1の受光素子7aとの対向面に形成
されたビームスプリッタ膜への入射光は発散光およびあ
るいは収束光であり、これらのビームスプリッタ膜に入
射する入射角度はさまざまである。とくに、ビームスプ
リッタ膜形成面3aに形成されたビームスプリッタ膜に
は、空気媒質からの入射であるとともに対物レンズ9a
のNA(Numerical Aperture )から決定される収束光
である復路光ビームが直接入射するので、たとえばビー
ムスプリッタ膜形成面3aの垂直軸と復路光ビームの光
軸中心とのなす角度45度±8度の範囲内において反射
率がほぼ一定の20%であることが求められる。第2の
問題点は、ビームスプリッタ膜形成面3aの垂直軸と往
路光ビームおよび復路光ビームの光軸中心とのなす入射
角度が、たとえば45度±8度のような範囲があると、
P偏光成分とS偏光成分の光学特性の違いが大となるこ
とである。すなわち、有限光学系で構成された光学ピッ
クアップ装置においては、P偏光成分とS偏光成分との
特性差である偏光分離差のないことが求められる。そし
て、偏光分離差がなければ、レーザ光の偏光比や光記録
媒体10の複屈折の影響等による偏光性のばらつきに対
して、記録再生特性の劣化を招く虞がなくなる。したが
って、ビームスプリッタ膜形成面3aに形成されたビー
ムスプリッタ膜には、たとえばビームスプリッタ膜形成
面3aの垂直軸と往路光ビームおよび復路光ビームの光
軸中心とのなす入射角度が45度±8度の範囲内にある
とき、Rs=Rp=20%で偏光分離差が生じない、あ
るいは生じても極めて小であることが求められる。
An optical pickup device using the composite optical element 8 is generally constituted by a finite optical system that does not use a collimator lens. However, the optical pickup device which is configured by the finite optical system without using the collimator lens and uses the composite optical element 8 has the following problems. The first problem is that the reflectance and the transmittance in the beam splitter film largely depend on the incident angle of the incident light. Light incident on the beam splitter film forming surface 3a of the beam splitter 3 and the beam splitter film formed on the surface facing the first light receiving element 7a is divergent light and / or convergent light, and is incident on these beam splitter films. The angles of incidence vary. In particular, the beam splitter film formed on the beam splitter film forming surface 3a receives the incident light from the air medium and the objective lens 9a.
The return light beam, which is convergent light determined from the NA (Numerical Aperture), is directly incident, and for example, an angle of 45 degrees ± 8 degrees between the vertical axis of the beam splitter film forming surface 3a and the optical axis center of the return light beam. It is required that the reflectance is approximately constant 20% within the range. A second problem is that if the incident angle between the vertical axis of the beam splitter film forming surface 3a and the optical axis center of the outward light beam and the return light beam has a range of, for example, 45 degrees ± 8 degrees,
The difference is that the difference in optical characteristics between the P-polarized component and the S-polarized component is large. That is, in an optical pickup device constituted by a finite optical system, it is required that there is no polarization separation difference which is a characteristic difference between a P-polarized light component and an S-polarized light component. If there is no polarization separation difference, there is no danger that the recording / reproducing characteristics will be degraded due to variations in polarization due to the polarization ratio of the laser beam or the birefringence of the optical recording medium 10. Therefore, in the beam splitter film formed on the beam splitter film forming surface 3a, for example, the incident angle between the vertical axis of the beam splitter film forming surface 3a and the optical axis center of the forward light beam and the backward light beam is 45 degrees ± 8. When it is in the range of degrees, it is required that no polarization separation difference occurs when Rs = Rp = 20%, or that the difference is extremely small even if it occurs.

【0010】以下、ビームスプリッタ3のビームスプリ
ッタ膜形成面3aに形成されるビームスプリッタ膜につ
いて説明する。一般的にビームスプリッタ膜等の光学機
能膜は、その膜厚を記録再生に用いられる光の波長とほ
ぼ等しくして生じる光の干渉を利用したものである。た
とえば単層のビームスプリッタ膜に垂直に入射する光に
干渉を生じさせる条件はn×d=m×4/λ(ただし、
nは単層のビームスプリッタ膜の屈折率、dは単層のビ
ームスプリッタ膜の膜厚、mは干渉次数(位相膜厚ある
いはQuarter Wave Optical Thicknessとも言い、以下位
相膜厚mと記す)、λは光の波長)で求めることができ
る。そして、単層のビームスプリッタ膜には、空気と単
層のビームスプリッタ膜との第1の境界面および単層の
ビームスプリッタ膜と光学素子との第2の境界面の2つ
の屈折率が異なる境界面がある。位相膜厚mが奇数の場
合は、第1の境界面からの反射波と第2の境界面からの
反射波は位相がπずれるので干渉作用による反射光の弱
めあう効果が最大となる。これとは逆に、位相薄膜mが
偶数の場合では位相が揃い、反射光の強めあう効果が最
大となる。
Hereinafter, the beam splitter film formed on the beam splitter film forming surface 3a of the beam splitter 3 will be described. Generally, an optical functional film such as a beam splitter film utilizes light interference generated by making the film thickness substantially equal to the wavelength of light used for recording and reproduction. For example, the condition for causing interference to light that is perpendicularly incident on a single-layer beam splitter film is n × d = m × 4 / λ (however,
n is the refractive index of the single-layer beam splitter film, d is the thickness of the single-layer beam splitter film, m is the interference order (also referred to as phase thickness or Quarter Wave Optical Thickness, hereinafter referred to as phase thickness m), λ Is the wavelength of light). The single-layer beam splitter film has two different refractive indices: a first interface between air and the single-layer beam splitter film and a second interface between the single-layer beam splitter film and the optical element. There is an interface. When the phase film thickness m is an odd number, the phase of the reflected wave from the first boundary surface and the phase of the reflected wave from the second boundary surface are shifted by π, and the effect of weakening the reflected light due to the interference effect is maximized. Conversely, when the number of the phase thin films m is even, the phases are aligned, and the effect of strengthening the reflected light is maximized.

【0011】前記の干渉を生じさせる条件のn×d=m
×4/λから明らかなように、干渉条件は光学機能膜の
屈折率nと光学機能膜の膜厚dによりその効果を制御す
ることができ、任意の光学的な機能を得ることができ
る。しかしながら任意の光学機能膜を得ることができる
光学材料は限られており、実際には安定した光学機能膜
の形成が可能な光学材料を用いて高屈折率薄膜と低屈折
率薄膜とを交互に積層し、積層薄膜構造の光学機能膜を
形成するのが一般的である。したがって、干渉による光
学特性は、光学インピーダンスを用いたマトリックス法
で計算することができる。ここで、単層のビームスプリ
ッタ膜の屈折率をn、単層のビームスプリッタ膜の膜厚
をd、単層のビームスプリッタ膜への入射角をθとした
とき、単層のビームスプリッタ膜の特性マトリックスM
は、下記の式1の2行2列で表される。
[0011] The condition for causing the interference, n × d = m
As is clear from × 4 / λ, the effect of the interference condition can be controlled by the refractive index n of the optical function film and the film thickness d of the optical function film, and an arbitrary optical function can be obtained. However, the optical materials from which an arbitrary optical functional film can be obtained are limited, and in practice, a high-refractive-index thin film and a low-refractive-index thin film are alternately formed using an optical material capable of forming a stable optical functional film. It is common to form an optical function film having a laminated thin film structure by laminating. Therefore, the optical characteristics due to interference can be calculated by the matrix method using the optical impedance. Here, assuming that the refractive index of the single-layer beam splitter film is n, the thickness of the single-layer beam splitter film is d, and the incident angle to the single-layer beam splitter film is θ, the single-layer beam splitter film has Characteristic matrix M
Is represented by two rows and two columns in Equation 1 below.

【0012】[0012]

【数1】 (Equation 1)

【0013】また、多層のビームスプリッタ膜の特性マ
トリックスMは各層のマトリックスの積であり、M=
(M1)(M2)…(Mi)で表される。このとき、多
層のビームスプリッタ膜の反射率Rは、このマトリック
ス積の要素と入射媒質の屈折率n0 、光学素子の屈折率
s から下記の式2で算出することができる。
Further, the characteristic matrix M of the multilayer beam splitter film is the product of the matrices of the respective layers.
(M1) (M2)... (Mi). At this time, the reflectivity R of the multilayer beam splitter film can be calculated by the following equation 2 from the elements of the matrix product, the refractive index n 0 of the incident medium, and the refractive index n s of the optical element.

【0014】[0014]

【数2】 (Equation 2)

【0015】ところで、複合光学素子8を構成するビー
ムスプリッタ3の、ビームスプリッタ膜形成面3aに形
成されるビームスプリッタ膜の特性には、 1.光吸収ロスが小であること 2.入射角度依存性が小であること 3.偏光分離差が小であること の3点が求められることは先に述べた。これらのうち、
3.偏光分離差が小であることについては、ビームスプ
リッタ膜を金属膜で構成すれば、偏光分離差が小である
ビームスプリッタ膜を得ることができる。しかしなが
ら、金属膜は半導体レーザ6の波長が可視ないし近赤外
域における光吸収ロスが大であるので、記録再生時での
半導体レーザ6の出射パワーに大出力が必要になる。し
たがって、この複合光学素子8を具備した光学ピックア
ップ装置および光記録再生装置では、記録再生時におけ
る消費電力が大であるとともに、これを考慮した電源や
回路およびこれらに付属する周辺装置が大型化し、小型
薄型化を阻害する一要因となっていた。
The characteristics of the beam splitter film formed on the beam splitter film forming surface 3a of the beam splitter 3 constituting the composite optical element 8 include the following. 1. Light absorption loss is small. 2. Small incident angle dependency. It was mentioned earlier that the three points of small polarization separation difference are required. Of these,
3. Regarding the small polarization separation difference, if the beam splitter film is made of a metal film, a beam splitter film with a small polarization separation difference can be obtained. However, since the metal film has a large light absorption loss in the visible or near-infrared region of the wavelength of the semiconductor laser 6, a large output is required for the emission power of the semiconductor laser 6 during recording and reproduction. Therefore, in the optical pickup device and the optical recording / reproducing device equipped with the composite optical element 8, the power consumption during recording / reproducing is large, and the power supply and the circuit and the peripheral devices attached to them take into account the size, This was one of the factors that hindered miniaturization.

【0016】[0016]

【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、光吸
収ロス、入射角度依存性および偏光分離差が何れも小で
あるビームスプリッタを提供し、これを複合光学素子に
具備させて記録再生時における高品質な記録再生特性が
得られ、且つ消費電力が小であるとともにさらなる小型
薄型化が可能な光学ピックアップ装置ならびに光記録再
生装置を提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a beam splitter having a small light absorption loss, incident angle dependence and polarization separation difference, and to provide recording / reproducing by providing the beam splitter in a composite optical element. An object of the present invention is to provide an optical pickup device and an optical recording / reproducing device which can provide high-quality recording / reproducing characteristics at the time, consume less power, and can be further reduced in size and thickness.

【0017】[0017]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明のビームスプリッタでは、少なくとも入射光
の光軸に対してほぼ45度の斜面であるビームスプリッ
タ膜形成面上にビームスプリッタ膜が形成されているビ
ームスプリッタにおいて、たとえば光の波長780nm
に対するビームスプリッタ膜が、屈折率がn1 である第
1層膜、たとえば屈折率2.28のTiO2 膜と、第1
層膜上に形成されるとともに、屈折率n2 が第1層膜の
屈折率n1 に対してn2 <n1 の関係にある第2層膜、
たとえば屈折率1.63のAl2 3 膜と、第2層膜上
に形成されるとともに、屈折率n3 が第2層膜の屈折率
2 に対してn3 <n2 の関係にある第3層膜、たとえ
ば屈折率1.46のSiO2 膜と、第3層膜上に形成さ
れるとともに、屈折率n4 が第2層膜の屈折率n2 に対
してn4 ≒n2 の関係にある第4層膜、たとえば屈折率
1.63のAl2 3 膜と、第4層膜上に形成されると
ともに、屈折率n5 が第1層膜の屈折率n1 に対してn
5 ≒n1 の関係にある第5層膜、たとえば屈折率2.2
8のTiO2 膜と、第5層膜上に形成されるとともに、
屈折率n6 が第3層膜の屈折率n3 に対してn6 ≦n3
の関係にある第6層膜、たとえば屈折率1.38のMg
2 膜とを有することを特徴とする。
In order to solve the above-mentioned problems, a beam splitter according to the present invention has a beam splitter film on a beam splitter film forming surface which is at least approximately 45 degrees with respect to the optical axis of incident light. Is formed, for example, at a light wavelength of 780 nm
A first layer film having a refractive index of n 1 , for example, a TiO 2 film having a refractive index of 2.28;
A second layer film formed on the layer film and having a refractive index n 2 in a relationship of n 2 <n 1 with respect to a refractive index n 1 of the first layer film;
For example, an Al 2 O 3 film having a refractive index of 1.63 is formed on the second layer film, and the refractive index n 3 has a relationship of n 3 <n 2 with respect to the refractive index n 2 of the second layer film. A third layer film, for example, an SiO 2 film having a refractive index of 1.46 and a refractive index n 4 formed on the third layer film, wherein n 4 ≒ n is greater than the refractive index n 2 of the second layer film. the fourth-layer film on the second relationship, for example, and the Al 2 O 3 film having a refractive index of 1.63, while being formed on the fourth layer film, the refractive index n 5 to the refractive index n 1 of the first layer film For n
Fifth layer film having a relationship of 5 ≒ n 1 , for example, a refractive index of 2.2
8 formed on the TiO 2 film and the fifth layer film,
The refractive index n 6 is n 6 ≦ n 3 with respect to the refractive index n 3 of the third layer film.
For example, Mg having a refractive index of 1.38.
And an F 2 film.

【0018】本発明の複合光学素子では、少なくとも半
導体基板上に形成された第1の受光素子および第2の受
光素子と、半導体基板上に形成されてこの半導体基板と
ほぼ垂直な発光面を有する半導体レーザと、第1の受光
素子および第2の受光素子上に固着されるとともに、半
導体レーザの発光面から出射された往路光ビームを反射
し、反射されて戻る復路光ビームを第1の受光素子に導
くビームスプリッタ膜が形成されたビームスプリッタ膜
形成面と、第1の受光素子上面で反射された復路光ビー
ムを反射して第2の受光素子に導く高反射面とが形成さ
れたビームスプリッタとを有する複合光学素子におい
て、たとえば光の波長780nmに対するビームスプリ
ッタ膜が、屈折率がn1 である第1層膜、たとえば屈折
率2.28のTiO2 膜と、第1層膜上に形成されると
ともに、屈折率n2 が第1層膜の屈折率n1 に対してn
2 <n1 の関係にある第2層膜、たとえば屈折率1.6
3のAl2 3 膜と、第2層膜上に形成されるととも
に、屈折率n3 が第2層膜の屈折率n2 に対してn3
2 の関係にある第3層膜、たとえば屈折率1.46の
SiO2 膜と、第3層膜上に形成されるとともに、屈折
率n4 が第2層膜の屈折率n2 に対してn4 ≒n2 の関
係にある第4層膜、たとえば屈折率1.63のAl2
3 膜と、第4層膜上に形成されるとともに、屈折率n5
が第1層膜の屈折率n1 に対してn5 ≒n1 の関係にあ
る第5層膜、たとえば屈折率2.28のTiO2 膜と、
第5層膜上に形成されるとともに、屈折率n6 が第3層
膜の屈折率n3 に対してn6 ≦n3 の関係にある第6層
膜、たとえば屈折率1.38のMgF2 膜とを有するこ
とを特徴とする。
The composite optical element of the present invention has at least a first light receiving element and a second light receiving element formed on a semiconductor substrate, and a light emitting surface formed on the semiconductor substrate and substantially perpendicular to the semiconductor substrate. A first light receiving device that is fixed on the semiconductor laser and the first light receiving element and the second light receiving element, reflects the forward light beam emitted from the light emitting surface of the semiconductor laser, and reflects and returns the first light beam; A beam formed with a beam splitter film forming surface on which a beam splitter film leading to an element is formed, and a high reflection surface reflecting a return light beam reflected on the upper surface of the first light receiving element and leading to the second light receiving element. in the composite optical element having a splitter, for example a beam splitter film with respect to the wavelength 780nm of light, the first layer film refractive index of n 1, such as TiO 2 having a refractive index of 2.28 And a film formed on the first layer film, wherein the refractive index n 2 is n with respect to the refractive index n 1 of the first layer film.
A second layer film having a relation of 2 <n 1 , for example, a refractive index of 1.6
3 formed on the Al 2 O 3 film and the second layer film, and the refractive index n 3 is smaller than the refractive index n 2 of the second layer film by n 3 < 3.
A third layer film having a relationship of n 2 , for example, an SiO 2 film having a refractive index of 1.46, and a refractive index n 4 formed on the third layer film with respect to the refractive index n 2 of the second layer film. And n 4膜 n 2 , for example, Al 2 O having a refractive index of 1.63.
And a refractive index n 5 formed on the third film and the fourth layer film.
There fifth layer film having a relationship of n 5 ≒ n 1 with respect to the refractive index n 1 of the first layer film, for example, a TiO 2 film having a refractive index 2.28,
A sixth layer film formed on the fifth layer film and having a refractive index n 6 of n 6 ≦ n 3 with respect to the refractive index n 3 of the third layer film, for example, MgF having a refractive index of 1.38. And two membranes.

【0019】本発明の光学ピックアップ装置では、少な
くとも半導体基板上に形成された第1の受光素子および
第2の受光素子と、半導体基板上に形成されてこの半導
体基板とほぼ垂直な発光面を有する半導体レーザと、第
1の受光素子および第2の受光素子上に固着されるとと
もに、半導体レーザの発光面から出射された往路光ビー
ムを反射し、反射されて戻る復路光ビームを第1の受光
素子に導くビームスプリッタ膜が形成されたビームスプ
リッタ膜形成面と、第1の受光素子上面で反射された復
路光ビームを反射して第2の受光素子に導く高反射面と
が形成されたビームスプリッタとを有する複合光学素子
と、往路光ビームを光記録媒体に集光する対物レンズと
を有する光学ピックアップ装置において、たとえば光の
波長780nmに対するビームスプリッタ膜が、屈折率
がn1 である第1層膜、たとえば屈折率2.28のTi
2 膜と、第1層膜上に形成されるとともに、屈折率n
2 が第1層膜の屈折率n1 に対してn2 <n1 の関係に
ある第2層膜、たとえば屈折率1.63のAl2 3
と、第2層膜上に形成されるとともに、屈折率n3 が第
2層膜の屈折率n2 に対してn3 <n2 の関係にある第
3層膜、たとえば屈折率1.46のSiO2 膜と、第3
層膜上に形成されるとともに、屈折率n4 が第2層膜の
屈折率n2 に対してn4 ≒n2 の関係にある第4層膜、
たとえば屈折率1.63のAl2 3 膜と、第4層膜上
に形成されるとともに、屈折率n5 が第1層膜の屈折率
1 に対してn5 ≒n1 の関係にある第5層膜、たとえ
ば屈折率2.28のTiO2 膜と、第5層膜上に形成さ
れるとともに、屈折率n6 が第3層膜の屈折率n3 に対
してn6 ≦n3 の関係にある第6層膜、たとえば屈折率
1.38のMgF2 膜とを有することを特徴とする。
The optical pickup device of the present invention has at least a first light receiving element and a second light receiving element formed on a semiconductor substrate, and a light emitting surface formed on the semiconductor substrate and substantially perpendicular to the semiconductor substrate. A first light receiving device that is fixed on the semiconductor laser and the first light receiving element and the second light receiving element, reflects the forward light beam emitted from the light emitting surface of the semiconductor laser, and reflects and returns the first light beam; A beam formed with a beam splitter film forming surface on which a beam splitter film leading to an element is formed, and a high reflection surface reflecting a return light beam reflected on the upper surface of the first light receiving element and leading to the second light receiving element. In an optical pickup device having a composite optical element having a splitter and an objective lens for condensing a forward light beam on an optical recording medium, for example, a light wavelength of 780 nm is used. Beam splitter film which is first-layer film refractive index of n 1, for example, refractive index 2.28 Ti
An O 2 film and a refractive index n formed on the first layer film
2 is a two-layer film having a relationship of n 2 <n 1 with respect to the refractive index n 1 of the first layer film, for example, and the Al 2 O 3 film of refractive index 1.63, is formed on the second layer film And a third layer film in which the refractive index n 3 has a relationship of n 3 <n 2 with the refractive index n 2 of the second layer film, for example, a SiO 2 film having a refractive index of 1.46,
A fourth layer film formed on the layer film and having a refractive index n 4 of n 4 ≒ n 2 with respect to the refractive index n 2 of the second layer film;
For example, an Al 2 O 3 film having a refractive index of 1.63 is formed on the fourth layer film, and the refractive index n 5 has a relationship of n 5 ≒ n 1 with respect to the refractive index n 1 of the first layer film. A fifth layer film, for example, a TiO 2 film having a refractive index of 2.28 and a refractive index n 6 formed on the fifth layer film, wherein n 6 ≦ n with respect to the refractive index n 3 of the third layer film. It has a sixth layer film having a relation of 3 , for example, an MgF 2 film having a refractive index of 1.38.

【0020】本発明の光記録再生装置では、少なくとも
半導体基板上に形成された第1の受光素子および第2の
受光素子と、半導体基板上に形成されてこの半導体基板
とほぼ垂直な発光面を有する半導体レーザと、第1の受
光素子および第2の受光素子上に固着されるとともに、
半導体レーザの発光面から出射された往路光ビームを反
射し、反射されて戻る復路光ビームを第1の受光素子に
導くビームスプリッタ膜が形成されたビームスプリッタ
膜形成面と、第1の受光素子上面で反射された復路光ビ
ームを反射して第2の受光素子に導く高反射面とが形成
されたビームスプリッタとを有する複合光学素子と、往
路光ビームを光記録媒体に集光する対物レンズとを有す
る光学ピックアップ装置と、光学ピックアップ装置をト
ラッキング方向に制御駆動する移動手段とを有する光記
録再生装置において、たとえば光の波長780nmに対
するビームスプリッタ膜が、屈折率がn1 である第1層
膜、たとえば屈折率2.28のTiO2 膜と、第1層膜
上に形成されるとともに、屈折率n2 が第1層膜の屈折
率n1 に対してn2 <n1 の関係にある第2層膜、たと
えば屈折率1.63のAl2 3 膜と、第2層膜上に形
成されるとともに、屈折率n3 が第2層膜の屈折率n2
に対してn3 <n2 の関係にある第3層膜、たとえば屈
折率1.46のSiO2 膜と、第3層膜上に形成される
とともに、屈折率n4 が第2層膜の屈折率n2 に対して
4 ≒n2 の関係にある第4層膜、たとえば屈折率1.
63のAl2 3 膜と、第4層膜上に形成されるととも
に、屈折率n5 が第1層膜の屈折率n1 に対してn5
1 の関係にある第5層膜、たとえば屈折率2.28の
TiO2 膜と、第5層膜上に形成されるとともに、屈折
率n6 が第3層膜の屈折率n3 に対してn6 ≦n3 の関
係にある第6層膜、たとえば屈折率1.38のMgF2
膜とを有することを特徴とする。なお、ここで言う光記
録再生装置は、再生のみを行う再生専用装置、記録のみ
を行う記録専用装置、記録と再生の何れも可能な装置を
含むものである。
In the optical recording / reproducing apparatus of the present invention, at least the first light receiving element and the second light receiving element formed on the semiconductor substrate, and the light emitting surface formed on the semiconductor substrate and substantially perpendicular to the semiconductor substrate. And a semiconductor laser having the semiconductor laser fixed on the first light receiving element and the second light receiving element.
A beam splitter film forming surface on which a beam splitter film is formed to reflect a forward light beam emitted from a light emitting surface of a semiconductor laser and guide a reflected return light beam to a first light receiving element; and a first light receiving element. A composite optical element having a beam splitter formed with a highly reflective surface for reflecting the return light beam reflected on the upper surface and guiding the reflected light beam to the second light receiving element; and an objective lens for converging the forward light beam on the optical recording medium. In an optical recording / reproducing apparatus having an optical pickup device having: and a moving means for controlling and driving the optical pickup device in a tracking direction, for example, a beam splitter film for a light wavelength of 780 nm is a first layer having a refractive index of n 1. film, for example, a TiO 2 film having a refractive index 2.28, n 2 is formed into the first layer film, the refractive index n 2 with respect to the refractive index n 1 of the first layer film The two-layer film having a relationship of n 1, for example, and the Al 2 O 3 film having a refractive index of 1.63, while being formed on the second layer film, the refractive index n 3 is the refractive index n 2 of the second layer film
A third layer film having a relationship of n 3 <n 2 , for example, an SiO 2 film having a refractive index of 1.46 and a third layer film, and a refractive index n 4 of the second layer film. the fourth-layer film having a relationship of n 4 ≒ n 2 with respect to the refractive index n 2, for example, the refractive index 1.
The film is formed on the Al 2 O 3 film of No. 63 and the fourth layer film, and has a refractive index n 5 of n 5に 対 し て with respect to the refractive index n 1 of the first layer film.
A fifth layer film having a relationship of n 1 , for example, a TiO 2 film having a refractive index of 2.28 and a refractive index n 6 formed on the fifth layer film with respect to a refractive index n 3 of the third layer film. And a sixth layer film having a relationship of n 6 ≦ n 3 , for example, MgF 2 having a refractive index of 1.38.
And a film. The optical recording / reproducing apparatus referred to here includes a reproduction-only apparatus that performs only reproduction, a recording-only apparatus that performs only recording, and a device that can perform both recording and reproduction.

【0021】上述した手段によれば、光吸収ロス、入射
角度依存性および偏光分離差が何れも小であるビームス
プリッタ膜を有するビームスプリッタの提供が可能とな
る。したがって、このビームスプリッタを具備した複合
光学素子を用いて光学ピックアップ装置および光記録再
生装置を構成すれば、記録再生時における半導体レーザ
の出射パワーが小で良く、電源や回路およびこれらに付
属する周辺構成部品の小型薄型化を図ることができ、結
果的に光学ピックアップ装置および光記録再生装置の小
消費電力化および小型薄型化を図ることができる。ま
た、入射角度依存性が小であるビームスプリッタの提供
が可能となることから、NAが大である対物レンズを用
いて、さらなる高密度化を図った光記録媒体に対応する
光学ピックアップ装置および光記録再生装置の提供が可
能となる。
According to the above-described means, it is possible to provide a beam splitter having a beam splitter film whose light absorption loss, incident angle dependence and polarization separation difference are all small. Therefore, if an optical pickup device and an optical recording / reproducing device are configured by using the composite optical element having the beam splitter, the emission power of the semiconductor laser at the time of recording / reproducing may be small, and the power supply, the circuit, and the peripherals attached thereto may be used. The components can be reduced in size and thickness, and as a result, the power consumption and the size and thickness of the optical pickup device and the optical recording / reproducing device can be reduced. In addition, since it is possible to provide a beam splitter having a small incident angle dependence, an optical pickup device and an optical pickup corresponding to an optical recording medium having a higher density by using an objective lens having a large NA are provided. It is possible to provide a recording / reproducing device.

【0022】[0022]

【発明の実施の形態】本発明は、少なくとも入射光の光
軸に対してほぼ45度の斜面であるビームスプリッタ膜
形成面上にビームスプリッタ膜が形成されているビーム
スプリッタ、このビームスプリッタ、受光素子、半導体
レーザ等を半導体基板上に構成した複合光学素子、少な
くともこの複合光学素子と対物レンズとを有する光学ピ
ックアップ装置、この光学ピックアップ装置と光学ピッ
クアップ装置をトラッキング方向に制御駆動する移動手
段とを有する光記録再生装置に適用することができる。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention relates to a beam splitter in which a beam splitter film is formed on a beam splitter film forming surface which is at least approximately 45 degrees inclined with respect to the optical axis of incident light, this beam splitter, and a light receiving device. An optical pickup device having at least this composite optical element and an objective lens, a moving means for controlling and driving the optical pickup device in the tracking direction, It can be applied to an optical recording / reproducing apparatus having the same.

【0023】[0023]

【実施例】以下、本発明を適用した具体的な実施例につ
いて、図1〜図5を参照して説明する。なお、図中の構
成要素で従来の技術と同様の構造を成しているものにつ
いては、同一の参照符号を付すものとする。また、本発
明が適用されるビームスプリッタ、複合光学素子、光学
ピックアップ装置および光記録再生装置の概略構成は、
たとえば従来の技術において図6および図7を参照して
説明した事例と同様であるので、重複する説明を省略す
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A specific embodiment to which the present invention is applied will be described below with reference to FIGS. Note that components in the figure that have the same structure as the conventional technology are denoted by the same reference numerals. The schematic configuration of a beam splitter, a composite optical element, an optical pickup device, and an optical recording / reproducing device to which the present invention is applied is as follows.
For example, this is the same as the case described with reference to FIGS. 6 and 7 in the related art, and a duplicate description will be omitted.

【0024】実施例1 本実施例は、光の波長780nmで屈折率が1.76の
光学ガラスSF11を用いて台形のプリズムを作製し、
このプリズムの斜面、すなわちビームスプリッタ膜形成
面に、ビームスプリッタ膜の一例であるハーフミラー膜
を形成してビームスプリッタを作製した事例である。こ
れを図1〜図3を参照して説明する。
Example 1 In this example, a trapezoidal prism was manufactured using optical glass SF11 having a light wavelength of 780 nm and a refractive index of 1.76.
This is an example in which a half mirror film, which is an example of a beam splitter film, is formed on a slope of the prism, that is, on a surface on which the beam splitter film is formed, to produce a beam splitter. This will be described with reference to FIGS.

【0025】まず、ビームスプリッタの概略断面図であ
る図1に示したように、ビームスプリッタ膜形成面3a
に、第1層膜2aとして屈折率2.28であるとともに
膜厚90.0nm(光学膜厚205.2nm)のTiO
2 膜を形成する。つぎに、第1層膜2a上に、第2層膜
2bとして屈折率1.63であるとともに膜厚125.
6nm(光学膜厚204.7nm)のAl2 3 膜を形
成する。つぎに、第2層膜2b上に、第3層膜2cとし
て屈折率1.46であるとともに膜厚104.0nm
(光学膜厚151.8nm)のSiO2 膜を形成する。
つぎに、第3層膜2c上に、第4層膜2dとして屈折率
1.63であるとともに膜厚183.3nm(光学膜厚
298.8nm)のAl2 3 膜を形成する。つぎに、
第4層膜2d上に、第5層膜2eとして屈折率2.28
であるとともに膜厚92.8nm(光学膜厚211.6
nm)のTiO2 膜を形成する。つぎに、第5層膜2e
上に、第6層膜2fとして屈折率1.38であるととも
に膜厚166.8nm(光学膜厚230.2nm)のM
gF2 膜を形成することにより、台形のプリズム1の斜
面に膜厚762.5nmのハーフミラー膜2を形成した
ビームスプリッタ3の作製を終えた。
First, as shown in FIG. 1 which is a schematic sectional view of the beam splitter, the beam splitter film forming surface 3a
In addition, TiO having a refractive index of 2.28 and a film thickness of 90.0 nm (optical film thickness of 205.2 nm) is used as the first layer film 2a.
Two films are formed. Next, on the first layer film 2a, the second layer film 2b has a refractive index of 1.63 and a thickness of 125.25 nm.
An Al 2 O 3 film having a thickness of 6 nm (optical thickness of 204.7 nm) is formed. Next, a third layer film 2c having a refractive index of 1.46 and a film thickness of 104.0 nm is formed on the second layer film 2b.
An SiO 2 film having an optical thickness of 151.8 nm is formed.
Next, an Al 2 O 3 film having a refractive index of 1.63 and a film thickness of 183.3 nm (optical thickness of 298.8 nm) is formed on the third layer film 2c as the fourth layer film 2d. Next,
A refractive index of 2.28 is formed on the fourth layer film 2d as a fifth layer film 2e.
And a film thickness of 92.8 nm (optical film thickness of 211.6).
nm) of a TiO 2 film. Next, the fifth layer film 2e
An M layer having a refractive index of 1.38 and a film thickness of 166.8 nm (optical film thickness of 230.2 nm) is formed thereon as the sixth layer film 2f.
By forming the gF 2 film, the fabrication of the beam splitter 3 in which the half mirror film 2 having a thickness of 762.5 nm was formed on the slope of the trapezoidal prism 1 was completed.

【0026】そして、作製したビームスプリッタ3のハ
ーフミラー膜2に、波長450nm〜850nmのレー
ザ光を入射角度45度で入射し、ハーフミラー膜2の偏
光分離差を測定した。この結果のグラフを図2に示す。
図2から明らかなように、とくにレーザ光の波長780
nmのところでみればRp=19.8%、Rs=20.
7%であり、偏光分離差Rs−Rp=0.9%と1%以
下であった。また、レーザ波長は製造ばらつきや使用環
境温度変化により±20nm程度変動するが、たとえば
780nm−20nmの760nmで偏光分離差をみれ
ば1.4%であり、780nm+20nmの800nm
で偏光分離差をみれば1.1%と非常に波長依存性が小
であることがわかる。
Then, a laser beam having a wavelength of 450 nm to 850 nm was incident on the half mirror film 2 of the manufactured beam splitter 3 at an incident angle of 45 degrees, and the polarization separation difference of the half mirror film 2 was measured. The resulting graph is shown in FIG.
As is apparent from FIG. 2, in particular, the wavelength 780 of the laser light
nm, Rp = 19.8%, Rs = 20.
The polarization separation difference Rs-Rp was 0.9%, which was 1% or less. The laser wavelength fluctuates by about ± 20 nm due to manufacturing variations and changes in the use environment temperature. For example, the polarization separation difference at 760 nm of 780 nm-20 nm is 1.4%, and 800 nm of 780 nm + 20 nm.
When the polarization separation difference is observed, it is understood that the wavelength dependency is very small at 1.1%.

【0027】また、作製したビームスプリッタ3のハー
フミラー膜2に、波長780nmのレーザ光を入射角度
35度〜55度変化させて入射し、ハーフミラー膜2の
入射角度依存性を測定した。この結果のグラフを図3に
示す。図3から明らかなように、Rsは入射角度45度
±8度の範囲で20.7±0.5%以内であるととも
に、Rpは入射角度45度±8度の範囲で19.9±
1.0%以内であり、さらに偏光分離差Rs−Rp=
1.4%であった。
Further, a laser beam having a wavelength of 780 nm was incident on the half mirror film 2 of the manufactured beam splitter 3 while changing the incident angle from 35 to 55 degrees, and the incident angle dependence of the half mirror film 2 was measured. The resulting graph is shown in FIG. As is clear from FIG. 3, Rs is within 20.7 ± 0.5% in the range of the incident angle of 45 ° ± 8 °, and Rp is 19.9 ± in the range of the incident angle of 45 ° ± 8 °.
1.0% or less, and the polarization separation difference Rs-Rp =
It was 1.4%.

【0028】以上のことから、本発明を適用してハーフ
ミラー膜2を形成した本実施例のビームスプリッタ3
は、金属膜を用いていないので光吸収ロスが小であると
ともに、入射角度依存性および偏光分離差を極めて小と
することができた。
As described above, the beam splitter 3 according to the present embodiment in which the half mirror film 2 is formed by applying the present invention.
Since no metal film was used, the light absorption loss was small, and the incident angle dependence and the polarization separation difference could be made extremely small.

【0029】実施例2 本実施例は、光の波長655nmで屈折率が1.78の
光学ガラスSF11を用いて台形のプリズムを作製し、
このプリズムの斜面、すなわちビームスプリッタ膜形成
面に、ビームスプリッタ膜の一例であるハーフミラー膜
を形成してビームスプリッタを作製した事例である。こ
れを再び図1と図4〜図5を参照して説明する。
Embodiment 2 In this embodiment, a trapezoidal prism is manufactured using optical glass SF11 having a light wavelength of 655 nm and a refractive index of 1.78.
This is an example in which a half mirror film, which is an example of a beam splitter film, is formed on a slope of the prism, that is, on a surface on which the beam splitter film is formed, to produce a beam splitter. This will be described again with reference to FIG. 1 and FIGS.

【0030】まず、図1に示したように、ビームスプリ
ッタ膜形成面3aに、第1層膜2aとして屈折率2.3
2であるとともに膜厚74.3nm(光学膜厚172.
4nm)のTiO2 膜を形成する。つぎに、第1層膜2
a上に、第2層膜2bとして屈折率1.63であるとと
もに膜厚98.0nm(光学膜厚159.7nm)のA
2 3 膜を形成する。つぎに、第2層膜2b上に、第
3層膜2cとして屈折率1.46であるとともに膜厚1
57.4nm(光学膜厚229.8nm)のSiO2
を形成する。つぎに、第3層膜2c上に、第4層膜2d
として屈折率1.63であるとともに膜厚92.6nm
(光学膜厚150.9nm)のAl2 3 膜を形成す
る。つぎに、第4層膜2d上に、第5層膜2eとして屈
折率2.32であるとともに膜厚74.2nm(光学膜
厚172.1nm)のTiO2 膜を形成する。つぎに、
第5層膜2e上に、第6層膜2fとして屈折率1.38
であるとともに膜厚132.2nm(光学膜厚182.
4nm)のMgF2 膜を形成することにより、台形のプ
リズム1の斜面に膜厚628.7nmのハーフミラー膜
2を形成したビームスプリッタ3の作製を終えた。
First, as shown in FIG. 1, a refractive index of 2.3 is formed as a first layer film 2a on a beam splitter film forming surface 3a.
2 and a film thickness of 74.3 nm (an optical film thickness of 172.1 nm).
(4 nm) TiO 2 film is formed. Next, the first layer film 2
A having a refractive index of 1.63 and a film thickness of 98.0 nm (an optical film thickness of 159.7 nm) is formed as a second layer film 2b on a.
An l 2 O 3 film is formed. Next, on the second layer film 2b, a third layer film 2c having a refractive index of 1.46 and a thickness of 1
An SiO 2 film having a thickness of 57.4 nm (optical thickness of 229.8 nm) is formed. Next, a fourth layer film 2d is formed on the third layer film 2c.
Has a refractive index of 1.63 and a film thickness of 92.6 nm.
An Al 2 O 3 film having an optical thickness of 150.9 nm is formed. Next, a TiO 2 film having a refractive index of 2.32 and a thickness of 74.2 nm (optical thickness of 172.1 nm) is formed as a fifth layer film 2 e on the fourth layer film 2 d. Next,
A refractive index of 1.38 is formed on the fifth layer film 2e as a sixth layer film 2f.
And a film thickness of 132.2 nm (optical film thickness of 182.2 nm).
The formation of the beam splitter 3 in which the half mirror film 2 having a thickness of 628.7 nm was formed on the slope of the trapezoidal prism 1 by forming an MgF 2 film having a thickness of 4 nm) was completed.

【0031】そして、作製したビームスプリッタ3のハ
ーフミラー膜2に、波長450nm〜850nmのレー
ザ光を入射角度45度で入射し、ハーフミラー膜2の偏
光分離差を測定した。この結果を図4に示す。また、作
製したビームスプリッタ3のハーフミラー膜2に、波長
655nmのレーザ光を入射角度35度〜55度変化さ
せて入射し、ハーフミラー膜2の入射角度依存性を測定
した。この結果を図5に示す。図4および図5から明ら
かなように、本実施例においても実施例1と同様に光吸
収ロスが小であり、入射角度依存性および偏光分離差を
極めて小とすることができた。
Then, a laser beam having a wavelength of 450 nm to 850 nm was incident on the half mirror film 2 of the manufactured beam splitter 3 at an incident angle of 45 degrees, and the polarization separation difference of the half mirror film 2 was measured. The result is shown in FIG. Further, a laser beam having a wavelength of 655 nm was incident on the half mirror film 2 of the manufactured beam splitter 3 while changing the incident angle from 35 degrees to 55 degrees, and the incident angle dependence of the half mirror film 2 was measured. The result is shown in FIG. As is clear from FIGS. 4 and 5, also in this embodiment, the light absorption loss was small as in Embodiment 1, and the incident angle dependency and the polarization separation difference could be made extremely small.

【0032】上記した実施例1,2では、第6層膜2f
をMgF2 膜で構成する事例を示したが、本発明はこれ
に限定されるものではなく、たとえばSiO2 膜であっ
ても良い。また、上記した実施例1,2では、第2層膜
2bおよび第4層膜2dをAl2 3 膜で構成する事例
を示したが、本発明はこれに限定されるものではなく、
たとえばCeF3 、LaF3 、ZrO2 とAl2 3
の混合膜であっても良い。さらに、上記した実施例1,
2では、第3層膜2cをSiO2 膜で構成する事例を示
したが、本発明はこれに限定されるものではなく、たと
えばMgF2 膜であっても良い。さらにまた、上記した
実施例1,2では、第1層膜2aおよび第5層膜2eを
TiO2 膜で構成する事例を示したが、本発明はこれに
限定されるものではなく、たとえばイオンアシスト蒸着
やスパッタ等により緻密膜の形成が可能であるとともに
TiO2 膜と同等な屈折率を有するものを用いても良
い。
In Embodiments 1 and 2 described above, the sixth layer film 2f
Is shown as an MgF 2 film, but the present invention is not limited to this. For example, an SiO 2 film may be used. In the first and second embodiments, the case where the second layer film 2b and the fourth layer film 2d are made of an Al 2 O 3 film has been described. However, the present invention is not limited to this.
For example, CeF 3 , LaF 3 , or a mixed film of ZrO 2 and Al 2 O 3 may be used. Further, in the first and second embodiments described above,
FIG. 2 shows an example in which the third layer film 2c is formed of a SiO 2 film, but the present invention is not limited to this, and may be, for example, an MgF 2 film. Furthermore, in the above-described first and second embodiments, the case where the first layer film 2a and the fifth layer film 2e are formed of a TiO 2 film has been described, but the present invention is not limited to this. It is possible to form a dense film by assisted vapor deposition or sputtering, and to use a material having a refractive index equivalent to that of a TiO 2 film.

【0033】上記した実施例1あるいは実施例2の事例
のハーフミラー膜2が形成されたビームスプリッタ3は
複合光学素子8に用いることができ、また、この複合光
学素子8を用いて光学ピックアップ装置を構成すること
ができ、さらにこの光学ピックアップ装置を用いて光記
録再生装置を構成することができる。
The beam splitter 3 on which the half mirror film 2 of the first or second embodiment is formed can be used for the composite optical element 8, and an optical pickup device using this composite optical element 8. And an optical recording / reproducing apparatus can be constituted by using this optical pickup device.

【0034】[0034]

【発明の効果】本発明のビームスプリッタによれば、光
吸収ロス、入射角度依存性および偏光分離差が小である
ビームスプリッタを提供することができる。このビーム
スプリッタを具備した複合光学素子では、記録再生時で
の半導体レーザの出射パワーが小で良いので、小電力で
動作が可能であるとともに半導体レーザの長寿命化、す
なわち複合光学素子自体の長寿命化を図ることができ
る。また、この複合光学素子を具備した光学ピックアッ
プ装置およびこの光学ピックアップ装置を具備した光記
録再生装置では、高品質な記録再生特性が得られるとと
もに、記録再生時における小電力化が図られ、結果的に
光学ピックアップ装置および光記録再生装置の小型薄型
化を図ることができる。
According to the beam splitter of the present invention, it is possible to provide a beam splitter having a small light absorption loss, incident angle dependency and polarization separation difference. The composite optical element equipped with the beam splitter can operate with low power because the emission power of the semiconductor laser during recording and reproduction can be small, and can extend the life of the semiconductor laser, that is, the length of the composite optical element itself. Life can be extended. Further, in the optical pickup device including the composite optical element and the optical recording / reproducing device including the optical pickup device, high-quality recording / reproducing characteristics are obtained, and power consumption during recording / reproducing is reduced. In addition, the size and thickness of the optical pickup device and the optical recording / reproducing device can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明のビームスプリッタの概略断面図であ
る。
FIG. 1 is a schematic sectional view of a beam splitter according to the present invention.

【図2】 実施例1におけるハーフミラー膜の反射率特
性のグラフである。
FIG. 2 is a graph of a reflectance characteristic of a half mirror film in Example 1.

【図3】 実施例1におけるハーフミラー膜の入射角度
依存性のグラフである。
FIG. 3 is a graph showing the incident angle dependence of a half mirror film in Example 1.

【図4】 実施例2におけるハーフミラー膜の反射率特
性のグラフである。
FIG. 4 is a graph showing a reflectance characteristic of a half mirror film in Example 2.

【図5】 実施例2におけるハーフミラー膜の入射角度
依存性のグラフである。
FIG. 5 is a graph showing the incident angle dependence of a half mirror film in Example 2.

【図6】 従来の光学ピックアップ装置の概略構成図で
ある。
FIG. 6 is a schematic configuration diagram of a conventional optical pickup device.

【図7】 従来の光記録再生装置の概略構成図である。FIG. 7 is a schematic configuration diagram of a conventional optical recording / reproducing apparatus.

【図8】 図6のA方向からみた概略A矢視図である。FIG. 8 is a schematic view taken in the direction of the arrow A as viewed from a direction A in FIG. 6;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…プリズム、2…ハーフミラー膜、2a…第1層膜、
2b…第2層膜、2c…第3層膜、2d…第4層膜、2
e…第5層膜、2f…第6層膜、3…ビームスプリッ
タ、3a…ビームスプリッタ膜形成面、3b…高反射
面、4…半導体基板、5…スペーサ、6…半導体レー
ザ、7a…第1の受光素子、7b…第2の受光素子、8
…複合光学素子、9…サーボアクチュエータ、9a…対
物レンズ、9b…可動部、9c…平行バネ、9d…固定
部、10…光記録媒体、11…光学ブロック、12a…
メインガイド軸、12b…サブガイド軸、13…マグネ
ット、14…外ヨーク、15…内ヨーク、16…コイル
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Prism, 2 ... Half mirror film, 2a ... 1st layer film,
2b: second layer film, 2c: third layer film, 2d: fourth layer film, 2
e: Fifth layer film, 2f: Sixth layer film, 3: Beam splitter, 3a: Beam splitter film forming surface, 3b: High reflection surface, 4: Semiconductor substrate, 5: Spacer, 6: Semiconductor laser, 7a: 1 light receiving element, 7b ... second light receiving element, 8
.. Composite optical element, 9 servo actuator, 9a objective lens, 9b movable part, 9c parallel spring, 9d fixed part, 10 optical recording medium, 11 optical block, 12a
Main guide shaft, 12b Sub guide shaft, 13 Magnet, 14 Outer yoke, 15 Inner yoke, 16 Coil

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 少なくとも、入射光の光軸に対してほぼ
45度の斜面にビームスプリッタ膜が形成されているビ
ームスプリッタにおいて、 前記ビームスプリッタ膜が、 屈折率がn1 である第1層膜と、 前記第1層膜上に形成されるとともに、屈折率n2 が前
記第1層膜の屈折率n1 に対してn2 <n1 の関係にあ
る第2層膜と、 前記第2層膜上に形成されるとともに、屈折率n3 が前
記第2層膜の屈折率n2 に対してn3 <n2 の関係にあ
る第3層膜と、 前記第3層膜上に形成されるとともに、屈折率n4 が前
記第2層膜の屈折率n2 に対してn4 ≒n2 の関係にあ
る第4層膜と、 前記第4層膜上に形成されるとともに、屈折率n5 が前
記第1層膜の屈折率n1 に対してn5 ≒n1 の関係にあ
る第5層膜と、 前記第5層膜上に形成されるとともに、屈折率n6 が前
記第3層膜の屈折率n3 に対してn6 ≦n3 の関係にあ
る第6層膜とを有することを特徴とするビームスプリッ
タ。
1. A beam splitter in which a beam splitter film is formed at least on a slope approximately 45 degrees with respect to the optical axis of incident light, wherein the beam splitter film has a first layer film having a refractive index of n 1. A second layer film formed on the first layer film and having a refractive index n 2 in a relationship of n 2 <n 1 with respect to a refractive index n 1 of the first layer film; A third layer film formed on the layer film and having a refractive index n 3 in a relationship of n 3 <n 2 with respect to the refractive index n 2 of the second layer film; A fourth layer film having a refractive index n 4 of n 4 ≒ n 2 with respect to a refractive index n 2 of the second layer film; a fifth layer film rate n 5 is in a relationship of n 5 ≒ n 1 with respect to the refractive index n 1 of the first layer film, while being formed on said fifth layer film, Beamsplitter refractive index n 6 is characterized in that it comprises a sixth layer film having a relationship of n 6 ≦ n 3 relative refractive index n 3 of the third layer film.
【請求項2】 前記ビームスプリッタ膜の膜厚が、前記
入射光の波長とほぼ等しいことを特徴とする請求項1に
記載のビームスプリッタ。
2. The beam splitter according to claim 1, wherein a thickness of the beam splitter film is substantially equal to a wavelength of the incident light.
【請求項3】 少なくとも半導体基板上に形成された第
1の受光素子および第2の受光素子と、 前記半導体基板上に形成され、前記半導体基板とほぼ垂
直な発光面を有する半導体レーザと、 前記第1の受光素子および第2の受光素子上に固着され
るとともに、前記発光面から出射された往路光ビームを
反射し、反射されて戻る復路光ビームを前記第1の受光
素子に導くビームスプリッタ膜が形成されたビームスプ
リッタ膜形成面と、 前記第1の受光素子上面で反射された前記復路光ビーム
を反射して前記第2の受光素子に導く高反射面とが形成
されたビームスプリッタとを有する複合光学素子におい
て、 前記ビームスプリッタ膜が、 屈折率がn1 である第1層膜と、 前記第1層膜上に形成されるとともに、屈折率n2 が前
記第1層膜の屈折率n1 に対してn2 <n1 の関係にあ
る第2層膜と、 前記第2層膜上に形成されるとともに、屈折率n3 が前
記第2層膜の屈折率n2 に対してn3 <n2 の関係にあ
る第3層膜と、 前記第3層膜上に形成されるとともに、屈折率n4 が前
記第2層膜の屈折率n2 に対してn4 ≒n2 の関係にあ
る第4層膜と、 前記第4層膜上に形成されるとともに、屈折率n5 が前
記第1層膜の屈折率n1 に対してn5 ≒n1 の関係にあ
る第5層膜と、 前記第5層膜上に形成されるとともに、屈折率n6 が前
記第3層膜の屈折率n3 に対してn6 ≦n3 の関係にあ
る第6層膜とを有することを特徴とする複合光学素子。
A first light receiving element and a second light receiving element formed on at least a semiconductor substrate; a semiconductor laser formed on the semiconductor substrate and having a light emitting surface substantially perpendicular to the semiconductor substrate; A beam splitter that is fixed on the first light receiving element and the second light receiving element, reflects the outward light beam emitted from the light emitting surface, and guides the reflected return light beam to the first light receiving element. A beam splitter formed with a film splitter film forming surface on which a film is formed, and a high reflection surface that reflects the return light beam reflected by the upper surface of the first light receiving element and guides the reflected light beam to the second light receiving element; in the composite optical element having a refraction of the beam splitter film, a first layer film having a refractive index of n 1, it is formed into the first layer film, the refractive index n 2 of the first layer film a second layer film with respect to n 1 that the relation of n 2 <n 1, while being formed on the second layer film, the refractive index n 3 relative refractive index n 2 of the second layer film a third layer film having a relation of n 3 <n 2 , formed on the third layer film, and having a refractive index n 4 of n 4 ≒ n 2 with respect to a refractive index n 2 of the second layer film. a fourth layer film in the relationship, while being formed on the fourth layer film, the refractive index n 5 in the relation of n 5 ≒ n 1 with respect to the refractive index n 1 of the first layer film A five-layer film, and a sixth-layer film formed on the fifth-layer film and having a refractive index n 6 in a relationship of n 6 ≦ n 3 with respect to a refractive index n 3 of the third-layer film. A composite optical element comprising:
【請求項4】 前記ビームスプリッタ膜の膜厚が、前記
往路光ビームの波長とほぼ等しいことを特徴とする請求
項3に記載の複合光学素子。
4. The composite optical element according to claim 3, wherein the thickness of the beam splitter film is substantially equal to the wavelength of the outward light beam.
【請求項5】 少なくとも半導体基板上に形成された第
1の受光素子および第2の受光素子と、 前記半導体基板上に形成され、前記半導体基板とほぼ垂
直な発光面を有する半導体レーザと、 前記第1の受光素子および第2の受光素子上に固着され
るとともに、前記発光面から出射された往路光ビームを
反射し、反射されて戻る復路光ビームを前記第1の受光
素子に導くビームスプリッタ膜が形成されたビームスプ
リッタ膜形成面と、 前記第1の受光素子上面で反射された前記復路光ビーム
を反射して前記第2の受光素子に導く高反射面とが形成
されたビームスプリッタとを有する複合光学素子と、 前記往路光ビームを光記録媒体に集光する対物レンズと
を有する光学ピックアップ装置において、 前記ビームスプリッタ膜が、 屈折率がn1 である第1層膜と、 前記第1層膜上に形成されるとともに、屈折率n2 が前
記第1層膜の屈折率n1 に対してn2 <n1 の関係にあ
る第2層膜と、 前記第2層膜上に形成されるとともに、屈折率n3 が前
記第2層膜の屈折率n2 に対してn3 <n2 の関係にあ
る第3層膜と、 前記第3層膜上に形成されるとともに、屈折率n4 が前
記第2層膜の屈折率n2 に対してn4 ≒n2 の関係にあ
る第4層膜と、 前記第4層膜上に形成されるとともに、屈折率n5 が前
記第1層膜の屈折率n1 に対してn5 ≒n1 の関係にあ
る第5層膜と、 前記第5層膜上に形成されるとともに、屈折率n6 が前
記第3層膜の屈折率n3 に対してn6 ≦n3 の関係にあ
る第6層膜とを有することを特徴とする光学ピックアッ
プ装置。
5. A semiconductor laser having at least a first light receiving element and a second light receiving element formed on a semiconductor substrate, a semiconductor laser formed on the semiconductor substrate and having a light emitting surface substantially perpendicular to the semiconductor substrate, A beam splitter that is fixed on the first light receiving element and the second light receiving element, reflects the outward light beam emitted from the light emitting surface, and guides the reflected return light beam to the first light receiving element. A beam splitter formed with a film splitter film forming surface on which a film is formed, and a high reflection surface that reflects the return light beam reflected by the upper surface of the first light receiving element and guides the reflected light beam to the second light receiving element; a composite optical element having, in an optical pickup apparatus having an objective lens for focusing the outgoing light beam to the optical recording medium, the beam splitter film, a refractive index at n 1 That the first layer film, wherein is formed in a first layer film, the second layer film refractive index n 2 which is in relation of n 2 <n 1 with respect to the refractive index n 1 of the first layer film A third layer film formed on the second layer film and having a refractive index n 3 in a relationship of n 3 <n 2 with respect to a refractive index n 2 of the second layer film; A fourth layer film formed on the layer film and having a refractive index n 4 of n 4 ≒ n 2 with respect to the refractive index n 2 of the second layer film; And a fifth layer film having a refractive index n 5 in a relationship of n 5 ≒ n 1 with respect to the refractive index n 1 of the first layer film; the optical pickup apparatus rate n 6 is characterized in that it comprises a sixth layer film having a relationship of n 6 ≦ n 3 relative refractive index n 3 of the third layer film.
【請求項6】 前記ビームスプリッタ膜の膜厚が、前記
往路光ビームの波長とほぼ等しいことを特徴とする請求
項5に記載の光学ピックアップ装置。
6. The optical pickup device according to claim 5, wherein a thickness of the beam splitter film is substantially equal to a wavelength of the outward light beam.
【請求項7】 少なくとも半導体基板上に形成された第
1の受光素子および第2の受光素子と、 前記半導体基板上に形成され、前記半導体基板とほぼ垂
直な発光面を有する半導体レーザと、 前記第1の受光素子および第2の受光素子上に固着され
るとともに、前記発光面から出射された往路光ビームを
反射し、反射されて戻る復路光ビームを前記第1の受光
素子に導くビームスプリッタ膜が形成されたビームスプ
リッタ膜形成面と、 前記第1の受光素子上面で反射された前記復路光ビーム
を反射して前記第2の受光素子に導く高反射面とが形成
されたビームスプリッタとを有する複合光学素子と、 前記往路光ビームを光記録媒体に集光する対物レンズと
を有する光学ピックアップ装置と、 前記光学ピックアップ装置をトラッキング方向に制御駆
動する移動手段とを有する光記録再生装置において、 前記ビームスプリッタ膜が、 屈折率がn1 である第1層膜と、 前記第1層膜上に形成されるとともに、屈折率n2 が前
記第1層膜の屈折率n1 に対してn2 <n1 の関係にあ
る第2層膜と、 前記第2層膜上に形成されるとともに、屈折率n3 が前
記第2層膜の屈折率n2 に対してn3 <n2 の関係にあ
る第3層膜と、 前記第3層膜上に形成されるとともに、屈折率n4 が前
記第2層膜の屈折率n2 に対してn4 ≒n2 の関係にあ
る第4層膜と、 前記第4層膜上に形成されるとともに、屈折率n5 が前
記第1層膜の屈折率n1 に対してn5 ≒n1 の関係にあ
る第5層膜と、 前記第5層膜上に形成されるとともに、屈折率n6 が前
記第3層膜の屈折率n3 に対してn6 ≦n3 の関係にあ
る第6層膜とを有することを特徴とする光記録再生装
置。
7. A semiconductor laser formed on at least a semiconductor substrate and having a light emitting surface substantially perpendicular to the semiconductor substrate, wherein the first and second light receiving elements are formed on at least a semiconductor substrate; A beam splitter that is fixed on the first light receiving element and the second light receiving element, reflects the outward light beam emitted from the light emitting surface, and guides the reflected return light beam to the first light receiving element. A beam splitter formed with a film splitter film forming surface on which a film is formed, and a high reflection surface that reflects the return light beam reflected by the upper surface of the first light receiving element and guides the reflected light beam to the second light receiving element; An optical pickup device having a composite optical element having an optical lens and an objective lens for condensing the outward light beam on an optical recording medium; and controlling the optical pickup device in a tracking direction. In the optical recording and reproducing apparatus and a moving means for driving said beam splitter film, a first layer film having a refractive index of n 1, it is formed into the first layer film, the refractive index n 2 wherein a second layer film having a relationship of n 2 <n 1 with respect to the refractive index n 1 of the first layer film, while being formed on the second layer film, the refractive index n 3 of the second-layer film a third layer film with respect to the refractive index n 2 which is in relation of n 3 <n 2, while being formed on the third layer film, the refractive index n 4 is the refractive index n 2 of the second layer film A fourth layer film having a relationship of n 4 ≒ n 2 with respect to the fourth layer film, and having a refractive index n 5 of n 5に 対 し て with respect to a refractive index n 1 of the first layer film. a fifth layer film having a relationship of n 1 , and a refractive index n 6 being formed on the fifth layer film and having a relationship of n 6 ≦ n 3 with respect to a refractive index n 3 of the third layer film. A certain sixth layer Optical recording and reproducing apparatus characterized in that it comprises and.
【請求項8】 前記ビームスプリッタ膜の膜厚が、前記
往路光ビームの波長とほぼ等しいことを特徴とする請求
項7に記載の光記録再生装置。
8. The optical recording / reproducing apparatus according to claim 7, wherein a thickness of the beam splitter film is substantially equal to a wavelength of the outward light beam.
JP10119515A 1998-04-28 1998-04-28 Beam splitter and composite optical element equipped with same, optical pickup device, and optical recording and reproducing device Pending JPH11312330A (en)

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