JPH11311707A - Color filter and method and device for manufacturing color filter and color display device - Google Patents

Color filter and method and device for manufacturing color filter and color display device

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Publication number
JPH11311707A
JPH11311707A JP13277598A JP13277598A JPH11311707A JP H11311707 A JPH11311707 A JP H11311707A JP 13277598 A JP13277598 A JP 13277598A JP 13277598 A JP13277598 A JP 13277598A JP H11311707 A JPH11311707 A JP H11311707A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
color filter
master
receiving layer
ink receiving
manufacturing
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP13277598A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Atsushi Takakuwa
敦司 高桑
Hisao Nishikawa
尚男 西川
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Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
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Publication of JPH11311707A publication Critical patent/JPH11311707A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a high-fineness color filter at low cost, specially, a manufacturing method for a color filter which makes it easy to peel an original disk off an ink reception layer. SOLUTION: This manufacturing method includes a 1st process for preparing the original disk 24 having plural projection parts 22 in specific array, a 2nd process for forming the ink reception layer 32 having plural recessed parts 36 transferred from the projection parts 22 between the surface of the original disk 24 which has the projection parts 22 and a reinforcing plate 28, a 3rd process for peeling the original disk 24 off the ink reception layer 32, and a coloring process for forming a colored layer 40 by charging coloring ink in the ink reception layer 32 at some certain point after the 1st process; and the reinforcing plate 28 has a tapered surface 29 at its end part 28a and in the 3rd process, a jig is engaged with the tapered surface 29 to peel the original disk 24 off the ink reception layer 32.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置など
のカラーフィルタ及びその製造方法並びにその製造装置
及びカラー表示装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a color filter such as a liquid crystal display device, a method of manufacturing the same, a device for manufacturing the same, and a color display device.

【0002】[0002]

【発明の背景】液晶表示パネル等のカラーフィルタを製
造する方法として、印刷法は精度の点で欠点があり、電
着法はパターンが限定されるという欠点があったので、
従来、染色法及び顔料分散法が主として用いられてき
た。
BACKGROUND OF THE INVENTION As a method of manufacturing a color filter such as a liquid crystal display panel, a printing method has a drawback in terms of accuracy, and an electrodeposition method has a drawback that a pattern is limited.
Conventionally, a dyeing method and a pigment dispersion method have been mainly used.

【0003】しかし、染色法及び顔料分散法は、第1
色、第2色、第3色の各画素(着色層)を形成する際に
毎回リソグラフィの工程が必要であり、カラーフィルタ
ーの量産性向上の大きな妨げとなっていた。
[0003] However, the dyeing method and the pigment dispersion method are the first.
A lithography step is required each time a pixel (colored layer) of each of the colors, the second color, and the third color is formed, which has been a great hindrance to improving the mass productivity of color filters.

【0004】また、1色毎にリソグラフィ工程を繰り返
すことなく画素を形成する方法として、特開昭59−7
5205号公報、特開昭61−245106号公報、特
開平7−146406号公報等に、インクジェット方式
によりカラーフィルタを製造する方法が開示されてい
る。
As a method of forming a pixel without repeating a lithography process for each color, Japanese Patent Application Laid-Open No.
JP-A-5205, JP-A-61-245106, JP-A-7-146406 and the like disclose a method of manufacturing a color filter by an ink jet method.

【0005】さらに、複数の凹部を有するインク受容層
を形成し、インクジェット方式により、各凹部に着色イ
ンク又は遮光性インクを充填して着色層又は遮光性層を
形成する方法が開発されている。なお、遮光性層は、ブ
ラックマトリクスとなるものである。
Further, a method has been developed in which an ink receiving layer having a plurality of concave portions is formed, and each concave portion is filled with a coloring ink or a light-shielding ink by an ink-jet method to form a colored layer or a light-shielding layer. The light-shielding layer serves as a black matrix.

【0006】ここで、凹部を有するインク受容層は、凹
凸パターンを有する原盤を用いて、その凹凸パターンを
インク受容層前駆体に転写し、このインク受容層前駆体
を固化させてから原盤を剥離することで容易に形成する
ことができる。
Here, the ink receiving layer having concave portions is transferred to an ink receiving layer precursor by using a master having an uneven pattern, the ink receiving layer precursor is solidified, and then the master is peeled off. By doing so, it can be easily formed.

【0007】しかしながら、原盤をインク受容層から剥
離する工程で、原盤とインク受容層の材質の組み合わせ
によって、あるいは、サイズの大型化によって、剥離が
困難になる場合がある。その結果、剥離に要する時間が
長くなって生産性が低下することが考えられる。
However, in the step of peeling the master from the ink receiving layer, peeling may be difficult due to the combination of the materials of the master and the ink receiving layer, or due to an increase in size. As a result, it is conceivable that the time required for peeling becomes longer and the productivity is reduced.

【0008】本発明は、このような問題点を解決するも
ので、その目的は、高精細のカラーフィルタを安価に製
造する方法であって、特に、原盤をインク受容層から容
易に剥離できるカラーフィルタの製造方法及びその方法
により製造されるカラーフィルタ並びにその製造装置及
びカラー表示装置を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide a method for manufacturing a high-definition color filter at a low cost. It is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a filter, a color filter manufactured by the method, a manufacturing apparatus thereof, and a color display device.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】(1)本発明に係るカラ
ーフィルタは、所定配列の複数の凸部を有する原盤を用
意する第1工程と、前記原盤の前記凸部を有する面と補
強板との間に、前記凸部から転写された複数の凹部を有
するインク受容層を形成する第2工程と、前記原盤を前
記インク受容層から剥離する第3工程と、前記第1工程
後のいずれかの時点で、前記インク受容層に着色インク
を充填して着色層を形成する着色工程と、を含み、前記
原盤及び補強板の少なくともいずれか一方の端部には係
合部が形成され、前記第3工程では、前記係合部に治具
を係合させて、前記原盤を前記インク受容層から剥離す
る。
(1) A color filter according to the present invention comprises a first step of preparing a master having a plurality of convex portions arranged in a predetermined arrangement, and a surface of the master having the convex portions and a reinforcing plate. A second step of forming an ink receiving layer having a plurality of concave portions transferred from the convex portions, a third step of separating the master from the ink receiving layer, and a step after the first step. At that time, a coloring step of filling the ink receiving layer with a coloring ink to form a coloring layer, including an engagement portion at least one end of the master and the reinforcing plate, In the third step, the jig is engaged with the engaging portion, and the master is separated from the ink receiving layer.

【0010】これは、要するに、原盤を型として、凹部
を有するインク受容層を転写形成し、着色インクを充填
して着色層を形成する方法である。原盤は、一旦製造す
ればその後、耐久性の許す限り何度でも使用できるた
め、2枚目以降のカラーフィルタの製造工程において省
略でき、工程数の減少および低コスト化を図ることがで
きる。
In short, this is a method in which an ink receiving layer having a concave portion is formed by transfer using a master as a mold, and a colored ink is filled to form a colored layer. Once the master is manufactured, it can be used as many times as the durability permits, so that the master can be omitted in the manufacturing process of the second and subsequent color filters, and the number of processes and cost can be reduced.

【0011】また、本発明によれば、原盤及び補強板の
少なくとも一方の端部に係合部が形成されているので、
この係合部に治具を係合させて、容易に原盤をインク受
容層から剥離することができる。
Further, according to the present invention, since the engaging portion is formed at at least one end of the master and the reinforcing plate,
The master can be easily peeled from the ink receiving layer by engaging a jig with the engaging portion.

【0012】(2)前記係合部は、テーパ形状、段形状
及び溝形状のうちのいずれかの形状をなし、前記治具
は、前記係合部の形状に対応する爪状をなしてもよい。
(2) The engaging portion has any one of a tapered shape, a stepped shape and a groove shape, and the jig has a claw shape corresponding to the shape of the engaging portion. Good.

【0013】(3)本発明に係るカラーフィルタは、所
定配列の複数の凸部を有する原盤を用意する第1工程
と、前記原盤の前記凸部を有する面と補強板との間に、
前記凸部から転写された複数の凹部を有するインク受容
層を形成する第2工程と、前記原盤を前記インク受容層
から剥離する第3工程と、前記第1工程後のいずれかの
時点で、前記インク受容層に着色インクを充填して着色
層を形成する着色工程と、を含み、前記第3工程では、
前記原盤と前記インク受容層との界面に高圧ガスを吹き
付けながら、前記原盤を前記インク受容層から剥離す
る。
(3) In the color filter according to the present invention, a first step of preparing a master having a plurality of convex portions arranged in a predetermined arrangement, and a step of:
A second step of forming an ink receiving layer having a plurality of concave parts transferred from the convex parts, a third step of peeling the master from the ink receiving layer, and at any point after the first step, A coloring step of forming a colored layer by filling the ink receiving layer with a colored ink, wherein the third step comprises:
The master is peeled from the ink receiving layer while blowing a high-pressure gas onto the interface between the master and the ink receiving layer.

【0014】これは、要するに、原盤を型として、凹部
を有するインク受容層を転写形成し、着色インクを充填
して着色層を形成する方法である。原盤は、一旦製造す
ればその後、耐久性の許す限り何度でも使用できるた
め、2枚目以降のカラーフィルタの製造工程において省
略でき、工程数の減少および低コスト化を図ることがで
きる。
In short, this is a method in which an ink receiving layer having a concave portion is formed by transfer using a master as a mold and filled with a coloring ink to form a coloring layer. Once the master is manufactured, it can be used as many times as the durability permits, so that the master can be omitted in the manufacturing process of the second and subsequent color filters, and the number of processes and cost can be reduced.

【0015】また、本発明によれば、原盤とインク受容
層との界面に高圧ガスを吹き付けるので、界面が剥がれ
やすくなり、両者間の剥離を容易に行うことができる。
Further, according to the present invention, since the high-pressure gas is blown to the interface between the master and the ink receiving layer, the interface is easily peeled off, and the two can be easily peeled off.

【0016】(4)本発明では、前記高圧ガスを、前記
原盤及びインク受容層の側方から吹き付けてもよい。
(4) In the present invention, the high-pressure gas may be blown from the sides of the master and the ink receiving layer.

【0017】(5)前記原盤及び補強板の少なくともい
ずれか一方は、前記インク受容層に向けて貫通する穴を
有し、前記高圧ガスを、前記穴を介して吹き付けてもよ
い。
(5) At least one of the master and the reinforcing plate may have a hole penetrating toward the ink receiving layer, and the high-pressure gas may be blown through the hole.

【0018】(6)本発明に係るカラーフィルタは、所
定配列の複数の凸部を有する原盤を用意する第1工程
と、前記原盤の前記凸部を有する面と補強板との間に、
前記凸部から転写された複数の凹部を有するインク受容
層を形成する第2工程と、前記原盤を前記インク受容層
から剥離する第3工程と、前記第1工程後のいずれかの
時点で、前記インク受容層に着色インクを充填して着色
層を形成する着色工程と、を含み、前記原盤及び前記補
強板の一方は、他方の一部に対して対向することを避け
る形状をなし、前記第3工程では、前記一方が対向する
ことを避けた前記他方の前記一部に対して、ピンを押し
つけて、前記原盤を前記インク受容層から剥離する。
(6) In the color filter according to the present invention, a first step of preparing a master having a plurality of convex portions arranged in a predetermined arrangement, and a step of:
A second step of forming an ink receiving layer having a plurality of concave parts transferred from the convex parts, a third step of peeling the master from the ink receiving layer, and at any point after the first step, A coloring step of forming a colored layer by filling the ink receiving layer with a colored ink, one of the master and the reinforcing plate has a shape that avoids opposing a part of the other, In a third step, a pin is pressed against the part of the other side, where the one side is prevented from being opposed to each other, and the master is peeled from the ink receiving layer.

【0019】これは、要するに、原盤を型として、凹部
を有するインク受容層を転写形成し、着色インクを充填
して着色層を形成する方法である。原盤は、一旦製造す
ればその後、耐久性の許す限り何度でも使用できるた
め、2枚目以降のカラーフィルタの製造工程において省
略でき、工程数の減少および低コスト化を図ることがで
きる。
In short, this is a method in which an ink receiving layer having a concave portion is transferred and formed using a master as a mold, and a colored ink is filled to form a colored layer. Once the master is manufactured, it can be used as many times as the durability permits, so that the master can be omitted in the manufacturing process of the second and subsequent color filters, and the number of processes and cost can be reduced.

【0020】また、本発明によれば、原盤及び補強板の
一方が、他方の一部を避ける形状になっている。このこ
とにより、原盤及び補強板の他方に対して、ピンを押し
つけて原盤をインク受容層から容易に剥離することがで
きる。
According to the present invention, one of the master and the reinforcing plate has a shape avoiding a part of the other. Thus, the pin can be pressed against the other of the master and the reinforcing plate to easily peel the master from the ink receiving layer.

【0021】(7)前記原盤及び前記補強板の前記一方
は、前記他方よりも小さく形成され、前記ピンは、前記
一方の外周側に位置にして、前記他方の外周端部を押し
つけてもよい。
(7) The one of the master and the reinforcing plate may be formed smaller than the other, and the pin may be located on the outer peripheral side of the one and press the outer peripheral end of the other. .

【0022】(8)前記原盤及び前記補強板の前記一方
は、前記インク受容層に向けて貫通する穴を有し、前記
ピンは、前記穴を介して、かつ、前記インク受容層を貫
通して、前記他方を押しつけてもよい。
(8) The one of the master and the reinforcing plate has a hole penetrating toward the ink receiving layer, and the pin penetrates through the ink receiving layer through the hole. Then, the other may be pressed.

【0023】(9)前記第1工程は、基板上に所定のパ
ターンをなすレジスト層を形成し、次いで、エッチング
によって前記基板上に前記凸部を形成して前記原盤を得
る工程を含んでもよい。
(9) The first step may include a step of forming a resist layer having a predetermined pattern on a substrate, and then forming the projections on the substrate by etching to obtain the master. .

【0024】この工程によれば、エッチング条件を変え
ることにより、凸部の形状および面粗さを高精度かつ自
由に制御することが可能である。
According to this step, the shape and surface roughness of the projection can be controlled with high precision and freely by changing the etching conditions.

【0025】(10)前記基板は、シリコン又は石英か
ら構成されてもよい。
(10) The substrate may be made of silicon or quartz.

【0026】シリコン又は石英は、純度の高いものが得
られやすく、リソグラフィ法におけるエッチングを行う
ときに加工性が良い。原盤は、凹部を形成する際の型と
なるため、このようなエッチングによる加工は効果的で
ある。
Silicon or quartz is easily obtained with high purity and has good workability when performing etching by lithography. Since the master serves as a mold for forming the concave portions, such processing by etching is effective.

【0027】(11)前記第1工程は、基台上に所定の
パターンをなすレジスト層を形成し、次いで、前記基台
およびレジスト層を導体化し、さらに電気鋳造法(電気
メッキ法)により金属を電着させて金属層を形成した
後、この金属層を前記基台およびレジスト層から剥離し
て前記原盤を得る工程を含んでもよい。
(11) In the first step, a resist layer having a predetermined pattern is formed on a base, the base and the resist layer are converted into a conductor, and the metal is formed by electroforming (electroplating). May be electrodeposited to form a metal layer, and then the metal layer is separated from the base and the resist layer to obtain the master.

【0028】この工程により得られた金属製の原盤は、
一般に耐久性および剥離性に優れる。
The metal master obtained in this step is:
Generally excellent in durability and peelability.

【0029】(12)前記第2工程では、前記原盤と前
記補強板との間にインク受容層前駆体を密着させて、前
記インク受容層前駆体を固化して前記インク受容層を形
成してもよい。
(12) In the second step, an ink receiving layer precursor is brought into close contact between the master and the reinforcing plate, and the ink receiving layer precursor is solidified to form the ink receiving layer. Is also good.

【0030】(13)前記インク受容層前駆体は、エネ
ルギーの付与により硬化可能な物質であってもよい。
(13) The ink receiving layer precursor may be a substance which can be cured by applying energy.

【0031】このような物質を利用することで、原盤上
の凸部間の微細部にまでインク受容層形成物質を容易に
充填することができ、したがって、原盤上の凸部形状を
精密に転写した凹部を形成することが可能となる。
By using such a substance, it is possible to easily fill the ink receiving layer forming material even in the fine portions between the convex portions on the master, and therefore, to accurately transfer the shape of the convex portions on the master. It becomes possible to form a concave portion.

【0032】(14)前記エネルギーは、光及び熱の少
なくともいずれか一方であってもよい。
(14) The energy may be at least one of light and heat.

【0033】こうすることで、汎用の露光装置やベイク
炉、ホットプレートが利用でき、低設備コスト化、省ス
ペース化が可能である。
In this manner, a general-purpose exposure apparatus, a baking furnace, and a hot plate can be used, so that equipment cost can be reduced and space can be saved.

【0034】(15)前記インク受容層前駆体は、紫外
線硬化型樹脂であってもよい。
(15) The ink receiving layer precursor may be an ultraviolet curable resin.

【0035】紫外線硬化型樹脂としては、アクリル系樹
脂が透明性に優れ、様々な市販の樹脂や感光剤を利用す
ることができるため好適である。
As the UV-curable resin, an acrylic resin is preferable because it has excellent transparency and various commercially available resins and photosensitive agents can be used.

【0036】(16)本発明では、前記第3工程の後
に、前記着色工程が行われ、前記着色工程では、前記イ
ンク受容層の前記凹部に、前記着色インクが充填されて
もよい。
(16) In the present invention, the coloring step may be performed after the third step, and in the coloring step, the concave portions of the ink receiving layer may be filled with the colored ink.

【0037】(17)本発明では、前記第2工程よりも
前に、前記着色工程が行われ、前記着色工程では、前記
インク受容層における前記凹部間に、前記着色インクを
充填し、前記第3工程の後に、前記インク受容層の前記
凹部に、遮光性インクを充填して遮光性層を形成する工
程を含んでもよい。
(17) In the present invention, the coloring step is performed before the second step. In the coloring step, the colored ink is filled between the concave portions in the ink receiving layer, and the colored ink is filled. After the three steps, a step of filling the concave portion of the ink receiving layer with a light-shielding ink to form a light-shielding layer may be included.

【0038】遮光性層は、ブラックマトリクスとなる。The light-shielding layer becomes a black matrix.

【0039】(18)前記遮光性インクは、インクジェ
ット方式によって充填されてもよい。
(18) The light-shielding ink may be filled by an ink-jet method.

【0040】インクジェット方式によれば、インクの充
填を高速化できるとともに、インクを無駄にすることが
ない。
According to the ink jet method, the speed of filling the ink can be increased, and the ink is not wasted.

【0041】(19)前記着色インクは、インクジェッ
ト方式によって充填されてもよい。
(19) The colored ink may be filled by an ink jet system.

【0042】インクジェット方式によれば、インクの充
填を高速化できるとともに、インクを無駄にすることが
ない。
According to the ink jet system, the speed of filling the ink can be increased, and the ink is not wasted.

【0043】(20)本発明に係るカラーフィルタは、
上記方法により製造される。
(20) The color filter according to the present invention comprises:
It is manufactured by the above method.

【0044】(21)本発明に係るカラー表示装置は、
上記カラーフィルタを有する。
(21) The color display device according to the present invention comprises:
The color filter is provided.

【0045】(22)本発明に係るカラーフィルタの製
造装置は、前記治具を有する。
(22) A color filter manufacturing apparatus according to the present invention includes the jig.

【0046】(23)本発明に係るカラーフィルタの製
造装置は、前記高圧ガスを供給する。
(23) The apparatus for manufacturing a color filter according to the present invention supplies the high-pressure gas.

【0047】(24)本発明に係るカラーフィルタの製
造装置は、前記ピンを有する。
(24) A color filter manufacturing apparatus according to the present invention includes the pins.

【0048】[0048]

【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施形態に
ついて図面を参照にして説明する。
Preferred embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings.

【0049】(第1実施形態)図1(A)〜図4(B)
は、本発明の第1実施形態に係るカラーフィルタの製造
方法を示す図である。
(First Embodiment) FIGS. 1A to 4B
FIG. 3 is a diagram illustrating a method for manufacturing a color filter according to the first embodiment of the present invention.

【0050】まず、図1(A)に示すように、基板10
上にレジスト層12を形成する。
First, as shown in FIG.
A resist layer 12 is formed thereon.

【0051】基板10は、表面をエッチングして原盤2
4(図1(E)参照)とするためのもので、ここではシ
リコン製基板が用いられる。シリコン製基板をエッチン
グする技術は、半導体デバイスの製造技術において確立
されており、高精度なエッチングが可能である。なお、
基板10は、エッチング可能な材料であれば、シリコン
製基板に限定されるものではなく、例えば、石英、ガラ
ス、樹脂、金属、セラミックなどの基板あるいはフィル
ム等が利用できる。
The surface of the substrate 10 is etched to form the master 2
4 (see FIG. 1E), in which a silicon substrate is used. The technology for etching a silicon substrate has been established in semiconductor device manufacturing technology, and enables highly accurate etching. In addition,
The substrate 10 is not limited to a silicon substrate as long as it is a material that can be etched, and for example, a substrate or a film of quartz, glass, resin, metal, ceramic, or the like can be used.

【0052】レジスト層12を形成する物質としては、
例えば、半導体デバイス製造において一般的に用いられ
ている、クレゾールノボラック系樹脂に感光剤としてジ
アゾナフトキノン誘導体を配合した市販のポジ型のレジ
ストをそのまま利用できる。ここで、ポジ型のレジスト
とは、所定のパターンに応じて放射線に暴露することに
より、放射線によって暴露された領域が現像液により選
択的に除去可能となる物質のことである。
The material for forming the resist layer 12 includes
For example, a commercially available positive resist in which a diazonaphthoquinone derivative is blended as a photosensitive agent with a cresol novolak resin, which is generally used in the manufacture of semiconductor devices, can be used as it is. Here, the positive resist is a substance that can be selectively removed by a developer when exposed to radiation according to a predetermined pattern.

【0053】レジスト層12を形成する方法としては、
スピンコート法、ディッピング法、スプレーコート法、
ロールコート法、バーコート法等の方法を用いることが
可能である。
The method for forming the resist layer 12 is as follows.
Spin coating, dipping, spray coating,
It is possible to use a method such as a roll coating method and a bar coating method.

【0054】次に、図1(B)に示すように、マスク1
4をレジスト層12の上に配置し、マスク14を介して
レジスト層12の所定領域のみを放射線16によって暴
露して、放射線暴露領域18を形成する。
Next, as shown in FIG.
4 is placed on the resist layer 12, and only a predetermined area of the resist layer 12 is exposed to radiation 16 via the mask 14 to form a radiation-exposed area 18.

【0055】マスク14は、少なくとも図1(E)に示
す凸部22に対応した領域を、放射線16が透過しない
ようにパターン形成されたものである。
The mask 14 is formed by patterning at least a region corresponding to the projection 22 shown in FIG. 1E so that the radiation 16 is not transmitted.

【0056】また、凸部22は、製造しようとするカラ
ーフィルタの各着色層40を形成するための凹部36
(図4(A)参照)を転写形成するためのものであり、
着色層40の形状および配列に応じて形成される。例え
ば、10型のVGA仕様の液晶パネルでは、約100μ
mピッチで、640×480×3(色)で90万画素、
つまり約90万個の凸部22が原盤24上に形成され
る。
Further, the convex portion 22 is provided with a concave portion 36 for forming each colored layer 40 of the color filter to be manufactured.
(See FIG. 4 (A)) for transfer formation.
It is formed according to the shape and arrangement of the coloring layer 40. For example, in a 10-inch VGA liquid crystal panel, about 100 μm
900,000 pixels in 640 × 480 × 3 (color) at m pitch,
That is, about 900,000 convex portions 22 are formed on the master 24.

【0057】また、放射線16としては波長200nm
〜500nmの領域の光を用いることが好ましい。この
波長領域の光の利用は、液晶パネルの製造プロセス等で
確立されているフォトリソグラフィの技術及びそれに利
用されている設備の利用が可能となり、低コスト化を図
ることができる。
The radiation 16 has a wavelength of 200 nm.
It is preferable to use light in the region of -500 nm. The use of light in this wavelength region makes it possible to use the photolithography technology established in the liquid crystal panel manufacturing process and the like and the equipment used therefor, and to reduce costs.

【0058】そして、レジスト層12を放射線16によ
って暴露した後、所定の条件で現像処理を行うと、図1
(C)に示すように、放射線暴露領域18のレジストの
みが選択的に除去されて基板10が露出し、それ以外の
領域はレジスト層12により覆われたままの状態とな
る。
After exposing the resist layer 12 with the radiation 16 and performing development processing under predetermined conditions, FIG.
As shown in (C), only the resist in the radiation-exposed area 18 is selectively removed to expose the substrate 10, and the other area remains covered by the resist layer 12.

【0059】こうしてレジスト層12がパターン化され
ると、図1(D)に示すように、このレジスト層12を
マスクとして、エッチャント20によって、基板10を
所定の深さエッチングする。
When the resist layer 12 is patterned in this manner, as shown in FIG. 1D, the substrate 10 is etched to a predetermined depth by the etchant 20 using the resist layer 12 as a mask.

【0060】エッチングの方法としてはウエット方式ま
たはドライ方式があるが、基板10の材質に合わせて、
エッチング断面形状、エッチングレート、面内均一性等
の点から最適な方式および条件を選べばよい。制御性の
点からいうとドライ方式の方が優れており、例えば、平
行平板型リアクティブイオンエッチング(RIE)方
式、誘導結合型(ICP)方式、エレクトロンサイクロ
トロン共鳴(ECR)方式、ヘリコン波励起方式、マグ
ネトロン方式、プラズマエッチング方式、イオンビーム
エッチング方式等の装置が利用でき、エッチングガス
種、ガス流量、ガス圧、バイアス電圧等の条件を変更す
ることにより、凸部22を矩形に加工したり、テーパを
付けたり、面を粗らしたりと、所望の形状にエッチング
することができる。
As a method of etching, there is a wet method or a dry method.
An optimum method and conditions may be selected from the viewpoint of the etching cross-sectional shape, etching rate, in-plane uniformity, and the like. In terms of controllability, the dry method is superior, for example, a parallel plate type reactive ion etching (RIE) method, an inductive coupling type (ICP) method, an electron cyclotron resonance (ECR) method, and a helicon wave excitation method. , A magnetron system, a plasma etching system, an ion beam etching system or the like can be used, and by changing conditions such as an etching gas type, a gas flow rate, a gas pressure, and a bias voltage, the convex portion 22 can be processed into a rectangular shape, Etching into a desired shape can be performed by forming a taper or roughening the surface.

【0061】次に、エッチング完了後に、図1(E)に
示すように、レジスト層12を除去すると、基板10上
に凸部22が得られ、これを原盤24とする。凸部22
間には、凹部30が形成される。
Next, after the etching is completed, as shown in FIG. 1E, when the resist layer 12 is removed, a convex portion 22 is obtained on the substrate 10, which is used as a master 24. Convex part 22
A recess 30 is formed between them.

【0062】そして、図2(A)に示すように、インク
受容層前駆体26を介して原盤24と補強板28とを密
着させる。インク受容層前駆体26は、図2(C)に示
すインク受容層32の材料となる。
Then, as shown in FIG. 2A, the master 24 and the reinforcing plate 28 are brought into close contact with each other via the ink receiving layer precursor 26. The ink receiving layer precursor 26 is a material of the ink receiving layer 32 shown in FIG.

【0063】補強板28の材質は、カラーフィルタとし
て要求される光透過性や機械的強度等の特性を満足する
ものであることが好ましい。例えば、補強板28の材質
として、ガラス基板、ポリカーボネート、ポリアリレー
ト、ポリエーテルサルフォン、アモルファスポリオレフ
ィン、ポリエチレンテレフタレート、ポリメチルメタク
リレート等のプラスチック製の基板あるいはフィルム基
板を用いてもよい。
The material of the reinforcing plate 28 preferably satisfies the characteristics required for a color filter, such as light transmittance and mechanical strength. For example, as a material of the reinforcing plate 28, a glass substrate, a plastic substrate such as polycarbonate, polyarylate, polyethersulfone, amorphous polyolefin, polyethylene terephthalate, polymethyl methacrylate, or a film substrate may be used.

【0064】補強板28の端部28aは、係合部として
のテーパ形状となっている。すなわち、テーパ面29が
補強板28の側端面となっており、爪状の部材にて係合
できるようになっている。そして、補強板28は、テー
パ面29によって面積が小さくなる面28bがインク受
容層26に密着する。この係合部としての端部28a
は、後述する補強板28を剥離する工程で利用される。
The end 28a of the reinforcing plate 28 has a tapered shape as an engaging portion. That is, the tapered surface 29 is a side end surface of the reinforcing plate 28, and can be engaged with a claw-shaped member. The surface 28 b of the reinforcing plate 28, whose area is reduced by the tapered surface 29, is in close contact with the ink receiving layer 26. End portion 28a as this engagement portion
Is used in a step of peeling the reinforcing plate 28 described later.

【0065】インク受容層前駆体26としては、インク
受容層32に形成される着色層40(図4(B)参照)
の形成領域の厚みにおいて、着色層40の色特性を損な
わない程度の光透過性を有していれば特に限定されるも
のでなく、種々の物質が利用できるが、エネルギーの付
与により硬化可能な物質であることが好ましい。このよ
うな物質は、インク受容層32の形成時には低粘性の液
状で取り扱うことが可能となり、常温、常圧下において
も容易に原盤24の凸部22間に形成される凹部30の
微細部にまで容易に充填することができる。
As the ink receiving layer precursor 26, a colored layer 40 formed on the ink receiving layer 32 (see FIG. 4B)
In the thickness of the formation region, there is no particular limitation as long as it has a light transmittance that does not impair the color characteristics of the colored layer 40, and various substances can be used, but the material can be cured by application of energy. Preferably, it is a substance. Such a substance can be handled as a low-viscosity liquid at the time of forming the ink receiving layer 32, and can easily reach a fine portion of the concave portion 30 formed between the convex portions 22 of the master 24 even at normal temperature and normal pressure. Can be easily filled.

【0066】エネルギーとしては、光及び熱の少なくと
もいずれか一方であることが好ましい。こうすること
で、汎用の露光装置やベイク炉、ホットプレートが利用
でき、低設備コスト、省スペース化を図ることができ
る。インク受容層前駆体26に使用される物質として
は、例えば、紫外線硬化型樹脂がある。紫外線硬化型樹
脂としては、アクリル系樹脂が好適である。様々な市販
の樹脂や感光剤を利用することで、透明性に優れ、ま
た、短時間の処理で硬化可能な紫外線硬化型のアクリル
系樹脂を得ることができる。
The energy is preferably at least one of light and heat. By doing so, a general-purpose exposure apparatus, a baking furnace, and a hot plate can be used, and low equipment cost and space saving can be achieved. As a substance used for the ink receiving layer precursor 26, for example, there is an ultraviolet curable resin. Acrylic resin is suitable as the UV-curable resin. By using various commercially available resins and photosensitizers, it is possible to obtain an ultraviolet-curable acrylic resin which is excellent in transparency and can be cured in a short time.

【0067】紫外線硬化型のアクリル系樹脂の基本組成
の具体例としては、プレポリマーまたはオリゴマー、モ
ノマー、光重合開始剤があげられる。
Specific examples of the basic composition of the ultraviolet-curable acrylic resin include a prepolymer or oligomer, a monomer, and a photopolymerization initiator.

【0068】プレポリマーまたはオリゴマーとしては、
例えば、エポキシアクリレート類、ウレタンアクリレー
ト類、ポリエステルアクリレート類、ポリエーテルアク
リレート類、スピロアセタール系アクリレート類等のア
クリレート類、エポキシメタクリレート類、ウレタンメ
タクリレート類、ポリエステルメタクリレート類、ポリ
エーテルメタクリレート類等のメタクリレート類等が利
用できる。
As the prepolymer or oligomer,
For example, acrylates such as epoxy acrylates, urethane acrylates, polyester acrylates, polyether acrylates, and spiroacetal acrylates; methacrylates such as epoxy methacrylates, urethane methacrylates, polyester methacrylates, and polyether methacrylates; Is available.

【0069】モノマーとしては、例えば、2−エチルヘ
キシルアクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレー
ト、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキ
シエチルメタクリレート、N−ビニル−2−ピロリド
ン、カルビトールアクリレート、テトラヒドロフルフリ
ルアクリレート、イソボルニルアクリレート、ジシクロ
ペンテニルアクリレート、1,3−ブタンジオールアク
リレート等の単官能性モノマー、1,6−ヘキサンジオ
ールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジメタ
クリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、
ネオペンチルグリコールジメタクリレート、エチレング
リコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジア
クリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート等の
二官能性モノマー、トリメチロールプロパントリアクリ
レート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、
ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリ
スリトールヘキサアクリレート等の多官能性モノマーが
利用できる。
Examples of the monomer include 2-ethylhexyl acrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, N-vinyl-2-pyrrolidone, carbitol acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, isovol Monofunctional monomers such as nyl acrylate, dicyclopentenyl acrylate, and 1,3-butanediol acrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate, neopentyl glycol diacrylate,
Bifunctional monomers such as neopentyl glycol dimethacrylate, ethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate,
Polyfunctional monomers such as pentaerythritol triacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate can be used.

【0070】光重合開始剤としては、例えば、2,2−
ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン等のアセトフ
ェノン類、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、p−イ
ソプロピル−α−ヒドロキシイソブチルフェノン等のブ
チルフェノン類、p−tert−ブチルジクロロアセト
フェノン、p−tert−ブチルトリクロロアセトフェ
ノン、α,α−ジクロル−4−フェノキシアセトフェノ
ン等のハロゲン化アセトフェノン類、ベンゾフェノン、
N,N−テトラエチル−4,4−ジアミノベンゾフェノ
ン等のベンゾフェノン類、ベンジル、ベンジルジメチル
ケタール等のベンジル類、ベンゾイン、ベンゾインアル
キルエーテル等のベンゾイン類、1−フェニル−1,2
−プロパンジオン−2−(o−エトキシカルボニル)オ
キシム等のオキシム類、2−メチルチオキサントン、2
−クロロチオキサントン等のキサントン類、ベンゾイン
エーテル、イソブチルベンゾインエーテル等のベンゾイ
ンエーテル類、ミヒラーケトン等のラジカル発生化合物
が利用できる。
As the photopolymerization initiator, for example, 2,2-
Acetophenones such as dimethoxy-2-phenylacetophenone, butylphenones such as α-hydroxyisobutylphenone and p-isopropyl-α-hydroxyisobutylphenone, p-tert-butyldichloroacetophenone, p-tert-butyltrichloroacetophenone, α, halogenated acetophenones such as α-dichloro-4-phenoxyacetophenone, benzophenone,
Benzophenones such as N, N-tetraethyl-4,4-diaminobenzophenone; benzyls such as benzyl and benzyldimethylketal; benzoins such as benzoin and benzoin alkyl ether; 1-phenyl-1,2
Oximes such as -propanedione-2- (o-ethoxycarbonyl) oxime, 2-methylthioxanthone,
-Xanthones such as chlorothioxanthone, benzoin ethers such as benzoin ether and isobutyl benzoin ether, and radical generating compounds such as Michler's ketone can be used.

【0071】なお、必要に応じて、酸素による硬化阻害
を防止する目的でアミン類等の化合物を添加したり、塗
布を容易にする目的で溶剤成分を添加してもよい。
If necessary, a compound such as an amine may be added for the purpose of preventing curing inhibition by oxygen, or a solvent component may be added for the purpose of facilitating coating.

【0072】溶剤成分としては、特に限定されるもので
はなく、種々の有機溶剤、例えば、プロピレングリコー
ルモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコー
ルモノプロピルエーテル、メトキシメチルプロピオネー
ト、エトキシエチルプロピオネート、エチルセロソル
ブ、エチルセロソルブアセテート、エチルラクテート、
エチルピルビネート、メチルアミルケトン、シクロヘキ
サノン、キシレン、トルエン、ブチルアセテート等から
選ばれる一種または複数種の利用が可能である。
The solvent component is not particularly limited, and various organic solvents such as propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monopropyl ether, methoxymethyl propionate, ethoxyethyl propionate, ethyl cellosolve, Ethyl cellosolve acetate, ethyl lactate,
One or more kinds selected from ethyl pyruvate, methyl amyl ketone, cyclohexanone, xylene, toluene, butyl acetate and the like can be used.

【0073】このような紫外線硬化型のアクリル系樹脂
等からなるインク受容層前駆体26を、図2(A)に示
すように、原盤24上に所定量滴下する。
As shown in FIG. 2A, a predetermined amount of such an ink-receiving layer precursor 26 made of an ultraviolet-curable acrylic resin or the like is dropped on the master 24.

【0074】そして、図2(B)に示すように、インク
受容層前駆体26を所定領域まで拡げ、続いて、図2
(C)に示すように、補強板28側から紫外線34を所
定量照射してインク受容層前駆体26を硬化させて、補
強板28と原盤24の間にインク受容層32を形成す
る。
Then, as shown in FIG. 2B, the ink receiving layer precursor 26 is spread to a predetermined area.
As shown in (C), the ink receiving layer precursor 26 is cured by irradiating a predetermined amount of ultraviolet rays 34 from the reinforcing plate 28 side, and the ink receiving layer 32 is formed between the reinforcing plate 28 and the master 24.

【0075】インク受容層前駆体26を所定領域まで拡
げるにあたって、必要に応じて所定の圧力を補強板28
及び原盤24の少なくとも一方に加えてもよい。
When expanding the ink receiving layer precursor 26 to a predetermined area, a predetermined pressure is applied as necessary to the reinforcing plate 28.
And the master 24.

【0076】ここでは、インク受容層前駆体26を原盤
24上に滴下したが、補強板28に滴下するか、補強板
28および原盤24の両方に滴下してもよい。
Although the ink receiving layer precursor 26 is dropped on the master 24 here, it may be dropped on the reinforcing plate 28 or on both the reinforcing plate 28 and the master 24.

【0077】また、スピンコート法、ディッピング法、
スプレーコート法、ロールコート法、バーコート法等の
方法を用いて、補強板28または原盤24のいずれか一
方、または、両方にインク受容層前駆体26を塗布して
もよい。
Further, a spin coating method, a dipping method,
The ink receiving layer precursor 26 may be applied to one or both of the reinforcing plate 28 and the master 24 by using a method such as a spray coating method, a roll coating method, or a bar coating method.

【0078】次に、補強板28及びインク受容層32を
一体的に原盤24から剥離する工程を説明する。図3
(A)には、この剥離工程で使用されるカラーフィルタ
の製造装置100が示されており、図3(B)には、製
造装置100の一部が拡大されて示されている。
Next, the step of integrally separating the reinforcing plate 28 and the ink receiving layer 32 from the master 24 will be described. FIG.
FIG. 3A shows a color filter manufacturing apparatus 100 used in the peeling step, and FIG. 3B shows a part of the manufacturing apparatus 100 in an enlarged manner.

【0079】製造装置100は、台102と、この台1
02の上で揺動する可動板104とを有する。台102
上であって可動板104の下には、一体化された原盤2
4、インク受容層32及び補強板28が、原盤24を下
にして載置される。また、台102と原盤24とは、例
えば両者に係合部及び被係合部を設けたり真空吸着した
りすることで連結されている。
The manufacturing apparatus 100 includes a table 102 and this table 1
And a movable plate 104 that oscillates on the movable plate 02. Stand 102
Above the movable plate 104, the integrated master 2
4. The ink receiving layer 32 and the reinforcing plate 28 are placed with the master 24 facing down. The base 102 and the master 24 are connected to each other by, for example, providing an engaging portion and an engaged portion to each other or by vacuum suction.

【0080】可動板104は、偏心軸106aを中心に
ローラ106bが回転して力を加えるアクチュエータ1
06にて、一方の端部が押しつけられることで他方の端
部が跳ね上がるように揺動する。可動板104における
跳ね上がる端部には、治具108が設けられている。治
具108は、台102の上に位置する補強板28のテー
パ面29に係合する爪状をなし、係合及びその解除が可
能なようにスライドできるようになっている。治具10
8が補強板28のテーパ面29に係合することで、補強
板28の端部28aが確実に保持される。
The movable plate 104 is an actuator 1 for applying a force by rotating the roller 106b about the eccentric shaft 106a.
At 06, one end is pressed to swing so that the other end jumps up. A jig 108 is provided at an end of the movable plate 104 that jumps up. The jig 108 has a claw shape to be engaged with the tapered surface 29 of the reinforcing plate 28 located on the base 102, and can be slid so as to be able to engage and disengage. Jig 10
The engagement of the tapered surface 8 with the tapered surface 29 of the reinforcing plate 28 ensures that the end 28a of the reinforcing plate 28 is held.

【0081】また、製造装置100は、高圧ガスポンプ
110を有し、この高圧ガスポンプ110に接続された
供給管112の開口112aから高圧ガス114が吹き
出されるようになっている。開口112aは、図3
(B)に示すように、原盤24とインク受容層32との
界面に向けて、側方から高圧ガス114が吹き出される
ようになっている。こうすることで、原盤24とインク
受容層32との間に空気が入り込み、両者が剥離しやす
くなる。
The manufacturing apparatus 100 has a high-pressure gas pump 110, and a high-pressure gas 114 is blown from an opening 112 a of a supply pipe 112 connected to the high-pressure gas pump 110. The opening 112a is shown in FIG.
As shown in (B), high-pressure gas 114 is blown from the side toward the interface between the master 24 and the ink receiving layer 32. By doing so, air enters between the master disk 24 and the ink receiving layer 32, and both are easily separated.

【0082】製造装置100は上記構成であり、その作
用を説明する。まず、可動板104を跳ね上げた状態
で、原盤24を下にして、台102の上に、一体化され
た原盤24、インク受容層32及び補強板28を載せ
る。また、図示しない手段によって、原盤24を台10
2に連結する。そして、補強板28の上に可動板104
を載せて、治具108を補強板28のテーパ面29に係
合させる。
The manufacturing apparatus 100 has the above configuration, and its operation will be described. First, with the movable plate 104 flipped up, the integrated master 24, the ink receiving layer 32 and the reinforcing plate 28 are placed on the base 102 with the master 24 facing down. The master 24 is placed on the base 10 by means (not shown).
Connect to 2. Then, the movable plate 104 is placed on the reinforcing plate 28.
And the jig 108 is engaged with the tapered surface 29 of the reinforcing plate 28.

【0083】次に、供給管112の開口112aから高
圧ガス114を、原盤24とインク受容層32との界面
に向けて吹き付けながら、アクチュエータ106にて可
動板104を跳ね上げるように揺動させる。
Next, the actuator 106 swings the movable plate 104 so as to jump up while blowing the high-pressure gas 114 from the opening 112 a of the supply pipe 112 toward the interface between the master 24 and the ink receiving layer 32.

【0084】こうして、高圧ガス114によって原盤2
4とインク受容層32とを剥離しやすくして、治具10
8に確実に保持された補強板28の端部28aを、原盤
24から離れる方向に動かす。そして、図3(C)に示
すように、一体化した補強板28及びインク受容層32
を、原盤24から剥離することができる。
In this manner, the master 2 is
4 and the ink receiving layer 32 are easily separated from each other.
The end portion 28 a of the reinforcing plate 28 securely held by 8 is moved away from the master 24. Then, as shown in FIG. 3C, the integrated reinforcing plate 28 and the ink receiving layer 32 are integrated.
From the master 24.

【0085】なお、本実施形態では、治具108及び高
圧ガス114の両方を使用したが、原盤24とインク受
容層32との密着力が、補強板28とインク受容層32
との密着力よりも小さければ、高圧ガス114を省略し
てもよい。このような密着力の差は、原盤24及び補強
板28の材料を変えることで得られる。あるいは、高圧
ガス114を使用することで、少なくともインク受容層
32の端部において、原盤24とインク受容層32との
密着力を極めて小さくことができれば、治具108を使
用しなくても両者の剥離を行える場合もあり得る。
In this embodiment, both the jig 108 and the high-pressure gas 114 are used. However, the adhesion between the master 24 and the ink receiving layer 32 depends on the strength of the reinforcing plate 28 and the ink receiving layer 32.
If it is smaller than the adhesion force, the high-pressure gas 114 may be omitted. Such a difference in adhesion can be obtained by changing the materials of the master 24 and the reinforcing plate 28. Alternatively, if the adhesive force between the master 24 and the ink receiving layer 32 can be made extremely small at least at the end of the ink receiving layer 32 by using the high-pressure gas 114, both of them can be used without using the jig 108. Peeling may be possible in some cases.

【0086】こうして、凹部36を有するインク受容層
32及び補強板28が、原盤24から剥離されると、次
に、図4(A)及び図4(B)に示すように、それぞれ
の凹部36に、予め設定された着色インク38を充填し
て着色層40を形成する。
When the ink receiving layer 32 and the reinforcing plate 28 having the concave portions 36 are peeled off from the master 24 in this manner, as shown in FIGS. 4A and 4B, the respective concave portions 36 are formed. Is filled with a preset coloring ink 38 to form a coloring layer 40.

【0087】凹部36への着色インク38の充填方法と
しては、特に限定されるものではないが、インクジェッ
ト方式が好適である。インクジェット方式によれば、イ
ンクジェットプリンタ用に実用化された技術を応用する
ことで、高速かつインクを無駄なく経済的に充填すると
が可能である。
The method of filling the concave portion 36 with the coloring ink 38 is not particularly limited, but an ink jet system is preferable. According to the ink jet method, it is possible to fill the ink at high speed and economically without waste by applying the technology practically used for the ink jet printer.

【0088】図4(A)には、インクジェットヘッド4
2によって、例えば、赤、緑、青の着色インク38を凹
部36に充填する様子を示してある。
FIG. 4A shows the ink jet head 4.
2 shows that the concave portions 36 are filled with, for example, red, green, and blue colored inks 38.

【0089】補強板28上の凹部36に対向させてイン
クジェットヘッド42を配置し、各着色インク38を各
凹部36に吐出する。
The ink-jet head 42 is arranged so as to face the concave portion 36 on the reinforcing plate 28, and each colored ink 38 is discharged into each concave portion 36.

【0090】インクジェットヘッド42は、例えばイン
クジェットプリンタ用に実用化されたもので、圧電素子
を用いたピエゾジェットタイプ、あるいはエネルギー発
生素子として電気熱変換体を用いたバブルジェットタイ
プ等が使用可能であり、着色面積および着色パターンは
任意に設定することが可能である。
The ink jet head 42 has been put into practical use, for example, for an ink jet printer, and a piezo jet type using a piezoelectric element or a bubble jet type using an electrothermal converter as an energy generating element can be used. , Coloring area and coloring pattern can be arbitrarily set.

【0091】例えば、このインクジェットヘッド42
を、インクを吐出する吐出口を3色用に各色20個ずつ
配列し、駆動周波数14.4kHz(1秒間に1440
0回の吐出)で、一つの凹部36に3滴ずつ吐出すれ
ば、約90万画素の10型VGA仕様のカラーフィルタ
用の凹部36に着色インク38を充填するのに要する時
間は、90万×3滴/(14400回×20個×3色)
=約3秒となる。ここで、インクジェットヘッド42が
凹部36間を移動する時間を考慮しても、2〜3分程度
で全ての凹部36に着色インク38を充填することがで
きる。
For example, the ink jet head 42
Are arranged at a discharge frequency of 14.4 kHz (1440 seconds per second) by arranging 20 discharge ports for discharging three colors of ink.
If three droplets are ejected into one recess 36 at a time (0 ejections), the time required to fill the coloring ink 38 into the recess 36 for a color filter of 10-type VGA of about 900,000 pixels is 900,000. × 3 drops / (14400 times × 20 pieces × 3 colors)
= About 3 seconds. Here, even if the time for the inkjet head 42 to move between the concave portions 36 is taken into consideration, all the concave portions 36 can be filled with the coloring ink 38 in about 2 to 3 minutes.

【0092】そして、着色インク38に溶剤成分を含む
ものは、熱処理を行って溶剤を揮発させる。なお、着色
インク38は、溶剤成分を揮発させると収縮するため、
収縮後に必要な色濃度が確保できる量を充填しておくこ
とが必要である。こうして、図4(B)に示すように、
補強板28、インク受容層32及び着色層40を含むカ
ラーフィルタが得られる。なお、補強板28は、カラー
フィルタの構成要素として不要であれば剥離してもよ
い。
When the coloring ink 38 contains a solvent component, the solvent is volatilized by performing a heat treatment. In addition, since the coloring ink 38 contracts when the solvent component is volatilized,
It is necessary to fill an amount capable of securing a necessary color density after shrinkage. Thus, as shown in FIG.
A color filter including the reinforcing plate 28, the ink receiving layer 32, and the coloring layer 40 is obtained. The reinforcing plate 28 may be peeled off if it is not necessary as a component of the color filter.

【0093】なお、上記実施形態では、原盤24上に凸
部22を形成するに際し、ポジ型のレジストを用いた
が、放射線に暴露された領域が現像液に対して不溶化
し、放射線に暴露されていない領域が現像液により選択
的に除去可能となるネガ型のレジストを用いても良く、
この場合には、上記マスク14とはパターンが反転した
マスクが用いられる。あるいは、マスクを使用せずに、
レーザ光あるいは電子線によって直接レジストをパター
ン状に暴露しても良い。
In the above embodiment, a positive resist is used to form the projections 22 on the master 24. However, the area exposed to the radiation is insolubilized in the developing solution and is exposed to the radiation. A negative resist in which the unremoved area can be selectively removed by a developer may be used,
In this case, a mask having an inverted pattern is used as the mask 14. Alternatively, without using a mask,
The resist may be directly exposed in a pattern by laser light or electron beam.

【0094】また、本発明において、着色層の形成方法
は、上記実施形態に限定されるものではなく、顔料分散
法などによって着色層を形成してもよい。
In the present invention, the method for forming the colored layer is not limited to the above embodiment, and the colored layer may be formed by a pigment dispersion method or the like.

【0095】さらに、上記実施形態では、補強板28に
係合部を形成したが、逆に、原盤24に係合部を形成し
て治具108を係合させてもよい。
Further, in the above embodiment, the engaging portion is formed on the reinforcing plate 28. Conversely, the engaging portion may be formed on the master 24 and the jig 108 may be engaged.

【0096】(第2実施形態)図5(A)〜図6(B)
は、本発明の第2実施形態に係るカラーフィルタの製造
方法を示す図である。本実施形態は、上記第1実施形態
における原盤の他の製造方法を提供するものである。
(Second Embodiment) FIGS. 5A to 6B
FIG. 7 is a view illustrating a method for manufacturing a color filter according to a second embodiment of the present invention. The present embodiment provides another method of manufacturing the master in the first embodiment.

【0097】まず、図5(A)に示すように、基台50
上にレジスト層52を形成する。基台50の材料として
は、レジスト層52をリソグラフィ法によりパターン化
する際の支持体としての役割を担うものであるため、プ
ロセス流動に必要とされる機械的強度や薬液耐性等を有
し、レジスト層52との付着がよく、密着可能なもので
あれば、その種類に限定されない。例えば、基台50の
材質としては、ガラス、石英、シリコンウェハ、樹脂、
金属、セラミックス等を利用できる。本実施形態では、
表面を酸化セリウム系の研磨剤を用いて平坦に研磨した
後、洗浄、乾燥したガラス製基台を用いる。
First, as shown in FIG.
A resist layer 52 is formed thereon. Since the material of the base 50 serves as a support when the resist layer 52 is patterned by a lithography method, it has mechanical strength and chemical solution resistance required for process flow, The type is not limited as long as it has good adhesion to the resist layer 52 and can be closely attached. For example, as the material of the base 50, glass, quartz, silicon wafer, resin,
Metals, ceramics, etc. can be used. In this embodiment,
After the surface is polished flat using a cerium oxide-based abrasive, a washed and dried glass base is used.

【0098】レジスト層52の材料および形成方法につ
いては、上記第1実施形態と同様なので、説明を省略す
る。
The material and the method of forming the resist layer 52 are the same as those in the first embodiment, and the description is omitted.

【0099】次に、図5(B)に示すように、レジスト
層52上を所定のパターンに応じたマスク54で覆って
放射線56を照射することにより暴露する。
Next, as shown in FIG. 5B, the resist layer 52 is exposed by irradiating a radiation 56 while covering the resist layer 52 with a mask 54 corresponding to a predetermined pattern.

【0100】マスク54は、放射線暴露領域58に対応
した領域のみ放射線56が透過するようにパターンが形
成された遮へい部材である。このパターンは、画素領域
の凹部36(図4(A)参照)に相当する領域に放射線
56を透過させるためのものである。すなわち、上記第
1実施形態と比べると、放射線を透過する領域と透過し
ない領域との関係が反転している。もちろん、ネガ型の
レジストを用いれば、上記関係を反転させることができ
る。
The mask 54 is a shielding member on which a pattern is formed so that the radiation 56 is transmitted only in a region corresponding to the radiation exposure region 58. This pattern is for transmitting the radiation 56 to a region corresponding to the concave portion 36 (see FIG. 4A) of the pixel region. That is, as compared with the first embodiment, the relationship between the region that transmits radiation and the region that does not transmit radiation is reversed. Of course, the above relationship can be reversed by using a negative resist.

【0101】放射線としては、波長200nm〜500
nmの領域の光を用いることが好ましい。この波長領域
の光の利用は、液晶パネルの製造プロセス等で確立され
ているフォトリソグラフィの技術及びそれに利用されて
いる設備の利用が可能となり、低コスト化を図ることが
できる。
The radiation has a wavelength of 200 nm to 500 nm.
It is preferable to use light in the nm range. The use of light in this wavelength region makes it possible to use the photolithography technology established in the liquid crystal panel manufacturing process and the like and the equipment used therefor, and to reduce costs.

【0102】次に、レジスト層52を放射線56によっ
て暴露した後、図5(C)に示すように、一定条件で現
像処理を行って、放射線暴露領域58のレジスト材料を
除去する。この処理により、放射線56にさらされてい
た放射線暴露領域58のレジスト材料が選択的に取り除
かれて基台50が露出した状態となる。
Next, after exposing the resist layer 52 with radiation 56, as shown in FIG. 5C, development processing is performed under a certain condition to remove the resist material in the radiation exposed area 58. By this processing, the resist material in the radiation exposure area 58 that has been exposed to the radiation 56 is selectively removed, leaving the base 50 exposed.

【0103】次に、図6(A)に示すように、基台50
及びパターン化されたレジスト層52に、導体化層60
を形成して表面を導体化する。導体化層60の材料とし
ては、図6(B)に示すメッキ(金属)層62を成長さ
せるための導電性を備えれば十分であり、例えば、Ni
を500〜1000オングストローム(10-10m)の
厚みで形成する。導体化層60の形成方法としては、ス
パッタリング法、CVD法、蒸着法、無電界メッキ法等
の種々の方法を適用することができる。なお、導体化層
60を形成せずにメッキ層62を成長させることが可能
であれば、この工程は不要である。
Next, as shown in FIG.
And a patterned conductive layer 60
To make the surface conductive. As a material of the conductive layer 60, it is sufficient to have conductivity for growing the plating (metal) layer 62 shown in FIG.
Is formed to a thickness of 500 to 1000 Å (10 −10 m). As a method for forming the conductive layer 60, various methods such as a sputtering method, a CVD method, an evaporation method, and an electroless plating method can be applied. This step is unnecessary if the plating layer 62 can be grown without forming the conductive layer 60.

【0104】そして、図6(B)に示すように、メッキ
層62を成長させる。まず、導体化層60により導体化
されたレジスト層52および基台50を陰極とし、チッ
プ状あるいはボール状のNiを陽極として、図示しない
メッキ装置の電極を接続する。そして電気鋳造法(電気
メッキ法)によりNiを電着させ、メッキ層62を形成
させる。
Then, as shown in FIG. 6B, a plating layer 62 is grown. First, an electrode of a plating apparatus (not shown) is connected using the resist layer 52 and the base 50, which are made conductive by the conductive layer 60, as a cathode and using chip-shaped or ball-shaped Ni as an anode. Then, Ni is electrodeposited by an electroforming method (electroplating method) to form a plating layer 62.

【0105】電気メッキ液としては、例えば次のような
組成のメッキ液を適用可能である。
As the electroplating solution, for example, a plating solution having the following composition can be used.

【0106】 スルファミン酸ニッケル:500g/l ホウ酸 : 30g/l 塩化ニッケル : 5g/l レベリング剤 : 10mg/l あるいは、 スルファミン酸ニッケル:900g/l ホウ酸 : 60g/l 塩化ニッケル : 8g/l レベリング剤 : 30mg/l 続いて、図6(C)に示すように、導体化層60および
メッキ層62を基台50およびレジスト層52から剥離
する。剥離後に、必要に応じて洗浄することにより、原
盤64を完成させることができる。なお、導体化層60
は、必要に応じて剥離処理を施して、メッキ層62から
除去してもよい。
Nickel sulfamate: 500 g / l Boric acid: 30 g / l Nickel chloride: 5 g / l Leveling agent: 10 mg / l Alternatively, nickel sulfamate: 900 g / l Boric acid: 60 g / l Nickel chloride: 8 g / l Leveling Agent: 30 mg / l Subsequently, as shown in FIG. 6C, the conductive layer 60 and the plating layer 62 are separated from the base 50 and the resist layer 52. After the peeling, the master 64 can be completed by washing as necessary. The conductive layer 60
May be removed from the plating layer 62 by performing a peeling treatment as needed.

【0107】上記のようにして製造された原盤64を第
1実施形態における原盤として使用して、本発明のカラ
ーフィルタを製造できる。
The color filter of the present invention can be manufactured by using the master 64 manufactured as described above as the master in the first embodiment.

【0108】なお、上記レジスト層52の形成にはポジ
型のレジストを適用したが、ネガ型のレジストを用いて
もよい。この場合、上記マスク54とは露光部分と非露
光部分の関係が反転したマスクを用いる。
Although a positive resist is used for forming the resist layer 52, a negative resist may be used. In this case, a mask in which the relationship between the exposed portion and the non-exposed portion is reversed is used as the mask 54.

【0109】また、露光方法としては、マスクを用いず
に、レーザ光や電子線によって直接レジストをパターン
状に露光するものでもよい。
As an exposure method, a method may be used in which the resist is directly exposed in a pattern by a laser beam or an electron beam without using a mask.

【0110】上記したように本実施形態によれば、電気
鋳造法によりカラーフィルタの製造に適する原盤を製造
することができる。本実施形態により製造され原盤は金
属であって堅牢なため、耐久性がよく、製造コストをさ
らに下げることができるという効果も奏する。
As described above, according to the present embodiment, it is possible to manufacture an original master suitable for manufacturing a color filter by an electroforming method. Since the master produced by the present embodiment is made of metal and is robust, it has good durability and has an effect that the production cost can be further reduced.

【0111】(第3実施形態)図7(A)〜図7(D)
は、第3実施形態に係る補強板を示す図であり、いずれ
も第1実施形態の補強板28の代わりに使用することが
できる。図7(A)に示す補強板70は、表面に直角に
接続する面70aとテーパ面70bとで、側端面が形成
されている。テーパ面70bを有する端部が係合部とな
る。図7(B)に示す補強板72の端部には、段差部7
2aが形成されることで係合部となっている。図7
(C)に示す補強板74の端部には、緩やかに凸状に湾
曲した面74aが形成されていることで係合部となって
いる。図7(D)に示す補強板76の端部には、V字状
の溝76aが形成されていることで係合部となってい
る。
(Third Embodiment) FIGS. 7A to 7D
FIG. 9 is a view showing a reinforcing plate according to a third embodiment, and any of them can be used instead of the reinforcing plate 28 of the first embodiment. The reinforcing plate 70 shown in FIG. 7A has a side surface that is formed by a surface 70a that is perpendicularly connected to the surface and a tapered surface 70b. The end having the tapered surface 70b is the engaging portion. At the end of the reinforcing plate 72 shown in FIG.
The engagement portion is formed by forming 2a. FIG.
An end portion of the reinforcing plate 74 shown in (C) is formed with a surface 74a that is curved in a gently convex shape, thereby forming an engaging portion. The V-shaped groove 76a is formed at the end of the reinforcing plate 76 shown in FIG.

【0112】上記補強板70、72、74、76のいず
れであっても、図3(B)に示す治具108と係合し
て、第1実施形態と同様の効果を達成することができ
る。あるいは、これらの形状を第1実施形態の原盤24
に適用して、治具108と係合させてもよい。
In any of the reinforcing plates 70, 72, 74, and 76, the same effects as in the first embodiment can be achieved by engaging with the jig 108 shown in FIG. . Alternatively, these shapes may be changed to the master 24 of the first embodiment.
May be engaged with the jig 108.

【0113】(第4実施形態)図8は、第4実施形態に
係るカラーフィルタの製造方法を示す図であり、特に、
原盤とインク受容層との剥離工程を示す。
(Fourth Embodiment) FIG. 8 is a diagram showing a method of manufacturing a color filter according to a fourth embodiment.
4 shows a step of separating the master and the ink receiving layer.

【0114】図8には、補強板28及び原盤120の間
にインク受容層32が密着して設けられた状態が示され
ている。原盤120は、インク受容層32に向けて貫通
する少なくとも一つの穴122を有する点で、第1実施
形態の原盤24と相違する。穴122は、インク受容層
32と原盤120との界面に向けて開口していれば、そ
の形成方法は限定されないが、インク受容層32の端部
付近において開口することが好ましい。
FIG. 8 shows a state where the ink receiving layer 32 is provided between the reinforcing plate 28 and the master 120 in close contact with each other. The master 120 differs from the master 24 of the first embodiment in having at least one hole 122 penetrating toward the ink receiving layer 32. The method of forming the hole 122 is not limited as long as the hole 122 opens toward the interface between the ink receiving layer 32 and the master 120, but it is preferable to open the hole near the end of the ink receiving layer 32.

【0115】本実施形態では、インク受容層32と原盤
120との界面に向けて、原盤120の穴122から高
圧ガス124が供給される。こうすることで、インク受
容層32と原盤120とを剥離しやすくすることができ
る。そして、インク受容層32を原盤120から剥離す
る。このとき、第1実施形態の製造装置100を使用し
てもよい。その場合には、製造装置100に高圧ガス1
24を供給するポンプ及び供給管を設けることが好まし
い。
In this embodiment, a high-pressure gas 124 is supplied from the hole 122 of the master 120 toward the interface between the ink receiving layer 32 and the master 120. By doing so, the ink receiving layer 32 and the master 120 can be easily separated. Then, the ink receiving layer 32 is separated from the master 120. At this time, the manufacturing apparatus 100 according to the first embodiment may be used. In that case, the high-pressure gas 1
It is preferable to provide a pump for supplying 24 and a supply pipe.

【0116】あるいは、カラーフィルタとしての光透過
領域を避ける位置であれば、補強板28に穴を形成し、
この穴から高圧ガスを吹き込んでもよい。
Alternatively, a hole may be formed in the reinforcing plate 28 at a position avoiding the light transmitting area as a color filter,
High pressure gas may be blown from this hole.

【0117】(第5実施形態)図9は、第5実施形態に
係るカラーフィルタの製造方法を示す図であり、特に、
原盤とインク受容層との剥離工程を示す。
(Fifth Embodiment) FIG. 9 is a diagram showing a method of manufacturing a color filter according to a fifth embodiment.
4 shows a step of separating the master and the ink receiving layer.

【0118】図9には、補強板134及び原盤130の
間にインク受容層132が密着して設けられた状態が示
されている。原盤130には、インク受容層132に向
けて貫通する穴130aが形成されている。穴130a
は、インク受容層132の端部付近において開口するこ
とが好ましい。また、原盤130は、第1実施形態の原
盤24のように、台などに連結しておくことが好まし
い。
FIG. 9 shows a state in which the ink receiving layer 132 is provided between the reinforcing plate 134 and the master 130 in close contact. In the master 130, a hole 130a penetrating toward the ink receiving layer 132 is formed. Hole 130a
Is preferably opened near the end of the ink receiving layer 132. It is preferable that the master 130 be connected to a table or the like, like the master 24 of the first embodiment.

【0119】本実施形態では、原盤130の穴130a
にピン136を挿通して、補強板134を押しつける。
なお、ピン136は、補強板134を直接押しつけても
良いし、インク受容層132を介して補強板134を押
しつけても良い。なお、補強板134を直接押しつける
場合には、インク受容層132には、穴130aに連通
する穴132aを予め形成しておいてもよいし、ピン1
36がインク受容層132を突き抜けてもよい。
In the present embodiment, the holes 130a
Then, the reinforcing plate 134 is pressed by inserting the pin 136 into the hole.
The pins 136 may directly press the reinforcing plate 134, or may press the reinforcing plate 134 via the ink receiving layer 132. When the reinforcing plate 134 is directly pressed, a hole 132a communicating with the hole 130a may be formed in the ink receiving layer 132 in advance, or the pin 1
36 may penetrate the ink receiving layer 132.

【0120】こうすることで、ピン136にて押しつけ
られた補強板134は、原盤130から離れようとす
る。このとき、補強板134とインク受容層132との
密着力が、原盤130とインク受容層132との密着力
よりも大きければ、後者の界面にて剥離が生じる。この
ような密着力の差は、補強板134及び原盤130の材
質により生じうる。あるいは、第1実施形態のように、
原盤130とインク受容層132との界面に高圧ガスを
吹き付けても良い。そして、インク受容層132を原盤
130から剥離する。本実施形態においても、原盤13
0の剥離を容易に行うことができる。
In this way, the reinforcing plate 134 pressed by the pin 136 tends to separate from the master 130. At this time, if the adhesive force between the reinforcing plate 134 and the ink receiving layer 132 is larger than the adhesive force between the master 130 and the ink receiving layer 132, peeling occurs at the latter interface. Such a difference in adhesion may be caused by the materials of the reinforcing plate 134 and the master 130. Alternatively, as in the first embodiment,
A high-pressure gas may be sprayed on the interface between the master 130 and the ink receiving layer 132. Then, the ink receiving layer 132 is peeled off from the master 130. Also in the present embodiment, the master 13
0 can be easily peeled off.

【0121】(第6実施形態)図10は、第6実施形態
に係るカラーフィルタの製造方法を示す図であり、特
に、原盤とインク受容層との剥離工程を示す。
(Sixth Embodiment) FIG. 10 is a view showing a method of manufacturing a color filter according to a sixth embodiment, and particularly shows a step of separating an original master from an ink receiving layer.

【0122】図10には、補強板144及び原盤140
の間にインク受容層142が密着して設けられた状態が
示されている。原盤140は、補強板144に対して、
少なくとも部分的に対向することを避ける形状をなして
いる。すなわち、原盤140の外形は、補強板144の
外形よりも小さいか、あるいは、部分的に補強板144
の外径よりも内側に入り込んだ形状をなしている。ま
た、原盤140は、第1実施形態の原盤24のように、
台などに連結しておくことが好ましい。
FIG. 10 shows a reinforcing plate 144 and a master 140.
3 shows a state in which the ink receiving layer 142 is provided in close contact therewith. The master 140 is reinforced with respect to the reinforcing plate 144.
It is shaped to avoid at least partially opposing. That is, the outer shape of the master 140 is smaller than the outer shape of the reinforcing plate 144, or is partially
It has a shape that goes inside the outside diameter of the. The master 140 is similar to the master 24 of the first embodiment.
It is preferable to connect to a table or the like.

【0123】本実施形態では、原盤140の外周側に位
置するピン146を、補強板144の端部に押しつけ
る。こうすることで、ピン146にて押しつけられた補
強板144は、原盤140から離れようとする。このと
き、補強板144とインク受容層142との密着力が、
原盤140とインク受容層142との密着力よりも大き
ければ、後者の界面にて剥離が生じる。このような密着
力の差は、補強板144及び原盤140の材質により生
じうる。あるいは、第1実施形態のように、原盤140
とインク受容層142との界面に高圧ガスを吹き付けて
も良い。そして、インク受容層142を原盤140から
剥離する。本実施形態においても、原盤140の剥離を
容易に行うことができる。
In this embodiment, a pin 146 located on the outer peripheral side of the master 140 is pressed against the end of the reinforcing plate 144. By doing so, the reinforcing plate 144 pressed by the pins 146 tends to separate from the master 140. At this time, the adhesion between the reinforcing plate 144 and the ink receiving layer 142 is
If the adhesive force between the master 140 and the ink receiving layer 142 is larger than the former, peeling occurs at the latter interface. Such a difference in adhesion may be caused by the materials of the reinforcing plate 144 and the master 140. Alternatively, as in the first embodiment, the master 140
High-pressure gas may be blown to the interface between the ink and the ink receiving layer 142. Then, the ink receiving layer 142 is peeled off from the master 140. Also in the present embodiment, the master 140 can be easily peeled off.

【0124】(第7実施形態)図11(A)〜図15
(B)は、本発明の第7の実施形態に係るカラーフィル
タの製造方法を示す図である。
(Seventh Embodiment) FIGS. 11A to 15
(B) is a figure which shows the manufacturing method of the color filter which concerns on 7th Embodiment of this invention.

【0125】まず、図11(A)に示すように、基板2
10上にレジスト層212を形成する。
First, as shown in FIG.
A resist layer 212 is formed on 10.

【0126】基板210は、表面をエッチングして原盤
220(図11(E)参照)とするためのもので、第1
実施形態の基板10として使用可能な材料から選択する
ことができる。基板210の端部210aは、テーパ形
状となっている。すなわち、テーパ面211が基板21
0の側端面となっている。
The substrate 210 is for etching the surface to form a master 220 (see FIG. 11E).
The material can be selected from materials usable as the substrate 10 of the embodiment. The end 210a of the substrate 210 has a tapered shape. That is, the tapered surface 211 is
0 side end surface.

【0127】レジスト層212の材質及び形成方法につ
いては、図1(A)に示すレジスト層12と同様であ
る。
The material and forming method of the resist layer 212 are the same as those of the resist layer 12 shown in FIG.

【0128】次に、図11(B)に示すように、マスク
214をレジスト層212の上に配置し、マスク214
を介してレジスト層212の所定領域のみを放射線21
6によって暴露して、放射線暴露領域218を形成す
る。放射線216は、図1(B)に示す放射線16と同
様のものである。
Next, as shown in FIG. 11B, a mask 214 is disposed on the resist
Only a predetermined area of the resist layer 212 through the radiation 21
6 to form a radiation exposed area 218. The radiation 216 is similar to the radiation 16 shown in FIG.

【0129】マスク214は、少なくとも図11(E)
に示す凸部217に対応した領域を、放射線216が透
過しないようにパターン形成されたものである。
The mask 214 has at least the structure shown in FIG.
The area corresponding to the convex portion 217 shown in FIG. 7 is patterned so that the radiation 216 does not transmit.

【0130】また、凸部217は、製造しようとするカ
ラーフィルタのブラックマトリクスを形成するための凹
部229(図15(A)参照)を転写形成するためのも
のであり、ブラックマトリクスの形状および配列に応じ
て形成される。また、凸部217によって複数の画素領
域が区画され、この区画された領域が着色される。例え
ば、10型のVGA仕様の液晶パネルでは、約100μ
mピッチで、640×480×3(色)で90万画素、
つまり約90万個の領域が凸部217によって区画され
る。
The convex portion 217 is for transferring and forming a concave portion 229 (see FIG. 15A) for forming a black matrix of a color filter to be manufactured. It is formed according to. Further, a plurality of pixel regions are partitioned by the convex portions 217, and the partitioned regions are colored. For example, in a 10-inch VGA liquid crystal panel, about 100 μm
900,000 pixels in 640 × 480 × 3 (color) at m pitch,
That is, about 900,000 regions are defined by the convex portions 217.

【0131】そして、レジスト層212を放射線216
によって暴露した後、所定の条件で現像処理を行うと、
図11(C)に示すように、放射線暴露領域218のレ
ジストのみが選択的に除去されて基板210が露出し、
それ以外の領域はレジスト層212により覆われたまま
の状態となる。
Then, the resist layer 212 is irradiated with the radiation 216.
After performing exposure processing under a predetermined condition,
As shown in FIG. 11C, only the resist in the radiation exposure area 218 is selectively removed, exposing the substrate 210,
Other regions remain covered by the resist layer 212.

【0132】こうしてレジスト層212がパターン化さ
れると、図11(D)に示すように、このレジスト層2
12をマスクとして、エッチャント215によって、基
板210を所定の深さエッチングする。エッチングの方
法は、第1実施形態と同様である。
When the resist layer 212 is patterned in this way, as shown in FIG.
The substrate 210 is etched to a predetermined depth by the etchant 215 using the mask 12 as a mask. The etching method is the same as in the first embodiment.

【0133】次に、エッチング完了後に、図11(E)
に示すように、レジスト層212を除去すると、基板2
10上に凸部217が得られ、これを原盤220とす
る。凸部217間には、凹部213が形成される。
Next, after the completion of the etching, FIG.
When the resist layer 212 is removed as shown in FIG.
A convex portion 217 is obtained on 10 and is used as a master 220. A recess 213 is formed between the protrusions 217.

【0134】また、基板210の端部210aがテーパ
形状になっていたことから、原盤220の端部220a
もテーパ形状となっている。すなわち、テーパ面221
が原盤220の側端面となっている。このようなテーパ
形状の端部220aは係合部となり、後述する原盤22
0を剥離する工程で利用される。
Since the end 210a of the substrate 210 has a tapered shape, the end 220a
Also have a tapered shape. That is, the tapered surface 221
Is the side end surface of the master 220. The end portion 220a having such a tapered shape serves as an engagement portion, and is used as a master 22 to be described later.
It is used in the step of removing 0.

【0135】次に、図12(A)に示すように基台22
2を用意し、インク受容層前駆体224を原盤220と
基台222とで挟み込む。基台222は、表面が平坦に
形成されており、インク受容層前駆体224を平坦にす
るためのものである。インク受容層前駆体224は、図
12(C)に示すインク受容層226の材料となる。な
お、図12(A)では、原盤220が下に位置している
が、基台222が下であってもよい。
Next, as shown in FIG.
2 is prepared, and the ink receiving layer precursor 224 is sandwiched between the master 220 and the base 222. The base 222 has a flat surface and is for flattening the ink receiving layer precursor 224. The ink receiving layer precursor 224 is a material of the ink receiving layer 226 shown in FIG. In FIG. 12A, the master 220 is located below, but the base 222 may be located below.

【0136】インク受容層前駆体224としては、イン
ク受容層226が着色インク230(図13(A)参
照)を吸収することができ、着色層234(図13
(A)参照)の色特性を損なわない程度の光透過性を有
していれば特に限定されるものでなく、種々の物質が利
用できる。例えば、ヒドロキシプロピルセルロースの水
溶液等を使用することができる。
As the ink receiving layer precursor 224, the ink receiving layer 226 can absorb the colored ink 230 (see FIG. 13A), and the colored layer 234 (see FIG. 13A).
The material is not particularly limited as long as it has a light transmittance that does not impair the color characteristics of (A)), and various substances can be used. For example, an aqueous solution of hydroxypropylcellulose can be used.

【0137】さらには、インク受容層前駆体224は、
エネルギーの付与により硬化可能な物質であることが好
ましい。硬化処理を施すことにより堅牢なインク受容層
を形成することができ、このあと説明する図12(C)
や図14(C)に示す工程において、基台222や原盤
220をインク受容層226から剥離する際に、インク
受容層にクラックが発生したり、部分的にインク受容層
226が欠落するなどの不良が低減できる。
Furthermore, the ink receiving layer precursor 224 is
It is preferably a substance that can be cured by application of energy. By performing the curing treatment, a robust ink-receiving layer can be formed, and FIG.
14C, when the base 222 or the master 220 is peeled off from the ink receiving layer 226, cracks may occur in the ink receiving layer, or the ink receiving layer 226 may be partially missing. Defects can be reduced.

【0138】このようなインク受容層前駆体224を、
図12(A)に示すように、原盤220上に所定量滴下
する。
Such an ink receiving layer precursor 224 is
As shown in FIG. 12A, a predetermined amount is dropped on the master 220.

【0139】そして、図12(B)に示すように、イン
ク受容層前駆体224を所定領域まで拡げ、続いて、イ
ンク受容層前駆体224を固化させて、原盤220及び
基台222の間にインク受容層226を形成する。
Then, as shown in FIG. 12 (B), the ink receiving layer precursor 224 is spread to a predetermined area, and then the ink receiving layer precursor 224 is solidified, and An ink receiving layer 226 is formed.

【0140】インク受容層前駆体224を所定領域まで
拡げるにあたって、必要に応じて所定の圧力を原盤22
0及び基台222の少なくとも一方に加えてもよい。
When expanding the ink receiving layer precursor 224 to a predetermined area, a predetermined pressure is applied to the master 22 if necessary.
0 and at least one of the base 222.

【0141】ここでは、インク受容層前駆体224を原
盤220上に滴下したが、基台222に滴下するか、原
盤220及び基台222の両方に滴下してもよい。
Here, the ink receiving layer precursor 224 is dropped on the master 220, but it may be dropped on the base 222 or on both the master 220 and the base 222.

【0142】また、スピンコート法、ディッピング法、
スプレーコート法、ロールコート法、バーコート法等の
方法を用いて、原盤220及び基台222のいずれか一
方、または、両方にインク受容層前駆体224を塗布し
てもよい。
Further, a spin coating method, a dipping method,
The ink receiving layer precursor 224 may be applied to one or both of the master 220 and the base 222 by using a method such as a spray coating method, a roll coating method, and a bar coating method.

【0143】そして、図12(C)に示すように、基台
222を、インク受容層226から剥離する。なお、基
台222は、平坦な面がインク受容層226に密着して
いるので剥離が比較的容易である。こうして、表面が平
坦に形成されたインク受容層226が原盤220上に形
成される。なお、インク受容層226には、原盤220
側に凹部229が形成されている。
Then, as shown in FIG. 12C, the base 222 is peeled off from the ink receiving layer 226. Note that the base 222 has a flat surface that is in close contact with the ink receiving layer 226, so that it is relatively easy to peel it off. Thus, the ink receiving layer 226 having a flat surface is formed on the master 220. The ink receiving layer 226 includes the master 220
A concave portion 229 is formed on the side.

【0144】続いて、図13(A)に示すように、イン
ク受容層226における凹部229とは反対側面から、
予め設定された着色インク230を射出する。詳しく
は、凹部229によって区画された領域に着色インク2
30を射出して、その領域に着色インク230を吸収さ
せる。
Subsequently, as shown in FIG. 13A, from the side opposite to the recess 229 in the ink receiving layer 226,
A preset coloring ink 230 is ejected. Specifically, the colored ink 2 is applied to the area defined by the recess 229.
Then, the colored ink 230 is absorbed in the area.

【0145】着色インク230の射出方法としては、特
に限定されるものではないが、インクジェット方式が好
適である。インクジェット方式によれば、インクジェッ
トプリンタ用に実用化された技術を応用することで、高
速かつインクを無駄なく経済的に充填するとが可能であ
る。
The method for injecting the colored ink 230 is not particularly limited, but an ink jet method is preferred. According to the ink jet method, it is possible to fill the ink at high speed and economically without waste by applying the technology practically used for the ink jet printer.

【0146】図13(A)には、インクジェットヘッド
232によって、例えば、赤、緑及び青の着色インク2
30をインク受容層226に射出する様子を示してあ
る。詳しくは、インク受容層226とは反対側面に対向
させてインクジェットヘッド232を配置し、各着色イ
ンク230を、凹部229によって区画された領域に射
出する。
In FIG. 13A, for example, the red, green and blue colored inks 2
30 is shown to be ejected to the ink receiving layer 226. More specifically, the inkjet head 232 is disposed so as to face the side opposite to the ink receiving layer 226, and each colored ink 230 is ejected to a region defined by the concave portion 229.

【0147】インクジェットヘッド232の構成及び動
作は、図4(A)に示すインクジェットヘッド42と同
様である。
The structure and operation of the ink jet head 232 are the same as those of the ink jet head 42 shown in FIG.

【0148】こうして、図13(B)に示すように、イ
ンク受容層226上に着色層234が形成される。着色
層234は、インク受容層226が部分的に着色インク
230を吸収して形成される。
Thus, as shown in FIG. 13B, a coloring layer 234 is formed on the ink receiving layer 226. The coloring layer 234 is formed by the ink receiving layer 226 partially absorbing the coloring ink 230.

【0149】次に、図14(A)に示すように、着色層
234を含むインク受容層226と補強板238とを、
保護膜前駆体236を介して密着させる。なお、保護膜
前駆体236は、スピンコート法、ロールコート法等の
方法により、インク受容層226に、或いは補強板23
8上に塗り拡げてから、両者を密着させてもよい。
Next, as shown in FIG. 14A, the ink receiving layer 226 including the coloring layer 234 and the reinforcing plate 238 are attached to each other.
The protective film precursor 236 is brought into close contact therewith. The protective film precursor 236 is applied to the ink receiving layer 226 or the reinforcing plate 23 by a method such as spin coating or roll coating.
8 may be adhered to each other after they are spread over the top surface 8.

【0150】保護膜前駆体236としては、光透過性を
有していれば特に限定されるものでなく、例えば、第1
実施形態のインク受容層前駆体26を形成する複数の物
質の中から選択することができる。
The protective film precursor 236 is not particularly limited as long as it has a light transmitting property.
It can be selected from a plurality of substances forming the ink receiving layer precursor 26 of the embodiment.

【0151】補強板238としては一般にガラス基板が
用いられるが、カラーフィルタとして要求される光透過
性や機械的強度等の特性を満足するものであれば特に限
定されるものではない。例えば、補強板238として、
ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエーテルサル
フォン、アモルファスポリオレフィン、ポリエチレンテ
レフタレート、ポリメチルメタクリレート等のプラスチ
ック製の基板あるいはフィルム基板を用いてもよい。
A glass substrate is generally used as the reinforcing plate 238, but is not particularly limited as long as it satisfies the characteristics such as light transmittance and mechanical strength required for a color filter. For example, as the reinforcing plate 238,
A plastic substrate or a film substrate such as polycarbonate, polyarylate, polyether sulfone, amorphous polyolefin, polyethylene terephthalate, and polymethyl methacrylate may be used.

【0152】そして、保護膜前駆体236の組成に応じ
た硬化処理をすることにより、これを硬化させて、図1
4(B)に示すように保護膜240を形成する。紫外線
硬化型のアクリル系樹脂が用いられる場合には、紫外線
を所定の条件により照射することにより、保護膜前駆体
236を硬化させる。
Then, by performing a curing treatment in accordance with the composition of the protective film precursor 236, this is cured to obtain the protective film precursor 236 shown in FIG.
A protective film 240 is formed as shown in FIG. In the case where an ultraviolet-curable acrylic resin is used, the protective film precursor 236 is cured by irradiating ultraviolet rays under predetermined conditions.

【0153】続いて、図14(B)に示すように、原盤
220をインク受容層226から剥離する。その工程
は、図3(B)に示す工程と同様である。なお、治具1
08に係合するテーパ面221の代わりに、原盤220
の端部の形状を、図7に示す補強板70、72、74、
76のいずれかの端部と同様にしてもよい。あるいは、
原盤220を治具108に係合させる代わりに、補強板
238の端部に係合部を形成して、補強板238を治具
108に係合させてもよい。
Subsequently, as shown in FIG. 14B, the master 220 is peeled off from the ink receiving layer 226. The step is similar to the step shown in FIG. Jig 1
08 instead of the tapered surface 221
The shape of the end of the reinforcing plate 70, 72, 74, shown in FIG.
76 may be the same as any one of the ends. Or,
Instead of engaging the master 220 with the jig 108, an engaging portion may be formed at an end of the reinforcing plate 238, and the reinforcing plate 238 may be engaged with the jig 108.

【0154】本実施形態でも、図14(C)に示すよう
に、第1実施形態と同様に、容易に原盤220を剥離す
ることができる。
In this embodiment, as shown in FIG. 14C, the master 220 can be easily peeled off, as in the first embodiment.

【0155】次に、ブラックマトリクスを形成するため
に、図15(A)に示すように、インク受容層226の
凹部229に遮光性材料242を充填する。なお、凹部
229は、着色層234の間に位置する。この領域に遮
光性材料242を充填することで、ブラックマトリクス
を形成することができる。
Next, in order to form a black matrix, a light-shielding material 242 is filled in the concave portion 229 of the ink receiving layer 226 as shown in FIG. Note that the recess 229 is located between the coloring layers 234. By filling this region with the light-blocking material 242, a black matrix can be formed.

【0156】遮光性材料242は、光透過性のない材料
であって耐久性を有し、インク受容層226に浸透しな
いものであれば種々の材料を適用可能である。ただし、
本実施形態では、インクジェットヘッド244から遮光
性材料242を吐出させる。
As the light-shielding material 242, various materials can be used as long as they are non-light-transmitting materials, have durability, and do not penetrate into the ink receiving layer 226. However,
In this embodiment, the light-shielding material 242 is ejected from the inkjet head 244.

【0157】そのため、ある程度、遮光性材料242の
流動性を確保する必要がある。例えば、富士フィルムオ
ーリン社製ネガ型樹脂ブラック、凸版印刷社製高絶縁性
ブラックマトリクス用レジストHRB−#01、日本合
成ゴム(JSR)社製樹脂ブラック等の黒色の樹脂を有
機溶剤に溶かしたものを、遮光性材料242として用い
る。
Therefore, it is necessary to secure the fluidity of the light-shielding material 242 to some extent. For example, a resin obtained by dissolving a black resin such as a negative resin black manufactured by Fuji Film Ohlin Co., a resist HRB- # 01 for a high insulating black matrix manufactured by Toppan Printing Co., Ltd., a resin black manufactured by Japan Synthetic Rubber (JSR) Co., Ltd. in an organic solvent. Is used as the light-shielding material 242.

【0158】有機溶媒としては、特にその種類に限定さ
れるものではなく種々の有機溶剤を適用可能である。例
えば、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテ
ート、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、メ
トキシメチルプロピオネート、メトキシエチルプロピオ
ネート、エチルセロソルブ、エチルセロソルブアセテー
ト、エチルラクテート、エチルピルビネート、メチルア
ミルケトン、シクロヘキサノン、キシレン、トルエン、
ブチルアセテート等のうち一種または複数種類の混合溶
液を利用できる。
The organic solvent is not particularly limited to its kind, but various organic solvents can be applied. For example, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monopropyl ether, methoxymethyl propionate, methoxyethyl propionate, ethyl cellosolve, ethyl cellosolve acetate, ethyl lactate, ethyl pyruvate, methyl amyl ketone, cyclohexanone, xylene, toluene,
One or more mixed solutions of butyl acetate and the like can be used.

【0159】遮光性材料242を充填するときには、原
盤220に形成された凹部229に均一な量で充填され
るように、インクジェットヘッド244を動かす等の制
御を行って、打ち込み位置を制御する。凹部229の隅
々にまで均一に遮光性材料242が満たされたら、充填
を完了する。溶剤成分が含まれている場合には、熱処理
により遮光性材料242から溶剤成分を除去する。なお
遮光性材料242は、溶剤成分を除去すると収縮するた
め、必要な遮光性が確保できる厚みが収縮後でも残され
る量を充填しておくことが必要である。
When filling the light-shielding material 242, the driving position is controlled by moving the ink-jet head 244 or the like so that the concave portion 229 formed in the master 220 is filled in a uniform amount. When the light-shielding material 242 is uniformly filled up to every corner of the concave portion 229, the filling is completed. When a solvent component is contained, the solvent component is removed from the light-shielding material 242 by heat treatment. Since the light-shielding material 242 shrinks when the solvent component is removed, it is necessary to fill a sufficient amount of the light-shielding material that can secure the necessary light-shielding property even after the shrinkage.

【0160】こうして、図15(B)に示すように、イ
ンク受容層226に、遮光性材料242からなる遮光性
層246が一体的に形成されて、カラーフィルタが得ら
れる。このカラーフィルタは、着色層234と、ブラッ
クマトリックスとしての遮光性層246と、が形成され
たインク受容層226を有する。なお、遮光性層226
の上を覆うように、保護膜を形成してもよく、さらに補
強板を接着してもよい。
Thus, as shown in FIG. 15B, a light-shielding layer 246 made of a light-shielding material 242 is integrally formed on the ink receiving layer 226, and a color filter is obtained. This color filter has an ink receiving layer 226 on which a colored layer 234 and a light shielding layer 246 as a black matrix are formed. Note that the light shielding layer 226
A protective film may be formed so as to cover the top, and a reinforcing plate may be bonded.

【0161】本実施形態によれば、凹部229を形成
し、これに遮光性材料242を充填してブラックマトリ
クスとしての遮光性層246を形成する。したがって、
リソグラフィの工程がないので、材料の使用効率が高
く、かつ工程数の短縮を図ることができる。このため、
従来のカラーフィルタよりもコストダウンを図ることが
できる。
According to the present embodiment, a concave portion 229 is formed, and a light-shielding material 242 is filled in the concave portion 229 to form a light-shielding layer 246 as a black matrix. Therefore,
Since there is no lithography step, material use efficiency is high and the number of steps can be reduced. For this reason,
The cost can be reduced as compared with the conventional color filter.

【0162】本実施形態において、原盤220は、一旦
製造すれば、その耐久性の許す限り何度でも繰り返し利
用ができる。したがって、2枚目以降のカラーフィルタ
の製造工程において、原盤220の製造工程を省くこと
ができ、さらに工程数の短縮を図ることができ、従来の
カラーフィルタよりもコストダウンを図ることができ
る。
In the present embodiment, once the master 220 is manufactured, it can be used repeatedly as long as its durability is allowed. Accordingly, in the manufacturing process of the second and subsequent color filters, the manufacturing process of the master 220 can be omitted, the number of processes can be reduced, and the cost can be reduced as compared with the conventional color filter.

【0163】上記実施形態では、原盤220上に凸部2
17を形成するに際し、ポジ型のレジストを用いたが、
放射線に暴露された領域が現像液に対して不溶化し、放
射線に暴露されていない領域が現像液により選択的に除
去可能となるネガ型のレジストを用いても良い。この場
合には、上記マスク214とはパターンが反転したマス
クが用いられる。あるいは、マスクを使用せずに、レー
ザ光あるいは電子線によって直接レジストをパターン状
に暴露しても良い。
In the above embodiment, the projection 2
In forming 17, a positive resist was used.
A negative resist may be used in which the region exposed to the radiation becomes insoluble in the developer and the region not exposed to the radiation can be selectively removed by the developer. In this case, a mask having an inverted pattern is used as the mask 214. Alternatively, the resist may be directly exposed in a pattern by using a laser beam or an electron beam without using a mask.

【0164】図16は、第1実施形態に係る方法により
製造されたカラーフィルタ1を組み込んだTFT(Thin
Film Transistor)カラー液晶パネルの断面図である。カ
ラー液晶パネルは、カラーフィルタ1と対向するガラス
基板300とを備え、その間に液晶組成物301が封入
されて構成される。カラーフィルタ1は、補強板28、
インク受容層32及び着色層40を有し、インク受容層
32及び着色層40上に保護膜308が形成され、保護
膜308上には、共通電極303が形成されている。
FIG. 16 shows a TFT (Thin) incorporating the color filter 1 manufactured by the method according to the first embodiment.
FIG. 3 is a cross-sectional view of a (Film Transistor) color liquid crystal panel. The color liquid crystal panel includes a color filter 1 and a glass substrate 300 facing the liquid crystal panel, and a liquid crystal composition 301 is sealed therebetween. The color filter 1 includes a reinforcing plate 28,
It has an ink receiving layer 32 and a colored layer 40, and a protective film 308 is formed on the ink receiving layer 32 and the colored layer 40, and a common electrode 303 is formed on the protective film 308.

【0165】一方、ガラス基板300の内側には透明な
画素電極304とTFT(図示せず)がマトリクス上に
形成されている。液晶組成物301の外側には、配向膜
305、306が形成されている。配向膜305、30
6で囲まれる領域(セルギャップ)には、セルギャップ
の隙間を一定に保つためにスペーサ307が封入されて
いる。スペーサ307として、球状のシリカ、ポリスチ
レン等が使用されている。
On the other hand, a transparent pixel electrode 304 and a TFT (not shown) are formed on a matrix inside the glass substrate 300. Outside the liquid crystal composition 301, alignment films 305 and 306 are formed. Alignment films 305, 30
A spacer 307 is sealed in a region (cell gap) surrounded by 6 in order to keep the gap of the cell gap constant. As the spacer 307, spherical silica, polystyrene, or the like is used.

【0166】この液晶パネルにバックライト光を照射
し、液晶組成物301をバックライト光の透過率を変化
させる光シャッタとして機能させることによりカラー表
示を行うことができる。
By irradiating the liquid crystal panel with backlight, the liquid crystal composition 301 functions as an optical shutter for changing the transmittance of the backlight, whereby color display can be performed.

【0167】図17は、第7実施形態に係る方法により
製造されたカラーフィルタ7を組み込んだTFT(Thin
Film Transistor)カラー液晶パネルの断面図である。カ
ラー液晶パネルは、カラーフィルタ7と対向するガラス
基板400とを備え、その間に液晶組成物401が封入
されて構成される。カラーフィルタ7は、補強板23
8、保護膜240、着色層234、インク受容層22
6、遮光性層246を有する。さらに、インク受容層2
26及び遮光性層246上には、保護層402及び共通
電極403が順次形成されている。
FIG. 17 shows a TFT (Thin) incorporating the color filter 7 manufactured by the method according to the seventh embodiment.
FIG. 3 is a cross-sectional view of a (Film Transistor) color liquid crystal panel. The color liquid crystal panel includes a color filter 7 and a glass substrate 400 opposed thereto, and a liquid crystal composition 401 is sealed therebetween. The color filter 7 includes a reinforcing plate 23.
8, protective film 240, coloring layer 234, ink receiving layer 22
6. The light-shielding layer 246 is provided. Further, the ink receiving layer 2
A protective layer 402 and a common electrode 403 are sequentially formed on the light-shielding layer 246 and the light-shielding layer 246.

【0168】一方、ガラス基板400の内側には透明な
画素電極404とTFT(図示せず)がマトリクス上に
形成されている。液晶組成物401の外側には、配向膜
405、406が形成されている。配向膜405、40
6で囲まれる領域(セルギャップ)には、セルギャップ
の隙間を一定に保つためにスペーサ407が封入されて
いる。スペーサ407として、球状のシリカ、ポリスチ
レン等が使用されている。
On the other hand, a transparent pixel electrode 404 and a TFT (not shown) are formed on a matrix inside the glass substrate 400. Outside the liquid crystal composition 401, alignment films 405 and 406 are formed. Alignment films 405, 40
A spacer 407 is sealed in a region (cell gap) surrounded by 6 in order to keep the gap of the cell gap constant. As the spacer 407, spherical silica, polystyrene, or the like is used.

【0169】この液晶パネルにバックライト光を照射
し、液晶組成物401をバックライト光の透過率を変化
させる光シャッタとして機能させることによりカラー表
示を行うことができる。
By irradiating the liquid crystal panel with backlight, and causing the liquid crystal composition 401 to function as an optical shutter for changing the transmittance of the backlight, color display can be performed.

【0170】[0170]

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】図1(A)〜図1(E)は、第1実施形態に係
るカラーフィルタの製造方法を示す図である。
FIGS. 1A to 1E are diagrams illustrating a method of manufacturing a color filter according to a first embodiment.

【図2】図2(A)〜図2(C)は、第1実施形態に係
るカラーフィルタの製造方法を示す図である。
FIGS. 2A to 2C are diagrams illustrating a method of manufacturing a color filter according to the first embodiment.

【図3】図3(A)〜図3(C)は、第1実施形態に係
るカラーフィルタの製造方法を示す図である。
FIGS. 3A to 3C are diagrams illustrating a method of manufacturing a color filter according to the first embodiment.

【図4】図4(A)及び図4(B)は、第1実施形態に
係るカラーフィルタの製造方法を示す図である。
FIGS. 4A and 4B are diagrams illustrating a method of manufacturing a color filter according to the first embodiment.

【図5】図5(A)〜図5(C)は、第2実施形態に係
るカラーフィルタの製造方法を示す図である。
FIGS. 5A to 5C are diagrams illustrating a method of manufacturing a color filter according to a second embodiment.

【図6】図6(A)〜図6(C)は、第2実施形態に係
るカラーフィルタの製造方法を示す図である。
FIGS. 6A to 6C are diagrams illustrating a method of manufacturing a color filter according to a second embodiment.

【図7】図7(A)〜図7(D)は、第3実施形態に係
るカラーフィルタに使用される補強板を示す図である。
FIGS. 7A to 7D are views showing a reinforcing plate used for a color filter according to a third embodiment.

【図8】図8は、第4実施形態に係るカラーフィルタの
製造方法を示す図である。
FIG. 8 is a diagram illustrating a method for manufacturing a color filter according to a fourth embodiment.

【図9】図9は、第5実施形態に係るカラーフィルタの
製造方法を示す図である。
FIG. 9 is a diagram illustrating a method for manufacturing a color filter according to a fifth embodiment.

【図10】図10は、第6実施形態に係るカラーフィル
タの製造方法を示す図である。
FIG. 10 is a diagram illustrating a method of manufacturing a color filter according to a sixth embodiment.

【図11】図11(A)〜図11(E)は、第7実施形
態に係るカラーフィルタの製造方法を示す図である。
FIGS. 11A to 11E are diagrams illustrating a method of manufacturing a color filter according to a seventh embodiment.

【図12】図12(A)〜図12(C)は、第7実施形
態に係るカラーフィルタの製造方法を示す図である。
FIGS. 12A to 12C are diagrams illustrating a method of manufacturing a color filter according to a seventh embodiment.

【図13】図13(A)及び図13(B)は、第7実施
形態に係るカラーフィルタの製造方法を示す図である。
FIGS. 13A and 13B are diagrams illustrating a method of manufacturing a color filter according to a seventh embodiment.

【図14】図14(A)〜図14(C)は、第7実施形
態に係るカラーフィルタの製造方法を示す図である。
FIGS. 14A to 14C are diagrams illustrating a method of manufacturing a color filter according to a seventh embodiment.

【図15】図15(A)及び図15(B)は、第7実施
形態に係るカラーフィルタの製造方法を示す図である。
FIGS. 15A and 15B are diagrams illustrating a method of manufacturing a color filter according to a seventh embodiment.

【図16】図16は、本発明により製造されたカラー表
示装置を示す図である。
FIG. 16 is a diagram showing a color display device manufactured according to the present invention.

【図17】図17は、本発明により製造されたカラー表
示装置を示す図である。
FIG. 17 is a diagram showing a color display device manufactured according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

22 凸部 24 原盤 26 インク受容層前駆体 28 補強板 28a 端部(係合部) 32 インク受容層 36 凹部 38 着色インク 40 着色層 Reference Signs List 22 convex portion 24 master disk 26 ink receiving layer precursor 28 reinforcing plate 28a end portion (engaging portion) 32 ink receiving layer 36 concave portion 38 colored ink 40 colored layer

Claims (24)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 所定配列の複数の凸部を有する原盤を用
意する第1工程と、 前記原盤の前記凸部を有する面と補強板との間に、前記
凸部から転写された複数の凹部を有するインク受容層を
形成する第2工程と、 前記原盤を前記インク受容層から剥離する第3工程と、 前記第1工程後のいずれかの時点で、前記インク受容層
に着色インクを充填して着色層を形成する着色工程と、 を含み、 前記原盤及び補強板の少なくともいずれか一方の端部に
は係合部が形成され、 前記第3工程では、前記係合部に治具を係合させて、前
記原盤を前記インク受容層から剥離するカラーフィルタ
の製造方法。
A first step of preparing a master having a plurality of projections in a predetermined arrangement; and a plurality of recesses transferred from the projections between a surface of the master having the projections and a reinforcing plate. A second step of forming an ink receiving layer having: a third step of separating the master from the ink receiving layer; and at any time after the first step, filling the ink receiving layer with colored ink. And a coloring step of forming a coloring layer by applying a jig to the engaging portion in the third step. A method for manufacturing a color filter, wherein the master is combined with the ink receiving layer and peeled off.
【請求項2】 請求項1記載のカラーフィルタの製造方
法において、 前記係合部は、テーパ形状、段形状及び溝形状のうちの
いずれかの形状をなし、 前記治具は、前記係合部の形状に対応する爪状をなすカ
ラーフィルタの製造方法。
2. The method for manufacturing a color filter according to claim 1, wherein the engaging portion has one of a tapered shape, a stepped shape, and a groove shape, and the jig includes the engaging portion. A method for producing a nail-shaped color filter corresponding to the shape of the color filter.
【請求項3】 所定配列の複数の凸部を有する原盤を用
意する第1工程と、 前記原盤の前記凸部を有する面と補強板との間に、前記
凸部から転写された複数の凹部を有するインク受容層を
形成する第2工程と、 前記原盤を前記インク受容層から剥離する第3工程と、 前記第1工程後のいずれかの時点で、前記インク受容層
に着色インクを充填して着色層を形成する着色工程と、 を含み、 前記第3工程では、前記原盤と前記インク受容層との界
面に高圧ガスを吹き付けながら、前記原盤を前記インク
受容層から剥離するカラーフィルタの製造方法。
3. A first step of preparing a master having a plurality of projections in a predetermined arrangement, and a plurality of recesses transferred from the projections between a surface of the master having the projections and a reinforcing plate. A second step of forming an ink receiving layer having: a third step of separating the master from the ink receiving layer; and at any time after the first step, filling the ink receiving layer with colored ink. Producing a color filter, wherein the third step peels off the master from the ink receiving layer while blowing a high-pressure gas onto an interface between the master and the ink receiving layer. Method.
【請求項4】 請求項3記載のカラーフィルタの製造方
法において、 前記高圧ガスを、前記原盤及びインク受容層の側方から
吹き付けるカラーフィルタの製造方法。
4. The method for manufacturing a color filter according to claim 3, wherein the high-pressure gas is blown from a side of the master and the ink receiving layer.
【請求項5】 請求項3記載のカラーフィルタの製造方
法において、 前記原盤及び補強板の少なくともいずれか一方は、前記
インク受容層に向けて貫通する穴を有し、 前記高圧ガスを、前記穴を介して吹き付けるカラーフィ
ルタの製造方法。
5. The method for manufacturing a color filter according to claim 3, wherein at least one of the master and the reinforcing plate has a hole penetrating toward the ink receiving layer, and the high-pressure gas is supplied to the hole. Method of manufacturing a color filter sprayed through a filter.
【請求項6】 所定配列の複数の凸部を有する原盤を用
意する第1工程と、 前記原盤の前記凸部を有する面と補強板との間に、前記
凸部から転写された複数の凹部を有するインク受容層を
形成する第2工程と、 前記原盤を前記インク受容層から剥離する第3工程と、 前記第1工程後のいずれかの時点で、前記インク受容層
に着色インクを充填して着色層を形成する着色工程と、 を含み、 前記原盤及び前記補強板の一方は、他方の一部に対して
対向することを避ける形状をなし、 前記第3工程では、前記一方が対向することを避けた前
記他方の前記一部に対して、ピンを押しつけて、前記原
盤を前記インク受容層から剥離するカラーフィルタの製
造方法。
6. A first step of preparing a master having a plurality of projections in a predetermined arrangement, and a plurality of recesses transferred from the projections between a surface of the master having the projections and a reinforcing plate. A second step of forming an ink receiving layer having: a third step of separating the master from the ink receiving layer; and at any time after the first step, filling the ink receiving layer with colored ink. And a coloring step of forming a colored layer by using the method. One of the master and the reinforcing plate has a shape that avoids opposing a part of the other, and in the third step, the one faces each other. A method of manufacturing a color filter, wherein a pin is pressed against the other part of the color filter to avoid the problem, and the master is peeled from the ink receiving layer.
【請求項7】 請求項6記載のカラーフィルタの製造方
法において、 前記原盤及び前記補強板の前記一方は、前記他方よりも
小さく形成され、 前記ピンは、前記一方の外周側に位置にして、前記他方
の外周端部を押しつけるカラーフィルタの製造方法。
7. The method for manufacturing a color filter according to claim 6, wherein the one of the master and the reinforcing plate is formed smaller than the other, and the pin is located on an outer peripheral side of the one, A method of manufacturing a color filter for pressing the other outer peripheral end.
【請求項8】 請求項6記載のカラーフィルタの製造方
法において、 前記原盤及び前記補強板の前記一方は、前記インク受容
層に向けて貫通する穴を有し、 前記ピンは、前記穴を介して、かつ、前記インク受容層
を貫通して、前記他方を押しつけるカラーフィルタの製
造方法。
8. The method for manufacturing a color filter according to claim 6, wherein the one of the master and the reinforcing plate has a hole penetrating toward the ink receiving layer, and the pin is inserted through the hole. And producing a color filter that penetrates the ink receiving layer and presses the other.
【請求項9】 請求項1から請求項8のいずれかに記載
のカラーフィルタの製造方法において、 前記第1工程は、基板上に所定のパターンをなすレジス
ト層を形成し、次いで、エッチングによって前記基板上
に前記凸部を形成して前記原盤を得る工程を含むカラー
フィルタの製造方法。
9. The method for manufacturing a color filter according to claim 1, wherein in the first step, a resist layer having a predetermined pattern is formed on a substrate, and then the resist layer is formed by etching. A method for manufacturing a color filter, comprising a step of forming the convex portion on a substrate to obtain the master.
【請求項10】 請求項9記載のカラーフィルタの製造
方法において、 前記基板は、シリコン又は石英からなるカラーフィルタ
の製造方法。
10. The method according to claim 9, wherein the substrate is made of silicon or quartz.
【請求項11】 請求項1から請求項8のいずれかに記
載のカラーフィルタの製造方法において、 前記第1工程は、基台上に所定のパターンをなすレジス
ト層を形成し、次いで、前記基台およびレジスト層を導
体化し、さらに電気鋳造法により金属を電着させて金属
層を形成した後、この金属層を前記基台およびレジスト
層から剥離して前記原盤を得る工程を含むカラーフィル
タの製造方法。
11. The method for manufacturing a color filter according to claim 1, wherein the first step includes forming a resist layer having a predetermined pattern on a base, and then forming the resist layer on the base. Conducting the base and the resist layer, further forming a metal layer by electrodepositing a metal by electroforming, and then removing the metal layer from the base and the resist layer to obtain the master Production method.
【請求項12】 請求項1から請求項11のいずれかに
記載のカラーフィルタの製造方法において、 前記第2工程では、前記原盤と前記補強板との間にイン
ク受容層前駆体を密着させて、前記インク受容層前駆体
を固化して前記インク受容層を形成するカラーフィルタ
の製造方法。
12. The color filter manufacturing method according to claim 1, wherein in the second step, an ink receiving layer precursor is brought into close contact between the master and the reinforcing plate. A method for manufacturing a color filter, wherein the ink receiving layer precursor is solidified to form the ink receiving layer.
【請求項13】 請求項12記載のカラーフィルタの製
造方法において、 前記インク受容層前駆体は、エネルギーの付与により硬
化可能な物質であるカラーフィルタの製造方法。
13. The method for manufacturing a color filter according to claim 12, wherein the ink receiving layer precursor is a substance curable by application of energy.
【請求項14】 請求項13記載のカラーフィルタの製
造方法において、 前記エネルギーは、光及び熱の少なくともいずれか一方
であるカラーフィルタの製造方法。
14. The method of manufacturing a color filter according to claim 13, wherein the energy is at least one of light and heat.
【請求項15】 請求項14記載のカラーフィルタの製
造方法において、 前記インク受容層前駆体は、紫外線硬化型樹脂であるカ
ラーフィルタの製造方法。
15. The method for producing a color filter according to claim 14, wherein the ink receiving layer precursor is an ultraviolet curable resin.
【請求項16】 請求項1から請求項15のいずれかに
記載のカラーフィルタの製造方法において、 前記第3工程の後に、前記着色工程が行われ、 前記着色工程では、前記インク受容層の前記凹部に、前
記着色インクが充填されるカラーフィルタの製造方法。
16. The method for manufacturing a color filter according to claim 1, wherein the coloring step is performed after the third step, and in the coloring step, the coloring of the ink receiving layer is performed. A method of manufacturing a color filter in which a concave portion is filled with the coloring ink.
【請求項17】 請求項1から請求項15のいずれかに
記載のカラーフィルタの製造方法において、 前記第2工程よりも前に、前記着色工程が行われ、 前記着色工程では、前記インク受容層における前記凹部
間に、前記着色インクを充填し、 前記第3工程の後に、前記インク受容層の前記凹部に、
遮光性インクを充填して遮光性層を形成する工程を含む
カラーフィルタの製造方法。
17. The method for manufacturing a color filter according to claim 1, wherein the coloring step is performed before the second step, and in the coloring step, the ink receiving layer is formed. Filling the colored ink between the concave portions in the above, after the third step, in the concave portions of the ink receiving layer,
A method for manufacturing a color filter, comprising a step of forming a light-shielding layer by filling a light-shielding ink.
【請求項18】 請求項17記載のカラーフィルタの製
造方法において、 前記遮光性インクは、インクジェット方式によって充填
されるカラーフィルタの製造方法。
18. The method for manufacturing a color filter according to claim 17, wherein the light-shielding ink is filled by an ink-jet method.
【請求項19】 請求項1から請求項18のいずれかに
記載のカラーフィルタの製造方法において、 前記着色インクは、インクジェット方式によって充填さ
れるカラーフィルタの製造方法。
19. The method for manufacturing a color filter according to claim 1, wherein the color ink is filled by an ink jet method.
【請求項20】 請求項1から請求項19のいずれかの
方法により製造されるカラーフィルタ。
20. A color filter manufactured by the method according to claim 1.
【請求項21】 請求項20記載のカラーフィルタを有
するカラー表示装置。
21. A color display device having the color filter according to claim 20.
【請求項22】 請求項1又は請求項2記載のカラーフ
ィルタの製造方法に使用され、前記治具を有するカラー
フィルタの製造装置。
22. An apparatus for manufacturing a color filter which is used in the method for manufacturing a color filter according to claim 1 or 2 and has the jig.
【請求項23】 請求項3から請求項5のいずれかに記
載のカラーフィルタの製造方法に使用され、前記高圧ガ
スを供給するカラーフィルタの製造装置。
23. An apparatus for manufacturing a color filter, which is used in the method for manufacturing a color filter according to claim 3 and supplies the high-pressure gas.
【請求項24】 請求項6から請求項8のいずれかに記
載のカラーフィルタの製造方法に使用され、前記ピンを
有するカラーフィルタの製造装置。
24. An apparatus for manufacturing a color filter having the pins, which is used in the method for manufacturing a color filter according to claim 6. Description:
JP13277598A 1998-04-27 1998-04-27 Color filter and method and device for manufacturing color filter and color display device Withdrawn JPH11311707A (en)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR100964790B1 (en) 2008-06-11 2010-06-21 하점식 Manufacturing Method and Structure of Metal PCB for Backlight Driving

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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