JPH11194209A - Color filter and its manufacture - Google Patents

Color filter and its manufacture

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Publication number
JPH11194209A
JPH11194209A JP36753097A JP36753097A JPH11194209A JP H11194209 A JPH11194209 A JP H11194209A JP 36753097 A JP36753097 A JP 36753097A JP 36753097 A JP36753097 A JP 36753097A JP H11194209 A JPH11194209 A JP H11194209A
Authority
JP
Japan
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ink
layer
color filter
forming
manufacturing
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP36753097A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hisao Nishikawa
尚男 西川
Hiroshi Kiguchi
浩史 木口
Yoshio Oguchi
宣雄 小口
Mutsumi Yoshizawa
睦美 吉澤
Atsushi Takakuwa
敦司 高桑
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Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
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Publication of JPH11194209A publication Critical patent/JPH11194209A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide the method which manufacture the high-definition color filter having no unevenness of color density at low cost. SOLUTION: This manufacturing method includes a process for forming an original disk 10 with an uneven pattern 19, a process for forming a duplicate disk 20 having an uneven pattern transferred from the uneven pattern, a process for forming an ink filling layer 30 having ink filled recessed parts 30 transferred from the uneven pattern, a process for forming a colored pattern layer 40 by filling the ink filled recessed parts 32 with ink of previously set ink, and a process for forming a light-transmissive layer 46 on the ink filling layer where the colored pattern layer is formed.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示パネル等
に用いられるカラーフィルタ及びその製造方法に関す
る。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a color filter used for a liquid crystal display panel and the like and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【発明の背景】液晶表示パネル等のカラーフィルタを製
造する方法として、印刷法は精度の点で欠点があり、電
着法はパターンが限定されるという欠点があったので、
従来、染色法及び顔料分散法が主として用いられてき
た。
BACKGROUND OF THE INVENTION As a method of manufacturing a color filter such as a liquid crystal display panel, a printing method has a drawback in terms of accuracy, and an electrodeposition method has a drawback that a pattern is limited.
Conventionally, a dyeing method and a pigment dispersion method have been mainly used.

【0003】しかし、染色法及び顔料分散法は、第1
色、第2色、第3色の各画素(着色パターン層)を形成
する際に毎回リソグラフィの工程が必要であり、カラー
フィルターの量産性向上の大きな妨げとなっていた。
[0003] However, the dyeing method and the pigment dispersion method are the first.
A lithography step is required each time a pixel (colored pattern layer) of each of the colors, the second color, and the third color is formed, which has hindered the improvement of mass productivity of the color filter.

【0004】また、1色毎にリソグラフィエ程を繰り返
すことなく着色パターン層を形成する方法として、特開
昭59−75205号公報、特開昭61−245106
号公報、特開平7−146406号公報等に、インクジ
ェット方式によりカラーフィルタを製造する方法が開示
されているが、高精細のカラーフィルタを製造するため
には、着色インクを打ち込む際の隣接着色パターン層間
の混色の防止や、形成される着色パターン層の形状制御
のため等に画素間仕切り部位(ブラックマトリクスの機
能を持つ場合もある。)を必要とし、その画素間仕切り
部位の形成のためには、コストのかかるリソグラフィの
エ程が製品毎に必要となるため、インクジェット方式の
利点を減じることとなる。
As a method of forming a colored pattern layer without repeating the lithography process for each color, JP-A-59-75205 and JP-A-61-245106 disclose a method for forming a colored pattern layer.
And Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-146406 disclose a method of manufacturing a color filter by an ink jet method. However, in order to manufacture a high-definition color filter, an adjacent colored pattern when a colored ink is injected is used. In order to prevent color mixing between layers and to control the shape of the formed colored pattern layer, a pixel partitioning portion (which may have a black matrix function) is required. In order to form the pixel partitioning portion, Costly lithography steps are required for each product, thereby reducing the advantages of the inkjet system.

【0005】そこで、上述した欠点を補うべく、形成し
ようとする着色パターン層の形状に応じた凹凸を有する
原盤を用いて、インク充填用凹部を有するインク充填層
を転写形成し、このインク充填用凹部に、インクジェト
方式により予め設定された色のインクを充填して着色パ
ターン層を形成し、この着色パターン層の形成されたイ
ンク充填層上に光透過性を有する樹脂層を形成してカラ
ーフィルタを製造する方法が提案されている。
In order to compensate for the above-mentioned drawbacks, an ink-filled layer having an ink-filled concave portion is formed by transfer using a master having unevenness corresponding to the shape of the colored pattern layer to be formed. The concave portions are filled with ink of a predetermined color by an ink jet method to form a colored pattern layer, and a light-transmissive resin layer is formed on the ink filled layer on which the colored pattern layer is formed to form a color filter. Have been proposed.

【0006】この方法は、要するに、原盤を型として着
色インクを充填するためのインク充填用凹部を有するイ
ンク充填層を転写形成することで、製品毎のりソグラフ
ィエ程を不要とする方法である。原盤は、一旦製造すれ
ばその後、耐久性の許す限り繰り返し使用できるため、
原盤の耐久性が高いほどー製品あたりに占める原盤コス
トが低減し、製品の低コスト化に繋がる。
In short, this method eliminates the need for a lithography process for each product by transferring and forming an ink-filled layer having an ink-filled concave portion for filling with colored ink using a master as a mold. Once a master has been manufactured, it can be used repeatedly as long as durability is allowed.
The higher the durability of the master, the lower the master cost per product is, which leads to a lower cost of the product.

【0007】しかしながら、このカラーフィルタの製造
方法においては、製品毎に原盤を使用するので、原盤の
汚染や磨耗、パターン形状の変形といった劣化が早いと
いう問題点を有する。原盤はリソグラフィエ程を応用す
ることに製造されるため、原盤を製造し直すには高いコ
ストを要し、原盤の製造頻度の増大は製品の高コスト化
の要因となってしまう。
However, in this method of manufacturing a color filter, since a master is used for each product, there is a problem that deterioration such as contamination, wear and deformation of the pattern of the master is quick. Since the master is manufactured by applying the lithography process, high cost is required to remanufacture the master, and an increase in the frequency of manufacturing the master causes a cost increase of the product.

【0008】本発明は、このような問題点を解決するも
ので、その目的は、高価な原盤の製造頻度を低減するこ
とにより、高精細のカラーフィルタを安価に製造する方
法及びその方法により製造されるカラーフィルタを提供
することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and has as its object to reduce the frequency of producing expensive masters, thereby producing a high-definition color filter at a low cost, and producing the same by the method. The purpose of the present invention is to provide a color filter.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】(1)本発明に係るカラ
ーフィルタの製造方法は、第1の凹凸パターンを有する
原盤を形成する第1工程と、前記第1の凹凸パターンか
ら転写された第2の凹凸パターンを有する複製盤を形成
する第2工程と、前記第2の凹凸パターンから転写され
たインク充填用凹部を有するインク充填層を形成する第
3工程と、前記インク充填用凹部に、予め設定された色
のインクを充填して着色パターン層を形成する第4工程
と、前記着色パターン層が形成されたインク充填層上に
光透過性層を形成する第5工程と、を含む。
(1) A method of manufacturing a color filter according to the present invention includes a first step of forming a master having a first concave-convex pattern, and a first step of transferring the first concave-convex pattern from the first concave-convex pattern. A second step of forming a duplicated disc having a concave-convex pattern of No. 2, a third step of forming an ink-filled layer having a concave part for ink filling transferred from the second concave-convex pattern, The method includes a fourth step of forming a colored pattern layer by filling ink of a preset color, and a fifth step of forming a light-transmitting layer on the ink-filled layer on which the colored pattern layer is formed.

【0010】本発明は、要するに、インク充填用凹部に
対応した凹凸パターンを有する原盤から複製盤を複製
し、その複製盤を用いて製品毎のインク充填用凹部を有
するインク充填層を形成する方法である。
In short, the present invention is a method for duplicating a duplicate disc from a master having an uneven pattern corresponding to the ink filling recess, and forming an ink filling layer having the ink filling recess for each product using the duplicate disc. It is.

【0011】本発明によれば、高価な原盤は複製盤の製
造時にのみ用いるので、原盤が劣化して製造し直す頻度
が減少し、カラーフィルタの製造コストを低減すること
ができる。
According to the present invention, since an expensive master is used only when a duplicate master is manufactured, the frequency of remanufacturing the master is reduced, and the manufacturing cost of the color filter can be reduced.

【0012】(2)前記原盤の前記第1の凹凸パターン
は、リソグラフィ法を介するエッチングにて形成されて
もよい。
(2) The first concave / convex pattern of the master may be formed by etching through a lithography method.

【0013】リソグラフィ法を介するエッチングは、精
度の高い加工方法として周知である。第1の凹凸パター
ンは、インク充填用凹部の元となるため、このようなエ
ッチングによる加工は効果的である。
[0013] Etching via lithography is well known as a highly accurate processing method. Since the first concave-convex pattern serves as a base of the ink filling concave portion, such processing by etching is effective.

【0014】(3)前記原盤は、基台上に前記第1の凹
凸パターンに応じてパターン化されたレジスト層を形成
し、前記基台の前記レジスト層が形成された面上に導体
化層を形成し、該導体化層上に電気鋳造法(電気メッキ
法)により金属層を形成し、前記金属層を前記基台から
剥離して得られるようにしてもよい。
(3) In the master, a resist layer patterned according to the first uneven pattern is formed on a base, and a conductive layer is formed on a surface of the base on which the resist layer is formed. May be formed, a metal layer may be formed on the conductive layer by an electroforming method (electroplating method), and the metal layer may be peeled off from the base.

【0015】このように、電気鋳造法による金属層を形
成する方法は、安価にかつ高い精度で凹凸パターンを転
写できる点で優れている。
As described above, the method of forming the metal layer by the electroforming method is excellent in that the concavo-convex pattern can be transferred at low cost and with high accuracy.

【0016】(4)前記原盤は、シリコン又は石英から
形成してもよい。シリコン又は石英は、平坦性に優れ、
リソグラフィ法を介するエッチングを行うときに加工性
が良い。
(4) The master may be made of silicon or quartz. Silicon or quartz has excellent flatness,
Good workability when etching through lithography.

【0017】(5)前記原盤は導電性物質からなり、前
記複製盤は、前記原盤の前記第1の凹凸パターンが形成
された面上に電気鋳造法により金属層を形成した後、該
金属層を前記原盤から剥離して得られるようにしてもよ
い。
(5) The master is made of a conductive material, and the duplicate master is formed by forming a metal layer on the surface of the master on which the first concave / convex pattern is formed by an electroforming method. From the master.

【0018】ここで、導電性物質とは、導体化処理無し
に電気鋳造法(電気メッキ法)により金属層を形成可能
な物質をいう。
Here, the conductive substance refers to a substance capable of forming a metal layer by an electroforming method (electroplating method) without conducting treatment.

【0019】(6)前記原盤は絶縁性物質からなり、前
記複製盤は、前記原盤の前記第1の凹凸パターンが形成
された面上に導体化層を形成し、前記導体化層上に電気
鋳造法により金属層を形成し、前記金属層を前記原盤か
ら剥離して得られるようにしてもよい。
(6) The master is made of an insulating material, and in the duplicate master, a conductive layer is formed on a surface of the master on which the first concave-convex pattern is formed, and an electric layer is formed on the conductive layer. A metal layer may be formed by a casting method, and the metal layer may be obtained by peeling the metal layer from the master.

【0020】ここで、絶縁性物質とは、電気鋳造法によ
り金属を形成するために導体化処理を必要とする物質を
いう。
Here, the insulating material refers to a material that needs to be made conductive in order to form a metal by an electroforming method.

【0021】(7)本発明に係るカラーフィルタの製造
方法は、第1の凹凸パターンを有する原盤を形成する第
1工程と、前記第1の凹凸パターンから転写された第2
の凹凸パターンを有する中間盤を形成する第2工程と、
前記第2の凹凸パターンから転写された第3の凹凸パタ
ーンを有する複製盤を形成する第3工程と、前記第3の
凹凸パターンから転写されたインク充填用凹部を有する
インク充填層を形成する第4工程と、前記インク充填用
凹部に、予め設定された色のインクを充填して着色パタ
ーン層を形成する第5工程と、前記着色パターン層が形
成されたインク充填層上に光透過性層を形成する第6工
程と、を含む。
(7) In the method of manufacturing a color filter according to the present invention, a first step of forming a master having a first uneven pattern, and a second step of transferring from the first uneven pattern are performed.
A second step of forming an intermediate plate having an uneven pattern of
A third step of forming a duplicate disc having a third concavo-convex pattern transferred from the second concavo-convex pattern, and a third step of forming an ink-filled layer having an ink-filled concavity transferred from the third concavo-convex pattern. A fourth step, a fifth step of forming a colored pattern layer by filling the ink filling recess with ink of a predetermined color, and a light transmitting layer on the ink filled layer on which the colored pattern layer is formed. A sixth step of forming

【0022】このように、原盤から中間盤を介して複製
盤を形成する方法では、原盤及び複製盤を構成する材料
や複製盤を形成するための方法の自由度が増すため、精
度の高い凹凸パターン形状の転写や原盤及び複製盤の耐
久性の更なる向上が容易となる。
As described above, in the method of forming a duplication disc from the master disc via the intermediate disc, the degree of freedom of the materials constituting the master disc and the duplication disc and the method of forming the duplication disc is increased, so that a highly accurate unevenness is obtained. It becomes easy to transfer the pattern shape and to further improve the durability of the master and duplicate masters.

【0023】(8)前記原盤は、シリコン又は石英から
形成されてもよい。シリコン又は石英は、平坦性に優
れ、リソグラフィ法を介するエッチングを行うときに加
工性が良い。
(8) The master may be made of silicon or quartz. Silicon or quartz has excellent flatness and good workability when performing etching via a lithography method.

【0024】(9)前記中間盤の形成工程は、前記原盤
の前記第1の凹凸パターンが形成された面上に中間盤前
駆体を塗布する工程と、前記中間盤前駆体を固化して中
間盤を形成する工程と、前記原盤から前記中間盤を剥離
する工程と、を含んでもよい。
(9) The step of forming the intermediate disk includes a step of applying an intermediate disk precursor on the surface of the master disk on which the first uneven pattern is formed, and a step of solidifying the intermediate disk precursor to form an intermediate disk. The method may include a step of forming a disc and a step of peeling the intermediate disc from the master disc.

【0025】(10)前記中間盤前駆体は、エネルギー
の付与により硬化可能な物質を含んでもよい。
(10) The intermediate precursor may include a substance which can be cured by applying energy.

【0026】(11)前記エネルギーとして、光及び熱
の少なくともいずれか一方が挙げられる。
(11) The energy includes at least one of light and heat.

【0027】(12)前記中間盤前駆体は、熱可塑性を
有する物質であってもよい。
(12) The intermediate precursor may be a substance having thermoplasticity.

【0028】(13)前記中間盤は、樹脂から形成され
てもよい。
(13) The intermediate plate may be formed of a resin.

【0029】(14)本発明では、前記中間盤上に基台
を貼り合わせる工程を含んでもよい。
(14) The present invention may include a step of attaching a base to the intermediate plate.

【0030】(15)前記複製盤は、前記中間盤の前記
第2の凹凸パターンが形成された面上に導体化層を形成
し、該導体化層の上に電気鋳造法により金属層を形成
し、前記金属層を前記原盤から剥離して得られるように
してもよい。
(15) In the duplication board, a conductive layer is formed on the surface of the intermediate board on which the second uneven pattern is formed, and a metal layer is formed on the conductive layer by electroforming. Then, the metal layer may be obtained by peeling from the master.

【0031】(16)前記インク充填層の形成工程は、
前記複製盤の前記凹凸パターンが形成された面上にイン
ク充填層前駆体を塗布する工程と、前記インク充填層前
駆体を固化してインク充填層を形成する工程と、前記複
製盤から前記インク充填層を剥離する工程と、を含んで
もよい。
(16) The step of forming the ink filling layer includes:
A step of applying an ink-filled layer precursor on the surface of the replica disc on which the concavo-convex pattern is formed; a step of solidifying the ink-filled layer precursor to form an ink-filled layer; Removing the filling layer.

【0032】(17)前記インク充填層前駆体は、エネ
ルギーの付与により硬化可能な物質を含んでもよい。
(17) The ink-filled layer precursor may contain a substance which can be cured by applying energy.

【0033】(18)前記エネルギーとして、光及び熱
の少なくともいずれか一方が挙げられる。
(18) The energy includes at least one of light and heat.

【0034】(19)前記インク充填層前駆体は、熱可
塑性を有する物質であってもよい。
(19) The ink filling layer precursor may be a substance having thermoplasticity.

【0035】(20)前記インク充填層は、樹脂から形
成されてもよい。
(20) The ink filling layer may be formed of a resin.

【0036】(21)本発明では、前記複製盤の前記凹
凸パターンが形成された面上にインク充填層前駆体を塗
布する前に、前記複製盤の前記凹凸パターンの凹部に遮
光性インクを充填して遮光性層を形成する工程を含み、
前記インク充填層前駆体を固化後に、前記遮光性層を前
記インク充填層と一体的に前記複製盤から剥離すること
で前記インク充填層が得られ、前記インク充填層は、前
記インク充填用凹部の周囲に前記遮光性層を有してもよ
い。
(21) In the present invention, before applying the ink-filled layer precursor on the surface of the duplication disc on which the concavo-convex pattern is formed, the concave portions of the concavo-convex pattern of the duplication disc are filled with light-shielding ink. And forming a light-shielding layer by
After solidifying the ink-filled layer precursor, the ink-filled layer is obtained by peeling off the light-shielding layer integrally with the ink-filled layer from the replica disc, and the ink-filled layer is formed by the ink-filled recess. May be provided around the light-shielding layer.

【0037】インク充填用凹部の周囲に形成される遮光
性層は、ブラックマトリクスとなる。
The light-shielding layer formed around the ink filling recess serves as a black matrix.

【0038】(22)前記遮光性インクは、インクジェ
ット方式によって充填されてもよい。
(22) The light-shielding ink may be filled by an ink-jet method.

【0039】インクジェット方式によれば、インクジェ
ットプリンタ用に実用化された技術を応用することで、
インクの充填を高速化できるとともに、インクの利用効
率をほぼ100%にすることができ、インクを無駄にす
ることがない。
According to the ink jet system, by applying the technology practically used for the ink jet printer,
The ink filling speed can be increased, and the ink use efficiency can be made almost 100%, so that the ink is not wasted.

【0040】(23)前記複製盤の前記凹部は、開口部
よりも底面が小さくてもよい。
(23) The concave portion of the duplication board may have a bottom surface smaller than an opening portion.

【0041】こうすることで、遮光性層の頂端面が小さ
くなり、幅の狭いブラックマトリクスを得ることができ
る。また、このような形状の凹部によれば、遮光性層及
びインク充填層の離型性が良くなる。
By doing so, the top end surface of the light-shielding layer becomes small, and a narrow black matrix can be obtained. Further, according to the concave portion having such a shape, the releasability of the light-shielding layer and the ink-filled layer is improved.

【0042】(24)前記複製盤の前記凹部は、開口部
にテーパが付されてもよい。
(24) The concave portion of the duplication disk may have an opening tapered.

【0043】こうすることでも、幅の狭いブラックマト
リクスを得ることができ、遮光性層及びインク充填層の
離型性が良くなる。
By doing so, a black matrix having a small width can be obtained, and the releasability of the light-shielding layer and the ink-filled layer is improved.

【0044】(25)インク充填層の形成工程では、前
記複製盤に前記インク充填層前駆体を介して保持盤が密
着し、前記着色パターン層及び光透過性層の形成工程で
は、前記インク充填層が前記保持盤に密着した状態で進
められ、前記光透過性層の形成終了後に、前記保持盤は
前記インク充填層から除去されてもよい。
(25) In the step of forming the ink-filled layer, the holding plate is in close contact with the duplicate disk via the ink-filled layer precursor, and in the step of forming the colored pattern layer and the light transmitting layer, The layer may be advanced in close contact with the holding plate, and after the formation of the light transmissive layer, the holding plate may be removed from the ink-filled layer.

【0045】このように、インク充填層を形成するイン
ク充填層前駆体を保持盤で成形することで、インク充填
層の平坦性を向上させることができる。
As described above, the flatness of the ink-filled layer can be improved by forming the ink-filled layer precursor for forming the ink-filled layer on the holding plate.

【0046】(26)前記保持盤には、前記インク充填
層前駆体と密着する側の面にスペーサ形成用凹部が形成
され、前記インク充填層には、前記スペーサ形成用凹部
に対応するスペーサ用凸部が形成されてもよい。
(26) The holding plate is provided with a recess for forming a spacer on a surface which is in close contact with the precursor of the ink filling layer, and the ink filling layer has a recess for the spacer corresponding to the recess for forming the spacer. A projection may be formed.

【0047】こうすることで、スペーサ一体型のカラー
フィルタを簡単に製造することができる。
By doing so, a color filter integrated with a spacer can be easily manufactured.

【0048】(27)前記保持盤上に、前記インク充填
層前駆体に対する密着性の低い離型層が形成されてもよ
い。
(27) A release layer having low adhesion to the ink-filled layer precursor may be formed on the holding plate.

【0049】こうすることで、保持盤からインク充填層
を容易に剥離することができる。
By doing so, the ink filling layer can be easily peeled from the holding board.

【0050】(28)前記光透過性層の形成工程で、前
記光透過性層は、光透過性を有する材料を前記インク充
填層上に塗布して形成され、前記材料の上に光透過性を
有する補強板が載せられてもよい。
(28) In the step of forming the light-transmitting layer, the light-transmitting layer is formed by applying a light-transmitting material on the ink-filled layer, and the light-transmitting layer is formed on the material. May be mounted.

【0051】(29)前記着色パターン層の形成工程
で、前記インクがインクジェット方式によって充填され
てもよい。
(29) In the step of forming the colored pattern layer, the ink may be filled by an ink jet method.

【0052】インクジェット方式によれば、インクジェ
ットプリンタ用に実用化された技術を応用することで、
インクの充填を高速化できるとともに、インクの利用効
率をほぼ100%にすることができ、インクを無駄にす
ることがない。
According to the ink jet system, by applying the technology practically used for the ink jet printer,
The ink filling speed can be increased, and the ink use efficiency can be made almost 100%, so that the ink is not wasted.

【0053】(30)本発明に係るカラーフィルタは、
上記方法により製造される。
(30) The color filter according to the present invention comprises:
It is manufactured by the above method.

【0054】[0054]

【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施の形態
について図面を参照して説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0055】(第1実施形態)図1(A)〜図4(C)
は、本発明の第1実施形態を説明する図である。そし
て、図1(A)〜図1(E)は、第1実施形態における
原盤を製造する工程を示す図である。
(First Embodiment) FIGS. 1A to 4C
FIG. 1 is a diagram illustrating a first embodiment of the present invention. 1 (A) to 1 (E) are views showing steps of manufacturing a master in the first embodiment.

【0056】まず、図1(A)に示すように、基板12
上にレジスト層14を形成する。基板12は、表面をエ
ッチングして原盤10(図1(E)参照)とするための
もので、エッチング可能な材料であれば特に限定される
ものではないが、シリコン又は石英は、エッチングによ
り高精度の凹凸パターンの形成が容易であるため、好適
である。
First, as shown in FIG.
A resist layer 14 is formed thereon. The substrate 12 is for etching the surface to form the master 10 (see FIG. 1 (E)), and is not particularly limited as long as it is an etchable material. This is preferable because it is easy to form an uneven pattern with high accuracy.

【0057】レジスト層14を形成する物質としては、
例えば、半導体デバイス製造において一般的に用いられ
ている、クレゾールノボラック系樹脂に感光剤としてジ
アゾナフトキノン誘導体を配合した市販のポジ型のレジ
ストをそのまま利用できる。ここで、ポジ型のレジスト
とは、所定のパターンに応じて放射線に暴露することに
より、放射線によって暴露された領域が現像液により選
択的に除去可能となる物質のことである。
The material for forming the resist layer 14 includes
For example, a commercially available positive resist in which a diazonaphthoquinone derivative is blended as a photosensitive agent with a cresol novolak resin, which is generally used in the manufacture of semiconductor devices, can be used as it is. Here, the positive resist is a substance that can be selectively removed by a developer when exposed to radiation according to a predetermined pattern.

【0058】レジスト層14を形成する方法としては、
スピンコート法、ディッピング法、スプレーコート法、
ロールコート法、バーコート法等の方法を用いることが
可能である。
The method for forming the resist layer 14 is as follows.
Spin coating, dipping, spray coating,
It is possible to use a method such as a roll coating method and a bar coating method.

【0059】次に、図1(B)に示すように、マスク1
6をレジスト層14の上に配置し、マスク16を介して
レジスト層14の所定領域のみを放射線18によって暴
露する。
Next, as shown in FIG.
6 is disposed on the resist layer 14, and only predetermined regions of the resist layer 14 are exposed to radiation 18 via the mask 16.

【0060】マスク16は、図1(E)に示す凹凸パタ
ーン19の形成領域に対応した領域においてのみ、放射
線18が透過するようにパターン形成されたものであ
る。
The mask 16 is formed such that the radiation 18 is transmitted only in a region corresponding to the region where the concavo-convex pattern 19 shown in FIG. 1E is formed.

【0061】また、放射線としては波長200nm〜5
00nmの領域の光を用いることが好ましい。この波長
領域の光の利用は、液晶パネルの製造プロセス等で確立
されているフォトリソグラフィの技術及びそれに利用さ
れている設備の利用が可能となり、低コスト化を図るこ
とができる。
The radiation has a wavelength of 200 nm to 5 nm.
It is preferable to use light in the region of 00 nm. The use of light in this wavelength region makes it possible to use the photolithography technology established in the liquid crystal panel manufacturing process and the like and the equipment used therefor, and to reduce costs.

【0062】そして、レジスト層14を放射線18によ
って暴露した後に所定の条件により現像処理を行うと、
図1(C)に示すように、放射線18の暴露領域17の
レジスト層14のみが選択的に除去されて基板12の表
面が露出し、それ以外の領域はレジスト層14により覆
われたままの状態となる。
After the resist layer 14 is exposed to radiation 18 and then developed under predetermined conditions,
As shown in FIG. 1 (C), only the resist layer 14 in the exposed area 17 of the radiation 18 is selectively removed to expose the surface of the substrate 12, and the other areas remain covered by the resist layer 14. State.

【0063】こうしてレジスト層14がパターン化され
ると、図1(D)に示すように、このレジスト層14を
マスクとして基板12を所定の深さエッチングする。
When the resist layer 14 is thus patterned, the substrate 12 is etched to a predetermined depth using the resist layer 14 as a mask, as shown in FIG.

【0064】エッチングの方法としてはウエット方式ま
たはドライ方式があるが、基板12の材質に合わせて、
エッチング断面形状、エッチングレート等の観点から最
適な方式および条件を選べばよい。制御性の点からいう
とドライ方式の方が優れており、例えば、平行平板型リ
アクティブイオンエッチング(RIE)方式、誘導結合
型(ICP)方式、エレクトロンサイクロトロン共鳴
(ECR)方式、ヘリコン波励起方式、マグネトロン方
式、プラズマエッチング方式、イオンビームエッチング
方式等の装置が利用でき、エッチングガス種、ガス流
量、ガス圧、バイアス電圧等の条件を変更することによ
り、凹凸パターン19を矩形に加工したり、テーパーを
付けたり、面を粗らしたりと、所望の形状にエッチング
することができる。
As a method of etching, there is a wet method or a dry method.
An optimal method and conditions may be selected from the viewpoint of the etching cross-sectional shape, the etching rate, and the like. In terms of controllability, the dry method is superior, for example, a parallel plate type reactive ion etching (RIE) method, an inductive coupling type (ICP) method, an electron cyclotron resonance (ECR) method, and a helicon wave excitation method. , A magnetron system, a plasma etching system, an ion beam etching system, and the like can be used. By changing conditions such as an etching gas type, a gas flow rate, a gas pressure, and a bias voltage, the uneven pattern 19 can be processed into a rectangular shape, Etching into a desired shape can be performed by adding a taper or roughening the surface.

【0065】次に、エッチングの完了後に、図1(E)
に示すように、レジスト層14を除去すると、基板12
に凹凸パターン19が形成されるので、これが原盤10
となる。凹凸パターン19は、凹部19a及び凸部19
bからなる。ここで、凹部19aは、図4(A)に示す
インク充填用凹部32に対応するように形成される。
Next, after the completion of the etching, FIG.
When the resist layer 14 is removed as shown in FIG.
Since an uneven pattern 19 is formed on the master 10
Becomes The concave / convex pattern 19 includes a concave portion 19 a and a convex portion 19.
b. Here, the concave portion 19a is formed so as to correspond to the ink filling concave portion 32 shown in FIG.

【0066】この原盤10は、本実施形態では、一旦製
造すればその後、耐久性の許す限り何度でも使用できる
ため経済的である。また、原盤10の製造工程は、2枚
目以降のカラーフィルタの製造工程において省略でき、
工程数の減少および低コスト化を図ることができる。
In the present embodiment, the master 10 is economical because once manufactured, it can be used as many times as the durability permits. Further, the manufacturing process of the master 10 can be omitted in the manufacturing process of the second and subsequent color filters,
The number of steps and cost can be reduced.

【0067】上記実施の形態では、基板12上に凹凸パ
ターン19を形成するに際し、ポジ型のレジストを用い
たが、放射線に暴露された領域が現像液に対して不溶化
し、放射線に暴露されていない領域が現像液により選択
的に除去可能となるネガ型のレジストを用いても良く、
この場合には、上記マスク16とはパターンが反転した
マスクが用いられる。あるいは、マスクを使用せずに、
レーザ光あるいは電子線によって直接レジストをパター
ン状に暴露しても良い。
In the above embodiment, a positive resist was used to form the concavo-convex pattern 19 on the substrate 12, but the region exposed to the radiation became insoluble in the developing solution and was exposed to the radiation. A negative type resist in which no area can be selectively removed by a developer may be used,
In this case, a mask whose pattern is inverted from that of the mask 16 is used. Alternatively, without using a mask,
The resist may be directly exposed in a pattern by laser light or electron beam.

【0068】次に、図2(A)に示すように、原盤10
の凹凸パターン19側の表面を導体化するため、金属膜
22を形成する。金属膜22としては、例えば、ニッケ
ル(Ni)を500オングストローム〜1000オング
ストロームの厚みで形成すればよい。金属膜22の形成
方法としては、スパッタリング、CVD、蒸着、無電解
メッキ法等の方法を用いることが可能である。なお、原
盤20の凹凸パターン19側の表面が導電性を有してい
れば、この工程は不要である。
Next, as shown in FIG.
The metal film 22 is formed in order to make the surface of the uneven pattern 19 side conductive. As the metal film 22, for example, nickel (Ni) may be formed to a thickness of 500 Å to 1000 Å. As a method for forming the metal film 22, a method such as sputtering, CVD, vapor deposition, or electroless plating can be used. This step is unnecessary if the surface of the master 20 on the side of the concavo-convex pattern 19 has conductivity.

【0069】そして、この金属膜22を陰極とし、チッ
プ状あるいはボール状のNiを陽極として電気鋳造法に
よりさらにNiを電着させて、図2(B)に示すよう
に、厚い金属層24を形成する。電気メッキ液の一例を
以下に示す。
Then, Ni is further electrodeposited by electroforming using the metal film 22 as a cathode and the chip-shaped or ball-shaped Ni as an anode to form a thick metal layer 24 as shown in FIG. Form. An example of the electroplating solution is shown below.

【0070】 スルファミン酸ニッケル:550g/l ホウ酸 :35g/l 塩化ニッケル : 5g/l レベリング剤 :20mg/l 次いで、図2(C)に示すように、金属層24及び金属
膜22を原盤10から剥離し、必要があれば洗浄する等
して、これを複製盤20とする。この複製盤20には、
原盤10の凹凸パターン19に対応して、凹凸パターン
26が形成される。詳しくは、凹凸パターン26は、第
1のパターン19の凸部19bに対応する凹部26a
と、凹部19aに対応する凸部26bと、からなる。そ
して、凹凸パターン26は、図4(A)に示すインク充
填用凹部32を転写により形成するための反転パターン
となっている。
Nickel sulfamate: 550 g / l Boric acid: 35 g / l Nickel chloride: 5 g / l Leveling agent: 20 mg / l Then, as shown in FIG. 2C, the metal layer 24 and the metal film 22 were This is used as a duplicate disc 20 by peeling it off and washing it if necessary. In this duplicate board 20,
An uneven pattern 26 is formed corresponding to the uneven pattern 19 of the master 10. Specifically, the concavo-convex pattern 26 has a concave portion 26 a corresponding to the convex portion 19 b of the first pattern 19.
And a convex portion 26b corresponding to the concave portion 19a. The uneven pattern 26 is an inverted pattern for forming the ink filling recess 32 shown in FIG. 4A by transfer.

【0071】なお、原盤10が金属から形成される場合
には、金属膜22(導体化処理していない場合には金属
層24)が原盤10と強く密着してしまい、原盤10か
らの剥離が困難になることがある。このような場合に
は、金属膜22(導体化処理していない場合には金属層
24)を原盤10の凹凸パターン19上に形成する前
に、原盤10の凹凸パターン19側の面を剥離処理する
ことが好ましい。剥離処理としては、例えば、原盤10
がニッケルから形成されている場合には、酸素プラズマ
処理や陽極酸化処理等が効果的である。
When the master 10 is formed of a metal, the metal film 22 (or the metal layer 24 when the conductor is not subjected to a conductive treatment) is strongly adhered to the master 10, and the master 10 is not peeled off from the master 10. It can be difficult. In such a case, before forming the metal film 22 (or the metal layer 24 if the conductive process is not performed) on the uneven pattern 19 of the master 10, the surface of the master 10 on the side of the uneven pattern 19 is subjected to a peeling process. Is preferred. As the peeling treatment, for example, the master 10
Is formed from nickel, an oxygen plasma treatment, an anodic oxidation treatment, or the like is effective.

【0072】また、複製盤20から金属膜22を除去す
ることは必ずしも必要ではないが、原盤10からの剥離
の際や、この後の工程のインク充填層30形成の際に、
金属膜22の一部に剥離が生じる場合などは、これを除
去することが好ましい。
Although it is not always necessary to remove the metal film 22 from the duplication disc 20, it is necessary to remove the metal film 22 from the master disc 10 or to form the ink filling layer 30 in a subsequent step.
When a part of the metal film 22 is peeled off, it is preferable to remove the part.

【0073】次に、図3(A)〜図3(C)は、インク
用凹部を有するインク充填層を形成する工程を示す図で
ある。
Next, FIGS. 3A to 3C are views showing steps of forming an ink-filled layer having an ink concave portion.

【0074】まず、図3(A)に示すように、複製盤2
0を、その凹凸パターン26を上にして配置する。次い
で、図3(B)に示すように、複製盤20の上に、イン
ク充填層30を形成する。詳しくは、インク充填層30
を形成するためのインク充填層前駆体を、複製盤20及
び保持盤34の少なくともいずれか一方に載せてあるい
は塗布して、図3(B)に示すように、インク充填層前
駆体を介して複製盤20と保持盤34を貼り合わせる。
なお、保持盤34は、その後、カラーフィルタの製造工
程における台となる。また、必要に応じて、複製盤20
と保持盤34を貼り台わせる際に、複製盤20及び保持
盤34の少なくともいずれか一方を介して加圧しても良
い。
First, as shown in FIG.
0 is arranged with its uneven pattern 26 facing upward. Next, as shown in FIG. 3B, an ink filling layer 30 is formed on the duplicate disc 20. Specifically, the ink filling layer 30
Is placed on or applied to at least one of the replica plate 20 and the holding plate 34, and the ink-filled layer precursor is formed via the ink-filled layer precursor as shown in FIG. The duplication board 20 and the holding board 34 are stuck together.
In addition, the holding board 34 becomes a base in a color filter manufacturing process thereafter. Also, if necessary, the copy board 20 may be used.
When attaching the holding plate and the holding plate, pressure may be applied via at least one of the duplication plate 20 and the holding plate.

【0075】ここで、インク充填層前駆体は、液状ある
いは液状化可能な物質であることが好ましい。インク充
填層前駆体を液状とすることで、複製盤20上の凹部2
6aへの充填が容易となる。液状の物質としては、エネ
ルギーの付与により硬化可能な物質が利用でき、液状化
可能な物質としては、可塑性を有する物質が利用でき
る。
Here, the ink filling layer precursor is preferably a liquid or liquefiable substance. By making the ink-filled layer precursor a liquid, the recess 2
6a can be easily filled. As the liquid substance, a substance that can be cured by applying energy can be used, and as the liquefiable substance, a plastic substance can be used.

【0076】また、インク充填層前駆体は、インク充填
層30を形成した際に、着色パターン層40(図4
(A)参照)の色特性に影響を与えないものであれば特
に限定されるものではないが、樹脂であることが好まし
い。樹脂は、エネルギー硬化性を有するもの、あるいは
可塑性を有するものが容易に得られ、好適である。
When the ink filling layer precursor was formed, the ink filling layer precursor was colored pattern layer 40 (FIG. 4).
(A) is not particularly limited as long as it does not affect the color characteristics of (A), but is preferably a resin. As the resin, a resin having energy curability or a resin having plasticity is easily obtained, and is preferable.

【0077】エネルギー硬化性を有する樹脂としては、
光及び熱の少なくともいずれかー方の付与により硬化可
能であることが望ましい。光や熱の利用は、汎用の露光
装置、ベイク炉やホットプレート等の加熱装置を利用す
ることができ、省設備コスト化を図ることが可能であ
る。
Examples of the resin having energy curability include:
Desirably, it can be cured by applying at least one of light and heat. For the use of light and heat, a general-purpose exposure apparatus, a heating apparatus such as a baking furnace or a hot plate can be used, and the equipment cost can be reduced.

【0078】このようなエネルギー硬化性を有する樹脂
としては、例えば、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、
メラミン系樹脂、ポリイミド系樹脂等が利用できる。特
に、アクリル系樹脂は、市販品の様々な前駆体や感光剤
(光重合開始剤)を利用することで、光の照射で短時間
に硬化し、優れた光学特性を有するインク充填層30を
形成することが可能であるため好適である。
Examples of such an energy-curable resin include acrylic resins, epoxy resins,
Melamine-based resins, polyimide-based resins, and the like can be used. In particular, the acrylic resin cures in a short time by irradiation of light by using various commercially available precursors and photosensitizers (photopolymerization initiators) to form the ink filling layer 30 having excellent optical characteristics. It is preferable because it can be formed.

【0079】光硬化性のアクリル系樹脂の基本組成の具
体例としては、プレポリマーまたはオリゴマー、モノマ
ー、光重合開始剤があげられる。
Specific examples of the basic composition of the photocurable acrylic resin include a prepolymer or oligomer, a monomer, and a photopolymerization initiator.

【0080】プレポリマーまたはオリゴマーとしては、
例えば、エポキシアクリレート類、ウレタンアクリレー
ト類、ポリエステルアクリレート類、ポリエーテルアク
リレート類、スピロアセタール系アクリレート類等のア
クリレート類、エポキシメタクリレート類、ウレタンメ
タクリレート類、ポリエステルメタクリレート類、ポリ
エーテルメタクリレート類等のメタクリレート類等が利
用できる。
As the prepolymer or oligomer,
For example, acrylates such as epoxy acrylates, urethane acrylates, polyester acrylates, polyether acrylates, and spiroacetal acrylates; methacrylates such as epoxy methacrylates, urethane methacrylates, polyester methacrylates, and polyether methacrylates; Is available.

【0081】モノマーとしては、例えば、2−エチルヘ
キシルアクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレー
ト、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキ
シエチルメタクリレート、N−ビニル−2−ピロリド
ン、カルビトールアクリレート、テトラヒドロフルフリ
ルアクリレート、イソボルニルアクリレート、ジシクロ
ペンテニルアクリレート、1,3−ブタンジオールアク
リレート等の単官能性モノマー、1,6−ヘキサンジオ
ールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジメタ
クリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、
ネオペンチルグリコールジメタクリレート、エチレング
リコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジア
クリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート等の
二官能性モノマー、トリメチロールプロパントリアクリ
レート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、
ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリ
スリトールヘキサアクリレート等の多官能性モノマーが
利用できる。
Examples of the monomer include 2-ethylhexyl acrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, N-vinyl-2-pyrrolidone, carbitol acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, isovol Monofunctional monomers such as nyl acrylate, dicyclopentenyl acrylate, and 1,3-butanediol acrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate, neopentyl glycol diacrylate,
Bifunctional monomers such as neopentyl glycol dimethacrylate, ethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate,
Polyfunctional monomers such as pentaerythritol triacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate can be used.

【0082】光重合開始剤としては、例えば、2,2−
ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン等のアセトフ
ェノン類、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、p−イ
ソプロピル−α−ヒドロキシイソブチルフェノン等のブ
チルフェノン類、p−tert−ブチルジクロロアセト
フェノン、p−tert−ブチルトリクロロアセトフェ
ノン、α,α−ジクロル−4−フェノキシアセトフェノ
ン等のハロゲン化アセトフェノン類、ベンゾフェノン、
N,N−テトラエチル−4,4−ジアミノベンゾフェノ
ン等のベンゾフェノン類、ベンジル、ベンジルジメチル
ケタール等のベンジル類、ベンゾイン、ベンゾインアル
キルエーテル等のベンゾイン類、1−フェニル−1,2
−プロパンジオン−2−(o−エトキシカルボニル)オ
キシム等のオキシム類、2−メチルチオキサントン、2
−クロロチオキサントン等のキサントン類、ベンゾイン
エーテル、イソブチルベンゾインエーテル等のベンゾイ
ンエーテル類、ミヒラーケトン、ベンジルメチルケター
ル等のラジカル発生化合物が利用できる。
As the photopolymerization initiator, for example, 2,2-
Acetophenones such as dimethoxy-2-phenylacetophenone, butylphenones such as α-hydroxyisobutylphenone and p-isopropyl-α-hydroxyisobutylphenone, p-tert-butyldichloroacetophenone, p-tert-butyltrichloroacetophenone, α, halogenated acetophenones such as α-dichloro-4-phenoxyacetophenone, benzophenone,
Benzophenones such as N, N-tetraethyl-4,4-diaminobenzophenone; benzyls such as benzyl and benzyldimethylketal; benzoins such as benzoin and benzoin alkyl ether; 1-phenyl-1,2
Oximes such as -propanedione-2- (o-ethoxycarbonyl) oxime, 2-methylthioxanthone,
-Xanthones such as chlorothioxanthone, benzoin ethers such as benzoin ether and isobutyl benzoin ether, and radical generating compounds such as Michler's ketone and benzyl methyl ketal can be used.

【0083】なお、必要に応じて、酸素による硬化阻害
を防止する目的でアミン類等の化合物を添加したり、塗
布を容易にする目的で溶剤成分を添加してもよい。溶剤
成分としては、特に限定されるものではなく、種々の有
機溶剤、例えば、プロピレングリコールモノメチルエー
テルアセテート、メトキシメチルプロピオネート、エト
キシエチルプロピオネート、エチルラクテート、エチル
ピルビネート、メチルアミルケトン等が利用可能であ
る。
If necessary, a compound such as an amine may be added to prevent curing inhibition by oxygen, or a solvent component may be added to facilitate coating. The solvent component is not particularly limited, and various organic solvents, for example, propylene glycol monomethyl ether acetate, methoxymethyl propionate, ethoxyethyl propionate, ethyl lactate, ethyl pyruvate, methyl amyl ketone, etc. Available.

【0084】このようなエネルギー硬化性を有する樹脂
を、図3(B)に示すように、複製盤20と保持板34
の間に挟み込み、その樹脂に応じた硬化処理を施す。例
えば、光硬化性の樹脂を用いた場合であれば、所定の条
件で光を照射することにより固化させると、インク充填
層30が形成される。
As shown in FIG. 3 (B), such a resin having energy curability is applied to the duplication plate 20 and the holding plate 34.
Between them, and perform a curing process according to the resin. For example, in the case of using a photo-curable resin, the ink-filled layer 30 is formed by solidifying by irradiating light under predetermined conditions.

【0085】なお、光硬化性の物質にてインク充填層3
0を形成するときには、保持盤34及び複製盤20のう
ち少なくとも一方が、光透過性を有することが必要とな
る。
The ink filling layer 3 is made of a photocurable substance.
When 0 is formed, at least one of the holding plate 34 and the duplicate plate 20 needs to have light transmittance.

【0086】また、可塑性を有する樹脂としては、例え
ば、ポリカーボネート系樹脂、ポリメチルメタクリレー
ト系樹脂、ポリオレフィン系樹脂等の熱可塑性を有する
樹脂が利用できる。このような樹脂を軟化点温度以上に
加温することにより可塑化させて液状とし、図3(B)
に示すように、複製盤20と保持板34の間に挟み込ん
だ後、可塑化させた樹脂を冷却することにより固化させ
ると、インク充填層30が形成される。
As the resin having plasticity, for example, thermoplastic resins such as polycarbonate resin, polymethyl methacrylate resin, and polyolefin resin can be used. Such a resin is plasticized by heating it to a temperature equal to or higher than the softening point to form a liquid, and FIG.
As shown in (2), after being sandwiched between the duplication board 20 and the holding plate 34, when the plasticized resin is cooled and solidified, the ink filling layer 30 is formed.

【0087】このように、インク充填層前駆体を、エネ
ルギーの付与により硬化可能な物質あるいは可塑性を有
する物質から形成することで、これを複製盤20に塗布
して密着させた際に、複製盤20に形成されている凹凸
パターン26の凹部26aの微細部にまで、インク充填
層前駆体が充填される。そして、このインク充填層前駆
体に応じた固化処理を施すことにより固化させてインク
充填層30を形成すると、複製盤20の凹凸パターン2
6を精密にインク充填層30に転写させることができ
る。
As described above, by forming the ink-filled layer precursor from a substance curable by application of energy or a substance having plasticity, when the precursor is applied to and adhered to the duplication disc 20, The ink-filled layer precursor is filled into the fine portions of the concave portions 26 a of the concave-convex pattern 26 formed on the substrate 20. When the ink-filled layer 30 is formed by performing a solidification process in accordance with the ink-filled layer precursor to form the ink-filled layer 30, the uneven pattern 2
6 can be precisely transferred to the ink filling layer 30.

【0088】このようにしてインク充填層30が複製盤
20上に形成されると、図3(C)に示すように、イン
ク充填層30と保持盤34を一体的に複製盤20から剥
離して、インク充填用凹部32を有するインク充填層3
0が得られる。
When the ink filling layer 30 is formed on the copy disk 20 in this manner, as shown in FIG. 3C, the ink filling layer 30 and the holding plate 34 are peeled off from the copy disk 20 integrally. Filling layer 3 having ink filling recess 32
0 is obtained.

【0089】こうして、保持盤34上にインク充填用凹
部32を有するインク充填層30を形成した後の工程を
図4(A)〜図4(C)に示す。図4(A)において、
保持盤34上のインク充填層30に形成されたインク充
填用凹部32に対向させて、インクジェット方式により
インクを吐出するヘッド42が配置されている。
The steps after forming the ink filling layer 30 having the ink filling recesses 32 on the holding board 34 are shown in FIGS. 4A to 4C. In FIG. 4A,
A head 42 that ejects ink by an ink jet method is disposed so as to face the ink filling recess 32 formed in the ink filling layer 30 on the holding plate 34.

【0090】ヘッド42は、例えばインクジェットプリ
ンタ用に実用化されたもので、圧電素子を用いたピエゾ
ジェットタイプ、あるいはエネルギー発生素子として電
気熱変換体を用いたバブルジェットタイプ等が使用可能
であり、着色面積および着色パターンは任意に設定する
ことが可能である。
The head 42 has been put into practical use, for example, for an ink jet printer, and can be a piezo jet type using a piezoelectric element or a bubble jet type using an electrothermal converter as an energy generating element. The coloring area and the coloring pattern can be set arbitrarily.

【0091】例えば、このヘッド42を、駆動周波数1
4.4kHz(1秒間に14400回の吐出)で、イン
ク44を吐出する吐出口を赤インクR、緑インクG、青
インクB用に各色20個ずつ配列し、一つのインク充填
用凹部32にインク44を3滴ずつ吐出するとすれば、
約90万画素の10型VGA仕様のカラーフィルター用
のインク充填用凹部32にインク44を充填するのに要
する時間は、 90万×3滴/(14400回×20個×3色)=約3
秒 となる。ここで、ヘッド42がインク充填用凹部32間
を移動する時間を考慮しても、2〜3分程度でインク4
4を充填することができる。
For example, the head 42 is driven at a driving frequency of 1
At 4.4 kHz (14400 ejections per second), 20 ejection openings for ejecting the ink 44 are arranged for each of the red ink R, the green ink G, and the blue ink B, and the ejection openings are arranged in one ink filling recess 32. Assuming that the ink 44 is ejected three drops at a time,
The time required to fill the ink 44 into the ink filling recess 32 for a color filter of 10-type VGA with about 900,000 pixels is 900,000 × 3 drops / (14400 times × 20 pieces × 3 colors) = about 3
Seconds. Here, even if the time for the head 42 to move between the ink filling recesses 32 is considered, the ink 4
4 can be filled.

【0092】なお、顔料分散法によれば、リソグラフィ
法による一色毎の形成時間が最低でも30分はかかるた
め、一枚のカラーフィルター基板においてR、G、B、
3色で約90分以上の時間が最低でも必要となる。これ
と比較すると、本実施の形態では、インク44の充填に
2〜3分、その後の樹脂塗布から剥離までの工程で3〜
5分程度の時間で形成可能であり、従来と比べて短時間
でカラーフィルタが形成できる。
According to the pigment dispersion method, since the formation time for each color by the lithography method takes at least 30 minutes, R, G, B,
A minimum of about 90 minutes is required for three colors. In comparison with this, in the present embodiment, the filling of the ink 44 takes 2 to 3 minutes, and the subsequent steps from resin application to separation take 3 to 3 minutes.
The color filter can be formed in about 5 minutes, and the color filter can be formed in a shorter time than in the related art.

【0093】図4(A)では、ヘッド42によって、例
えば、R、G、B各色インク44をインク充填用凹部3
2に吐出して、着色パターン層40を形成する様子を示
してある。これらに用いるインク44は、色材を含有す
るエネルギー付与による硬化可能な物質を含むものでも
よい。
In FIG. 4A, for example, R, G, and B color inks 44 are supplied by the head 42 to the ink filling recess 3.
2 shows a state in which the colored pattern layer 40 is formed by ejecting the colored pattern layer 40. The inks 44 used for these may include a substance containing a coloring material and curable by energy application.

【0094】このような成分としては、各色の色材の色
特性に影響を与えず、インク中で凝固等の問題を起こす
ものでなければ特に限定されるものではなく、例えば、
光硬化あるいは熱硬化あるいは光及び熱の双方のいずれ
かにより硬化可能な成分を含有する樹脂があげられる。
具体的には、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂等が、市
販品で様々な感光剤、硬化剤等を利用できるため、好適
に用いられる。
Such components are not particularly limited as long as they do not affect the color characteristics of the color material of each color and do not cause a problem such as solidification in the ink.
Examples of the resin include a resin containing a component that can be cured by light curing or heat curing, or by both light and heat.
Specifically, an acrylic resin, an epoxy resin, or the like is preferably used because various photosensitive agents, curing agents, and the like can be used as commercial products.

【0095】そして、全てのインク充填用凹部32にイ
ンク44を充填する。インク44に溶剤成分を含むもの
は、熱処理を行ってインク44の溶剤を揮発させる。こ
の熱処理の条件は、インク44に含まれる溶剤成分の沸
点等を考慮して決定される。インク44に用いる溶剤成
分としては、特に限定されるものではなく、水あるいは
種々の有機溶剤が使用可能である。ただし、インク44
使用中に溶剤が揮発することにより、ヘッド42のイン
ク吐出口やインク流路でインク44が固化して詰まらな
いようにするため、比較的高沸点の溶剤を使用すること
が好ましい。具体的には、溶剤除去の作業性にも鑑み
て、溶剤の沸点の範囲は、80〜200℃であることが
好ましい。この場合の熱処理条件は、50〜200℃
で、ホットプレートを用いた場合は2〜10分、ベイク
炉を用いた場合は20〜30分程度行うことが好まし
い。
Then, the ink 44 is filled into all the ink filling recesses 32. When the ink 44 contains a solvent component, the solvent of the ink 44 is volatilized by performing a heat treatment. The conditions of this heat treatment are determined in consideration of the boiling point of the solvent component contained in the ink 44 and the like. The solvent component used in the ink 44 is not particularly limited, and water or various organic solvents can be used. However, the ink 44
It is preferable to use a solvent having a relatively high boiling point in order to prevent the ink 44 from solidifying and clogging in the ink discharge ports and the ink flow paths of the head 42 due to volatilization of the solvent during use. Specifically, the range of the boiling point of the solvent is preferably from 80 to 200 ° C. in view of the workability of removing the solvent. The heat treatment condition in this case is 50 to 200 ° C.
It is preferable that the heating is performed for about 2 to 10 minutes when using a hot plate and about 20 to 30 minutes when using a baking furnace.

【0096】また、着色パターン層40は、溶剤を除去
すると収縮するが、収縮後の厚みで必要なカラー濃度が
確保できるだけのインク量を充填しておくことが必要で
ある。
The colored pattern layer 40 contracts when the solvent is removed, but it is necessary to fill the ink amount enough to secure the required color density with the thickness after the contraction.

【0097】次に、図4(B)に示すように、着色パタ
ーン層40が形成されたインク充填層30の上に光透過
性層46を形成し、さらにその上に光透過性を有する補
強板48を載せる。補強板48を載せることでカラーフ
ィルタの強度が増す。
Next, as shown in FIG. 4B, a light-transmitting layer 46 is formed on the ink-filled layer 30 on which the colored pattern layer 40 is formed, and a light-transmitting reinforcement is further formed thereon. The plate 48 is placed. Placing the reinforcing plate 48 increases the strength of the color filter.

【0098】補強板48は、製造しようとするカラーフ
ィルタに応じて選ばれるもので、例えば、ガラス基板
や、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエーテル
サルフォン、アモルファスポリオレフィン、ポリエチレ
ンテレフタレート又はポリメチルメタクリレート等のプ
ラスチック製の基板あるいはフィルムで構成される。
The reinforcing plate 48 is selected according to the color filter to be manufactured. For example, a glass substrate or a plastic such as polycarbonate, polyarylate, polyether sulfone, amorphous polyolefin, polyethylene terephthalate or polymethyl methacrylate is used. It is composed of a substrate or a film.

【0099】光透過性層46を構成する物質としては、
着色パターン層40の色特性に影響を与えないものであ
れば特に限定されるものではなく、種々の樹脂が利用で
きる。特に、光硬化性のアクリル樹脂は、市販品の様々
な前駆体や感光剤(光重合開始剤)を利用することで、
光の照射により短時間で硬化し、優れた光学特性を有す
る樹脂層を形成することが可能であるため好適である。
光硬化性のアクリル樹脂の基本組成の具体例としては、
上記インク充填層30の形成において説明したものと同
様のものを利用することができるため、説明は省略す
る。
The substance constituting the light transmitting layer 46 includes
There is no particular limitation as long as it does not affect the color characteristics of the colored pattern layer 40, and various resins can be used. In particular, the photocurable acrylic resin uses various commercially available precursors and photosensitizers (photopolymerization initiators),
It is preferable because it can be cured in a short time by light irradiation and form a resin layer having excellent optical characteristics.
Specific examples of the basic composition of the photocurable acrylic resin include:
Since the same one as described in the formation of the ink filling layer 30 can be used, the description is omitted.

【0100】このような光硬化性を有する樹脂を、着色
パターン層40の上に塗布して光透過性層46を形成す
る。そして、補強板48を載せてエネルギーを付与し、
補強板48に接着するように光透過性層46を硬化させ
る。
The light-curable resin is applied on the colored pattern layer 40 to form the light-transmitting layer 46. Then, the reinforcing plate 48 is placed thereon to apply energy,
The light transmitting layer 46 is cured so as to adhere to the reinforcing plate 48.

【0101】特に、着色パターン層40及び光透過性層
46の双方が同一のエネルギーにより硬化可能なように
設定した場合には、着色パターン層40を硬化させる前
に、光透過性層46を構成する樹脂を塗布し、双方同時
にエネルギーを付与して同時に硬化させることで、強固
に一体化させることが可能である。
In particular, when the colored pattern layer 40 and the light transmissive layer 46 are set so as to be curable with the same energy, the light transmissive layer 46 is formed before the colored pattern layer 40 is cured. By applying a resin to be applied and simultaneously applying energy and curing at the same time, it is possible to integrate strongly.

【0102】こうして、インク充填層30、着色パター
ン層40、光透過性層46及び補強板48が一体化する
と、これらを保持盤34から剥離して、図4(C)に示
すカラーフィルタの完成品を得ることができる。
When the ink filling layer 30, the colored pattern layer 40, the light transmissive layer 46, and the reinforcing plate 48 are integrated as described above, they are separated from the holding plate 34 to complete the color filter shown in FIG. Goods can be obtained.

【0103】なお、材質によっては、保持盤34とイン
ク充填層30間の密着力が高くなって、両者が剥離しに
くくなる場合がある。その場合には、図5に示すよう
に、保持盤34上に、インク充填層30との密着性の低
い材質からなる離型層36を形成しておいてもよい。離
型層36としては、例えばNi、Cr、Ti、Al、C
u、Ag、Au、Ptのいずれか一種からなる金属、あ
るいは、これら二種以上からなる合金、あるいは、これ
らのうちの少なくとも一種を含む化合物が好適である。
これらの物質は、インク充填層30を形成する物質とし
て光透過性に優れている点で好適に用いられるアクリル
系樹脂に対する密着性が一般的に低く、スパッタリン
グ、蒸着、CVDといった真空成膜法を用いることによ
り制御性良く成膜できる。なお、このような離型層36
の厚みは、数十〜数千オングストローム程で良い。
Note that depending on the material, the adhesion between the holding plate 34 and the ink-filled layer 30 may be increased, and the two may be difficult to peel off. In this case, as shown in FIG. 5, a release layer 36 made of a material having low adhesion to the ink filling layer 30 may be formed on the holding plate 34. As the release layer 36, for example, Ni, Cr, Ti, Al, C
A metal made of any one of u, Ag, Au, and Pt, an alloy made of two or more of these, or a compound containing at least one of these is preferable.
These substances generally have low adhesion to an acrylic resin, which is preferably used in terms of excellent light transmittance as a substance for forming the ink filling layer 30, and are formed by a vacuum film forming method such as sputtering, vapor deposition, or CVD. By using this, a film can be formed with good controllability. In addition, such a release layer 36
May have a thickness of about several tens to several thousand angstroms.

【0104】(第2実施形態)図6(A)〜図8(C)
は、本発明の第2実施形態を説明する図であり、詳しく
は、複製盤を形成するために図1(A)〜図2(C)に
示す工程の代わりに適用できる工程を説明する図であ
る。
(Second Embodiment) FIGS. 6A to 8C
FIG. 4 is a view for explaining a second embodiment of the present invention, and more specifically, a view for explaining steps which can be applied in place of the steps shown in FIGS. 1 (A) to 2 (C) to form a duplicate disc. It is.

【0105】まず、図6(A)に示すように、基板11
2上にレジスト層114を形成する。基板112は、表
面をエッチングして原盤110(図6(E)参照)とす
るためのもので、エッチング可能な材料であれば特に限
定されるものではないが、シリコン又は石英が、エッチ
ングにより高精度の凹凸パターンの形成が容易であるた
め、好適である。
First, as shown in FIG.
2 is formed with a resist layer 114. The substrate 112 is used for etching the surface to form the master 110 (see FIG. 6E), and is not particularly limited as long as it is an etchable material. This is preferable because it is easy to form an uneven pattern with high accuracy.

【0106】レジスト層114を形成する物質及び方法
としては、第1実施形態(図1(A)参照)に示すもの
と同様のものが利用できるため説明は省略する。
As a material and a method for forming the resist layer 114, the same materials and methods as those shown in the first embodiment (see FIG. 1A) can be used, and the description is omitted.

【0107】次に、図6(B)に示すように、マスク1
16をレジスト層114の上に配置し、マスク116を
介してレジスト層114の所定領域のみを放射線118
によって暴露する。
Next, as shown in FIG.
16 is disposed on the resist layer 114, and only a predetermined area of the resist layer 114 is exposed to radiation 118 through a mask 116.
Exposure by.

【0108】マスク116は、形成しようとする凸部に
対応した領域以外の領域においてのみ、放射線118が
透過するようにパターン形成されたもので、図1(B)
に示すマスク16とパターンが反転している点でのみ相
違する。
The mask 116 is patterned so as to transmit the radiation 118 only in a region other than the region corresponding to the projection to be formed.
Only in that the pattern is inverted from the mask 16 shown in FIG.

【0109】また、放射線としては波長200nm〜5
00nmの領域の光を用いることが好ましい。この波長
領域の光の利用は、液晶パネルの製造プロセス等で確立
されているフォトリソグラフィの技術及びそれに利用さ
れている設備の利用が可能となり、低コスト化を図るこ
とができる。
The radiation has a wavelength of 200 nm to 5 nm.
It is preferable to use light in the region of 00 nm. The use of light in this wavelength region makes it possible to use the photolithography technology established in the liquid crystal panel manufacturing process and the like and the equipment used therefor, and to reduce costs.

【0110】そして、レジスト層114を放射線118
により暴露した後、所定の条件により現像処理を施す
と、図6(C)に示すように、放射線118による暴露
領域117のみが選択的に除去されて基板112が露出
し、その他の領域はレジスト層114により覆われたま
まの状態となる。
Then, the resist layer 114 is irradiated with radiation 118.
After exposure, the substrate 112 is selectively removed by exposing only the exposed region 117 by the radiation 118, and the other regions are exposed to resist, as shown in FIG. 6C. The state remains covered by the layer 114.

【0111】こうして、レジスト層114がパターン化
されると、図6(D)に示すように、このレジスト層1
14をマスクとして基板112を所定の深さエッチング
する。エッチングの方法としては、第1実施形態(図1
(D)参照)と同様の方式が利用できるため説明は省略
する。
When the resist layer 114 is patterned in this way, as shown in FIG.
Using the mask 14 as a mask, the substrate 112 is etched to a predetermined depth. As an etching method, the first embodiment (FIG. 1)
(Refer to (D)), the same method as that described in (D) can be used, and the description is omitted.

【0112】次に、エッチングが完了すると、図6
(E)に示すように、レジスト層114を除去して、原
盤110とする。この原盤110は、一旦製造すればそ
の後、耐久性の許す限り何度でも繰り返し使用できるた
め経済的である。
Next, when the etching is completed, FIG.
As shown in (E), the resist layer 114 is removed to obtain the master 110. Once manufactured, the master 110 is economical because it can be used repeatedly as many times as durability permits.

【0113】次に、図7(A)及び図7(B)は中間盤
を形成するエ程を示す図である。
Next, FIGS. 7A and 7B are diagrams showing steps of forming an intermediate plate.

【0114】原盤110の凹凸パターン119が形成さ
れている面上に、中間盤100を形成する。詳しくは、
中間盤100を形成するための中間盤前駆体を、原盤1
10及び基台120の少なくともいずれか一方に載せて
あるいは塗布して、図7(A)に示すように、中間盤前
駆体を介して原盤110と基台120を貼り合わせる。
なお、基台120は、図7(A)から図8(C)に示し
たエ程において、中間盤100を補強するためのもの
で、必ずしも必要ではない。
The intermediate master 100 is formed on the surface of the master 110 on which the uneven pattern 119 is formed. For more information,
An intermediate master precursor for forming the intermediate master 100 was used as the master 1
7A, the master 110 and the base 120 are bonded together via an intermediate master precursor as shown in FIG. 7A.
The base 120 is used to reinforce the intermediate board 100 in the steps shown in FIGS. 7A to 8C and is not always necessary.

【0115】ここで、中間盤前駆体は、作業性を考慮す
ると、液状あるいは液状化可能な物質であることが好ま
しい。中間盤前駆体を液状とすることで、原盤110上
の凹凸119の形状を転写することが容易となる。液状
の物質としては、エネルギーの付与により硬化可能な物
質が利用でき、液状化可能な物質としては、可塑性を有
する物質が利用できる。
Here, the intermediate precursor is preferably a liquid or liquefiable substance in consideration of workability. By making the precursor of the intermediate disc liquid, it becomes easy to transfer the shape of the irregularities 119 on the master disc 110. As the liquid substance, a substance that can be cured by applying energy can be used, and as the liquefiable substance, a plastic substance can be used.

【0116】また、中間盤前駆体としては、原盤110
からの離型性及び凹凸パターン転写性が良好であり、か
つ、この後のエ程の中間盤から複製盤を形成するエ程に
おいて、プロセス耐性を有し、中間盤から複製盤への凹
凸パターン転写性が良好な物質であれば特に限定されも
のではないが、樹脂が好ましい。樹脂であれば、エネル
ギー硬化性を有するもの、あるいは可塑性を有するもの
が容易に得られる。また、樹脂は、高精度のエッチング
が可能な点で原盤材料として優れているシリコン又は石
英からの離型性が良好であるため好適である。
Further, the master 110 is used as an intermediate master precursor.
Good mold releasability and transferability of the concavo-convex pattern from the intermediate plate, and have a process resistance in the process of forming a duplicated plate from the intermediate plate in the subsequent process, and the concavo-convex pattern from the intermediate disc to the duplicated disc. The material is not particularly limited as long as it has good transferability, but a resin is preferable. A resin having energy curability or plasticity can be easily obtained. In addition, resin is preferable because it has good mold releasability from silicon or quartz, which is excellent as a master material in that high-precision etching is possible.

【0117】エネルギー硬化性を有する樹脂としては、
光及び熱の少なくともいずれかー方の付与により硬化可
能であることが望ましい。光や熱の利用は、汎用の露光
装置、ベイク炉やホットプレート等の加熱装置を利用す
ることができ、省設備コスト化を図ることが可能であ
る。具体的には、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、メ
ラミン系樹脂、ポリイミド系樹脂等が好適に用いられ
る。
Examples of the resin having energy curability include:
Desirably, it can be cured by applying at least one of light and heat. For the use of light and heat, a general-purpose exposure apparatus, a heating apparatus such as a baking furnace or a hot plate can be used, and equipment cost can be reduced. Specifically, an acrylic resin, an epoxy resin, a melamine resin, a polyimide resin, or the like is preferably used.

【0118】また、可塑性を有する樹脂としては、具体
的には、ポリカーボネート系樹脂、ポリメチルメタクリ
レート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂等の熱可塑性を有
する樹脂等が好適に用いられる。このような樹脂を軟化
点温度以上に加熱することにより可塑化させて液状にし
て用いる。
As the resin having plasticity, specifically, thermoplastic resins such as polycarbonate resin, polymethyl methacrylate resin, and polyolefin resin are preferably used. Such a resin is plasticized by heating to a temperature equal to or higher than the softening point, and is used in a liquid state.

【0119】以上のような液状あるいは液状にした中間
盤前駆体を介して原盤110と基台120を貼り合わせ
ることで、中間盤前駆体は原盤110の凹凸119に対
応する形状になる。なお、必要に応じて、原盤110と
基台120を貼り合わせる際に、原盤110及び基台1
20の少なくともいずれかー方を介して加圧しても良
い。加圧することで、中間盤前駆体が原盤110の凹凸
119に応じて変形する時間が短縮できることで作業性
が向上し、かつ、凹凸119の凹部への充填が確実とな
る。
By bonding the master 110 and the base 120 via the liquid or liquid intermediate precursor as described above, the intermediate master precursor has a shape corresponding to the irregularities 119 of the master 110. When the master 110 and the base 120 are bonded together as necessary, the master 110 and the base 1
The pressure may be applied via at least one of the two. By applying the pressure, the time required for the intermediate master precursor to be deformed according to the irregularities 119 of the master 110 can be shortened, so that workability is improved, and filling of the concaves with the irregularities 119 is ensured.

【0120】そして、中間盤前駆体に応じた固化処理を
施すことにより中間盤前駆体を固化させて中間盤100
を形成し、次いで、図7(B)に示すように、原盤11
0から中間盤100及び基台120を剥離する。
Then, the intermediate plate precursor is solidified by subjecting the intermediate plate precursor to a solidification treatment, whereby the intermediate plate 100
Is formed, and then, as shown in FIG.
The intermediate plate 100 and the base 120 are peeled from 0.

【0121】こうして得られた中間盤100には、原盤
110上の凹凸119に対応して、凹凸パターン102
が形成されている。この中間盤100上の凹凸パターン
102は、図1(C)に示す原盤10と同様に、凹部1
02a及び凸部102bを有する。
The intermediate plate 100 thus obtained has an uneven pattern 102 corresponding to the unevenness 119 on the master 110.
Are formed. The concavo-convex pattern 102 on the intermediate disc 100 has the same shape as the master disc 10 shown in FIG.
02a and a convex portion 102b.

【0122】図8(A)〜図8(C)は、中間盤から複
製盤を形成する工程である。まず、図8(A)に示すよ
うに、中間盤100上に形成された凹凸パターン102
上に金属膜132を形成し、図8(B)に示すように、
金属膜132の上にさらに金属層134を形成し、図8
(C)に示すように、金属膜132及び金属層134
を、中間盤100から剥離することで、複製盤130が
得られる。
FIGS. 8A to 8C show a process of forming a duplicate disc from an intermediate disc. First, as shown in FIG. 8A, the concavo-convex pattern 102 formed on the intermediate board 100 is formed.
A metal film 132 is formed thereon, and as shown in FIG.
A metal layer 134 is further formed on the metal film 132, and FIG.
As shown in (C), the metal film 132 and the metal layer 134
Is separated from the intermediate board 100 to obtain a duplicate board 130.

【0123】なお、この工程は、図2(A)〜図2
(C)に示す工程と同様であるため、詳しい説明を省略
する。また、この工程において、中間盤100は、耐久
性の許す限り繰り返し利用可能である。
Note that this step is performed in the steps shown in FIGS.
Since the process is the same as the process shown in FIG. In this step, the intermediate board 100 can be repeatedly used as long as durability is allowed.

【0124】以上の工程によっても、第1実施形態と同
様に、複製盤130が得られるので、その後、図3
(A)〜図4(C)と同様の工程によって、カラーフィ
ルタを製造することができる。
By the above-described steps, a duplicate disc 130 is obtained as in the first embodiment.
A color filter can be manufactured by steps similar to those shown in FIGS.

【0125】(第3実施形態)図9(A)〜図9(C)
は、本発明の第3実施形態を説明する図であり、詳しく
は、遮光性層(ブラックマトリクス)を有するインク充
填層を形成するために、図3(A)〜図3(C)に示す
工程の代わりに適用できる工程を示す図である。
(Third Embodiment) FIGS. 9A to 9C
FIG. 3 is a view for explaining a third embodiment of the present invention. More specifically, FIGS. 3A to 3C show a method for forming an ink-filled layer having a light-shielding layer (black matrix). It is a figure showing a process which can be applied instead of a process.

【0126】図9(A)において、上述したいずれかの
方法により得られた複製盤220の凹凸パターン226
が形成されている面に対向させてインクジェット方式に
よりインクを吐出するヘッド234を配置してある。
In FIG. 9A, the concavo-convex pattern 226 of the duplication disc 220 obtained by any of the above-mentioned methods is shown.
A head 234 that ejects ink by an ink jet method is arranged so as to face the surface on which is formed.

【0127】ヘッド234は、上述した図4(A)の工
程においてインク充填用凹部32にR、G、B各色のイ
ンク44を充填するのに用いたインクジェット方式のヘ
ッド42を単一色用にしたものを利用できるため説明を
省略する。
As the head 234, the ink-jet type head 42 used to fill the R, G, and B inks 44 into the ink filling recesses 32 in the step of FIG. The description can be omitted because the object can be used.

【0128】また、複製盤220の凹凸パターン226
の凸部226bは、図4(A)に示したインク充填用凹
部32に対応しており、凹部226aは、着色パターン
層40間の領域に対応する。
Further, the concave and convex pattern 226 of the duplication board 220
4A correspond to the ink filling recess 32 shown in FIG. 4A, and the recess 226a corresponds to a region between the colored pattern layers 40.

【0129】図9(A)では、ヘッド234によって、
遮光性を有するインク235を、複製盤220の凹部2
26aに吐出して、遮光性層236を形成する様子を示
してある。
In FIG. 9A, the head 234
The ink 235 having a light-shielding property is applied to the concave portion 2
The state in which the light-shielding layer 236 is formed by discharging the ink to the substrate 26a is shown.

【0130】遮光性を有するインク235としては、特
に限定されるものではなく、具体的には、例えば、カー
ボン、黒色顔料または黒色染料等を含むものが好適に用
いることができる。
The ink 235 having a light-shielding property is not particularly limited. Specifically, for example, an ink containing carbon, a black pigment or a black dye can be suitably used.

【0131】また、遮光性を有するインク235は、エ
ネルギー付与により硬化可能な物質を含むものでもよ
い。このような成分としては、インクの遮光性を損なわ
ず、インク中で凝固等の問題を起こすものでなければ特
に限定されるものではなく、例えば、光硬化あるいは熱
硬化あるいは光及び熱の双方のいずれかにより硬化可能
な成分を含有する樹脂があげられる。具体的には、アク
リル系樹脂、エポキシ系樹脂等が、市販品で様々な感光
剤、硬化剤等を利用できるため、好適に用いられる。
The light-shielding ink 235 may include a substance which can be cured by applying energy. Such components are not particularly limited as long as they do not impair the light-shielding properties of the ink and do not cause a problem such as coagulation in the ink. For example, photocuring or thermosetting or both light and heat Resins containing a component curable by any of them can be used. Specifically, an acrylic resin, an epoxy resin, or the like is preferably used because various photosensitive agents, curing agents, and the like can be used as commercial products.

【0132】なお、このように遮光性層236を形成す
る場合において、材質によっては、複製盤220と遮光
性層236との密着性が高くなる場合がある。そして、
遮光性層236及びインク充填層211を固化後に一体
的に複製盤220から剥離する際(図9(C)参照)
に、遮光性層236及びインク充填層211の欠落やク
ラックの発生等といった不良品発生率の増大、剥離に要
する時間がかかることによる生産性の低下、さらには、
複製盤220の耐久性の低下等が考えられる。
When the light-shielding layer 236 is formed as described above, the adhesion between the duplicate disk 220 and the light-shielding layer 236 may be increased depending on the material. And
When the light-shielding layer 236 and the ink-filled layer 211 are solidified and peeled off from the duplication plate 220 integrally (see FIG. 9C)
In addition, the occurrence rate of defective products such as the lack of the light-shielding layer 236 and the ink filling layer 211 and the occurrence of cracks are increased, the time required for peeling is reduced, and the productivity is reduced.
It is conceivable that the durability of the copy board 220 is reduced.

【0133】そこで、遮光性を有するインク235に予
め離型剤を添加しておくことで、遮光性層236が複製
盤220から離型しやすいようにしておくことが好まし
い。
Therefore, it is preferable to add a release agent to the ink 235 having a light-shielding property in advance so that the light-shielding layer 236 can be easily released from the duplication plate 220.

【0134】また、インク235に溶剤成分を含むもの
は、熱処理を行ってインクの溶剤を揮発させる。この熱
処理の条件は、インクに含まれる溶剤成分の沸点等を考
慮して決定される。インクに用いる溶剤成分としては、
特に限定されるものではなく、水あるいは種々の有機溶
剤が使用可能である。ただし、インク使用中に溶剤が揮
発することにより、ヘッド234のインク吐出口やイン
ク流路においてインクが固化して詰まるのを防止するた
め、比較的高沸点のインクを使用することが好ましい。
具体的には、溶剤除去の作業性を考慮して、溶剤の沸点
の範囲は80〜200℃が好ましい。この場合の熱処理
条件は、50〜200℃で、ホットプレートを用いた場
合は2〜10分、ベイク炉を用いた場合は20〜30分
程度行うことが望ましい。
The ink 235 containing a solvent component is subjected to a heat treatment to evaporate the solvent of the ink. The conditions for this heat treatment are determined in consideration of the boiling point of the solvent component contained in the ink. As the solvent component used in the ink,
There is no particular limitation, and water or various organic solvents can be used. However, it is preferable to use a relatively high boiling point ink in order to prevent the ink from being solidified and clogged in the ink discharge ports and the ink flow paths of the head 234 due to the volatilization of the solvent during use of the ink.
Specifically, the range of the boiling point of the solvent is preferably from 80 to 200 ° C. in consideration of the workability of removing the solvent. The heat treatment conditions in this case are desirably 50 to 200 ° C. for about 2 to 10 minutes when using a hot plate, and about 20 to 30 minutes when using a bake furnace.

【0135】また、遮光性層236は、溶剤を除去する
と収縮するが、収縮後の厚みで必要な遮光性が確保でき
るだけのインク量を充填しておくことが必要である。
The light-shielding layer 236 shrinks when the solvent is removed, but it is necessary to fill the ink amount enough to secure the required light-shielding property with the thickness after the shrinkage.

【0136】次に、図9(B)に示すように、遮光性層
236の上にインク充填層211を形成し、さらにその
上に保持盤210を載せる。
Next, as shown in FIG. 9B, an ink-filled layer 211 is formed on the light-shielding layer 236, and the holding plate 210 is mounted thereon.

【0137】インク充填層211を形成する物質として
は、上述したものと同様のものを用いることが可能であ
り、特に遮光性層236との密着性が良好であるものが
好ましい。
As the substance for forming the ink filling layer 211, the same substance as described above can be used, and a substance having good adhesion to the light-shielding layer 236 is particularly preferable.

【0138】また、インク充填層211を形成する物質
としてエネルギーの付与により硬化可能な液状の物質を
用いた場合には、エネルギーの付与により硬化処理して
固化させてインク充填層211を形成する。
When a liquid material that can be cured by applying energy is used as a material for forming the ink filling layer 211, the ink filling layer 211 is formed by curing and solidifying by applying energy.

【0139】特に、遮光性層236及びインク充填層2
11の双方が同一のエネルギーの付与により硬化可能な
ように設定した場合には、遮光性層236を硬化させる
前にインク充填層211を形成し、双方同時にエネルギ
ーを付与して同時に硬化させることで、強固に一体化さ
せることが可能である。
Particularly, the light-shielding layer 236 and the ink-filled layer 2
In the case where both are set so that they can be cured by applying the same energy, the ink-filled layer 211 is formed before the light-shielding layer 236 is cured, and the energy is simultaneously applied and cured simultaneously. , And can be firmly integrated.

【0140】また、保持盤210は、上述の図3(B)
に示す保持盤34と同一であるため説明を省略する。
Further, the holding plate 210 is provided in the above-mentioned FIG.
Is omitted since it is the same as the holding plate 34 shown in FIG.

【0141】そして、図9(C)に示すように、保持盤
210、インク充填層211及び遮光性層236を、一
体的に複製盤220から剥離して、遮光性層236が一
体化したインク充填用凹部212を有するインク充填層
211が形成される。
Then, as shown in FIG. 9C, the holding plate 210, the ink filling layer 211, and the light-shielding layer 236 are integrally peeled off from the duplication plate 220, and the ink in which the light-shielding layer 236 is integrated is formed. An ink filling layer 211 having a filling recess 212 is formed.

【0142】さらに、引き続いて、図4(A)〜図4
(C)に示す工程と同様に、インク充填用凹部212に
着色パターン層240を形成し、その上に光透過性層2
46を形成し、その上に補強板248を載せる。こうし
て、図10に示すように、遮光性層236からなるBM
を内蔵したカラーフィルタが得られる。
Further, subsequently, FIGS.
Similarly to the step shown in FIG. 3C, a colored pattern layer 240 is formed in the ink filling recess 212, and the light transmitting layer 2
46 is formed, and a reinforcing plate 248 is placed thereon. Thus, as shown in FIG.
Is obtained.

【0143】本実施形態に係るカラーフィルタの製造方
法によれば、平坦性に優れた、カラー濃度にむらのな
い、高精細のカラーフィルタが安価で得られる。また、
経済的かつ高い精度でBMを内蔵することも可能であ
る。
According to the method of manufacturing a color filter according to the present embodiment, a high-definition color filter having excellent flatness and having no uneven color density can be obtained at low cost. Also,
It is also possible to incorporate the BM economically and with high accuracy.

【0144】(第4実施形態)図11(A)〜図11
(C)、本発明の第4実施形態に係るカラーフィルタの
製造工程を示す図であり、図3(A)〜図4(C)に示
す工程の代わりに適用できる工程を説明する図である。
(Fourth Embodiment) FIGS. 11A to 11
(C) is a diagram showing a manufacturing process of the color filter according to the fourth embodiment of the present invention, and is a diagram illustrating a process that can be applied instead of the process shown in FIGS. 3 (A) to 4 (C). .

【0145】まず、図11(A)に示すように、インク
充填層311を形成する。詳しくは、保持盤310の上
に液状のインク充填層前駆体を設け、このインク充填層
前駆体を固めてインク充填層311を形成する。ここ
で、インク充填層前駆体は、保持盤310のスペーサ形
成用凹部328にも流れ込むため、このスペーサ形成用
凹部328に対応して、インク充填層311から突出す
るスペーサ330が形成される。また、インク充填層3
11には、上記実施形態で説明した方法等によってイン
ク充填用凹部312を形成する。
First, as shown in FIG. 11A, an ink filling layer 311 is formed. Specifically, a liquid ink filling layer precursor is provided on the holding plate 310, and the ink filling layer precursor is solidified to form the ink filling layer 311. Here, the ink filling layer precursor also flows into the spacer forming recesses 328 of the holding plate 310, so that the spacers 330 protruding from the ink filling layer 311 are formed corresponding to the spacer forming recesses 328. In addition, the ink filling layer 3
11, the ink filling recess 312 is formed by the method described in the above embodiment or the like.

【0146】その後、図4(A)及び図4(B)に示す
工程と同様に、全てのインク充填用凹部312にインク
を充填して着色パターン層315を形成し、インク充填
層311の上に光透過性層316を形成し、さらにその
上に補強板317を載せる。そして、インク充填層31
1から保持盤310を剥離する。
Thereafter, as in the steps shown in FIGS. 4A and 4B, all the ink filling recesses 312 are filled with ink to form a colored pattern layer 315. Then, a light transmitting layer 316 is formed, and a reinforcing plate 317 is placed thereon. Then, the ink filling layer 31
The holding plate 310 is peeled from 1.

【0147】こうして、図11(C)に示すカラーフィ
ルタが得られる。
Thus, the color filter shown in FIG. 11C is obtained.

【0148】本実施の形態によれば、インク充填層31
1におけるインク充填用凹部312とは反対側面に、ス
ペーサ330が一体的に形成される。したがって、スペ
ーサ一体型のカラーフィルタを製造することができる。
スペーサ330は、スペーサ形成用凹部328の形状に
対応して所望の形状、例えば、ストライプパターンや四
角柱又は円柱状の孤立パターンなどにすることができ
る。いずれの形状であっても、幅又は直径を10〜20
μmとすることが好ましい。ストライプパターンの場合
には、孤立パターンに比べ強度はあるが、液晶パネルに
組み込んだ際に縞模様が目立つことがある。孤立パター
ンの場合には、角のない円柱状にしたほうが、スペーサ
構造付近での液晶の配向ムラを低減することができる。
According to the present embodiment, the ink filling layer 31
A spacer 330 is integrally formed on the side opposite to the ink filling recess 312 in FIG. Therefore, a color filter integrated with a spacer can be manufactured.
The spacer 330 can be formed in a desired shape corresponding to the shape of the spacer forming concave portion 328, for example, a stripe pattern, a square pillar or a columnar isolated pattern. Regardless of the shape, the width or diameter is 10 to 20
It is preferably set to μm. In the case of a stripe pattern, although the strength is higher than that of an isolated pattern, the stripe pattern may be conspicuous when incorporated in a liquid crystal panel. In the case of an isolated pattern, a columnar shape without corners can reduce alignment unevenness of the liquid crystal near the spacer structure.

【0149】また、このスペーサ330は、液晶パネル
を構成したときに目立たなくさせるために、画素となる
着色パターン層315間に設けることが好ましい。
It is preferable that the spacers 330 are provided between the colored pattern layers 315 to be pixels in order to make the spacers inconspicuous when a liquid crystal panel is formed.

【0150】(その他の実施形態)次に、図12(A)
〜図12(C)は、本発明の第5実施形態に係るカラー
フィルタの製造工程を示す図である。本実施の形態は、
図9(A)に示す複製盤220の凹部226aの形状を
変形させたものである。
(Other Embodiments) Next, FIG.
FIGS. 12A to 12C are diagrams illustrating a process of manufacturing a color filter according to the fifth embodiment of the present invention. In this embodiment,
This is a modification of the shape of the concave portion 226a of the duplication board 220 shown in FIG.

【0151】すなわち、図12(A)に示すように、複
製盤426に形成される凹部428は、テーパが付けら
れることで、開口部428aよりも底面428bが小さ
くなっている。この複製盤426を用いて、図12
(B)に示すように、凹部428に遮光性を有するイン
クを充填して遮光性層436を形成し、この上にインク
充填層411を形成する。
That is, as shown in FIG. 12A, the bottom surface 428b of the concave portion 428 formed in the duplication board 426 is smaller than the opening 428a by being tapered. By using this duplication board 426, FIG.
As shown in (B), the light-shielding layer 436 is formed by filling the recess 428 with ink having light-shielding properties, and the ink-filled layer 411 is formed thereon.

【0152】そして、インク充填層411及び遮光性層
436を、一体的に複製盤426から剥離して、遮光性
層436が一体化したインク充填用凹部412を有する
インク充填層411が得られ、その後、図12(C)に
示すように、そのインク充填用凹部412にインクを充
填し、着色パターン層415を形成する。
Then, the ink-filled layer 411 and the light-shielding layer 436 are integrally peeled off from the duplicating plate 426 to obtain the ink-filled layer 411 having the ink-filled recesses 412 in which the light-shielding layer 436 is integrated. After that, as shown in FIG. 12C, the ink filling recess 412 is filled with ink to form a colored pattern layer 415.

【0153】こうして得られたカラーフィルタによれ
ば、図12(C)に示すように、複製盤426の凹部4
28の開口部428aよりも小さい遮光性層436が形
成される。すなわち、本実施形態では、複製盤426の
凹部428への遮光性を有するインクの充填が容易とな
り、近年のカラーフィルタにおける高開口率化にともな
う遮光性層の微細化の要求に応えることができる。しか
も、本実施の形態では、図12(A)に示すように、凹
部428の開口部428aが底面428よりも大きいの
で、複製盤426からインク充填層411及び遮光性層
412の剥離を容易に行うことができる。
According to the color filter thus obtained, as shown in FIG.
A light-shielding layer 436 smaller than the opening 428a of the M.28 is formed. That is, in the present embodiment, it is easy to fill the concave portion 428 of the duplication plate 426 with the ink having the light-shielding property, and it is possible to meet the demand for the finer light-shielding layer accompanying the recent increase in the aperture ratio of the color filter. . Moreover, in the present embodiment, as shown in FIG. 12A, the opening 428 a of the concave portion 428 is larger than the bottom surface 428, so that the ink filling layer 411 and the light shielding layer 412 can be easily separated from the duplicate plate 426. It can be carried out.

【0154】なお、上記凹部428は、図13(A)及
び図13(B)に示すように変形してもよい。すなわ
ち、図13(A)に示すように、複製盤456の凹部4
58は、開口部においてテーパ458aが付されてい
る。この凹部458によれば、図13(B)に示すよう
に、インク充填層441のインク充填用凹部442が、
底面部においてテーパ442aが付された形状になって
いるが、遮光性層466は直立した形状となっている。
本実施の形態によれば、遮光性層466を、図9(C)
に示す遮光性層236と同様の形状にすることができ
る。
The recess 428 may be modified as shown in FIGS. 13A and 13B. That is, as shown in FIG.
58 is provided with a taper 458a at the opening. According to the concave portion 458, as shown in FIG. 13B, the ink filling concave portion 442 of the ink filling layer 441 is
Although the bottom surface has a shape with a taper 442a, the light-shielding layer 466 has an upright shape.
According to this embodiment, the light-blocking layer 466 is formed as shown in FIG.
Can be formed in the same shape as the light-shielding layer 236 shown in FIG.

【0155】[0155]

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】図1(A)〜図1(E)は、第1実施形態にお
ける原盤を製造する工程を示す図である。
FIGS. 1A to 1E are diagrams showing a process of manufacturing a master according to a first embodiment.

【図2】図2(A)〜図2(C)は、第1実施形態にお
いて原盤から複製盤を製造する工程を示す図である。
FIGS. 2A to 2C are diagrams illustrating a process of manufacturing a duplicate disc from a master in the first embodiment.

【図3】図3(A)〜図3(C)は、第1実施形態にお
いてインク用凹部を有するインク充填層を形成する工程
を示す図である。
FIGS. 3A to 3C are diagrams illustrating a process of forming an ink-filled layer having an ink recess in the first embodiment.

【図4】図4(A)〜図4(C)は、第1実施形態にお
いてインク用凹部に着色パターン層を形成してカラーフ
ィルタを得る工程を示す図である。
FIGS. 4A to 4C are views showing a process of forming a colored pattern layer in a concave portion for ink to obtain a color filter in the first embodiment.

【図5】図5は、第1実施形態の変形例を示す図であ
る。
FIG. 5 is a diagram illustrating a modification of the first embodiment;

【図6】図6(A)〜図6(E)は、第2実施形態にお
ける原盤を製造する工程を示す図である。
FIGS. 6 (A) to 6 (E) are views showing steps of manufacturing a master in the second embodiment.

【図7】図7(A)及び図7(B)は、第2実施形態に
おいて原盤から中間盤を製造する工程を示す図である。
FIGS. 7A and 7B are diagrams illustrating a process of manufacturing an intermediate master from a master according to the second embodiment.

【図8】図8(A)〜図8(C)は、第2実施形態にお
いて中間盤から複製盤を製造する工程を示す図である。
FIGS. 8A to 8C are diagrams showing a process of manufacturing a duplicate disc from an intermediate disc in the second embodiment.

【図9】図9(A)〜図9(C)は、第3実施形態にお
いて遮光性層を有するインク充填層を形成する工程を示
す図である。
FIGS. 9A to 9C are diagrams illustrating a process of forming an ink-filled layer having a light-shielding layer in the third embodiment.

【図10】図10は、第3実施形態により得られたカラ
ーフィルタを示す図である。
FIG. 10 is a diagram illustrating a color filter obtained according to a third embodiment.

【図11】図11(A)〜図11(C)は、本発明の第
4実施形態に係るカラーフィルタの製造工程を示す図で
ある。
FIGS. 11A to 11C are diagrams illustrating a process of manufacturing a color filter according to a fourth embodiment of the present invention.

【図12】図12(A)〜図12(C)は、本発明のそ
の他の実施形態に係るカラーフィルタの製造工程を示す
図である。
FIGS. 12A to 12C are diagrams illustrating a process of manufacturing a color filter according to another embodiment of the present invention.

【図13】図13(A)及び図13(B)は、本発明の
その他の実施形態に係るカラーフィルタの製造工程を示
す図である。
13 (A) and 13 (B) are views showing a process for manufacturing a color filter according to another embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 原盤 12 基板 19 凹凸パターン 20 複製盤 26 凹凸パターン 30 インク充填層 32 インク充填用凹部 34 保持盤 40 着色パターン層 46 光透過性層 48 補強板 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Master disk 12 Substrate 19 Concavo-convex pattern 20 Duplicating board 26 Concavo-convex pattern 30 Ink filling layer 32 Ink filling recess 34 Holding board 40 Colored pattern layer 46 Light transmission layer 48 Reinforcement plate

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 吉澤 睦美 長野県諏訪市大和3丁目3番5号 セイコ ーエプソン株式会社内 (72)発明者 高桑 敦司 長野県諏訪市大和3丁目3番5号 セイコ ーエプソン株式会社内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Mutsumi Yoshizawa 3-3-5 Yamato, Suwa City, Nagano Prefecture Inside Seiko Epson Corporation (72) Inventor Atsushi Takakuwa 3-3-5 Yamato Suwa City, Nagano Prefecture Seiko Epson Inside the company

Claims (30)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 第1の凹凸パターンを有する原盤を形成
する第1工程と、 前記第1の凹凸パターンから転写された第2の凹凸パタ
ーンを有する複製盤を形成する第2工程と、 前記第2の凹凸パターンから転写されたインク充填用凹
部を有するインク充填層を形成する第3工程と、 前記インク充填用凹部に、予め設定された色のインクを
充填して着色パターン層を形成する第4工程と、 前記着色パターン層が形成されたインク充填層上に光透
過性層を形成する第5工程と、 を含むカラーフィルタの製造方法。
A first step of forming a master having a first uneven pattern; a second step of forming a replica having a second uneven pattern transferred from the first uneven pattern; A third step of forming an ink-filled layer having an ink-filled concave portion transferred from the uneven pattern of No. 2, and forming a colored pattern layer by filling the ink-filled concave portion with ink of a preset color. A method for manufacturing a color filter, comprising: four steps; and a fifth step of forming a light-transmitting layer on the ink-filled layer on which the colored pattern layer is formed.
【請求項2】 請求項1記載のカラーフィルタの製造方
法において、 前記原盤の前記第1の凹凸パターンは、リソグラフィ法
を介するエッチングにて形成されるカラーフィルタの製
造方法。
2. The method for manufacturing a color filter according to claim 1, wherein the first concave / convex pattern of the master is formed by etching through a lithography method.
【請求項3】 請求項1記載のカラーフィルタの製造方
法において、 前記原盤は、基台上に前記第1の凹凸パターンに応じて
パターン化されたレジスト層を形成し、前記基台の前記
レジスト層が形成された面上に導体化層を形成し、該導
体化層上に電気鋳造法により金属層を形成し、前記金属
層を前記基台から剥離して得られるカラーフィルタの製
造方法。
3. The method of manufacturing a color filter according to claim 1, wherein the master forms a resist layer patterned on the base in accordance with the first uneven pattern, and the resist on the base is formed on the base. A method for producing a color filter obtained by forming a conductive layer on a surface on which a layer is formed, forming a metal layer on the conductive layer by electroforming, and peeling the metal layer from the base.
【請求項4】 請求項2記載のカラーフィルタの製造方
法において、 前記原盤は、シリコン又は石英からなるカラーフィルタ
の製造方法。
4. The method for manufacturing a color filter according to claim 2, wherein the master is made of silicon or quartz.
【請求項5】 請求項1記載のカラーフィルタの製造方
法において、 前記原盤は導電性物質からなり、 前記複製盤は、前記原盤の前記第1の凹凸パターンが形
成された面上に電気鋳造法により金属層を形成した後、
該金属層を前記原盤から剥離して得られるカラーフィル
タの製造方法。
5. The method for manufacturing a color filter according to claim 1, wherein the master is made of a conductive material, and the duplicate master is formed by electroforming on a surface of the master on which the first uneven pattern is formed. After forming a metal layer by
A method for producing a color filter obtained by peeling the metal layer from the master.
【請求項6】 請求項1記載のカラーフィルタの製造方
法において、 前記原盤は絶縁性物質からなり、 前記複製盤は、前記原盤の前記第1の凹凸パターンが形
成された面上に導体化層を形成し、前記導体化層上に電
気鋳造法により金属層を形成し、前記金属層を前記原盤
から剥離して得られるカラーフィルタの製造方法。
6. The method for manufacturing a color filter according to claim 1, wherein the master is made of an insulating material, and the duplicate master is a conductive layer formed on a surface of the master on which the first uneven pattern is formed. And forming a metal layer on the conductive layer by an electroforming method, and peeling the metal layer from the master to produce a color filter.
【請求項7】 第1の凹凸パターンを有する原盤を形成
する第1工程と、 前記第1の凹凸パターンから転写された第2の凹凸パタ
ーンを有する中間盤を形成する第2工程と、 前記第2の凹凸パターンから転写された第3の凹凸パタ
ーンを有する複製盤を形成する第3工程と、 前記第3の凹凸パターンから転写されたインク充填用凹
部を有するインク充填層を形成する第4工程と、 前記インク充填用凹部に、予め設定された色のインクを
充填して着色パターン層を形成する第5工程と、 前記着色パターン層が形成されたインク充填層上に光透
過性層を形成する第6工程と、 を含むカラーフィルタの製造方法。
7. A first step of forming a master having a first uneven pattern, a second step of forming an intermediate board having a second uneven pattern transferred from the first uneven pattern, A third step of forming a duplicate disc having a third concavo-convex pattern transferred from the second concavo-convex pattern, and a fourth step of forming an ink-filled layer having an ink-filled concavity transferred from the third concavo-convex pattern A fifth step of forming a colored pattern layer by filling the ink filling recess with ink of a preset color; and forming a light-transmitting layer on the ink filled layer on which the colored pattern layer is formed. A color filter manufacturing method comprising:
【請求項8】 請求項7記載のカラーフィルタの製造方
法において、 前記原盤は、シリコン又は石英からなるカラーフィルタ
の製造方法。
8. The method for manufacturing a color filter according to claim 7, wherein the master is made of silicon or quartz.
【請求項9】 請求項7又は請求項8記載のカラーフィ
ルタの製造方法において、 前記中間盤の形成工程は、前記原盤の前記第1の凹凸パ
ターンが形成された面上に中間盤前駆体を塗布する工程
と、前記中間盤前駆体を固化して中間盤を形成する工程
と、前記原盤から前記中間盤を剥離する工程と、を含む
カラーフィルタの製造方法。
9. The method for manufacturing a color filter according to claim 7, wherein in the step of forming the intermediate disk, an intermediate disk precursor is formed on a surface of the master disk on which the first uneven pattern is formed. A method for producing a color filter, comprising: a step of applying; a step of solidifying the intermediate disk precursor to form an intermediate disk; and a step of separating the intermediate disk from the master disk.
【請求項10】 請求項9記載のカラーフィルタの製造
方法において、 前記中間盤前駆体は、エネルギーの付与により硬化可能
な物質を含むカラーフィルタの製造方法。
10. The method of manufacturing a color filter according to claim 9, wherein the intermediate plate precursor contains a substance curable by application of energy.
【請求項11】 請求項10記載のカラーフィルタの製
造方法において、 前記エネルギーは、光及び熱の少なくともいずれか一方
であるカラーフィルタの製造方法。
11. The method for manufacturing a color filter according to claim 10, wherein the energy is at least one of light and heat.
【請求項12】 請求項9記載のカラーフィルタの製造
方法において、 前記中間盤前駆体は、熱可塑性を有する物質であるカラ
ーフィルタの製造方法。
12. The method for manufacturing a color filter according to claim 9, wherein the intermediate plate precursor is a substance having thermoplasticity.
【請求項13】 請求項7から請求項12のいずれかに
記載のカラーフィルタの製造方法において、 前記中間盤は、樹脂からなるカラーフィルタの製造方
法。
13. The method for manufacturing a color filter according to claim 7, wherein the intermediate plate is made of a resin.
【請求項14】 請求項7から請求項13のいずれかに
記載のカラーフィルタの製造方法において、 前記中間盤上に基台を貼り合わせる工程を含むカラーフ
ィルタの製造方法。
14. The method for producing a color filter according to claim 7, further comprising a step of attaching a base to said intermediate plate.
【請求項15】 請求項7から請求項14のいずれかに
記載のカラーフィルタの製造方法において、 前記複製盤は、前記中間盤の前記第2の凹凸パターンが
形成された面上に導体化層を形成し、該導体化層の上に
電気鋳造法により金属層を形成し、前記金属層を前記原
盤から剥離して得られるカラーフィルタの製造方法。
15. The method for manufacturing a color filter according to claim 7, wherein the duplicated disc has a conductive layer on a surface of the intermediate disc on which the second uneven pattern is formed. And forming a metal layer on the conductive layer by electroforming, and peeling the metal layer from the master to produce a color filter.
【請求項16】 請求項1から請求項15のいずれかに
記載のカラーフィルタの製造方法において、 前記インク充填層の形成工程は、前記複製盤の前記凹凸
パターンが形成された面上にインク充填層前駆体を塗布
する工程と、前記インク充填層前駆体を固化してインク
充填層を形成する工程と、前記複製盤から前記インク充
填層を剥離する工程と、を含むカラーフィルタの製造方
法。
16. The method for manufacturing a color filter according to claim 1, wherein the step of forming the ink filling layer includes filling the ink on a surface of the duplicate disc on which the concavo-convex pattern is formed. A method for producing a color filter, comprising: applying a layer precursor; solidifying the ink-filled layer precursor to form an ink-filled layer; and peeling the ink-filled layer from the replica.
【請求項17】 請求項16記載のカラーフィルタの製
造方法において、 前記インク充填層前駆体は、エネルギーの付与により硬
化可能な物質を含むカラーフィルタの製造方法。
17. The method for manufacturing a color filter according to claim 16, wherein the ink-filled layer precursor contains a substance curable by application of energy.
【請求項18】 請求項17記載のカラーフィルタの製
造方法において、 前記エネルギーは、光及び熱の少なくともいずれか一方
であるカラーフィルタの製造方法。
18. The method of manufacturing a color filter according to claim 17, wherein the energy is at least one of light and heat.
【請求項19】 請求項16記載のカラーフィルタの製
造方法において、 前記インク充填層前駆体は、熱可塑性を有する物質であ
るカラーフィルタの製造方法。
19. The method for manufacturing a color filter according to claim 16, wherein the ink-filled layer precursor is a substance having thermoplasticity.
【請求項20】 請求項1から請求項19のいずれかに
記載のカラーフィルタの製造方法において、 前記インク充填層は、樹脂からなるカラーフィルタの製
造方法。
20. The method of manufacturing a color filter according to claim 1, wherein the ink-filled layer is made of a resin.
【請求項21】 請求項16から請求項20のいずれか
に記載のカラーフィルタの製造方法において、 前記複製盤の前記凹凸パターンが形成された面上にイン
ク充填層前駆体を塗布する前に、前記複製盤の前記凹凸
パターンの凹部に遮光性インクを充填して遮光性層を形
成する工程を含み、 前記インク充填層前駆体を固化後に、前記遮光性層を前
記インク充填層と一体的こ前記複製盤から剥離すること
で前記インク充填層が得られ、 前記インク充填層は、前記インク充填用凹部の周囲に前
記遮光性層を有するカラーフィルタの製造方法。
21. The method for producing a color filter according to claim 16, wherein before the ink filling layer precursor is applied on the surface of the duplicate disc on which the uneven pattern is formed. Forming a light-shielding layer by filling light-shielding ink into the concave portions of the concave-convex pattern of the replica disc; after solidifying the ink-filling layer precursor, the light-shielding layer is integrated with the ink-filling layer. A method for manufacturing a color filter, wherein the ink-filled layer is obtained by peeling the ink-filled layer from the duplicate disc, and the ink-filled layer has the light-shielding layer around the ink-filled recess.
【請求項22】 請求項21記載のカラーフィルタの製
造方法において、 前記遮光性インクは、インクジェット方式によって充填
されるカラーフィルタの製造方法。
22. The method for manufacturing a color filter according to claim 21, wherein the light-shielding ink is filled by an ink-jet method.
【請求項23】 請求項21又は請求項22記載のカラ
ーフィルタの製造方法において、 前記複製盤の前記凹部は、開口部よりも底面が小さいカ
ラーフィルタの製造方法。
23. The method of manufacturing a color filter according to claim 21, wherein the concave portion of the duplicate disc has a bottom surface smaller than an opening.
【請求項24】 請求項21から請求項23のいずれか
に記載のカラーフィルタの製造方法において、 前記複製盤の前記凹部は、開口部にテーパが付されるカ
ラーフィルタの製造方法。
24. The method of manufacturing a color filter according to claim 21, wherein the concave portion of the duplicate disc has a tapered opening.
【請求項25】 請求項16から請求項24のいずれか
に記載のカラーフィルタの製造方法において、 インク充填層の形成工程では、前記複製盤に前記インク
充填層前駆体を介して保持盤が密着し、 前記着色パターン層及び光透過性層の形成工程では、前
記インク充填層が前記保持盤に密着した状態で進めら
れ、 前記光透過性層の形成終了後に、前記保持盤は前記イン
ク充填層から除去されるカラーフィルタの製造方法。
25. The method for manufacturing a color filter according to claim 16, wherein in the step of forming an ink-filled layer, a holding board is in close contact with the duplicate disc via the ink-filled layer precursor. In the step of forming the colored pattern layer and the light-transmitting layer, the ink-filled layer is advanced in a state in which the ink-filled layer is in close contact with the holding plate. Of producing a color filter to be removed from a color filter.
【請求項26】 請求項25記載のカラーフィルタの製
造方法において、 前記保持盤には、前記インク充填層前駆体と密着する側
の面にスペーサ形成用凹部が形成され、 前記インク充填層には、前記スペーサ形成用凹部に対応
するスペーサ用凸部が形成されるカラーフィルタの製造
方法。
26. The method of manufacturing a color filter according to claim 25, wherein the holding plate is provided with a recess for forming a spacer on a surface on a side in contact with the ink filling layer precursor. And a method of manufacturing a color filter in which a spacer convex portion corresponding to the spacer forming concave portion is formed.
【請求項27】 請求項25記載のカラーフィルタの製
造方法において、 前記保持盤上に、前記インク充填層前駆体に対する密着
性の低い離型層が形成されるカラーフィルタの製造方
法。
27. The method for manufacturing a color filter according to claim 25, wherein a release layer having low adhesion to the ink-filled layer precursor is formed on the holding plate.
【請求項28】 請求項1から請求項27のいずれかに
記載のカラーフィルタの製造方法において、 前記光透過性層の形成工程で、前記光透過性層は、光透
過性を有する材料を前記インク充填層上に塗布して形成
され、前記材料の上に光透過性を有する補強板が載せら
れるカラーフィルタの製造方法。
28. The method of manufacturing a color filter according to claim 1, wherein in the step of forming the light-transmitting layer, the light-transmitting layer is made of a light-transmitting material. A method for manufacturing a color filter, wherein the color filter is formed by being applied on an ink filling layer, and a light-transmitting reinforcing plate is placed on the material.
【請求項29】 請求項1から請求項28のいずれかに
記載のカラーフィルタの製造方法において、 前記着色パターン層の形成工程で、前記インクがインク
ジェット方式によって充填されるカラーフィルタの製造
方法。
29. The method for manufacturing a color filter according to claim 1, wherein the ink is filled by an ink jet method in the step of forming the colored pattern layer.
【請求項30】 請求項1から請求項29のいずれかに
記載の方法により製造されるカラーフィルタ。
30. A color filter manufactured by the method according to claim 1. Description:
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