JPH11310449A - Drying of tile body and pallet for drying the same - Google Patents

Drying of tile body and pallet for drying the same

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JPH11310449A
JPH11310449A JP13130898A JP13130898A JPH11310449A JP H11310449 A JPH11310449 A JP H11310449A JP 13130898 A JP13130898 A JP 13130898A JP 13130898 A JP13130898 A JP 13130898A JP H11310449 A JPH11310449 A JP H11310449A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
drying
tile
warm air
tile body
period
Prior art date
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Pending
Application number
JP13130898A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hiroyuki Tahira
博行 田平
Yuji Fukudo
裕治 福堂
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
SEKISHU SERAMIKA KYOGYO KUMIAI
TAKAHAMA KOGYO KK
Takahama Industry Co Ltd
Original Assignee
SEKISHU SERAMIKA KYOGYO KUMIAI
TAKAHAMA KOGYO KK
Takahama Industry Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by SEKISHU SERAMIKA KYOGYO KUMIAI, TAKAHAMA KOGYO KK, Takahama Industry Co Ltd filed Critical SEKISHU SERAMIKA KYOGYO KUMIAI
Priority to JP13130898A priority Critical patent/JPH11310449A/en
Publication of JPH11310449A publication Critical patent/JPH11310449A/en
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  • Drying Of Solid Materials (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To suppress the deformation or cracking frequently occurring at the time of drying and improve the productivity by supporting lower ends of both lateral faces of a tile body with a receiving tool, bringing warm air shielding pieces into contact with both the lateral faces and feeding the warm air from the perpendicular direction relatively to the lateral faces. SOLUTION: A receiving tool 20 is a platy form and the top surface of the receiving tool 20 is composed as a horizontal plane so that the lower ends of the lateral faces of a tile body W can horizontally be supported. A pair of warm air shielding pieces 30 are stood in the longitudinal direction on the top surface of the receiving tool 20 with a kept interval corresponding to the width of the tile body W. The warm air shielding pieces 30 are capable of suppressing the feed of warm air in a drying furnace when placing the tile body W on the receiving tool 20. The warm air shielding pieces 30 are capable of suppressing the deformation of the tile body W due to the own weight in addition to the shielding of the warm air. Furthermore, a warm air regulating piece 40 integral with the receiving tool 20 is installed under the tile body W placed on the receiving tool 20 to weakly regulate the flow of the warm air fed to the back surface side of the tile body W.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、未乾燥の瓦素地
を乾燥する方法とその乾燥用パレットに関する。とりわ
け、のし瓦や棟瓦用の未乾燥の瓦素地(以下この明細書
中とくに断りのない限り単に瓦素地という)の乾燥方法
と乾燥用パレットに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for drying undried tiles and a pallet for drying. In particular, the present invention relates to a method and a pallet for drying undried tiles for roof tiles and roof tiles (hereinafter simply referred to as tiles unless otherwise specified).

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の技術を説明するに先立って、この
発明や従来技術が対象とする瓦素地について説明の便宜
上予めその構成を明らかにする。この発明と従来技術が
テ−マとする瓦素地Wの構成自体は共通であるから、両
者は共通の構成として扱う。
2. Description of the Prior Art Prior to the description of the prior art, the structure of a tile substrate to which the present invention and the prior art are applied will be clarified in advance for convenience of explanation. Since the configuration itself of the tile ground W which is the theme of the present invention and the prior art is common, both are treated as a common configuration.

【0003】そして、「のし瓦」と「のし瓦用の瓦素
地」、「棟瓦」と「棟瓦用の瓦素地」について断りのな
い限り、説明の便宜上、図面や符号を共用して説明す
る。
[0003] Unless otherwise specified, "noshi roof tile" and "roof tile ground for noshi roof", and "building roof tile" and "tile roof ground for ridge roof tile", will be described with reference to drawings and symbols for convenience of explanation. I do.

【0004】のし瓦の瓦素地W(ここではのし瓦の瓦素
地Wを代表して説明する)は知られているように一般的
に略方形の平板を円弧状に湾曲させた形態である(図1
を参照)。のし瓦Wの表面Mは緩やかな円弧を描きつつ
凸状に、裏面Nもまた緩やかな円弧を描きつつ凹状に形
成され、正面Fおよび背面Rは略三日月状に形成され、
「コバ面」と称されている側面Sが細長く長方形に形成
されている。
[0004] The tile roofing material W of a roof tile (to be described here as a representative of the tile roofing material W of a tile) is, as is known, generally in the form of a generally rectangular flat plate curved in an arc shape. Yes (Fig. 1
See). The surface M of the roof tile W is formed in a convex shape while drawing a gentle arc, the back surface N is also formed in a concave shape while drawing a gentle arc, and the front surface F and the rear surface R are formed in a substantially crescent shape.
The side surface S called "edge surface" is formed in an elongated rectangular shape.

【0005】さらに、のし瓦Wを正面Fから臨むと、表
面Mによって描かれる円弧状の曲線と側面Sの両端線に
よって描かれる垂直線とにより、側面Sと表面Mの表面
寄りの上端Uは、略鈍角状に形成されている。
Further, when the roof tile W is viewed from the front F, the upper end U near the surface of the side S and the surface M is formed by an arc-shaped curve drawn by the surface M and a vertical line drawn by both end lines of the side S. Are formed in a substantially obtuse angle.

【0006】他方、裏面Nによって描かれる略円弧状の
曲線と側面Sの両端線によって描かれる垂直線により、
裏面Nと側面Sの下端Dは、略鋭角状に形成されてい
る。
On the other hand, a substantially arc-shaped curve drawn by the back surface N and a vertical line drawn by both end lines of the side surface S,
The lower surface D of the back surface N and the lower surface D of the side surface S are formed in a substantially acute angle shape.

【0007】そして、のし瓦Wが水平状態に保たれたと
き、のし瓦Wの幅方向(側面方向)の中心付近が最も高
く上方に位置し、側面Sの下端が最も低く最下位に位置
している。
When the roof tile W is kept in a horizontal state, the vicinity of the center of the roof tile W in the width direction (side direction) is highest and upper, and the lower end of the side face S is lowest and lowest. positioned.

【0008】のし瓦Wは、使用上、屋根に葺いたときに
側面Sが露呈されるから、美観上その形態の保全に注意
が払われ、側面Sの上端と下端を結ぶ垂直部が直線とし
て形成されることと、側面Sの形状が美観にすぐれた水
平面を構成していることがとりわけ要請されている。
[0008] Since the side tile S is exposed when the roof tile W is laid on the roof in use, attention must be paid to the preservation of its form from an aesthetic point of view, and the vertical part connecting the upper end and the lower end of the side S is straight. In particular, it is required that the side surface S be formed as a horizontal plane and that the shape of the side surface S form a beautiful horizontal surface.

【0009】この種の従来例は、一般的に裏面Nを上方
に向け、多数の空気孔70を備えた乾燥用パレット72
の受具74上に瓦素地Wが載置され、乾燥炉内で瓦素地
Wの正面F側から温風を吹き付けることにより乾燥が行
われた(図9を参照)。
In this type of prior art, a drying pallet 72 having a large number of air holes 70 is generally provided with the back surface N facing upward.
Is placed on the receiving tool 74, and drying is performed by blowing warm air from the front F side of the tile body W in a drying furnace (see FIG. 9).

【0010】乾燥用パレット72は、瓦素地Wの表面M
の形態に倣う表面形状を有する受具74を複数個備えた
ものである。そして、瓦素地Wを受具74に支持させた
ときに瓦素地Wの表面Mの乾燥の促進を図ることをがで
きるようにするため、多数の空気孔70が設けられてい
るものである。
The drying pallet 72 is provided on the surface M of the tile substrate W.
And a plurality of receiving members 74 having a surface shape that follows the form of (1). A large number of air holes 70 are provided in order to facilitate drying of the surface M of the tile W when the tile W is supported by the receiving member 74.

【0011】瓦素地Wは複数個の受具72によって表面
Mが支持されることにより、水平状態を保つようにしつ
つ乾燥された。しかし、この従来例では、瓦素地Wの両
側面Sは自由状態にあり、乾燥炉内において供給される
温風に常に晒され乾燥された。
The tile body W was dried while maintaining a horizontal state by the surface M being supported by the plurality of receiving members 72. However, in this conventional example, both side surfaces S of the tile body W were in a free state, and were constantly exposed to the warm air supplied in the drying furnace to be dried.

【0012】次に瓦素地Wの乾燥について詳しく説明す
る。瓦素地Wの全乾燥期間は、予熱期間、恒率乾燥期間
および減率乾燥期間の3段階により構成される。
Next, drying of the tile body W will be described in detail. The entire drying period of the tile body W includes three stages: a preheating period, a constant-rate drying period, and a reduced-rate drying period.

【0013】未乾燥の瓦素地Wが乾燥炉に送り込まれる
ことにより、瓦素地Wは炉内の温風の供給を受けて一定
の温度にまで上昇される。このとき、瓦素地Wの外面
(ここにいう用語「外面」は「表面」と区別するための
もので、瓦素地の周面全体をいう、以下同じ)は、水膜
により覆われている状態にある。瓦素地Wの乾燥を行う
に際してまず瓦素地Wを一定の温度にまで上昇させる工
程を必須とするが、この工程が予熱期間(材料予熱期
間)といわれている。
When the undried tile W is fed into the drying furnace, the tile W is heated to a constant temperature by the supply of warm air in the furnace. At this time, the outer surface of the tile body W (the term "outer surface" is used to distinguish it from the "front surface" and refers to the entire peripheral surface of the tile body, the same applies hereinafter) is covered with a water film. It is in. When drying the tile body W, a step of first raising the tile body W to a certain temperature is essential, and this step is called a preheating period (material preheating period).

【0014】瓦素地Wは予熱期間を経過することにより
次に恒率乾燥期間に入る。予熱期間中に一定の温度に達
した瓦素地Wは、恒率乾燥期間において、外面の水分が
徐々に蒸発し、瓦素地Wの内部の水分は外面に向けて移
動する。このとき、外面に向けて移動する瓦素地Wの内
部の水分の移動量は、水分の蒸発量に追従する。
After the preheating period elapses, the tile body W enters a constant-rate drying period. In the tile body W that has reached a certain temperature during the preheating period, the moisture on the outer surface gradually evaporates during the constant rate drying period, and the moisture inside the tile body W moves toward the outer surface. At this time, the movement amount of the water inside the tile body W moving toward the outer surface follows the evaporation amount of the water.

【0015】また、瓦素地Wの温度は内部から水分が外
面に移動することにより、瓦素地Wの外面が水膜により
覆われている期間に限り、ほぼ一定に保たれる。
Further, the temperature of the tile W is kept substantially constant only when the outer surface of the tile W is covered with the water film due to the movement of moisture from the inside to the outside.

【0016】瓦素地Wに供給される温風の熱は水分の蒸
発に使用されるが、瓦素地Wの含水率が限界含水率に達
するまでの期間が恒率乾燥期間と称されている。
The heat of the warm air supplied to the tile body W is used for evaporating moisture, and a period until the moisture content of the tile body W reaches the limit moisture content is called a constant rate drying period.

【0017】次いで、恒率乾燥期間を経過すると減率乾
燥期間に入る。減率乾燥期間中では、外面から蒸発する
瓦素地Wの水分の蒸発量は外面に移動する内部の水分の
移動量に比較して多くなり、外面に移動する水分の量が
反対に少なくなるから、徐々に水膜が失われる。そし
て、瓦素地Wは水膜を失った部分からさらに温度上昇が
開始される。
Next, after the constant-rate drying period has elapsed, a reduced-rate drying period starts. During the rate-decreasing drying period, the evaporation amount of the moisture of the tile body W evaporating from the outer surface is larger than the moving amount of the internal water moving to the outer surface, and the amount of the water moving to the outer surface is reduced less. , The water film is gradually lost. Then, the temperature of the tile body W is further increased from the portion where the water film has been lost.

【0018】したがって、瓦素地Wに供給される温風に
よる熱は、水分の蒸発と瓦素地Wの加熱のために使用さ
れることになり、徐々に乾燥速度は低下することにな
る。瓦素地Wの含水率が平衡含水率に達するまでの期間
が減率乾燥期間と称されるが、含水率が平衡含水率に達
することにより瓦素地Wの乾燥が終了する。
Therefore, the heat generated by the warm air supplied to the tiled fabric W is used for evaporating the moisture and heating the tiled fabric W, and the drying speed gradually decreases. The period until the moisture content of the tile body W reaches the equilibrium moisture content is referred to as a reduced drying period. When the moisture content reaches the equilibrium moisture content, the drying of the tile fabric W ends.

【0019】ところで、従来の瓦素地Wの乾燥では、瓦
素地Wの側面は全乾燥期間を通じて温風に晒されてい
る。とりわけ、側面Sの上端Uおよび下端Dは熱の影響
を受けて水分の蒸発が他の部分に比較して発生し易く、
この予熱期間中ではこの部分が局所的に乾燥されること
が多い。
In the conventional drying of the tile W, the side surface of the tile W is exposed to warm air throughout the entire drying period. In particular, the upper end U and the lower end D of the side surface S are easily affected by heat, so that evaporation of moisture is more likely to occur than in other portions.
During this preheating period, this part is often locally dried.

【0020】したがって、前記した上端Uおよび下端D
は他の部分に比較して早く乾燥されることにより、恒率
乾燥期間において局所的に収縮が発生し特に変形あるい
は亀裂することが少なくなかった。
Therefore, the upper end U and the lower end D
Because of the faster drying of the other parts compared to the other parts, the shrinkage occurred locally during the constant-rate drying period, and the deformation or cracking often occurred.

【0021】また、恒率乾燥期間においては、乾燥の進
行とともに瓦素地Wの収縮が発生し、受具に対する瓦素
地Wの支持状態の僅かな位置ずれなどの差により瓦素地
Wの収縮は変化し、支持状態の差によっても変形や亀裂
が著しく発生することが少なくなかった。とりわけ、瓦
素地Wの側面Sは、何ら規制されることなく自由状態で
あるため、乾燥収縮による変形や亀裂がとくに発生し易
かった。
In the constant-rate drying period, shrinkage of the tile W occurs as drying proceeds, and the shrinkage of the tile W changes due to a slight displacement of the support state of the tile W with respect to the receiving member. However, the deformation and cracking often occurred remarkably due to the difference in the support state. In particular, since the side surface S of the tile body W is in a free state without any restrictions, deformation and cracks due to drying shrinkage were particularly likely to occur.

【0022】さらに、恒率乾燥期間においては、受具7
4が瓦素地Wの表面Mに接触しているため、表面Mの乾
燥を遅延させることになり、表面Mの乾燥速度は表面M
以外の部分の乾燥速度と異なった。
Further, during the constant-rate drying period, the receiver 7
4 is in contact with the surface M of the tile W, so that the drying of the surface M is delayed.
The drying speed of the other parts was different.

【0023】この場合、瓦素地Wの正面M、背面Rおよ
び両側面Sの乾燥が早く進行し、次いで裏面N、表面M
の順序で乾燥された。このような乾燥の順序によると、
瓦素地Wの乾燥収縮に伴う変形や亀裂を避けることがで
きなかった。
In this case, the drying of the front surface M, the rear surface R and both side surfaces S of the tile body W proceeds rapidly, and then the rear surface N and the front surface M
Was dried in order. According to such a drying order,
Deformation and cracks associated with drying shrinkage of the tile body W could not be avoided.

【0024】よって、瓦素地Wに変形や亀裂が生ずる結
果、不良品が発生し、瓦素地Wの乾燥によるいわゆる歩
留りが低下するという問題があった。
Therefore, as a result of the deformation or cracking of the tile body W, there is a problem that a defective product is generated and the so-called yield is reduced due to the drying of the tile body W.

【0025】そこで、これらの問題を解決するため、乾
燥炉の制御に係る乾燥条件を変更する対策が実施されて
いるが、乾燥炉の設置環境や季節の変化などの外的要因
により良好な瓦素地を得るための乾燥条件を設定するこ
とが困難であることのほか、乾燥炉内の雰囲気を均一に
保つことは乾燥炉の構造上困難であることから、瓦素地
の最適な乾燥条件に対応させて乾燥炉を正確に制御する
ことは事実上困難であった。
To solve these problems, measures have been taken to change the drying conditions related to the control of the drying oven. However, good roof tiles are required due to external factors such as the installation environment of the drying oven and seasonal changes. In addition to the difficulty in setting the drying conditions for obtaining the substrate, it is difficult to maintain a uniform atmosphere in the drying furnace due to the structure of the drying furnace. It was practically difficult to accurately control the drying oven.

【0026】また、一般的に採用されているが、瓦素地
の予熱期間と恒率乾燥期間を約10時間以上として長く
設定することにより、瓦素地Wの変形や亀裂をある程度
抑制することができるものの、生産性は大幅に低下する
ことを余儀なくされるほか、瓦素地Wの変形や亀裂の抑
制が確実ではなかった。
Although generally employed, the deformation and cracking of the tile W can be suppressed to some extent by setting the preheating period and the constant-rate drying period of the tile to be longer than about 10 hours. However, the productivity had to be greatly reduced, and the deformation and cracking of the tile body W were not surely suppressed.

【0027】その上、従来の乾燥用パレット72の受具
74は瓦素地Wの表面の形態に倣う複数の受具74を準
備する必要があるが、受具74の形状を得るために複数
の工程に係るプレス加工や受具74に空気孔70を設け
る工程を必要とするから、乾燥用パレット72の製作コ
ストの増大することのほか、複雑で精度の高い加工が要
求され、製作上の煩雑さを回避できなかった。
In addition, a plurality of the receiving members 74 of the conventional drying pallet 72 need to be prepared according to the shape of the surface of the tile W. Since the pressing process and the process of providing the air holes 70 in the receiving tool 74 are required, the manufacturing cost of the drying pallet 72 is increased, and complicated and highly accurate processing is required. Could not be avoided.

【0028】[0028]

【発明が解決しようとする課題】この発明の目的は、瓦
素地の乾燥時に発生し勝ちな変形や亀裂を抑制すること
により瓦素地の生産性の向上化を図ることや乾燥条件を
変化させる外的要因や乾燥炉の構造上の問題による影響
を受けることなく瓦素地の乾燥を行うことにある。さら
に、他の目的は、構造が簡単でしかも生産が容易な瓦素
地の乾燥用パレットを提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to improve the productivity of tiled fabric by suppressing deformation and cracks that are likely to occur during drying of tiled fabric, and to change drying conditions. The purpose of the present invention is to dry tiled tiles without being affected by environmental factors or structural problems of the drying furnace. Still another object is to provide a pallet for drying tiled tile which has a simple structure and is easy to produce.

【0029】[0029]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、請求項1に記載された瓦素地の乾燥方法の発明は、
瓦素地を水平状態で乾燥する方法において、瓦素地の両
側面の下端を受具により支持するとともに瓦素地の両側
面に温風遮蔽片を当接させることにより両側面を温風遮
蔽片を介して隠蔽し、瓦素地の側面に対して直角方向か
ら温風を供給することを特徴とするものである。
Means for Solving the Problems To achieve the above object, the invention of a method for drying tiled fabric according to claim 1 is as follows.
In the method of drying a tiled fabric in a horizontal state, the lower ends of both sides of the tiled fabric are supported by a holder and both sides of the tiled fabric are brought into contact with the warm air shielding strips through the warm air shielding strips. The hot air is supplied from a direction perpendicular to the side surface of the tile.

【0030】請求項2に記載された瓦素地の乾燥方法の
発明は、請求項1記載の発明において、瓦素地の裏面側
に温風規制片を配置させることにより、該瓦素地の裏面
側の温風の流れを温風規制片により規制しつつ乾燥させ
ることを特徴とするものである。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a method for drying a tiled fabric according to the first aspect of the present invention, wherein a hot air regulating piece is disposed on the backside of the tiled fabric to thereby reduce the temperature of the backside of the tiled fabric. It is characterized in that the hot air flow is dried while being regulated by a hot air regulating piece.

【0031】請求項3に記載された瓦素地の乾燥方法の
発明は、請求項1記載の発明において、予熱期間、恒率
乾燥期間および減率乾燥期間からなる瓦素地の全乾燥期
間のうち、予熱期間および恒率乾燥期間に限り、瓦素地
の両側面に温風遮蔽片を当接させて乾燥を行うことを特
徴とするものである。
According to a third aspect of the present invention, there is provided a method of drying a tiled fabric according to the first aspect of the present invention, wherein the tiled fabric comprises a preheating period, a constant rate drying period, and a reduced rate drying period. Only during the preheating period and the constant-rate drying period, drying is performed by bringing hot air shielding pieces into contact with both sides of the tile.

【0032】請求項4に記載された瓦素地の乾燥用パレ
ットの発明は、未乾燥の瓦素地を乾燥する乾燥用パレッ
トにおいて、瓦素地を水平状態でその両側面の下端を支
持する受具と、該瓦素地の両側の側面に当接される受具
上の一対の温風遮蔽片とからなることを特徴とするもの
である。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a drying pallet for drying undried tiles, wherein the receiving pallet supports the lower ends of both sides of the tiles in a horizontal state. And a pair of hot air shielding pieces on a receiving member which abut on both side surfaces of the tile body.

【0033】請求項5に記載された瓦素地の乾燥用パレ
ットの発明は、請求項4記載の発明において、瓦素地の
裏面側の温風の流れを規制する温風規制片が設けられて
なることを特徴とするものである。
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a pallet for drying a tiled fabric according to the fourth aspect, further comprising a hot-air regulating piece for regulating a flow of warm air on the back side of the tiled fabric. It is characterized by the following.

【0034】請求項6に記載された瓦素地の乾燥用パレ
ットの発明は、請求項5記載の発明において、温風規制
片の面積が水平状態の瓦素地における上方からの投影面
積以上であることを特徴とするものである。
According to a sixth aspect of the present invention, in the invention of the fifth aspect, in the invention of the fifth aspect, the area of the hot-air regulating piece is equal to or larger than a projected area from above of the horizontal tile. It is characterized by the following.

【0035】請求項7に記載された瓦素地の乾燥用パレ
ットの発明は、請求項5または6記載の発明において、
温風規制片の機能を備えた受具が一体に設けられてなる
ことを特徴とするものである。
According to a seventh aspect of the present invention, there is provided a pallet for drying tiled material, wherein
A receiver having the function of a hot air regulating piece is provided integrally.

【0036】[0036]

【作用効果】この発明は、上記の構成であるから、請求
項1記載の発明では、乾燥時において瓦素地の側面の下
端は受具との当接および瓦素地の自重により直線状態を
維持することになる。
According to the present invention, the lower end of the side surface of the tile is kept in a straight line during drying by contact with the receiving member and the weight of the tile. Will be.

【0037】このとき、瓦素地の側面は温風遮蔽片によ
って物理的に規制され、温風の供給が遮られているか
ら、側面から水分が蒸発することがなく、側面寄りの水
分は側面の内側に向けて移動し、瓦素地の側面以外の部
分と比較して側面の乾燥は徐々に行われる。
At this time, since the side surface of the tile body is physically regulated by the hot air shielding piece and the supply of the hot air is blocked, moisture does not evaporate from the side surface, and the moisture near the side surface is removed. It moves inward, and the drying of the side surface is performed gradually compared with the portion other than the side surface of the tile.

【0038】したがって、側面は物理的に規制された状
態を保ちつつ乾燥され、一方、側面から水分が蒸発する
ことなく乾燥されるので、瓦素地の変形や亀裂を確実に
抑制することができる。
Therefore, the side surface is dried while maintaining the physically regulated state, while the side surface is dried without evaporating the moisture, so that deformation and cracking of the tile can be surely suppressed.

【0039】また、瓦素地の側面は温風遮蔽片により隠
蔽されて温風の悪影響を受けることがないので乾燥条件
を変化させる外的要因や乾燥炉の構造上の問題による悪
影響を受けることなく瓦素地を乾燥することができる。
さらに、温風遮蔽片によって瓦素地が規制されるから、
受具に対して位置ずれを発生することなく位置決めを確
実にできる。
Further, since the side surface of the tile body is concealed by the warm air shielding piece and is not adversely affected by the warm air, it is not adversely affected by external factors that change the drying conditions and structural problems of the drying furnace. The tile can be dried.
Furthermore, since the tiles are regulated by the warm air shielding pieces,
Positioning can be reliably performed without generating a positional shift with respect to the receiving tool.

【0040】請求項2記載の発明は上記の構成であるか
ら、請求項1記載の発明の奏する作用効果のほか、温風
規制片により瓦素地の裏面側に対する温風の流れが制御
されるから、瓦素地の側面の下端の内側に対する温風の
悪影響を抑制できる。つまり、瓦素地の側面の外側は温
風遮蔽片により温風の供給が制御される一方、その内側
は前記したとおり、温風規制片により側面の下端の内側
が制御されるから、側面の下端の変形や亀裂を内側から
も抑制できる。
Since the second aspect of the present invention has the above-described structure, in addition to the effect of the first aspect of the present invention, the flow of the hot air to the back side of the tile is controlled by the hot-air regulating piece. Thus, the adverse effect of the warm air on the inside of the lower end of the side surface of the tile can be suppressed. In other words, while the supply of hot air is controlled by the warm air shielding piece on the outside of the side surface of the tile, the inside of the lower end of the side surface is controlled by the warm air regulating piece as described above. Deformation and cracks can also be suppressed from the inside.

【0041】請求項3記載の発明は上記の構成であるか
ら、請求項1記載の発明の奏する作用効果のほか、予熱
期間および恒率乾燥期間中において、請求項2記載の発
明の作用効果と同様に奏する。
According to the third aspect of the present invention, which has the above-described structure, in addition to the effects of the first aspect of the invention, the effects of the second aspect of the invention during the preheating period and the constant-rate drying period can be obtained. Play as well.

【0042】請求項4記載の発明は上記の構成であるか
ら、瓦素地の両側面の下端を受具上に当接させ、瓦素地
を水平状態で受具に支承させ、瓦素地の側面を隠蔽する
温風遮断片に瓦素地の側面を当接させた後、瓦素地の側
面と直角方向から温風を瓦素地に供給させて乾燥するこ
とができる。
According to the fourth aspect of the present invention, the lower ends of the both sides of the tile are brought into contact with the receiving member, and the tile is supported by the receiving member in a horizontal state. After the side of the tile is brought into contact with the hot-air blocking piece to be concealed, warm air can be supplied to the tile from a direction perpendicular to the side of the tile and dried.

【0043】したがって、瓦素地の側面は温風遮蔽片に
より温風の供給が遮られるから、瓦素地の側面以外の部
分と比較して乾燥を遅らせることができることのほか、
側面が自重により外側に向けて拡がろうとする作用を物
理的に規制しつつ温風遮蔽片に倣って側面の乾燥を行う
ことができる。
Therefore, since the supply of hot air is blocked by the hot air shielding pieces on the side surfaces of the tile, the drying can be delayed as compared with the portions other than the side surfaces of the tile.
The side surface can be dried following the hot air shielding piece while physically restricting the side surface from spreading outward by its own weight.

【0044】そこで、乾燥の進行とともに瓦素地の側面
以外の部分が早く乾燥されるとともに、瓦素地の側面の
水分は他の側面以外の部分に移動でき、瓦素地の側面を
温風に晒すことなく徐々に乾燥できる。
Therefore, as the drying progresses, the portion other than the side of the tile is dried quickly, and the moisture on the side of the tile can move to the portion other than the other side, and the side of the tile is exposed to warm air. It can be dried gradually without drying.

【0045】したがって、側面は物理的に規制された状
態を保ちつつ乾燥され、また側面から水分が蒸発するこ
となく乾燥するので、瓦素地の変形や亀裂を確実に抑制
できる。
Accordingly, the side surface is dried while maintaining the physically regulated state, and the side surface is dried without evaporating water, so that deformation and cracking of the tile can be reliably suppressed.

【0046】また、瓦素地の側面は温風遮蔽片により隠
蔽されて温風の悪影響を直接受けることがないので、乾
燥条件を変化させる外的要因や乾燥炉の構造上の問題に
よる悪影響を受けることなく瓦素地を乾燥することがで
きる。
Also, since the side surface of the tile is concealed by the warm air shielding piece and is not directly affected by the warm air, it is adversely affected by external factors that change the drying conditions and structural problems of the drying furnace. The tiles can be dried without the need.

【0047】この発明の乾燥用パレットは、構造が簡単
であるから、複雑で精度の高い加工を必要としないの
で、製作コストの低減化に寄与できるほか、製作工程の
短縮化を図ることができる。
The drying pallet of the present invention has a simple structure and does not require complicated and high-precision processing, so that it can contribute to reduction of the manufacturing cost and shorten the manufacturing process. .

【0048】請求項5記載の発明は上記の構成であるか
ら、請求項4記載の発明が奏する作用効果のほかに、温
風規制片により瓦素地の裏面側の温風の流れを弱く規制
することができるから、瓦素地の裏面側から側面に与え
られる温風の悪影響を抑制することができる。
The fifth aspect of the present invention has the above-described structure. Therefore, in addition to the function and effect of the fourth aspect of the present invention, the flow of warm air on the back side of the tile is weakly regulated by the warm air regulating piece. Therefore, it is possible to suppress the adverse effect of the warm air given to the side surface from the back surface side of the tile body.

【0049】請求項6記載の発明は上記の構成であるか
ら、請求項5記載の発明が奏する作用効果のほかに、温
風規制片により瓦素地の裏面側の温風の流れを一層効果
的に規制できる。
Since the invention according to claim 6 is configured as described above, in addition to the operation and effect of the invention according to claim 5, the flow of warm air on the back side of the tile substrate is further effectively reduced by the warm air regulating piece. Can be regulated.

【0050】請求項7記載の発明は上記の構成であるか
ら、請求項5または6記載の発明が奏する作用効果のほ
かに、乾燥用パレットの製作コストを一層軽減化するこ
とができ、製作工程の短縮化に一層寄与できる。
According to the seventh aspect of the present invention having the above-described structure, in addition to the effects of the fifth or sixth aspect of the invention, the manufacturing cost of the drying pallet can be further reduced, and the manufacturing process can be reduced. Can be further reduced.

【0051】[0051]

【発明の実施の形態】この発明の実施の形態を図面を参
照して説明する。この発明が対象とするのし瓦と棟瓦の
具体例を開示する。図2には2種類ののし瓦および4種
類の棟瓦が示されている。まず、のし瓦について説明す
ると、のし瓦Waは、一般的なのし瓦よりも肉厚が厚
く、側面の面積も大きいものであり、業界では「厚のし
瓦」などと称されているものである。のし瓦Wbは、一
般的なのし瓦と肉厚は同じであるものの、側面の面積を
大きくしたものであり、業界では「箱のし瓦」などと称
されているものである。
Embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. The present invention discloses concrete examples of a roof tile and a roof tile. FIG. 2 shows two types of roof tiles and four types of roof tiles. First, a description will be given of a tile roof tile. The tile tile Wa is thicker than a general tile tile and has a larger side surface area, and is called "thick tile tile" in the industry. Things. Although the roof tile Wb has the same thickness as a general roof tile, it has a larger side area, and is referred to in the industry as a "box roof tile" or the like.

【0052】次に棟瓦について説明すると、棟瓦Wcは
業界で「角桟伏間瓦」と称されているもので、一般的な
のし瓦の正面に「角桟」と称される桟が設けられた形態
を呈しているものである。
Next, the ridge roof tile Wc will be described. The ridge roof tile Wc is referred to in the industry as a "square crossing roof tile". It is in the form of having

【0053】棟瓦Wdは業界で「丸桟伏間瓦」と称され
ているもので、一般的なのし瓦の正面に「丸桟」と称さ
れる桟が設けられた形態を呈しているものである。
The ridge roof tile Wd is referred to in the industry as a "round pier roof tile" and has a form in which a pier called a "round pier" is provided in front of a general roof tile. It is.

【0054】棟瓦Weは業界で「三角冠瓦」と称されて
いるもので、断面略「く」の字状に形成された本体の正
面に断面略「く」の字状の「桟」が設けられた形態を呈
しているものである。
The roof tile We is referred to in the industry as a "triangular crown tile", and a "bar" having a substantially U-shaped cross section is provided in front of a main body formed into a substantially "K" cross-section. It is in the form provided.

【0055】棟瓦Wfは本体の中央に隆起された段差部
が設けられた形態のものである。
The roof tile Wf is of a form in which a raised step is provided at the center of the main body.

【0056】前記したようにこの発明が対象とする瓦素
地Wには、のし瓦と棟瓦があるものの、この発明がテ−
マとする点について見れば、両瓦の構成は実質上共通に
しているから、この発明の実施の形態では、のし瓦用の
瓦素地W(以下断りのない限り単に瓦素地Wという)を
代表例として挙げる(図1および図2を参照)。
As described above, tile tile W to which the present invention is applied includes a roof tile and a roof tile.
In view of the point (1), the structures of both tiles are substantially common. Therefore, in the embodiment of the present invention, the tile substrate W for the tile tile (hereinafter simply referred to as the tile substrate W unless otherwise noted) is used. These are given as typical examples (see FIGS. 1 and 2).

【0057】また、のし瓦用の瓦素地Wの構成について
は、先に説明した従来の技術の欄の記載と同一であるか
らその説明を援用し、この発明の実施の形態では説明を
省略する。
The configuration of the tile base material W for the roof tile is the same as that described in the section of the prior art described above, so the description is referred to, and the description is omitted in the embodiment of the present invention. I do.

【0058】この発明の実施の形態の瓦素地Wの乾燥方
法をその乾燥用パレット10と併せ説明する。乾燥用パ
レット10は受具20、温風遮蔽片30および温風規制
片40とから構成されている(図3を参照)。
The drying method of the tile body W according to the embodiment of the present invention will be described together with the drying pallet 10. The drying pallet 10 includes a receiving member 20, a warm air shielding piece 30, and a warm air regulating piece 40 (see FIG. 3).

【0059】図3に示される実施の形態の乾燥用パレッ
ト10の受具20は板状のものであり、受具20の上面
は瓦素地Wの側面Sの下端を水平に支持できるように水
平面として構成されている。したがって、市販品の板材
を利用できるから製作上のコストの低減化に寄与する。
また、受具20は下方において一対の支持部材21に固
定されている。
The receiving member 20 of the drying pallet 10 of the embodiment shown in FIG. 3 has a plate shape, and the upper surface of the receiving member 20 has a horizontal surface so that the lower end of the side surface S of the tile substrate W can be horizontally supported. Is configured as Therefore, a commercially available plate material can be used, which contributes to a reduction in manufacturing cost.
The receiving member 20 is fixed to the pair of support members 21 at the lower side.

【0060】そして、受具20の上面に瓦素地Wの幅に
対応する間隔を保って瓦素地Wの受具20の長さ方向に
一対の温風遮蔽片30が立起されている。この実施の形
態では、断面L字状の温風遮蔽片30が設けられている
が、受具20が金属板である場合、温風遮蔽片30を鋼
材とすることにより、単に市販品の金属板やL字状鋼材
を溶接することにより簡単に製作できる。
Then, a pair of warm air shielding pieces 30 are erected on the upper surface of the receiving device 20 in the length direction of the receiving device 20 of the tile substrate W while maintaining an interval corresponding to the width of the tile substrate W. In this embodiment, the hot-air shielding piece 30 having an L-shaped cross section is provided. However, when the receiving member 20 is a metal plate, the hot-air shielding piece 30 is made of steel, so that a commercially available metal is simply used. It can be easily manufactured by welding plates or L-shaped steel materials.

【0061】温風遮蔽片30は、瓦素地Wを乾燥用パレ
ット10の受具20上に載置させたときに、乾燥時にお
ける乾燥炉内の温風の供給を抑制するものである。
The hot air shielding piece 30 suppresses the supply of hot air in the drying furnace during drying when the tile substrate W is placed on the receiver 20 of the drying pallet 10.

【0062】したがって、受具20に瓦素地Wが支承さ
れた状態では、瓦素地Wの両側面Sの下端がそれぞれ受
具20に当接され、その結果、瓦素地Wを受具20上に
水平状態に保つことができる。
Therefore, when the tile W is supported on the receiving device 20, the lower ends of both side surfaces S of the tile W are respectively brought into contact with the receiving device 20, and as a result, the tile W is placed on the receiving device 20. It can be kept horizontal.

【0063】受具20には支承された瓦素地Wの側面S
に当接する一対の温風遮蔽片30が備えられており、両
側の温風遮蔽片30の間隔は瓦素地Wの幅に対応されて
いる。
The side surface S of the tile roof W supported on the receiving device 20
Is provided, and the interval between the hot air shielding pieces 30 on both sides corresponds to the width of the tile substrate W.

【0064】この温風遮蔽片30は瓦素地Wの側面Sを
隠蔽して温風を遮断することを主たる目的とするもので
あるが、他の目的として瓦素地Wの自重により変形を抑
制することも意図されている。
The main purpose of this hot air shielding piece 30 is to conceal the side surface S of the tile substrate W to block the hot air, but to suppress deformation due to the own weight of the tile substrate W for another purpose. It is also intended.

【0065】つまり、未乾燥の瓦素地Wは柔軟性に富ん
だ弾性体であるから、降伏値以上の力が加わることによ
り変形する性質を有する。そのため、受具20に未乾燥
の瓦素地Wを載置させたとき、瓦素地Wはその自重によ
る作用を受けて瓦素地Wの中心部は下方へ向かい、両側
面Sは外側へ拡がる現象を呈することは知られるとおり
である。
That is, since the undried roof tile W is an elastic body having a high flexibility, it has a property of being deformed when a force higher than the yield value is applied. Therefore, when the undried tile W is placed on the receiving device 20, the tile W is affected by its own weight, the center of the tile W moves downward, and the side surfaces S spread outward. It is known to present.

【0066】そこで、受具20に支持された瓦素地Wの
側面Sを温風遮蔽片30により支持することにより、瓦
素地Wの側面Sを温風遮蔽片30によって規制し、外側
へ拡がる現象が停止させて瓦素地Wの自重による変形を
抑制しようとするものである。
Then, by supporting the side surface S of the tile substrate W supported by the receiver 20 with the warm air shielding piece 30, the side surface S of the tile substrate W is regulated by the warm air shielding member 30 and spread outward. Are stopped to suppress the deformation of the tile body W due to its own weight.

【0067】この実施の形態の温風遮蔽片30は断面が
L字状であり、垂直部32が瓦素地Wの側面Sを隠蔽
し、水平部34が受具20に固定される形態である。温
風遮蔽片30の大きさは側面Sの変形や亀裂の発生を防
止することを目的としているため、瓦素地Wの側面Sの
一切を覆う大きさであることが好ましい。
The hot air shielding piece 30 of this embodiment has an L-shaped cross section, the vertical portion 32 conceals the side surface S of the tile W, and the horizontal portion 34 is fixed to the receiver 20. . Since the size of the hot-air shielding piece 30 is intended to prevent deformation and cracking of the side surface S, it is preferable that the size be such that the entire side surface S of the tile body W is covered.

【0068】受具20に載置された瓦素地Wの下方に
は、受具20と一体になった温風規制片40が設けられ
ている(図3および図4を参照)。温風規制片40は瓦
素地Wの裏面N側へ供給される温風の流れを弱く規制す
るためのもので、この実施の形態では、温風規制片40
が受具20と一体に設けられ、さらにこの温風規制片4
0の面積は瓦素地Wの上方からの投影面積に相当する面
積となっているが、好ましくはその面積以上であるとよ
い。
Below the tile body W placed on the receiver 20, a hot air regulating piece 40 integrated with the receiver 20 is provided (see FIGS. 3 and 4). The hot air regulating piece 40 is for weakly regulating the flow of the hot air supplied to the back surface N side of the tile body W. In this embodiment, the hot air regulating piece 40 is used.
Are provided integrally with the receiving member 20, and the hot air regulating piece 4
The area of 0 is an area corresponding to the projected area from above the tile body W, but is preferably larger than that area.

【0069】次にこの発明の実施の形態に係る瓦素地の
乾燥方法について説明する。未乾燥の瓦素地Wを乾燥用
パレット10の受具20上に載置させ、水平状態に保持
させる。
Next, a method for drying tiled green according to an embodiment of the present invention will be described. The undried tile ground W is placed on the receiving member 20 of the drying pallet 10 and is held in a horizontal state.

【0070】このとき、受具20に支持された瓦素地W
はその自重により瓦素地Wの両側面Sはそれぞれ外側に
向けて拡がろうとし、瓦素地Wの中心部は下方に向けて
垂れる下がろうとする現象を呈する。
At this time, the tile substrate W supported by the receiver 20
Due to its own weight, the side surfaces S of the tile body W tend to expand outward, and the central portion of the tile body W tends to hang downward.

【0071】そのため、瓦素地Wの側面Sは温風遮蔽片
30の垂直部32に対して押圧する力が作用するが、温
風遮蔽片30の垂直部32に規制されるとともに、側面
Sが変形することがなく、温風遮蔽片30により隠蔽さ
れる。また、瓦素地Wの下方に受具20と一体に設けら
れた温風規制片40が配置されていることになる。
For this reason, a pressing force acts on the side surface S of the tile substrate W against the vertical portion 32 of the warm air shielding piece 30, but the side surface S is restricted by the vertical portion 32 of the warm air shielding piece 30. It is concealed by the warm air shielding piece 30 without being deformed. Further, the warm air regulating piece 40 provided integrally with the receiving device 20 is arranged below the tile body W.

【0072】瓦素地Wを受具20に載置させるに先立
ち、瓦素地Wが温風遮蔽片30に干渉することなく受具
20上に載置させることができるようにするため、予め
瓦素地Wの湾曲状態を僅かに大きくし、瓦素地Wの両側
面Sの幅方向の間隔を温風遮蔽片30の間隔に比較し
て、僅かに短くすることが好ましい(各約5mm)。
Prior to placing the tile substrate W on the receiving device 20, in order to allow the tile substrate W to be placed on the receiving device 20 without interfering with the hot air shielding piece 30, It is preferable that the curved state of W is slightly increased, and the interval in the width direction of both side surfaces S of the tile body W is slightly shorter than the interval of the warm air shielding pieces 30 (each about 5 mm).

【0073】因みに、載置させる前の瓦素地Wを変形さ
せた後、瓦素地Wを受具20に載置させると、瓦素地W
の自重により瓦素地Wの側面Sは温風遮断片30に当接
し、変形前の状態に復元する。
By the way, after the tile substrate W before being placed is deformed, and the tile substrate W is placed on the receiving device 20, the tile substrate W
Due to its own weight, the side surface S of the tile body W comes into contact with the hot air blocking piece 30 to restore the state before deformation.

【0074】受具20に載置された瓦素地Wを乾燥炉に
送り込み、乾燥を開始する。この実施の形態では、水平
状態に保たれた瓦素地Wの正面あるいは背面から温風を
吹き付けることができる乾燥炉が採用されている。ま
た、瓦素地Wの乾燥時の温風の供給は、正面側と背面側
と交互に実施してもよい。
The tile substrate W placed on the receiver 20 is sent to a drying furnace, and drying is started. In this embodiment, a drying furnace that can blow hot air from the front or back of the tile body W that is maintained in a horizontal state is employed. In addition, the supply of the warm air at the time of drying the tile body W may be performed alternately on the front side and the back side.

【0075】予熱期間において、瓦素地Wの温度は炉内
の雰囲気を受けて常温(10〜20℃)から所定の温度
まで上昇する。このとき、瓦素地Wの外面は水膜で覆わ
れている状態にあるが、瓦素地Wの側面Sは温風遮蔽片
30によって隠蔽され、温風に晒されていない。
In the preheating period, the temperature of the tile body W rises from room temperature (10 to 20 ° C.) to a predetermined temperature in response to the atmosphere in the furnace. At this time, the outer surface of the tile body W is in a state of being covered with a water film, but the side surface S of the tile body W is concealed by the warm air shielding piece 30 and is not exposed to the warm air.

【0076】したがって、瓦素地Wの温度が上昇する予
熱期間中では、瓦素地Wの側面Sの上端部Uや下端部D
は、水分の蒸発が抑制され従来のように他の部分に比較
して局所的に乾燥されるようなことがないので、変形や
亀裂が抑制される。
Therefore, during the preheating period in which the temperature of the tile body W rises, the upper end U and the lower end D of the side surface S of the tile W
Since the water is not evaporated and the water is not locally dried as compared with other parts as in the prior art, deformation and cracks are suppressed.

【0077】また、温風規制片40により瓦素地Wの裏
面N側の温風が瓦素地Wの側面Sに与える影響も確実に
抑制され、瓦素地Wの側面Sの下端部Uが裏面N側から
の温風の影響により局所的に乾燥されることがない。
Further, the influence of the warm air on the back surface N side of the tile body W on the side surface S of the tile body W is reliably suppressed by the warm air regulating piece 40, and the lower end portion U of the side surface S of the tile body W It is not locally dried by the influence of warm air from the side.

【0078】瓦素地予熱期間を経過すると恒率乾燥期間
に入る。恒率乾燥期間においては、一定の温度に達した
瓦素地Wから水分が蒸発し、瓦素地Wの内部の水分も外
面に向けて移動する。
When the tile preheating period has elapsed, a constant-rate drying period starts. In the constant-rate drying period, the moisture evaporates from the tile W having reached a certain temperature, and the moisture inside the tile W moves toward the outer surface.

【0079】このとき、瓦素地Wの表面M、裏面N、正
面Fおよび背面Rにおいて、瓦素地Wの内部の水分移動
量は瓦素地Wの水分蒸発量に追従するから、一定の速度
で瓦素地Wの乾燥が進行し、乾燥の進行とともに水分の
蒸発に伴う瓦素地Wの乾燥収縮が徐々に始まる。
At this time, on the front surface M, the back surface N, the front surface F and the rear surface R of the tile body W, the amount of water movement inside the tile body W follows the water evaporation amount of the tile body W. Drying of the green body W proceeds, and drying shrinkage of the green body W due to evaporation of moisture gradually starts with the progress of drying.

【0080】一方、瓦素地Wの側面Sは、温風遮断片3
0により隠蔽されているので、瓦素地Wの側面Sからの
水分の蒸発はなく、側面S付近の水分は徐々に側面Sを
除く部分(表面M、裏面N、正面Fおよび背面R)に移
動する。したがって、瓦素地Wの側面S付近の乾燥速度
は、側面Sを除く部分の乾燥速度に比較して極めて遅く
なる。
On the other hand, the side surface S of the tile body W is
0, the water does not evaporate from the side surface S of the tile W, and the water near the side surface S gradually moves to portions (the front surface M, the back surface N, the front surface F, and the back surface R) excluding the side surface S. I do. Therefore, the drying speed in the vicinity of the side surface S of the tile body W is extremely slow as compared with the drying speed in a portion other than the side surface S.

【0081】ただし、この実施の形態では、瓦素地Wの
下方に配置された温風規制片40により、瓦素地Wの裏
面N側における温風の流れが弱くなるように規制され、
瓦素地Wの表面の温度の流れと比較して緩やかに制御さ
れる。
However, in this embodiment, the flow of warm air on the back surface N side of the tile body W is regulated by the warm air regulating pieces 40 arranged below the tile body W,
The temperature is controlled gently as compared with the temperature flow on the surface of the tile body W.

【0082】したがって、瓦素地Wの裏面Nは表面Mと
比較して乾燥速度はやや遅くなるとともに、瓦素地Wの
裏面N側の温風が瓦素地Wの側面Sに与える影響も抑制
される。つまり、乾燥速度は瓦素地Wの表面M、正面お
よび背面が最も速く、次いで裏面Nが速く、側面Sが最
も遅い。
Therefore, the drying speed of the back surface N of the tile body W is slightly lower than that of the front surface M, and the influence of the warm air on the back surface N side of the tile surface W on the side surface S of the tile body W is suppressed. . That is, the drying speed is the fastest on the front surface M, the front surface, and the back surface of the tile body W, then the back surface N is fastest, and the side surface S is the slowest.

【0083】このように、恒率乾燥期間において、瓦素
地Wの乾燥が進行するが、瓦素地Wの部位により乾燥速
度が異なる。
As described above, in the constant-rate drying period, the drying of the tiled fabric W proceeds, but the drying speed differs depending on the portion of the tiled fabric W.

【0084】また、乾燥による瓦素地Wの収縮も始まる
が、瓦素地Wの部位により収縮の状態も異なる。瓦素地
Wの乾燥収縮は乾燥の進行に応じて進行するから、乾燥
の収縮は瓦素地Wの表面M、正面および背面に最も速く
現れ、次いで瓦素地Wの裏面Nに、そして側面Sに最も
遅く現れる。
Further, the shrinkage of the tile body W due to drying starts, but the shrinkage state differs depending on the portion of the tile body W. Since the drying shrinkage of the tile W proceeds in accordance with the progress of drying, the shrinkage of the drying appears on the front surface M, the front surface and the back surface of the tile W, the fastest, and then on the back surface N of the tile W and on the side surface S. Appears late.

【0085】瓦素地Wの側面Sは、瓦素地Wの自重によ
り温風遮蔽片30の垂直部32に押し付けられた状態に
あり、また、乾燥の進行も最も遅いため、収縮の状態は
最も緩やかである。
The side surface S of the tile body W is pressed against the vertical portion 32 of the warm air shielding piece 30 by its own weight, and the progress of drying is slowest, so that the contraction state is the slowest. It is.

【0086】そして、瓦素地Wの側面Sを除く各部位の
乾燥と収縮が十分行われつつある状態において、瓦素地
Wの側面Sの収縮が緩やかに行われ、収縮に伴う側面S
の温風遮断片30への押し付けも徐々に緩和される。
Then, in a state where the drying and shrinkage of each part except the side surface S of the tile body W are being sufficiently performed, the side surface S of the tile body W is gradually contracted, and the side surface S caused by the shrinkage is reduced.
Pressing against the hot air blocking piece 30 is also gradually alleviated.

【0087】したがって、瓦素地Wの側面Sにおいて
は、乾燥および乾燥による収縮に伴う変形や亀裂を生ず
ることなく乾燥が進行する。
Therefore, on the side surface S of the tile body W, drying proceeds without causing deformation and cracks due to drying and shrinkage due to drying.

【0088】次に、恒率乾燥期間を経過すると減率乾燥
期間に入るが、瓦素地Wの各部位により乾燥速度が異な
るため、瓦素地Wの各部位により減率乾燥期間の開始時
間が異なる。
Next, after the constant-rate drying period has elapsed, the reduced-rate drying period starts. However, since the drying speed differs depending on each part of the tiled fabric W, the start time of the reduced-rate drying period differs depending on each part of the tiled fabric W. .

【0089】減率乾燥期間においては、瓦素地Wの水分
蒸発量が瓦素地Wの内部の水分移動量より多くなるた
め、瓦素地Wは徐々に水膜を失い、水膜を失った部分か
ら温度の上昇を開始するが、瓦素地Wの表面M、正面
F、背面Rが最も早く開始し、次いで裏面Nとなり、最
後に側面Sとなる。
During the rate-decreasing drying period, the amount of water evaporation of the tile W becomes larger than the amount of water transfer inside the tile W, so that the tile W gradually loses the water film, and the portion where the water film is lost Although the temperature starts to rise, the front surface M, the front surface F, and the back surface R of the tile body W start first, then the back surface N, and finally the side surface S.

【0090】減率乾燥期間においては、瓦素地Wに供給
させる熱は、水分蒸発量と瓦素地Wの加熱に消費される
から、徐々に瓦素地Wの乾燥速度は低下するが、乾燥速
度の低下に伴い、乾燥による瓦素地Wの収縮も収束され
る。
In the decreasing rate drying period, the heat supplied to the tiled fabric W is consumed for the amount of water evaporation and the heating of the tiled fabric W. Therefore, the drying speed of the tiled fabric W is gradually reduced. With the decrease, shrinkage of the tile body W due to drying is also converged.

【0091】そして、瓦素地Wの含水率が平衡含水率に
達すると瓦素地Wの乾燥が終了するが、乾燥後の瓦素地
Wの見掛けの体積は乾燥の収縮に伴い未乾燥の瓦素地W
の体積の96%に減少している。
When the moisture content of the tile W reaches the equilibrium moisture content, the drying of the tile W is completed. However, the apparent volume of the tile W after drying becomes smaller due to shrinkage of the drying.
To 96% of the volume.

【0092】この実施の形態に係る乾燥方法およびその
乾燥用パレット10によれば、乾燥条件の微妙な変化の
影響を瓦素地Wが受けても、瓦素地Wの乾燥による変形
や亀裂が発生することがないほか、従来と比較して乾燥
に要する時間を短縮化することができ、また受具20に
対する位置決めも確実なので、位置ずれが発生すること
がなく乾燥に係る瓦素地Wの歩留りが一層向上する。
According to the drying method and the drying pallet 10 of this embodiment, even if the tile substrate W is affected by a subtle change in the drying conditions, deformation and cracks are generated due to the drying of the tile substrate W. In addition to that, the time required for drying can be shortened as compared with the related art, and the positioning with respect to the receiving member 20 is also ensured, so that no misalignment occurs and the yield of the tiles W for drying is further improved. improves.

【0093】次に別の実施の形態の乾燥用パレットにつ
いて説明する。図5に示されるように、この実施の形態
の乾燥用パレット80は、受具82と温風遮蔽片84と
から構成されている。
Next, a drying pallet according to another embodiment will be described. As shown in FIG. 5, the drying pallet 80 of this embodiment includes a receiving member 82 and a hot air shielding piece 84.

【0094】図5に示される乾燥用パレット80の受具
82は倒立U字状のものであり、両側に瓦素地Wの幅に
対応させて一定の間隔を隔てて一対設けられている。受
具82の上面は瓦素地Wの側面Sの下端を水平に支持で
きるように水平面として構成されている。したがって、
受具82は市販品の断面コ字状の鋼材を利用でき、製作
上のコストの低減化に寄与する。
The receiving pallet 82 of the drying pallet 80 shown in FIG. 5 has an inverted U-shape, and a pair of receiving pallets is provided on both sides at a predetermined interval corresponding to the width of the tile substrate W. The upper surface of the receiving member 82 is configured as a horizontal surface so that the lower end of the side surface S of the tile substrate W can be horizontally supported. Therefore,
As the receiving member 82, a commercially available steel material having a U-shaped cross section can be used, which contributes to a reduction in manufacturing cost.

【0095】そして、一対の受具82の上面に受具82
の長さ方向に温風遮蔽片84が立起されている。この温
風遮蔽片84は先に説明した実施の形態の温風遮蔽片3
0と同じであるため説明を援用する。そして、この実施
の形態における乾燥用パレット80は、先の実施の形態
で説明した温風規制片40を備えていない。
Then, the receiving member 82 is placed on the upper surface of the pair of receiving members 82.
The warm air shielding piece 84 stands upright in the length direction. This hot air shielding piece 84 is the hot air shielding piece 3 of the above-described embodiment.
Since it is the same as 0, the description is referred to. And the drying pallet 80 in this embodiment does not include the hot air regulating piece 40 described in the previous embodiment.

【0096】したがって、先の実施の形態の乾燥用パレ
ット10よりも瓦素地Wの裏面N側からの温風の影響を
受け易いが、乾燥に要する時間を従来の乾燥に要した時
間と同じに設定する場合においては、乾燥による瓦素地
Wの変形や亀裂を抑制することができる。
Therefore, the pallet is more susceptible to the warm air from the back side N of the tile substrate W than the drying pallet 10 of the previous embodiment, but the drying time is the same as the conventional drying time. In the case of setting, it is possible to suppress deformation and cracks of the tile body W due to drying.

【0097】次にさらに別の実施の形態の乾燥用パレッ
ト50について説明する。図6に示されるように、この
実施の形態の乾燥用パレット50は、のし瓦用の瓦素地
Wと棟瓦用の瓦素地Wfの乾燥を兼用できるように構成
されている。
Next, a drying pallet 50 of still another embodiment will be described. As shown in FIG. 6, the drying pallet 50 of this embodiment is configured to be able to dry both the roof tile W for the roof tile and the roof tile Wf for the roof tile.

【0098】この乾燥用パレット50は、一対の支持部
材52上に連続板54が取り付けられているが、この連
続板54は支持部材52の間において折り曲げられてお
り、そのため両支持部材52付近に第1水平部56が設
けられ、第1水平部56の間において下方への段差とな
した第2水平部58が設けられている。
In the drying pallet 50, a continuous plate 54 is mounted on a pair of support members 52. The continuous plate 54 is bent between the support members 52. A first horizontal portion 56 is provided, and a second horizontal portion 58 is provided between the first horizontal portions 56 as a downward step.

【0099】そして、第1水平部56と第2水平部58
の間には垂設された側壁部60が形成されている。
Then, the first horizontal portion 56 and the second horizontal portion 58
A vertically extending side wall portion 60 is formed therebetween.

【0100】連続板54の第1水平部56は棟瓦用の瓦
素地Wfを支持する受具であり、第2水平部58は最初
に説明した実施の形態の瓦素地Wのための受具20と温
風規制片30に相当し、また連続板54の側壁部60は
のし瓦用の瓦素地Wの温風遮蔽片40に相当するもので
ある。
The first horizontal portion 56 of the continuous plate 54 is a support for supporting the roof tile Wf for the ridge roof tile, and the second horizontal portion 58 is the support 20 for the roof tile W of the first embodiment described above. The side wall portion 60 of the continuous plate 54 corresponds to the hot air shielding piece 40 of the tile base material W for the tile.

【0101】一方、第1水平部56に棟瓦用の瓦素地W
fのための断面L字状の温風遮蔽片62がそれぞれ取り
付けられており、先に述べた実施の形態の温風遮蔽片3
0と同じ構成であり、温風遮蔽片62の幅方向の間隔は
棟瓦用の瓦素地Wfの幅に対応している。
On the other hand, in the first horizontal portion 56,
Each of the hot-air shielding pieces 62 having an L-shaped cross section for f is attached, and the hot-air shielding piece 3 of the above-described embodiment is attached.
0, and the interval in the width direction of the warm air shielding pieces 62 corresponds to the width of the tile base material Wf for the roof tile.

【0102】また、この実施の形態における乾燥用パレ
ット50の第2水平部58の中心には補助杆64が支持
部材52と平行になるように取り付けられており、のし
瓦用の瓦素地Wの中心が過度に下降することを防止する
機能と、第2水平部58を確実に支持するための機能を
果たしている。
An auxiliary rod 64 is attached to the center of the second horizontal portion 58 of the drying pallet 50 in this embodiment so as to be parallel to the support member 52. The function of preventing the center from excessively descending and the function of reliably supporting the second horizontal portion 58 are achieved.

【0103】支持部材52および補助杆64の端部は乾
燥用パレット50を固定する枠体(図示を省略)に取り
付けられていることはいうまでもない。
It goes without saying that the ends of the support member 52 and the auxiliary rod 64 are attached to a frame (not shown) for fixing the drying pallet 50.

【0104】このように構成された乾燥用パレット50
によれば、のし瓦用の瓦素地Wを乾燥させる場合、第2
水平部58にのし瓦用の瓦素地Wを支持させて乾燥する
ことができる。
The drying pallet 50 thus constructed
According to the above, in the case of drying the tile body W for
The tile body W for the tile can be supported on the horizontal portion 58 and dried.

【0105】また、棟瓦用の瓦素地Wfを乾燥する場合
には第1水平部56に棟瓦用の瓦素地Wfを支持させて
乾燥することができる。
Further, in the case of drying the tile roof material Wf for a roof tile, the first horizontal portion 56 can support the tile roof material Wf for a roof tile to dry.

【0106】もちろん、棟瓦用の瓦素地Wfとのし瓦用
の瓦素地Wの兼用に限らず、異なる種類の棟瓦用の瓦素
地の組み合わせ、あるいは異なる種類ののし瓦用の瓦素
地の組み合わせについても適用できるものである。
Of course, it is not limited to the combination of the tile roof Wf for the ridge tile and the tile tile W for the shingle tile, but also a combination of tile tiles for different types of ridge tile or a combination of tile tiles for different types of shingle tile. Is also applicable.

【0107】[0107]

【実施例】次に本願発明の実施例について説明する。実
施例の瓦素地Wはのし瓦であり、この瓦素地Wの成形直
後の未乾燥状態における重量は3.5kg、瓦素地Wの
表面の面積は2,158cm2 、乾燥前の瓦素地Wの温
度は12℃であった。
Next, an embodiment of the present invention will be described. The tile body W of the embodiment is a tiled tile. The weight of the tile body W in an undried state immediately after molding is 3.5 kg, the surface area of the tile body W is 2,158 cm 2 , and the tile body W before drying is formed. Was 12 ° C.

【0108】実施例に採用した乾燥炉は2,000枚の
瓦素地Wを収容できる能力を備えたバッチ式のもので、
制御プログラムに基づいて温度および湿度を制御するこ
とができるものである。
The drying furnace employed in the embodiment is of a batch type having a capacity of accommodating 2,000 tiles W.
The temperature and the humidity can be controlled based on a control program.

【0109】実施例における制御プログラムの乾燥条件
は表1を参照して明らかのように以下のとおりに設定し
た。乾燥炉の運転開始時から1時間までの期間の炉内温
度を15℃から40℃に上昇させた。運転開始後の1時
間から5時間までの期間の炉内温度を40℃に保ち、相
対湿度20%に設定し、運転開始5時間から10時間ま
での期間については、炉内温度60℃、相対湿度20%
に設定し、運転開始10時間から15時間までの5時間
については、炉内温度80℃、相対湿度20%に設定し
た。
The drying conditions of the control program in the examples were set as follows, as apparent from Table 1. The temperature in the furnace during the period from the start of the operation of the drying furnace to one hour was increased from 15 ° C. to 40 ° C. During the period from 1 hour to 5 hours after the start of operation, the furnace temperature was maintained at 40 ° C. and the relative humidity was set at 20%. For the period from 5 hours to 10 hours after the start of operation, the furnace temperature was 60 ° C. Humidity 20%
The furnace temperature was set to 80 ° C. and the relative humidity was set to 20% for 5 hours from 10 hours to 15 hours after the start of operation.

【0110】[0110]

【表1】 [Table 1]

【0111】そして、未乾燥の瓦素地Wを水平状態でそ
の両側面Sの下端を受具20上に支持するとともに、温
風遮蔽片30に瓦素地Wの両側面Sを当接することによ
り、乾燥用パレット10に瓦素地Wを載置し、瓦素地W
が載置された乾燥用パレット10を乾燥炉に送り込み、
瓦素地Wの正面Mから温風を供給して瓦素地Wの乾燥を
行った。
Then, the lower ends of both sides S of the undried tile W are supported on the holder 20 in a horizontal state, and the both sides S of the tile W are brought into contact with the hot air shielding piece 30. The tile substrate W is placed on the drying pallet 10, and the tile substrate W
Is sent to the drying furnace,
Warm air was supplied from the front M of the tile substrate W to dry the tile substrate W.

【0112】乾燥開始から15時間までの瓦素地Wの温
度、含水率、重量を測定した結果、表1および図7のと
おりとなった。
The temperature, moisture content and weight of the tile W up to 15 hours from the start of drying were measured. The results are as shown in Table 1 and FIG.

【0113】表1および図7によれば、乾燥開始から
1.38時間までの期間において瓦素地Wの温度(T
h)が12℃から22℃に上昇し、1.38時間から
4.00時間まで瓦素地Wの温度は22℃に保たれ、
4.00時間以降においては瓦素地Wの温度が上昇し、
最終的に78.7℃に達し、乾燥された瓦素地Wの重量
は約2.8kgであった。
According to Table 1 and FIG. 7, during the period from the start of drying to 1.38 hours, the temperature (T
h) rises from 12 ° C to 22 ° C, the temperature of the tile W is kept at 22 ° C from 1.38 hours to 4.00 hours,
After 4.00 hours, the temperature of the tile body W rises,
Eventually, the temperature reached 78.7 ° C., and the weight of the dried tile W was about 2.8 kg.

【0114】この結果から、乾燥開始から1.38時間
までの期間を瓦素地予熱期間、1.38時間から4.0
0時間までの期間を恒率乾燥期間、4.00時間以降の
期間について減率乾燥期間することができる。乾燥開始
から4.00時間の時点では含水率が10.8%であ
り、限界含水率が約11%であるところから、減率乾燥
期間に入っている。
From these results, the period from the start of drying to 1.38 hours was assumed to be the preheating period for the tile lands, from 1.38 hours to 4.0 hours.
The period up to 0 hours can be a constant-rate drying period, and the period after 4.00 hours can be a reduced-rate drying period. At the point of 4.00 hours from the start of drying, the moisture content is 10.8%, and since the critical moisture content is about 11%, the drying is in a reduced rate drying period.

【0115】予熱期間から減率乾燥期間に至る間に含水
率は急激に減少し、減率乾燥期間において含水率の減少
は徐々に緩やかになっている。また、減率乾燥期間にお
ける乾燥開始から10.5時間の時点で瓦素地Wの含水
率は3.1%まで減少しており、実質的に瓦素地Wの乾
燥が終了していることが示されている。
The water content sharply decreases during the period from the preheating period to the reduced-rate drying period, and gradually decreases during the reduced-rate drying period. In addition, the moisture content of the tile W was reduced to 3.1% at the point of 10.5 hours from the start of drying in the reduced-rate drying period, indicating that the drying of the tile W was substantially completed. Have been.

【0116】したがって、瓦素地Wの乾燥に要した時間
は実質的に10.5時間で済み、また乾燥された全瓦素
地Wの98%について変形や亀裂は一切認められなかっ
た。
Accordingly, the time required for drying the tiles W was substantially 10.5 hours, and no deformation or cracks were observed in 98% of the total tiles W dried.

【0117】一方、従来例について説明すると、従来例
の瓦素地Wは、乾燥前の温度が13℃であるほかは実施
例の瓦素地Wと同じ条件とした。また、従来例に採用し
た乾燥炉は実施例と同じものであり、従来例における制
御プログラムの条件は表2を参照して明らかなように以
下のとおりに設定した。
On the other hand, to explain the conventional example, the same conditions as those of the example were applied to the tile body W of the conventional example except that the temperature before drying was 13 ° C. The drying furnace employed in the conventional example is the same as that of the embodiment, and the control program conditions in the conventional example were set as follows with reference to Table 2.

【0118】乾燥炉の運転開始時から1時間までの期間
の炉内温度を15℃から40℃に上昇させる。運転開始
後の1時間から5時間までの期間の炉内温度を40℃に
保ち、相対湿度80%に設定し、運転開始5時間から1
0時間までの期間については、炉内温度60℃、相対湿
度60%に設定し、運転開始10時間から16時間まで
の6時間については、炉内温度80℃、相対湿度20%
に設定するものであった。
The temperature in the furnace during the period from the start of the operation of the drying furnace to one hour is increased from 15 ° C. to 40 ° C. The furnace temperature was maintained at 40 ° C. for a period from 1 hour to 5 hours after the start of operation, the relative humidity was set to 80%, and 1 hour to 1 hour after the start of operation.
The furnace temperature was set to 60 ° C. and the relative humidity was set to 60% for the period up to 0 hours, and the furnace temperature was set to 80 ° C. and the relative humidity was set to 20% for 6 hours from 10 hours to 16 hours from the start of operation.
Was to be set.

【0119】[0119]

【表2】 [Table 2]

【0120】設定する乾燥条件が実施例の乾燥条件と異
なるが、瓦素地予熱期間および恒率乾燥期間の段階で変
形や亀裂を防止するためである。
The drying conditions to be set are different from the drying conditions of the embodiment, but this is to prevent deformation and cracks in the stage of the tile preheating period and the constant-rate drying period.

【0121】そして、未乾燥の瓦素地Wを水平状態で従
来の乾燥用パレット72(図9を参照)に支持させ、乾
燥用パレット72に瓦素地Wを載置し、瓦素地Wが載置
された乾燥用パレット72を乾燥炉に送り込み、瓦素地
Wの正面から温風を供給して瓦素地Wの乾燥を行った。
Then, the non-dried tile W is horizontally supported by a conventional drying pallet 72 (see FIG. 9), and the tile W is placed on the drying pallet 72. The dried pallet 72 was sent to a drying furnace, and hot air was supplied from the front of the tile substrate W to dry the tile substrate W.

【0122】乾燥開始から16時間までの瓦素地Wの温
度、含水率、重量を測定した結果、表2および図8のと
おりとなった。
The temperature, moisture content and weight of the tile W up to 16 hours from the start of drying were measured. The results are shown in Table 2 and FIG.

【0123】表2および図8によれば、乾燥開始から
1.75時間までの期間において瓦素地Wの温度(T
h)が13℃から36.5℃に上昇し、1.75時間か
ら5.0時間まで瓦素地Wの温度は36.5℃に保た
れ、5.0時間以降においては瓦素地Wの温度が上昇
し、最終的に75.8℃に達し、乾燥された瓦素地Wの
重量は約2.8kgであった。
According to Table 2 and FIG. 8, the temperature of the tile W (T) during the period from the start of drying to 1.75 hours
h) rises from 13 ° C. to 36.5 ° C., the temperature of the tile W is kept at 36.5 ° C. from 1.75 hours to 5.0 hours, and the temperature of the tile W after 5.0 hours And finally reached 75.8 ° C., and the weight of the dried tile body W was about 2.8 kg.

【0124】この結果から、乾燥開始から1.75時間
までの期間を予熱期間、1.75時間から10.5時間
までの期間を恒率乾燥期間、10.5時間以降の期間に
ついて減率乾燥期間とすることができる。乾燥開始から
10.5時間の時点で含水率が11.5%であり、限界
含水率が約11%であるところから、ほぼ減率乾燥期間
に入っている。
From the results, the period from the start of drying to 1.75 hours was the preheating period, the period from 1.75 hours to 10.5 hours was the constant-rate drying period, and the period from the 10.5 hours was reduced-rate drying. Period. The moisture content was 11.5% at the point of 10.5 hours from the start of drying, and the critical moisture content was about 11%.

【0125】予熱期間から減率乾燥期間に至る間に含水
率は緩やかに減少し、減率乾燥期間において含水率の減
少は幾分急激になっている。そして、瓦素地の含水率
3.1%に達したとき、実質的な乾燥の終了を示すこと
を説明したが、従来例においては減率乾燥期間における
乾燥開始から15.5時間以上の時点であることが示さ
れている。
The moisture content gradually decreases during the period from the preheating period to the reduced-rate drying period, and the decrease in the water content during the reduced-rate drying period is somewhat sharp. It has been described that when the water content of the tile body reaches 3.1%, the end of the substantial drying is indicated. However, in the conventional example, at a time point of 15.5 hours or more from the start of drying in the reduced-rate drying period. It is shown that there is.

【0126】したがって、従来例の瓦素地Wの乾燥に要
した時間は15.5時間であり、実施例の乾燥時間と比
較すると、従来例では余分に5時間以上を要することが
理解できる。また、変形や亀裂が認めらられなかった瓦
素地は乾燥された全瓦素地の90%に止まった。
Therefore, the time required for drying the tile body W of the conventional example is 15.5 hours, and it can be understood that the conventional example requires an extra 5 hours or more in comparison with the drying time of the example. The tiles without deformation or cracks accounted for only 90% of the total tiles dried.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】のし瓦の斜視図である。FIG. 1 is a perspective view of a tile.

【図2】2種類ののし瓦と4種類の棟瓦の斜視図であ
る。
FIG. 2 is a perspective view of two types of tiles and four types of roof tiles.

【図3】乾燥用パレットの実施の形態と瓦素地の乾燥方
法を示す斜視図である。
FIG. 3 is a perspective view showing an embodiment of a drying pallet and a method for drying tiled fabric.

【図4】図3の正面図である。FIG. 4 is a front view of FIG. 3;

【図5】別の乾燥用パレットの実施の形態と別の瓦素地
の乾燥方法を示す正面図である。
FIG. 5 is a front view showing an embodiment of another drying pallet and another method of drying tile tiles.

【図6】乾燥用パレットのさらに別の実施の形態とさら
に別の瓦素地の乾燥方法を示す正面図である。
FIG. 6 is a front view showing still another embodiment of the drying pallet and still another method of drying the tile substrate.

【図7】実施例における乾燥制御特性図である。FIG. 7 is a drying control characteristic diagram in the example.

【図8】従来例における乾燥制御特性図である。FIG. 8 is a diagram showing drying control characteristics in a conventional example.

【図9】従来の技術を示す斜視図である。FIG. 9 is a perspective view showing a conventional technique.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

W 瓦素地 20 受具 30 温風遮蔽片 40 温風規制片 W tile body 20 receiver 30 warm air shielding piece 40 hot air regulating piece

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 瓦素地を水平状態で乾燥する方法におい
て、 瓦素地の両側面の下端を受具により支持するとともに、 瓦素地の両側面に温風遮蔽片を当接させることにより両
側面を温風遮蔽片を介して隠蔽し、 瓦素地の側面に対して直角方向から温風を供給すること
を特徴とする瓦素地の乾燥方法。
1. A method for drying a tile body in a horizontal state, wherein lower ends of both sides of the tile body are supported by a receiving member, and both sides of the tile body are brought into contact with hot air shielding pieces to contact the both sides. A method for drying tiled fabric, comprising concealing a hot air shielding piece and supplying hot air from a direction perpendicular to a side surface of the tiled fabric.
【請求項2】 瓦素地の裏面側に温風規制片を配置させ
ることにより、該瓦素地の裏面側の温風の流れを温風規
制片により規制しつつ乾燥させることを特徴とする請求
項1記載の瓦素地の乾燥方法。
2. A hot-air regulating piece is disposed on the back side of the tile body to dry while regulating the flow of warm air on the back side of the tile body by the hot-air regulating piece. The method for drying tiled tile according to 1.
【請求項3】 予熱期間、恒率乾燥期間および減率乾燥
期間からなる瓦素地の全乾燥期間のうち、予熱乾燥期間
および恒率乾燥期間に限り、瓦素地の両側面に温風遮蔽
片を当接させて乾燥を行うことを特徴とする請求項1記
載の瓦素地の乾燥方法。
3. During the preheating period and the constant-rate drying period of the entire drying period of the tile substrate including the preheating period, the constant-rate drying period, and the reduced-rate drying period, hot-air shielding pieces are provided on both side surfaces of the tile substrate. 2. The method for drying tiled fabric according to claim 1, wherein the drying is performed by contacting.
【請求項4】 瓦素地を乾燥する乾燥用パレットにおい
て、 瓦素地を水平状態でその両側面の下端を支持する受具
と、 該瓦素地の両側の側面に当接される受具上の一対の温風
遮蔽片とからなることを特徴とする瓦素地の乾燥用パレ
ット。
4. A drying pallet for drying tiled material, comprising: a receiving device for supporting the lower end of both sides of the tiled material in a horizontal state; and a pair of receiving members abutting on both side surfaces of the tiled material. A pallet for drying tiled material, comprising a hot air shielding piece.
【請求項5】 瓦素地の裏面側の温風の流れを規制する
温風規制片が設けられてなることを特徴とする請求項4
記載の瓦素地の乾燥用パレット。
5. A hot air regulating piece for regulating a flow of warm air on the back side of the tile substrate.
A pallet for drying tiled ground as described.
【請求項6】 温風規制片の面積が水平状態の瓦素地に
おける上方からの投影面積以上であることを特徴とする
請求項5記載の瓦素地の乾燥用パレット。
6. The pallet for drying tiled fabric according to claim 5, wherein the area of the hot air regulating piece is equal to or larger than the projected area from above of the tiled fabric in a horizontal state.
【請求項7】 温風規制片の機能を備えた受具が一体に
設けられてなることを特徴とする請求項5または6記載
の瓦素地の乾燥用パレット。
7. The pallet for drying tiled fabric according to claim 5, wherein a receiving device having a function of a hot air regulating piece is provided integrally.
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