JPH1130867A - Original plate for planographic printing plate - Google Patents

Original plate for planographic printing plate

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JPH1130867A
JPH1130867A JP18697197A JP18697197A JPH1130867A JP H1130867 A JPH1130867 A JP H1130867A JP 18697197 A JP18697197 A JP 18697197A JP 18697197 A JP18697197 A JP 18697197A JP H1130867 A JPH1130867 A JP H1130867A
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JP
Japan
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group
printing plate
overcoat layer
lithographic printing
image
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JP18697197A
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Katsushi Kitatani
克司 北谷
Toshiaki Aono
俊明 青野
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Fuji Photo Film Co Ltd
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  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an original plate for a planographic printing plate capable of directly making the plate from digital data by recording with an IR laser, etc., without requiring wet development or special treatment such as rubbing after image exposure and in which the image forming property is not deteriorated even in the case of storing it under a high humidity condition over a long period of time. SOLUTION: A recording layer contg. a high molecular compd. having a functional group that generates sulfonic acid by heating in a side chain and an IR absorber and an overcoating layer contg. an inorg. laminar compd. are successively laminated on a substrate. The aspect ratio of the inorg. laminar compd. is >=20, preferably >=100, further preferably >=200 and the compd. is preferably mica such as fluorine-contg. synthetic mica.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は平版印刷版用原版に
関するものであり、特にディジタル信号に基づいて赤外
線レーザを操作することにより直接製版可能な平版印刷
版用原版に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a lithographic printing plate precursor, and more particularly to a lithographic printing plate precursor that can be directly made by operating an infrared laser based on a digital signal.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来ディジタル化された画像データーか
らリスフィルムを介さずに印刷版を直接製版する方法と
しては、電子写真法によるもの、青色又は緑色を発
光する比較的小出力のレーザで書き込める高感度フォト
ポリマーを用いる方法、銀塩又は銀塩と他のシステム
との複合系を用いる方法、ヒートモードレーザ露光に
より酸を発生させ、その酸を触媒として後加熱により熱
硬化画像を得る方法等が知られている。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a method of directly making a printing plate from digitized image data without passing through a lithographic film, an electrophotographic method or a method of writing with a relatively small output laser emitting blue or green light is available. A method using a sensitive photopolymer, a method using a silver salt or a composite system of a silver salt and another system, a method of generating an acid by heat mode laser exposure, and obtaining a thermosetting image by post-heating using the acid as a catalyst, etc. Are known.

【0003】これらの方法は印刷工程の合理化上極めて
有用ではあるが、現状では必ずしも十分満足できるもの
ではない。例えば、の電子写真法を用いるものは、帯
電、露光、現像等画像形成のプロセスが煩雑であり、装
置が複雑で大がかりなものになる。また、のフォトポ
リマーを用いるものでは、高感度な印刷版を使用するた
め、明室での取扱いが難しくなる。の銀塩を用いる方
法は、処理が煩雑になり、処理廃液中に銀が含まれる等
の欠点がある。の方法も、後加熱やその後の現像処理
が必要であり、処理が煩雑になる。
Although these methods are extremely useful in streamlining the printing process, they are not always satisfactory at present. For example, in the case of using the electrophotographic method, an image forming process such as charging, exposure, and development is complicated, and the apparatus is complicated and large. Further, in the case of using the photopolymer, since a printing plate having high sensitivity is used, it is difficult to handle in a bright room. The method using a silver salt has disadvantages such as complicated processing and silver contained in the processing waste liquid. Also requires post-heating and subsequent development processing, which complicates the processing.

【0004】また、これらの印刷版の製造には、露光工
程の後に、支持体表面の上に設けられた記録層を画像状
に除去するための湿式による現像工程や現像処理された
印刷版を水洗水で水洗したり、界面活性剤を含有するリ
ンス液、アラビアガム、澱粉誘導体を含む不感脂化液で
処理する後処理工程が含まれる。
[0004] Further, in the production of these printing plates, after the exposure process, a wet development process for removing the recording layer provided on the surface of the support in an image-like manner or a printing plate subjected to the development process is used. A post-treatment step of washing with water, or treating with a rinse solution containing a surfactant, gum arabic, or a desensitizing solution containing a starch derivative is included.

【0005】一方、近年の製版、印刷業界では製版作業
の合理化が進められており、上記のような複雑な湿式現
像処理を必要とせず、露光後にそのまま印刷に使用でき
る印刷版用原版が望まれている。
On the other hand, in the plate making and printing industries in recent years, plate making operations have been rationalized, and a printing plate precursor that does not require the complicated wet developing process as described above and can be used for printing directly after exposure is desired. ing.

【0006】また画像形成後、湿式現像処理を必要とし
ない平版印刷版用原版として、シリコーン層と、その下
層にレーザ感熱層を設けた版材がUS5,353,70
5号、US5,379,698号に開示されている。こ
れらは湿式現像は必要としないが、レーザアブレージョ
ンによるシリコーン層の除去を完結させるためのこすり
や特殊なローラーによる処理が必要となり、処理が煩雑
になる欠点を持つ。
As a lithographic printing plate precursor which does not require wet development after image formation, a plate material provided with a silicone layer and a laser heat-sensitive layer below the silicone layer is disclosed in US Pat. No. 5,353,70.
No. 5, US Pat. No. 5,379,698. Although these do not require wet development, they have the disadvantage of requiring rubbing to complete the removal of the silicone layer by laser abrasion and processing with a special roller, which makes the processing complicated.

【0007】ポリオレフィン類をスルホン化したフィル
ムを用い、熱書き込みにより、表面の親水性を変化させ
ることにより、現像処理を必要としない平版印刷版用原
版を形成することが、特開平5−77574号、特開平
4−125189号、US5,187,047号、特開
昭62−195646号に開示されている。このシステ
ムでは、熱書き込みにより、版材表面のスルホン基を脱
スルホンさせ画像形成しており、現像処理は不要になる
が、書き込み時に有害なガスを発生させる欠点を有す
る。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-77574 discloses a method for forming a lithographic printing plate precursor which does not require a developing process by using a film obtained by sulfonating polyolefins and changing the hydrophilicity of the surface by thermal writing. And JP-A-4-125189, US Pat. No. 5,187,047, and JP-A-62-195646. In this system, the sulfone group on the surface of the printing plate is desulfonated by thermal writing to form an image, and development processing is not required. However, there is a disadvantage in that harmful gas is generated during writing.

【0008】US5,102,771号、US5,22
5,316号には酸感受性基を側鎖に持つポリマーと光
酸発生剤を組み合わせた平版印刷版用原版が提示されて
おり、無現像システムが提案されている。この平版印刷
版用原版は発生する酸がカルボン酸であるために、限ら
れた親水性しか持たず、版材の耐久性や印刷画像の鮮明
さに劣る欠点を持つ。
US Pat. No. 5,102,771, US Pat. No. 5,22
No. 5,316 discloses a lithographic printing plate precursor in which a polymer having an acid-sensitive group in the side chain and a photoacid generator are combined, and a development-free system is proposed. Since the acid generated is a carboxylic acid, this lithographic printing plate precursor has only a limited hydrophilic property, and has a disadvantage that the durability of the plate material and the sharpness of a printed image are poor.

【0009】また、特開平7−186562(EP65
2,483)号公報には、熱と酸の作用によりカルボン
酸を発生させるポリマーと赤外線吸収色素とを含有する
平版印刷版用原版が開示されている。しかし、この平版
印刷版用原版を用いた平版印刷版では印刷時に汚れが生
じるという問題がある。
Further, Japanese Patent Laid-Open No. 7-186562 (EP65)
No. 2,483) discloses a lithographic printing plate precursor containing a polymer that generates a carboxylic acid by the action of heat and an acid, and an infrared absorbing dye. However, a lithographic printing plate using this lithographic printing plate precursor has a problem in that stains occur during printing.

【0010】これらの問題点を検討し、本発明者らは、
加熱によりスルホン酸を発生させる官能基を側鎖に有す
る高分子化合物と赤外線吸収剤とを含む記録層を備えた
平版印刷版によれば、ディジタル信号に基づいて直接製
版可能であり、画像露光後に湿式現像処理やこすり等の
特別の処理を必要としないことを見いだし、特願平9−
26878号として提案した。本発明は、このさらなる
改良であり、平板印刷版の実用的な問題である高湿条件
下に長期保存した場合の画像形成性の劣化を防止し、過
酷な条件下に保存された場合の保存性を向上を図るもの
である。
[0010] Considering these problems, the present inventors have obtained:
According to a lithographic printing plate having a recording layer containing a polymer compound having a functional group capable of generating sulfonic acid in a side chain upon heating and an infrared absorber, plate making can be directly performed based on a digital signal, and after image exposure. No special processing such as wet development processing or rubbing was found to be necessary.
No. 26878. The present invention is a further improvement of the present invention, and prevents the deterioration of image formability when stored for a long time under high humidity conditions, which is a practical problem of a lithographic printing plate, and preserves when stored under severe conditions. It is intended to improve the performance.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、赤外線を放射する固体レーザ又は半導体レーザを用
いて記録することにより、ディジタルデータから直接製
版可能であり、画像露光後湿式現像処理やこすり等の特
別な処理を必要とせず、且つ、高湿条件下に長期保存し
た場合でも画像形成性が劣化しない平版印刷版用原版を
提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to make a plate directly from digital data by recording using a solid-state laser or a semiconductor laser that emits infrared rays. It is an object of the present invention to provide a lithographic printing plate precursor that does not require special treatment such as rubbing and does not deteriorate in image formability even when stored for a long time under high humidity conditions.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】上記目的は、支持体上
に、加熱によりスルホン酸を発生させる官能基を側鎖に
有する高分子化合物と赤外線吸収剤とを含む記録層及び
無機質層状化合物を含有するオーバーコート層とを、順
次積層した平版印刷版用原版を用いることにより達成さ
れた。ここで、前記オーバーコート層に含有される無機
質層状化合物のアスペクト比は20以上が好ましく、さ
らに100以上が好ましく、より好ましくは、200以
上である。また、前記オーバーコート層に含有される無
機質層状化合物は、雲母であることが好ましく、膨潤性
のフッ素系合成雲母であることがさらに好ましい。
The object of the present invention is to provide a recording medium comprising a polymer having a functional group capable of generating sulfonic acid by heating in a side chain thereof and an infrared absorbing agent, and an inorganic layered compound. This was achieved by using a lithographic printing plate precursor in which an overcoat layer was sequentially laminated. Here, the aspect ratio of the inorganic layered compound contained in the overcoat layer is preferably 20 or more, more preferably 100 or more, and more preferably 200 or more. Further, the inorganic layered compound contained in the overcoat layer is preferably mica, and more preferably a swellable fluorine-based synthetic mica.

【0013】本発明において、加熱によりスルホン酸を
発生させる官能基を側鎖に有する高分子化合物を赤外線
吸収剤と組み合わせることにより、現像工程がなくても
赤外線レーザー照射により発生した熱で良好なポジ型画
像が得られ、さらに、無機質層状化合物を含有するオー
バーコート層は、赤外線レーザーの透過を阻害せず、且
つ、水分や酸素の透過を効果的に防止し得るため、画像
形成性、感度などの記録層の特性を損なうことなく、優
れた高湿条件下での保存安定性を達成することができる
ことに特徴がある。
In the present invention, by combining a high molecular compound having a functional group capable of generating sulfonic acid on heating in a side chain with an infrared absorbing agent, a good positive heat generated by irradiation with an infrared laser can be obtained without a developing step. A mold image is obtained, and the overcoat layer containing an inorganic layered compound does not inhibit the transmission of infrared laser and can effectively prevent the transmission of moisture and oxygen, so that image forming properties, sensitivity, etc. It is characterized in that excellent storage stability under high humidity conditions can be achieved without impairing the characteristics of the recording layer.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の平版印刷版用原版は、支持体上に画像記録材料
により形成された記録層と無機質層状化合物を含有する
オーバーコート層とを備えるものである。つぎに、個々
の構成について説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail.
The lithographic printing plate precursor according to the invention is provided with a recording layer formed of an image recording material on a support and an overcoat layer containing an inorganic layered compound. Next, each configuration will be described.

【0015】[オーバーコート層]本発明の平版印刷版
用原版の最上層として配置されるオーバーコート層は、
感光層を構成する化合物及び活性光線の露光により感光
層中に生じた化合物への外気からの影響を阻害するため
に設られる。このため、空気中に存在する酸素、水蒸気
やその他の低分子化合物及び感光層中に発生する低分子
化合物のいずれに対しても透過性の低いものであること
が好ましい。即ち、オーバーコート層は、感光層中で露
光の際に発生した酸をトラップするような塩基の混入を
阻害したり、感光層中で生じる反応を阻害する空気中に
存在する水、塩基、酸、酸素等の化合物の感光層への混
入を防止でき、且つ、露光後の非画像部に残存するオー
バーコート層が容易に除去し得るものであることが好ま
しい。
[Overcoat layer] The overcoat layer disposed as the uppermost layer of the lithographic printing plate precursor according to the present invention comprises:
It is provided to inhibit the influence of the outside air on the compound constituting the photosensitive layer and the compound generated in the photosensitive layer by exposure to actinic rays. For this reason, it is preferable that the material has low permeability to any of oxygen, water vapor and other low molecular compounds present in the air and low molecular compounds generated in the photosensitive layer. That is, the overcoat layer inhibits the incorporation of a base that traps an acid generated during exposure in the photosensitive layer, or prevents water, a base, and an acid present in the air that inhibit a reaction that occurs in the photosensitive layer. It is preferable that a compound such as oxygen or the like can be prevented from being mixed into the photosensitive layer, and that the overcoat layer remaining in the non-image portion after exposure can be easily removed.

【0016】先に述べたように、平版印刷版用原版に適
するオーバーコート層の特性としては、露光に用いる活
性光線、一般的には赤外レーザー光の透過を阻害せず、
ガス透過性が低いフィルム若しくは被膜を形成すること
ができ、且つ、記録層との密着性に優れるものである。
本発明者らは鋭意検討の結果、以下に述べる物性を有す
る無機質層状化合物を好適なバインダーとともに用いる
ことにより、優れた性能を示すオーバーコート層が得ら
れることを見いだした。
As described above, the characteristics of the overcoat layer suitable for a lithographic printing plate precursor include the following:
A film or a film having low gas permeability can be formed, and the adhesiveness with the recording layer is excellent.
As a result of intensive studies, the present inventors have found that an overcoat layer exhibiting excellent performance can be obtained by using an inorganic layered compound having the following physical properties together with a suitable binder.

【0017】本発明で使用する無機質の層状化合物とし
ては、一般式A(B,C)2-5 410(OH,F,
O)2 〔ただし、AはK,Na,Caの何れか、B及び
CはFeII,FeIII,Mn,Al,Mg,Vの何
れかであり、DはSi又はAlである。〕で表される天
然雲母、合成雲母等の雲母群、一般式3MgO・4Si
O・H2 Oで表されるタルク、テニオライト、モンモリ
ロナイト、サポナイト、ヘクトライト、りん酸ジルコニ
ウムなどが挙げられる。
The inorganic stratiform compound used in the present invention is represented by the general formula A (B, C) 2-5 D 4 O 10 (OH, F,
O) 2 [where A is any of K, Na and Ca, B and C are any of FeII, FeIII, Mn, Al, Mg and V, and D is Si or Al. Mica groups such as natural mica and synthetic mica represented by the general formula 3MgO.4Si
Examples include talc, teniolite, montmorillonite, saponite, hectorite, and zirconium phosphate represented by O.H 2 O.

【0018】上記雲母群においては、天然雲母としては
白雲母、ソーダ雲母、金雲母、黒雲母及び鱗雲母が挙げ
られる。また、合成雲母としては、フッ素金雲母KMg
3 (AlSi3 10)F2 、カリ四ケイ素雲母KMg
2.5 Si4 10)F2 等の非膨潤性雲母、及びNaテト
ラシリリックマイカNaMg2.5 (Si4 10)F2
Na又はLiテニオライト(Na,Li)Mg2 Li
(Si4 10)F2 、モンモリロナイト系のNa又はL
iヘクトライト(Na,Li)1/8 Mg2 /5Li
1/ 8 (Si4 10)F2 等の膨潤性雲母等が挙げられ
る。更に合成スメクタイトも有用である。
In the above mica group, natural mica includes muscovite, soda mica, phlogopite, biotite and scale mica. As synthetic mica, fluorphlogopite mica KMg
3 (AlSi 3 O 10 ) F 2 , potassium tetrasilicic mica KMg
Non-swelling mica, such as 2.5 Si 4 O 10 ) F 2 , and Natetrasilyl mica NaMg 2.5 (Si 4 O 10 ) F 2 ,
Na or Li teniolite (Na, Li) Mg 2 Li
(Si 4 O 10 ) F 2 , montmorillonite-based Na or L
i hectorite (Na, Li) 1/8 Mg 2 /5 Li
1/8 (Si 4 O 10 ) swelling mica F 2. Further, synthetic smectite is also useful.

【0019】本発明においては、上記の無機質の層状化
合物の中でも、合成の無機質の層状化合物であるフッ素
系の膨潤性雲母が特に有用である。即ち、この膨潤性合
成雲母や、モンモリロナイト、サポナイト、ヘクトライ
ト、ベントナイト等の膨潤性粘度鉱物類等は、10〜1
5Å程度の厚さの単位結晶格子層からなる積層構造を有
し、格子内金属原子置換が他の粘度鉱物より著しく大き
い。その結果、格子層は正電荷不足を生じ、それを補償
するために層間にNa+ 、Ca2+、Mg2+等の陽イオン
を吸着している。これらの層間に介在している陽イオン
は交換性陽イオンと呼ばれ、いろいろな陽イオンと交換
する。特に層間の陽イオンがLi+ 、Na+ の場合、イ
オン半径が小さいため層状結晶格子間の結合が弱く、水
により大きく膨潤する。その状態でシェアーをかけると
容易に劈開し、水中で安定したゾルを形成する。ベント
ナイト及び膨潤性合成雲母はこの傾向が強く、本発明に
おいて有用であり、特に膨潤性合成雲母が好ましく用い
られる。
In the present invention, among the above-mentioned inorganic layered compounds, fluorine-based swellable mica which is a synthetic inorganic layered compound is particularly useful. That is, the swelling synthetic mica, swelling viscosity minerals such as montmorillonite, saponite, hectorite, bentonite and the like are 10-1.
It has a laminated structure consisting of unit crystal lattice layers with a thickness of about 5 °, and the substitution of metal atoms in the lattice is significantly larger than other viscous minerals. As a result, the lattice layer has a shortage of positive charges, and cations such as Na + , Ca 2+ , and Mg 2+ are adsorbed between the layers to compensate for the shortage. The cations interposed between these layers are called exchangeable cations and exchange with various cations. In particular, when the cations between the layers are Li + and Na + , the bond between the layered crystal lattices is weak because the ionic radius is small, and the swells greatly with water. When shear is applied in this state, it is easily cleaved and forms a stable sol in water. Bentonite and swellable synthetic mica have a strong tendency and are useful in the present invention. In particular, swellable synthetic mica is preferably used.

【0020】本発明で使用する無機質層状化合物の形状
としては、拡散制御の観点からは、厚さは薄ければ薄い
ほどよく、平面サイズは塗布面の平滑性や活性光線の透
過性を阻害しない限りにおいて大きいほどよい。従っ
て、アスペクト比は20以上であり、好ましくは100
以上、特に好ましくは200以上である。なお、アスペ
クト比は粒子の長径に対する厚さの比であり、たとえ
ば、粒子の顕微鏡写真による投影図から測定することが
できる。アスペクト比が大きい程、得られる効果が大き
い。
The shape of the inorganic layered compound used in the present invention is preferably as thin as possible from the viewpoint of diffusion control, and the planar size does not impair the smoothness of the coated surface and the transmittance of actinic rays. The larger the better, the better. Therefore, the aspect ratio is 20 or more, preferably 100
The number is particularly preferably 200 or more. The aspect ratio is a ratio of the thickness to the major axis of the particle, and can be measured, for example, from a projection of a particle by a micrograph. The greater the aspect ratio, the greater the effect obtained.

【0021】本発明で使用する無機質層状化合物の粒子
径は、その平均長径が0.3〜20μm、好ましくは
0.5〜10μm、特に好ましくは1〜5μmである。
また、該粒子の平均の厚さは、0.1μm以下、好まし
くは、0.05μm以下、特に好ましくは、0.01μ
m以下である。例えば、無機質層状化合物のうち、代表
的化合物である膨潤性合成雲母のサイズは厚さが1〜5
0nm、面サイズが1〜20μm程度である。
The average particle diameter of the inorganic layered compound used in the present invention is 0.3 to 20 μm, preferably 0.5 to 10 μm, and particularly preferably 1 to 5 μm.
The average thickness of the particles is 0.1 μm or less, preferably 0.05 μm or less, particularly preferably 0.01 μm or less.
m or less. For example, among the inorganic stratiform compounds, the swellable synthetic mica which is a representative compound has a thickness of 1 to 5 mm.
0 nm, and the surface size is about 1 to 20 μm.

【0022】このようにアスペクト比が大きい無機質層
状化合物の粒子をオーバーコート層に含有させると、塗
膜強度が向上し、また、酸素や水分の透過を効果的に防
止しうるため、変形などによるオーバーコート層の劣化
を防止し、高湿条件下において長期間保存しても、湿度
の変化による平版印刷版用原版における画像形成性の低
下もなく保存安定性に優れる。
When the particles of the inorganic layered compound having a large aspect ratio are contained in the overcoat layer, the strength of the coating film is improved and the permeation of oxygen and moisture can be effectively prevented. Deterioration of the overcoat layer is prevented, and even when stored for a long time under high humidity conditions, the storage stability is excellent without a decrease in image formability of the lithographic printing plate precursor due to a change in humidity.

【0023】無機質層状化合物のオーバーコート層に含
有される量は、オーバーコート層に使用されるバインダ
ーの量に対し、重量比で5/1〜1/100であること
が好ましい。無機質の層状化合物の量が重量比較例で1
/100未満であると、無機質の層状化合物を添加する
効果がなく、5/1を越えると、塗膜にひび割れが生じ
る虞れがある。複数種の無機質層状化合物を併用した場
合でも、これらの無機質層状化合物の合計の量が上記の
重量比であることが好ましい。
The amount of the inorganic layered compound contained in the overcoat layer is preferably from 5/1 to 1/100 by weight based on the amount of the binder used in the overcoat layer. The amount of the inorganic layered compound is 1 in the weight comparative example.
If it is less than / 100, there is no effect of adding the inorganic layered compound, and if it exceeds 5/1, the coating film may be cracked. Even when a plurality of inorganic stratiform compounds are used in combination, it is preferable that the total amount of these inorganic stratiform compounds is the above-mentioned weight ratio.

【0024】本発明のオーバーコート層に用いられるバ
インダーとしては、無機質層状化合物の分散性が良好で
あり、感光層に密着する均一な被膜を形成し得るもので
あれば、特に制限はなく、水溶性ポリマー、水不溶性ポ
リマーのいずれをも適宜選択して使用することができ
る。具体的には例えば、ポリビニルアルコール、変性ポ
リビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアク
リル酸、ポリアクリルアミド、ポリ酢酸ビニルの部分鹸
化物、エチレン−ビニルアルコール共重合体、水溶性セ
ルロース誘導体、ゼラチン、デンプン誘導体、アラビア
ゴム等の水溶性ポリマーや、ポリ塩化ビニリデン、ポリ
(メタ)アクリロニトリル、ポリサルホン、ポリ塩化ビ
ニル、ポリエチレン、ポリカーボネート、ポリスチレ
ン、ポリアミド、セロハン等の水不溶性ポリマー等が挙
げられる。これらは、必要に応じて2種以上を併用して
用いることもできる。これらのうち、非画像部に残存す
るオーバーコート層の除去の容易性及び被膜形成時のハ
ンドリング性の観点から、水溶性ポリマーが好ましく、
ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリア
クリル酸等の水溶性アクリル樹脂、ゼラチン、アラビア
ゴム等が好適であり、なかでも、水を溶媒として塗布可
能であり、且つ、印刷時における湿し水により容易に除
去されるという観点から、ポリビニルアルコール、ポリ
ビニルピロリドン、ゼラチン、アラビアゴム等がさらに
好ましい。
The binder used in the overcoat layer of the present invention is not particularly limited as long as it has good dispersibility of the inorganic layered compound and can form a uniform film in close contact with the photosensitive layer. Both the water-soluble polymer and the water-insoluble polymer can be appropriately selected and used. Specifically, for example, polyvinyl alcohol, modified polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, polyacrylic acid, polyacrylamide, partially saponified polyvinyl acetate, ethylene-vinyl alcohol copolymer, water-soluble cellulose derivative, gelatin, starch derivative, Arabic Examples include water-soluble polymers such as rubber, and water-insoluble polymers such as polyvinylidene chloride, poly (meth) acrylonitrile, polysulfone, polyvinyl chloride, polyethylene, polycarbonate, polystyrene, polyamide, and cellophane. These can be used in combination of two or more as necessary. Among these, a water-soluble polymer is preferable from the viewpoint of easy removal of the overcoat layer remaining in the non-image portion and handling properties at the time of film formation,
Water-soluble acrylic resins such as polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, and polyacrylic acid, gelatin, gum arabic, and the like are preferable. Among them, water can be used as a solvent, and easily removed by fountain solution during printing. In view of the fact, polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, gelatin, gum arabic and the like are more preferable.

【0025】本発明に係るオーバーコート層に用い得る
ポリビニルアルコールは、必要な水溶性を有する実質的
量の未置換ビニルアルコール単位を含有するかぎり、一
部がエステル、エーテル、及びアセタールで置換されて
いてもよい。また、同様に一部が他の共重合成分を含有
していてもよい。ポリビニルアルコールの具体例として
は、71〜100%加水分解され、重合度が300〜2
400の範囲のものが挙げられる。具体的には、株式会
社クラレ製のPVA-105,PVA-110,PVA-117,PVA-117H,PVA-1
20,PVA-124,PVA124H,PVA-CS,PVA-CST,PVA-HC,PVA-203,P
VA-204,PVA-205,PVA-210,PVA-217,PVA-220,PVA-224,PVA
-217EE,PVA-217E,PVA-220E,PVA-224E,PVA-405,PVA-420,
PVA-613,L-8 等が挙げられる。上記の共重合体として
は、88〜100%加水分解されたポリビニルアセテー
トクロロアセテート又はプロピオネート、ポリビニルホ
ルマール及びポリビニルアセタール及びそれらの共重合
体が挙げられる。
The polyvinyl alcohol which can be used in the overcoat layer according to the present invention is partially substituted with an ester, ether or acetal as long as it contains a substantial amount of unsubstituted vinyl alcohol units having the required water solubility. You may. Further, similarly, a part thereof may contain another copolymerization component. As a specific example of polyvinyl alcohol, 71-100% is hydrolyzed and the degree of polymerization is 300-2.
400 range. Specifically, Kuraray's PVA-105, PVA-110, PVA-117, PVA-117H, PVA-1
20, PVA-124, PVA124H, PVA-CS, PVA-CST, PVA-HC, PVA-203, P
VA-204, PVA-205, PVA-210, PVA-217, PVA-220, PVA-224, PVA
-217EE, PVA-217E, PVA-220E, PVA-224E, PVA-405, PVA-420,
PVA-613, L-8 and the like. Examples of the copolymer include polyvinyl acetate chloroacetate or propionate hydrolyzed 88 to 100%, polyvinyl formal and polyvinyl acetal, and copolymers thereof.

【0026】次に、オーバーコート層に用いる無機質層
状化合物の一般的な分散方法の例について述べる。ま
ず、水100重量部に先に無機質層状化合物の好ましい
ものとして挙げた膨潤性の層状化合物を5〜10重量部
添加し、充分水になじませ、膨潤させた後、分散機にか
けて分散する。ここで用いる分散機としては、機械的に
直接力を加えて分散する各種ミル、大きな剪断力を有す
る高速攪拌型分散機、高強度の超音波エネルギーを与え
る分散機等が挙げられる。具体的には、ボールミル、サ
ンドグラインダーミル、ビスコミル、コロイドミル、ホ
モジナイザー、ティゾルバー、ポリトロン、ホモミキサ
ー、ホモブレンダー、ケディミル、ジェットアジター、
毛細管式乳化装置、液体サイレン、電磁歪式超音波発生
機、ポールマン笛を有する乳化装置等が挙げられる。上
記の方法で分散した無機質層状化合物の5〜10重量%
の分散物は高粘度あるいはゲル状であり、保存安定性は
極めて良好である。この分散物を用いてオーバーコート
層塗布液を調製する際には、水で希釈し、充分攪拌した
後、バインダー溶液と配合して調製するのが好ましい。
Next, an example of a general dispersion method of the inorganic layer compound used in the overcoat layer will be described. First, 5 to 10 parts by weight of the swellable layered compound mentioned above as a preferable inorganic layered compound is added to 100 parts by weight of water, and is sufficiently blended with water, swelled, and then dispersed by a dispersing machine. Examples of the disperser used here include various mills for dispersing by applying direct mechanical force, a high-speed stirring type disperser having a large shearing force, and a disperser for applying high-intensity ultrasonic energy. Specifically, a ball mill, a sand grinder mill, a biscomil, a colloid mill, a homogenizer, a tisolver, a polytron, a homomixer, a homoblender, a Keddy mill, a jet agitator,
Examples include a capillary emulsifier, a liquid siren, an electromagnetic strain type ultrasonic generator, and an emulsifier having a Paulman whistle. 5 to 10% by weight of the inorganic stratiform compound dispersed by the above method
Are highly viscous or gel-like, and have very good storage stability. In preparing an overcoat layer coating solution using this dispersion, it is preferable to dilute with water, stir well, and then blend with a binder solution.

【0027】このオーバーコート層塗布液には、塗布性
を向上させための界面活性剤や被膜の物性改良のための
水溶性の可塑剤などの公知の添加剤を加えることができ
る。水溶性の可塑剤としては、例えば、プロピオンアミ
ド、シクロヘキサンジオール、グリセリン、ソルビトー
ル等が挙げられる。また、水溶性の(メタ)アクリル系
ポリマーを加えることもできる。さらに、この塗布液に
は、記録層との密着性、塗布液の経時安定性を向上する
ための公知の添加剤を加えてもよい。このように調製さ
れたオーバーコート層塗布液を、支持体上に備えられた
記録層の上に塗布し、乾燥してオーバーコート層を形成
する。塗布溶剤はバインダーとの関連において適宜選択
することができるが、水溶性ポリマーを用いる場合に
は、蒸留水、精製水を用いることが好ましい。オーバー
コート層は、ブレード塗布法、エアナイフ塗布法、グラ
ビア塗布法、ロールコーティング塗布法、スプレー塗布
法、ディップ塗布法、バー塗布法等の公知の塗布方法に
より記録層上に塗布される。オーバーコート層塗布量と
しては、乾燥後の塗布量で、0.5〜10g/cm2
範囲であることが好ましく、1〜5g/cm2 の範囲で
あることがさらに好ましい。
Known additives such as a surfactant for improving coating properties and a water-soluble plasticizer for improving physical properties of the film can be added to the overcoat layer coating solution. Examples of the water-soluble plasticizer include propionamide, cyclohexanediol, glycerin, sorbitol and the like. In addition, a water-soluble (meth) acrylic polymer can be added. Further, a known additive for improving the adhesion to the recording layer and the stability over time of the coating solution may be added to the coating solution. The overcoat layer coating solution thus prepared is applied on a recording layer provided on a support, and dried to form an overcoat layer. The coating solvent can be appropriately selected in relation to the binder, but when using a water-soluble polymer, it is preferable to use distilled water or purified water. The overcoat layer is coated on the recording layer by a known coating method such as a blade coating method, an air knife coating method, a gravure coating method, a roll coating method, a spray coating method, a dip coating method, and a bar coating method. The coating amount of the overcoat layer is preferably in the range of 0.5 to 10 g / cm 2 , more preferably 1 to 5 g / cm 2 , in terms of the coating amount after drying.

【0028】記録層に含まれる画像記録材料としては、
加熱によりスルホン酸を発生させる官能基を側鎖に有す
る高分子化合物(以下、スルホン酸発生型高分子化合物
という)と赤外線吸収剤とが挙げられる。 [スルホン酸発生型高分子化合物]本発明に用いるスル
ホン酸発生型高分子化合物としては、下記一般式
(1)、(2)又は(3)で示される官能基を側鎖に有
する高分子化合物が挙げられる。
As the image recording material contained in the recording layer,
Examples include a polymer compound having a functional group capable of generating sulfonic acid on heating in a side chain (hereinafter, referred to as a sulfonic acid-generating polymer compound) and an infrared absorber. [Sulfonic acid-generating polymer compound] As the sulfonic acid-generating polymer compound used in the present invention, a polymer compound having a functional group represented by the following general formula (1), (2) or (3) in a side chain Is mentioned.

【0029】[0029]

【化1】 Embedded image

【0030】(式中、Lは一般式(1)、(2)又は
(3)で示される官能基をポリマー骨格に連結するのに
必要な多価の非金属原子から成る有機基を表し、R1
置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換
アルキル基又は環状イミド基を示し、R2 、R3 は置換
若しくは無置換のアリール基又は置換若しくは無置換ア
ルキル基を示し、R4 は置換若しくは無置換のアリール
基、置換若しくは無置換アルキル基又は−SO2 −R5
を示し、R5 は置換若しくは無置換のアリール基又は置
換若しくは無置換アルキル基を示す。)
(Wherein L represents an organic group comprising a polyvalent non-metallic atom necessary for linking the functional group represented by the general formula (1), (2) or (3) to the polymer skeleton; R 1 represents a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted alkyl group or a cyclic imide group, R 2 and R 3 represent a substituted or unsubstituted aryl group or a substituted or unsubstituted alkyl group, and R 4 represents substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted alkyl group or -SO 2 -R 5
And R 5 represents a substituted or unsubstituted aryl group or a substituted or unsubstituted alkyl group. )

【0031】これらのうち、前記一般式(1)で示され
る化合物を含有する平版印刷版用原版はUSP3,83
4,906号で知られている。本発明者は、先に述べた
ように、このような化合物が熱により分解してスルホン
酸を発生させることを見出したものであり、本発明はこ
れを赤外線吸収剤と組み合わせることにより、現像工程
がなくても赤外線レーザー照射により発生した熱で良好
なポジ型画像が得られることに特徴がある。本発明にお
ける上記一般式(1)、(2)又は(3)で示される官
能基の少なくともいずれかを有する高分子化合物につい
て更に具体的に説明する。
Among these, the lithographic printing plate precursor containing the compound represented by the general formula (1) is disclosed in US Pat.
No. 4,906. The present inventor has found that, as described above, such a compound is decomposed by heat to generate sulfonic acid, and the present invention combines this compound with an infrared absorbent to develop a developing process. It is characterized in that a good positive-type image can be obtained by the heat generated by the irradiation of the infrared laser even without the above. The polymer compound having at least one of the functional groups represented by the general formulas (1), (2) and (3) in the present invention will be described more specifically.

【0032】R1 〜R5 がアリール基若しくは置換アリ
ール基を表わすとき、アリール基には炭素環式アリール
基と複素環式(ヘテロ)アリール基が含まれる。炭素環
式アリール基としては、フェニル基、ナフチル基、アン
トラセニル基、ピレニル基等の炭素数6から19のもの
が用いられる。また、複素環式アリール基としては、ピ
リジル基、フリル基、その他ベンゼン環が縮環したキノ
リル基、ベンゾフリル基、チオキサントン基、カルバゾ
ール基等の炭素数3〜20、ヘテロ原子数1〜5を含む
ものが用いられる。R1 〜R5 がアルキル基若しくは置
換アルキル基を表わすとき、当該アルキル基としてはメ
チル基、エチル基、イソプロピル基、t−ブチル基、シ
クロヘキシル基等の直鎖状、分岐状若しくは環状の炭素
数1から25までのものが用いられる。
When R 1 to R 5 represent an aryl group or a substituted aryl group, the aryl group includes a carbocyclic aryl group and a heterocyclic (hetero) aryl group. As the carbocyclic aryl group, those having 6 to 19 carbon atoms such as a phenyl group, a naphthyl group, an anthracenyl group and a pyrenyl group are used. Examples of the heterocyclic aryl group include a pyridyl group, a furyl group, and other quinolyl groups, benzofuryl groups, thioxanthone groups, thioxanthone groups, and carbazole groups in which a benzene ring is condensed. Things are used. When R 1 to R 5 represent an alkyl group or a substituted alkyl group, examples of the alkyl group include linear, branched or cyclic carbon atoms such as methyl, ethyl, isopropyl, t-butyl, and cyclohexyl. Those from 1 to 25 are used.

【0033】R1 〜R5 が置換アリール基、置換ヘテロ
アリール基、置換アルキル基であるとき、置換基として
はメトキシ基、エトキシ基等の炭素数1〜10までのア
ルコキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロ
ゲン原子、トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基
のようなハロゲン置換されたアルキル基、メトキシカル
ボニル基、エトキシカルボニル基、t−ブチルオキシカ
ルボニル基、p−クロロフェニルオキシカルボニル基等
の炭素数2から15までのアルコキシカルボニル基若し
くはアリールオキシカルボニル基;水酸基;アセチルオ
キシ基、ベンゾイルオキシ基、p−ジフェニルアミノベ
ンゾイルオキシ基等のアシルオキシ基;t−ブチルオキ
シカルボニルオキシ基等のカルボネート基;t−ブチル
オキシカルボニルメチルオキシ基、2−ピラニルオキシ
基等のエーテル基;アミノ基、ジメチルアミノ基、ジフ
ェニルアミノ基、モルフォリノ基、アセチルアミノ基等
の置換、非置換のアミノ基;メチルチオ基、フェニルチ
オ基等のチオエーテル基;ビニル基、スチリル基等のア
ルケニル基;ニトロ基;シアノ基;ホルミル基、アセチ
ル基、ベンゾイル基等のアシル基;フェニル基、ナフチ
ル基のようなアリール基;ピリジル基のようなヘテロア
リール基等を挙げることができる。またR1〜R5 が置
換アリール基、置換ヘテロアリール基であるとき、置換
基として前述の他にもメチル基、エチル基等のアルキル
基を用いることができる。
When R 1 to R 5 are a substituted aryl group, a substituted heteroaryl group or a substituted alkyl group, examples of the substituent include an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms such as a methoxy group and an ethoxy group, a fluorine atom, and a chlorine atom. Atom, halogen atom such as bromine atom, trifluoromethyl group, halogen-substituted alkyl group such as trichloromethyl group, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, t-butyloxycarbonyl group, p-chlorophenyloxycarbonyl group, etc. An alkoxycarbonyl group or an aryloxycarbonyl group having 2 to 15 carbon atoms; a hydroxyl group; an acyloxy group such as an acetyloxy group, a benzoyloxy group, a p-diphenylaminobenzoyloxy group; a carbonate group such as a t-butyloxycarbonyloxy group; t-butyloxycarbonyl Ether groups such as tyloxy group and 2-pyranyloxy group; substituted and unsubstituted amino groups such as amino group, dimethylamino group, diphenylamino group, morpholino group and acetylamino group; thioether groups such as methylthio group and phenylthio group; vinyl An alkenyl group such as a group or styryl group; a nitro group; a cyano group; an acyl group such as a formyl group, an acetyl group or a benzoyl group; an aryl group such as a phenyl group or a naphthyl group; be able to. When R 1 to R 5 are a substituted aryl group or a substituted heteroaryl group, an alkyl group such as a methyl group or an ethyl group can be used as the substituent other than the above.

【0034】R1 が環状イミド基を表すとき、環状イミ
ドとしては、琥珀酸イミド、フタル酸イミド、シクロヘ
キサンジカルボン酸イミド、ノルボルネンジカルボン酸
イミド等の炭素原子4〜20までのものを用いることが
できる。
When R 1 represents a cyclic imide group, cyclic imides such as succinimide, phthalimide, cyclohexanedicarboxylic imide, norbornenedicarboxylic imide and the like having 4 to 20 carbon atoms can be used. .

【0035】上記のうちR1 として特に好ましいもの
は、ハロゲン、シアノ、ニトロ等の電子吸引性基で置換
されたアリール基、ハロゲン、シアノ、ニトロ等の電子
吸引性基で置換されたアルキル基、2級若しくは3級の
分岐状のアルキル基、環状アルキル基及び環状イミドで
ある。また、上記のうちR2 〜R5 として特に好ましい
ものは、ハロゲン、シアノ、ニトロ等の電子吸引性基で
置換されたアリール基、ハロゲン、シアノ、ニトロ等の
電子吸引性基で置換されたアルキル基、及び2級若しく
は3級の分岐状のアルキル基である。
Among the above, particularly preferred as R 1 are an aryl group substituted with an electron-withdrawing group such as halogen, cyano and nitro; an alkyl group substituted with an electron-withdrawing group such as halogen, cyano and nitro; They are a secondary or tertiary branched alkyl group, a cyclic alkyl group and a cyclic imide. Of the above, particularly preferred as R 2 to R 5 are an aryl group substituted with an electron-withdrawing group such as halogen, cyano and nitro, and an alkyl group substituted with an electron-withdrawing group such as halogen, cyano and nitro. And secondary or tertiary branched alkyl groups.

【0036】Lで表される非金属原子からなる多価の連
結基とは、1から60個までの炭素原子、0個から10
個までの窒素原子、0個から50個までの酸素原子、1
個から100個までの水素原子、及び0個から20個ま
での硫黄原子から成り立つものである。より具体的な連
結基としては下記の構造単位が組み合わさって構成され
るものを挙げることができる。
A polyvalent linking group consisting of a nonmetallic atom represented by L means 1 to 60 carbon atoms, 0 to 10 carbon atoms.
Up to nitrogen atoms, 0 to 50 oxygen atoms, 1
From 100 to 100 hydrogen atoms and 0 to 20 sulfur atoms. More specific linking groups include those constituted by combining the following structural units.

【0037】[0037]

【化2】 Embedded image

【0038】多価の連結基が置換基を有する場合、置換
基としてはメチル基、エチル基等の炭素数1から20ま
でのアルキル基、フェニル基、ナフチル基等の炭素数6
から16までのアリール基、水酸基、カルボキシル基、
スルホンアミド基、N−スルホニルアミド基、アセトキ
シ基のような炭素数1から6までのアシルオキシ基、メ
トキシ基、エトキシ基のような炭素数1から6までのア
ルコキシ基、塩素、臭素のようなハロゲン原子、メトキ
シカルボニル基、エトキシカルボニル基、シクロヘキシ
ルオキシカルボニル基のような炭素数2から7までのア
ルコキシカルボニル基、シアノ基、t−ブチルカーボネ
ートのような炭酸エステル基等を用いることができる。
When the polyvalent linking group has a substituent, examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms such as a methyl group and an ethyl group, and a carbon atom having 6 carbon atoms such as a phenyl group and a naphthyl group.
To 16 aryl groups, hydroxyl groups, carboxyl groups,
An acyloxy group having 1 to 6 carbon atoms such as a sulfonamide group, an N-sulfonylamide group, an acetoxy group, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms such as a methoxy group and an ethoxy group, and a halogen such as chlorine and bromine. An atom, an alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms such as a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, and a cyclohexyloxycarbonyl group, a cyano group, and a carbonate group such as t-butyl carbonate can be used.

【0039】本発明による一般式(1)〜(3)に示す
官能基を側鎖に有する高分子化合物の合成に好適に使用
されるモノマーの具体例を以下に示す。
Specific examples of the monomers suitably used for synthesizing the high molecular compound having a functional group represented by the general formula (1) to (3) in the side chain according to the present invention are shown below.

【0040】[0040]

【化3】 Embedded image

【0041】[0041]

【化4】 Embedded image

【0042】[0042]

【化5】 Embedded image

【0043】[0043]

【化6】 Embedded image

【0044】本発明では、好ましくは一般式(1)〜
(3)で表される官能基を有するモノマーの内、少なく
ともいずれか一つをラジカル重合することにより得られ
る高分子化合物を使用する。このような高分子化合物と
して、一般式(1)〜(3)で表される官能基を有する
モノマーの内一種のみを用いた単独重合体を使用しても
よいが、2種以上を用いた共重合体やこれらのモノマー
と他のモノマーとの共重合体を使用してもよい。本発明
において、さらに好適に使用される高分子化合物は、上
記モノマーと他の公知のモノマーとのラジカル重合によ
り得られる共重合体である。
In the present invention, preferably, the compounds represented by the general formulas (1) to (1)
A polymer compound obtained by radical polymerization of at least one of the monomers having a functional group represented by (3) is used. As such a polymer compound, a homopolymer using only one of the monomers having a functional group represented by the general formulas (1) to (3) may be used, but two or more kinds thereof are used. Copolymers or copolymers of these monomers with other monomers may be used. In the present invention, a polymer compound more preferably used is a copolymer obtained by radical polymerization of the above-mentioned monomer and another known monomer.

【0045】他のモノマーとしては、グリシジルメタク
リレート、N−メチロールメタクリルアミド、オメガ−
(トリメトキシシリル)プロピルメタクリレート、2−
イソシアネートエチルアクリレート等の架橋反応性を有
するモノマーが好ましい。また、共重合体に用いられる
他のモノマーとして、例えば、アクリル酸エステル類、
メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリ
ルアミド類、ビニルエステル類、スチレン類、アクリル
酸、メタクリル酸、アクリロニトリル、無水マレイン
酸、マレイン酸イミド等の公知のモノマーも挙げられ
る。
Other monomers include glycidyl methacrylate, N-methylol methacrylamide, omega-
(Trimethoxysilyl) propyl methacrylate, 2-
Monomers having crosslinking reactivity such as isocyanate ethyl acrylate are preferred. Further, as other monomers used in the copolymer, for example, acrylates,
Known monomers such as methacrylic esters, acrylamides, methacrylamides, vinyl esters, styrenes, acrylic acid, methacrylic acid, acrylonitrile, maleic anhydride, and maleic imide are also included.

【0046】アクリル酸エステル類の具体例としては、
メチルアクリレート、エチルアクリレート、(n−又は
i−)プロピルアクリレート、(n−、i−、sec−
又はt−)ブチルアクリレート、アミルアクリレート、
2−エチルヘキシルアクリレート、ドデシルアクリレー
ト、クロロエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチル
アクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、
5−ヒドロキシペンチルアクリレート、シクロヘキシル
アクリレート、アリルアクリレート、トリメチロールプ
ロパンモノアクリレート、ペンタエリスリトールモノア
クリレート、ベンジルアクリレート、メトキシベンジル
アクリレート、クロロベンジルアクリレート、ヒドロキ
シベンジルアクリレート、ヒドロキシフェネチルアクリ
レート、ジヒドロキシフェネチルアクリレート、フルフ
リルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレー
ト、フェニルアクリレート、ヒドロキシフェニルアクリ
レート、クロロフェニルアクリレート、スルファモイル
フェニルアクリレート、2−(ヒドロキシフェニルカル
ボニルオキシ)エチルアクリレート等が挙げられる。
Specific examples of acrylic esters include:
Methyl acrylate, ethyl acrylate, (n- or i-) propyl acrylate, (n-, i-, sec-
Or t-) butyl acrylate, amyl acrylate,
2-ethylhexyl acrylate, dodecyl acrylate, chloroethyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate,
5-hydroxypentyl acrylate, cyclohexyl acrylate, allyl acrylate, trimethylolpropane monoacrylate, pentaerythritol monoacrylate, benzyl acrylate, methoxybenzyl acrylate, chlorobenzyl acrylate, hydroxybenzyl acrylate, hydroxyphenethyl acrylate, dihydroxyphenethyl acrylate, furfuryl acrylate, Examples thereof include tetrahydrofurfuryl acrylate, phenyl acrylate, hydroxyphenyl acrylate, chlorophenyl acrylate, sulfamoylphenyl acrylate, and 2- (hydroxyphenylcarbonyloxy) ethyl acrylate.

【0047】メタクリル酸エステル類の具体例として
は、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、
(n−又はi−)プロピルメタクリレート、(n−、i
−、sec−又はt−)ブチルメタクリレート、アミル
メタクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレート、
ドデシルメタクリレート、クロロエチルメタクリレー
ト、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロ
キシプロピルメタクリレート、5−ヒドロキシペンチル
メタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、アリ
ルメタクリレート、トリメチロールプロパンモノメタク
リレート、ペンタエリスリトールモノメタクリレート、
グリシジルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、
メトキシベンジルメタクリレート、クロロベンジルメタ
クリレート、ヒドロキシベンジルメタクリレート、ヒド
ロキシフェネチルメタクリレート、ジヒドロキシフェネ
チルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、テト
ラヒドロフルフリルメタクリレート、フェニルメタクリ
レート、ヒドロキシフェニルメタクリレート、クロロフ
ェニルメタクリレート、スルファモイルフェニルメタク
リレート、2−(ヒドロキシフェニルカルボニルオキ
シ)エチルメタクリレート等が挙げられる。
Specific examples of the methacrylates include methyl methacrylate, ethyl methacrylate,
(N- or i-) propyl methacrylate, (n-, i
-, Sec- or t-) butyl methacrylate, amyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate,
Dodecyl methacrylate, chloroethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 5-hydroxypentyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, allyl methacrylate, trimethylolpropane monomethacrylate, pentaerythritol monomethacrylate,
Glycidyl methacrylate, benzyl methacrylate,
Methoxybenzyl methacrylate, chlorobenzyl methacrylate, hydroxybenzyl methacrylate, hydroxyphenethyl methacrylate, dihydroxyphenethyl methacrylate, furfuryl methacrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate, phenyl methacrylate, hydroxyphenyl methacrylate, chlorophenyl methacrylate, sulfamoylphenyl methacrylate, 2- (hydroxyphenyl Carbonyloxy) ethyl methacrylate and the like.

【0048】アクリルアミド類の具体例としては、アク
リルアミド、N−メチルアクリルアミド、N−エチルア
クリルアミド、N−プロピルアクリルアミド、N−ブチ
ルアクリルアミド、N−ベンジルアクリルアミド、N−
ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−フェニルアクリ
ルアミド、N−トリルアクリルアミド、N−(ヒドロキ
シフェニル)アクリルアミド、N−(スルファモイルフ
ェニル)アクリルアミド、N−(フェニルスルホニル)
アクリルアミド、N−(トリルスルホニル)アクリルア
ミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、N−メチル−
N−フェニルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチル−
N−メチルアクリルアミド等が挙げられる。
Specific examples of acrylamides include acrylamide, N-methylacrylamide, N-ethylacrylamide, N-propylacrylamide, N-butylacrylamide, N-benzylacrylamide, and N-benzylacrylamide.
Hydroxyethylacrylamide, N-phenylacrylamide, N-tolylacrylamide, N- (hydroxyphenyl) acrylamide, N- (sulfamoylphenyl) acrylamide, N- (phenylsulfonyl)
Acrylamide, N- (tolylsulfonyl) acrylamide, N, N-dimethylacrylamide, N-methyl-
N-phenylacrylamide, N-hydroxyethyl-
N-methylacrylamide and the like can be mentioned.

【0049】メタクリルアミド類の具体例としては、メ
タクリルアミド、N−メチルメタクリルアミド、N−エ
チルメタクリルアミド、N−プロピルメタクリルアミ
ド、N−ブチルメタクリルアミド、N−ベンジルメタク
リルアミド、N−ヒドロキシエチルメタクリルアミド、
N−フェニルメタクリルアミド、N−トリルメタクリル
アミド、N−(ヒドロキシフェニル)メタクリルアミ
ド、N−(スルファモイルフェニル)メタクリルアミ
ド、N−(フェニルスルホニル)メタクリルアミド、N
−(トリルスルホニル)メタクリルアミド、N,N−ジ
メチルメタクリルアミド、N−メチル−N−フェニルメ
タクリルアミド、N−ヒドロキシエチル−N−メチルメ
タクリルアミド等が挙げられる。
Specific examples of methacrylamides include methacrylamide, N-methyl methacrylamide, N-ethyl methacrylamide, N-propyl methacrylamide, N-butyl methacrylamide, N-benzyl methacrylamide, N-hydroxyethyl methacryl Amide,
N-phenylmethacrylamide, N-tolylmethacrylamide, N- (hydroxyphenyl) methacrylamide, N- (sulfamoylphenyl) methacrylamide, N- (phenylsulfonyl) methacrylamide, N
-(Tolylsulfonyl) methacrylamide, N, N-dimethylmethacrylamide, N-methyl-N-phenylmethacrylamide, N-hydroxyethyl-N-methylmethacrylamide and the like.

【0050】ビニルエステル類の具体例としては、ビニ
ルアセテート、ビニルブチレート、ビニルベンゾエート
等が挙げられる。
Specific examples of vinyl esters include vinyl acetate, vinyl butyrate, vinyl benzoate and the like.

【0051】スチレン類の具体例としては、スチレン、
メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレ
ン、エチルスチレン、プロピルスチレン、シクロヘキシ
ルスチレン、クロロメチルスチレン、トリフルオロメチ
ルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシメチ
ルスチレン、メトキシスチレン、ジメトキシスチレン、
クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、
ヨードスチレン、フルオロスチレン、カルボキシスチレ
ン等が挙げられる。
Specific examples of styrenes include styrene,
Methylstyrene, dimethylstyrene, trimethylstyrene, ethylstyrene, propylstyrene, cyclohexylstyrene, chloromethylstyrene, trifluoromethylstyrene, ethoxymethylstyrene, acetoxymethylstyrene, methoxystyrene, dimethoxystyrene,
Chlorostyrene, dichlorostyrene, bromostyrene,
Examples thereof include iodostyrene, fluorostyrene, carboxystyrene and the like.

【0052】これらの他のモノマーのうち特に好適に使
用されるのは、C20以下のアクリル酸エステル類、メ
タクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリル
アミド類、ビニルエステル類、スチレン類、アクリル
酸、メタクリル酸、及びアクリロニトリルである。共重
合体の合成に使用される一般式(1)〜(3)で表され
る官能基を含むモノマーの割合は、5〜99重量%であ
ることが好ましく、さらに好ましくは10〜95重量%
である。
Of these other monomers, particularly preferably used are acrylic esters, methacrylic esters, acrylamides, methacrylamides, vinyl esters, styrenes, acrylic acid, methacrylic acid esters of C20 or less. Acid and acrylonitrile. The proportion of the monomer having a functional group represented by any of the general formulas (1) to (3) used in the synthesis of the copolymer is preferably from 5 to 99% by weight, more preferably from 10 to 95% by weight.
It is.

【0053】以下に、一般式(1)〜(3)に示す官能
基を側鎖に有する高分子化合物の具体例を示す。
Hereinafter, specific examples of the high molecular compound having the functional groups represented by the general formulas (1) to (3) in the side chain are shown.

【0054】[0054]

【化7】 Embedded image

【0055】[0055]

【化8】 Embedded image

【0056】[0056]

【化9】 Embedded image

【0057】[0057]

【化10】 Embedded image

【0058】式中の数字は高分子化合物のモル組成を表
す。
The numbers in the formula represent the molar composition of the polymer compound.

【0059】また、本発明で使用される一般式(1)〜
(3)で表される官能基の少なくともいずれか一つを有
する高分子化合物の重量平均分子量は好ましくは200
0以上であり、更に好ましくは5000〜30万の範囲
であり、数平均分子量は好ましくは800以上であり、
更に好ましくは1000〜25万の範囲である。多分散
度(重量平均分子量/数平均分子量)は1以上が好まし
く、更に好ましくは1.1〜10の範囲である。これら
の高分子化合物は、ランダムポリマー、ブロックポリマ
ー、グラフトポリマー等いずれでもよいが、ランダムポ
リマーであることが好ましい。
Further, the compounds represented by the general formulas (1) to (1) used in the present invention:
The weight average molecular weight of the polymer compound having at least one of the functional groups represented by (3) is preferably 200
0 or more, more preferably in the range of 5000 to 300,000, the number average molecular weight is preferably 800 or more,
More preferably, it is in the range of 1,000 to 250,000. The polydispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) is preferably 1 or more, more preferably in the range of 1.1 to 10. These polymer compounds may be any of a random polymer, a block polymer, a graft polymer and the like, but are preferably a random polymer.

【0060】本発明で使用されるスルホン酸発生型高分
子化合物を合成する際に用いられる溶媒としては、例え
ば、テトラヒドロフラン、エチレンジクロリド、シクロ
ヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトン、メタノー
ル、エタノール、エチレングリコールモノメチルエーテ
ル、エチレングリコールモノエチルエーテル、2−メト
キシエチルアセテート、ジエチレングリコールジメチル
エーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、1−メト
キシ−2−プロピルアセテート、N,N−ジメチルホル
ムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、トルエン、
酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、ジメチルスルホ
キシド、水等が挙げられる。これらの溶媒は単独で又は
2種以上混合して用いられる。本発明で使用されるスル
ホン酸発生型高分子化合物を合成する際に用いられるラ
ジカル重合開始剤としては、アゾ系開始剤、過酸化物開
始剤等公知の化合物が使用できる。
Examples of the solvent used for synthesizing the sulfonic acid-generating polymer compound used in the present invention include, for example, tetrahydrofuran, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, acetone, methanol, ethanol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol Glycol monoethyl ether, 2-methoxyethyl acetate, diethylene glycol dimethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 1-methoxy-2-propyl acetate, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, toluene,
Examples include ethyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate, dimethyl sulfoxide, water and the like. These solvents are used alone or in combination of two or more. As the radical polymerization initiator used when synthesizing the sulfonic acid generating polymer compound used in the present invention, known compounds such as an azo initiator and a peroxide initiator can be used.

【0061】本発明で使用されるスルホン酸発生型高分
子化合物は単独で用いても混合して用いてもよい。これ
らスルホン酸発生型高分子化合物は、画像記録材料全固
形分の50〜90重量%、好ましくは70〜90重量%
の割合で使用することができる。添加量が50重量%未
満の場合は、印刷画像が不鮮明になる。また添加量が9
0重量%を越える場合は、レーザ露光による画像形成が
十分できなくなる。
The sulfonic acid-generating polymer compound used in the present invention may be used alone or as a mixture. These sulfonic acid-generating polymer compounds are used in an amount of 50 to 90% by weight, preferably 70 to 90% by weight based on the total solids of the image recording material.
Can be used in proportions. If the amount is less than 50% by weight, the printed image becomes unclear. When the amount of addition is 9
If the amount exceeds 0% by weight, image formation by laser exposure cannot be sufficiently performed.

【0062】[赤外線吸収剤]本発明において使用され
る赤外線吸収剤は、波長760nmから1200nmの
赤外線を有効に吸収する染料又は顔料である。好ましく
は、波長760nmから1200nmに吸収極大を有す
る染料又は顔料である。染料としては、市販の染料及び
文献(例えば、「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭
和45年刊)に記載されている公知のものが利用でき
る。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾ
ロンアゾ染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染
料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染
料、シアニン染料、金属チオレート錯体等の染料が挙げ
られる。好ましい染料としては、例えば、特開昭58−
125246号、特開昭59−84356号、特開昭5
9−202829号、特開昭60−78787号等に記
載されているシアニン染料、特開昭58−173696
号、特開昭58−181690号、特開昭58−194
595号等に記載されているメチン染料、特開昭58−
112793号、特開昭58−224793号、特開昭
59−48187号、特開昭59−73996号、特開
昭60−52940号、特開昭60−63744号等に
記載されているナフトキノン染料、特開昭58−112
792号等に記載されているスクワリリウム色素、英国
特許434,875号記載のシアニン染料等を挙げるこ
とができる。
[Infrared absorber] The infrared absorber used in the present invention is a dye or pigment that effectively absorbs infrared rays having a wavelength of 760 nm to 1200 nm. Preferably, the dye or the pigment has an absorption maximum at a wavelength of 760 nm to 1200 nm. As the dye, commercially available dyes and known dyes described in literatures (for example, "Dye Handbook" edited by The Society of Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specific examples include azo dyes, metal complex salt azo dyes, pyrazolone azo dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinone imine dyes, methine dyes, cyanine dyes, and dyes such as metal thiolate complexes. Preferred dyes include, for example, those described in
125246, JP-A-59-84356, JP-A-5-84356
Cyanine dyes described in JP-A-9-202829 and JP-A-60-78787;
JP-A-58-181690, JP-A-58-194
No. 595, etc .;
Naphthoquinone dyes described in JP-A-112793, JP-A-58-224793, JP-A-59-48187, JP-A-59-73996, JP-A-60-52940, JP-A-60-63744, etc. JP-A-58-112
792 and the cyanine dyes described in British Patent No. 434,875, and the like.

【0063】また、米国特許第5,156,938号記
載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特
許第3,881,924号記載の置換アリールベンゾ
(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−142645号
(米国特許第4,327,169号)記載のトリメチン
チアピリリウム塩、特開昭58−181051号、同5
8−220143号、同59−41363号、同59−
84248号、同59−84249号、同59−146
063号、同59−146061号に記載されているピ
リリウム系化合物、特開昭59−216146号記載の
シアニン色素、米国特許第4,283,475号に記載
のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−135
14号、同5−19702号公報に開示されているピリ
リウム化合物も好ましく用いられる。また、好ましい別
の染料の例として、米国特許第4,756,993号明
細書中に式(I)、(II)として記載されている近赤外
吸収染料を挙げることができる。市販の染料の例として
は、日本感光色素社製 NK2014、NK3555、
NKX114、NK2545、NK3508、NK35
09等、三井東圧染料社製 SIR128、SIR13
0、SIR132、SIR103、SIR152、KI
R103等、日本化薬社製 IRG022、IRG00
2、IRG003等、Glendal社製 Cyaso
rb IR99等、Epoline社製Epoligh
tIV62B、EpolightIII 178、Epoli
ghtIII 125、EpolightIII 130、Ep
olightV72、EpolightV99、Epo
lightIII 117、EpolightIII 189、
EpolightIII 57、EpolightIV62
A、EpolightIV101、EpolightIII
184、EpolightIII 192、Epoligh
tIV67、EpolightV63等が挙げられる。こ
れらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン
色素、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチ
オレート錯体が挙げられる。
The near-infrared absorption sensitizer described in US Pat. No. 5,156,938 is also preferably used, and the substituted arylbenzo (thio) pyrylium salt described in US Pat. No. 3,881,924 is also preferable. JP-A-57-142645 (U.S. Pat. No. 4,327,169) describes a trimethinethiapyrylium salt described in JP-A-58-181051, and JP-A-58-181051, and JP-A-58-181051.
Nos. 8-220143, 59-41363 and 59-
No. 84248, No. 59-84249, No. 59-146
Nos. 063 and 59-146061; cyanine dyes described in JP-A-59-216146; pentamethine thiopyrylium salts described in U.S. Pat. No. 4,283,475; Fairness 5-135
Nos. 14 and 5-19702 are also preferably used. Further, as another preferable example of the dye, a near-infrared absorbing dye described as formulas (I) and (II) in U.S. Pat. No. 4,756,993 can be exemplified. Examples of commercially available dyes include NK2014 and NK3555 manufactured by Nippon Kogaku Dye Co., Ltd.
NKX114, NK2545, NK3508, NK35
09, SIR128, SIR13 manufactured by Mitsui Toatsu Dye Co., Ltd.
0, SIR132, SIR103, SIR152, KI
R103, IRG022, IRG00 manufactured by Nippon Kayaku
2. Cyso by Glendal, such as IRG003
eb IR99, etc., Epollight manufactured by Epoline
tIV62B, EpollightIII 178, Epoli
ghtIII 125, EpollightIII 130, Ep
lightV72, ElightV99, Epo
lightIII 117, EpollightIII 189,
EpolightIII 57, EpolightIV62
A, Epollight IV101, Epollight III
184, Epollight III 192, Epollight
tIV67, EpollightV63 and the like. Among these dyes, particularly preferred are cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, and nickel thiolate complexes.

【0064】本発明において使用される顔料としては、
市販の顔料及びカラーインデックス(C.I.)便覧、
「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年
刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年
刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)
に記載されている顔料が利用できる。顔料の種類として
は、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、
赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、
金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられる。
具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合ア
ゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、ア
ントラキノン系顔料、ペリレン及びペリノン系顔料、チ
オインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン
系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔
料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニ
トロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブ
ラック等が使用できる。これらの顔料のうち好ましいも
のはカーボンブラックである。
The pigment used in the present invention includes
Commercial Pigment and Color Index (CI) Handbook,
"Latest Pigment Handbook" (edited by Japan Pigment Technical Association, 1977), "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 1986), "Printing Ink Technology" CMC Publishing, 1984)
Can be used. The types of pigments include black pigment, yellow pigment, orange pigment, brown pigment,
Red pigment, purple pigment, blue pigment, green pigment, fluorescent pigment,
Metal powder pigments and other polymer-bound dyes can be used.
Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelated azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments And quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black and the like. Preferred among these pigments is carbon black.

【0065】これら顔料は表面処理をせずに用いてもよ
く、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法に
は樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤を
付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカップリ
ング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等)を顔
料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面処
理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、「印
刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)及び「最
新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載
されている。
These pigments may be used without being subjected to a surface treatment, or may be used after being subjected to a surface treatment. Examples of the surface treatment include a method of surface-coating a resin or wax, a method of attaching a surfactant, and a method of bonding a reactive substance (for example, a silane coupling agent, an epoxy compound, or a polyisocyanate) to the pigment surface. Conceivable. The above surface treatment methods are described in “Properties and Applications of Metallic Soap” (Koshobo), “Printing Ink Technology” (CMC Publishing, 1984) and “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986). I have.

【0066】顔料の粒径は0.01μm〜10μmの範
囲にあることが好ましく、0.05μm〜1μmの範囲
にあることがさらに好ましく、0.1μm〜1μmの範
囲にあることが特に好ましい。顔料の粒径が0.01μ
m未満のときは分散物の感光層塗布液中での安定性の点
で好ましくなく、また、10μmを越えると画像記録層
の均一性の点で好ましくない。顔料を分散する方法とし
ては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分
散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、
サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミ
ル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、KDミ
ル、コロイドミル、ダイナトロン、3本ロールミル、加
圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技
術」(CMC出版、1986年刊)に記載がある。
The particle size of the pigment is preferably in the range of 0.01 μm to 10 μm, more preferably in the range of 0.05 μm to 1 μm, and particularly preferably in the range of 0.1 μm to 1 μm. Pigment particle size 0.01μ
When it is less than m, the dispersion is not preferred in terms of stability in the coating solution for the photosensitive layer, and when it exceeds 10 μm, it is not preferred in terms of uniformity of the image recording layer. As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in the production of ink or toner can be used. As the disperser, an ultrasonic disperser,
Sand mills, attritors, pearl mills, super mills, ball mills, impellers, dispersers, KD mills, colloid mills, dynatrons, three-roll mills, pressure kneaders and the like can be mentioned. Details are described in "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 1986).

【0067】これらの染料又は顔料は、画像記録材料全
固形分の0.01〜50重量%、好ましくは0.1〜1
0重量%、染料の場合特に好ましくは0.5〜10重量
%、顔料の場合特に好ましくは3.1〜10重量%の割
合で使用することができる。顔料又は染料の添加量が
0.01重量%未満であると感度が低くなり、また50
重量%を越えると印刷時非画像部に汚れが発生する。
These dyes or pigments are used in an amount of 0.01 to 50% by weight, preferably 0.1 to 1% by weight of the total solids of the image recording material.
0% by weight, particularly preferably 0.5 to 10% by weight for dyes, and particularly preferably 3.1 to 10% by weight for pigments. If the amount of the pigment or dye added is less than 0.01% by weight, the sensitivity becomes low,
If the amount exceeds the weight percentage, stains occur in the non-image area during printing.

【0068】[その他の成分]本発明では、上述の2つ
の成分が必須であるが、必要に応じてこれら以外に種々
の化合物を添加してもよい。例えば、可視光域に大きな
吸収を持つ染料を画像の着色剤として使用することがで
きる。具体的には、オイルイエロー#101、オイルイ
エロー#103、オイルピンク#312、オイルグリー
ンBG、オイルブルーBOS、オイルブルー#603、
オイルブラックBY、オイルブラックBS、オイルブラ
ックT−505(以上、オリエント化学工業(株)
製)、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレッ
ト(CI42555)、メチルバイオレット(CI42
535)、エチルバイオレット、ローダミンB(CI1
45170B)、マラカイトグリーン(CI4200
0)、メチレンブルー(CI52015)等及び特開昭
62−293247号公報に記載されている染料を挙げ
ることができる。これらの染料は、レーザ露光後退色
し、画像部と非画像部の区別がつきやすいので、添加す
る方が好ましい。尚、添加量は、画像記録材料全固形分
の0.01〜10重量%である。
[Other Components] In the present invention, the above two components are indispensable, but various compounds other than these may be added as necessary. For example, a dye having a large absorption in the visible light region can be used as a colorant for an image. Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 103, Oil Pink # 312, Oil Green BG, Oil Blue BOS, Oil Blue # 603,
Oil Black BY, Oil Black BS, Oil Black T-505 (or more, Orient Chemical Industries, Ltd.)
Manufactured), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI42555), Methyl Violet (CI42
535), ethyl violet, rhodamine B (CI1
45170B), malachite green (CI4200
0), methylene blue (CI52015) and the dyes described in JP-A-62-293247. It is preferable to add these dyes because they fade after laser exposure and the image area and the non-image area are easily distinguished. The amount of addition is 0.01 to 10% by weight of the total solids of the image recording material.

【0069】また、本発明における記録層には、印刷条
件に対する安定性を広げるため、特開昭62−2517
40号公報や特開平3−208514号公報に記載され
ているような非イオン界面活性剤、特開昭59−121
044号公報、特開平4−13149号公報に記載され
ているような両性界面活性剤を添加することができる。
非イオン界面活性剤の具体例としては、ソルビタントリ
ステアレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタ
ントリオレート、ステアリン酸モノグリセリド、ポリオ
キシエチレンノニルフェニルエーテル等が挙げられる。
両性界面活性剤の具体例としては、アルキルジ(アミノ
エチル)グリシン、アルキルポリアミノエチルグリシン
塩酸塩、2−アルキル−N−カルボキシエチル−N−ヒ
ドロキシエチルイミダゾリニウムベタインやN−テトラ
デシル−N,N−ベタイン型(例えば、商品名アモーゲ
ンK、第一工業(株)製)等が挙げられる。上記非イオ
ン界面活性剤及び両性界面活性剤の画像記録材料中に占
める割合は、0.05〜15重量%が好ましく、より好
ましくは0.1〜5重量%である。
The recording layer according to the present invention has a structure disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-2517 in order to increase stability under printing conditions.
Non-ionic surfactants described in JP-A-59-121 and JP-A-3-208514.
Further, an amphoteric surfactant as described in JP-A-0444 and JP-A-4-13149 can be added.
Specific examples of the nonionic surfactant include sorbitan tristearate, sorbitan monopalmitate, sorbitan triolate, monoglyceride stearic acid, and polyoxyethylene nonyl phenyl ether.
Specific examples of the amphoteric surfactant include alkyldi (aminoethyl) glycine, alkylpolyaminoethylglycine hydrochloride, 2-alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazolinium betaine and N-tetradecyl-N, N- Betaine type (for example, trade name Amogen K, manufactured by Daiichi Kogyo Co., Ltd.) and the like. The proportion of the nonionic surfactant and amphoteric surfactant in the image recording material is preferably 0.05 to 15% by weight, more preferably 0.1 to 5% by weight.

【0070】更に本発明の記録層には必要に応じ、塗膜
の柔軟性等を付与するために可塑剤が加えられる。例え
ば、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブチル、フ
タル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシ
ル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸
トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒ
ドロフルフリル、アクリル酸又はメタクリル酸のオリゴ
マー及びポリマー等が用いられる。
Further, a plasticizer is added to the recording layer of the present invention, if necessary, in order to impart flexibility to the coating film. For example, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate, oligomers of acrylic acid or methacrylic acid And polymers.

【0071】これら以外にも、エポキシ化合物、ビニル
エーテル類、特願平7−18120に記載のヒドロキシ
メチル基を持つフェノール化合物、及びアルコキシメチ
ル基を有するフェノール化合物等を添加してもよい。更
に塗膜の強度を向上させるために他の高分子化合物を添
加してもよい。
In addition to these, epoxy compounds, vinyl ethers, phenol compounds having a hydroxymethyl group and phenol compounds having an alkoxymethyl group described in Japanese Patent Application No. 7-18120 may be added. Further, another polymer compound may be added to improve the strength of the coating film.

【0072】本発明の平版印刷版用原版は、通常上記各
成分を溶媒に溶かして、適当な支持体上に塗布すること
により製造することができる。ここで使用する溶媒とし
ては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチ
ルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−メト
キシ−2−プロパノール、2−メトキシエチルアセテー
ト、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメトキ
シエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメチル
アセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラ
メチルウレア、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホ
キシド、スルホラン、γ−ブチロラクトン、トルエン、
水等を挙げることができるがこれに限定されるものでは
ない。これらの溶媒は単独又は混合して使用される。溶
媒中の上記成分(添加剤を含む全固形分)の濃度は、好
ましくは1〜50重量%である。また塗布、乾燥後に得
られる支持体上の塗布量(固形分)は、用途によって異
なるが、平版印刷版用原版についていえば一般的に0.
5〜5.0g/m2 が好ましい。塗布する方法として
は、種々の方法を用いることができるが、例えば、バー
コーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗
布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、
ロール塗布等を挙げることができる。
The lithographic printing plate precursor according to the present invention can be usually produced by dissolving the above-mentioned components in a solvent and coating the solution on a suitable support. As the solvent used herein, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, dimethoxy Ethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethylsulfoxide, sulfolane, γ-butyrolactone, toluene,
Water and the like can be mentioned, but it is not limited thereto. These solvents are used alone or as a mixture. The concentration of the above components (total solids including additives) in the solvent is preferably 1 to 50% by weight. The amount of coating (solid content) on the support obtained after coating and drying varies depending on the intended use, but generally speaking about the lithographic printing plate precursor, it is not more than 0.1%.
5~5.0g / m 2 is preferred. As a method of applying, various methods can be used, for example, bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating,
Roll coating and the like can be mentioned.

【0073】本発明における記録層には、塗布性を良化
するための界面活性剤、例えば特開昭62−17095
0号公報に記載されているようなフッ素系界面活性剤を
添加することができる。これらの添加量は、全画像記録
材料固形分中0.01〜1重量%が好ましく、さらに好
ましくは0.05〜0.5重量%である。
The recording layer in the present invention may have a surfactant for improving coating properties, for example, JP-A-62-17095.
No. 0 can be added. The amount of these added is preferably from 0.01 to 1% by weight, more preferably from 0.05 to 0.5% by weight, based on the total solid content of the image recording material.

【0074】本発明に使用される支持体は寸度的に安定
な板状物であることが好ましく、例えば、紙、プラスチ
ック(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリス
チレン等)がラミネートされた紙、金属板(例えば、ア
ルミニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフィルム(例
えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオ
ン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロー
ス、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポ
リエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカー
ボネート、ポリビニルアセタール等)、上記の如き金属
がラミネート若しくは蒸着された紙若しくはプラスチッ
クフィルム等が含まれる。本発明の支持体としては、ポ
リエステルフィルム又はアルミニウム板が好ましく、そ
の中でも寸法安定性がよく、比較的安価であるアルミニ
ウム板は特に好ましい。好適なアルミニウム板は、純ア
ルミニウム板及びアルミニウムを主成分とし、微量の異
元素を含む合金板であり、更にアルミニウムがラミネー
ト又は蒸着されたプラスチックフィルムでもよい。アル
ミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マン
ガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニ
ッケル、チタン等がある。合金中の異元素の含有量は高
々10重量%以下である。本発明において特に好適なア
ルミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋な
アルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅か
に異元素を含有するものでもよい。このように本発明に
適用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるも
のではなく、従来より公知公用の素材のアルミニウム板
を適宜に利用することができる。本発明で用いられるア
ルミニウム板の厚みはおよそ0.1mm〜0.6mm程
度、好ましくは0.15mm〜0.4mm、特に好まし
くは0.2mm〜0.3mmである。
The support used in the present invention is preferably a dimensionally stable plate-like material, for example, paper, paper laminated with plastic (eg, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), metal plate (Eg, aluminum, zinc, copper, etc.), plastic films (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl) Acetal, etc.), paper or plastic film on which the above-mentioned metal is laminated or vapor-deposited. As the support of the present invention, a polyester film or an aluminum plate is preferable, and among them, an aluminum plate having good dimensional stability and relatively low cost is particularly preferable. Suitable aluminum plates are a pure aluminum plate and an alloy plate containing aluminum as a main component and a trace amount of a different element, and may be a plastic film on which aluminum is laminated or vapor-deposited. The foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, titanium and the like. The content of the foreign element in the alloy is at most 10% by weight or less. Aluminum which is particularly preferred in the present invention is pure aluminum. However, completely pure aluminum is difficult to produce due to refining technology, and therefore may contain a slightly different element. As described above, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and an aluminum plate of a conventionally known and used material can be appropriately used. The thickness of the aluminum plate used in the present invention is about 0.1 mm to 0.6 mm, preferably 0.15 mm to 0.4 mm, particularly preferably 0.2 mm to 0.3 mm.

【0075】アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所
望により、表面の圧延油を除去するために、例えば、界
面活性剤、有機溶剤又はアルカリ性水溶液等による脱脂
処理が行われる。アルミニウム板の表面の粗面化処理
は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗
面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法
及び化学的に表面を選択溶解させる方法により行われ
る。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨
法、ブラスト研磨法、バフ研磨法等の公知の方法を用い
ることができる。また、電気化学的な粗面化法としては
塩酸若しくは硝酸電解液中で交流又は直流により行う方
法がある。また、特開昭54−63902号に開示され
ているように両者を組み合わせた方法も利用することが
できる。
Prior to roughening the aluminum plate, if necessary, a degreasing treatment with, for example, a surfactant, an organic solvent or an alkaline aqueous solution is performed to remove the rolling oil on the surface. The surface roughening treatment of the aluminum plate is performed by various methods. For example, a method of mechanically roughening the surface, a method of electrochemically dissolving the surface, and a method of selectively dissolving the surface chemically. It is performed by the method of causing. Known mechanical methods such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, and a buff polishing method can be used as the mechanical method. Further, as an electrochemical surface roughening method, there is a method of performing an alternating current or a direct current in a hydrochloric acid or nitric acid electrolyte. Further, a method combining both of them can be used as disclosed in JP-A-54-63902.

【0076】以上のようにして、本発明の平版印刷版用
原版を作成することができる。この平版印刷版用原版
は、波長760nmから1200nmの赤外線を放射す
る固体レーザ及び半導体レーザにより画像露光される。
本発明においては、レーザ照射後すぐに印刷機に印刷版
を装着し印刷を行ってもよいが、レーザ照射工程と印刷
工程の間に加熱処理を行うことが好ましい。加熱処理の
条件は、80℃〜150℃の範囲内で10秒〜5分間行
うことが好ましい。この加熱処理により、レーザ照射
時、記録に必要なレーザエネルギーを減少させることが
できる。
As described above, the lithographic printing plate precursor of the present invention can be prepared. The lithographic printing plate precursor is image-exposed by a solid-state laser and a semiconductor laser that emit infrared light having a wavelength of 760 nm to 1200 nm.
In the present invention, printing may be performed by mounting a printing plate on a printing machine immediately after laser irradiation, but it is preferable to perform heat treatment between the laser irradiation step and the printing step. The heat treatment is preferably performed in a range of 80 ° C. to 150 ° C. for 10 seconds to 5 minutes. By this heat treatment, the laser energy required for recording at the time of laser irradiation can be reduced.

【0077】このような処理によって得られた平版印刷
版はオフセット印刷機等にかけられ、多数枚の印刷に用
いられる。
The planographic printing plate obtained by such a process is set on an offset printing machine or the like and used for printing a large number of sheets.

【0078】[0078]

【実施例】以下、実施例により、本発明を詳細に説明す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。
The present invention will be described in detail with reference to the following examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0079】[スルホン酸発生型高分子化合物の合成]モノマー(4)の合成 アセトニトリル200ml、シクロヘキシルアルコール
11g及びピリジン8.8gを500mlの三口フラス
コに入れ、撹拌した。氷で冷却しながらビニルベンゼン
スルホニルクロリド20.2gを滴下した。滴下後室温
にて2時間撹拌した後、1リットルの水にあけ、酢酸エ
チルで抽出した。硫酸マグネシウムで乾燥させた後、溶
媒を減圧留去し、シリカゲルを用いたカラムクロマトグ
ラフィを行い精製することにより、モノマー(4)を得
た。元素分析の計算値は、C:63.13%、H:6.
81%であり、実測値はC:63.01%、H:6.8
5%であった。
[Synthesis of Sulfonic Acid Generating Polymer Compound] Synthesis of Monomer (4) 200 ml of acetonitrile, 11 g of cyclohexyl alcohol and 8.8 g of pyridine were put into a 500 ml three-necked flask and stirred. While cooling with ice, 20.2 g of vinylbenzenesulfonyl chloride was added dropwise. After the dropwise addition, the mixture was stirred at room temperature for 2 hours, poured into 1 liter of water, and extracted with ethyl acetate. After drying over magnesium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure, and the residue was purified by column chromatography using silica gel to obtain a monomer (4). The calculated values of the elemental analysis were as follows: C: 63.13%, H: 6.
81%, the measured values are C: 63.01%, H: 6.8.
5%.

【0080】モノマー(5)の合成 シクロヘキシルアルコールの代わりに2,2,2−トリ
フルオロエチルアルコールを使用した他はモノマー
(4)の合成方法と同様の方法でモノマー(5)を得
た。
[0080] to obtain a monomer monomer synthetic method similar other monomers using 2,2,2-trifluoroethyl alcohol instead of synthetic cyclohexyl alcohol (5) (4) (5).

【0081】モノマー(28)の合成 シクロヘキシルアルコールの代わりに下記のアルコール
を使用した他はモノマー(4)の合成方法と同様の方法
でモノマー(28)を得た。
[0081] obtained in Synthesis method similar monomers other using alcohol below instead of the synthetic cyclohexyl alcohol monomer (28) (4) monomer (28).

【0082】[0082]

【化11】 Embedded image

【0083】モノマー(23)の合成 N−メチルスチレンスルホンアミド88.8g、トリエ
チルアミン109.3g、ジメチルアミノピリジン5.
5g及びアセトニトリル200mlを1リットルの三口
フラスコに入れた。この三口フラスコを冷却し、攪拌し
ながらアセトニトリル200mlに溶かしたベンゼンス
ルホニルクロリド119.2gを1時間かけて滴下し
た。滴下後室温で2時間攪拌を続けた後、一晩放置し
た。反応液を水800mlにあけ、酢酸エチル500m
lで抽出し、硫酸マグネシウムで乾燥させて濃縮した。
濃縮したものをシリカゲルクロマトグラフィー(ヘキサ
ン/酢酸エチル=3/1(容積比)使用)を用いて精製
した後、イソプロピルアルコール300mlを用いて再
結晶化させた。融点58.5〜60℃の白色結晶80.
3gが得られた。この結晶の吸収スペクトル(THF
中)はλmax 265nmであり、εは2.0×104
あった。また、元素分析値(実測値)は、C:53.2
1%、H:4.53%、N:4.17%であった。
Synthesis of Monomer (23) 88.8 g of N-methylstyrenesulfonamide, 109.3 g of triethylamine and dimethylaminopyridine5.
5 g and 200 ml of acetonitrile were placed in a 1-liter three-necked flask. The three-necked flask was cooled, and 119.2 g of benzenesulfonyl chloride dissolved in 200 ml of acetonitrile was added dropwise with stirring over 1 hour. After the dropwise addition, stirring was continued at room temperature for 2 hours, and then left overnight. The reaction solution was poured into 800 ml of water, and 500 ml of ethyl acetate was added.
, dried over magnesium sulfate and concentrated.
The concentrate was purified using silica gel chromatography (hexane / ethyl acetate = 3/1 (volume ratio) was used), and then recrystallized using 300 ml of isopropyl alcohol. 80. White crystals with a melting point of 58.5-60 ° C.
3 g were obtained. The absorption spectrum of this crystal (THF
(Center) was λmax of 265 nm, and ε was 2.0 × 10 4 . The elemental analysis value (actual measurement value) was C: 53.2.
1%, H: 4.53%, N: 4.17%.

【0084】スルホン酸発生型高分子化合物(1)の合
モノマー(4)7.18g、グリシジルメタクリレート
0.43g及びメチルエチルケトン15gを100ml
の三口フラスコに入れ、65℃窒素気流下アゾビスジメ
チルバレロニトリル0.1gを加えた。同温度で5時間
攪拌した後、メチルエチルケトンを減圧で留去し、固体
を得た。GPC(ポリスチレン標準)により重量平均分
子量1.8万のポリマーであることが分かった。
Synthesis of sulfonic acid-generating polymer compound (1)
Forming monomer (4) 7.18 g, and glycidyl methacrylate 0.43g and methyl ethyl ketone 15 g 100 ml
, And 0.1 g of azobisdimethylvaleronitrile was added thereto under a nitrogen stream at 65 ° C. After stirring at the same temperature for 5 hours, methyl ethyl ketone was distilled off under reduced pressure to obtain a solid. The polymer was found to have a weight average molecular weight of 188,000 by GPC (polystyrene standard).

【0085】スルホン酸発生型高分子化合物(2)の合
モノマー(4)7.18g、トリメトキシプロピルメタ
アクリロイル0.74g及びメチルエチルケトン15g
を100mlの三口フラスコに入れ、65℃窒素気流下
アゾビスジメチルバレロニトリル0.1gを加えた。同
温度で5時間攪拌した後、メチルエチルケトンを減圧で
留去し、固体を得た。GPC(ポリスチレン標準)によ
り重量平均分子量1.2万のポリマーであることが分か
った。
Synthesis of sulfonic acid-generating polymer compound (2)
Forming monomer (4) 7.18 g, trimethoxy propyl methacryloyloxy 0.74g and methyl ethyl ketone 15g
Was placed in a 100 ml three-necked flask, and 0.1 g of azobisdimethylvaleronitrile was added under a nitrogen stream at 65 ° C. After stirring at the same temperature for 5 hours, methyl ethyl ketone was distilled off under reduced pressure to obtain a solid. The polymer was found to have a weight average molecular weight of 12,000 by GPC (polystyrene standard).

【0086】スルホン酸発生型高分子化合物(3)、
(4)の合成 モノマー(4)7.18gの代わりにモノマー(5)
7.18gを使用した他はスルホン酸発生型高分子化合
物(1)の合成方法と同様の方法で、重量平均分子量
3.5万(GPC、ポリスチレン標準)のポリマーを得
た[スルホン酸発生型高分子化合物(3)]。また、モ
ノマー(4)7.18gの代わりにモノマー(28)
9.32gを使用した他はスルホン酸発生型高分子化合
物(2)の合成方法と同様の方法で、重量平均分子量
2.3万(GPC、ポリスチレン標準)のポリマーを得
た[スルホン酸発生型高分子化合物(4)]。
Sulfonic acid generating polymer compound (3),
Monomer (5) in place of 7.18 g of synthetic monomer (4) of (4)
A polymer having a weight-average molecular weight of 35,000 (GPC, polystyrene standard) was obtained in the same manner as in the method of synthesizing the sulfonic acid-generating polymer compound (1) except that 7.18 g was used [sulfonic acid-generating polymer] Polymer compound (3)]. Also, instead of 7.18 g of monomer (4), monomer (28)
A polymer having a weight average molecular weight of 23,000 (GPC, polystyrene standard) was obtained in the same manner as in the method for synthesizing the sulfonic acid-generating polymer compound (2) except that 9.32 g was used [sulfonic acid-generating polymer] Polymer compound (4)].

【0087】スルホン酸発生型高分子化合物5、7〜1
0の合成 スルホン酸発生型高分子化合物(5)、(7)〜(1
0)も上記と同様にして合成した。重量平均分子量(G
PC、ポリスチレン標準)はそれぞれ3.1万、1.5
万、2.0万、1.3万、4.1万であった。
Sulfonic acid-generating polymer compounds 5, 7-1
0 synthetic sulfonic acid-generating polymer compounds (5), (7) to (1)
0) was also synthesized in the same manner as above. Weight average molecular weight (G
PC, polystyrene standard) are 31,000 and 1.5, respectively.
It was 10,000, 20,000, 131,000, and 41,000.

【0088】スルホン酸発生型高分子化合物(11)の
合成 200mlの三口フラスコにモノマー(4)20g及び
メチルエチルケトン40gを入れ、65℃窒素気流下、
アゾビスジメチルバレロニトリル0.25gを加えた。
5時間攪拌しながら同温度に保った後、減圧下溶媒を留
去し、固体を得た。GPC(ポリスチレン標準)により
重量平均分子量1.04万のポリマーであることが分か
った。
The sulfonic acid-generating polymer compound (11)
20 g of monomer (4) and 40 g of methyl ethyl ketone were put into a 200 ml three-necked flask at a synthesis temperature of 65 ° C. under a nitrogen stream.
0.25 g of azobisdimethylvaleronitrile was added.
After stirring at the same temperature for 5 hours, the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain a solid. The polymer was found to have a weight average molecular weight of 104,000 by GPC (polystyrene standard).

【0089】(実施例1〜8)厚さ0.30mmのアル
ミニウム板(材質1050)をトリクロロエチレン洗浄
して脱脂した後、ナイロンブラシと400メッシュのパ
ミストン−水懸濁液を用いその表面を砂目立てし、水で
よく洗浄した。この板を45℃の25%水酸化ナトリウ
ム水溶液に9秒間浸漬してエッチングを行い、水洗後、
更に2%HNO 3 に20秒間浸漬して水洗した。この時
の砂目立て表面のエッチング量は約3g/m2 であっ
た。次にこの板を7%H2 SO4 を電解液として電流密
度15A/dm2 で3g/m2 の直流陽極酸化皮膜を設
けた後、水洗乾燥した。
(Examples 1 to 8) Al having a thickness of 0.30 mm
Trichlorethylene cleaning of minium plate (material 1050)
And degrease, then use a nylon brush and 400 mesh
Use a miston-water suspension to grain the surface and use water
Washed well. This plate is made of 25% sodium hydroxide at 45 ° C.
Etching for 9 seconds in an aqueous solution
2% HNO ThreeFor 20 seconds and washed with water. At this time
The amount of etching of the grained surface is about 3g / mTwoSo
Was. Next, this plate isTwoSOFourCurrent density as electrolyte
Degree 15A / dmTwo3g / mTwoDC anodized film
After drying, it was washed with water and dried.

【0090】次に、下記溶液〔A〕において、スルホン
酸発生型高分子化合物の種類を変えて、8種類の溶液
〔A−1〕〜〔A−8〕を調整した。この溶液をそれぞ
れ、上記の処理済みのアルミニウム板に塗布し、100
℃で2分間乾燥した。乾燥後の重量は1.2g/m2
あった。
Next, in the following solution [A], eight kinds of solutions [A-1] to [A-8] were prepared by changing the kind of the sulfonic acid-generating polymer compound. Each of the solutions was applied to the above treated aluminum plate,
Dry at 2 ° C. for 2 minutes. The weight after drying was 1.2 g / m 2 .

【0091】 溶液〔A〕 スルホン酸発生型高分子化合物(表1) 1.0g 赤外線吸収剤 0.15g (NK−3508、日本感光色素研究所(株)製) ビクトリアピュアブルーBOHの対イオンを1−ナフタレン− 0.05g スルホン酸にした染料 フッ素系界面活性剤 0.06g (メガファックF−177、大日本インキ化学工業(株)製) メチルエチルケトン 20g メチルアルコール 7gSolution [A] Sulfonic acid-generating polymer compound (Table 1) 1.0 g Infrared absorbent 0.15 g (NK-3508, manufactured by Nippon Kogaku Dyestuff Research Institute Co., Ltd.) 1-naphthalene-0.05 g Dye converted into sulfonic acid Fluorinated surfactant 0.06 g (MegaFac F-177, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) Methyl ethyl ketone 20 g Methyl alcohol 7 g

【0092】[0092]

【表1】 [Table 1]

【0093】[オーバーコート層液の調整] (1)雲母分散液の調整 水184gに合成雲母(ソマシフME−100:商品
名、コープケミカル(株)社製、アスペクト比:100
0以上)の16gを添加し、ホモジナイザーを用いて平
均粒径(レーザ散乱法)3μmになる迄分散し、雲母分
散液を得た。
[Preparation of Overcoat Layer Liquid] (1) Preparation of Mica Dispersion A synthetic mica (Somasif ME-100: trade name, manufactured by Corp Chemical Co., Ltd., aspect ratio: 100) was added to 184 g of water.
(0 or more) was added and dispersed using a homogenizer until the average particle diameter (laser scattering method) became 3 μm, to obtain a mica dispersion.

【0094】(2)オーバーコート層塗布液の調整 調整済の雲母分散液6gに水100gを加え、ポリビニ
ルアルコール(PVA−124 クラレ(株)製)8重
量%水溶液12gを加えよく攪拌した後、2−エチルヘ
キシルスルホコハク酸ソーダ2重量%液を10g加え、
オーバーコート層塗布液を得た。次に、前記処方の感光
層を塗設したプレートの上に上記組成からなる水溶性オ
ーバーコート層塗布液を、乾燥後の重量が1.0g/m
2 で〕となるように塗布し、100℃で3分間乾燥さ
せ、平版印刷版用原版〔A−1〕〜〔A−8〕を得た。
(2) Preparation of Coating Solution for Overcoat Layer 100 g of water was added to 6 g of the adjusted mica dispersion, 12 g of an 8% by weight aqueous solution of polyvinyl alcohol (PVA-124 manufactured by Kuraray Co., Ltd.) was added, and the mixture was stirred well. 10 g of a 2% by weight solution of sodium 2-ethylhexylsulfosuccinate was added,
An overcoat layer coating solution was obtained. Next, a water-soluble overcoat layer coating solution having the above composition was applied on a plate on which a photosensitive layer having the above formulation was applied, and the weight after drying was 1.0 g / m 2.
2 ) and dried at 100 ° C. for 3 minutes to obtain lithographic printing plate precursors [A-1] to [A-8].

【0095】得られた平版印刷版用原版〔A−1〕〜
〔A−8〕を、波長1064nmの赤外線を発するYA
Gレーザで露光した。露光後、110℃で1分間加熱処
理した後、ハイデルKOR−D機で印刷した。この際、
印刷物の非画像部に汚れが発生しているかどうかを観察
した。結果を表2に示す。いずれも非画像部に汚れのな
い良好な印刷物が得られた。次に、原版〔A−1〕〜
〔A−8〕を45℃、相対湿度75%の条件下で3日間
保存したものを用いて、前記と同様の条件で、製版、印
刷を行い、同様に評価した。結果を表2に示す。いずれ
も非画像部に汚れのない良好な印刷物が得られた。
The obtained lithographic printing plate precursors [A-1] to
[A-8] was converted to YA emitting infrared light having a wavelength of 1064 nm.
Exposure was performed with a G laser. After the exposure, the film was heated at 110 ° C. for 1 minute, and then printed by a Heidel KOR-D machine. On this occasion,
It was observed whether or not stains had occurred on the non-image portion of the printed matter. Table 2 shows the results. In each case, good prints without stains on the non-image areas were obtained. Next, the master [A-1]
Using [A-8] stored at 45 ° C. and a relative humidity of 75% for 3 days, plate-making and printing were performed under the same conditions as described above, and the same evaluation was performed. Table 2 shows the results. In each case, good prints without stains on the non-image areas were obtained.

【0096】[0096]

【表2】 [Table 2]

【0097】(比較例1〜8)実施例1〜8において、
オーバーコート層を塗設しなかった他は実施例1〜8と
同様にして平版印刷版用原版〔A’−1〕〜〔A’−
8〕を調製した。この原版に対して実施例1〜8と同様
に露光、加熱、印刷を行ったところ、いずれも非画像部
に汚れのない良好な印刷物が得られた。次に、原版
〔A’−1〕〜〔A’−8〕を45℃、相対湿度75%
の条件下で3日間保存したものを用いて、前記と同様の
条件で、製版、印刷を行い、同様に評価した。結果を表
3に示す。いずれも非画像部に汚れが見られ、鮮明な画
像が得られなかった。
Comparative Examples 1 to 8 In Examples 1 to 8,
Except that the overcoat layer was not provided, the lithographic printing plate precursors [A'-1] to [A'-] were prepared in the same manner as in Examples 1 to 8.
8] was prepared. Exposure, heating, and printing were performed on the original plate in the same manner as in Examples 1 to 8. As a result, good prints were obtained with no stain on the non-image area. Next, the masters [A'-1] to [A'-8] were placed at 45 ° C and a relative humidity of 75%.
The plate making and printing were performed under the same conditions as above using the one stored for 3 days under the above conditions, and evaluated similarly. Table 3 shows the results. In each case, stains were observed in the non-image areas, and clear images could not be obtained.

【0098】[0098]

【表3】 [Table 3]

【0099】(実施例9〜12)下記溶液〔B〕におい
て、スルホン酸発生型高分子化合物の種類を変えて、4
種類の溶液〔B−1〕〜〔B−4〕を調整した。この溶
液をそれぞれ、実施例1〜8で用いた下塗り済みのアル
ミニウム板に塗布し、100℃で2分間乾燥後、さらに
100℃で10分間加熱して感光層を形成した。乾燥後
の重量は1.7g/m2 であった。
(Examples 9 to 12) In the following solution [B], the type of the sulfonic acid-generating polymer compound was changed to
Various types of solutions [B-1] to [B-4] were prepared. Each of the solutions was applied to the undercoated aluminum plate used in Examples 1 to 8, dried at 100 ° C. for 2 minutes, and further heated at 100 ° C. for 10 minutes to form a photosensitive layer. The weight after drying was 1.7 g / m 2 .

【0100】 溶液〔B〕 スルホン酸発生型高分子化合物(表4) 0.6g 無水フタル酸 0.005g オルトクロロフェノール 0.001g 赤外線吸収剤NK−2268 0.15g (日本感光色素研究所(株)製) クレゾールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂 1.2g (メタ:パラ比=8:2、重量平均分子量5800) ビスフェノールAとホルムアルデヒドから得られるレゾール樹脂1.0g (重量平均分子量1600) ビクトリアピュアブルーBOHの対イオンを1−ナフタレン− 0.03g スルホン酸にした染料 フッ素系界面活性剤 0.06g (メガファックF−177、大日本インキ化学工業(株)製) メチルエチルケトン 20g メチルアルコール 7gSolution [B] Sulfonic acid generating polymer compound (Table 4) 0.6 g Phthalic anhydride 0.005 g Orthochlorophenol 0.001 g Infrared absorbent NK-2268 0.15 g )) Novolak resin obtained from cresol and formaldehyde 1.2 g (meta: para ratio = 8: 2, weight average molecular weight 5800) Resol resin obtained from bisphenol A and formaldehyde 1.0 g (weight average molecular weight 1600) Victoria Pure Blue BOH counter ion 1-naphthalene-0.03 g Sulfonic acid dye Fluorosurfactant 0.06 g (MegaFac F-177, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) Methyl ethyl ketone 20 g Methyl alcohol 7 g

【0101】[0101]

【表4】 [Table 4]

【0102】次に、前記処方の感光層を塗設したプレー
トの上に実施例1〜8と同様にしてオーバーコート層を
塗設し、平版印刷版用原版〔B−1〕〜〔B−4〕を得
た。得られた平版印刷版用原版〔B−1〕〜〔B−4〕
を、温度45℃湿度75%の高温高湿条件下で3日間保
存した後、波長830nmの赤外線を発する半導体レー
ザで露光した。露光後、110℃で1分間加熱処理した
後、現像機を通すことなく、富士写真フイルム(株)製
ガムGU−7(1:1)で版面を処理し、ハイデルKO
R−D機で印刷した。この際、印刷物の非画像部に汚れ
が発生しているかどうかを観察した。結果を表5に示
す。いずれも非画像部に汚れのない良好な印刷物が得ら
れた。
Next, an overcoat layer was applied on the plate on which the photosensitive layer having the above formulation was applied in the same manner as in Examples 1 to 8, and the lithographic printing plate precursors [B-1] to [B- 4] was obtained. The resulting lithographic printing plate precursors [B-1] to [B-4]
Was stored for 3 days under a high-temperature and high-humidity condition at a temperature of 45 ° C. and a humidity of 75%, and then exposed to a semiconductor laser emitting infrared light having a wavelength of 830 nm. After the exposure, the plate was heated at 110 ° C. for 1 minute, and the plate was treated with gum GU-7 (1: 1) manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. without passing through a developing machine.
Printing was performed with an RD machine. At this time, it was observed whether or not stains occurred on the non-image portion of the printed matter. Table 5 shows the results. In each case, good prints without stains on the non-image areas were obtained.

【0103】[0103]

【表5】 [Table 5]

【0104】(比較例9〜12)実施例9〜12におい
て、オーバーコート層を塗設しなかった他は実施例9〜
12と同様にして平版印刷版用原版〔B’−1〕〜
〔B’−4〕を調製した。この原版に対して実施例1〜
8と同様に露光、加熱、印刷を行ったところ、いずれも
非画像部に汚れのない良好な印刷物が得られた。次に、
原版〔B’−1〕〜〔B’−4〕を45℃、相対湿度7
5%の条件下で3日間保存したものを用いて、前記と同
様の条件で、製版、印刷を行い、同様に評価した。結果
を表6に示す。いずれも、非画像部に汚れが生じ、画像
部が不均一となっており、鮮明な画像が得られなかっ
た。
(Comparative Examples 9 to 12) In Examples 9 to 12, except that the overcoat layer was not provided.
In the same manner as in Example 12, the lithographic printing plate precursor [B'-1] ~
[B'-4] was prepared. Examples 1 to 3
Exposure, heating and printing were performed in the same manner as in No. 8, and good prints were obtained with no stain on the non-image area. next,
The masters [B'-1] to [B'-4] were used at 45 ° C and a relative humidity of 7
Plate making and printing were carried out under the same conditions as described above using those stored for 3 days under the condition of 5%, and evaluation was performed in the same manner. Table 6 shows the results. In each case, the non-image area was stained, the image area was uneven, and a clear image was not obtained.

【0105】[0105]

【表6】 [Table 6]

【0106】[0106]

【発明の効果】本発明によれば、赤外線レーザにより直
接製版可能であり、画像露光後湿式現像処理やこすり等
の特別な処理を必要とせず、印刷画像が鮮明であり、且
つ、高湿条件下に長期保存した場合でも画像形成性が劣
化しない平版印刷版用原版を提供することができる。
According to the present invention, plate making can be directly performed by an infrared laser, no special processing such as wet development processing or rubbing after image exposure is required, the printed image is clear, and high humidity conditions can be attained. It is possible to provide a lithographic printing plate precursor in which image formability does not deteriorate even when stored for a long period of time.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI G03F 7/004 506 G03F 7/004 506 7/039 501 7/039 501 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI G03F 7/004 506 G03F 7/004 506 7/039 501 7/039 501

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 支持体上に、加熱によりスルホン酸を発
生させる官能基を側鎖に有する高分子化合物と赤外線吸
収剤とを含む記録層と、 無機質層状化合物を含有するオーバーコート層とを、 順次積層したことを特徴とする平版印刷版用原版。
1. A recording layer comprising a polymer compound having a functional group capable of generating sulfonic acid by heating in a side chain thereof and an infrared absorbent, and an overcoat layer containing an inorganic layered compound on a support, A lithographic printing plate precursor characterized by being sequentially laminated.
【請求項2】 前記オーバーコート層に含有される無機
質層状化合物のアスペクト比が20以上であることを特
徴とする請求項1に記載の平版印刷版用原版。
2. The lithographic printing plate precursor according to claim 1, wherein the inorganic layered compound contained in the overcoat layer has an aspect ratio of 20 or more.
【請求項3】 前記オーバーコート層に含有される無機
質層状化合物のアスペクト比が100以上であることを
特徴とする請求項1に記載の平版印刷版用原版。
3. The lithographic printing plate precursor according to claim 1, wherein the inorganic layered compound contained in the overcoat layer has an aspect ratio of 100 or more.
【請求項4】 前記オーバーコート層に含有される無機
質層状化合物のアスペクト比が200以上であることを
特徴とする請求項1に記載の平版印刷版用原版。
4. The lithographic printing plate precursor according to claim 1, wherein the inorganic layered compound contained in the overcoat layer has an aspect ratio of 200 or more.
【請求項5】 前記オーバーコート層に含有される無機
質層状化合物が雲母であることを特徴とする請求項1乃
至4のいずれかに記載の平版印刷版用原版。
5. The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 1, wherein the inorganic layered compound contained in the overcoat layer is mica.
【請求項6】 前記オーバーコート層に含有される無機
質層状化合物が膨潤性のフッ素系合成雲母であることを
特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載の平版印刷
版用原版。
6. The lithographic printing plate precursor according to claim 1, wherein the inorganic layered compound contained in the overcoat layer is a swellable fluorine-based synthetic mica.
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