JPH11306997A - Magnetron - Google Patents
MagnetronInfo
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- JPH11306997A JPH11306997A JP11063198A JP11063198A JPH11306997A JP H11306997 A JPH11306997 A JP H11306997A JP 11063198 A JP11063198 A JP 11063198A JP 11063198 A JP11063198 A JP 11063198A JP H11306997 A JPH11306997 A JP H11306997A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明はマグネトロンに関す
る。さらに詳しくは、たとえば電子レンジなどのマイク
ロ波加熱機器またはレーダーなどに用いられるマグネト
ロンに関する。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a magnetron. More specifically, the present invention relates to a magnetron used for a microwave heating device such as a microwave oven or a radar.
【0002】[0002]
【従来の技術】マグネトロンは、たとえば図7に示すよ
うに、円筒状の陽極筒体51内に放射状に複数枚のベイ
ン52が配置されるアノード真空容器53と、該容器5
3の中心軸上に配置される、トップハット54a、エン
ドハット54bおよびフィラメント54cからなる陰極
部55と、空洞に発生した、たとえば2450MHzの
マイクロ波を外部に取り出すためのアンテナ56および
アンテナセラミック57とから構成されている。かかる
マグネトロンでは、フィラメント54cから放出された
熱電子が、ベイン52とフィラメント54cとのあいだ
に形成される空洞の作用空間で周回運動をし、マイクロ
波を発振させている。このマイクロ波は、1枚のベイン
52に通って、該ベイン52に接合されているアンテナ
56に伝達されたのち、外部空間に放出される。2. Description of the Related Art As shown in FIG. 7, for example, a magnetron comprises an anode vacuum vessel 53 in which a plurality of vanes 52 are radially arranged in a cylindrical anode cylinder 51, and
3, a cathode section 55 composed of a top hat 54a, an end hat 54b, and a filament 54c, an antenna 56 and an antenna ceramic 57 for taking out, for example, a 2450 MHz microwave generated in a cavity. It is composed of In such a magnetron, thermoelectrons emitted from the filament 54c circulate in the working space of the cavity formed between the vane 52 and the filament 54c, and oscillate microwaves. The microwave passes through a single vane 52, is transmitted to an antenna 56 joined to the vane 52, and is then emitted to an external space.
【0003】たとえば、電子レンジ用マグネトロンの寿
命の決定要素の一つとして、動作中の温度上昇や電子衝
撃などにより真空容器53内の部品からの放出ガスがあ
る。この放出ガスにより真空容器53内部の真空度が低
下すると、発振効率が低下する。そこで、従来より、真
空容器53内部にチタンまたはジルコニウムなどのゲッ
タを配置し、放出ガスの吸収を行ない、真空度の低下を
制御している。[0003] For example, one of the factors that determine the life of a magnetron for a microwave oven is gas released from components in a vacuum vessel 53 due to a temperature rise during operation or electron impact. When the degree of vacuum inside the vacuum vessel 53 decreases due to the released gas, the oscillation efficiency decreases. Therefore, conventionally, a getter such as titanium or zirconium is arranged inside the vacuum vessel 53 to absorb the released gas and control the reduction in the degree of vacuum.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、チタン
またはジルコニウムなどのゲッタは、トップハット54
aまたはエンドハット54bに取り付けられることが一
般的であり、そのゲッタは、板状のものをスポット溶接
する溶接方法と、バインダ(酢酸エチル、ニトロセルロ
ースなどを混合したもの)に粉末ゲッタ材を添加したも
のを塗布し、焼結する焼結方法があるが、前者の溶接方
法では、繰り返し熱応力により、板材が反り溶接部が破
損することがあり、後者の焼結方法では、焼結時に蒸発
したバインダの分解ガス成分をゲッタが吸収するため、
ゲッタ作用の能力を低下させ、かつ、排気装置を汚染し
ている問題がある。However, getters such as titanium or zirconium are not suitable for top hats.
Generally, the getter is attached to the end hat 54b by using a welding method of spot welding a plate-like object and adding a powder getter material to a binder (a mixture of ethyl acetate and nitrocellulose). There is a sintering method of applying and sintering, but in the former welding method, the sheet material may be warped due to repeated thermal stress and the welded part may be damaged, and in the latter sintering method, evaporation occurs during sintering. The getter absorbs the decomposed gas component of the binder,
There is a problem that the capability of the getter action is reduced and the exhaust device is contaminated.
【0005】本発明は、叙上の事情に鑑み、真空度の低
下を抑制することにより、高発振効率を持続させること
ができるマグネトロンを提供することを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION In view of the circumstances described above, an object of the present invention is to provide a magnetron that can maintain high oscillation efficiency by suppressing a decrease in the degree of vacuum.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明のマグネトロン
は、陽極筒体内に放射状に配置される複数枚のベインを
有するアノード真空容器と、該容器の中心軸上に配置さ
れる陰極部と、マイクロ波を外部に放出させるアンテナ
とを備えてなるマグネトロンであって、前記ベインにゲ
ッタが固定されてなることを特徴とする。According to the present invention, there is provided a magnetron comprising: an anode vacuum container having a plurality of vanes radially disposed in an anode cylinder; a cathode portion disposed on a central axis of the container; A magnetron comprising an antenna for emitting waves to the outside, wherein a getter is fixed to the vane.
【0007】[0007]
【発明の実施の形態】以下、添付図面に基づいて、本発
明のマグネトロンを説明する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a magnetron according to the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
【0008】図1は本発明のマグネトロンの一実施の形
態を示す要部断面図、図2は図1におけるベインの斜視
図、図3はゲッタの縦断面図、図4はゲッタの挿入固定
を示す説明図、図5は他のゲッタを示す斜視図、図6は
ゲッタの他の配置を示す説明図である。FIG. 1 is a sectional view of a main part showing an embodiment of a magnetron of the present invention, FIG. 2 is a perspective view of a vane in FIG. 1, FIG. 3 is a longitudinal sectional view of a getter, and FIG. FIG. 5 is a perspective view showing another getter, and FIG. 6 is an explanatory view showing another arrangement of the getter.
【0009】図1〜3に示すように、本発明の一実施の
形態にかかわるマグネトロンは、アノード真空容器1
と、該容器1の中心軸上に配置される陰極部2と、空洞
に発生したマイクロ波を外部に取り出すためのアンテナ
3およびアンテナセラミック4と、陰極サポート5a、
5bとを備えている。As shown in FIGS. 1 to 3, a magnetron according to an embodiment of the present invention includes an anode vacuum vessel 1.
A cathode part 2 arranged on the central axis of the container 1, an antenna 3 and an antenna ceramic 4 for extracting microwaves generated in the cavity to the outside, a cathode support 5a,
5b.
【0010】前記アノード真空容器1は、円筒状の陽極
筒体6と、該筒体6内に放射状に配置される複数枚のベ
イン7と、前記陽極筒体6の上下端部に配置される磁極
8、9とからなり、前記各ベイン7は、各ベイン7を互
い違いに接続する内側ストラップリング10と外側スト
ラップリング11により、1つ置きに電気的に短絡され
ている。また前記陰極部2は、陰極サポート5aの先端
に固定されるエンドハット12、該エンドハット12の
中心を貫通する陰極サポート5bの先端に固定されるト
ップハット13およびエンドハット12とトップハット
13のあいだの陰極サポート5bに巻き回されて支持さ
れるフィラメント14からなる。The anode vacuum vessel 1 has a cylindrical anode cylinder 6, a plurality of vanes 7 radially arranged in the cylinder 6, and upper and lower ends of the anode cylinder 6. Each of the vanes 7 is electrically short-circuited every other one by an inner strap ring 10 and an outer strap ring 11 which connect the vanes 7 alternately. The cathode part 2 includes an end hat 12 fixed to the tip of the cathode support 5a, a top hat 13 fixed to the tip of the cathode support 5b penetrating the center of the end hat 12, and the end hat 12 and the top hat 13. It consists of a filament 14 wound and supported on the cathode support 5b in between.
【0011】前記ベイン7の側面に形成される貫通孔1
5には、チタンまたはジルコニウムなどから作製される
円筒状ゲッタ16が挿入固定されている。ゲッタ16は
圧入により挿入されるが、本実施の形態では、脱落を防
止するために、円筒状ゲッタ16の両端部にスリット1
7を、たとえば4箇所形成し、図4に示すように該スリ
ット17間の部分を開いて貫通孔15の周縁にカーリン
グすることにより固定している。このばあい、ゲッタ7
を貫通孔15に挿入しやすいように、図5に示すように
軸方向に貫通したスリット18を形成したゲッタ19を
用いるのが好ましい。かかるゲッタ19を縮径させて貫
通孔の奥側まで挿入できるので、作業時間を短縮するこ
とができる。A through hole 1 formed in a side surface of the vane 7
5, a cylindrical getter 16 made of titanium or zirconium is inserted and fixed. Although the getter 16 is inserted by press fitting, in the present embodiment, in order to prevent the getter 16 from falling off, slits 1 are provided at both ends of the cylindrical getter 16.
For example, four portions 7 are formed, and the portion between the slits 17 is opened and fixed to the periphery of the through hole 15 by curling as shown in FIG. In this case, getter 7
It is preferable to use a getter 19 having a slit 18 penetrating in the axial direction as shown in FIG. Since the getter 19 can be reduced in diameter and can be inserted to the far side of the through hole, the operation time can be reduced.
【0012】なお、本実施の形態では、前記ハット13
またはハット12に取り付けたときとほぼ同じ表面積を
有するように、2枚のベイン7にそれぞれゲッタ16が
固定されているが、ベイン7は、通常10枚または12
枚形成されるため、ガス放出量とのバランスで、1枚ま
たは3枚以上に取り付けることもできる。In this embodiment, the hat 13
Alternatively, the getter 16 is fixed to each of the two vanes 7 so as to have substantially the same surface area as when attached to the hat 12, but the vanes 7 usually have 10 or 12
Since one sheet is formed, one or three or more sheets can be attached in balance with the amount of gas release.
【0013】前記ベイン7は、動作中、陽極筒体6につ
いで高温となり、かつ、容量が多いため、大きなガス放
出源である。このため、マグネトロンが動作したとき
に、ベインの温度が上昇し、ガス放出が起きるが、本実
施の形態では、ベイン7に円筒状のゲッタ16またはゲ
ッタ19を挿入固定することにより、該ゲッタ16、1
9がガスを吸収し、真空容器1内部を高真空に保つこと
ができる。During operation, the vane 7 becomes a large gas emission source because it becomes hot next to the anode cylinder 6 and has a large capacity. For this reason, when the magnetron operates, the temperature of the vane rises and gas is released. In the present embodiment, however, by inserting and fixing the cylindrical getter 16 or the getter 19 to the vane 7, the getter 16 , 1
9 absorbs the gas and can maintain the inside of the vacuum vessel 1 at a high vacuum.
【0014】なお、ゲッタを、図6に示すように、内側
ストラップリング10の外径D1より内側と、外側スト
ラップリング11の外径D2より外側に配置することに
より、マグネトロン動作時のゲッタ温度が、前者のゲッ
タ16aで約550℃となり、後者のゲッタ16bで約
350℃となる。そして、チタンやジルコニウムのガス
吸収特性で、水素が再放出される温度の400℃をはさ
むことができる。すなわち、前者のゲッタ16aで、水
素以外のガスを吸収し、後者のゲッタ16bで主に水素
を吸収することができる。By arranging the getters inside the outer diameter D1 of the inner strap ring 10 and outside the outer diameter D2 of the outer strap ring 11 as shown in FIG. 6, the getter temperature during magnetron operation is reduced. The temperature is about 550 ° C. with the former getter 16a, and about 350 ° C. with the latter getter 16b. In addition, the gas absorption characteristics of titanium and zirconium can sandwich a temperature of 400 ° C. at which hydrogen is released again. That is, the former getter 16a can absorb gases other than hydrogen, and the latter getter 16b can mainly absorb hydrogen.
【0015】[0015]
【発明の効果】以上説明したとおり、本発明によれば、
ゲッタの脱落を防止でき、かつ、排気装置を汚染しない
ため、高発振効率を持続させるマグネトロンをうること
ができる。また、ガス放出量により、ゲッタの数または
配置箇所を適宜選定し、ゲッタの表面積を広範囲で選択
できるため、マグネトロンの設計が容易になり、高品質
のマグネトロンをうることができる。As described above, according to the present invention,
Since the getter can be prevented from falling off and the exhaust device is not contaminated, a magnetron that maintains high oscillation efficiency can be obtained. In addition, since the number of getters or the location of the getters can be appropriately selected according to the amount of gas released, and the surface area of the getters can be selected over a wide range, the design of the magnetron becomes easy and a high quality magnetron can be obtained.
【図1】本発明のマグネトロンの一実施の形態を示す要
部断面図である。FIG. 1 is a sectional view of a main part showing an embodiment of a magnetron of the present invention.
【図2】図1におけるベインの斜視図である。FIG. 2 is a perspective view of a vane in FIG.
【図3】ゲッタの縦断面図である。FIG. 3 is a longitudinal sectional view of a getter.
【図4】ゲッタの挿入固定を示す説明図である。FIG. 4 is an explanatory diagram showing insertion and fixation of a getter.
【図5】他のゲッタを示す斜視図である。FIG. 5 is a perspective view showing another getter.
【図6】ゲッタの他の配置を示す説明図である。FIG. 6 is an explanatory diagram showing another arrangement of the getter.
【図7】従来のマグネトロンの一例を示す要部断面図で
あるFIG. 7 is a sectional view of a main part showing an example of a conventional magnetron.
1 アノード真空容器 2 陰極部 3 アンテナ 4 アンテナセラミック 5a、5b 陰極サポート 6 陽極筒体 7 ベイン 8、9 磁極 10 内側ストラップリング 11 外側ストラップリング 12 エンドハット 13 トップハット 14 フィラメント 15 貫通孔 16、19 ゲッタ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Anode vacuum container 2 Cathode part 3 Antenna 4 Antenna ceramic 5a, 5b Cathode support 6 Anode cylinder 7 Vane 8, 9 Magnetic pole 10 Inner strap ring 11 Outer strap ring 12 End hat 13 Top hat 14 Filament 15 Through hole 16, 19 Getter
Claims (4)
のベインを有するアノード真空容器と、該容器の中心軸
上に配置される陰極部と、マイクロ波を外部に放出させ
るアンテナとを備えてなるマグネトロンであって、前記
ベインにゲッタが固定されてなるマグネトロン。1. An anode vacuum container having a plurality of vanes radially disposed in an anode cylinder, a cathode portion disposed on a central axis of the container, and an antenna for emitting microwaves to the outside. A magnetron comprising a getter fixed to the vane.
インの側面に形成される貫通孔に挿入固定されている請
求項1記載のマグネトロン。2. The magnetron according to claim 1, wherein said getter has a cylindrical shape, and is inserted and fixed in a through hole formed in a side surface of said vane.
インの貫通孔に挿入固定されている請求項2記載のマグ
ネトロン。3. The magnetron according to claim 2, wherein said cylindrical getter is inserted and fixed in a through hole of said vane with both ends opened.
外径より内側と、外側ストラップリングの外径より外側
の2箇所に設けらている請求項1、2または3記載のマ
グネトロン。4. The magnetron according to claim 1, wherein the getters are provided at two positions inside the outside diameter of the inside strap ring and outside the outside diameter of the outside strap ring.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11063198A JPH11306997A (en) | 1998-04-21 | 1998-04-21 | Magnetron |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11063198A JPH11306997A (en) | 1998-04-21 | 1998-04-21 | Magnetron |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11306997A true JPH11306997A (en) | 1999-11-05 |
Family
ID=14540659
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11063198A Pending JPH11306997A (en) | 1998-04-21 | 1998-04-21 | Magnetron |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH11306997A (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1385191A1 (en) * | 2002-07-18 | 2004-01-28 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Magnetron |
EP2104130A3 (en) * | 2008-03-19 | 2010-04-14 | Panasonic Corporation | Magnetron |
GB2614915A (en) * | 2022-01-25 | 2023-07-26 | British Telecomm | A printed antenna device |
-
1998
- 1998-04-21 JP JP11063198A patent/JPH11306997A/en active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN1329941C (en) * | 2002-07-18 | 2007-08-01 | 松下电器产业株式会社 | Magnetron |
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