JPH11304889A - Test pattern generating device for semiconductor integrated circuit, and test pattern generating method for the semiconductor integrated circuit - Google Patents

Test pattern generating device for semiconductor integrated circuit, and test pattern generating method for the semiconductor integrated circuit

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JPH11304889A
JPH11304889A JP10107805A JP10780598A JPH11304889A JP H11304889 A JPH11304889 A JP H11304889A JP 10107805 A JP10107805 A JP 10107805A JP 10780598 A JP10780598 A JP 10780598A JP H11304889 A JPH11304889 A JP H11304889A
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pattern
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semiconductor integrated
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浩幸 山元
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Yoshinori Nabeta
芳則 鍋田
Tatsuya Kimijima
達也 君島
Kazuo Chiba
一雄 千葉
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To generate a test pattern effective for a stable test of a semiconductor integrated circuit, especially a semiconductor integrated circuit output buffer characteristics test or input buffer characteristics test. SOLUTION: This semiconductor integrated circuit test pattern generating device obtains a combination pattern, comprising a test pattern of which output signal consists of a logic 0 or a logic 1 from combination patterns generated by a combination pattern generating part 10 by a combination pattern obtaining part 11. In the obtained combination pattern, the test pattern is deleted, or execution order is changed in such a way that an output simultaneous change number satisfies a specified allowable output change number for generating the test pattern, in which the output simultaneous change number in a semiconductor integrated circuit, is restricted by a combination pattern determination part 13.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体集積回路の
試験用テストパターンを生成する装置、及び、半導体集
積回路のテストパターンを生成する方法に関わるもので
ある。特に、テストパターンの実行順序が変更可能であ
るテスト容易化回路を備えた半導体集積回路のテストを
行うテストパターンを生成する装置及び方法に関するも
のである。
The present invention relates to an apparatus for generating a test pattern for testing a semiconductor integrated circuit and a method for generating a test pattern for a semiconductor integrated circuit. In particular, the present invention relates to an apparatus and a method for generating a test pattern for testing a semiconductor integrated circuit having a test facilitation circuit in which the execution order of test patterns can be changed.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の技術として、特開平2−9007
7に入力データ生成方式が開示されている。上記特開平
2−90077は、半導体集積回路の出力信号の同時変
化数を抑えて入力データを生成する発明である。図19
に従来技術における入力データ生成手順を示す。まず、
第1ステップ(100)として、LSI(半導体集積回
路)に発生しうる全ての故障を仮定する。第2ステップ
(101)として、上記第1ステップ(100)で仮定
した全故障の中から1つの故障を選択する。第3ステッ
プ(102)として、上記第2ステップで選択した故障
に対して入力データを生成する。第4ステップ(10
4)として、上記第3ステップ(102)で生成した入
力データをメモリに格納する。第1ステップから第4ス
テップまでを繰り返し行い、第1ステップで仮定した全
ての故障について入力データを作成した後、第5ステッ
プ(105)として、生成した全ての入力データについ
て出力同時変化数に対する禁止条件をチックする。第6
ステップ(106)、第7ステップ(107)として、
禁止条件が成立した場合、上記第4ステップ(104)
でメモリに格納した入力データの組み替えを行う。上記
組み替えた入力データについて全ての禁止条件が成り立
つ場合、処理を終了する。
2. Description of the Related Art As a conventional technique, Japanese Patent Laid-Open Publication No.
7 discloses an input data generation method. JP-A-2-90077 is an invention for generating input data while suppressing the number of simultaneous changes of output signals of a semiconductor integrated circuit. FIG.
Fig. 1 shows an input data generation procedure in the related art. First,
As the first step (100), it is assumed that all possible faults occur in an LSI (semiconductor integrated circuit). As a second step (101), one fault is selected from all the faults assumed in the first step (100). As a third step (102), input data is generated for the fault selected in the second step. The fourth step (10
As 4), the input data generated in the third step (102) is stored in the memory. The first to fourth steps are repeated to create input data for all the faults assumed in the first step, and then, as a fifth step (105), for all the generated input data, prohibition on the number of simultaneous changes in output Tick condition. Sixth
Step (106) and seventh step (107)
When the prohibition condition is satisfied, the fourth step (104)
To rearrange the input data stored in the memory. If all the prohibition conditions are satisfied for the rearranged input data, the process ends.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】このように従来技術
は、入力データの組み替えを行い、出力同時変化数を抑
制した入力データを生成する。しかし、入力バッファ特
性試験や出力バッファ特性試験では、全ての半導体集積
回路の入力信号や出力信号が論理0と論理1にトグルす
る必要があるが、特開平2−90077においては、出
力同時変化数の抑制した入力データ生成についてのみ記
載がされているため、入力バッファ及び出力バッファの
特性試験を行うことができないという問題がある。
As described above, in the prior art, input data is rearranged to generate input data in which the number of simultaneous changes in output is suppressed. However, in the input buffer characteristic test and the output buffer characteristic test, it is necessary that input signals and output signals of all the semiconductor integrated circuits toggle between logic 0 and logic 1. Since only the description of the input data generation that suppresses the above is described, there is a problem that the characteristic test of the input buffer and the output buffer cannot be performed.

【0004】また、半導体集積回路の試験では半導体集
積回路の出力信号が同時に多数変化すると、グランドバ
ウンスの電気的な要因により半導体集積回路が誤動作す
ることがある。これにより安定した試験ができなくなる
という問題がある。
In a test of a semiconductor integrated circuit, if a large number of output signals of the semiconductor integrated circuit simultaneously change, the semiconductor integrated circuit may malfunction due to an electrical factor of ground bounce. This causes a problem that a stable test cannot be performed.

【0005】更に、半導体集積回路の入力特性、出力特
性を評価する試験は、機能試験や故障検出を目的とした
試験と比べて時間がかかる。試験時間が長いと半導体集
積回路の製造コストに反映するという問題がある。
Further, a test for evaluating the input characteristics and output characteristics of a semiconductor integrated circuit requires more time than a function test and a test for detecting a failure. If the test time is long, there is a problem that it is reflected in the manufacturing cost of the semiconductor integrated circuit.

【0006】本発明は、この問題を解決するためになさ
れたもので、以下のことを目的とする。半導体集積回路
の出力信号の同時変化数を抑えたテストパターンを生成
することを目的にしている。特に、上記目的を実現する
ために、半導体集積回路にテストパターンの実行順序が
変更可能であるテスト容易化回路を備える。また、出力
同時変化数抑制の為にテストパターンを削除した場合
に、最終的な故障検出率を効率的に算出し、故障検出率
が目標の値に達していない場合、未検出の故障について
テストパターンを生成することを目的にしている。ま
た、周期数の小さい、つまり、テストパターン数の少な
いテストパターンの組み合わせを作成することを目的に
している。
The present invention has been made to solve this problem, and has the following objects. An object of the present invention is to generate a test pattern in which the number of simultaneous changes in output signals of a semiconductor integrated circuit is suppressed. In particular, in order to achieve the above object, a semiconductor integrated circuit is provided with a test facilitation circuit capable of changing the execution order of test patterns. In addition, when the test pattern is deleted to suppress the number of simultaneous changes in output, the final failure detection rate is calculated efficiently, and when the failure detection rate does not reach the target value, the test for undetected failures is performed. It is intended to generate patterns. Another object is to create a combination of test patterns having a small number of cycles, that is, a small number of test patterns.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】この発明に係わる半導体
集積回路のテストパターン生成装置は、テストパターン
の実行順序が変更可能であるテスト容易化回路を備えた
半導体集積回路のテストを行うテストパターンを生成す
る半導体集積回路のテストパターン生成装置において、
以下の要素を備えることを特徴とする。 (a)上記半導体集積回路を試験するためのテストパタ
ーンとして少なくともテスト順と入力データと入力デー
タに対する半導体集積回路の出力期待値とを生成する第
1のテストパターン生成部、(b)故障シュミレーショ
ンを実行して上記半導体集積回路に発生し得る故障を検
出するとともに、上記第1のテストパターン生成部によ
り生成されたテストパターンを実行することにより、上
記検出した故障が検出可能であるかを判断して、上記検
出された故障と上記判断した結果とを故障情報として記
憶する故障検出部、(c)上記第1のテストパターン生
成部により生成された出力期待値について、上記テスト
順に従い先に行うテストパターンの出力期待値と次に行
うテストパターンの出力期待値とを比較し、出力期待値
の変化数をカウントする変化数カウント部、(d)上記
変化数カウント部によりカウントされた出力期待値の変
化数が所定の許容可能な出力変化数を越えているテスト
パターンでのみ検出可能な故障を求め、上記求めた故障
が検出不可能な故障となるように上記故障検出部に記憶
されている故障情報を更新する故障情報更新部、(e)
上記故障情報更新部により更新された故障情報より故障
検出率を求め、上記故障検出率が規定した故障検出率を
満足するように、上記故障情報のうち故障検出不可能で
ある故障についてテストパターンを生成する第2のテス
トパターン生成部、(f)上記第2のテストパターン生
成部により生成されたテストパターンと、上記第1のテ
ストパターン生成部により生成されたテストパターンの
内出力期待値の変化数が所定の許容可能な出力変化数を
満たすテストパターンとを合わせたテストパターンの出
力期待値について、先に実行するテストパターンの出力
期待値と次に実行するテストパターンの出力期待値とを
比較して出力期待値の変化数をカウントし、上記カウン
トされた出力期待値の変化数が所定の許容可能な出力変
化数を越えないように上記合わせたテストパターンの実
行順序を変更する第3のテストパターン生成部。
According to the present invention, there is provided an apparatus for generating a test pattern for a semiconductor integrated circuit, comprising: a test pattern for performing a test on a semiconductor integrated circuit having a test facilitation circuit capable of changing the execution order of the test pattern; In the test pattern generation device for a semiconductor integrated circuit to be generated,
It is characterized by comprising the following elements. (A) a first test pattern generation unit that generates at least a test order, input data, and an expected output value of the semiconductor integrated circuit with respect to the input data as test patterns for testing the semiconductor integrated circuit, and (b) a failure simulation. Executing the test pattern generated by the first test pattern generation unit, and detecting whether the detected fault can be detected by executing the test pattern generated by the first test pattern generation unit. A failure detection unit that stores the detected failure and the result of the determination as failure information; and (c) performs an output expectation value generated by the first test pattern generation unit in accordance with the test order. Compare the expected output value of the test pattern with the expected output value of the next test pattern, and count the number of changes in the expected output value. (D) determining a fault that can be detected only in a test pattern in which the number of changes in the expected output value counted by the change number counting section exceeds a predetermined allowable number of output changes; A failure information updating unit that updates the failure information stored in the failure detecting unit so that the failed failure becomes an undetectable failure; (e)
A failure detection rate is obtained from the failure information updated by the failure information updating unit, and a test pattern is determined for a failure that cannot be detected in the failure information so that the failure detection rate satisfies the specified failure detection rate. A second test pattern generation unit to be generated, (f) a change in the expected output value of the test pattern generated by the second test pattern generation unit and an expected output value of the test pattern generated by the first test pattern generation unit Compare the expected output value of the test pattern to be executed first and the expected output value of the test pattern to be executed next for the expected output value of the test pattern including the test pattern whose number satisfies the predetermined allowable output change number. And the number of changes in the expected output value is counted, so that the counted number of changes in the expected output value does not exceed a predetermined allowable output change number. The third test pattern generating unit for changing the execution order of test patterns to suit above.

【0008】また、この発明に係わる半導体集積回路の
テストパターン生成装置は、テストパターンの実行順序
が変更可能であるテスト容易化回路を備えた半導体集積
回路のテストを行うテストパターンを生成する半導体集
積回路のテストパターン生成装置において、以下の要素
を備えることを特徴とする。 (a)上記半導体集積回路を試験するためのテストパタ
ーンとして少なくともテスト順と入力データと入力デー
タに対する半導体集積回路の出力期待値とを生成して、
上記生成したテストパターンを組み合わせて1つ以上の
テストパターンよりなる組み合わせパターンを生成する
組み合わせパターン生成部、(b)上記組み合わせパタ
ーン生成部により生成された組み合わせパターンから、
上記出力期待値が論理0と論理1のいずれかであるテス
トパターンにより構成されている組み合わせパターンを
取得する組み合わせパターン取得部、(c)上記組み合
わせパターン取得部により取得された組み合わせパター
ンについて、テストパターンのテスト順に従い先に行う
テストパターンの出力期待値と次に行うテストパターン
の出力期待値とを比較し、出力期待値の変化数をカウン
トする変化数カウント部、(d)上記変化数カウント部
によりカウントされた出力期待値の変化数が所定の許容
可能な出力変化数を越えないテストパターンにより構成
される組み合わせパターンを取得する組み合わせパター
ン決定部。
A test pattern generating apparatus for a semiconductor integrated circuit according to the present invention generates a test pattern for testing a semiconductor integrated circuit having a test facilitation circuit capable of changing the execution order of test patterns. The circuit test pattern generation device is characterized by including the following elements. (A) generating at least a test order, input data, and an expected output value of the semiconductor integrated circuit with respect to the input data as a test pattern for testing the semiconductor integrated circuit;
A combination pattern generation unit configured to generate a combination pattern including one or more test patterns by combining the generated test patterns; (b) a combination pattern generated by the combination pattern generation unit;
A combination pattern acquisition unit for acquiring a combination pattern composed of a test pattern whose output expected value is either logic 0 or logic 1; and (c) a test pattern for the combination pattern acquired by the combination pattern acquisition unit. (D) a change number counting unit that compares the expected output value of the test pattern performed first and the expected output value of the test pattern performed next according to the test order and counts the number of changes in the output expected value; A combination pattern determining unit for acquiring a combination pattern composed of test patterns in which the number of changes in the expected output value counted by the above does not exceed a predetermined allowable number of output changes.

【0009】また、上記組み合わせパターン決定部は、
上記組み合わせパターンを構成するテストパターンの数
が少ない組み合わせパターンを優先して取得することを
特徴とする。
[0009] The combination pattern determination section may include:
A combination pattern having a small number of test patterns constituting the combination pattern is preferentially acquired.

【0010】また、上記半導体集積回路のテストパター
ン生成装置は、さらに、上記組み合わせパターン取得部
により取得された組み合わせパターンから、組み合わせ
パターンを構成するテストパターンの入力データが論理
0と論理1のいずれかであるテストパターンにより構成
されている組み合わせパターンを取得する組み合わせパ
ターン絞込部を備え、上記変化数カウント部は、上記組
み合わせパターン絞込部により取得された組み合わせパ
ターンについて、テストパターンのテスト順に従い先に
行うテストパターンの出力期待値と次に行うテストパタ
ーンの出力期待値とを比較し、出力期待値の変化数をカ
ウントすることを特徴とする。
Further, the test pattern generating apparatus for a semiconductor integrated circuit further includes a step of determining whether the input data of the test pattern constituting the combination pattern is logic 0 or logic 1 based on the combination pattern acquired by the combination pattern acquisition section. A combination pattern narrowing-down unit that obtains a combination pattern composed of test patterns that are the same as described above. The number-of-changes counting unit searches for the combination pattern obtained by the combination pattern narrowing-down unit in accordance with the test order of the test pattern. The expected output value of the test pattern to be executed next is compared with the expected output value of the test pattern to be executed next, and the number of changes in the expected output value is counted.

【0011】また、上記半導体集積回路は、上記テスト
パターンの実行順序が変更可能であるテスト容易化回路
として、少なくともスキャン回路及びバウンダリスキャ
ン回路のいずれかを備えることを特徴とする。
Further, the semiconductor integrated circuit includes at least one of a scan circuit and a boundary scan circuit as a test facilitating circuit in which the execution order of the test pattern can be changed.

【0012】また、この発明に係わる半導体集積回路の
テストパターン生成装置は、以下の要素を備えることを
特徴とする。 (a)上記半導体集積回路を試験するためのテストパタ
ーンとして少なくともテスト順と入力データと入力デー
タに対する半導体集積回路の出力期待値とを生成するテ
ストパターン生成部、(b)上記テストパターン生成部
により生成されたテストパターンから、上記半導体集積
回路に対して同一の制御によりテストパターンを印加す
るテストパターンのグループを指定するグループ指定
部、(c)上記グループ指定部により指定されたテスト
パターンについて、テストパターンのテスト順に従い先
に行うテストパターンの出力期待値と次に行うテストパ
ターンの出力期待値とを比較し、出力期待値の変化数を
カウントする変化数カウント部、(d)上記変化数カウ
ント部によりカウントされた出力期待値の変化数が所定
の許容可能な出力変化数を越えないように、少なくとも
テスト順の変更及びテストパターンの削除のいずれかを
行い、テストパターンの実行順序を決定する実行順序決
定部。
[0012] A test pattern generating apparatus for a semiconductor integrated circuit according to the present invention includes the following elements. (A) a test pattern generator for generating at least a test order, input data, and an expected output value of the semiconductor integrated circuit with respect to the input data as test patterns for testing the semiconductor integrated circuit; (b) the test pattern generator A group specifying unit that specifies a group of test patterns for applying a test pattern to the semiconductor integrated circuit under the same control from the generated test pattern; and (c) a test for the test pattern specified by the group specifying unit. A change count unit for comparing the expected output value of the test pattern to be performed first and the expected output value of the test pattern to be performed next in accordance with the test order of the pattern, and counting the number of changes in the expected output value; The number of changes in the expected output value counted by the So as not to exceed the number, do one of the deletion of at least testing order changes and test patterns, execution order determination unit which determines the execution order of the test pattern.

【0013】また、上記テストパターン生成部は、上記
生成したテストパターンを組み合わせて1つ以上のテス
トパターンよりなる組み合わせパターンを生成する組み
合わせパターン生成部を備え、上記半導体集積回路のテ
ストパターン生成装置は、さらに、上記グループ指定部
により指定されたテストパターンから、上記出力期待値
が論理0と論理1のいずれかであるテストパターンによ
り構成されている組み合わせパターンを取得する組み合
わせパターン取得部を備え、上記変化数カウント部は、
上記組み合わせパターン取得部により取得された組み合
わせパターンについて、テストパターンのテスト順に従
い先に行うテストパターンの出力期待値と次に行うテス
トパターンの出力期待値とを比較し、出力期待値の変化
数をカウントすることを特徴とする。
Further, the test pattern generation unit includes a combination pattern generation unit that generates a combination pattern composed of one or more test patterns by combining the generated test patterns. A combination pattern acquisition unit configured to acquire, from the test pattern designated by the group designation unit, a combination pattern constituted by a test pattern whose output expected value is one of logic 0 and logic 1, The change count part is
For the combination pattern acquired by the combination pattern acquisition unit, the expected output value of the test pattern to be performed first is compared with the expected output value of the next test pattern according to the test order of the test pattern, and the number of changes in the expected output value is determined. It is characterized by counting.

【0014】また、この発明に係わる半導体集積回路の
テストパターン生成方法は、テストパターンの実行順序
が変更可能であるテスト容易化回路を備えた半導体集積
回路のテストを行うテストパターンを生成する半導体集
積回路のテストパターン生成方法において、以下の工程
を備えることを特徴とする。 (a)上記半導体集積回路を試験するためのテストパタ
ーンとして少なくともテスト順と入力データと入力デー
タに対する半導体集積回路の出力期待値とを生成する第
1のテストパターン生成工程、(b)故障シュミレーシ
ョンを実行して上記半導体集積回路に発生し得る故障を
検出するとともに、上記第1のテストパターン生成工程
により生成されたテストパターンを実行することによ
り、上記検出した故障が検出可能であるかを判断して、
上記検出された故障と、上記判断した結果とを故障情報
として記憶する故障検出工程、(c)上記第1のテスト
パターン生成工程により生成された出力期待値につい
て、上記テスト順に従い先に行うテストパターンの出力
期待値と次に行うテストパターンの出力期待値とを比較
し、出力期待値の変化数をカウントする変化数カウント
工程、(d)上記変化数カウント工程によりカウントさ
れた出力期待値の変化数が所定の許容可能な出力変化数
を越えているテストパターンでのみ検出可能な故障を求
め、上記求めた故障が検出不可能な故障となるように上
記故障検出工程により記憶された故障情報を更新する故
障情報更新工程、(e)上記故障情報更新工程により更
新された故障情報より故障検出率を求め、上記故障検出
率が規定した故障検出率を満足するように、上記故障情
報のうち故障検出不可能である故障についてテストパタ
ーンを生成する第2のテストパターン生成工程、(f)
上記第2のテストパターン生成工程により生成されたテ
ストパターンと上記第1のテストパターン生成工程によ
り生成されたテストパターンのうち出力期待値の変化数
が所定の許容可能な出力変化数を満たすテストパターン
とを合わせたテストパターンの出力期待値について、先
に実行するテストパターンの出力期待値と次に実行する
テストパターンの出力期待値とを比較して出力期待値の
変化数をカウントし、上記カウントとされた出力期待値
の変化数が所定の許容可能な出力変化数を越えないよう
に上記合わせたテストパターンの実行順序を変更する第
3のテストパターン生成工程。
Further, the method for generating a test pattern for a semiconductor integrated circuit according to the present invention is a semiconductor integrated circuit for generating a test pattern for testing a semiconductor integrated circuit having a test facilitation circuit capable of changing the execution order of the test pattern. A method of generating a test pattern for a circuit includes the following steps. (A) a first test pattern generation step of generating at least a test order, input data, and an expected output value of the semiconductor integrated circuit with respect to the input data as test patterns for testing the semiconductor integrated circuit, and (b) a failure simulation. Executing the test pattern generated in the first test pattern generating step, and detecting whether the detected fault is detectable by executing the test pattern generated in the first test pattern generating step. hand,
A failure detection step of storing the detected failure and the result of the determination as failure information; and (c) a test to be performed first on the output expected value generated in the first test pattern generation step in the test order. A change number counting step of comparing the expected output value of the pattern with the expected output value of the test pattern to be performed next, and counting the number of changes in the expected output value; A fault that can be detected only in a test pattern in which the number of changes exceeds a predetermined allowable output change number is determined, and the fault information stored in the fault detection step is such that the determined fault becomes an undetectable fault. (E) a failure detection rate is determined from the failure information updated in the failure information updating step, and a failure detection rate defined by the failure detection rate is determined. So as to satisfy the rate, the second test pattern generating step of generating a test pattern for fault undetectable is failure among the failure information, (f)
A test pattern in which the number of changes in the expected output value satisfies a predetermined allowable output change number among the test patterns generated in the second test pattern generation step and the test patterns generated in the first test pattern generation step. With respect to the expected output value of the test pattern, the output expected value of the test pattern to be executed first is compared with the expected output value of the test pattern to be executed next, and the number of changes in the expected output value is counted. A third test pattern generating step of changing the execution order of the combined test patterns so that the number of changes in the expected output value does not exceed a predetermined allowable number of changes in output.

【0015】また、この発明に係わる半導体集積回路の
テストパターン生成方法は、テストパターンの実行順序
が変更可能であるテスト容易化回路を備えた半導体集積
回路のテストを行うテストパターンを生成する半導体集
積回路のテストパターン生成方法において、以下の工程
を備えることを特徴とする。 (a)上記半導体集積回路を試験するためのテストパタ
ーンとして少なくともテスト順と入力データと入力デー
タに対する半導体集積回路の出力期待値とを生成して、
上記生成したテストパターンを組み合わせて1つ以上の
テストパターンよりなる組み合わせパターンを生成する
組み合わせパターン生成工程、(b)上記組み合わせパ
ターン生成工程により生成された組み合わせパターンか
ら上記出力期待値が論理0と論理1のいずれかであるテ
ストパターンにより構成されている組み合わせパターン
を取得する組み合わせパターン取得工程、(c)上記組
み合わせパターン取得工程により取得された組み合わせ
パターンについてテストパターンのテスト順に従い先に
行うテストパターンの出力期待値と次に行うテストパタ
ーンの出力期待値とを比較し、出力期待値の変化数をカ
ウントする変化数カウント工程、(d)上記変化数カウ
ント工程によりカウントされた出力期待値の変化数が、
所定の許容可能な出力変化数を越えないテストパターン
により構成される組み合わせパターンを取得する組み合
わせパターン決定工程。
Further, the method for generating a test pattern for a semiconductor integrated circuit according to the present invention is a semiconductor integrated circuit for generating a test pattern for testing a semiconductor integrated circuit having a test facilitation circuit capable of changing the execution order of test patterns. A method of generating a test pattern for a circuit includes the following steps. (A) generating at least a test order, input data, and an expected output value of the semiconductor integrated circuit with respect to the input data as a test pattern for testing the semiconductor integrated circuit;
A combination pattern generating step of generating a combination pattern composed of one or more test patterns by combining the generated test patterns; (b) the output expected value is set to logic 0 and logic 0 from the combination pattern generated by the combination pattern generation step; A combination pattern acquisition step of acquiring a combination pattern constituted by any one of the test patterns, and (c) a combination of the test patterns to be performed first in the test pattern test order for the combination patterns acquired in the combination pattern acquisition step. A change number counting step of comparing the output expected value with the output expected value of the test pattern to be performed next and counting the number of changes in the output expected value; (d) the number of changes in the output expected value counted in the above change number counting step But,
A combination pattern determination step of acquiring a combination pattern composed of test patterns that do not exceed a predetermined allowable number of output changes.

【0016】また、上記半導体集積回路のテストパター
ン生成方法は、さらに、上記組み合わせパターン取得工
程により取得された組み合わせパターンから、組み合わ
せパターンを構成するテストパターンの入力データが論
理0と論理1のいずれかであるテストパターンにより構
成されている組み合わせパターンを取得する組み合わせ
パターン絞込工程を備え、上記変化数カウント工程は、
上記組み合わせパターン絞込工程により取得された組み
合わせパターンについて、テストパターンのテスト順に
従い先に行うテストパターンの出力期待値と次に行うテ
ストパターンの出力期待値とを比較し、出力期待値の変
化数をカウントする工程を備えることを特徴とする。
Further, the test pattern generation method for a semiconductor integrated circuit further includes a step of determining whether the input data of the test pattern constituting the combination pattern is logic 0 or logic 1 based on the combination pattern acquired in the combination pattern acquisition step. A combination pattern narrowing-down step of acquiring a combination pattern constituted by test patterns that are:
For the combination pattern obtained in the above combination pattern narrowing step, the output expected value of the test pattern to be performed first is compared with the output expected value of the next test pattern according to the test order of the test pattern, and the number of changes in the output expected value is calculated. Counting step.

【0017】また、この発明に係わる半導体集積回路の
テストパターン生成方法は、以下の工程を備えることを
特徴とする。 (a)上記半導体集積回路を試験するためのテストパタ
ーンとして少なくともテスト順と入力データと入力デー
タに対する半導体集積回路の出力期待値とを生成するテ
ストパターン生成工程、(b)上記テストパターン生成
工程により生成されたテストパターンから、上記半導体
集積回路に対して同一の制御によりテストパターンを印
加するテストパターンのグループを指定するグループ指
定工程、(c)上記グループ指定工程により指定された
テストパターンのテスト順に従い先に行うテストパター
ンの出力期待値と次に行うテストパターンの出力期待値
とを比較し、出力期待値の変化数をカウントする変化数
カウント工程、(d)上記変化数カウント工程によりカ
ウントとされた出力期待値の変化数が所定の許容可能な
出力変化数を越えないように、少なくともテスト順の変
更及びテストパターンの削除のいずれかを行い、テスト
パターンの実行順序を決定する実行順序決定工程。
Further, a method for generating a test pattern for a semiconductor integrated circuit according to the present invention includes the following steps. (A) a test pattern generating step of generating at least a test order, input data, and an expected output value of the semiconductor integrated circuit with respect to the input data as a test pattern for testing the semiconductor integrated circuit, and (b) the test pattern generating step. A group designation step of designating a group of test patterns to which a test pattern is applied to the semiconductor integrated circuit from the generated test pattern by the same control; (c) a test order of the test patterns designated by the group designation step Comparing the expected output value of the first test pattern with the expected output value of the next test pattern, and counting the number of changes in the expected output value. Output change exceeds the specified allowable output change. Oddly, it does one of the deletion of at least testing order changes and test patterns, execution order determination step of determining the execution order of test patterns.

【0018】さらに、上記テストパターン生成工程は、
上記生成したテストパターンを組み合わせて1つ以上の
テストパターンよりなる組み合わせパターンを生成する
組み合わせパターン生成工程を備え、上記半導体集積回
路のテストパターン生成方法は、さらに、上記グループ
指定工程により指定されたテストパターンから、上記出
力期待値が論理0と論理1のいずれかであるテストパタ
ーンにより構成されている組み合わせパターンを取得す
る組み合わせパターン取得工程を備え、上記変化数カウ
ント工程は、上記組み合わせパターン取得工程により取
得された組み合わせパターンについて、テストパターン
のテスト順に従い先に行うテストパターンの出力期待値
と次に行うテストパターンの出力期待値とを比較し、出
力期待値の変化数をカウントすることを特徴とする。
Further, the test pattern generating step includes:
The method for generating a test pattern for a semiconductor integrated circuit further includes a combination pattern generation step of generating a combination pattern composed of one or more test patterns by combining the generated test patterns. A combination pattern acquisition step of acquiring, from the pattern, a combination pattern formed by a test pattern in which the output expected value is one of logic 0 and logic 1, and the number-of-changes counting step is performed by the combination pattern acquisition step. For the obtained combination pattern, the output expected value of the test pattern to be performed first and the output expected value of the next test pattern to be performed are compared in accordance with the test order of the test pattern, and the number of changes in the output expected value is counted. I do.

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】実施の形態1.本発明の半導体集
積回路のテストパターン生成装置及び半導体集積回路の
テストパターン生成方法について、以下に説明を行う。
本発明に係わる半導体集積回路のテストパターン生成装
置及びテストパターン生成方法は、半導体集積回路のテ
スト容易化回路として少なくともスキャン回路およびバ
ウンダリスキャン回路のいずれかを用いた故障検出、お
よび、特性試験のテストパターンを生成する装置及び方
法である。まず、半導体集積回路の信号経路上に一つの
み存在する単一縮退故障を検出できるようなテストパタ
ーンをATPG(ATPGは、Automatic T
est Pattern Generationの略、
半導体集積回路の故障を検出するためのテストパターン
を自動的に生成するプログラムのこと)を用いて生成す
る。このATPGのアルゴリズムについては、例えば、
渡部誠:編著「超LSI設計」株式会社企画センター:
発行(昭和58年)P.198〜207に示されてい
る。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiment 1 A test pattern generation device for a semiconductor integrated circuit and a test pattern generation method for a semiconductor integrated circuit according to the present invention will be described below.
A test pattern generation apparatus and a test pattern generation method for a semiconductor integrated circuit according to the present invention provide a test for failure detection and a characteristic test using at least one of a scan circuit and a boundary scan circuit as a test facilitation circuit for a semiconductor integrated circuit. An apparatus and method for generating a pattern. First, a test pattern that can detect a single stuck-at fault existing only on a signal path of a semiconductor integrated circuit is defined as an ATPG (ATPG is an Automatic T
abbreviation of est Pattern Generation,
A program for automatically generating a test pattern for detecting a failure of a semiconductor integrated circuit). For the ATPG algorithm, for example,
Watanabe Makoto: Compilation "Super LSI Design" Planning Center Co., Ltd .:
Published (1983) 198-207.

【0020】ここで生成されたテストパターンは、半導
体集積回路の入力信号からテストパターンを与えるフェ
ーズ、スキャン回路又はバウンダリスキャン回路にテス
トパターンをシリアルにスキャンするフェーズ、半導体
集積回路の出力信号で試験結果を観測するフェーズに分
けられ、この3つのフェーズを繰り返し行うテストパタ
ーンである。1つのフェーズで1つの試験は完結して、
次のフェーズでは、前に実行した結果は影響しない。こ
のため、テストパターンを実行する順番を変更しても、
故障検出の為の試験や特性試験は、何の問題もない。
The test pattern generated here includes a phase in which a test pattern is applied from an input signal of the semiconductor integrated circuit, a phase in which the test pattern is serially scanned by a scan circuit or a boundary scan circuit, and a test result based on an output signal of the semiconductor integrated circuit. Is a test pattern that is divided into phases for observing the above, and these three phases are repeated. One trial is completed in one phase,
In the next phase, the results of the previous run have no effect. Therefore, even if you change the order in which test patterns are executed,
The test and the characteristic test for fault detection have no problem.

【0021】次に、生成されたテストパターン出力信号
(以下この実施の形態1〜6では、出力信号の期待値を
単に出力信号と称するものとする)の変化を次の試験で
行うテストパターンの出力と比較することにより、出力
信号の変化数をカウントし、半導体集積回路の特性や半
導体集積回路を封印するパッケージの特性や、半導体集
積回路の試験環境などから割り出した許容可能な出力同
時変化数を越えた部分を全てのテストパターンについて
検索する。許容値を越えた部分のテストパターンを対象
に、出力信号の同時変化数が許容値を満足するようにテ
ストパターンの順番を変更したり、或いは、削除すると
いう手法を用いて、出力信号の同時変化数を抑えたテス
トパターンを生成する。
Next, a change in the generated test pattern output signal (hereinafter, in the first to sixth embodiments, the expected value of the output signal is simply referred to as an output signal) is used to change the test pattern in the next test. By comparing with the output, the number of changes in the output signal is counted, and the allowable number of simultaneous output changes determined from the characteristics of the semiconductor integrated circuit, the characteristics of the package that seals the semiconductor integrated circuit, and the test environment of the semiconductor integrated circuit. Is searched for all test patterns. By changing the order of the test patterns so that the number of simultaneous changes of the output signal satisfies the allowable value, or deleting the test signals in the portion of the test pattern that exceeds the allowable value, Generate a test pattern with a reduced number of changes.

【0022】図1は、上記した半導体集積回路のテスト
パターン生成方法を説明するためのフローチャートであ
る。図2と図3は、図1に示した手順により生成される
テストパターンの具体例を示す図である。
FIG. 1 is a flow chart for explaining the above-described method for generating a test pattern for a semiconductor integrated circuit. FIG. 2 and FIG. 3 are diagrams showing specific examples of the test patterns generated by the procedure shown in FIG.

【0023】まず、半導体集積回路のテスト容易化回路
であるスキャン回路やバウンダリスキャン回路に対し
て、ATPGのアルゴリズムで初期パターンを生成(S
100)する。
First, an initial pattern is generated by an ATPG algorithm for a scan circuit or a boundary scan circuit which is a test facilitation circuit of a semiconductor integrated circuit (SPG).
100).

【0024】ATPGのアルゴリズムで生成されたテス
トパターンは、半導体集積回路の全ての入力信号から値
を印加するフェーズ、スキャン回路やバウンダリスキャ
ン回路にシリアルにテストパターンをシフトするフェー
ズ、半導体集積回路の全ての出力信号で期待値を観測す
るフェーズに分けられ、この3つのフェーズを繰り返す
というテストパターンである。そして、繰り返しパター
ンの順番を変更しても、何の問題もなく試験を行うこと
ができる特徴がある。本発明は、スキャン回路およびバ
ウンダリスキャン回路のテストにおけるこの特徴を利用
したものである。
The test pattern generated by the ATPG algorithm includes a phase for applying values from all input signals of the semiconductor integrated circuit, a phase for serially shifting the test pattern to a scan circuit or a boundary scan circuit, Is a test pattern that is divided into phases for observing the expected value with the output signal of the above, and these three phases are repeated. There is a characteristic that the test can be performed without any problem even if the order of the repetitive patterns is changed. The present invention takes advantage of this feature in testing scan circuits and boundary scan circuits.

【0025】次に、初期パターンの中で、半導体集積回
路の出力信号の期待値の変化に着目して、各テストパタ
ーン毎に何本の出力信号が変化するかカウント(S10
1)する。
Next, focusing on the change in the expected value of the output signal of the semiconductor integrated circuit in the initial pattern, the number of output signals that change for each test pattern is counted (S10).
1) Yes.

【0026】最後に、予め、半導体集積回路の特性や半
導体集積回路を封印するパッケージの特性や、半導体集
積回路の試験環境などから割り出した許容可能な出力同
時変化数を越えた部分を全てのテストパターンについて
検索する。半導体集積回路の出力が同時に多数変化する
と、グランドバウンスが起こる場合がある。このため、
測定信号や半導体集積回路自体の入力信号にノイズがの
り、安定した試験ができなくなる。出力同時変化数の
「許容可能な」値は、出力バッファ容量、半導体集積回
路の試験環境、(出力ピンやDUT(Device U
nter Test)カードにつくインダクタンス成
分)などから、人が経験により値を推定する。検索の結
果、許容値以上のテストパターンについては、出力の同
時変化数が許容値を満足するようにテストパターンの順
番を変更したり、あるいは、そのテストパターンを削除
(S102)することにより、出力同時変化数を抑えた
テストパターンを形成する。
Finally, all the parts exceeding the allowable number of simultaneous output changes determined from the characteristics of the semiconductor integrated circuit, the characteristics of the package for sealing the semiconductor integrated circuit, the test environment of the semiconductor integrated circuit, etc. Search for a pattern. When a large number of outputs of the semiconductor integrated circuit change at the same time, ground bounce may occur. For this reason,
Noise is added to the measurement signal and the input signal of the semiconductor integrated circuit itself, and a stable test cannot be performed. The "acceptable" value of the number of simultaneous changes in the output includes the output buffer capacity, the test environment of the semiconductor integrated circuit, the output pin and the DUT (Device U).
A person estimates the value from experience based on the inductance component attached to the card. As a result of the search, for the test patterns exceeding the allowable value, the order of the test patterns is changed so that the number of simultaneous changes of the output satisfies the allowable value, or the test pattern is deleted (S102). A test pattern in which the number of simultaneous changes is suppressed is formed.

【0027】図2は、ATPGのアルゴリズムを用いて
生成された初期のテストパターンの出力信号の期待値と
同時変化数(SSO)の数を示している。出力信号の変
化数をカウントすると、パターン識別ID No.1の
テストパターンからNo.2のテストパターンの間で出
力の同時変化数は、9である。No.2からNo.3の
間の出力同時変化数は、15である。No.3からN
o.4の間の出力の同時変化数は、8である。この半導
体集積回路の出力の許容値は、半導体集積回路の特性や
半導体集積回路を封印するパッケージの特性や、半導体
集積回路の試験環境などから、11であるとすると、N
o.2からNo.3の間で出力の同時変化数15は、許
容値を越えている。このテストパターンで半導体集積回
路の試験を行うと、この出力同時変化数の許容値を越え
たNo.2からNo.3の間でグランドバウンスが発生
し、安定した試験を行うことができなくなる可能性があ
る。
FIG. 2 shows the expected value of the output signal of the initial test pattern generated by using the ATPG algorithm and the number of simultaneous changes (SSO). When the number of changes in the output signal is counted, the pattern identification ID No. No. 1 from the test pattern No. 1 The number of simultaneous changes in output between the two test patterns is nine. No. 2 to No. 2 The number of simultaneous output changes during 3 is 15. No. 3 to N
o. The number of simultaneous changes in the output during 4 is 8. Assuming that the allowable value of the output of the semiconductor integrated circuit is 11 from the characteristics of the semiconductor integrated circuit, the characteristics of the package for sealing the semiconductor integrated circuit, the test environment of the semiconductor integrated circuit, etc., N
o. 2 to No. 2 The number of simultaneous changes 15 in the output between 3 exceeds the allowable value. When a test of the semiconductor integrated circuit is performed using this test pattern, the number of the output exceeding the allowable value of the number of simultaneous changes in output is no. 2 to No. 2 There is a possibility that a ground bounce occurs between the three and a stable test cannot be performed.

【0028】そこで、図1示したフローチャートに基づ
き、テストパターンの順番を変更した。図3に、その例
を示す。テストパターンの順番をNo.1―>No.3
―>No.4―>No.2と変更することにより、最大
の同時変化数は、No.1からNo.3の間の10とな
り、許容値11以下となる。この図1のアルゴリズムを
適用することにより、出力の同時変化数を小さくするこ
とができ、安定した試験を行うことができるようにな
る。
Therefore, the order of the test patterns was changed based on the flowchart shown in FIG. FIG. 3 shows an example. The test pattern order is No. 1-> No. 3
-> No. 4 → No. By changing to 2, the maximum number of simultaneous changes is No. 1 to No. It becomes 10 between 3 and becomes the allowable value 11 or less. By applying the algorithm of FIG. 1, the number of simultaneous changes in output can be reduced, and a stable test can be performed.

【0029】実施の形態2.実施の形態2では、上記実
施の形態1において出力同時変化数抑制の為にテストパ
ターンを削除した場合に、故障検出率が規定した故障検
出率を満足する様にテストパターンを生成する半導体集
積回路のテストパターン生成装置、及び、テストパター
ン生成方法について、以下に説明を行う。
Embodiment 2 In the second embodiment, when a test pattern is deleted to suppress the number of simultaneous changes in output in the first embodiment, a semiconductor integrated circuit that generates a test pattern so that the failure detection rate satisfies a specified failure detection rate The test pattern generation device and test pattern generation method will be described below.

【0030】まず、削除したテストパターンを用いて、
故障シュミレーションを行い、検出可能な故障を求め
る。上記求めた検出可能な故障と、初期のテストパター
ンで検出可能な故障とにより故障検出率を求める。求め
た故障検出率は、正確な故障検出率ではないが、テスト
パターンを削除した場合の最悪値である。この故障検出
率が目標の故障検出率に達していない場合、削除したテ
ストパターンで検出できる故障と初期のテストパターン
で検出不可能な故障を対象としたテストパターン生成を
行い、新たなテストパターンを得る。この新たなテスト
パターンを出力の同時変化数が許容値内に収まるよう
に、初期のテストパターンから上記実施の形態1におい
て削除した許容値を超えるテストパターンに挿入する。
これにより、出力信号の同時変化数を抑え、目標の故障
検出率のテストパターンを生成することができる。
First, using the deleted test pattern,
A failure simulation is performed to find a detectable failure. The fault detection rate is obtained from the detectable faults obtained above and the faults detectable in the initial test pattern. The obtained failure detection rate is not an accurate failure detection rate, but is the worst value when the test pattern is deleted. If the failure detection rate does not reach the target failure detection rate, test patterns are generated for failures that can be detected with the deleted test pattern and failures that cannot be detected with the initial test pattern, and a new test pattern is generated. obtain. This new test pattern is inserted into the test pattern exceeding the allowable value deleted in the first embodiment from the initial test pattern so that the number of simultaneous changes in the output falls within the allowable value.
As a result, the number of simultaneous changes in the output signal can be suppressed, and a test pattern with a target failure detection rate can be generated.

【0031】図4は、実施の形態2の半導体集積回路の
テストパターン生成装置の構成を示す図である。図5
は、実施の形態2の半導体集積回路のテストパターン生
成方法を説明するためのフローチャートである。図6
は、総故障と未検出故障の関係を説明するための図であ
る。
FIG. 4 is a diagram showing a configuration of a test pattern generation device for a semiconductor integrated circuit according to the second embodiment. FIG.
9 is a flowchart for explaining a test pattern generation method for a semiconductor integrated circuit according to the second embodiment. FIG.
FIG. 4 is a diagram for explaining a relationship between a total failure and an undetected failure.

【0032】以下に図について説明を行う。図4におい
て、1は、第1のテストパターン生成部であり、半導体
集積回路のテスト容易化回路であるスキャン回路やバウ
ンダリスキャン回路に対して、ATPGのアルゴリズム
を用いて初期のテストパターンを生成する。図5のS2
00の初期パターン生成処理は、第1のテストパターン
生成部1により実行される。2は、故障検出部であり、
故障シュミレーションを実行して上記半導体集積回路に
発生し得る故障を検出する。そして、検出した故障が初
期のテストパターンにより検出可能であるか否かを判断
する。検出した故障と判断した結果は、故障情報として
故障情報記憶部3に記憶する。図5のS200の故障辞
書を生成する処理は、故障検出部2により実行される。
4は、変化数カウント部であり、初期のテストパターン
の中で、半導体集積回路の出力信号の期待値の変化に着
目して、各テストパターン毎に何本の出力信号が変化す
るかをカウントする。図5のS201の出力同時変化数
をカウントする処理は、変化数カウント部4により実行
される。5は、故障情報更新部であり、変化数カウント
部4によりカウントされた出力同時変化数が許容可能な
出力変化数を越えているテストパターンのみにより検出
可能な故障を検出する。そして、検出した結果に基づい
て、故障情報記憶部3に記憶されている故障情報を更新
する。図5のS203の故障情報更新の処理は、故障情
報更新部5により実行される。6は、第2のテストパタ
ーン生成部であり、故障情報記憶部に記憶されている故
障情報に基づいて故障検出率を計算する。そして、計算
した故障検出率が規定した故障検出率を満足するよう
に、故障の検出が不可能である故障についてテストパタ
ーンを生成する。図5のS204のテストパターン生成
処理は、第2のテストパターン生成部6により実行され
る。7は、第3のテストパターン生成部であり、第2の
テストパターン生成部6により生成されたテストパター
ンと、第1のテストパターン生成部1により生成された
テストパターンとにより実行順序を決定する。この時、
変化数カウント部4によりカウントされた出力同時変化
数が許容可能な出力変化数を越えているテストパターン
を、第1のテストパターン生成部1により生成されたテ
ストパターンから除く。また、出力同時変化数が所定の
許容可能な出力変化数を越えないようにテストパターン
の実行順序を決定する。図5のS205の出力同時変化
数を満足する位置にテストパターンを挿入する処理は、
第3のテストパターン生成部7により実行される。
The following is a description of the drawings. In FIG. 4, reference numeral 1 denotes a first test pattern generation unit, which generates an initial test pattern for a scan circuit or a boundary scan circuit, which is a test facilitation circuit of a semiconductor integrated circuit, using an ATPG algorithm. . S2 in FIG.
The initial pattern generation process of 00 is executed by the first test pattern generation unit 1. 2 is a failure detection unit,
A fault simulation is performed to detect a fault that may occur in the semiconductor integrated circuit. Then, it is determined whether or not the detected failure can be detected based on the initial test pattern. The result of the determined failure is stored in the failure information storage unit 3 as failure information. The process of generating the failure dictionary in S200 of FIG.
Reference numeral 4 denotes a change number counting unit, which counts how many output signals change in each test pattern in an initial test pattern by focusing on a change in an expected value of an output signal of the semiconductor integrated circuit. I do. The process of counting the number of simultaneous changes in the output in S201 of FIG. Reference numeral 5 denotes a failure information updating unit that detects a failure that can be detected only by a test pattern in which the number of simultaneous changes in output counted by the number-of-changes counting unit 4 exceeds an allowable number of output changes. Then, the failure information stored in the failure information storage unit 3 is updated based on the detected result. The process of updating the failure information in S203 of FIG. 5 is executed by the failure information updating unit 5. Reference numeral 6 denotes a second test pattern generation unit that calculates a failure detection rate based on the failure information stored in the failure information storage unit. Then, a test pattern is generated for a fault for which a fault cannot be detected so that the calculated fault detection rate satisfies the specified fault detection rate. The test pattern generation processing of S204 in FIG. 5 is executed by the second test pattern generation unit 6. Reference numeral 7 denotes a third test pattern generation unit, which determines the execution order based on the test patterns generated by the second test pattern generation unit 6 and the test patterns generated by the first test pattern generation unit 1. . At this time,
A test pattern in which the number of simultaneous output changes counted by the change number counting section 4 exceeds an allowable number of output changes is excluded from the test patterns generated by the first test pattern generation section 1. Further, the execution order of the test patterns is determined so that the number of simultaneous output changes does not exceed a predetermined allowable number of output changes. The process of inserting a test pattern at a position that satisfies the output simultaneous change number in S205 in FIG.
This is executed by the third test pattern generator 7.

【0033】図5のフローチャトに従い、半導体集積回
路のテストパターン生成方法を説明する。図5のS20
0は、第1のテストパターン生成工程と故障検出工程で
ある。S200からS202までの処理は、上記実施の
形態1の図1のS100からS102とほぼ同じ処理で
ある。S200では、初期のテストパターンを生成する
とともに、故障検出部2により故障シュミレーションを
実行して、故障情報を生成する。図6の総故障20は、
半導体集積回路に発生し得る故障であり、図6の検出故
障22は、第1のテストパターン生成部1により検出可
能な故障である。S200では、総故障20と検出故障
と未検出故障21とが故障情報として求められる。S2
02では、出力の同時変化数を満足しないテストパター
ンを削除する。テストパターンを削除した後、故障情報
更新工程において、故障情報更新部5により故障シュミ
レーションを行い、この削除したテストパターンで検出
可能な故障(図6の23)を求める。そして、S200
の第1のテストパターン生成工程で得られていた図6の
検出故障22と削除したパターンで検出される故障23
との差をとり、故障情報記憶部3に記憶されている故障
情報を更新する(S203)。S203で求める差は、
初期パターンから所定のテストパターンを削除(S20
2)した後のテストパターンで検出される故障の全てで
はない。つまり、削除したテストパターンで検出可能な
故障(図5の23)のいくつかは、削除したテストパタ
ーン以外のテストパターンによって検出することができ
る可能性があり、故障情報記憶部3に記憶された更新後
の故障情報は、第1のテストパターン生成部1により生
成されたテストパターンから出力の同時変化数を満足し
ないテストパターンを削除した残りのテストパターンに
より最低検出できる故障である。
A method of generating a test pattern for a semiconductor integrated circuit will be described with reference to the flowchart of FIG. S20 in FIG.
0 is a first test pattern generation step and a failure detection step. The processing from S200 to S202 is almost the same as the processing from S100 to S102 in FIG. 1 of the first embodiment. In S200, an initial test pattern is generated, and a fault simulation is performed by the fault detection unit 2 to generate fault information. The total failure 20 in FIG.
This is a fault that can occur in the semiconductor integrated circuit, and the fault 22 detected in FIG. 6 is a fault that can be detected by the first test pattern generator 1. In S200, the total fault 20, the detected fault, and the undetected fault 21 are obtained as fault information. S2
In step 02, test patterns that do not satisfy the number of simultaneous changes in output are deleted. After the test pattern is deleted, in the fault information updating step, a fault simulation is performed by the fault information updating unit 5 to obtain a fault (23 in FIG. 6) detectable by the deleted test pattern. And S200
6 and the fault 23 detected by the deleted pattern in FIG.
Then, the fault information stored in the fault information storage unit 3 is updated (S203). The difference determined in S203 is
A predetermined test pattern is deleted from the initial pattern (S20
2) Not all of the faults detected in the test pattern after the test. That is, some of the faults (23 in FIG. 5) that can be detected by the deleted test pattern may be detected by a test pattern other than the deleted test pattern, and are stored in the fault information storage unit 3. The updated failure information is a failure that can be detected at least by the remaining test patterns obtained by deleting test patterns that do not satisfy the number of simultaneous changes in output from the test patterns generated by the first test pattern generation unit 1.

【0034】次に、第2のテストパターン生成部6によ
り、第2のテストパターン生成工程(S204)を実行
する。第2のテストパターン生成工程では、まず、故障
情報記憶部3に記憶されている故障情報を基に故障検出
率を計算する。故障検出率は、図6の総故障20と検出
故障22から削除したテストパターンで検出される故障
23を除いた検出故障との比により計算する。そして、
計算した故障検出率が規定の故障検出率を満足しないと
き、故障情報記憶部3に記憶されている故障情報の内、
故障検出が不可能である故障を対象に、テストパターン
の生成を行う。故障検出不可能な故障は、図6の未検出
故障21と削除したテストパターンで検出される故障2
3とを合わせたものである。
Next, the second test pattern generation section 6 executes a second test pattern generation step (S204). In the second test pattern generation step, first, a failure detection rate is calculated based on the failure information stored in the failure information storage unit 3. The fault detection rate is calculated from the ratio of the total fault 20 in FIG. 6 to the detected fault excluding the fault 23 detected by the test pattern deleted from the detected fault 22. And
When the calculated failure detection rate does not satisfy the prescribed failure detection rate, the failure information stored in the failure information storage unit 3 includes:
A test pattern is generated for a fault for which fault detection is not possible. Failures that cannot be detected include failures 21 detected in FIG. 6 and failures 2 detected in the deleted test pattern.
3 and 3.

【0035】最後に、S202において出力同時変化数
が許容可能な出力変化数を越えるテストパターンを削除
した後のテストパターンに対して、第2のテストパター
ン生成工程であるS204において生成されたテストパ
ターンを挿入して、テストパターンの実行順序を決定す
る。この時、出力同時変化数が許容値を満足する位置に
テストパターンを挿入(S205)する。
Finally, the test pattern in which the number of simultaneous changes in output exceeds the allowable number of changes in output in S202 is deleted, and the test pattern generated in S204, which is the second test pattern generation step, is deleted. To determine the execution order of the test patterns. At this time, a test pattern is inserted at a position where the number of simultaneous changes in output satisfies the allowable value (S205).

【0036】このアルゴリズムをテストパターン生成に
適用することにより、同時変化数を抑え、かつ、故障検
出率の高い安定した試験を行なうことができるテストパ
ターンを生成することができる。
By applying this algorithm to test pattern generation, it is possible to generate a test pattern capable of suppressing the number of simultaneous changes and performing a stable test with a high fault detection rate.

【0037】実施の形態3.実施の形態3では、半導体
集積回路の出力バッファ特性評価用のテストパターンを
生成するスキャン回路またはバウンダリスキャン回路を
実装した半導体集積回路のテストパターン生成装置及び
テストパターン生成方法について以下に説明する。
Embodiment 3 In the third embodiment, a test pattern generation device and a test pattern generation method for a semiconductor integrated circuit on which a scan circuit or a boundary scan circuit for generating a test pattern for evaluating the output buffer characteristics of the semiconductor integrated circuit will be described.

【0038】実施の形態3で説明する半導体集積回路の
テスト容易化回路であるスキャン回路およびバウンダリ
スキャン回路を用いた半導体集積回路の故障検出用また
は特性試験用のテストパターン生成方法では、まず、初
期のテストパターンを生成する。次に、生成されたテス
トパターンの出力値を検索し、半導体集積回路の全ての
出力信号が論理0および論理1になるテストパターンを
抽出する。その際に、テストパターンの数が最小になる
テストパターンを抽出する。これにより、半導体集積回
路の出力バッファ特性評価用のテストパターンを生成す
ることができる。
In the test pattern generation method for detecting a failure or testing a characteristic of a semiconductor integrated circuit using a scan circuit and a boundary scan circuit as a test facilitating circuit of the semiconductor integrated circuit described in the third embodiment, first, Generate a test pattern for Next, an output value of the generated test pattern is searched, and a test pattern in which all output signals of the semiconductor integrated circuit become logic 0 and logic 1 is extracted. At this time, a test pattern that minimizes the number of test patterns is extracted. As a result, a test pattern for evaluating the output buffer characteristics of the semiconductor integrated circuit can be generated.

【0039】図7は、実施の形態3における半導体集積
回路のテストパターン生成装置の構成図である。図8
は、実施の形態3における半導体集積回路のテストパタ
ーン生成方法のフローチャートである。図9と図10
は、図8に示した手順により生成されるテストパターン
の具体例を示す図である。以下に図7から図10を用い
て、実施の形態3における半導体集積回路のテストパタ
ーン生成装置及びテストパターン生成方法を説明する。
FIG. 7 is a configuration diagram of a test pattern generation device for a semiconductor integrated circuit according to the third embodiment. FIG.
11 is a flowchart of a test pattern generation method for a semiconductor integrated circuit according to the third embodiment. 9 and 10
FIG. 9 is a diagram showing a specific example of a test pattern generated by the procedure shown in FIG. Hereinafter, a test pattern generation device and a test pattern generation method for a semiconductor integrated circuit according to the third embodiment will be described with reference to FIGS.

【0040】図7において、10は、組み合わせパター
ン生成部であり、上記実施の形態1の図1S100の処
理において作成したテストパターンを複数組み合わせて
組み合わせパターンを生成する。図8のS300の初期
パターン生成処理は、組み合わせパターン生成部10に
より実行される。11は、組み合わせパターン取得部で
あり、組み合わせパターン生成部10により生成された
組み合わせパターンより、出力期待値が論理0及び論理
1のいずれかであるテストパターンにより構成される組
み合わせパターンを取得する。図9に示すテストパター
ンは、出力期待値が論理0及び論理1のいずれかにより
構成されているが、出力期待値は論理0と論理1の他に
不定値を示す“X”を含む場合もある。図8のS301
の検索処理は、組み合わせパターン取得部11により実
行される。12は、変化数カウント部であり、組み合わ
せパターン取得部11により取得された組み合わせパタ
ーンを構成するテストパターンの出力期待値を、上記実
施の形態2の図4の変化数カウント部4と同様にカウン
トする。図8のS302の出力同時変化数のカウント処
理は、変化数カウント部12により実行される。13
は、組み合わせパターン決定部であり、変化数カウント
部12によりカウントされた出力期待値の変化数が所定
の許容可能な出力変化数を満足するテストパターンによ
り構成される組み合わせパターンを取得する。この時、
テストパターンの実行順序を変更することにより出力期
待値の変化数が所定の許容可能な出力変化数を満足する
ようにしてもかまわない。さらに、出力期待値の変化数
が所定の許容可能な出力変化数を満足しないテストパタ
ーンを組み合わせパターンより削除してもかまわない。
なお、実施の形態3では、組み合わせパターン決定部1
3は、組み合わせパターンを構成するテストパターンの
数が少ない組み合わせパターンを優先して、組み合わせ
パターンを取得する。図8のS303の順番の変更処理
及びS304の処理終了判定は、組み合わせパターン決
定部13により実行される。
In FIG. 7, reference numeral 10 denotes a combination pattern generation unit, which generates a combination pattern by combining a plurality of test patterns created in the process of FIG. 1S100 of the first embodiment. The initial pattern generation processing of S300 in FIG. 8 is executed by the combination pattern generation unit 10. Reference numeral 11 denotes a combination pattern acquisition unit, which acquires a combination pattern composed of a test pattern whose output expected value is one of logic 0 and logic 1 from the combination pattern generated by the combination pattern generation unit 10. The test pattern shown in FIG. 9 has an expected output value of either logic 0 or logic 1, but the expected output value may include “X” indicating an indefinite value in addition to logic 0 and logic 1. is there. S301 in FIG.
Is performed by the combination pattern acquisition unit 11. Reference numeral 12 denotes a change number counting unit which counts the expected output value of the test pattern constituting the combination pattern acquired by the combination pattern acquisition unit 11 in the same manner as the change number counting unit 4 of FIG. I do. The process of counting the number of simultaneous changes in the output in S302 of FIG. 13
Is a combination pattern determination unit that acquires a combination pattern composed of a test pattern in which the number of changes in the expected output value counted by the change number counting unit 12 satisfies a predetermined allowable number of output changes. At this time,
By changing the execution order of the test patterns, the change number of the expected output value may satisfy a predetermined allowable change number of the output. Further, a test pattern in which the number of changes in the expected output value does not satisfy the predetermined allowable number of changes in output may be deleted from the combination pattern.
In the third embodiment, the combination pattern determination unit 1
No. 3 acquires a combination pattern by giving priority to a combination pattern in which the number of test patterns constituting the combination pattern is small. The change processing of the order in S303 and the end determination of the processing in S304 in FIG. 8 are executed by the combination pattern determination unit 13.

【0041】図8のフローチャートに従い、半導体集積
回路のテストパターン生成方法を説明する。図8のS3
00の処理は、組み合わせパターン生成工程である。S
300の処理は、上記実施の形態1の図1のS100と
ほぼ同様の処理である。S300では、生成したテスト
パターンを複数組み合わせて組み合わせパターンを生成
する。次に、S301の組み合わせパターン取得工程に
より、全ての出力信号が論理0と論理1になるテストパ
ターンの組み合わせを、S300で作成した組み合わせ
パターンより取得する。そして、S301で取得した組
み合せパターンの中から、組み合わせパターンを構成す
るテストパターン数の少ないものを優先的に後述のS3
02からS304の処理を行なう。S302からS30
4の処理は、S301で取得した全ての組み合わせパタ
ーンについて行う(S305)。まず、S302の変化
数カウント工程により、テストパターンの出力信号の同
時変化数をカウントし、S303の組み合わせパターン
決定工程により、S302でカウントされた出力同時変
化数が所定の許容値を満足するように、テストパターン
の実行順序を変更、或いは、テストパターンの削除を行
う。組み合わせパターンを構成する全てのテストパター
ンが、所定の許容値を満足する出力同時変化数であれ
ば、実行順序の変更やテストパターンの削除は行わな
い。S303の処理で同時変化数が許容値を満足しない
場合(S304)、S302の処理から繰り返して、許
容値を満足する組み合わせパターンを探す処理を行な
う。
A method for generating a test pattern for a semiconductor integrated circuit will be described with reference to the flowchart of FIG. S3 in FIG.
The process of 00 is a combination pattern generation step. S
The process of 300 is substantially the same as the process of S100 of FIG. 1 of the first embodiment. In S300, a combination pattern is generated by combining a plurality of the generated test patterns. Next, in the combination pattern acquisition step of S301, a combination of test patterns in which all output signals are logic 0 and logic 1 is acquired from the combination pattern created in S300. Then, among the combination patterns acquired in S301, the combination pattern having the smaller number of test patterns constituting the combination pattern is preferentially used in S3 described later.
02 to S304 are performed. S302 to S30
The processing of No. 4 is performed for all the combination patterns acquired in S301 (S305). First, the number of simultaneous changes in the output signal of the test pattern is counted in the number-of-changes counting step of S302, and the number of simultaneous changes in the output counted in S302 satisfies a predetermined allowable value in the combination pattern determining step of S303. , The execution order of the test patterns is changed, or the test patterns are deleted. If all the test patterns constituting the combination pattern have the number of simultaneous output changes satisfying the predetermined allowable value, the execution order is not changed or the test pattern is not deleted. If the number of simultaneous changes does not satisfy the allowable value in the process of S303 (S304), the process of searching for a combination pattern that satisfies the allowable value is repeated from the process of S302.

【0042】上記図8のアルゴリズムを図9と図10を
使って説明する。図9は、S300においてATPGで
得られた初期のテストパターンである。出力の同時変化
数は15であり、出力の同時変化数の許容値11を越え
ているとする。図9に示すテストパターンは、全ての出
力信号が、論理0と論理1に変化している。そして、組
み合わせパターンを構成するテストパターンの数が最小
であるとする。そこで、図8のS302からS304の
処理をこのパターンに対して適用すると、図10に示し
たテストパターンを最終的に得ることができる。図10
に示したテストパターン数は、3であり、出力の同時変
化数は最大で9であり、許容値11以内を満足してい
る。
The algorithm of FIG. 8 will be described with reference to FIGS. 9 and 10. FIG. 9 shows an initial test pattern obtained by ATPG in S300. It is assumed that the number of simultaneous changes in the output is 15, which exceeds the allowable value 11 of the number of simultaneous changes in the output. In the test pattern shown in FIG. 9, all output signals are changed to logic 0 and logic 1. Then, it is assumed that the number of test patterns constituting the combination pattern is the minimum. Therefore, if the processing from S302 to S304 in FIG. 8 is applied to this pattern, the test pattern shown in FIG. 10 can be finally obtained. FIG.
Is 3 and the number of simultaneous changes in the output is 9 at the maximum, which satisfies the allowable value 11 or less.

【0043】図8のアルゴリズムにより、周期数の短
い、つまり、テストパターン数の少ないテストパターン
で出力同時変化数を抑えた半導体集積回路の出力バッフ
ァの特性試験用のテストパターンを生成することができ
る。これにより、初期のテストパターンを用いた試験よ
りも短い時間で、かつ、より安定した試験を行なうこと
ができる。
By using the algorithm shown in FIG. 8, a test pattern for a characteristic test of an output buffer of a semiconductor integrated circuit in which the number of simultaneous changes in output is suppressed by a test pattern having a short cycle number, ie, a small test pattern number, can be generated. . As a result, a more stable test can be performed in a shorter time than a test using an initial test pattern.

【0044】実施の形態4.実施の形態4では、バウン
ダリスキャン回路を適用した半導体集積回路のテストパ
ターン生成装置及びテストパターン生成方法について説
明する。
Embodiment 4 FIG. Fourth Embodiment In a fourth embodiment, a test pattern generation device and a test pattern generation method for a semiconductor integrated circuit to which a boundary scan circuit is applied will be described.

【0045】まず、初期のテストパターンを生成する。
次に、生成されたテストパターンの入力値を検索し、半
導体集積回路の全ての入力信号が論理0および論理1に
なるテストパターンを抽出する。その際に、テストパタ
ーンの数が最小になるテストパターンを抽出する。バウ
ンダリスキャン回路は、入力信号に設定された値をバウ
ンダリスキャンレジスタでラッチし、その値がバウンダ
リスキャン回路のシリアル出力でスキャン出力されるの
で、前述の方法で抽出したテストパターンで半導体集積
回路の入力バッファの閾値電圧測定することができる。
First, an initial test pattern is generated.
Next, the input value of the generated test pattern is searched to extract a test pattern in which all input signals of the semiconductor integrated circuit become logic 0 and logic 1. At this time, a test pattern that minimizes the number of test patterns is extracted. The boundary scan circuit latches the value set in the input signal by the boundary scan register, and the value is scanned and output by the serial output of the boundary scan circuit. Therefore, the input of the semiconductor integrated circuit is performed using the test pattern extracted by the above-described method. The threshold voltage of the buffer can be measured.

【0046】このように、バウンダリスキャン回路を用
いれば、入力信号に設定したデータは、バウンダリスキ
ャンレジスタにラッチされ、そのデータは、バウンダリ
スキャン回路のシリアル出力に現れるため、半導体集積
回路の入力バッファの特性を測定することは可能であ
る。
As described above, when the boundary scan circuit is used, the data set in the input signal is latched in the boundary scan register, and the data appears on the serial output of the boundary scan circuit. It is possible to measure properties.

【0047】図11は、実施の形態4の半導体集積回路
のテストパターン生成装置の構成を示す図である。図1
2は、実施の形態4の半導体集積回路のテストパターン
生成方法を説明するためのフローチャートである。図1
3と図14は、図12に示した手順により生成されるテ
ストパターンの具体例を示す図である。以下に図につい
て説明を行う。
FIG. 11 is a diagram showing a configuration of a test pattern generation device for a semiconductor integrated circuit according to the fourth embodiment. FIG.
FIG. 2 is a flowchart for explaining a test pattern generation method for a semiconductor integrated circuit according to the fourth embodiment. FIG.
FIGS. 3 and 14 are diagrams showing specific examples of test patterns generated by the procedure shown in FIG. The figures will be described below.

【0048】図11において、組み合わせパターン生成
部10と組み合わせパターン取得部11は、上記実施の
形態3の図7の組み合わせパターン生成部10と組み合
わせパターン取得部11と同じ動作を行う。14は、組
み合わせパターン絞込部であり、組み合わせパターン取
得部11により取得された組み合わせパターンを構成す
るテストパターンの入力データが、論理0及び論理1の
いずれかであるテストパターンにより構成されている組
み合わせパターンを取得する。図12のS402の検索
処理は、組み合わせパターン絞込部14により実行され
る。変化数カウント部12は、上記実施の形態3の変化
数カウント部12と同じ動作をするが、組み合わせパタ
ーン絞込部14により取得された組み合わせパターンを
構成するテストパターンの出力同時変化数をカウントす
る。組み合わせパターン決定部13は、上記実施の形態
3の組み合わせパターン決定部13と同じ動作を行う。
In FIG. 11, the combination pattern generation unit 10 and the combination pattern acquisition unit 11 perform the same operations as the combination pattern generation unit 10 and the combination pattern acquisition unit 11 of the third embodiment shown in FIG. Numeral 14 denotes a combination pattern narrowing-down unit, in which the input data of the test pattern constituting the combination pattern acquired by the combination pattern acquisition unit 11 is composed of a test pattern which is either logical 0 or logical 1. Get a pattern. The search processing of S402 in FIG. 12 is executed by the combination pattern narrowing unit 14. The change number counting unit 12 operates in the same manner as the change number counting unit 12 of the third embodiment, but counts the number of simultaneous output changes of the test patterns constituting the combination pattern acquired by the combination pattern narrowing unit 14. . The combination pattern determination unit 13 performs the same operation as the combination pattern determination unit 13 of the third embodiment.

【0049】図12のフローチャートに従い、半導体集
積回路のテストパターン生成方法を説明する。図12の
S400とS401とS406の処理は、上記実施の形
態3の図8のS300とS301とS305の処理と同
じ処理を行う。また、S402とS407の処理は、組
み合わせパターン絞込工程であり、S402の処理で取
得された組み合わせパターンを対象に、組み合わせパタ
ーンを構成するテストパターンの入力データが、論理0
及び論理1のいずれかであるテストパターンにより構成
されている組み合わせパターンを取得する。S402の
処理は、S401で取得された全ての組み合わせパター
ンに対して行う(S407)。S403の処理は、S4
02で取得された組み合わせパターンを対象に行う。S
404の処理とS405の処理は、上記実施の形態3の
図8のS303とS304の処理と同じ処理である。こ
のように、全ての出力信号が論理0および論理1になる
組み合せを検索した後のテストパターンに対して、更
に、S402で全ての入力データ(入力データは、入力
信号と称することもある)が論理0および論理1になる
組み合せを検索する。このS402の処理を上記実施の
形態3の図8に追加することにより、テストパターン数
が少なく、出力信号の同時変化数を抑えた半導体集積回
路の入力バッファ特性試験用のテストパターンを作成す
ることができる。
A method for generating a test pattern for a semiconductor integrated circuit will be described with reference to the flowchart of FIG. The processes in S400, S401, and S406 in FIG. 12 are the same as the processes in S300, S301, and S305 in FIG. The processing of S402 and S407 is a combination pattern narrowing-down step. For the combination pattern acquired in the processing of S402, the input data of the test pattern forming the combination pattern is a logical 0
And a combination pattern composed of a test pattern that is one of logic 1 and logic 1. The process of S402 is performed on all the combination patterns acquired in S401 (S407). The process in S403 is performed in S4
02 is performed on the combination pattern acquired in step S02. S
The processing of 404 and the processing of S405 are the same as the processing of S303 and S304 in FIG. 8 of the third embodiment. As described above, for the test pattern after searching for the combination in which all the output signals have the logic 0 and the logic 1, all the input data (the input data may be referred to as the input signal) is further processed in S402. Search for a combination that results in a logical 0 and a logical 1. By adding the processing of S402 to FIG. 8 of the third embodiment, a test pattern for input buffer characteristic test of a semiconductor integrated circuit with a small number of test patterns and a reduced number of simultaneous changes in output signals can be created. Can be.

【0050】図13は、図12のS400でATPGを
用いて生成した初期のテストパターンであり、出力の同
時変化数は、15と出力同時変化数の許容値11を越え
ている。このため、入力バッファの特性試験用のテスト
パターンとしては、このままでは使用することができな
い。図12に示した処理をこの図13に示すテストパタ
ーンに対して適用した結果を図14に示す。図14で
は、出力の同時変化数は最大で9となり、許容値11を
満足している。さらに、テストパターン数も3であり、
少ないテストパターン数である。このように、図11に
示す構成をした半導体集積回路のテストパターン生成装
置及び図12示す手順を備える半導体集積回路のテスト
パターン生成方法とにより、半導体集積回路の入力バッ
ファ特性試験用のテストパターンを得ることがき、初期
のテストパターンを用いた試験よりもテストパターン数
を少なく、かつ、より安定した試験を行なうことができ
る。
FIG. 13 shows an initial test pattern generated by using the ATPG in S400 of FIG. 12. The number of simultaneous changes in the output exceeds 15 and the allowable value 11 of the number of simultaneous changes in the output. Therefore, it cannot be used as it is as a test pattern for the characteristic test of the input buffer. FIG. 14 shows the result of applying the processing shown in FIG. 12 to the test pattern shown in FIG. In FIG. 14, the number of simultaneous changes in the output is 9 at the maximum, which satisfies the allowable value 11. Furthermore, the number of test patterns is 3,
The number of test patterns is small. As described above, the test pattern for the input buffer characteristic test of the semiconductor integrated circuit is formed by the test pattern generation apparatus for the semiconductor integrated circuit having the configuration shown in FIG. 11 and the test pattern generation method for the semiconductor integrated circuit having the procedure shown in FIG. As a result, the number of test patterns is smaller than that of a test using an initial test pattern, and a more stable test can be performed.

【0051】実施の形態5.実施の形態5では、テスト
パターン中に同一の制御を行うことにより、テストの実
行順序を変更しても半導体集積回路の動作に影響しない
部分を指定する。例えば、演算回路とメモリ間のデータ
バス上のデータ転送が、それに当たる。上記指定した部
分のテストパターンについて実行順序を変更することに
より、出力信号の同時変化数が予め規定した許容可能な
同時変化数以内に収まるようにテストパターンを生成す
る半導体集積回路のテストパターン生成装置と半導体集
積回路のテストパターン生成方法とを説明する。
Embodiment 5 FIG. In the fifth embodiment, by performing the same control during the test pattern, a portion that does not affect the operation of the semiconductor integrated circuit even if the test execution order is changed is specified. For example, data transfer on the data bus between the arithmetic circuit and the memory corresponds to this. A test pattern generation apparatus for a semiconductor integrated circuit, which generates a test pattern such that the number of simultaneous changes of an output signal falls within a predetermined allowable number of simultaneous changes by changing the execution order for the test pattern of the specified portion. And a test pattern generation method for a semiconductor integrated circuit will be described.

【0052】図15は、実施の形態5における半導体集
積回路のテストパターン生成装置の構成を示す図であ
る。図16は、実施の形態5における半導体集積回路の
テストパターン生成方法を説明するためのフローチャー
トである。以下、図について説明を行う。
FIG. 15 is a diagram showing a configuration of a test pattern generation device for a semiconductor integrated circuit according to the fifth embodiment. FIG. 16 is a flowchart illustrating a test pattern generation method for a semiconductor integrated circuit according to the fifth embodiment. Hereinafter, the drawings will be described.

【0053】図15において、30は、テストパターン
生成部であり、上記実施の形態2の図4の第1のテスト
パターン生成部1と同じ動作を行う。図16のS503
のテストパターン生成処理は、テストパターン生成部3
0により実行される。31は、グループ指定部であり、
テストパターン生成部30により生成されたテストパタ
ーンのうち、同一の制御によりテストパターンを半導体
集積回路に印加させるテストパターンのグループを指定
する。図16のS500の繰り返しテストパターンを印
可する部分を指定する処理は、グループ指定部31によ
り実行される。32は、変化数カウント部であり、グル
ープ指定部31により指定されたグループを対象に、上
記実施の形態2の図4の変化数カウント部4と同様に出
力同時変化数をカウントする。図16のS501のカウ
ント処理は、変化数カウント部32により実行される。
33は、実行順序決定部であり、変化数カウント部32
によりカウントされた出力同時変化数が所定の許容可能
な出力変化数を満足するようにテストパターンの実行順
序を変更したり、所定の許容可能な出力変化数を越える
テストパターンを削除して、テストパターンの実行順序
を決定する。図16のS502の処理は、実行順序決定
部33により実行される。
In FIG. 15, reference numeral 30 denotes a test pattern generator, which performs the same operation as the first test pattern generator 1 of FIG. 4 of the second embodiment. S503 in FIG.
The test pattern generation process of the test pattern generation unit 3
Performed by 0. 31 is a group designation part,
From the test patterns generated by the test pattern generation unit 30, a group of test patterns for applying the test patterns to the semiconductor integrated circuit under the same control is specified. The process of designating the portion to which the repetitive test pattern is applied in S500 of FIG. Numeral 32 denotes a change number counting unit, which counts the number of simultaneous output changes for the group specified by the group specifying unit 31, similarly to the change number counting unit 4 in FIG. 4 of the second embodiment. The counting process of S501 in FIG. 16 is executed by the change number counting unit 32.
Reference numeral 33 denotes an execution order determination unit, and the number-of-changes counting unit 32
The test pattern execution order is changed so that the number of simultaneous output changes counted by the above satisfies the predetermined allowable output change number, or the test pattern exceeding the predetermined allowable output change number is deleted, and the test is performed. Determine the execution order of the patterns. The process of S502 in FIG. 16 is executed by the execution order determining unit 33.

【0054】次に、図16のフローチャートに従い、半
導体集積回路のテストパターン生成方法について説明を
行う。まず、テストパターン生成工程において、上記実
施の形態1の図1のS100と同じようにATPGを用
いてテストパターンを生成する(S503)。次に、グ
ループ指定工程において、S503で生成したテストパ
ターンの中で、同一の制御により半導体集積回路にテス
トパターンを繰り返し印加する部分を指定(S500)
する。テストパターンを繰り返し印加する部分は、例え
ば、連続したメモリ領域のデータを繰り返し読み出した
り、書き出したりする処理などに相当する。そして、変
化数カウント工程において、S500で指定した部分の
テストパターンについて出力信号の同時変化数をカウン
ト(S501)する。最後に、実行順序決定工程におい
て、S501でカウントした出力同時変化数が許容値を
越えているテストパターンの順番を変更または削除し
て、出力同時変化数を抑えたテストパターンを生成する
(S502)。このように、図16のアルゴリズムを用
いることにより、初期のテストパターンを用いた試験よ
りも、より安定した試験を行なうことができる。
Next, a method of generating a test pattern for a semiconductor integrated circuit will be described with reference to the flowchart of FIG. First, in the test pattern generation step, a test pattern is generated using the ATPG as in S100 of FIG. 1 of the first embodiment (S503). Next, in the group designation step, a portion to which the test pattern is repeatedly applied to the semiconductor integrated circuit under the same control is designated from among the test patterns generated in S503 (S500).
I do. The portion to which a test pattern is repeatedly applied corresponds to, for example, a process of repeatedly reading and writing data in a continuous memory area. Then, in the change number counting step, the number of simultaneous changes of the output signal is counted for the test pattern of the portion designated in S500 (S501). Finally, in the execution order determination step, the order of the test patterns in which the number of simultaneous changes in output counted in S501 exceeds the allowable value is changed or deleted to generate a test pattern in which the number of simultaneous changes in output is suppressed (S502). . Thus, by using the algorithm of FIG. 16, a more stable test can be performed than a test using an initial test pattern.

【0055】実施の形態6.実施の形態6では、テスト
パターン中に同一の制御を行うことにより、テストパタ
ーンの実行順序を変更しても半導体集積回路の動作に影
響しない部分を指定する。例えば、演算回路とメモリ間
のデータバス上のデータ転送が、それに当たる。さら
に、半導体集積回路の全ての出力信号が論理0および論
理1に変化するテストパターンを抽出する。その際、テ
ストパターン数が最小になるようにする。これにより、
出力バッファ特性試験用のテストパターンを生成するこ
とができる半導体集積回路のテストパターン生成装置と
半導体集積回路のテストパターン生成方法とを説明す
る。
Embodiment 6 FIG. In the sixth embodiment, by performing the same control during the test pattern, a portion that does not affect the operation of the semiconductor integrated circuit even if the execution order of the test pattern is changed is specified. For example, data transfer on the data bus between the arithmetic circuit and the memory corresponds to this. Further, a test pattern in which all output signals of the semiconductor integrated circuit change to logic 0 and logic 1 is extracted. At that time, the number of test patterns is minimized. This allows
A test pattern generation device for a semiconductor integrated circuit and a test pattern generation method for a semiconductor integrated circuit that can generate a test pattern for an output buffer characteristic test will be described.

【0056】図17は、実施の形態6における半導体集
積回路のテストパターン生成装置の構成を示す図であ
る。図18は、実施の形態6における半導体集積回路の
テストパターン生成方法を説明するフローチャートであ
る。以下、図について説明を行う。
FIG. 17 is a diagram showing a configuration of a test pattern generation device for a semiconductor integrated circuit according to the sixth embodiment. FIG. 18 is a flowchart illustrating a test pattern generation method for a semiconductor integrated circuit according to the sixth embodiment. Hereinafter, the drawings will be described.

【0057】図17において、テストパターン生成部3
0とグループ指定部31は、上記実施の形態5の図15
のテストパターン生成部30とグループ指定部31と同
じ動作を行う。但し、テストパターン生成部30は、組
み合わせパターン生成部30aを備えており、組み合わ
せパターン生成部30aは、テストパターン生成部30
が生成したテストパターンを複数組み合わせて組み合わ
せテストパターンを生成する。図18のS605のテス
トパターン生成処理は、テストパターン生成部30と組
み合わせパターン生成部30aとにより実行される。図
18のS600の繰り返しテストパターンを印可する部
分を指定する処理は、グループ指定部31により実行さ
れる。34は、組み合わせパターン取得部であり、上記
実施の形態3の図7の組み合わせパターン取得部11と
同じ動作を行う。図18のS601の検索処理は、組み
合わせパターン取得部34により実行される。35は、
変化数カウント部であり、組み合わせパターン取得部3
4により取得された組み合わせパターンを構成するテス
トパターンの出力同時変化数を、上記実施の形態3の図
7の変化数カウント部12と同じ動作によりカウントす
る。図18のS602のカウント処理は、変化数カウン
ト部35により実行される。33は、実行順序決定部で
あり、変化数カウント部35によりカウントされた出力
同時変化数が、所定の許容可能な出力変化数を越えない
ようにテストパターンの実行順序を変更する。図18の
S603とS604の処理は、実行順序決定部33によ
り実行される。
In FIG. 17, the test pattern generator 3
0 and the group designation unit 31 are the same as those in FIG.
Perform the same operation as the test pattern generation unit 30 and the group designation unit 31. However, the test pattern generation unit 30 includes a combination pattern generation unit 30a, and the combination pattern generation unit 30a
Generates a combined test pattern by combining a plurality of test patterns generated by the. The test pattern generation processing of S605 in FIG. 18 is executed by the test pattern generation unit 30 and the combination pattern generation unit 30a. The process of designating the part to which the repetitive test pattern is applied in S600 of FIG. 18 is executed by the group designation unit 31. Reference numeral 34 denotes a combination pattern acquisition unit that performs the same operation as that of the combination pattern acquisition unit 11 in FIG. 7 of the third embodiment. The search processing of S601 in FIG. 18 is executed by the combination pattern acquisition unit 34. 35 is
A change count unit, and a combination pattern acquisition unit 3
The number of simultaneous changes in the output of the test pattern constituting the combination pattern obtained in step 4 is counted by the same operation as the change number counting unit 12 in FIG. 7 of the third embodiment. The counting process of S602 in FIG. 18 is executed by the change number counting unit 35. An execution order determination unit 33 changes the execution order of the test patterns so that the number of simultaneous output changes counted by the change number counting unit 35 does not exceed a predetermined allowable output change number. The processes of S603 and S604 in FIG. 18 are executed by the execution order determining unit 33.

【0058】図18のフローチャートに従い、半導体集
積回路のテストパターン生成方法を説明する。まず、S
605のテストパターン生成工程により、テストパター
ンを生成し、さらに、組み合わせパターン生成工程によ
り、上記生成したテストパターンを複数組み合わせて組
み合わせテストパターンを生成する。次に、S600の
グループ指定工程により、テストパターンの中で同一の
制御によりテストパターンを繰り返し印加する部分を指
定する。このような部分は、例えば、連続したメモリ領
域のデータを繰り返し読み出したり、書き出したりする
処理などに相当する。そして、S601の組み合わせパ
ターン取得工程により、S600で指定された繰り返し
印可する部分を対象に、全ての出力信号が論理0および
論理1になるテストパターンの組み合せを検索する。検
索した組み合せのテストパターンの中から、テストパタ
ーン数の少ないものから優先的に後述のS602からS
604の処理を行なう。S602の変化数カウント工程
では、テストパターンの出力信号の同時変化数をカウン
トし、S603の実行順序決定工程により、出力同時変
化数の許容値以上のテストパターンの順番を変更する。
この変更で出力同時変化数が許容値を満足しない場合
(S604)、別のテストパターンの組み合せで出力同
時変化数のカウント処理を行い、許容値を満足するテス
トパターンを探すように、上記S602からS604の
処理を繰り返し行なう。
A test pattern generation method for a semiconductor integrated circuit will be described with reference to the flowchart of FIG. First, S
A test pattern is generated in a test pattern generation step 605, and a combination test pattern is generated by combining a plurality of the generated test patterns in a combination pattern generation step. Next, in the group designation step of S600, a portion to which the test pattern is repeatedly applied is designated by the same control in the test pattern. Such a portion corresponds to, for example, a process of repeatedly reading or writing data in a continuous memory area. Then, in the combination pattern acquisition step of S601, a combination of test patterns in which all output signals are logic 0 and logic 1 is searched for the portion to be repeatedly applied specified in S600. From the test patterns of the retrieved combinations, those having a smaller number of test patterns are preferentially executed from S602 to S
Step 604 is performed. In the number-of-changes counting step of S602, the number of simultaneous changes in the output signal of the test pattern is counted, and in the execution order determination step of S603, the order of the test patterns equal to or more than the allowable number of simultaneous changes in output is changed.
If the number of simultaneous changes in output does not satisfy the allowable value due to this change (S604), the process of counting the number of simultaneous changes in output is performed with another combination of test patterns, and the above-described steps from S602 are performed so as to search for a test pattern satisfying the allowable value. The processing of S604 is repeatedly performed.

【0059】上記図18のアルゴリズムにより、周期数
の短いテストパターン、つまり、テストパターン数の少
ないテストパターンで出力同時変化数を抑えた半導体集
積回路の出力バッファの特性試験用のテストパターンを
生成することができ、初期のテストパターンを用いた試
験よりも、短い時間でより安定した試験を行なうことが
できる。
By the algorithm shown in FIG. 18, a test pattern having a short cycle number, that is, a test pattern having a small number of test patterns and a test pattern for testing the characteristics of an output buffer of a semiconductor integrated circuit in which the number of simultaneous changes in output is suppressed is generated. Thus, a more stable test can be performed in a shorter time than a test using an initial test pattern.

【0060】[0060]

【発明の効果】以上のように、この発明の半導体集積回
路テストパターン生成装置と半導体集積回路のテストパ
ターン生成方法では、半導体集積回路の出力信号の同時
変化数を抑えたテストパターンを生成することができる
ようになり、半導体集積回路の試験時にグランドバウン
スの電気的な要因による半導体集積回路の誤動作が起こ
らないテストパターンを生成することができる効果があ
る。また、半導体集積回路の試験を行う時、半導体集積
回路に従来からあるテスト容易化回路であるスキャン回
路やバウンダリスキャン回路の他に特別なテスト回路を
追加する必要がないため、テスト回路のオーバーヘッド
が生じない効果がある。また、半導体集積回路の故障検
出用のテストパターン生成において、出力信号の同時変
化数を抑えるとともに、規定の故障検出率を満足するテ
ストパターンを生成することができる効果がある。
As described above, the semiconductor integrated circuit test pattern generating apparatus and the semiconductor integrated circuit test pattern generating method of the present invention generate a test pattern in which the number of simultaneous changes in the output signal of the semiconductor integrated circuit is suppressed. This makes it possible to generate a test pattern in which a malfunction of the semiconductor integrated circuit due to an electrical factor of ground bounce does not occur at the time of testing the semiconductor integrated circuit. In addition, when testing a semiconductor integrated circuit, it is not necessary to add a special test circuit to the semiconductor integrated circuit in addition to a scan circuit and a boundary scan circuit which are conventional test facilitating circuits. There is an effect that does not occur. Further, in generating a test pattern for detecting a failure in a semiconductor integrated circuit, the number of simultaneous changes in output signals can be suppressed, and a test pattern that satisfies a prescribed failure detection rate can be generated.

【0061】また、半導体集積回路の出力信号の同時変
化数を抑え、かつ、出力バッファの特性試験用の最小周
期、つまり、テストパターン数の少ないテストパターン
を生成することができる効果がある。
Further, the number of simultaneous changes of the output signal of the semiconductor integrated circuit can be suppressed, and the minimum period for the characteristic test of the output buffer, that is, a test pattern with a small number of test patterns can be generated.

【0062】また、入力バッファの閾値電圧測定用のテ
ストパターンを生成することができる効果がある。
Further, there is an effect that a test pattern for measuring the threshold voltage of the input buffer can be generated.

【0063】また、例えば、連続したメモリ領域のデー
タを繰り返し読み出したり、書き出したりする処理の試
験を半導体集積回路に対して行う場合、同一の制御によ
りテストパターンを繰り返し半導体集積回路に印可する
部分を指定することができるので、テストパターンの生
成を容易に行えるとともに、半導体集積回路の特定の動
作に対する試験を確実に行うことができる効果がある。
Further, for example, when a test of a process of repeatedly reading or writing data in a continuous memory area is performed on a semiconductor integrated circuit, a portion for repeatedly applying a test pattern to the semiconductor integrated circuit under the same control is used. Since the designation can be made, the test pattern can be easily generated, and a test for a specific operation of the semiconductor integrated circuit can be surely performed.

【0064】さらに、例えば、連続したメモリ領域のデ
ータを繰り返し読み出したり、書き出したりする処理の
試験を半導体集積回路に対して行う場合、同一の制御に
よりテストパターンを繰り返し半導体集積回路に印可す
る部分を指定することができるとともに、テストパター
ン数の少ないテストパターンにより出力同時変化数を抑
えた半導体集積回路の出力バッファの特性試験用のテス
トパターンを生成することができる。このため、短い時
間で半導体集積回路の出力バッファの特性試験を行うこ
とが出きる効果がある。
Further, for example, when a test of a process of repeatedly reading and writing data in a continuous memory area is performed on a semiconductor integrated circuit, a portion for repeatedly applying a test pattern to the semiconductor integrated circuit under the same control is used. It is possible to generate a test pattern for the characteristic test of the output buffer of the semiconductor integrated circuit in which the number of simultaneous changes can be suppressed by the test pattern having a small number of test patterns. Therefore, there is an effect that a characteristic test of the output buffer of the semiconductor integrated circuit can be performed in a short time.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 実施の形態1に係わるスキャン回路またはバ
ウンダリスキャン回路を実装した半導体集積回路の出力
同時変化数を抑制したテストパターン生成の一つの例を
示すフローチャート図。
FIG. 1 is a flowchart illustrating an example of test pattern generation in which the number of simultaneous changes in the output of a semiconductor integrated circuit on which a scan circuit or a boundary scan circuit according to a first embodiment is mounted is suppressed;

【図2】 実施の形態1に係わるスキャン回路またはバ
ウンダリスキャン回路を実装した半導体集積回路の出力
同時変化数を抑制したテストパターン生成の一つの例を
説明するための図。
FIG. 2 is a view for explaining one example of test pattern generation in which the number of simultaneous changes in the output of a semiconductor integrated circuit mounted with a scan circuit or a boundary scan circuit according to the first embodiment is suppressed.

【図3】 実施の形態1に係わるスキャン回路またはバ
ウンダリスキャン回路を実装した半導体集積回路の出力
同時変化数を抑制したテストパターン生成の一つの例を
説明するための図。
FIG. 3 is a diagram for explaining an example of test pattern generation in which the number of simultaneous changes in the output of the semiconductor integrated circuit on which the scan circuit or the boundary scan circuit according to the first embodiment is mounted is suppressed;

【図4】 実施の形態2に係わるスキャン回路またはバ
ウンダリスキャン回路を実装した半導体集積回路のテス
トパターン生成装置の構成図。
FIG. 4 is a configuration diagram of a test pattern generation device for a semiconductor integrated circuit on which a scan circuit or a boundary scan circuit according to a second embodiment is mounted.

【図5】 実施の形態2に係わるスキャン回路またはバ
ウンダリスキャン回路を実装した半導体集積回路の同時
変化数を抑制し、かつ、故障検出率を考慮したテストパ
ターン生成の一つの例を説明するためのフローチャート
図。
FIG. 5 is a view for explaining one example of test pattern generation in which the number of simultaneous changes of a semiconductor integrated circuit mounted with a scan circuit or a boundary scan circuit according to the second embodiment is suppressed and a failure detection rate is taken into account; The flowchart figure.

【図6】 実施の形態2に係わるスキャン回路またはバ
ウンダリスキャン回路を実装した半導体集積回路の同時
変化数を抑制し、かつ、故障検出率を考慮したテストパ
ターン生成の一つの例を説明するための故障の分類を示
す図。
FIG. 6 is a view for explaining one example of test pattern generation in which the number of simultaneous changes of a semiconductor integrated circuit mounted with a scan circuit or a boundary scan circuit according to the second embodiment is suppressed and a failure detection rate is taken into account; The figure which shows the classification of a failure.

【図7】 実施の形態3に係わるスキャン回路およびバ
ウンダリスキャン回路を実装した半導体集積回路のテス
トパターン生成装置の構成図。
FIG. 7 is a configuration diagram of a test pattern generation device for a semiconductor integrated circuit on which a scan circuit and a boundary scan circuit according to a third embodiment are mounted.

【図8】 実施の形態3に係わるスキャン回路およびバ
ウンダリスキャン回路を実装した半導体集積回路の同時
変化数を抑制した半導体集積回路の出力バッファ特性試
験用のテストパターン生成の一つの例を説明するための
フローチャート図。
FIG. 8 is a view for explaining an example of test pattern generation for an output buffer characteristic test of a semiconductor integrated circuit in which the number of simultaneous changes of the semiconductor integrated circuit on which the scan circuit and the boundary scan circuit according to the third embodiment are mounted is suppressed; FIG.

【図9】 実施の形態3に係わるスキャン回路およびバ
ウンダリスキャン回路を実装した半導体集積回路の同時
変化数を抑制した半導体集積回路の出力バッファ特性試
験用のテストパターン生成の一つの例を説明する図。
FIG. 9 is a view for explaining an example of test pattern generation for an output buffer characteristic test of a semiconductor integrated circuit in which the number of simultaneous changes of the semiconductor integrated circuit on which the scan circuit and the boundary scan circuit according to the third embodiment are mounted is suppressed; .

【図10】 実施の形態3に係わるスキャン回路および
バウンダリスキャン回路を実装した半導体集積回路の同
時変化数を抑制した半導体集積回路の出力バッファ特性
試験用のテストパターン生成の一つの例を説明する図。
FIG. 10 is a diagram illustrating one example of test pattern generation for an output buffer characteristic test of a semiconductor integrated circuit in which the number of simultaneous changes of a semiconductor integrated circuit on which a scan circuit and a boundary scan circuit according to a third embodiment are mounted is suppressed; .

【図11】 実施の形態4に係わるスキャン回路および
バウンダリスキャン回路を実装した半導体集積回路のテ
ストパターン生成装置の構成図。
FIG. 11 is a configuration diagram of a test pattern generation device for a semiconductor integrated circuit on which a scan circuit and a boundary scan circuit according to a fourth embodiment are mounted.

【図12】 実施の形態4に係わるバウンダリスキャン
回路を実装した半導体集積回路の同時変化数を抑制した
半導体集積回路の入力バッファ特性試験用のテストパタ
ーン生成の一つの例を説明するためのフローチャート
図。
FIG. 12 is a flowchart for explaining an example of test pattern generation for an input buffer characteristic test of a semiconductor integrated circuit in which the number of simultaneous changes of the semiconductor integrated circuit on which the boundary scan circuit according to the fourth embodiment is mounted is suppressed; .

【図13】 実施の形態4に係わるバウンダリスキャン
回路を実装した半導体集積回路の同時変化数を抑制した
半導体集積回路の入力バッファ特性試験用のテストパタ
ーン生成の一つの例を説明する図。
FIG. 13 is a view for explaining an example of test pattern generation for an input buffer characteristic test of a semiconductor integrated circuit in which the number of simultaneous changes of the semiconductor integrated circuit on which the boundary scan circuit according to the fourth embodiment is mounted is suppressed;

【図14】 実施の形態4に係わるバウンダリスキャン
回路を実装した半導体集積回路の同時変化数を抑制した
半導体集積回路の入力バッファ特性試験用のテストパタ
ーン生成の一つの例を説明する図。
FIG. 14 is a view for explaining an example of generation of a test pattern for an input buffer characteristic test of a semiconductor integrated circuit in which the number of simultaneous changes of the semiconductor integrated circuit on which the boundary scan circuit according to the fourth embodiment is mounted is suppressed;

【図15】 実施の形態5に係わる半導体集積回路の同
時変化数を抑制した半導体集積回路のテストパターン生
成装置の構成図。
FIG. 15 is a configuration diagram of a test pattern generation device for a semiconductor integrated circuit according to a fifth embodiment in which the number of simultaneous changes in the semiconductor integrated circuit is suppressed.

【図16】 実施の形態5に係わる半導体集積回路の同
時変化数を抑制した半導体集積回路のテストパターン生
成の一つの例を説明するためのフローチャート図。
FIG. 16 is a flowchart for explaining one example of test pattern generation of a semiconductor integrated circuit in which the number of simultaneous changes of the semiconductor integrated circuit according to the fifth embodiment is suppressed.

【図17】 実施の形態6に係わる半導体集積回路の同
時変化数を抑制した半導体集積回路のテストパターン生
成装置の構成図。
FIG. 17 is a configuration diagram of a test pattern generation device for a semiconductor integrated circuit in which the number of simultaneous changes of the semiconductor integrated circuit according to the sixth embodiment is suppressed.

【図18】 実施の形態6に係わる半導体集積回路の同
時変化数を抑制した半導体集積回路の出力バッファ特性
試験用のテストパターン生成の一つの例を説明するため
のフローチャート図。
FIG. 18 is a flowchart for explaining an example of test pattern generation for an output buffer characteristic test of a semiconductor integrated circuit in which the number of simultaneous changes of the semiconductor integrated circuit according to the sixth embodiment is suppressed.

【図19】 半導体集積回路の同時変化数を考慮したテ
ストパターン生成の従来の技術を説明するためのフロー
チャート図。
FIG. 19 is a flowchart for explaining a conventional technique for generating a test pattern in consideration of the number of simultaneous changes of a semiconductor integrated circuit.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 第1のテストパターン生成部、2 故障検出部、3
故障情報記憶部、4変化数カウント部、5 故障情報
更新部、6 第2のテストパターン生成部、7 第3の
テストパターン生成部、10 組み合わせパターン生成
部、11 組み合わせパターン取得部、12 変化数カ
ウント部、13 組み合わせパターン決定部、14 組
み合わせパターン絞込部、20 総故障、21 未検出
故障、22 検出故障、23 削除したパターンで検出
される故障、30 テストパターン生成部、30a 組
み合わせパターン生成部、31 グループ指定部、32
変化数カウント部、33 実行順序決定部、34 組み
合わせパターン取得部、35 変化数カウント部。
1 first test pattern generation unit, 2 failure detection unit, 3
Failure information storage section, 4 change count section, 5 failure information update section, 6 second test pattern generation section, 7 third test pattern generation section, 10 combination pattern generation section, 11 combination pattern acquisition section, 12 number of changes Counting section, 13 combination pattern determination section, 14 combination pattern narrowing section, 20 total failures, 21 undetected failures, 22 detected failures, 23 failures detected in deleted patterns, 30 test pattern generation section, 30a combination pattern generation section , 31 Group designation section, 32
Change number counting section, 33 execution order determination section, 34 combination pattern acquisition section, 35 change number counting section.

─────────────────────────────────────────────────────
────────────────────────────────────────────────── ───

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成11年3月12日[Submission date] March 12, 1999

【手続補正1】[Procedure amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】全文[Correction target item name] Full text

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【書類名】 明細書[Document Name] Statement

【発明の名称】 半導体集積回路のテストパターン生成
装置及び半導体集積回路のテストパターン生成方法
Patent application title: Semiconductor integrated circuit test pattern generation apparatus and semiconductor integrated circuit test pattern generation method

【特許請求の範囲】[Claims]

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体集積回路の
試験用テストパターンを生成する装置、及び、半導体集
積回路のテストパターンを生成する方法に関わるもので
ある。特に、テストパターンの実行順序が変更可能であ
るテスト容易化回路を備えた半導体集積回路のテストを
行うテストパターンを生成する装置及び方法に関するも
のである。
The present invention relates to an apparatus for generating a test pattern for testing a semiconductor integrated circuit and a method for generating a test pattern for a semiconductor integrated circuit. In particular, the present invention relates to an apparatus and a method for generating a test pattern for testing a semiconductor integrated circuit having a test facilitation circuit in which the execution order of test patterns can be changed.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の技術として、特開平2−9007
7に入力データ生成方式が開示されている。上記特開平
2−90077は、半導体集積回路の出力信号の同時変
化数を抑えて入力データを生成する発明である。図19
に従来技術における入力データ生成手順を示す。まず、
第1ステップ(100)として、LSI(半導体集積回
路)に発生しうる全ての故障を仮定する。第2ステップ
(101)として、上記第1ステップ(100)で仮定
した全故障の中から1つの故障を選択する。第3ステッ
プ(102)として、上記第2ステップで選択した故障
に対して入力データを生成する。第4ステップ(10
4)として、上記第3ステップ(102)で生成した入
力データをメモリに格納する。第1ステップから第4ス
テップまでを繰り返し行い、第1ステップで仮定した全
ての故障について入力データを作成した後、第5ステッ
プ(105)として、生成した全ての入力データについ
て出力同時変化数に対する禁止条件をチックする。第6
ステップ(106)、第7ステップ(107)として、
禁止条件が成立した場合、上記第4ステップ(104)
でメモリに格納した入力データの組み替えを行う。上記
組み替えた入力データについて全ての禁止条件が成り立
つ場合、処理を終了する。
2. Description of the Related Art As a conventional technique, Japanese Patent Laid-Open Publication No.
7 discloses an input data generation method. JP-A-2-90077 is an invention for generating input data while suppressing the number of simultaneous changes of output signals of a semiconductor integrated circuit. FIG.
Fig. 1 shows an input data generation procedure in the related art. First,
As the first step (100), it is assumed that all possible faults occur in an LSI (semiconductor integrated circuit). As a second step (101), one fault is selected from all the faults assumed in the first step (100). As a third step (102), input data is generated for the fault selected in the second step. The fourth step (10
As 4), the input data generated in the third step (102) is stored in the memory. The first to fourth steps are repeated to create input data for all the faults assumed in the first step, and then, as a fifth step (105), for all the generated input data, prohibition on the number of simultaneous changes in output Tick condition. Sixth
Step (106) and seventh step (107)
When the prohibition condition is satisfied, the fourth step (104)
To rearrange the input data stored in the memory. If all the prohibition conditions are satisfied for the rearranged input data, the process ends.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】このように従来技術
は、入力データの組み替えを行い、出力同時変化数を抑
制した入力データを生成する。しかし、入力バッファ特
性試験や出力バッファ特性試験では、全ての半導体集積
回路の入力信号や出力信号が論理0と論理1にトグルす
る必要があるが、特開平2−90077においては、出
力同時変化数の抑制した入力データ生成についてのみ記
載がされているため、入力バッファ及び出力バッファの
特性試験を行うことができないという問題がある。
As described above, in the prior art, input data is rearranged to generate input data in which the number of simultaneous changes in output is suppressed. However, in the input buffer characteristic test and the output buffer characteristic test, it is necessary that input signals and output signals of all the semiconductor integrated circuits toggle between logic 0 and logic 1. Since only the description of the input data generation that suppresses the above is described, there is a problem that the characteristic test of the input buffer and the output buffer cannot be performed.

【0004】また、半導体集積回路の試験では半導体集
積回路の出力信号が同時に多数変化すると、グランドバ
ウンスの電気的な要因により半導体集積回路が誤動作す
ることがある。これにより安定した試験ができなくなる
という問題がある。
In a test of a semiconductor integrated circuit, if a large number of output signals of the semiconductor integrated circuit simultaneously change, the semiconductor integrated circuit may malfunction due to an electrical factor of ground bounce. This causes a problem that a stable test cannot be performed.

【0005】更に、半導体集積回路の入力特性、出力特
性を評価する試験は、機能試験や故障検出を目的とした
試験と比べて時間がかかる。試験時間が長いと半導体集
積回路の製造コストに反映するという問題がある。
Further, a test for evaluating the input characteristics and output characteristics of a semiconductor integrated circuit requires more time than a function test and a test for detecting a failure. If the test time is long, there is a problem that it is reflected in the manufacturing cost of the semiconductor integrated circuit.

【0006】本発明は、この問題を解決するためになさ
れたもので、以下のことを目的とする。半導体集積回路
の出力信号の同時変化数を抑えたテストパターンを生成
することを目的にしている。特に、上記目的を実現する
ために、半導体集積回路にテストパターンの実行順序が
変更可能であるテスト容易化回路を備える。また、出力
同時変化数抑制の為にテストパターンを削除した場合
に、最終的な故障検出率を効率的に算出し、故障検出率
が目標の値に達していない場合、未検出の故障について
テストパターンを生成することを目的にしている。ま
た、周期数の小さい、つまり、テストパターン数の少な
いテストパターンの組み合わせを作成することを目的に
している。
The present invention has been made to solve this problem, and has the following objects. An object of the present invention is to generate a test pattern in which the number of simultaneous changes in output signals of a semiconductor integrated circuit is suppressed. In particular, in order to achieve the above object, a semiconductor integrated circuit is provided with a test facilitation circuit capable of changing the execution order of test patterns. In addition, when the test pattern is deleted to suppress the number of simultaneous changes in output, the final failure detection rate is calculated efficiently, and when the failure detection rate does not reach the target value, the test for undetected failures is performed. It is intended to generate patterns. Another object is to create a combination of test patterns having a small number of cycles, that is, a small number of test patterns.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】この発明に係わる半導体
集積回路のテストパターン生成装置は、テストパターン
の実行順序が変更可能であるテスト容易化回路を備えた
半導体集積回路のテストを行うテストパターンを生成す
る半導体集積回路のテストパターン生成装置において、
以下の要素を備えることを特徴とする。 (a)上記半導体集積回路を試験するためのテストパタ
ーンとして少なくともテスト順と入力データと入力デー
タに対する半導体集積回路の出力期待値とを生成する第
1のテストパターン生成部、(b)故障シュミレーショ
ンを実行して上記半導体集積回路に発生し得る故障を検
出するとともに、上記第1のテストパターン生成部によ
り生成されたテストパターンを実行することにより、上
記検出した故障が検出可能であるかを判断して、上記検
出された故障と上記判断した結果とを故障情報として記
憶する故障検出部、(c)上記第1のテストパターン生
成部により生成された出力期待値について、上記テスト
順に従い先に行うテストパターンの出力期待値と次に行
うテストパターンの出力期待値とを比較し、出力期待値
の変化数をカウントする変化数カウント部、(d)上記
変化数カウント部によりカウントされた出力期待値の変
化数が所定の許容可能な出力変化数を越えているテスト
パターンでのみ検出可能な故障を求め、上記求めた故障
が検出不可能な故障となるように上記故障検出部に記憶
されている故障情報を更新する故障情報更新部、(e)
上記故障情報更新部により更新された故障情報より故障
検出率を求め、上記故障検出率が規定した故障検出率を
満足するように、上記故障情報のうち故障検出不可能で
ある故障についてテストパターンを生成する第2のテス
トパターン生成部、(f)上記第2のテストパターン生
成部により生成されたテストパターンと、上記第1のテ
ストパターン生成部により生成されたテストパターンの
内出力期待値の変化数が所定の許容可能な出力変化数を
満たすテストパターンとを合わせたテストパターンの出
力期待値について、先に実行するテストパターンの出力
期待値と次に実行するテストパターンの出力期待値とを
比較して出力期待値の変化数をカウントし、上記カウン
トされた出力期待値の変化数が所定の許容可能な出力変
化数を越えないように上記合わせたテストパターンの実
行順序を変更する第3のテストパターン生成部。
According to the present invention, there is provided an apparatus for generating a test pattern for a semiconductor integrated circuit, comprising: a test pattern for performing a test on a semiconductor integrated circuit having a test facilitation circuit capable of changing the execution order of the test pattern; In the test pattern generation device for a semiconductor integrated circuit to be generated,
It is characterized by comprising the following elements. (A) a first test pattern generation unit that generates at least a test order, input data, and an expected output value of the semiconductor integrated circuit with respect to the input data as test patterns for testing the semiconductor integrated circuit, and (b) a failure simulation. Executing the test pattern generated by the first test pattern generation unit, and detecting whether the detected fault can be detected by executing the test pattern generated by the first test pattern generation unit. A failure detection unit that stores the detected failure and the result of the determination as failure information; and (c) performs an output expectation value generated by the first test pattern generation unit in accordance with the test order. Compare the expected output value of the test pattern with the expected output value of the next test pattern, and count the number of changes in the expected output value. (D) determining a fault that can be detected only in a test pattern in which the number of changes in the expected output value counted by the change number counting section exceeds a predetermined allowable number of output changes; A failure information updating unit that updates the failure information stored in the failure detecting unit so that the failed failure becomes an undetectable failure; (e)
A failure detection rate is obtained from the failure information updated by the failure information updating unit, and a test pattern is determined for a failure that cannot be detected in the failure information so that the failure detection rate satisfies the specified failure detection rate. A second test pattern generation unit to be generated, (f) a change in the expected output value of the test pattern generated by the second test pattern generation unit and an expected output value of the test pattern generated by the first test pattern generation unit Compare the expected output value of the test pattern to be executed first and the expected output value of the test pattern to be executed next for the expected output value of the test pattern including the test pattern whose number satisfies the predetermined allowable output change number. And the number of changes in the expected output value is counted, so that the counted number of changes in the expected output value does not exceed a predetermined allowable output change number. The third test pattern generating unit for changing the execution order of test patterns to suit above.

【0008】また、上記半導体集積回路は、上記テスト
パターンの実行順序が変更可能であるテスト容易化回路
として、少なくともスキャン回路及びバウンダリスキャ
ン回路のいずれかを備えることを特徴とする。
Further, the semiconductor integrated circuit is characterized in that at least one of a scan circuit and a boundary scan circuit is provided as a test facilitation circuit in which the execution order of the test pattern can be changed.

【0009】また、この発明に係わる半導体集積回路の
テストパターン生成方法は、テストパターンの実行順序
が変更可能であるテスト容易化回路を備えた半導体集積
回路のテストを行うテストパターンを生成する半導体集
積回路のテストパターン生成方法において、以下の工程
を備えることを特徴とする。 (a)上記半導体集積回路を試験するためのテストパタ
ーンとして少なくともテスト順と入力データと入力デー
タに対する半導体集積回路の出力期待値とを生成する第
1のテストパターン生成工程、(b)故障シュミレーシ
ョンを実行して上記半導体集積回路に発生し得る故障を
検出するとともに、上記第1のテストパターン生成工程
により生成されたテストパターンを実行することによ
り、上記検出した故障が検出可能であるかを判断して、
上記検出された故障と、上記判断した結果とを故障情報
として記憶する故障検出工程、(c)上記第1のテスト
パターン生成工程により生成された出力期待値につい
て、上記テスト順に従い先に行うテストパターンの出力
期待値と次に行うテストパターンの出力期待値とを比較
し、出力期待値の変化数をカウントする変化数カウント
工程、(d)上記変化数カウント工程によりカウントさ
れた出力期待値の変化数が所定の許容可能な出力変化数
を越えているテストパターンでのみ検出可能な故障を求
め、上記求めた故障が検出不可能な故障となるように上
記故障検出工程により記憶された故障情報を更新する故
障情報更新工程、(e)上記故障情報更新工程により更
新された故障情報より故障検出率を求め、上記故障検出
率が規定した故障検出率を満足するように、上記故障情
報のうち故障検出不可能である故障についてテストパタ
ーンを生成する第2のテストパターン生成工程、(f)
上記第2のテストパターン生成工程により生成されたテ
ストパターンと上記第1のテストパターン生成工程によ
り生成されたテストパターンのうち出力期待値の変化数
が所定の許容可能な出力変化数を満たすテストパターン
とを合わせたテストパターンの出力期待値について、先
に実行するテストパターンの出力期待値と次に実行する
テストパターンの出力期待値とを比較して出力期待値の
変化数をカウントし、上記カウントとされた出力期待値
の変化数が所定の許容可能な出力変化数を越えないよう
に上記合わせたテストパターンの実行順序を変更する第
3のテストパターン生成工程。
A test pattern generation method for a semiconductor integrated circuit according to the present invention is a semiconductor integrated circuit for generating a test pattern for testing a semiconductor integrated circuit having a test facilitation circuit capable of changing the execution order of test patterns. A method of generating a test pattern for a circuit includes the following steps. (A) a first test pattern generation step of generating at least a test order, input data, and an expected output value of the semiconductor integrated circuit with respect to the input data as test patterns for testing the semiconductor integrated circuit, and (b) a failure simulation. Executing the test pattern generated in the first test pattern generating step, and detecting whether the detected fault is detectable by executing the test pattern generated in the first test pattern generating step. hand,
A failure detection step of storing the detected failure and the result of the determination as failure information; and (c) a test to be performed first on the output expected value generated in the first test pattern generation step in the test order. A change number counting step of comparing the expected output value of the pattern with the expected output value of the test pattern to be performed next, and counting the number of changes in the expected output value; A fault that can be detected only in a test pattern in which the number of changes exceeds a predetermined allowable output change number is determined, and the fault information stored in the fault detection step is such that the determined fault becomes an undetectable fault. (E) a failure detection rate is determined from the failure information updated in the failure information updating step, and a failure detection rate defined by the failure detection rate is determined. So as to satisfy the rate, the second test pattern generating step of generating a test pattern for fault undetectable is failure among the failure information, (f)
A test pattern in which the number of changes in the expected output value satisfies a predetermined allowable output change number among the test patterns generated in the second test pattern generation step and the test patterns generated in the first test pattern generation step. With respect to the expected output value of the test pattern, the output expected value of the test pattern to be executed first is compared with the expected output value of the test pattern to be executed next, and the number of changes in the expected output value is counted. A third test pattern generating step of changing the execution order of the combined test patterns so that the number of changes in the expected output value does not exceed a predetermined allowable number of changes in output.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】実施の形態1.本発明の半導体集
積回路のテストパターン生成装置及び半導体集積回路の
テストパターン生成方法について、以下に説明を行う。
本発明に係わる半導体集積回路のテストパターン生成装
置及びテストパターン生成方法は、半導体集積回路のテ
スト容易化回路として少なくともスキャン回路およびバ
ウンダリスキャン回路のいずれかを用いた故障検出、お
よび、特性試験のテストパターンを生成する装置及び方
法である。まず、半導体集積回路の信号経路上に一つの
み存在する単一縮退故障を検出できるようなテストパタ
ーンをATPG(ATPGは、Automatic T
est Pattern Generationの略、
半導体集積回路の故障を検出するためのテストパターン
を自動的に生成するプログラムのこと)を用いて生成す
る。このATPGのアルゴリズムについては、例えば、
渡部誠:編著「超LSI設計」株式会社企画センター:
発行(昭和58年)P.198〜207に示されてい
る。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiment 1 A test pattern generation device for a semiconductor integrated circuit and a test pattern generation method for a semiconductor integrated circuit according to the present invention will be described below.
A test pattern generation apparatus and a test pattern generation method for a semiconductor integrated circuit according to the present invention provide a test for failure detection and a characteristic test using at least one of a scan circuit and a boundary scan circuit as a test facilitation circuit for a semiconductor integrated circuit. An apparatus and method for generating a pattern. First, a test pattern that can detect a single stuck-at fault existing only on a signal path of a semiconductor integrated circuit is defined as an ATPG (ATPG is an Automatic T
abbreviation of est Pattern Generation,
A program for automatically generating a test pattern for detecting a failure of a semiconductor integrated circuit). For the ATPG algorithm, for example,
Watanabe Makoto: Compilation "Super LSI Design" Planning Center Co., Ltd .:
Published (1983) 198-207.

【0011】ここで生成されたテストパターンは、半導
体集積回路の入力信号からテストパターンを与えるフェ
ーズ、スキャン回路又はバウンダリスキャン回路にテス
トパターンをシリアルにスキャンするフェーズ、半導体
集積回路の出力信号で試験結果を観測するフェーズに分
けられ、この3つのフェーズを繰り返し行うテストパタ
ーンである。1つのフェーズで1つの試験は完結して、
次のフェーズでは、前に実行した結果は影響しない。こ
のため、テストパターンを実行する順番を変更しても、
故障検出の為の試験や特性試験は、何の問題もない。
The test pattern generated here includes a phase in which a test pattern is applied from an input signal of the semiconductor integrated circuit, a phase in which the test pattern is serially scanned by a scan circuit or a boundary scan circuit, and a test result based on an output signal of the semiconductor integrated circuit. Is a test pattern that is divided into phases for observing the above, and these three phases are repeated. One trial is completed in one phase,
In the next phase, the results of the previous run have no effect. Therefore, even if you change the order in which test patterns are executed,
The test and the characteristic test for fault detection have no problem.

【0012】次に、生成されたテストパターン出力信号
(以下この実施の形態1〜6では、出力信号の期待値を
単に出力信号と称するものとする)の変化を次の試験で
行うテストパターンの出力と比較することにより、出力
信号の変化数をカウントし、半導体集積回路の特性や半
導体集積回路を封印するパッケージの特性や、半導体集
積回路の試験環境などから割り出した許容可能な出力同
時変化数を越えた部分を全てのテストパターンについて
検索する。許容値を越えた部分のテストパターンを対象
に、出力信号の同時変化数が許容値を満足するようにテ
ストパターンの順番を変更したり、或いは、削除すると
いう手法を用いて、出力信号の同時変化数を抑えたテス
トパターンを生成する。
Next, a change in the generated test pattern output signal (hereinafter, in the first to sixth embodiments, the expected value of the output signal is simply referred to as the output signal) is used to change the test pattern in the next test. By comparing with the output, the number of changes in the output signal is counted, and the allowable number of simultaneous output changes determined from the characteristics of the semiconductor integrated circuit, the characteristics of the package that seals the semiconductor integrated circuit, and the test environment of the semiconductor integrated circuit. Is searched for all test patterns. By changing the order of the test patterns so that the number of simultaneous changes of the output signal satisfies the allowable value, or deleting the test signals in the portion of the test pattern that exceeds the allowable value, Generate a test pattern with a reduced number of changes.

【0013】図1は、上記した半導体集積回路のテスト
パターン生成方法を説明するためのフローチャートであ
る。図2と図3は、図1に示した手順により生成される
テストパターンの具体例を示す図である。
FIG. 1 is a flow chart for explaining the above-described method for generating a test pattern for a semiconductor integrated circuit. FIG. 2 and FIG. 3 are diagrams showing specific examples of the test patterns generated by the procedure shown in FIG.

【0014】まず、半導体集積回路のテスト容易化回路
であるスキャン回路やバウンダリスキャン回路に対し
て、ATPGのアルゴリズムで初期パターンを生成(S
100)する。
First, an initial pattern is generated by an ATPG algorithm for a scan circuit or a boundary scan circuit which is a test facilitation circuit of a semiconductor integrated circuit (SPG).
100).

【0015】ATPGのアルゴリズムで生成されたテス
トパターンは、半導体集積回路の全ての入力信号から値
を印加するフェーズ、スキャン回路やバウンダリスキャ
ン回路にシリアルにテストパターンをシフトするフェー
ズ、半導体集積回路の全ての出力信号で期待値を観測す
るフェーズに分けられ、この3つのフェーズを繰り返す
というテストパターンである。そして、繰り返しパター
ンの順番を変更しても、何の問題もなく試験を行うこと
ができる特徴がある。本発明は、スキャン回路およびバ
ウンダリスキャン回路のテストにおけるこの特徴を利用
したものである。
The test pattern generated by the ATPG algorithm includes a phase for applying values from all input signals of the semiconductor integrated circuit, a phase for serially shifting the test pattern to a scan circuit or a boundary scan circuit, Is a test pattern that is divided into phases for observing the expected value with the output signal of the above, and these three phases are repeated. There is a characteristic that the test can be performed without any problem even if the order of the repetitive patterns is changed. The present invention takes advantage of this feature in testing scan circuits and boundary scan circuits.

【0016】次に、初期パターンの中で、半導体集積回
路の出力信号の期待値の変化に着目して、各テストパタ
ーン毎に何本の出力信号が変化するかカウント(S10
1)する。
Next, focusing on the change in the expected value of the output signal of the semiconductor integrated circuit in the initial pattern, the number of output signals that change for each test pattern is counted (S10).
1) Yes.

【0017】最後に、予め、半導体集積回路の特性や半
導体集積回路を封印するパッケージの特性や、半導体集
積回路の試験環境などから割り出した許容可能な出力同
時変化数を越えた部分を全てのテストパターンについて
検索する。半導体集積回路の出力が同時に多数変化する
と、グランドバウンスが起こる場合がある。このため、
測定信号や半導体集積回路自体の入力信号にノイズがの
り、安定した試験ができなくなる。出力同時変化数の
「許容可能な」値は、出力バッファ容量、半導体集積回
路の試験環境、(出力ピンやDUT(Device U
nter Test)カードにつくインダクタンス成
分)などから、人が経験により値を推定する。検索の結
果、許容値以上のテストパターンについては、出力の同
時変化数が許容値を満足するようにテストパターンの順
番を変更したり、あるいは、そのテストパターンを削除
(S102)することにより、出力同時変化数を抑えた
テストパターンを形成する。
Finally, all the parts exceeding the allowable number of simultaneous output changes determined from the characteristics of the semiconductor integrated circuit, the characteristics of the package for sealing the semiconductor integrated circuit, the test environment of the semiconductor integrated circuit, etc. Search for a pattern. When a large number of outputs of the semiconductor integrated circuit change at the same time, ground bounce may occur. For this reason,
Noise is added to the measurement signal and the input signal of the semiconductor integrated circuit itself, and a stable test cannot be performed. The "acceptable" value of the number of simultaneous changes in the output includes the output buffer capacity, the test environment of the semiconductor integrated circuit, the output pin and the DUT (Device U).
A person estimates the value from experience based on the inductance component attached to the card. As a result of the search, for the test patterns exceeding the allowable value, the order of the test patterns is changed so that the number of simultaneous changes of the output satisfies the allowable value, or the test pattern is deleted (S102). A test pattern in which the number of simultaneous changes is suppressed is formed.

【0018】図2は、ATPGのアルゴリズムを用いて
生成された初期のテストパターンの出力信号の期待値と
同時変化数(SSO)の数を示している。出力信号の変
化数をカウントすると、パターン識別ID No.1の
テストパターンからNo.2のテストパターンの間で出
力の同時変化数は、9である。No.2からNo.3の
間の出力同時変化数は、15である。No.3からN
o.4の間の出力の同時変化数は、8である。この半導
体集積回路の出力の許容値は、半導体集積回路の特性や
半導体集積回路を封印するパッケージの特性や、半導体
集積回路の試験環境などから、11であるとすると、N
o.2からNo.3の間で出力の同時変化数15は、許
容値を越えている。このテストパターンで半導体集積回
路の試験を行うと、この出力同時変化数の許容値を越え
たNo.2からNo.3の間でグランドバウンスが発生
し、安定した試験を行うことができなくなる可能性があ
る。
FIG. 2 shows the expected value and the number of simultaneous changes (SSO) of the output signal of the initial test pattern generated using the ATPG algorithm. When the number of changes in the output signal is counted, the pattern identification ID No. No. 1 from the test pattern No. 1 The number of simultaneous changes in output between the two test patterns is nine. No. 2 to No. 2 The number of simultaneous output changes during 3 is 15. No. 3 to N
o. The number of simultaneous changes in the output during 4 is 8. Assuming that the allowable value of the output of the semiconductor integrated circuit is 11 from the characteristics of the semiconductor integrated circuit, the characteristics of the package for sealing the semiconductor integrated circuit, the test environment of the semiconductor integrated circuit, etc., N
o. 2 to No. 2 The number of simultaneous changes 15 in the output between 3 exceeds the allowable value. When a test of the semiconductor integrated circuit is performed using this test pattern, the number of the output exceeding the allowable value of the number of simultaneous changes in output is no. 2 to No. 2 There is a possibility that a ground bounce occurs between the three and a stable test cannot be performed.

【0019】そこで、図1示したフローチャートに基づ
き、テストパターンの順番を変更した。図3に、その例
を示す。テストパターンの順番をNo.1―>No.3
―>No.4―>No.2と変更することにより、最大
の同時変化数は、No.1からNo.3の間の10とな
り、許容値11以下となる。この図1のアルゴリズムを
適用することにより、出力の同時変化数を小さくするこ
とができ、安定した試験を行うことができるようにな
る。
Therefore, the order of the test patterns was changed based on the flowchart shown in FIG. FIG. 3 shows an example. The test pattern order is No. 1-> No. 3
-> No. 4 → No. By changing to 2, the maximum number of simultaneous changes is No. 1 to No. It becomes 10 between 3 and becomes the allowable value 11 or less. By applying the algorithm of FIG. 1, the number of simultaneous changes in output can be reduced, and a stable test can be performed.

【0020】実施の形態2.実施の形態2では、上記実
施の形態1において出力同時変化数抑制の為にテストパ
ターンを削除した場合に、故障検出率が規定した故障検
出率を満足する様にテストパターンを生成する半導体集
積回路のテストパターン生成装置、及び、テストパター
ン生成方法について、以下に説明を行う。
Embodiment 2 In the second embodiment, when a test pattern is deleted to suppress the number of simultaneous changes in output in the first embodiment, a semiconductor integrated circuit that generates a test pattern so that the failure detection rate satisfies a specified failure detection rate The test pattern generation device and test pattern generation method will be described below.

【0021】まず、削除したテストパターンを用いて、
故障シュミレーションを行い、検出可能な故障を求め
る。上記求めた検出可能な故障と、初期のテストパター
ンで検出可能な故障とにより故障検出率を求める。求め
た故障検出率は、正確な故障検出率ではないが、テスト
パターンを削除した場合の最悪値である。この故障検出
率が目標の故障検出率に達していない場合、削除したテ
ストパターンで検出できる故障と初期のテストパターン
で検出不可能な故障を対象としたテストパターン生成を
行い、新たなテストパターンを得る。この新たなテスト
パターンを出力の同時変化数が許容値内に収まるよう
に、初期のテストパターンから上記実施の形態1におい
て削除した許容値を超えるテストパターンに挿入する。
これにより、出力信号の同時変化数を抑え、目標の故障
検出率のテストパターンを生成することができる。
First, using the deleted test pattern,
A failure simulation is performed to find a detectable failure. The fault detection rate is obtained from the detectable faults obtained above and the faults detectable in the initial test pattern. The obtained failure detection rate is not an accurate failure detection rate, but is the worst value when the test pattern is deleted. If the failure detection rate does not reach the target failure detection rate, test patterns are generated for failures that can be detected with the deleted test pattern and failures that cannot be detected with the initial test pattern, and a new test pattern is generated. obtain. This new test pattern is inserted into the test pattern exceeding the allowable value deleted in the first embodiment from the initial test pattern so that the number of simultaneous changes in the output falls within the allowable value.
As a result, the number of simultaneous changes in the output signal can be suppressed, and a test pattern with a target failure detection rate can be generated.

【0022】図4は、実施の形態2の半導体集積回路の
テストパターン生成装置の構成を示す図である。図5
は、実施の形態2の半導体集積回路のテストパターン生
成方法を説明するためのフローチャートである。図6
は、総故障と未検出故障の関係を説明するための図であ
る。
FIG. 4 is a diagram showing a configuration of a test pattern generation device for a semiconductor integrated circuit according to the second embodiment. FIG.
9 is a flowchart for explaining a test pattern generation method for a semiconductor integrated circuit according to the second embodiment. FIG.
FIG. 4 is a diagram for explaining a relationship between a total failure and an undetected failure.

【0023】以下に図について説明を行う。図4におい
て、1は、第1のテストパターン生成部であり、半導体
集積回路のテスト容易化回路であるスキャン回路やバウ
ンダリスキャン回路に対して、ATPGのアルゴリズム
を用いて初期のテストパターンを生成する。図5のS2
00の初期パターン生成処理は、第1のテストパターン
生成部1により実行される。2は、故障検出部であり、
故障シュミレーションを実行して上記半導体集積回路に
発生し得る故障を検出する。そして、検出した故障が初
期のテストパターンにより検出可能であるか否かを判断
する。検出した故障と判断した結果は、故障情報として
故障情報記憶部3に記憶する。図5のS200の故障辞
書を生成する処理は、故障検出部2により実行される。
4は、変化数カウント部であり、初期のテストパターン
の中で、半導体集積回路の出力信号の期待値の変化に着
目して、各テストパターン毎に何本の出力信号が変化す
るかをカウントする。図5のS201の出力同時変化数
をカウントする処理は、変化数カウント部4により実行
される。5は、故障情報更新部であり、変化数カウント
部4によりカウントされた出力同時変化数が許容可能な
出力変化数を越えているテストパターンのみにより検出
可能な故障を検出する。そして、検出した結果に基づい
て、故障情報記憶部3に記憶されている故障情報を更新
する。図5のS203の故障情報更新の処理は、故障情
報更新部5により実行される。6は、第2のテストパタ
ーン生成部であり、故障情報記憶部に記憶されている故
障情報に基づいて故障検出率を計算する。そして、計算
した故障検出率が規定した故障検出率を満足するよう
に、故障の検出が不可能である故障についてテストパタ
ーンを生成する。図5のS204のテストパターン生成
処理は、第2のテストパターン生成部6により実行され
る。7は、第3のテストパターン生成部であり、第2の
テストパターン生成部6により生成されたテストパター
ンと、第1のテストパターン生成部1により生成された
テストパターンとにより実行順序を決定する。この時、
変化数カウント部4によりカウントされた出力同時変化
数が許容可能な出力変化数を越えているテストパターン
を、第1のテストパターン生成部1により生成されたテ
ストパターンから除く。また、出力同時変化数が所定の
許容可能な出力変化数を越えないようにテストパターン
の実行順序を決定する。図5のS205の出力同時変化
数を満足する位置にテストパターンを挿入する処理は、
第3のテストパターン生成部7により実行される。
The following is a description of the drawings. In FIG. 4, reference numeral 1 denotes a first test pattern generation unit, which generates an initial test pattern for a scan circuit or a boundary scan circuit, which is a test facilitation circuit of a semiconductor integrated circuit, using an ATPG algorithm. . S2 in FIG.
The initial pattern generation process of 00 is executed by the first test pattern generation unit 1. 2 is a failure detection unit,
A fault simulation is performed to detect a fault that may occur in the semiconductor integrated circuit. Then, it is determined whether or not the detected failure can be detected based on the initial test pattern. The result of the determined failure is stored in the failure information storage unit 3 as failure information. The process of generating the failure dictionary in S200 of FIG.
Reference numeral 4 denotes a change number counting unit, which counts how many output signals change in each test pattern in an initial test pattern by focusing on a change in an expected value of an output signal of the semiconductor integrated circuit. I do. The process of counting the number of simultaneous changes in the output in S201 of FIG. Reference numeral 5 denotes a failure information updating unit that detects a failure that can be detected only by a test pattern in which the number of simultaneous changes in output counted by the number-of-changes counting unit 4 exceeds an allowable number of output changes. Then, the failure information stored in the failure information storage unit 3 is updated based on the detected result. The process of updating the failure information in S203 of FIG. 5 is executed by the failure information updating unit 5. Reference numeral 6 denotes a second test pattern generation unit that calculates a failure detection rate based on the failure information stored in the failure information storage unit. Then, a test pattern is generated for a fault for which a fault cannot be detected so that the calculated fault detection rate satisfies the specified fault detection rate. The test pattern generation processing of S204 in FIG. 5 is executed by the second test pattern generation unit 6. Reference numeral 7 denotes a third test pattern generation unit, which determines the execution order based on the test patterns generated by the second test pattern generation unit 6 and the test patterns generated by the first test pattern generation unit 1. . At this time,
A test pattern in which the number of simultaneous output changes counted by the change number counting section 4 exceeds an allowable number of output changes is excluded from the test patterns generated by the first test pattern generation section 1. Further, the execution order of the test patterns is determined so that the number of simultaneous output changes does not exceed a predetermined allowable number of output changes. The process of inserting a test pattern at a position that satisfies the output simultaneous change number in S205 in FIG.
This is executed by the third test pattern generator 7.

【0024】図5のフローチャトに従い、半導体集積回
路のテストパターン生成方法を説明する。図5のS20
0は、第1のテストパターン生成工程と故障検出工程で
ある。S200からS202までの処理は、上記実施の
形態1の図1のS100からS102とほぼ同じ処理で
ある。S200では、初期のテストパターンを生成する
とともに、故障検出部2により故障シュミレーションを
実行して、故障情報を生成する。図6の総故障20は、
半導体集積回路に発生し得る故障であり、図6の検出故
障22は、第1のテストパターン生成部1により検出可
能な故障である。S200では、総故障20と検出故障
と未検出故障21とが故障情報として求められる。S2
02では、出力の同時変化数を満足しないテストパター
ンを削除する。テストパターンを削除した後、故障情報
更新工程において、故障情報更新部5により故障シュミ
レーションを行い、この削除したテストパターンで検出
可能な故障(図6の23)を求める。そして、S200
の第1のテストパターン生成工程で得られていた図6の
検出故障22と削除したパターンで検出される故障23
との差をとり、故障情報記憶部3に記憶されている故障
情報を更新する(S203)。S203で求める差は、
初期パターンから所定のテストパターンを削除(S20
2)した後のテストパターンで検出される故障の全てで
はない。つまり、削除したテストパターンで検出可能な
故障(図5の23)のいくつかは、削除したテストパタ
ーン以外のテストパターンによって検出することができ
る可能性があり、故障情報記憶部3に記憶された更新後
の故障情報は、第1のテストパターン生成部1により生
成されたテストパターンから出力の同時変化数を満足し
ないテストパターンを削除した残りのテストパターンに
より最低検出できる故障である。
A method of generating a test pattern for a semiconductor integrated circuit will be described with reference to the flowchart of FIG. S20 in FIG.
0 is a first test pattern generation step and a failure detection step. The processing from S200 to S202 is almost the same as the processing from S100 to S102 in FIG. 1 of the first embodiment. In S200, an initial test pattern is generated, and a fault simulation is performed by the fault detection unit 2 to generate fault information. The total failure 20 in FIG.
This is a fault that can occur in the semiconductor integrated circuit, and the fault 22 detected in FIG. 6 is a fault that can be detected by the first test pattern generator 1. In S200, the total fault 20, the detected fault, and the undetected fault 21 are obtained as fault information. S2
In step 02, test patterns that do not satisfy the number of simultaneous changes in output are deleted. After the test pattern is deleted, in the fault information updating step, a fault simulation is performed by the fault information updating unit 5 to obtain a fault (23 in FIG. 6) detectable by the deleted test pattern. And S200
6 and the fault 23 detected by the deleted pattern in FIG.
Then, the fault information stored in the fault information storage unit 3 is updated (S203). The difference determined in S203 is
A predetermined test pattern is deleted from the initial pattern (S20
2) Not all of the faults detected in the test pattern after the test. That is, some of the faults (23 in FIG. 5) that can be detected by the deleted test pattern may be detected by a test pattern other than the deleted test pattern, and are stored in the fault information storage unit 3. The updated failure information is a failure that can be detected at least by the remaining test patterns obtained by deleting test patterns that do not satisfy the number of simultaneous changes in output from the test patterns generated by the first test pattern generation unit 1.

【0025】次に、第2のテストパターン生成部6によ
り、第2のテストパターン生成工程(S204)を実行
する。第2のテストパターン生成工程では、まず、故障
情報記憶部3に記憶されている故障情報を基に故障検出
率を計算する。故障検出率は、図6の総故障20と検出
故障22から削除したテストパターンで検出される故障
23を除いた検出故障との比により計算する。そして、
計算した故障検出率が規定の故障検出率を満足しないと
き、故障情報記憶部3に記憶されている故障情報の内、
故障検出が不可能である故障を対象に、テストパターン
の生成を行う。故障検出不可能な故障は、図6の未検出
故障21と削除したテストパターンで検出される故障2
3とを合わせたものである。
Next, a second test pattern generation step (S204) is executed by the second test pattern generation section 6. In the second test pattern generation step, first, a failure detection rate is calculated based on the failure information stored in the failure information storage unit 3. The fault detection rate is calculated from the ratio of the total fault 20 in FIG. 6 to the detected fault excluding the fault 23 detected by the test pattern deleted from the detected fault 22. And
When the calculated failure detection rate does not satisfy the prescribed failure detection rate, the failure information stored in the failure information storage unit 3 includes:
A test pattern is generated for a fault for which fault detection is not possible. Failures that cannot be detected include failures 21 detected in FIG. 6 and failures 2 detected in the deleted test pattern.
3 and 3.

【0026】最後に、S202において出力同時変化数
が許容可能な出力変化数を越えるテストパターンを削除
した後のテストパターンに対して、第2のテストパター
ン生成工程であるS204において生成されたテストパ
ターンを挿入して、テストパターンの実行順序を決定す
る。この時、出力同時変化数が許容値を満足する位置に
テストパターンを挿入(S205)する。
Finally, the test pattern generated in S204, which is the second test pattern generation step, is compared with the test pattern in which the number of simultaneous changes in output exceeds the allowable number of output changes in S202. To determine the execution order of the test patterns. At this time, a test pattern is inserted at a position where the number of simultaneous changes in output satisfies the allowable value (S205).

【0027】このアルゴリズムをテストパターン生成に
適用することにより、同時変化数を抑え、かつ、故障検
出率の高い安定した試験を行なうことができるテストパ
ターンを生成することができる。
By applying this algorithm to test pattern generation, it is possible to generate a test pattern capable of suppressing the number of simultaneous changes and performing a stable test with a high fault detection rate.

【0028】実施の形態3.実施の形態3では、半導体
集積回路の出力バッファ特性評価用のテストパターンを
生成するスキャン回路またはバウンダリスキャン回路を
実装した半導体集積回路のテストパターン生成装置及び
テストパターン生成方法について以下に説明する。
Embodiment 3 In the third embodiment, a test pattern generation device and a test pattern generation method for a semiconductor integrated circuit on which a scan circuit or a boundary scan circuit for generating a test pattern for evaluating the output buffer characteristics of the semiconductor integrated circuit will be described.

【0029】実施の形態3で説明する半導体集積回路の
テスト容易化回路であるスキャン回路およびバウンダリ
スキャン回路を用いた半導体集積回路の故障検出用また
は特性試験用のテストパターン生成方法では、まず、初
期のテストパターンを生成する。次に、生成されたテス
トパターンの出力値を検索し、半導体集積回路の全ての
出力信号が論理0および論理1になるテストパターンを
抽出する。その際に、テストパターンの数が最小になる
テストパターンを抽出する。これにより、半導体集積回
路の出力バッファ特性評価用のテストパターンを生成す
ることができる。
In a test pattern generation method for detecting a failure or testing a characteristic of a semiconductor integrated circuit using a scan circuit and a boundary scan circuit as a circuit for facilitating the test of the semiconductor integrated circuit described in the third embodiment, first, Generate a test pattern for Next, an output value of the generated test pattern is searched, and a test pattern in which all output signals of the semiconductor integrated circuit become logic 0 and logic 1 is extracted. At this time, a test pattern that minimizes the number of test patterns is extracted. As a result, a test pattern for evaluating the output buffer characteristics of the semiconductor integrated circuit can be generated.

【0030】図7は、実施の形態3における半導体集積
回路のテストパターン生成装置の構成図である。図8
は、実施の形態3における半導体集積回路のテストパタ
ーン生成方法のフローチャートである。図9と図10
は、図8に示した手順により生成されるテストパターン
の具体例を示す図である。以下に図7から図10を用い
て、実施の形態3における半導体集積回路のテストパタ
ーン生成装置及びテストパターン生成方法を説明する。
FIG. 7 is a configuration diagram of a test pattern generation device for a semiconductor integrated circuit according to the third embodiment. FIG.
11 is a flowchart of a test pattern generation method for a semiconductor integrated circuit according to the third embodiment. 9 and 10
FIG. 9 is a diagram showing a specific example of a test pattern generated by the procedure shown in FIG. Hereinafter, a test pattern generation device and a test pattern generation method for a semiconductor integrated circuit according to the third embodiment will be described with reference to FIGS.

【0031】図7において、10は、組み合わせパター
ン生成部であり、上記実施の形態1の図1S100の処
理において作成したテストパターンを複数組み合わせて
組み合わせパターンを生成する。図8のS300の初期
パターン生成処理は、組み合わせパターン生成部10に
より実行される。11は、組み合わせパターン取得部で
あり、組み合わせパターン生成部10により生成された
組み合わせパターンより、出力期待値が論理0及び論理
1のいずれかであるテストパターンにより構成される組
み合わせパターンを取得する。図9に示すテストパター
ンは、出力期待値が論理0及び論理1のいずれかにより
構成されているが、出力期待値は論理0と論理1の他に
不定値を示す“X”を含む場合もある。図8のS301
の検索処理は、組み合わせパターン取得部11により実
行される。12は、変化数カウント部であり、組み合わ
せパターン取得部11により取得された組み合わせパタ
ーンを構成するテストパターンの出力期待値を、上記実
施の形態2の図4の変化数カウント部4と同様にカウン
トする。図8のS302の出力同時変化数のカウント処
理は、変化数カウント部12により実行される。13
は、組み合わせパターン決定部であり、変化数カウント
部12によりカウントされた出力期待値の変化数が所定
の許容可能な出力変化数を満足するテストパターンによ
り構成される組み合わせパターンを取得する。この時、
テストパターンの実行順序を変更することにより出力期
待値の変化数が所定の許容可能な出力変化数を満足する
ようにしてもかまわない。さらに、出力期待値の変化数
が所定の許容可能な出力変化数を満足しないテストパタ
ーンを組み合わせパターンより削除してもかまわない。
なお、実施の形態3では、組み合わせパターン決定部1
3は、組み合わせパターンを構成するテストパターンの
数が少ない組み合わせパターンを優先して、組み合わせ
パターンを取得する。図8のS303の順番の変更処理
及びS304の処理終了判定は、組み合わせパターン決
定部13により実行される。
In FIG. 7, reference numeral 10 denotes a combination pattern generation unit, which generates a combination pattern by combining a plurality of test patterns created in the processing of FIG. 1S100 of the first embodiment. The initial pattern generation processing of S300 in FIG. 8 is executed by the combination pattern generation unit 10. Reference numeral 11 denotes a combination pattern acquisition unit, which acquires a combination pattern composed of a test pattern whose output expected value is one of logic 0 and logic 1 from the combination pattern generated by the combination pattern generation unit 10. The test pattern shown in FIG. 9 has an expected output value of either logic 0 or logic 1, but the expected output value may include “X” indicating an indefinite value in addition to logic 0 and logic 1. is there. S301 in FIG.
Is performed by the combination pattern acquisition unit 11. Reference numeral 12 denotes a change number counting unit which counts the expected output value of the test pattern constituting the combination pattern acquired by the combination pattern acquisition unit 11 in the same manner as the change number counting unit 4 of FIG. I do. The process of counting the number of simultaneous changes in the output in S302 of FIG. 13
Is a combination pattern determination unit that acquires a combination pattern composed of a test pattern in which the number of changes in the expected output value counted by the change number counting unit 12 satisfies a predetermined allowable number of output changes. At this time,
By changing the execution order of the test patterns, the change number of the expected output value may satisfy a predetermined allowable change number of the output. Further, a test pattern in which the number of changes in the expected output value does not satisfy the predetermined allowable number of changes in output may be deleted from the combination pattern.
In the third embodiment, the combination pattern determination unit 1
No. 3 acquires a combination pattern by giving priority to a combination pattern in which the number of test patterns constituting the combination pattern is small. The change processing of the order in S303 and the end determination of the processing in S304 in FIG. 8 are executed by the combination pattern determination unit 13.

【0032】図8のフローチャートに従い、半導体集積
回路のテストパターン生成方法を説明する。図8のS3
00の処理は、組み合わせパターン生成工程である。S
300の処理は、上記実施の形態1の図1のS100と
ほぼ同様の処理である。S300では、生成したテスト
パターンを複数組み合わせて組み合わせパターンを生成
する。次に、S301の組み合わせパターン取得工程に
より、全ての出力信号が論理0と論理1になるテストパ
ターンの組み合わせを、S300で作成した組み合わせ
パターンより取得する。そして、S301で取得した組
み合せパターンの中から、組み合わせパターンを構成す
るテストパターン数の少ないものを優先的に後述のS3
02からS304の処理を行なう。S302からS30
4の処理は、S301で取得した全ての組み合わせパタ
ーンについて行う(S305)。まず、S302の変化
数カウント工程により、テストパターンの出力信号の同
時変化数をカウントし、S303の組み合わせパターン
決定工程により、S302でカウントされた出力同時変
化数が所定の許容値を満足するように、テストパターン
の実行順序を変更、或いは、テストパターンの削除を行
う。組み合わせパターンを構成する全てのテストパター
ンが、所定の許容値を満足する出力同時変化数であれ
ば、実行順序の変更やテストパターンの削除は行わな
い。S303の処理で同時変化数が許容値を満足しない
場合(S304)、S302の処理から繰り返して、許
容値を満足する組み合わせパターンを探す処理を行な
う。
A method of generating a test pattern for a semiconductor integrated circuit will be described with reference to the flowchart of FIG. S3 in FIG.
The process of 00 is a combination pattern generation step. S
The process of 300 is substantially the same as the process of S100 of FIG. 1 of the first embodiment. In S300, a combination pattern is generated by combining a plurality of the generated test patterns. Next, in the combination pattern acquisition step of S301, a combination of test patterns in which all output signals are logic 0 and logic 1 is acquired from the combination pattern created in S300. Then, among the combination patterns acquired in S301, the combination pattern having the smaller number of test patterns constituting the combination pattern is preferentially used in S3 described later.
02 to S304 are performed. S302 to S30
The processing of No. 4 is performed for all the combination patterns acquired in S301 (S305). First, the number of simultaneous changes in the output signal of the test pattern is counted in the number-of-changes counting step of S302, and the number of simultaneous changes in the output counted in S302 satisfies a predetermined allowable value in the combination pattern determining step of S303. , The execution order of the test patterns is changed, or the test patterns are deleted. If all the test patterns constituting the combination pattern have the number of simultaneous output changes satisfying the predetermined allowable value, the execution order is not changed or the test pattern is not deleted. If the number of simultaneous changes does not satisfy the allowable value in the process of S303 (S304), the process of searching for a combination pattern that satisfies the allowable value is repeated from the process of S302.

【0033】上記図8のアルゴリズムを図9と図10を
使って説明する。図9は、S300においてATPGで
得られた初期のテストパターンである。出力の同時変化
数は15であり、出力の同時変化数の許容値11を越え
ているとする。図9に示すテストパターンは、全ての出
力信号が、論理0と論理1に変化している。そして、組
み合わせパターンを構成するテストパターンの数が最小
であるとする。そこで、図8のS302からS304の
処理をこのパターンに対して適用すると、図10に示し
たテストパターンを最終的に得ることができる。図10
に示したテストパターン数は、3であり、出力の同時変
化数は最大で9であり、許容値11以内を満足してい
る。
The algorithm of FIG. 8 will be described with reference to FIGS. 9 and 10. FIG. 9 shows an initial test pattern obtained by ATPG in S300. It is assumed that the number of simultaneous changes in the output is 15, which exceeds the allowable value 11 of the number of simultaneous changes in the output. In the test pattern shown in FIG. 9, all output signals are changed to logic 0 and logic 1. Then, it is assumed that the number of test patterns constituting the combination pattern is the minimum. Therefore, if the processing from S302 to S304 in FIG. 8 is applied to this pattern, the test pattern shown in FIG. 10 can be finally obtained. FIG.
Is 3 and the number of simultaneous changes in the output is 9 at the maximum, which satisfies the allowable value 11 or less.

【0034】図8のアルゴリズムにより、周期数の短
い、つまり、テストパターン数の少ないテストパターン
で出力同時変化数を抑えた半導体集積回路の出力バッフ
ァの特性試験用のテストパターンを生成することができ
る。これにより、初期のテストパターンを用いた試験よ
りも短い時間で、かつ、より安定した試験を行なうこと
ができる。
By the algorithm of FIG. 8, a test pattern for a characteristic test of an output buffer of a semiconductor integrated circuit in which the number of simultaneous changes in output is suppressed by a test pattern having a short cycle number, that is, a small test pattern number can be generated. . As a result, a more stable test can be performed in a shorter time than a test using an initial test pattern.

【0035】実施の形態4.実施の形態4では、バウン
ダリスキャン回路を適用した半導体集積回路のテストパ
ターン生成装置及びテストパターン生成方法について説
明する。
Embodiment 4 FIG. Fourth Embodiment In a fourth embodiment, a test pattern generation device and a test pattern generation method for a semiconductor integrated circuit to which a boundary scan circuit is applied will be described.

【0036】まず、初期のテストパターンを生成する。
次に、生成されたテストパターンの入力値を検索し、半
導体集積回路の全ての入力信号が論理0および論理1に
なるテストパターンを抽出する。その際に、テストパタ
ーンの数が最小になるテストパターンを抽出する。バウ
ンダリスキャン回路は、入力信号に設定された値をバウ
ンダリスキャンレジスタでラッチし、その値がバウンダ
リスキャン回路のシリアル出力でスキャン出力されるの
で、前述の方法で抽出したテストパターンで半導体集積
回路の入力バッファの閾値電圧測定することができる。
First, an initial test pattern is generated.
Next, the input value of the generated test pattern is searched to extract a test pattern in which all input signals of the semiconductor integrated circuit become logic 0 and logic 1. At this time, a test pattern that minimizes the number of test patterns is extracted. The boundary scan circuit latches the value set in the input signal by the boundary scan register, and the value is scanned and output by the serial output of the boundary scan circuit. Therefore, the input of the semiconductor integrated circuit is performed using the test pattern extracted by the above-described method. The threshold voltage of the buffer can be measured.

【0037】このように、バウンダリスキャン回路を用
いれば、入力信号に設定したデータは、バウンダリスキ
ャンレジスタにラッチされ、そのデータは、バウンダリ
スキャン回路のシリアル出力に現れるため、半導体集積
回路の入力バッファの特性を測定することは可能であ
る。
As described above, when the boundary scan circuit is used, the data set in the input signal is latched in the boundary scan register, and the data appears in the serial output of the boundary scan circuit. It is possible to measure properties.

【0038】図11は、実施の形態4の半導体集積回路
のテストパターン生成装置の構成を示す図である。図1
2は、実施の形態4の半導体集積回路のテストパターン
生成方法を説明するためのフローチャートである。図1
3と図14は、図12に示した手順により生成されるテ
ストパターンの具体例を示す図である。以下に図につい
て説明を行う。
FIG. 11 is a diagram showing a configuration of a test pattern generation device for a semiconductor integrated circuit according to the fourth embodiment. FIG.
FIG. 2 is a flowchart for explaining a test pattern generation method for a semiconductor integrated circuit according to the fourth embodiment. FIG.
FIGS. 3 and 14 are diagrams showing specific examples of test patterns generated by the procedure shown in FIG. The figures will be described below.

【0039】図11において、組み合わせパターン生成
部10と組み合わせパターン取得部11は、上記実施の
形態3の図7の組み合わせパターン生成部10と組み合
わせパターン取得部11と同じ動作を行う。14は、組
み合わせパターン絞込部であり、組み合わせパターン取
得部11により取得された組み合わせパターンを構成す
るテストパターンの入力データが、論理0及び論理1の
いずれかであるテストパターンにより構成されている組
み合わせパターンを取得する。図12のS402の検索
処理は、組み合わせパターン絞込部14により実行され
る。変化数カウント部12は、上記実施の形態3の変化
数カウント部12と同じ動作をするが、組み合わせパタ
ーン絞込部14により取得された組み合わせパターンを
構成するテストパターンの出力同時変化数をカウントす
る。組み合わせパターン決定部13は、上記実施の形態
3の組み合わせパターン決定部13と同じ動作を行う。
In FIG. 11, the combination pattern generation unit 10 and the combination pattern acquisition unit 11 perform the same operations as the combination pattern generation unit 10 and the combination pattern acquisition unit 11 of the third embodiment shown in FIG. Numeral 14 denotes a combination pattern narrowing-down unit, in which the input data of the test pattern constituting the combination pattern acquired by the combination pattern acquisition unit 11 is composed of a test pattern which is either logical 0 or logical 1. Get a pattern. The search processing of S402 in FIG. 12 is executed by the combination pattern narrowing unit 14. The change number counting unit 12 operates in the same manner as the change number counting unit 12 of the third embodiment, but counts the number of simultaneous output changes of the test patterns constituting the combination pattern acquired by the combination pattern narrowing unit 14. . The combination pattern determination unit 13 performs the same operation as the combination pattern determination unit 13 of the third embodiment.

【0040】図12のフローチャートに従い、半導体集
積回路のテストパターン生成方法を説明する。図12の
S400とS401とS406の処理は、上記実施の形
態3の図8のS300とS301とS305の処理と同
じ処理を行う。また、S402とS407の処理は、組
み合わせパターン絞込工程であり、S402の処理で取
得された組み合わせパターンを対象に、組み合わせパタ
ーンを構成するテストパターンの入力データが、論理0
及び論理1のいずれかであるテストパターンにより構成
されている組み合わせパターンを取得する。S402の
処理は、S401で取得された全ての組み合わせパター
ンに対して行う(S407)。S403の処理は、S4
02で取得された組み合わせパターンを対象に行う。S
404の処理とS405の処理は、上記実施の形態3の
図8のS303とS304の処理と同じ処理である。こ
のように、全ての出力信号が論理0および論理1になる
組み合せを検索した後のテストパターンに対して、更
に、S402で全ての入力データ(入力データは、入力
信号と称することもある)が論理0および論理1になる
組み合せを検索する。このS402の処理を上記実施の
形態3の図8に追加することにより、テストパターン数
が少なく、出力信号の同時変化数を抑えた半導体集積回
路の入力バッファ特性試験用のテストパターンを作成す
ることができる。
A method of generating a test pattern for a semiconductor integrated circuit will be described with reference to the flowchart of FIG. The processes in S400, S401, and S406 in FIG. 12 are the same as the processes in S300, S301, and S305 in FIG. The processing of S402 and S407 is a combination pattern narrowing-down step. For the combination pattern acquired in the processing of S402, the input data of the test pattern forming the combination pattern is a logical 0
And a combination pattern composed of a test pattern that is one of logic 1 and logic 1. The process of S402 is performed on all the combination patterns acquired in S401 (S407). The process in S403 is performed in S4
02 is performed on the combination pattern acquired in step S02. S
The processing of 404 and the processing of S405 are the same as the processing of S303 and S304 in FIG. 8 of the third embodiment. As described above, for the test pattern after searching for the combination in which all the output signals have the logic 0 and the logic 1, all the input data (the input data may be referred to as the input signal) is further processed in S402. Search for a combination that results in a logical 0 and a logical 1. By adding the processing of S402 to FIG. 8 of the third embodiment, a test pattern for input buffer characteristic test of a semiconductor integrated circuit with a small number of test patterns and a reduced number of simultaneous changes in output signals can be created. Can be.

【0041】図13は、図12のS400でATPGを
用いて生成した初期のテストパターンであり、出力の同
時変化数は、15と出力同時変化数の許容値11を越え
ている。このため、入力バッファの特性試験用のテスト
パターンとしては、このままでは使用することができな
い。図12に示した処理をこの図13に示すテストパタ
ーンに対して適用した結果を図14に示す。図14で
は、出力の同時変化数は最大で9となり、許容値11を
満足している。さらに、テストパターン数も3であり、
少ないテストパターン数である。このように、図11に
示す構成をした半導体集積回路のテストパターン生成装
置及び図12示す手順を備える半導体集積回路のテスト
パターン生成方法とにより、半導体集積回路の入力バッ
ファ特性試験用のテストパターンを得ることがき、初期
のテストパターンを用いた試験よりもテストパターン数
を少なく、かつ、より安定した試験を行なうことができ
る。
FIG. 13 shows an initial test pattern generated by using the ATPG in S400 of FIG. 12. The number of simultaneous changes in the output exceeds 15 and the allowable value 11 of the number of simultaneous changes in the output. Therefore, it cannot be used as it is as a test pattern for the characteristic test of the input buffer. FIG. 14 shows the result of applying the processing shown in FIG. 12 to the test pattern shown in FIG. In FIG. 14, the number of simultaneous changes in the output is 9 at the maximum, which satisfies the allowable value 11. Furthermore, the number of test patterns is 3,
The number of test patterns is small. As described above, the test pattern for the input buffer characteristic test of the semiconductor integrated circuit is formed by the test pattern generation apparatus for the semiconductor integrated circuit having the configuration shown in FIG. 11 and the test pattern generation method for the semiconductor integrated circuit having the procedure shown in FIG. As a result, the number of test patterns is smaller than that of a test using an initial test pattern, and a more stable test can be performed.

【0042】実施の形態5.実施の形態5では、テスト
パターン中に同一の制御を行うことにより、テストの実
行順序を変更しても半導体集積回路の動作に影響しない
部分を指定する。例えば、演算回路とメモリ間のデータ
バス上のデータ転送が、それに当たる。上記指定した部
分のテストパターンについて実行順序を変更することに
より、出力信号の同時変化数が予め規定した許容可能な
同時変化数以内に収まるようにテストパターンを生成す
る半導体集積回路のテストパターン生成装置と半導体集
積回路のテストパターン生成方法とを説明する。
Embodiment 5 FIG. In the fifth embodiment, by performing the same control during the test pattern, a portion that does not affect the operation of the semiconductor integrated circuit even if the test execution order is changed is specified. For example, data transfer on the data bus between the arithmetic circuit and the memory corresponds to this. A test pattern generation apparatus for a semiconductor integrated circuit, which generates a test pattern such that the number of simultaneous changes of an output signal falls within a predetermined allowable number of simultaneous changes by changing the execution order for the test pattern of the specified portion. And a test pattern generation method for a semiconductor integrated circuit will be described.

【0043】図15は、実施の形態5における半導体集
積回路のテストパターン生成装置の構成を示す図であ
る。図16は、実施の形態5における半導体集積回路の
テストパターン生成方法を説明するためのフローチャー
トである。以下、図について説明を行う。
FIG. 15 is a diagram showing a configuration of a test pattern generation device for a semiconductor integrated circuit according to the fifth embodiment. FIG. 16 is a flowchart illustrating a test pattern generation method for a semiconductor integrated circuit according to the fifth embodiment. Hereinafter, the drawings will be described.

【0044】図15において、30は、テストパターン
生成部であり、上記実施の形態2の図4の第1のテスト
パターン生成部1と同じ動作を行う。図16のS503
のテストパターン生成処理は、テストパターン生成部3
0により実行される。31は、グループ指定部であり、
テストパターン生成部30により生成されたテストパタ
ーンのうち、同一の制御によりテストパターンを半導体
集積回路に印加させるテストパターンのグループを指定
する。図16のS500の繰り返しテストパターンを印
可する部分を指定する処理は、グループ指定部31によ
り実行される。32は、変化数カウント部であり、グル
ープ指定部31により指定されたグループを対象に、上
記実施の形態2の図4の変化数カウント部4と同様に出
力同時変化数をカウントする。図16のS501のカウ
ント処理は、変化数カウント部32により実行される。
33は、実行順序決定部であり、変化数カウント部32
によりカウントされた出力同時変化数が所定の許容可能
な出力変化数を満足するようにテストパターンの実行順
序を変更したり、所定の許容可能な出力変化数を越える
テストパターンを削除して、テストパターンの実行順序
を決定する。図16のS502の処理は、実行順序決定
部33により実行される。
In FIG. 15, reference numeral 30 denotes a test pattern generator, which performs the same operation as that of the first test pattern generator 1 of the second embodiment shown in FIG. S503 in FIG.
The test pattern generation process of the test pattern generation unit 3
Performed by 0. 31 is a group designation part,
From the test patterns generated by the test pattern generation unit 30, a group of test patterns for applying the test patterns to the semiconductor integrated circuit under the same control is specified. The process of designating the portion to which the repetitive test pattern is applied in S500 of FIG. Numeral 32 denotes a change number counting unit, which counts the number of simultaneous output changes for the group specified by the group specifying unit 31, similarly to the change number counting unit 4 in FIG. 4 of the second embodiment. The counting process of S501 in FIG. 16 is executed by the change number counting unit 32.
Reference numeral 33 denotes an execution order determination unit, and the number-of-changes counting unit 32
The test pattern execution order is changed so that the number of simultaneous output changes counted by the above satisfies the predetermined allowable output change number, or the test pattern exceeding the predetermined allowable output change number is deleted, and the test is performed. Determine the execution order of the patterns. The process of S502 in FIG. 16 is executed by the execution order determining unit 33.

【0045】次に、図16のフローチャートに従い、半
導体集積回路のテストパターン生成方法について説明を
行う。まず、テストパターン生成工程において、上記実
施の形態1の図1のS100と同じようにATPGを用
いてテストパターンを生成する(S503)。次に、グ
ループ指定工程において、S503で生成したテストパ
ターンの中で、同一の制御により半導体集積回路にテス
トパターンを繰り返し印加する部分を指定(S500)
する。テストパターンを繰り返し印加する部分は、例え
ば、連続したメモリ領域のデータを繰り返し読み出した
り、書き出したりする処理などに相当する。そして、変
化数カウント工程において、S500で指定した部分の
テストパターンについて出力信号の同時変化数をカウン
ト(S501)する。最後に、実行順序決定工程におい
て、S501でカウントした出力同時変化数が許容値を
越えているテストパターンの順番を変更または削除し
て、出力同時変化数を抑えたテストパターンを生成する
(S502)。このように、図16のアルゴリズムを用
いることにより、初期のテストパターンを用いた試験よ
りも、より安定した試験を行なうことができる。
Next, a method of generating a test pattern for a semiconductor integrated circuit will be described with reference to the flowchart of FIG. First, in the test pattern generation step, a test pattern is generated using the ATPG as in S100 of FIG. 1 of the first embodiment (S503). Next, in the group designation step, a portion to which the test pattern is repeatedly applied to the semiconductor integrated circuit under the same control is designated from among the test patterns generated in S503 (S500).
I do. The portion to which a test pattern is repeatedly applied corresponds to, for example, a process of repeatedly reading and writing data in a continuous memory area. Then, in the change number counting step, the number of simultaneous changes of the output signal is counted for the test pattern of the portion designated in S500 (S501). Finally, in the execution order determination step, the order of the test patterns in which the number of simultaneous changes in output counted in S501 exceeds the allowable value is changed or deleted to generate a test pattern in which the number of simultaneous changes in output is suppressed (S502). . Thus, by using the algorithm of FIG. 16, a more stable test can be performed than a test using an initial test pattern.

【0046】以上、実施の形態5によれば、例えば、連
続したメモリ領域のデータを繰り返し読み出したり、書
き出したりする処理の試験を半導体集積回路に対して行
う場合、同一の制御によりテストパターンを繰り返し半
導体集積回路に印可する部分を指定することができるの
で、テストパターンの生成を容易に行えるとともに、半
導体集積回路の特定の動作に対する試験を確実に行うこ
とができる。
As described above, according to the fifth embodiment, for example, when a test of a process of repeatedly reading and writing data in a continuous memory area is performed on a semiconductor integrated circuit, a test pattern is repeatedly performed under the same control. Since a portion to be applied to the semiconductor integrated circuit can be specified, a test pattern can be easily generated, and a test for a specific operation of the semiconductor integrated circuit can be reliably performed.

【0047】実施の形態6.実施の形態6では、テスト
パターン中に同一の制御を行うことにより、テストパタ
ーンの実行順序を変更しても半導体集積回路の動作に影
響しない部分を指定する。例えば、演算回路とメモリ間
のデータバス上のデータ転送が、それに当たる。さら
に、半導体集積回路の全ての出力信号が論理0および論
理1に変化するテストパターンを抽出する。その際、テ
ストパターン数が最小になるようにする。これにより、
出力バッファ特性試験用のテストパターンを生成するこ
とができる半導体集積回路のテストパターン生成装置と
半導体集積回路のテストパターン生成方法とを説明す
る。
Embodiment 6 FIG. In the sixth embodiment, by performing the same control during the test pattern, a portion that does not affect the operation of the semiconductor integrated circuit even if the execution order of the test pattern is changed is specified. For example, data transfer on the data bus between the arithmetic circuit and the memory corresponds to this. Further, a test pattern in which all output signals of the semiconductor integrated circuit change to logic 0 and logic 1 is extracted. At that time, the number of test patterns is minimized. This allows
A test pattern generation device for a semiconductor integrated circuit and a test pattern generation method for a semiconductor integrated circuit that can generate a test pattern for an output buffer characteristic test will be described.

【0048】図17は、実施の形態6における半導体集
積回路のテストパターン生成装置の構成を示す図であ
る。図18は、実施の形態6における半導体集積回路の
テストパターン生成方法を説明するフローチャートであ
る。以下、図について説明を行う。
FIG. 17 is a diagram showing a configuration of a test pattern generation device for a semiconductor integrated circuit according to the sixth embodiment. FIG. 18 is a flowchart illustrating a test pattern generation method for a semiconductor integrated circuit according to the sixth embodiment. Hereinafter, the drawings will be described.

【0049】図17において、テストパターン生成部3
0とグループ指定部31は、上記実施の形態5の図15
のテストパターン生成部30とグループ指定部31と同
じ動作を行う。但し、テストパターン生成部30は、組
み合わせパターン生成部30aを備えており、組み合わ
せパターン生成部30aは、テストパターン生成部30
が生成したテストパターンを複数組み合わせて組み合わ
せテストパターンを生成する。図18のS605のテス
トパターン生成処理は、テストパターン生成部30と組
み合わせパターン生成部30aとにより実行される。図
18のS600の繰り返しテストパターンを印可する部
分を指定する処理は、グループ指定部31により実行さ
れる。34は、組み合わせパターン取得部であり、上記
実施の形態3の図7の組み合わせパターン取得部11と
同じ動作を行う。図18のS601の検索処理は、組み
合わせパターン取得部34により実行される。35は、
変化数カウント部であり、組み合わせパターン取得部3
4により取得された組み合わせパターンを構成するテス
トパターンの出力同時変化数を、上記実施の形態3の図
7の変化数カウント部12と同じ動作によりカウントす
る。図18のS602のカウント処理は、変化数カウン
ト部35により実行される。33は、実行順序決定部で
あり、変化数カウント部35によりカウントされた出力
同時変化数が、所定の許容可能な出力変化数を越えない
ようにテストパターンの実行順序を変更する。図18の
S603とS604の処理は、実行順序決定部33によ
り実行される。
In FIG. 17, the test pattern generator 3
0 and the group designation unit 31 are the same as those in FIG.
Perform the same operation as the test pattern generation unit 30 and the group designation unit 31. However, the test pattern generation unit 30 includes a combination pattern generation unit 30a, and the combination pattern generation unit 30a
Generates a combined test pattern by combining a plurality of test patterns generated by the. The test pattern generation processing of S605 in FIG. 18 is executed by the test pattern generation unit 30 and the combination pattern generation unit 30a. The process of designating the part to which the repetitive test pattern is applied in S600 of FIG. 18 is executed by the group designation unit 31. Reference numeral 34 denotes a combination pattern acquisition unit that performs the same operation as that of the combination pattern acquisition unit 11 in FIG. 7 of the third embodiment. The search processing of S601 in FIG. 18 is executed by the combination pattern acquisition unit 34. 35 is
A change count unit, and a combination pattern acquisition unit 3
The number of simultaneous changes in the output of the test pattern constituting the combination pattern obtained in step 4 is counted by the same operation as the change number counting unit 12 in FIG. 7 of the third embodiment. The counting process of S602 in FIG. 18 is executed by the change number counting unit 35. An execution order determination unit 33 changes the execution order of the test patterns so that the number of simultaneous output changes counted by the change number counting unit 35 does not exceed a predetermined allowable output change number. The processes of S603 and S604 in FIG. 18 are executed by the execution order determining unit 33.

【0050】図18のフローチャートに従い、半導体集
積回路のテストパターン生成方法を説明する。まず、S
605のテストパターン生成工程により、テストパター
ンを生成し、さらに、組み合わせパターン生成工程によ
り、上記生成したテストパターンを複数組み合わせて組
み合わせテストパターンを生成する。次に、S600の
グループ指定工程により、テストパターンの中で同一の
制御によりテストパターンを繰り返し印加する部分を指
定する。このような部分は、例えば、連続したメモリ領
域のデータを繰り返し読み出したり、書き出したりする
処理などに相当する。そして、S601の組み合わせパ
ターン取得工程により、S600で指定された繰り返し
印可する部分を対象に、全ての出力信号が論理0および
論理1になるテストパターンの組み合せを検索する。検
索した組み合せのテストパターンの中から、テストパタ
ーン数の少ないものから優先的に後述のS602からS
604の処理を行なう。S602の変化数カウント工程
では、テストパターンの出力信号の同時変化数をカウン
トし、S603の実行順序決定工程により、出力同時変
化数の許容値以上のテストパターンの順番を変更する。
この変更で出力同時変化数が許容値を満足しない場合
(S604)、別のテストパターンの組み合せで出力同
時変化数のカウント処理を行い、許容値を満足するテス
トパターンを探すように、上記S602からS604の
処理を繰り返し行なう。
A method for generating a test pattern for a semiconductor integrated circuit will be described with reference to the flowchart of FIG. First, S
A test pattern is generated in a test pattern generation step 605, and a combination test pattern is generated by combining a plurality of the generated test patterns in a combination pattern generation step. Next, in the group designation step of S600, a portion to which the test pattern is repeatedly applied is designated by the same control in the test pattern. Such a portion corresponds to, for example, a process of repeatedly reading or writing data in a continuous memory area. Then, in the combination pattern acquisition step of S601, a combination of test patterns in which all output signals are logic 0 and logic 1 is searched for the portion to be repeatedly applied specified in S600. From the test patterns of the retrieved combinations, those having a smaller number of test patterns are preferentially executed from S602 to S
Step 604 is performed. In the number-of-changes counting step of S602, the number of simultaneous changes in the output signal of the test pattern is counted, and in the execution order determination step of S603, the order of the test patterns equal to or more than the allowable number of simultaneous changes in output is changed.
If the number of simultaneous changes in output does not satisfy the allowable value due to this change (S604), the process of counting the number of simultaneous changes in output is performed with another combination of test patterns, and the above-described steps from S602 are performed so as to search for a test pattern satisfying the allowable value. The processing of S604 is repeatedly performed.

【0051】上記図18のアルゴリズムにより、周期数
の短いテストパターン、つまり、テストパターン数の少
ないテストパターンで出力同時変化数を抑えた半導体集
積回路の出力バッファの特性試験用のテストパターンを
生成することができ、初期のテストパターンを用いた試
験よりも、短い時間でより安定した試験を行なうことが
できる。
Using the algorithm shown in FIG. 18, a test pattern having a short cycle number, that is, a test pattern having a small number of test patterns, is used to test the characteristics of the output buffer of the semiconductor integrated circuit in which the number of simultaneous changes in output is suppressed. Thus, a more stable test can be performed in a shorter time than a test using an initial test pattern.

【0052】以上、実施の形態6によれば、例えば、連
続したメモリ領域のデータを繰り返し読み出したり、書
き出したりする処理の試験を半導体集積回路に対して行
う場合、同一の制御によりテストパターンを繰り返し半
導体集積回路に印可する部分を指定することができると
ともに、テストパターン数の少ないテストパターンによ
り出力同時変化数を抑えた半導体集積回路の出力バッフ
ァの特性試験用のテストパターンを生成することができ
る。このため、短い時間で半導体集積回路の出力バッフ
ァの特性試験を行うことができる。
As described above, according to the sixth embodiment, for example, when a test of a process of repeatedly reading and writing data in a continuous memory area is performed on a semiconductor integrated circuit, a test pattern is repeatedly performed under the same control. A portion to be applied to the semiconductor integrated circuit can be specified, and a test pattern for a characteristic test of an output buffer of the semiconductor integrated circuit can be generated in which the number of simultaneous output changes is suppressed by a test pattern having a small number of test patterns. Therefore, a characteristic test of the output buffer of the semiconductor integrated circuit can be performed in a short time.

【0053】[0053]

【発明の効果】以上のように、この発明の半導体集積回
路テストパターン生成装置と半導体集積回路のテストパ
ターン生成方法では、半導体集積回路の出力信号の同時
変化数を抑えたテストパターンを生成することができる
ようになり、半導体集積回路の試験時にグランドバウン
スの電気的な要因による半導体集積回路の誤動作が起こ
らないテストパターンを生成することができる効果があ
る。また、半導体集積回路の試験を行う時、半導体集積
回路に従来からあるテスト容易化回路であるスキャン回
路やバウンダリスキャン回路の他に特別なテスト回路を
追加する必要がないため、テスト回路のオーバーヘッド
が生じない効果がある。また、半導体集積回路の故障検
出用のテストパターン生成において、出力信号の同時変
化数を抑えるとともに、規定の故障検出率を満足するテ
ストパターンを生成することができる効果がある。
As described above, the semiconductor integrated circuit test pattern generating apparatus and the semiconductor integrated circuit test pattern generating method of the present invention generate a test pattern in which the number of simultaneous changes in the output signal of the semiconductor integrated circuit is suppressed. This makes it possible to generate a test pattern in which a malfunction of the semiconductor integrated circuit due to an electrical factor of ground bounce does not occur at the time of testing the semiconductor integrated circuit. In addition, when testing a semiconductor integrated circuit, it is not necessary to add a special test circuit to the semiconductor integrated circuit in addition to a scan circuit and a boundary scan circuit which are conventional test facilitating circuits. There is an effect that does not occur. Further, in generating a test pattern for detecting a failure in a semiconductor integrated circuit, the number of simultaneous changes in output signals can be suppressed, and a test pattern that satisfies a prescribed failure detection rate can be generated.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 実施の形態1に係わるスキャン回路またはバ
ウンダリスキャン回路を実装した半導体集積回路の出力
同時変化数を抑制したテストパターン生成の一つの例を
示すフローチャート図。
FIG. 1 is a flowchart illustrating an example of test pattern generation in which the number of simultaneous changes in the output of a semiconductor integrated circuit on which a scan circuit or a boundary scan circuit according to a first embodiment is mounted is suppressed;

【図2】 実施の形態1に係わるスキャン回路またはバ
ウンダリスキャン回路を実装した半導体集積回路の出力
同時変化数を抑制したテストパターン生成の一つの例を
説明するための図。
FIG. 2 is a view for explaining one example of test pattern generation in which the number of simultaneous changes in the output of a semiconductor integrated circuit mounted with a scan circuit or a boundary scan circuit according to the first embodiment is suppressed.

【図3】 実施の形態1に係わるスキャン回路またはバ
ウンダリスキャン回路を実装した半導体集積回路の出力
同時変化数を抑制したテストパターン生成の一つの例を
説明するための図。
FIG. 3 is a diagram for explaining an example of test pattern generation in which the number of simultaneous changes in the output of the semiconductor integrated circuit on which the scan circuit or the boundary scan circuit according to the first embodiment is mounted is suppressed;

【図4】 実施の形態2に係わるスキャン回路またはバ
ウンダリスキャン回路を実装した半導体集積回路のテス
トパターン生成装置の構成図。
FIG. 4 is a configuration diagram of a test pattern generation device for a semiconductor integrated circuit on which a scan circuit or a boundary scan circuit according to a second embodiment is mounted.

【図5】 実施の形態2に係わるスキャン回路またはバ
ウンダリスキャン回路を実装した半導体集積回路の同時
変化数を抑制し、かつ、故障検出率を考慮したテストパ
ターン生成の一つの例を説明するためのフローチャート
図。
FIG. 5 is a view for explaining one example of test pattern generation in which the number of simultaneous changes of a semiconductor integrated circuit mounted with a scan circuit or a boundary scan circuit according to the second embodiment is suppressed and a failure detection rate is taken into account; The flowchart figure.

【図6】 実施の形態2に係わるスキャン回路またはバ
ウンダリスキャン回路を実装した半導体集積回路の同時
変化数を抑制し、かつ、故障検出率を考慮したテストパ
ターン生成の一つの例を説明するための故障の分類を示
す図。
FIG. 6 is a view for explaining one example of test pattern generation in which the number of simultaneous changes of a semiconductor integrated circuit mounted with a scan circuit or a boundary scan circuit according to the second embodiment is suppressed and a failure detection rate is taken into account; The figure which shows the classification of a failure.

【図7】 実施の形態3に係わるスキャン回路およびバ
ウンダリスキャン回路を実装した半導体集積回路のテス
トパターン生成装置の構成図。
FIG. 7 is a configuration diagram of a test pattern generation device for a semiconductor integrated circuit on which a scan circuit and a boundary scan circuit according to a third embodiment are mounted.

【図8】 実施の形態3に係わるスキャン回路およびバ
ウンダリスキャン回路を実装した半導体集積回路の同時
変化数を抑制した半導体集積回路の出力バッファ特性試
験用のテストパターン生成の一つの例を説明するための
フローチャート図。
FIG. 8 is a view for explaining an example of test pattern generation for an output buffer characteristic test of a semiconductor integrated circuit in which the number of simultaneous changes of the semiconductor integrated circuit on which the scan circuit and the boundary scan circuit according to the third embodiment are mounted is suppressed; FIG.

【図9】 実施の形態3に係わるスキャン回路およびバ
ウンダリスキャン回路を実装した半導体集積回路の同時
変化数を抑制した半導体集積回路の出力バッファ特性試
験用のテストパターン生成の一つの例を説明する図。
FIG. 9 is a view for explaining an example of test pattern generation for an output buffer characteristic test of a semiconductor integrated circuit in which the number of simultaneous changes of the semiconductor integrated circuit on which the scan circuit and the boundary scan circuit according to the third embodiment are mounted is suppressed; .

【図10】 実施の形態3に係わるスキャン回路および
バウンダリスキャン回路を実装した半導体集積回路の同
時変化数を抑制した半導体集積回路の出力バッファ特性
試験用のテストパターン生成の一つの例を説明する図。
FIG. 10 is a diagram illustrating one example of test pattern generation for an output buffer characteristic test of a semiconductor integrated circuit in which the number of simultaneous changes of a semiconductor integrated circuit on which a scan circuit and a boundary scan circuit according to a third embodiment are mounted is suppressed; .

【図11】 実施の形態4に係わるスキャン回路および
バウンダリスキャン回路を実装した半導体集積回路のテ
ストパターン生成装置の構成図。
FIG. 11 is a configuration diagram of a test pattern generation device for a semiconductor integrated circuit on which a scan circuit and a boundary scan circuit according to a fourth embodiment are mounted.

【図12】 実施の形態4に係わるバウンダリスキャン
回路を実装した半導体集積回路の同時変化数を抑制した
半導体集積回路の入力バッファ特性試験用のテストパタ
ーン生成の一つの例を説明するためのフローチャート
図。
FIG. 12 is a flowchart for explaining an example of test pattern generation for an input buffer characteristic test of a semiconductor integrated circuit in which the number of simultaneous changes of the semiconductor integrated circuit on which the boundary scan circuit according to the fourth embodiment is mounted is suppressed; .

【図13】 実施の形態4に係わるバウンダリスキャン
回路を実装した半導体集積回路の同時変化数を抑制した
半導体集積回路の入力バッファ特性試験用のテストパタ
ーン生成の一つの例を説明する図。
FIG. 13 is a view for explaining an example of test pattern generation for an input buffer characteristic test of a semiconductor integrated circuit in which the number of simultaneous changes of the semiconductor integrated circuit on which the boundary scan circuit according to the fourth embodiment is mounted is suppressed;

【図14】 実施の形態4に係わるバウンダリスキャン
回路を実装した半導体集積回路の同時変化数を抑制した
半導体集積回路の入力バッファ特性試験用のテストパタ
ーン生成の一つの例を説明する図。
FIG. 14 is a view for explaining an example of generation of a test pattern for an input buffer characteristic test of a semiconductor integrated circuit in which the number of simultaneous changes of the semiconductor integrated circuit on which the boundary scan circuit according to the fourth embodiment is mounted is suppressed;

【図15】 実施の形態5に係わる半導体集積回路の同
時変化数を抑制した半導体集積回路のテストパターン生
成装置の構成図。
FIG. 15 is a configuration diagram of a test pattern generation device for a semiconductor integrated circuit according to a fifth embodiment in which the number of simultaneous changes in the semiconductor integrated circuit is suppressed.

【図16】 実施の形態5に係わる半導体集積回路の同
時変化数を抑制した半導体集積回路のテストパターン生
成の一つの例を説明するためのフローチャート図。
FIG. 16 is a flowchart for explaining one example of test pattern generation of a semiconductor integrated circuit in which the number of simultaneous changes of the semiconductor integrated circuit according to the fifth embodiment is suppressed.

【図17】 実施の形態6に係わる半導体集積回路の同
時変化数を抑制した半導体集積回路のテストパターン生
成装置の構成図。
FIG. 17 is a configuration diagram of a test pattern generation device for a semiconductor integrated circuit in which the number of simultaneous changes of the semiconductor integrated circuit according to the sixth embodiment is suppressed.

【図18】 実施の形態6に係わる半導体集積回路の同
時変化数を抑制した半導体集積回路の出力バッファ特性
試験用のテストパターン生成の一つの例を説明するため
のフローチャート図。
FIG. 18 is a flowchart for explaining an example of test pattern generation for an output buffer characteristic test of a semiconductor integrated circuit in which the number of simultaneous changes of the semiconductor integrated circuit according to the sixth embodiment is suppressed.

【図19】 半導体集積回路の同時変化数を考慮したテ
ストパターン生成の従来の技術を説明するためのフロー
チャート図。
FIG. 19 is a flowchart for explaining a conventional technique for generating a test pattern in consideration of the number of simultaneous changes of a semiconductor integrated circuit.

【符号の説明】 1 第1のテストパターン生成部、2 故障検出部、3
故障情報記憶部、4変化数カウント部、5 故障情報
更新部、6 第2のテストパターン生成部、7 第3の
テストパターン生成部、10 組み合わせパターン生成
部、11 組み合わせパターン取得部、12 変化数カ
ウント部、13 組み合わせパターン決定部、14 組
み合わせパターン絞込部、20 総故障、21 未検出
故障、22 検出故障、23 削除したパターンで検出
される故障、30 テストパターン生成部、30a 組
み合わせパターン生成部、31 グループ指定部、32
変化数カウント部、33 実行順序決定部、34 組み
合わせパターン取得部、35 変化数カウント部。
[Description of Signs] 1 First test pattern generation unit, 2 Failure detection unit, 3
Failure information storage section, 4 change count section, 5 failure information update section, 6 second test pattern generation section, 7 third test pattern generation section, 10 combination pattern generation section, 11 combination pattern acquisition section, 12 number of changes Counting section, 13 combination pattern determination section, 14 combination pattern narrowing section, 20 total failures, 21 undetected failures, 22 detected failures, 23 failures detected in deleted patterns, 30 test pattern generation section, 30a combination pattern generation section , 31 Group designation section, 32
Change number counting section, 33 execution order determination section, 34 combination pattern acquisition section, 35 change number counting section.

フロントページの続き (72)発明者 君島 達也 東京都千代田区丸の内二丁目2番3号 三 菱電機株式会社内 (72)発明者 千葉 一雄 東京都千代田区丸の内二丁目2番3号 三 菱電機株式会社内Continued on the front page (72) Inventor Tatsuya Kimishima 2-3-2 Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo Mitsui Electric Co., Ltd. (72) Inventor Kazuo Chiba 2-3-2 Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo Mitsubishi Electric Co., Ltd. In company

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 テストパターンの実行順序が変更可能で
あるテスト容易化回路を備えた半導体集積回路のテスト
を行うテストパターンを生成する半導体集積回路のテス
トパターン生成装置において、以下の要素を備えること
を特徴とする半導体集積回路のテストパターン生成装置 (a)上記半導体集積回路を試験するためのテストパタ
ーンとして少なくともテスト順と入力データと入力デー
タに対する半導体集積回路の出力期待値とを生成する第
1のテストパターン生成部、(b)故障シュミレーショ
ンを実行して上記半導体集積回路に発生し得る故障を検
出するとともに、上記第1のテストパターン生成部によ
り生成されたテストパターンを実行することにより、上
記検出した故障が検出可能であるかを判断して、上記検
出された故障と上記判断した結果とを故障情報として記
憶する故障検出部、(c)上記第1のテストパターン生
成部により生成された出力期待値について、上記テスト
順に従い先に行うテストパターンの出力期待値と次に行
うテストパターンの出力期待値とを比較し、出力期待値
の変化数をカウントする変化数カウント部、(d)上記
変化数カウント部によりカウントされた出力期待値の変
化数が所定の許容可能な出力変化数を越えているテスト
パターンでのみ検出可能な故障を求め、上記求めた故障
が検出不可能な故障となるように上記故障検出部に記憶
されている故障情報を更新する故障情報更新部、(e)
上記故障情報更新部により更新された故障情報より故障
検出率を求め、上記故障検出率が規定した故障検出率を
満足するように、上記故障情報のうち故障検出不可能で
ある故障についてテストパターンを生成する第2のテス
トパターン生成部、(f)上記第2のテストパターン生
成部により生成されたテストパターンと、上記第1のテ
ストパターン生成部により生成されたテストパターンの
内出力期待値の変化数が所定の許容可能な出力変化数を
満たすテストパターンとを合わせたテストパターンの出
力期待値について、先に実行するテストパターンの出力
期待値と次に実行するテストパターンの出力期待値とを
比較して出力期待値の変化数をカウントし、上記カウン
トされた出力期待値の変化数が所定の許容可能な出力変
化数を越えないように上記合わせたテストパターンの実
行順序を変更する第3のテストパターン生成部。
An apparatus for generating a test pattern for testing a semiconductor integrated circuit having a test facilitating circuit capable of changing the execution order of the test pattern includes the following elements. (A) a first test pattern generator for generating at least a test order, input data, and an expected output value of the semiconductor integrated circuit with respect to the input data as a test pattern for testing the semiconductor integrated circuit; (B) executing a fault simulation to detect a fault that may occur in the semiconductor integrated circuit and executing the test pattern generated by the first test pattern generating unit, Determine whether the detected fault is detectable and take the A failure detection unit that stores the determination result as failure information; and (c) an output expectation value of a test pattern to be performed first according to the test order and a next output expectation value generated by the first test pattern generation unit. A change count unit for comparing the output expected value of the test pattern to be performed and counting the change number of the output expected value; (d) the change count of the output expected value counted by the change count unit is a predetermined allowable value; A failure information updating unit that finds a failure that can be detected only in a test pattern that exceeds the number of output changes, and updates the failure information stored in the failure detection unit so that the obtained failure becomes an undetectable failure. , (E)
A failure detection rate is obtained from the failure information updated by the failure information updating unit, and a test pattern is determined for a failure that cannot be detected in the failure information so that the failure detection rate satisfies the specified failure detection rate. A second test pattern generation unit to be generated, (f) a change in the expected output value of the test pattern generated by the second test pattern generation unit and an expected output value of the test pattern generated by the first test pattern generation unit Compare the expected output value of the test pattern to be executed first and the expected output value of the test pattern to be executed next for the expected output value of the test pattern including the test pattern whose number satisfies the predetermined allowable output change number. And the number of changes in the expected output value is counted, so that the counted number of changes in the expected output value does not exceed a predetermined allowable output change number. The third test pattern generating unit for changing the execution order of test patterns to suit above.
【請求項2】 テストパターンの実行順序が変更可能で
あるテスト容易化回路を備えた半導体集積回路のテスト
を行うテストパターンを生成する半導体集積回路のテス
トパターン生成装置において、以下の要素を備えること
を特徴とする半導体集積回路のテストパターン生成装置 (a)上記半導体集積回路を試験するためのテストパタ
ーンとして少なくともテスト順と入力データと入力デー
タに対する半導体集積回路の出力期待値とを生成して、
上記生成したテストパターンを組み合わせて1つ以上の
テストパターンよりなる組み合わせパターンを生成する
組み合わせパターン生成部、(b)上記組み合わせパタ
ーン生成部により生成された組み合わせパターンから、
上記出力期待値が論理0と論理1のいずれかであるテス
トパターンにより構成されている組み合わせパターンを
取得する組み合わせパターン取得部、(c)上記組み合
わせパターン取得部により取得された組み合わせパター
ンについて、テストパターンのテスト順に従い先に行う
テストパターンの出力期待値と次に行うテストパターン
の出力期待値とを比較し、出力期待値の変化数をカウン
トする変化数カウント部、(d)上記変化数カウント部
によりカウントされた出力期待値の変化数が所定の許容
可能な出力変化数を越えないテストパターンにより構成
される組み合わせパターンを取得する組み合わせパター
ン決定部。
2. A test pattern generation apparatus for a semiconductor integrated circuit, which generates a test pattern for testing a semiconductor integrated circuit having a test facilitation circuit capable of changing the execution order of test patterns, includes the following elements. (A) generating at least a test order, input data, and an expected output value of the semiconductor integrated circuit with respect to the input data as a test pattern for testing the semiconductor integrated circuit;
A combination pattern generation unit configured to generate a combination pattern including one or more test patterns by combining the generated test patterns; (b) a combination pattern generated by the combination pattern generation unit;
A combination pattern acquisition unit for acquiring a combination pattern composed of a test pattern whose output expected value is either logic 0 or logic 1; and (c) a test pattern for the combination pattern acquired by the combination pattern acquisition unit. (D) a change number counting unit that compares the expected output value of the test pattern performed first and the expected output value of the test pattern performed next according to the test order and counts the number of changes in the output expected value; A combination pattern determining unit for acquiring a combination pattern composed of test patterns in which the number of changes in the expected output value counted by the above does not exceed a predetermined allowable number of output changes.
【請求項3】 上記組み合わせパターン決定部は、上記
組み合わせパターンを構成するテストパターンの数が少
ない組み合わせパターンを優先して取得することを特徴
とする請求項2記載の半導体集積回路のテストパターン
生成装置。
3. The test pattern generation device for a semiconductor integrated circuit according to claim 2, wherein said combination pattern determination unit preferentially acquires a combination pattern having a small number of test patterns constituting said combination pattern. .
【請求項4】 上記半導体集積回路のテストパターン生
成装置は、さらに、 上記組み合わせパターン取得部により取得された組み合
わせパターンから、組み合わせパターンを構成するテス
トパターンの入力データが論理0と論理1のいずれかで
あるテストパターンにより構成されている組み合わせパ
ターンを取得する組み合わせパターン絞込部を備え、 上記変化数カウント部は、上記組み合わせパターン絞込
部により取得された組み合わせパターンについて、テス
トパターンのテスト順に従い先に行うテストパターンの
出力期待値と次に行うテストパターンの出力期待値とを
比較し、出力期待値の変化数をカウントすることを特徴
とする請求項2または3記載の半導体集積回路のテスト
パターン生成装置。
4. The test pattern generation device for a semiconductor integrated circuit further comprises: a combination of the combination pattern acquired by the combination pattern acquisition section, wherein input data of a test pattern constituting the combination pattern is one of logic 0 and logic 1. A combination pattern narrowing-down unit that obtains a combination pattern composed of test patterns that are the same. 4. The test pattern for a semiconductor integrated circuit according to claim 2, wherein an expected output value of the test pattern to be executed next is compared with an expected output value of the test pattern to be executed next, and the number of changes in the expected output value is counted. Generator.
【請求項5】 上記半導体集積回路は、上記テストパタ
ーンの実行順序が変更可能であるテスト容易化回路とし
て、少なくともスキャン回路及びバウンダリスキャン回
路のいずれかを備えることを特徴とする請求項1から4
いずれか記載の半導体集積回路のテストパターン生成装
置。
5. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, further comprising at least one of a scan circuit and a boundary scan circuit as a test facilitating circuit capable of changing an execution order of the test pattern.
A test pattern generation device for a semiconductor integrated circuit according to any one of the preceding claims.
【請求項6】 以下の要素を備えることを特徴とする半
導体集積回路のテストパターン生成装置 (a)上記半導体集積回路を試験するためのテストパタ
ーンとして少なくともテスト順と入力データと入力デー
タに対する半導体集積回路の出力期待値とを生成するテ
ストパターン生成部、(b)上記テストパターン生成部
により生成されたテストパターンから、上記半導体集積
回路に対して同一の制御によりテストパターンを印加す
るテストパターンのグループを指定するグループ指定
部、(c)上記グループ指定部により指定されたテスト
パターンについて、テストパターンのテスト順に従い先
に行うテストパターンの出力期待値と次に行うテストパ
ターンの出力期待値とを比較し、出力期待値の変化数を
カウントする変化数カウント部、(d)上記変化数カウ
ント部によりカウントされた出力期待値の変化数が所定
の許容可能な出力変化数を越えないように、少なくとも
テスト順の変更及びテストパターンの削除のいずれかを
行い、テストパターンの実行順序を決定する実行順序決
定部。
6. A test pattern generation apparatus for a semiconductor integrated circuit, comprising the following elements: (a) a test pattern for testing the semiconductor integrated circuit, at least a test order, input data, and semiconductor integration with respect to the input data; A test pattern generation unit for generating an expected output value of the circuit; and (b) a group of test patterns for applying a test pattern to the semiconductor integrated circuit from the test pattern generated by the test pattern generation unit under the same control. (C) Compare the expected output value of the test pattern to be performed first with the expected output value of the next test pattern in accordance with the test order of the test patterns for the test pattern specified by the group specifying unit. Change number counting section for counting the number of changes in the output expected value, ( At least one of test order change and test pattern deletion is performed so that the number of changes in the expected output value counted by the number-of-changes counting unit does not exceed a predetermined allowable number of output changes. An execution order determining unit that determines an execution order.
【請求項7】 上記テストパターン生成部は、上記生成
したテストパターンを組み合わせて1つ以上のテストパ
ターンよりなる組み合わせパターンを生成する組み合わ
せパターン生成部を備え、 上記半導体集積回路のテストパターン生成装置は、さら
に、上記グループ指定部により指定されたテストパター
ンから、上記出力期待値が論理0と論理1のいずれかで
あるテストパターンにより構成されている組み合わせパ
ターンを取得する組み合わせパターン取得部を備え、 上記変化数カウント部は、上記組み合わせパターン取得
部により取得された組み合わせパターンについて、テス
トパターンのテスト順に従い先に行うテストパターンの
出力期待値と次に行うテストパターンの出力期待値とを
比較し、出力期待値の変化数をカウントすることを特徴
とする請求項6記載の半導体集積回路のテストパターン
生成装置。
7. The test pattern generation unit for a semiconductor integrated circuit, wherein the test pattern generation unit includes a combination pattern generation unit that generates a combination pattern including one or more test patterns by combining the generated test patterns. A combination pattern acquisition unit configured to acquire, from the test pattern designated by the group designation unit, a combination pattern constituted by a test pattern whose output expected value is one of logic 0 and logic 1, The change number counting unit compares the expected output value of the test pattern to be performed first and the expected output value of the next test pattern according to the test order of the test pattern, and outputs the combined pattern obtained by the above-described combination pattern obtaining unit. Counting the number of changes in expected value The test pattern generator of a semiconductor integrated circuit according to claim 6, wherein.
【請求項8】 テストパターンの実行順序が変更可能で
あるテスト容易化回路を備えた半導体集積回路のテスト
を行うテストパターンを生成する半導体集積回路のテス
トパターン生成方法において、以下の工程を備えること
を特徴とする半導体集積回路のテストパターン生成方法 (a)上記半導体集積回路を試験するためのテストパタ
ーンとして少なくともテスト順と入力データと入力デー
タに対する半導体集積回路の出力期待値とを生成する第
1のテストパターン生成工程、(b)故障シュミレーシ
ョンを実行して上記半導体集積回路に発生し得る故障を
検出するとともに、上記第1のテストパターン生成工程
により生成されたテストパターンを実行することによ
り、上記検出した故障が検出可能であるかを判断して、
上記検出された故障と、上記判断した結果とを故障情報
として記憶する故障検出工程、(c)上記第1のテスト
パターン生成工程により生成された出力期待値につい
て、上記テスト順に従い先に行うテストパターンの出力
期待値と次に行うテストパターンの出力期待値とを比較
し、出力期待値の変化数をカウントする変化数カウント
工程、(d)上記変化数カウント工程によりカウントさ
れた出力期待値の変化数が所定の許容可能な出力変化数
を越えているテストパターンでのみ検出可能な故障を求
め、上記求めた故障が検出不可能な故障となるように上
記故障検出工程により記憶された故障情報を更新する故
障情報更新工程、(e)上記故障情報更新工程により更
新された故障情報より故障検出率を求め、上記故障検出
率が規定した故障検出率を満足するように、上記故障情
報のうち故障検出不可能である故障についてテストパタ
ーンを生成する第2のテストパターン生成工程、(f)
上記第2のテストパターン生成工程により生成されたテ
ストパターンと上記第1のテストパターン生成工程によ
り生成されたテストパターンのうち出力期待値の変化数
が所定の許容可能な出力変化数を満たすテストパターン
とを合わせたテストパターンの出力期待値について、先
に実行するテストパターンの出力期待値と次に実行する
テストパターンの出力期待値とを比較して出力期待値の
変化数をカウントし、上記カウントとされた出力期待値
の変化数が所定の許容可能な出力変化数を越えないよう
に上記合わせたテストパターンの実行順序を変更する第
3のテストパターン生成工程。
8. A test pattern generation method for a semiconductor integrated circuit for generating a test pattern for testing a semiconductor integrated circuit having a test facilitation circuit capable of changing the execution order of test patterns, the method comprising the following steps: (A) A first method for generating at least a test order, input data, and an expected output value of the semiconductor integrated circuit with respect to the input data as a test pattern for testing the semiconductor integrated circuit. (B) executing a fault simulation to detect a fault that may occur in the semiconductor integrated circuit, and executing the test pattern generated in the first test pattern generating step, Determine whether the detected failure is detectable,
A failure detection step of storing the detected failure and the result of the determination as failure information; and (c) a test to be performed first on the output expected value generated in the first test pattern generation step in the test order. A change number counting step of comparing the expected output value of the pattern with the expected output value of the test pattern to be performed next, and counting the number of changes in the expected output value; A fault that can be detected only in a test pattern in which the number of changes exceeds a predetermined allowable output change number is determined, and the fault information stored in the fault detection step is such that the determined fault becomes an undetectable fault. (E) a failure detection rate is determined from the failure information updated in the failure information updating step, and a failure detection rate defined by the failure detection rate is determined. So as to satisfy the rate, the second test pattern generating step of generating a test pattern for fault undetectable is failure among the failure information, (f)
A test pattern in which the number of changes in the expected output value satisfies a predetermined allowable output change number among the test patterns generated in the second test pattern generation step and the test patterns generated in the first test pattern generation step. With respect to the expected output value of the test pattern, the output expected value of the test pattern to be executed first is compared with the expected output value of the test pattern to be executed next, and the number of changes in the expected output value is counted. A third test pattern generating step of changing the execution order of the combined test patterns so that the number of changes in the expected output value does not exceed a predetermined allowable number of changes in output.
【請求項9】 テストパターンの実行順序が変更可能で
あるテスト容易化回路を備えた半導体集積回路のテスト
を行うテストパターンを生成する半導体集積回路のテス
トパターン生成方法において、以下の工程を備えること
を特徴とする半導体集積回路のテストパターン生成方法 (a)上記半導体集積回路を試験するためのテストパタ
ーンとして少なくともテスト順と入力データと入力デー
タに対する半導体集積回路の出力期待値とを生成して、
上記生成したテストパターンを組み合わせて1つ以上の
テストパターンよりなる組み合わせパターンを生成する
組み合わせパターン生成工程、(b)上記組み合わせパ
ターン生成工程により生成された組み合わせパターンか
ら上記出力期待値が論理0と論理1のいずれかであるテ
ストパターンにより構成されている組み合わせパターン
を取得する組み合わせパターン取得工程、(c)上記組
み合わせパターン取得工程により取得された組み合わせ
パターンについてテストパターンのテスト順に従い先に
行うテストパターンの出力期待値と次に行うテストパタ
ーンの出力期待値とを比較し、出力期待値の変化数をカ
ウントする変化数カウント工程、(d)上記変化数カウ
ント工程によりカウントされた出力期待値の変化数が、
所定の許容可能な出力変化数を越えないテストパターン
により構成される組み合わせパターンを取得する組み合
わせパターン決定工程。
9. A test pattern generation method for a semiconductor integrated circuit for generating a test pattern for testing a semiconductor integrated circuit having a test facilitation circuit capable of changing the execution order of test patterns, the method comprising the following steps: (A) generating at least a test order, input data and an expected output value of the semiconductor integrated circuit with respect to the input data as a test pattern for testing the semiconductor integrated circuit,
A combination pattern generating step of generating a combination pattern composed of one or more test patterns by combining the generated test patterns; (b) the output expected value is set to logic 0 and logic 0 from the combination pattern generated by the combination pattern generation step; A combination pattern acquisition step of acquiring a combination pattern constituted by any one of the test patterns, and (c) a combination of the test patterns to be performed first in the test pattern test order for the combination patterns acquired in the combination pattern acquisition step. A change number counting step of comparing the output expected value with the output expected value of the test pattern to be performed next and counting the number of changes in the output expected value; (d) the number of changes in the output expected value counted in the above change number counting step But,
A combination pattern determination step of acquiring a combination pattern composed of test patterns that do not exceed a predetermined allowable number of output changes.
【請求項10】 上記半導体集積回路のテストパターン
生成方法は、さらに、上記組み合わせパターン取得工程
により取得された組み合わせパターンから、組み合わせ
パターンを構成するテストパターンの入力データが論理
0と論理1のいずれかであるテストパターンにより構成
されている組み合わせパターンを取得する組み合わせパ
ターン絞込工程を備え、上記変化数カウント工程は、上
記組み合わせパターン絞込工程により取得された組み合
わせパターンについて、テストパターンのテスト順に従
い先に行うテストパターンの出力期待値と次に行うテス
トパターンの出力期待値とを比較し、出力期待値の変化
数をカウントする工程を備えることを特徴とする請求項
9記載の半導体集積回路のテストパターン生成方法。
10. The method for generating a test pattern for a semiconductor integrated circuit, further comprising, based on the combination pattern acquired in the combination pattern acquisition step, input data of a test pattern constituting the combination pattern being one of logic 0 and logic 1 A combination pattern narrowing-down step of acquiring a combination pattern constituted by test patterns that are the same. 10. The test of a semiconductor integrated circuit according to claim 9, further comprising the step of comparing the expected output value of the test pattern to be performed next with the expected output value of the test pattern to be performed next and counting the number of changes in the expected output value. Pattern generation method.
【請求項11】 以下の工程を備えることを特徴とする
半導体集積回路のテストパターン生成方法 (a)上記半導体集積回路を試験するためのテストパタ
ーンとして少なくともテスト順と入力データと入力デー
タに対する半導体集積回路の出力期待値とを生成するテ
ストパターン生成工程、(b)上記テストパターン生成
工程により生成されたテストパターンから、上記半導体
集積回路に対して同一の制御によりテストパターンを印
加するテストパターンのグループを指定するグループ指
定工程、(c)上記グループ指定工程により指定された
テストパターンのテスト順に従い先に行うテストパター
ンの出力期待値と次に行うテストパターンの出力期待値
とを比較し、出力期待値の変化数をカウントする変化数
カウント工程、(d)上記変化数カウント工程によりカ
ウントとされた出力期待値の変化数が所定の許容可能な
出力変化数を越えないように、少なくともテスト順の変
更及びテストパターンの削除のいずれかを行い、テスト
パターンの実行順序を決定する実行順序決定工程。
11. A method for generating a test pattern for a semiconductor integrated circuit, comprising the following steps: (a) as a test pattern for testing the semiconductor integrated circuit, at least a test order, input data, and semiconductor integration with respect to the input data; A test pattern generation step of generating an expected output value of a circuit; and (b) a group of test patterns for applying a test pattern to the semiconductor integrated circuit from the test pattern generated in the test pattern generation step by the same control. (C) comparing the expected output value of the test pattern to be performed first with the expected output value of the next test pattern in accordance with the test order of the test pattern specified by the group designating step, and A change number counting step of counting the change number of the value, (d) the change At least one of the test order is changed and the test pattern is deleted so that the number of changes in the output expected value counted in the counting step does not exceed the predetermined allowable number of changes in output. An execution order determination step to be determined.
【請求項12】 上記テストパターン生成工程は、上記
生成したテストパターンを組み合わせて1つ以上のテス
トパターンよりなる組み合わせパターンを生成する組み
合わせパターン生成工程を備え、 上記半導体集積回路のテストパターン生成方法は、さら
に、上記グループ指定工程により指定されたテストパタ
ーンから、上記出力期待値が論理0と論理1のいずれか
であるテストパターンにより構成されている組み合わせ
パターンを取得する組み合わせパターン取得工程を備
え、 上記変化数カウント工程は、上記組み合わせパターン取
得工程により取得された組み合わせパターンについて、
テストパターンのテスト順に従い先に行うテストパター
ンの出力期待値と次に行うテストパターンの出力期待値
とを比較し、出力期待値の変化数をカウントすることを
特徴とする請求項11記載の半導体集積回路のテストパ
ターン生成方法。
12. The test pattern generation step includes a combination pattern generation step of generating a combination pattern composed of one or more test patterns by combining the generated test patterns. A combination pattern acquisition step of acquiring, from the test pattern designated by the group designation step, a combination pattern composed of a test pattern whose output expected value is one of logic 0 and logic 1, The change number counting step is for the combination pattern acquired in the combination pattern acquisition step,
12. The semiconductor device according to claim 11, wherein an expected output value of a test pattern to be performed first is compared with an expected output value of a test pattern to be performed next according to the test order of the test patterns, and the number of changes in the expected output value is counted. A test pattern generation method for an integrated circuit.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2009155851A1 (en) * 2008-06-27 2009-12-30 华为技术有限公司 A method and device for testing the paramaters of circuit
JP2015507743A (en) * 2011-12-28 2015-03-12 アルカテル−ルーセント Method and apparatus for delay scheduling in JTAG system

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008232690A (en) * 2007-03-19 2008-10-02 Nec Corp Semiconductor integrated circuit, test pattern generator of semiconductor integrated circuit
WO2009155851A1 (en) * 2008-06-27 2009-12-30 华为技术有限公司 A method and device for testing the paramaters of circuit
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