JPH11304731A - X-ray device - Google Patents

X-ray device

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JPH11304731A
JPH11304731A JP12818798A JP12818798A JPH11304731A JP H11304731 A JPH11304731 A JP H11304731A JP 12818798 A JP12818798 A JP 12818798A JP 12818798 A JP12818798 A JP 12818798A JP H11304731 A JPH11304731 A JP H11304731A
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ray
sample
axis
attachment
counter
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Hitoshi Okanda
等 大神田
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RIGAKU DENKI KK
Rigaku Denki Co Ltd
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RIGAKU DENKI KK
Rigaku Denki Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an X-ray device that can freely select a desired X-ray measurement out of a number of types of X-ray measurement, can securely prevents a sample being measured from falling, and further easily install an environmental attachment. SOLUTION: An X-ray device is provided with an X-ray source F for generating X rays, a θ rotary stand 9 for rotating a sample S with a ω axial line passing through the surface of the sample S as a center, an X-ray counter 2 for detecting X rays R2 that are diffracted by the sample S, a 2θ' attachment 15 for supporting the X-ray counter 2, and a 2θ rotary stand 11 for rotating the attachment 15 with the ω axial line as a center. The 2θ' attachment 15 rotates the X-ray counter 2 with the 28' axial line that orthogonally crosses the ω axial line as a center. By appropriately selecting and executing each operation of the θrotary stand 9, the 2θ rotary stand 11, and the 2θ' attachment 15, each kind of X-ray measurement can be selectively executed.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、試料にX線を照射
したときにその試料で回折するX線をX線検出手段によ
って検出する構造のX線装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an X-ray apparatus having a structure in which when a sample is irradiated with X-rays, X-rays diffracted by the sample are detected by X-ray detecting means.

【0002】[0002]

【従来の技術】X線装置には、従来から、種々の構造及
び種々の用途のものが存在する。例えば、粉末試料の解
析に適したθ−2θ回転型ゴニオメータを備えたX線装
置や、シリコンウエハ、水晶等といった単結晶試料の解
析に適した4軸ゴニオメータを備えたX線装置や、X線
カウンタを試料の表面と平行の面内方向、いわゆる緯度
方向に走査移動させて測定を行うインプレーン測定用の
X線装置、その他各種のX線装置が存在する。
2. Description of the Related Art Conventionally, there are various types of X-ray apparatuses having various structures and various uses. For example, an X-ray apparatus equipped with a θ-2θ rotary goniometer suitable for analyzing a powder sample, an X-ray apparatus equipped with a 4-axis goniometer suitable for analyzing a single crystal sample such as a silicon wafer, quartz, or the like, There are an in-plane measurement X-ray apparatus that performs measurement by scanning and moving a counter in an in-plane direction parallel to the surface of a sample, that is, a so-called latitude direction, and various other X-ray apparatuses.

【0003】今、4軸ゴニオメータを備えたX線装置を
考えると、このX線装置は、例えば図3に示すように、
X線源Fを含むX線発生装置51と、X線カウンタ52
と、4軸ゴニオメータ53とを含んで構成される。4軸
ゴニオメータ53は、例えば、架台57上に設置された
θ回転台59と、2θ回転台61と、この2θ回転台6
1から外径方向へ延びていてX線カウンタ52を支持す
るカウンタアーム62と、θ回転台59の上に設けたχ
(カイ)サークル66と、このχ(カイ)サークル66
によって支持されていて試料Sを支持するゴニオヘッド
58とを含んで構成される。
Now, considering an X-ray apparatus equipped with a four-axis goniometer, this X-ray apparatus is, for example, as shown in FIG.
X-ray generator 51 including X-ray source F, X-ray counter 52
And a four-axis goniometer 53. The four-axis goniometer 53 includes, for example, a θ rotation table 59, a 2θ rotation table 61, and a 2θ rotation table
A counter arm 62 extending in the outer diameter direction from 1 and supporting the X-ray counter 52, and a counter arm 62 provided on the θ-turntable 59.
(Chi) circle 66 and this χ (chi) circle 66
And a gonio head 58 that supports the sample S.

【0004】θ回転台59及び2θ回転台61は、試料
Sの表面を通る鉛直方向の軸線、すなわちθ軸線を中心
として互いに同軸状に配置されていて、それぞれ独立し
て回するように構成される。また、χ(カイ)サークル
66は、θ軸線を中心としてθ回転台59と同期回転
し、更にθ軸線と直交するχ軸線を中心として2θ’回
転するように構成される。
The θ turntable 59 and the 2θ turntable 61 are coaxially arranged around a vertical axis passing through the surface of the sample S, that is, the θ axis, and are configured to rotate independently. You. The χ (chi) circle 66 is configured to rotate synchronously with the θ-turntable 59 about the θ-axis and to rotate 2θ ′ about the χ-axis perpendicular to the θ-axis.

【0005】試料Sはゴニオヘッド58によって支持さ
れた状態で、θ軸線とχ軸線との交点となる回転中心O
に位置している。ゴニオヘッド58への試料Sの装着
は、周知の方法、例えば接着剤等を用いて行われる。ゴ
ニオヘッド58は、中心軸線ωを中心として試料Sを回
転可能に支持する。この中心軸線ωは、χ(カイ)サー
クル66の回転に従って回転中心Oを中心として回転す
るものであり、図3ではω軸線とθ軸線とが互いに一致
した状態を示している。
While the sample S is supported by the gonio head 58, the rotation center O at the intersection of the θ axis and the χ axis is
It is located in. The mounting of the sample S on the gonio head 58 is performed by a known method, for example, using an adhesive or the like. The gonio head 58 rotatably supports the sample S about the central axis ω. This center axis ω rotates about the rotation center O in accordance with the rotation of the χ (chi) circle 66, and FIG. 3 shows a state in which the ω axis and the θ axis coincide with each other.

【0006】この4軸ゴニオメータを用いたX線装置に
よれば、試料Sを入射X線R1に対して3次元空間内で
任意の角度に設定できるので、試料Sが単結晶物質であ
る場合に、その試料Sに固有の特定回折角度を探索して
その角度位置に試料Sを位置設定できる。
According to the X-ray apparatus using the four-axis goniometer, the sample S can be set at an arbitrary angle in the three-dimensional space with respect to the incident X-ray R1, so that when the sample S is a single crystal material, The specific diffraction angle specific to the sample S is searched for, and the position of the sample S can be set at that angle position.

【0007】次に、上記θ−2θ回転型ゴニオメータを
備えたX線装置というのは、図3において、θ回転台5
9からχ(カイ)サークル66を取り外してそのθ回転
台59によって試料Sを直接に支持する構造を有するX
線装置と考えられる。このX線装置では、θ回転台59
が試料Sを一定の方向へ所定の角速度で間欠的又は連続
的に回転、いわゆるθ回転させ、それと同時に2θ回転
台61がθ回転の2倍の角速度でそれと同じ方向へカウ
ンタアーム62、従ってX線カウンタ52を回転させる
ことになる。
Next, an X-ray apparatus equipped with the above-mentioned θ-2θ rotary goniometer is shown in FIG.
X having a structure in which a χ (chi) circle 66 is removed from 9 and the sample S is directly supported by the θ turntable 59
Considered a wire device. In this X-ray apparatus, the θ turntable 59
Rotates the sample S intermittently or continuously at a predetermined angular velocity in a certain direction, so-called θ rotation, and at the same time, the 2θ turntable 61 moves the counter arm 62 in the same direction at twice the angular velocity of θ rotation, thus X The line counter 52 will be rotated.

【0008】さらに、上記インプレーン測定用のX線装
置というのは、インプレーン(In-Plane回折)を利用し
たX線回折分析方法である。このインプレーン回折とい
うのは、図4に示すように、試料Sの表面に微小入射角
度δでX線R1を入射すると、試料表面に対して微小角
度の所に回折線R3が発生する現象である。これは、X
線R1を微小入射角度で試料Sに入射すると、試料Sの
内部に試料表面と平行に走るX線の成分が現れ、それが
試料表面に垂直な結晶面によって回折を起こし、その回
折線が試料表面にすれすれに出て行くという現象に基づ
くものである。
The X-ray apparatus for in-plane measurement is an X-ray diffraction analysis method using in-plane (in-plane diffraction). This in-plane diffraction is a phenomenon in which when an X-ray R1 is incident on the surface of a sample S at a small incident angle δ, a diffraction line R3 is generated at a small angle with respect to the sample surface as shown in FIG. is there. This is X
When the ray R1 is incident on the sample S at a small incident angle, an X-ray component running parallel to the sample surface appears inside the sample S, which causes diffraction by a crystal plane perpendicular to the sample surface. It is based on the phenomenon of coming out of the surface.

【0009】このインプレーン回折は薄膜評価に適した
方法であって、膜厚が薄くなるような試料、あるいは基
板との関係で面内の配向が現れるような試料等の評価に
関して非常に有用である。このインプレーン測定を実現
するためには、X線カウンタ52を光学位置調整のため
に2θ回転させなければならず、しかも、インプレーン
回折線を検出するためにその2θ回転面と直交する面内
方向、すなわち緯度方向2θ’に走査回転させなければ
ならない。
This in-plane diffraction is a method suitable for thin film evaluation, and is very useful for evaluation of a sample having a small film thickness or a sample having an in-plane orientation in relation to a substrate. is there. In order to realize this in-plane measurement, the X-ray counter 52 must be rotated by 2θ for adjusting the optical position, and in order to detect in-plane diffraction lines, the X-ray counter 52 must be rotated in a plane orthogonal to the 2θ rotation plane. The scan rotation must be performed in the direction, that is, the latitude direction 2θ ′.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】従来知られているX線
装置に関しては、上記のような各種の測定、あるいはそ
の他の測定を行うためにそれぞれ専用のX線装置が用い
られていた。そのため、各種の測定を行うために多額の
経費が必要となり、また、それぞれの専用機のために設
置スペースが必要となり、さらに、保守及び点検作業や
管理に多大な手間や労力を要していた。
With respect to conventionally known X-ray apparatuses, dedicated X-ray apparatuses have been used for performing various kinds of measurements as described above or other measurements. Therefore, a large amount of expense was required to perform various measurements, and an installation space was required for each dedicated machine, and further, maintenance and inspection work and management required a great deal of labor and labor. .

【0011】また特に、図3に示す4軸ゴニオメータを
用いた液晶装置では、χサークルによって試料Sを回転
させる関係上、測定中に試料が脱落したり、試料の移動
精度、つまり、測定精度に大きな誤差を生じ易いという
問題があった。また、χサークルが存在するために、試
料高温装置、ガス置換装置等といった環境アタッチメン
トを付加的に取り付けることが難しいという問題があっ
た。
Particularly, in the liquid crystal device using the four-axis goniometer shown in FIG. 3, since the sample S is rotated by a circle, the sample may drop off during the measurement, or the movement accuracy of the sample, that is, the measurement accuracy may be reduced. There is a problem that large errors are likely to occur. In addition, there is a problem that it is difficult to additionally attach an environmental attachment such as a sample high-temperature device, a gas replacement device, and the like due to the presence of a circle.

【0012】本発明は、従来のX線装置における上記の
問題点に鑑みてなされたものであって、多種類のX線測
定の中から希望するX線測定を自由に選択して実行する
ことができ、測定中の試料の脱落を確実に防止でき、さ
らに、環境アタッチメントの設置を容易に行うことので
きるX線装置を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above problems in the conventional X-ray apparatus, and is intended to freely select and execute a desired X-ray measurement from various types of X-ray measurements. It is an object of the present invention to provide an X-ray apparatus capable of reliably preventing a sample from dropping out during a measurement, and further capable of easily installing an environmental attachment.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】(1) 上記の目的を達
成するために、本発明に係るX線装置は、X線を発生す
るX線源と、試料の表面を通るω軸線を中心としてその
試料を回転させるθ回転台と、試料で回折するX線を検
出するX線検出手段と、そのX線検出手段を支持する2
θ’アタッチメントと、その2θ’アタッチメントを前
記ω軸線を中心として回転させる2θ回転台とを有す
る。そして、前記2θ’アタッチメントは、ω軸線と直
交する2θ’軸線を中心として前記X線検出手段を回転
させることを特徴とする。
(1) In order to achieve the above object, an X-ray apparatus according to the present invention comprises an X-ray source for generating X-rays and an ω-axis passing through the surface of a sample. A θ-turntable for rotating the sample, X-ray detection means for detecting X-rays diffracted by the sample, and 2 supporting the X-ray detection means
It has a θ ′ attachment and a 2θ turntable that rotates the 2θ ′ attachment about the ω axis. The 2θ ′ attachment rotates the X-ray detecting means around a 2θ ′ axis orthogonal to the ω axis.

【0014】このX線装置によれば、2θ回転台の上に
2θ’アタッチメントを設け、そしてその2θ’アタッ
チメントは、2θ回転台の回転中心線であるω軸線と直
交する2θ’軸線を中心としてX線検出手段を回転させ
ることができるので、試料のθ回転、2θ’アタッチメ
ントの2θ回転及びX線検出手段の2θ’回転を必要に
応じて適宜に組み合わせることにより、θ−2θ系ゴニ
オメータを用いた測定、4軸ゴニオメータを用いた測
定、インプレーン測定等といった緯度方向に関する測角
を必要とする測定、その他各種のX線測定を1つのX線
装置によって行うことができる。
According to this X-ray apparatus, a 2θ ′ attachment is provided on a 2θ turntable, and the 2θ ′ attachment is centered on a 2θ ′ axis orthogonal to the ω axis which is the rotation centerline of the 2θ turntable. Since the X-ray detection means can be rotated, the θ-2θ-based goniometer can be used by appropriately combining the θ rotation of the sample, the 2θ ′ rotation of the attachment and the 2θ ′ rotation of the X-ray detection means as needed. Measurement using a four-axis goniometer, measurement requiring an angle measurement in the latitude direction such as in-plane measurement, and various other X-ray measurements can be performed by one X-ray device.

【0015】(2) 上記構成のX線装置において、2
θ回転台は、θ回転台による試料の回転から独立して2
θ’アタッチメントを回転させるように構成することが
望ましい。こうすれば、θ回転台と2θ回転台との間の
回転の自由度が増大するので、より多種類のX線測定に
対応できる。
(2) In the X-ray apparatus having the above structure,
The θ-turntable is 2 independent of the rotation of the sample by the θ-turntable.
It is desirable to configure so that the θ ′ attachment is rotated. By doing so, the degree of freedom of rotation between the θ-turntable and the 2θ-turntable is increased, so that it is possible to cope with more types of X-ray measurements.

【0016】(3) 上記構成のX線装置においては、
2θ回転台上にカウンタアームを設け、2θ回転台によ
ってそのカウンタアームを前記ω軸線を中心として回転
させるように構成し、そして、前記2θ’アタッチメン
トをそのカウンタアームに着脱可能に配置するように構
成することが望ましい。こうすれば、2θ’アタッチメ
ントを用いて行う緯度方向への回転が不要であるときに
は、その2θ’アタッチメントを取り外すことにより、
X線光学系の構造を簡素化できる。
(3) In the X-ray apparatus having the above configuration,
A counter arm is provided on the 2θ turntable, the counter arm is rotated by the 2θ turntable about the ω axis, and the 2θ ′ attachment is removably disposed on the counter arm. It is desirable to do. In this way, when the rotation in the latitude direction performed using the 2θ ′ attachment is unnecessary, by removing the 2θ ′ attachment,
The structure of the X-ray optical system can be simplified.

【0017】(4) 上記(3)のX線装置において、
カウンタアームに2θ’アタッチメントを位置決めする
ためのガイド部を設け、そのガイド部は前記2θ’軸線
が前記ω軸線に直交するようにその2θ’アタッチメン
トをガイドするという構成を採用することができる。こ
うすれば、カウンタアーム上に2θ’アタッチメントを
装着すれば2θ’軸線が自動的にω軸線と交わる所定位
置に必ず位置決めされるので、X線光学系の組付け精度
が向上し、しかもX線光学系の光軸精度が向上する。
(4) In the X-ray apparatus of (3),
A guide portion for positioning the 2θ ′ attachment may be provided on the counter arm, and the guide portion may be configured to guide the 2θ ′ attachment such that the 2θ ′ axis is orthogonal to the ω axis. In this case, when the 2θ ′ attachment is mounted on the counter arm, the 2θ ′ axis is automatically positioned at a predetermined position intersecting with the ω axis, so that the assembly accuracy of the X-ray optical system is improved, and the X-ray The optical axis accuracy of the optical system is improved.

【0018】(5) 以上の構成のX線装置において、
前記2θ’軸線は前記X線検出手段に取り込まれるX線
の光軸に対して直角方向に延びるように構成することが
望ましい。こうすれば、試料の緯度方向、すなわち試料
表面の法線を中心として回転する方向へX線検出手段
を、試料に対して一定の傾斜角度を維持した状態で正確
に回転移動させることができる。
(5) In the X-ray apparatus having the above configuration,
It is preferable that the 2θ ′ axis is configured to extend in a direction perpendicular to the optical axis of the X-rays captured by the X-ray detection unit. With this configuration, the X-ray detection unit can be accurately rotated and moved in the latitude direction of the sample, that is, in the direction in which the X-ray detection unit rotates around the normal to the sample surface, while maintaining a constant inclination angle with respect to the sample.

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】図1は、本発明に係るX線装置の
一実施形態を示している。このX線装置は、試料Sに入
射するX線R1を発生するX線源Fを含むX線発生装置
1と、試料Sからの回折X線R2を検出するX線カウン
タ2と、試料S及びX線カウンタ2の位置を測角するゴ
ニオメータ3とを含んで構成される。X線源Fは、固定
配置されており、例えば通電によって熱電子を放出する
フィラメントと、その熱電子が高速度で衝突するターゲ
ットとを含んで構成できる。この場合、X線は熱電子が
衝突したターゲットから発生する。
FIG. 1 shows an embodiment of an X-ray apparatus according to the present invention. The X-ray apparatus includes an X-ray generator 1 including an X-ray source F that generates an X-ray R1 incident on a sample S, an X-ray counter 2 that detects a diffracted X-ray R2 from the sample S, A goniometer 3 for measuring the position of the X-ray counter 2. The X-ray source F is fixedly arranged, and can be configured to include, for example, a filament that emits thermoelectrons when energized, and a target with which the thermoelectrons collide at a high speed. In this case, X-rays are generated from the target hit by the thermoelectrons.

【0020】X線源Fと試料Sとの間には、X線源Fか
ら発散するX線R1が試料Sへ入射するようにそのX線
R1の発散を規制するための発散規制スリットや、連続
X線を単色化するためのモノクロメータ等といった各種
のX線光学要素を含んだ入射側光学ユニット4が配設さ
れる。また、試料SとX線カウンタ2との間には、散乱
X線等といった不要なX線がX線カウンタ2に取り込ま
れることを防止するための散乱線規制スリットや、X線
R2の集束位置に配置される受光スリット等といった各
種のX線光学要素を含んだ受光側光学ユニット6が配設
される。X線カウンタ2は、例えばSC(Scintillatio
n Counter)によって構成される。
Between the X-ray source F and the sample S, a divergence regulating slit for regulating the divergence of the X-ray R1 so that the X-ray R1 diverging from the X-ray source F enters the sample S; An incident side optical unit 4 including various X-ray optical elements such as a monochromator for monochromatic continuous X-rays is provided. Further, between the sample S and the X-ray counter 2, a scattered-ray regulating slit for preventing unnecessary X-rays such as scattered X-rays from being taken into the X-ray counter 2, and a focusing position of the X-ray R <b> 2. A light receiving side optical unit 6 including various X-ray optical elements such as a light receiving slit and the like is disposed. The X-ray counter 2 is, for example, an SC (Scintillatio).
n Counter).

【0021】ゴニオメータ3は、架台7上に設置されて
おり、試料Sを支持するがゴニオヘッド8と、そのゴニ
オヘッド8を支持するθ回転台9と、そのθ回転台9の
まわりに配設された2θ回転台11と、その2θ回転台
11から外径方向に延びるカウンタアーム12とを含ん
で構成される。θ回転台9は、試料Sの表面を通る鉛直
方向のω軸線を中心として回転移動できるように構成さ
れる。また、2θ回転台11もω軸線を中心として回転
移動できるように構成される。
The goniometer 3 is installed on a gantry 7 and supports a sample S. The goniometer 3 is provided around a goniometer head 8, a θ turntable 9 supporting the goniometer head 8, and the θ turntable 9. It is configured to include a 2θ turntable 11 and a counter arm 12 extending from the 2θ turntable 11 in the outer diameter direction. turntable 9 is configured to be rotatable about a vertical ω axis passing through the surface of the sample S. The 2θ turntable 11 is also configured to be able to rotate about the ω axis.

【0022】図2に示すように、θ回転台9は、θ回転
駆動装置13によって駆動されてω軸線を中心として所
定の角速度で間欠的又は連続的に回転する。また、2θ
回転台11は、2θ回転駆動装置14によって駆動され
てω軸線を中心として回転し、X線カウンタ2を試料S
に対して回転させる。このように、θ回転台9と2θ回
転台11とは互いに同軸状に配置されて互いに独立して
回転制御される。これらのθ回転駆動装置13及び2θ
回転駆動装置14は任意の駆動装置を用いて構成でき、
例えばウオームとウオームホイールとを含む動力伝達機
構を用いて構成できる。
As shown in FIG. 2, the θ-rotation table 9 is driven by the θ-rotation drive device 13 and rotates intermittently or continuously at a predetermined angular velocity about the ω-axis. Also, 2θ
The turntable 11 is driven by the 2θ rotation drive device 14 and rotates about the ω axis, and turns the X-ray counter 2 on the sample S
Rotate against In this manner, the θ rotation table 9 and the 2θ rotation table 11 are arranged coaxially with each other, and their rotation is controlled independently of each other. These θ rotation driving devices 13 and 2θ
The rotary drive 14 can be configured using any drive,
For example, it can be configured using a power transmission mechanism including a worm and a worm wheel.

【0023】カウンタアーム12の上には、2θ’アタ
ッチメント15が着脱可能に取り付けられている。本実
施形態では、カウンタアーム12の上にガイド部29が
形成され、そのガイド部29によって位置決めされた状
態で、2θ’アタッチメント15がカウンタアーム12
上に固定されている。
On the counter arm 12, a 2θ 'attachment 15 is detachably mounted. In the present embodiment, a guide portion 29 is formed on the counter arm 12, and in a state where the guide portion 29 is positioned by the guide portion 29, the 2θ ′ attachment 15 is attached to the counter arm 12.
Fixed on top.

【0024】2θ’アタッチメント15は、支持部材2
8によって支持されて2θ’軸線を中心として回転でき
るアタッチメントアーム16と、そのアタッチメントア
ーム16を回転駆動する2θ’回転駆動装置17とを含
んで構成される。この2θ’回転駆動装置17は、例え
ば、パルスモータからなる駆動モータ18と、この駆動
モータ18によって駆動されて回転するウオーム19
と、そのウオーム19に噛み合うウオームホイール21
とを含んで構成される。もちろん、その他の任意の動力
伝達機構を用いて構成することもできる。さらに、2
θ’回転駆動装置17は、θ回転駆動装置13及び2θ
回転駆動装置14から独立してその動作が制御される。
The 2θ ′ attachment 15 is provided on the support member 2.
8 and an attachment arm 16 that can rotate about the 2θ ′ axis, and a 2θ ′ rotation drive device 17 that rotationally drives the attachment arm 16. The 2θ ′ rotation drive device 17 includes, for example, a drive motor 18 including a pulse motor, and a worm 19 that is driven and rotated by the drive motor 18.
And the worm wheel 21 meshing with the worm 19
It is comprised including. Of course, it can be configured using any other power transmission mechanism. In addition, 2
The θ ′ rotation drive device 17 includes the θ rotation drive devices 13 and 2θ
The operation is controlled independently of the rotation drive device 14.

【0025】以上の構成により、カウンタアーム12の
上にアタッチメントアーム16を介して支持されたX線
カウンタ2は、2θ回転駆動装置14によって駆動され
る2θ回転台11の回転に従ってω軸線を中心として回
転し、さらに、2θ’回転駆動装置17によって駆動さ
れて、2θ’軸線を中心として回転するように構成され
る。
With the above configuration, the X-ray counter 2 supported on the counter arm 12 via the attachment arm 16 rotates around the ω axis in accordance with the rotation of the 2θ turntable 11 driven by the 2θ rotation driving device 14. It is configured to rotate and further driven by a 2θ ′ rotation drive device 17 to rotate about the 2θ ′ axis.

【0026】試料Sは、例えばゴニオヘッド8によって
支持されてω軸線と2θ’軸線との交点Oに位置し、符
号θで示すようにω軸線を中心としてX線源Fに対して
相対的に回転する。一方、X線カウンタ2は、符号2θ
で示すようにω軸線を中心として試料Sに対して相対的
に回転する。また、X線カウンタ2は、符号2θ’で示
すように2θ’軸線を中心として試料Sに対して相対的
に回転する。なお、試料Sはゴニオヘッド以外の任意の
支持構造によって支持することができる。
The sample S is supported, for example, by a gonio head 8 and is located at the intersection O between the ω axis and the 2θ ′ axis, and rotates relative to the X-ray source F about the ω axis as indicated by the symbol θ. I do. On the other hand, the X-ray counter 2
As shown by, the sample rotates relative to the sample S about the ω axis. The X-ray counter 2 rotates relative to the sample S about the 2θ ′ axis as indicated by reference numeral 2θ ′. The sample S can be supported by any support structure other than the gonio head.

【0027】θ回転駆動装置13、2θ回転駆動装置1
4及び2θ’回転駆動装置17は、X線測定制御装置2
0によってそれらの動作が制御される。X線測定制御装
置20は、CPU22及びそれに付属するメモリ23を
含んで構成される。メモリ23の内部には、X線回折測
定の全般的な制御を司るプログラムが格納される。CP
U22の出力ポートには、θ回転駆動装置13、2θ回
転駆動装置14及び2θ’回転駆動装置17以外に、表
示装置としてのCRT(Cathode Ray Tube)ディスプレ
イ24が接続される。
Theta rotation drive device 13, 2θ rotation drive device 1
4 and 2θ ′ rotation driving device 17
0 controls their operation. The X-ray measurement control device 20 includes a CPU 22 and a memory 23 attached thereto. The memory 23 stores a program that controls the overall control of the X-ray diffraction measurement. CP
The output port of U22 is connected to a CRT (Cathode Ray Tube) display 24 as a display device in addition to the θ rotation drive device 13, 2θ rotation drive device 14, and 2θ ′ rotation drive device 17.

【0028】一方、CPU22の入力ポートには、X線
強度演算回路26が接続される。このX線強度演算回路
26はX線カウンタ2の出力端子に接続され、X線カウ
ンタ2の出力信号に基づいてそのX線カウンタ2に取り
込まれたX線R2の強度を演算する。そして、X線強度
演算回路26によって演算されたX線強度が電気信号と
してCPU22へ伝送される。CPU22の入力ポート
には、X線強度演算回路26以外にキーボード、マウス
形入力器等といった入力装置25が接続される。
On the other hand, an X-ray intensity calculation circuit 26 is connected to an input port of the CPU 22. The X-ray intensity calculation circuit 26 is connected to the output terminal of the X-ray counter 2 and calculates the intensity of the X-ray R2 captured by the X-ray counter 2 based on the output signal of the X-ray counter 2. Then, the X-ray intensity calculated by the X-ray intensity calculation circuit 26 is transmitted to the CPU 22 as an electric signal. The input port of the CPU 22 is connected to an input device 25 such as a keyboard and a mouse-type input device in addition to the X-ray intensity calculation circuit 26.

【0029】本実施形態のX線装置は以上のように構成
されているので、次のような各種回転、すなわち、 ゴニオヘッド8を用いる場合には、ゴニオヘッド8に
よって行われる試料Sの上下及び左右方向への傾斜回転
移動、 θ回転台9によって行われる試料Sのθ回転、 2θ回転台11によって行われる2θ’アタッチメン
ト15の2θ回転及び 2θ’アタッチメント15によって行われるX線カウ
ンタ2の2θ’回転の各種回転を任意に選択して実行す
ることにより、θ−2θ方式のX線回折測定、4軸ゴニ
オメータと同等のX線回折測定、インプレーン回折線を
測定するX線回折測定、その他あらゆる種類のX線測定
を希望に応じて行うことができる。
Since the X-ray apparatus of this embodiment is configured as described above, the following various rotations, ie, when the gonio head 8 is used, the vertical and horizontal directions of the sample S performed by the gonio head 8 Rotation of the sample S performed by the θ rotation table 9, 2θ rotation of the 2θ ′ attachment 15 performed by the 2θ rotation table 11, and 2θ ′ rotation of the X-ray counter 2 performed by the 2θ ′ attachment 15. By selecting and executing various rotations, the X-ray diffraction measurement of θ-2θ method, X-ray diffraction measurement equivalent to 4-axis goniometer, X-ray diffraction measurement of in-plane diffraction line, and all other types X-ray measurements can be made as desired.

【0030】(1)測定例1 例えば、粉末試料に対してθ−2θ方式のX線回折測定
を行う場合には、まず、2θ’アタッチメント15によ
って2θ’=0°の位置、すなわち試料2に入射する入
射X線R1と試料Sで回折する回折X線R2とが同一の
水平面内に入るような位置、にX線カウンタ2を位置設
定する。この状態で、θ回転台9によって試料Sを一定
の角速度で一定の方向へ間欠的又は連続的にθ回転さ
せ、同時に2θ回転台11によってX線カウンタ2をθ
回転の2倍の角速度で同じ方向へ2θ回転させる。
(1) Measurement Example 1 For example, when performing X-ray diffraction measurement of θ-2θ method on a powder sample, first, the 2θ ′ attachment 15 is used to set the position of 2θ ′ = 0 °, that is, the sample 2 The X-ray counter 2 is set at a position where the incident X-rays R1 incident thereon and the diffracted X-rays R2 diffracted by the sample S enter the same horizontal plane. In this state, the sample S is intermittently or continuously rotated by θ at a constant angular velocity in a fixed direction by the θ turntable 9, and at the same time, the X-ray counter 2 is rotated by θ by the 2θ turntable 11.
Rotate 2θ in the same direction at twice the angular velocity of rotation.

【0031】試料Sがθ回転する間、試料Sに入射する
X線R1と試料Sの結晶格子面との間でブラッグの回折
条件が満足されると、その試料SでX線が回折し、その
回折線がX線カウンタ2によって検出され、さらにX線
強度演算回路26によってX線強度が演算され、そのX
線強度値がCPU22の処理によってメモリ23の所定
記憶場所に記憶される。こうして、X線カウンタ2の角
度位置すなわち回折角度2θとその角度位置における回
折X線強度との関係が測定される。
When the Bragg diffraction condition is satisfied between the X-ray R1 incident on the sample S and the crystal lattice plane of the sample S while the sample S rotates by θ, the X-ray is diffracted by the sample S, The diffraction line is detected by the X-ray counter 2, and the X-ray intensity is calculated by the X-ray intensity calculation circuit 26.
The line intensity value is stored in a predetermined storage location of the memory 23 by the processing of the CPU 22. Thus, the relationship between the angular position of the X-ray counter 2, that is, the diffraction angle 2θ, and the diffracted X-ray intensity at that angular position is measured.

【0032】なお、本実施形態では2θ’アタッチメン
ト15はカウンタアーム12に着脱可能に取り付けられ
ている。よって、2θ’アタッチメント15をカウンタ
アーム12から取り外し、それに代えてX線カウンタ2
をカウンタアーム12の上に装着すれば、2θ回転台1
1によってカウンタアーム12を2θ回転させることに
より、通常のθ−2θゴニオメータと同様なX線光学系
によって測定を行うことができる。この場合には、X線
光学系が簡素になるので、光学系の光学調整を簡単に行
うことができる。
In this embodiment, the 2θ ′ attachment 15 is detachably attached to the counter arm 12. Therefore, the 2θ ′ attachment 15 is detached from the counter arm 12 and the X-ray counter
Is mounted on the counter arm 12, the 2θ turntable 1
By rotating the counter arm 12 by 2θ by 1, the measurement can be performed by an X-ray optical system similar to a normal θ-2θ goniometer. In this case, since the X-ray optical system becomes simple, optical adjustment of the optical system can be easily performed.

【0033】また、本実施形態ではカウンタアーム12
の所定位置にガイド部29が設けられ、このガイド部2
9に沿って2θ’アタッチメント15を装着したときに
は、2θ’軸線が自動的にω軸線に直交するようになっ
ている。従って、上記のように2θ’アタッチメント1
5をカウンタアーム12に着脱する際、2θ’アタッチ
メント15をガイド部29に沿わせるという簡単な操作
だけで、2θ’軸線をω軸線に対して常に一定の位置に
安定して位置決めできる。
In the present embodiment, the counter arm 12
A guide portion 29 is provided at a predetermined position of the guide portion 2.
When the 2θ ′ attachment 15 is attached along 9, the 2θ ′ axis is automatically orthogonal to the ω axis. Therefore, as described above, the 2θ ′ attachment 1
When the 5 is attached to and detached from the counter arm 12, the 2θ 'axis can be stably positioned at a constant position with respect to the ω axis by simply operating the 2θ' attachment 15 along the guide portion 29.

【0034】(2)測定例2 次に、図3に関連して説明した4軸ゴニオメータを用い
たX線回折測定と同等の測定を行う場合について説明す
る。図3においては試料Sは、θ回転台59によってθ
軸線まわりに回転し、χサークル66によってχ軸線ま
わりに回転し、さらにゴニオヘッド58によって傾斜移
動する。また、X線カウンタ52は、2θ回転台61に
よってθ軸線まわりに回転する。これらの各種回転を希
望に従って実行することにより、単結晶試料Sに発生す
る回折線をX線カウンタ52によって捕らえることがで
きる。
(2) Measurement Example 2 Next, a case where a measurement equivalent to the X-ray diffraction measurement using the four-axis goniometer described with reference to FIG. 3 will be described. In FIG. 3, the sample S
It rotates about the axis, rotates about the χ axis by the circle 66, and further tilts and moves by the gonio head 58. The X-ray counter 52 is rotated around the θ axis by the 2θ rotation table 61. By performing these various rotations as desired, a diffraction line generated in the single crystal sample S can be captured by the X-ray counter 52.

【0035】図1に示す本実施形態のX線装置によって
それと同等のX線測定を行う場合には、試料Sをθ回転
台9によってω軸線まわりに回転させること、試料Sを
ゴニオヘッド8によって傾斜移動させること、X線カウ
ンタ2を2θ回転台11によってω軸線まわりに回転さ
せること、さらにX線カウンタ2を2θ’アタッチメン
ト15によって2θ’軸線まわりに回転させることとい
った各種の回転移動の中から希望の回転を選択して実行
することにより、図3に示す4軸ゴニオメータと同等の
測定を行うことができる。
In order to perform an equivalent X-ray measurement using the X-ray apparatus of the present embodiment shown in FIG. 1, the sample S is rotated around the ω axis by the θ-turntable 9 and the sample S is tilted by the gonio head 8. Moving, rotating the X-ray counter 2 around the ω-axis by the 2θ turntable 11, and rotating the X-ray counter 2 around the 2θ′-axis by the 2θ ′ attachment 15. By selecting and executing the rotation, the measurement equivalent to the four-axis goniometer shown in FIG. 3 can be performed.

【0036】なお、図3に示す従来の4軸ゴニオメータ
を用いたX線装置では、試料Sのまわりにχサークル6
6が存在する関係上、試料の温度を調節するための試料
高温装置、試料のまわりのガス雰囲気を調整するための
ガス置換装置等といった環境アタッチメントを試料Sの
まわりに装着することが難しかった。これに対し、図1
に示す本実施形態では、試料Sのまわりにはχサークル
等といった邪魔な部材が存在しないので、環境アタッチ
メントを容易に取り付けることができる。
Incidentally, in the conventional X-ray apparatus using a four-axis goniometer shown in FIG.
Due to the existence of the sample 6, it was difficult to mount an environmental attachment around the sample S, such as a sample high-temperature device for adjusting the temperature of the sample, a gas replacement device for adjusting the gas atmosphere around the sample, and the like. In contrast, FIG.
In the present embodiment shown in FIG. 7, since no obstructive member such as a circle is present around the sample S, the environmental attachment can be easily attached.

【0037】(3)測定例3 次に、図4に示したインプレーン回折測定を行う場合に
ついて説明する。この場合には、ゴニオヘッド8によっ
て入射X線R1に対する試料Sの平面性を調節し、θ回
転台9によって試料Sをω軸線まわりに回転させること
によってX線入射角度を微小角度δに調節する。そし
て、2θ回転台11によってX線カウンタ2をω軸線ま
わりに回転してインプレーン回折線を検出できる微小角
度位置δに位置設定し、その状態で、2θ’アタッチメ
ント15によってX線カウンタ2を2θ’軸線を中心と
して2θ’回転させて試料Sの緯度方向へ走査回転させ
ることにより、試料Sに発生するインプレーン回折線を
検出する。
(3) Measurement Example 3 Next, the case where the in-plane diffraction measurement shown in FIG. 4 is performed will be described. In this case, the flatness of the sample S with respect to the incident X-ray R1 is adjusted by the gonio head 8, and the X-ray incident angle is adjusted to the minute angle δ by rotating the sample S around the ω axis by the θ-turntable 9. Then, the X-ray counter 2 is rotated around the ω-axis by the 2θ turntable 11 to set the position to the minute angular position δ at which the in-plane diffraction line can be detected. By rotating the sample S in the latitudinal direction by rotating it by 2θ about the axis, in-plane diffraction lines generated in the sample S are detected.

【0038】以上、好ましい実施形態を挙げて本発明を
説明したが、本発明はその実施形態に限定されるもので
なく、請求の範囲に記載した発明の範囲内で種々に改変
できる。以上の説明では、図1に示すX線装置によって
行うことができるX線測定を3種類挙げて説明したが、
ゴニオヘッド8によって行われる試料Sの上下及び左
右方向への傾斜回転移動、θ回転台9によって行われ
る試料Sのθ回転、2θ回転台によって行われる2
θ’アタッチメント15の2θ回転及び2θ’アタッ
チメント15によって行われるX線カウンタ2の2θ’
回転の各種回転を任意に選択して実行することにより、
上記3種類以外の任意のX線回折測定を行うことができ
る。
As described above, the present invention has been described with reference to the preferred embodiments. However, the present invention is not limited to the embodiments, and can be variously modified within the scope of the invention described in the claims. In the above description, three types of X-ray measurement that can be performed by the X-ray apparatus shown in FIG. 1 have been described.
Tilt rotation of the sample S in the vertical and horizontal directions performed by the gonio head 8, θ rotation of the sample S performed by the θ rotation table 9, and 2 performed by the 2θ rotation table
2θ rotation of θ ′ attachment 15 and 2θ ′ of X-ray counter 2 performed by 2θ ′ attachment 15
By arbitrarily selecting and executing various rotations of rotation,
Any X-ray diffraction measurement other than the above three types can be performed.

【0039】[0039]

【発明の効果】本発明に係るX線装置によれば、2θ回
転台の上に2θ’アタッチメントを設け、そしてその2
θ’アタッチメントは、2θ回転台の回転中心線である
ω軸線と直交する2θ’軸線を中心としてX線検出手段
を回転させることができるので、試料のθ回転、2θ’
アタッチメントの2θ回転及びX線検出手段の2θ’回
転を必要に応じて適宜に組み合わせることにより、θ−
2θ系ゴニオメータを用いた測定、4軸ゴニオメータを
用いた測定、インプレーン測定等といった緯度方向に関
する測角を必要とする測定、その他各種のX線測定を1
つのX線装置によって行うことができる。これにより、
経費を節減でき、X線装置の設置場所を狭くでき、さら
に保守及び点検作業や管理のための労力を低減できる。
According to the X-ray apparatus of the present invention, a 2θ 'attachment is provided on a 2θ turntable, and
The θ ′ attachment can rotate the X-ray detection means around a 2θ ′ axis orthogonal to the ω axis which is the rotation centerline of the 2θ turntable, so that the θ rotation of the sample, 2θ ′
By appropriately combining the 2θ rotation of the attachment and the 2θ ′ rotation of the X-ray detection means as needed,
Measurement using a 2θ-based goniometer, measurement using a 4-axis goniometer, measurement that requires angle measurement in the latitude direction such as in-plane measurement, and various other X-ray measurements
Can be performed by two X-ray devices. This allows
The cost can be saved, the installation place of the X-ray apparatus can be reduced, and the labor for maintenance and inspection work and management can be reduced.

【0040】[0040]

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係るX線装置の一実施形態を示す斜視
図である。
FIG. 1 is a perspective view showing an embodiment of an X-ray apparatus according to the present invention.

【図2】図1のX線装置の平面図及びそのX線装置のた
めの制御系を示す図である。
FIG. 2 is a plan view of the X-ray apparatus of FIG. 1 and a diagram showing a control system for the X-ray apparatus.

【図3】従来のX線装置の一例、特に4軸ゴニオメータ
を用いたX線装置を示す斜視図である。
FIG. 3 is a perspective view showing an example of a conventional X-ray apparatus, particularly an X-ray apparatus using a four-axis goniometer.

【図4】X線回折測定法の一例であるインプレーン回折
測定法を模式的に示す図である。
FIG. 4 is a diagram schematically showing an in-plane diffraction measurement method which is an example of the X-ray diffraction measurement method.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 X線発生装置 2 X線カウンタ 3 ゴニオメータ 4 入射側光学ユニット 6 受光側光学ユニット 7 架台 8 ゴニオヘッド 9 θ回転台 11 2θ回転台 12 カウンタアーム 13 θ回転駆動装置 14 2θ回転駆動装置 15 2θ’アタッチメント 16 アタッチメントアーム 18 駆動モータ 19 ウオーム 20 X線測定制御装置 21 ウオームホイール 28 支持部材 29 ガイド部 R1,R2 X線 S 試料 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 X-ray generator 2 X-ray counter 3 Goniometer 4 Incident-side optical unit 6 Receiving-side optical unit 7 Mounting stand 8 Goniotic head 9 θ rotation table 11 2θ rotation table 12 Counter arm 13 θ rotation driving device 14 2θ rotation driving device 15 2θ 'attachment Reference Signs List 16 attachment arm 18 drive motor 19 worm 20 X-ray measurement control device 21 worm wheel 28 support member 29 guide part R1, R2 X-ray S sample

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 X線を発生するX線源と、 試料の表面を通るω軸線を中心としてその試料を回転さ
せるθ回転台と、 試料で回折するX線を検出するX線検出手段と、 そのX線検出手段を支持する2θ’アタッチメントと、 その2θ’アタッチメントを前記ω軸線を中心として回
転させる2θ回転台とを有し、 前記2θ’アタッチメントは、ω軸線と直交する2θ’
軸線を中心として前記X線検出手段を回転させることを
特徴とするX線装置。
An X-ray source for generating X-rays; a θ-turntable for rotating the sample around an ω-axis passing through the surface of the sample; X-ray detection means for detecting X-rays diffracted by the sample; A 2θ ′ attachment for supporting the X-ray detecting means, and a 2θ turntable for rotating the 2θ ′ attachment about the ω axis, wherein the 2θ ′ attachment is 2θ ′ orthogonal to the ω axis
An X-ray apparatus, wherein the X-ray detection means is rotated about an axis.
【請求項2】 請求項1において、2θ回転台は、θ回
転台による試料の回転から独立して2θ’アタッチメン
トを回転させることを特徴とするX線装置。
2. The X-ray apparatus according to claim 1, wherein the 2θ turntable rotates the 2θ ′ attachment independently of rotation of the sample by the θ turntable.
【請求項3】 請求項1又は請求項2において、前記2
θ回転台はカウンタアームを前記ω軸線を中心として回
転させるようになっており、そして、前記2θ’アタッ
チメントはそのカウンタアームに着脱可能に配置される
ことを特徴とするX線装置。
3. The method according to claim 1, wherein
An X-ray apparatus, wherein the θ-turntable rotates a counter arm about the ω axis, and the 2θ ′ attachment is detachably mounted on the counter arm.
【請求項4】 請求項3において、前記カウンタアーム
は2θ’アタッチメントを位置決めするためのガイド部
を有し、そのガイド部は前記2θ’軸線が前記ω軸線に
直交するように前記2θ’アタッチメントをガイドする
ことを特徴とするX線装置。
4. The counter arm according to claim 3, wherein the counter arm has a guide portion for positioning a 2θ ′ attachment, and the guide portion adjusts the 2θ ′ attachment so that the 2θ ′ axis is orthogonal to the ω axis. An X-ray apparatus characterized by guiding.
【請求項5】 請求項1から請求項4のうちの少なくと
も1つにおいて、前記2θ’軸線はω軸線と直交し、X
線の光軸を通る面と一致することを特徴とするX線装
置。
5. The method according to claim 1, wherein the 2θ ′ axis is orthogonal to the ω axis, and
An X-ray apparatus characterized by being coincident with a plane passing through an optical axis of a line.
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