JPH1130355A - Opening and closing valve - Google Patents

Opening and closing valve

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JPH1130355A
JPH1130355A JP9187047A JP18704797A JPH1130355A JP H1130355 A JPH1130355 A JP H1130355A JP 9187047 A JP9187047 A JP 9187047A JP 18704797 A JP18704797 A JP 18704797A JP H1130355 A JPH1130355 A JP H1130355A
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valve
lift position
closing
coating liquid
fluid
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博介 山田
Kazuya Tamura
和也 田村
Nobuhiro Fujiwara
伸広 藤原
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    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16KVALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
    • F16K23/00Valves for preventing drip from nozzles

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Magnetically Actuated Valves (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)
  • Flow Control (AREA)
  • Electrically Driven Valve-Operating Means (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent liquid dropping from a discharge port of a liquid nozzle. SOLUTION: An opening and closing valve 40 has an ROM 245 in which a large number of valve closing program control patterns to prevent liquid dropping at the time of valve closing are memorized, and a control device 242 to control a valve body lift position in the valve closing direction by controlling electrifying quantity to a linear voice coil type drive device 134 in accordance with the valve closing program control patterns is furnished.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、サックバックバル
ブに代わって用いられる開閉弁に関し、さらに詳細に
は、閉弁時において、例えば、流体ノズルの吐出口から
の液だれを防止し、流体塗布面上における流体厚さを安
定化させることが可能な開閉弁に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an on-off valve which is used in place of a suck-back valve, and more specifically, for example, when closing a valve, prevents liquid dripping from a discharge port of a fluid nozzle and applies fluid. The present invention relates to an on-off valve capable of stabilizing a fluid thickness on a surface.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来から、例えば、半導体ウェハ等の製
造工程において、サックバックバルブが使用されてい
る。このサックバックバルブは、半導体ウェハに対する
コーティング液の供給を開閉弁を付勢して停止した際、
流体ノズルの吐出口から微量のコーティング液が半導体
ウェハに向かって滴下する、いわゆる、液だれを防止す
る機能を有する。
2. Description of the Related Art Conventionally, a suck-back valve has been used, for example, in a process of manufacturing a semiconductor wafer or the like. This suck back valve, when the supply of the coating liquid to the semiconductor wafer is stopped by urging the on-off valve,
It has a function of preventing a so-called dripping of a small amount of coating liquid from the discharge port of the fluid nozzle toward the semiconductor wafer.

【0003】ここで、従来技術に係るサックバックバル
ブを図5に示す。この種のサックバックバルブは、例え
ば、実公平8−10399号公報に開示されている。こ
のサックバックバルブ10は、流体導入ポート12と流
体導出ポート14とを連通させる流体通路16が形成さ
れた弁本体18と、前記弁本体18の上部に連結される
ボンネット20とを有する。前記流体通路16には、例
えば、フッ素樹脂の如き材料で形成されたダイヤフラム
26が変位可能に設けられる。前記ダイヤフラム26に
よって閉蓋された室17には前記ダイヤフラム26が変
位したときに前記室17内の空気を給排気させるための
通路19が連通している。前記ダイヤフラム26の中央
部には厚肉部22が形成され、該厚肉部22の周囲には
薄肉部24が形成される。
Here, a suck-back valve according to the prior art is shown in FIG. Such a suck back valve is disclosed in, for example, Japanese Utility Model Publication No. Hei 8-10399. The suckback valve 10 has a valve body 18 in which a fluid passage 16 for communicating the fluid introduction port 12 and the fluid outlet port 14 is formed, and a bonnet 20 connected to an upper part of the valve body 18. In the fluid passage 16, for example, a diaphragm 26 formed of a material such as fluororesin is provided so as to be displaceable. A passage 19 for supplying and exhausting air in the chamber 17 when the diaphragm 26 is displaced communicates with the chamber 17 closed by the diaphragm 26. A thick portion 22 is formed at the center of the diaphragm 26, and a thin portion 24 is formed around the thick portion 22.

【0004】前記厚肉部22の上部には突部27が形成
され、該突部27はピストン30の下端部に画成された
凹部29に係合し、前記ダイヤフラム26は該ピストン
30に接続される。該ピストン30には、前記弁本体1
8の内壁面を摺動すると共にシール機能を営むVパッキ
ン32が装着されている。また、前記弁本体18内に
は、前記ピストン30を上方に向かって常時押圧するス
プリング34が設けられている。前記ボンネット20に
は圧縮空気供給ポート28が形成され、該圧縮空気供給
ポート28は図示しない流量制御弁等を介して圧縮空気
供給源(図示せず)に接続される。なお、参照符号36
は、前記ピストン30に当接して該ピストン30の変位
量を調節することにより、ダイヤフラム26によって吸
引されるコーティング液の流量を調整する調節ねじを示
す。
A protrusion 27 is formed on the upper part of the thick portion 22, and the protrusion 27 engages with a concave portion 29 defined at the lower end of the piston 30, and the diaphragm 26 is connected to the piston 30. Is done. The piston 30 has the valve body 1
A V-packing 32 that slides on the inner wall surface and performs a sealing function is mounted. Further, a spring 34 for constantly pressing the piston 30 upward is provided in the valve body 18. A compressed air supply port 28 is formed in the bonnet 20, and the compressed air supply port 28 is connected to a compressed air supply source (not shown) via a flow control valve (not shown) or the like. Reference numeral 36
Denotes an adjusting screw that adjusts the flow rate of the coating liquid sucked by the diaphragm 26 by adjusting the amount of displacement of the piston 30 by contacting the piston 30.

【0005】このサックバックバルブ10の動作を概略
説明すると、流体導入ポート12から流体導出ポート1
4に向かってコーティング液が供給されている通常の状
態では、流量制御弁等を制御して圧縮空気供給源から圧
縮空気供給ポート28に圧縮空気を供給している。この
ため、圧縮空気の圧力によってピストン30が下方に変
位し、ピストン30に連結されたダイヤフラム26が、
図5中、二点鎖線で示すように流体通路16内に突出し
ている。
The operation of the suck-back valve 10 will be described briefly.
In a normal state in which the coating liquid is supplied toward 4, the compressed air is supplied from the compressed air supply source to the compressed air supply port 28 by controlling the flow control valve and the like. Therefore, the piston 30 is displaced downward by the pressure of the compressed air, and the diaphragm 26 connected to the piston 30
In FIG. 5, it protrudes into the fluid passage 16 as indicated by a two-dot chain line.

【0006】そこで、流体通路16内のコーティング液
の流通を停止した場合、流量制御弁等を制御して圧縮空
気供給源から圧縮空気供給ポート28への圧縮空気の供
給を停止させることにより、スプリング34の弾発力の
作用下にピストン30およびダイヤフラム26が一体的
に上昇し、調節ねじ36の先端に当接してその変位が規
制されると共に、前記ダイヤフラム26の負圧作用下に
流体通路16内に残存する所定量のコーティング液が吸
引され、流体導出ポート14に接続されたコーティング
液の供給口における液だれが防止される。
Therefore, when the flow of the coating liquid in the fluid passage 16 is stopped, the supply of the compressed air from the compressed air supply source to the compressed air supply port 28 is stopped by controlling the flow control valve and the like, so that the spring is stopped. The piston 30 and the diaphragm 26 rise integrally under the action of the resiliency of the diaphragm 34, contact the tip of the adjusting screw 36 to regulate its displacement, and the fluid passage 16 under the negative pressure of the diaphragm 26. A predetermined amount of the coating liquid remaining inside is sucked, and dripping at the supply port of the coating liquid connected to the fluid outlet port 14 is prevented.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
従来技術に係るサックバックバルブに代わって用いられ
る開閉弁であって、閉弁時の流量を制御することによっ
て、流体ノズルの吐出口からの液だれを防止できて、サ
ックバックバルブを不要とした開閉弁を提供することを
目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention relates to an on-off valve used in place of such a suck-back valve according to the prior art. It is an object of the present invention to provide an on-off valve which can prevent liquid dripping from the valve and does not require a suck-back valve.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】前記の目的を達成するた
めに、本発明は、電動アクチュエータの駆動のもとに流
路の開閉を制御する開閉弁において、開閉弁の閉弁指示
時から弁体リフト位置が予め定めた弁体リフト位置に達
するまでの時間に対する第1の勾配と弁体リフト位置が
前記予め定めた弁体リフト位置に達したときから閉弁ま
での前記第1の勾配よりも緩勾配である時間に対する第
2の勾配とによって定めた、閉弁時における液だれを防
ぐための閉弁プログラムコントロールパターンを流路に
流す流体の特性に対応して複数記憶させた記憶手段と、
前記流路に流す流体の特性に基づき前記記憶手段から読
み出して閉弁プログラムコントロールパターンにしたが
って電動アクチュエータへの通電量を制御して弁体リフ
ト位置を閉弁方向に制御する制御手段と、を備えたこと
を特徴とする。
In order to achieve the above object, the present invention relates to an on-off valve for controlling the opening and closing of a flow path under the driving of an electric actuator. The first gradient with respect to the time until the body lift position reaches the predetermined valve body lift position and the first gradient from when the valve body lift position reaches the predetermined valve body lift position to when the valve is closed are calculated. Storage means for storing a plurality of valve-closing program control patterns for preventing liquid dripping at the time of valve closing corresponding to the characteristics of the fluid flowing through the flow path, determined by the second gradient with respect to the time that is also a gentle gradient. ,
Control means for controlling the amount of electricity supplied to the electric actuator in accordance with a valve closing program control pattern based on the characteristics of the fluid flowing through the flow path and controlling the amount of current supplied to the electric actuator to control the valve lift position in the valve closing direction. It is characterized by having.

【0009】本発明の開閉弁によれば、流路に流す流体
の特性に基づいて記憶手段から閉弁プログラムコントロ
ールパターンが読み出されて、読み出された閉弁プログ
ラムコントロールパターンにしたがって弁体リフト位置
が制御されて、開閉弁の閉弁時における液だれが防止さ
れる。
According to the on-off valve of the present invention, the valve closing program control pattern is read from the storage means based on the characteristics of the fluid flowing through the flow path, and the valve lift is controlled according to the read valve closing program control pattern. The position is controlled to prevent dripping when the on-off valve is closed.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】本発明に係る開閉弁について、好
適な実施の形態を挙げ、添付の図面を参照しながら以下
詳細に説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An on-off valve according to the present invention will be described in detail below with reference to the accompanying drawings showing preferred embodiments.

【0011】図1において、参照符号40は、本実施の
形態に係る開閉弁を示す。この開閉弁40は弁ボデイ4
2を備え、該弁ボデイ42の一端部には第1のポート4
8が形成され、他端側には第2のポート50が形成され
る。前記第1および第2のポート48、50には、それ
ぞれ、チューブ52a、52bの先端部が係合する接続
部材54a、54bが設けられ、該接続部材54a、5
4bの外周に形成された段部56a、56bに前記チュ
ーブ52a、52bの端部が係合して該チューブ52
a、52bが位置決めされる。前記弁ボデイ42の端部
には雄ねじ58a、58bが螺刻され、該雄ねじ58
a、58bにロックナット60a、60bが螺入される
ことにより、前記チューブ52a、52bは、それぞ
れ、弁ボデイ42の第1のポート48および第2のポー
ト50に液密に接続される。
In FIG. 1, reference numeral 40 denotes an on-off valve according to the present embodiment. This on-off valve 40 is a valve body 4
2 and a first port 4 is provided at one end of the valve body 42.
8 is formed, and a second port 50 is formed on the other end side. The first and second ports 48 and 50 are provided with connection members 54a and 54b with which the distal ends of the tubes 52a and 52b are engaged, respectively.
The ends of the tubes 52a, 52b engage with stepped portions 56a, 56b formed on the outer periphery of the tube 52b.
a, 52b are positioned. External threads 58a and 58b are threaded at the end of the valve body 42,
The tubes 52a, 52b are connected to the first port 48 and the second port 50 of the valve body 42 in a liquid-tight manner by screwing the lock nuts 60a, 60b into the a, 58b.

【0012】前記弁ボデイ42の内部には、第1のポー
ト48と第2のポート50とを連通させる流体通路62
が画成され、前記流体通路62は前記弁ボデイ42に画
成された凹部66に連通する。
A fluid passage 62 for communicating the first port 48 and the second port 50 is provided inside the valve body 42.
And the fluid passage 62 communicates with a recess 66 defined in the valve body 42.

【0013】前記弁ボデイ42の前記流体通路62の開
口部には開閉弁40が臨む。該開閉弁40は、図2A、
図2Bに示すように、前記凹部66の壁部に形成された
段部166に係合する開閉弁用ダイヤフラム168を備
え、該開閉弁用ダイヤフラム168は、第1の薄膜体1
70と第2の薄膜体172とが重ね合わされて構成さ
れ、該第2の薄膜体172には複数の小孔174が画成
されている。
An on-off valve 40 faces the opening of the fluid passage 62 of the valve body 42. The on-off valve 40 is shown in FIG.
As shown in FIG. 2B, an on-off valve diaphragm 168 is provided which engages with a step 166 formed on the wall of the recess 66. The on-off valve diaphragm 168 is formed of the first thin film 1
70 and a second thin film member 172 are overlapped with each other, and a plurality of small holes 174 are defined in the second thin film member 172.

【0014】前記第1の薄膜体170の中央部には厚肉
部176が形成され、このため、前記第1の薄膜体17
0が撓曲することにより前記厚肉部176が矢印A方向
に変位すると、該厚肉部176は前記流体通路62の開
口部に形成された着座部180に着座して前記流体通路
62を遮断し、一方、前記厚肉部176が矢印B方向に
変位して着座部180から離間すると、第1のポート4
8と第2のポート50とが連通する。前記厚肉部176
の上部には断面略V字状の凹部182が画成され、ま
た、前記厚肉部176の外壁には周回する溝部184が
画成される。
A thick portion 176 is formed at the center of the first thin film member 170.
When the thick portion 176 is displaced in the direction of arrow A due to the bending of the zero, the thick portion 176 is seated on the seating portion 180 formed at the opening of the fluid passage 62 to block the fluid passage 62. On the other hand, when the thick portion 176 is displaced in the direction of arrow B and separated from the seating portion 180, the first port 4
8 communicates with the second port 50. The thick part 176
A concave portion 182 having a substantially V-shaped cross section is defined at the upper portion of the upper portion, and a circumferential groove portion 184 is defined at the outer wall of the thick portion 176.

【0015】前記弁ボデイ42には該弁ボデイ42を囲
繞して保持部材186が設けられ、該保持部材186と
前記弁ボデイ42の段部166によって前記第1の薄膜
体170、第2の薄膜体172の縁部が狭持される。前
記保持部材186には前記開閉弁用ダイヤフラム168
によって閉塞された室187が形成される。前記保持部
材186には前記室187に連通する通路188が画成
され、該通路188は前記保持部材186の外部に連通
する。前記保持部材186には前記凹部66に嵌入する
突部190が形成され、該突部190の中央には孔部1
92が画成される。該孔部192には前記開閉弁用ダイ
ヤフラム168の厚肉部176が嵌入すると共に、当該
孔部192を形成する壁部にはブッシュ194が設けら
れる。
The valve body 42 is provided with a holding member 186 surrounding the valve body 42, and the first thin film member 170 and the second thin film member are formed by the holding member 186 and the step 166 of the valve body 42. The edge of body 172 is pinched. The holding member 186 includes the on-off valve diaphragm 168.
This forms a closed chamber 187. The holding member 186 defines a passage 188 communicating with the chamber 187, and the passage 188 communicates with the outside of the holding member 186. The holding member 186 is formed with a protrusion 190 that fits into the recess 66, and a hole 1 is formed in the center of the protrusion 190.
92 is defined. A thick portion 176 of the on-off valve diaphragm 168 is fitted into the hole 192, and a bush 194 is provided on a wall forming the hole 192.

【0016】前記保持部材186の上部にはボデイ19
6が固着される。該ボデイ196には前記孔部192に
連通する凹部198が画成され、該凹部198の開口部
にはOリング200が設けられる。前記ボデイ196の
上部には前記凹部198に孔部202を介して連通する
凹部204が画成される。
A body 19 is provided above the holding member 186.
6 is fixed. A recess 198 communicating with the hole 192 is defined in the body 196, and an O-ring 200 is provided at an opening of the recess 198. A recess 204 communicating with the recess 198 through the hole 202 is formed at an upper portion of the body 196.

【0017】前記凹部204には、図1に示すように、
電動アクチュエータであるリニアボイスコイル型駆動装
置134が設けられる。このリニアボイスコイル型駆動
装置134はハウジング136を有し、該ハウジング1
36の室138内には、長尺なステム140が矢印Aま
たはB方向に変位自在に設けられる。前記室138内の
上部中央には固定鉄心142が設けられ、該固定鉄心1
42は前記ハウジング136の長手方向に沿って所定長
だけ延在するように形成されている。
In the recess 204, as shown in FIG.
A linear voice coil type driving device 134 which is an electric actuator is provided. This linear voice coil type driving device 134 has a housing 136,
In the chamber 138 of 36, a long stem 140 is provided so as to be displaceable in the arrow A or B direction. A fixed iron core 142 is provided in the upper center of the chamber 138, and the fixed iron core 142 is provided.
Reference numeral 42 is formed so as to extend a predetermined length along the longitudinal direction of the housing 136.

【0018】また、前記室138内には前記固定鉄心1
42から所定間隔離間し、支持部材144を介して前記
ハウジング136の内壁面に固着された固定極磁石14
6が設けられる。この場合、固定極磁石146と固定鉄
心142との間で略水平方向の磁界が形成される。さら
に、前記固定鉄心142と固定極磁石146との間には
電磁コイル148が巻回された変位部材(ボビン)15
0が介装され、該変位部材150は連結ピン(図示せ
ず)を介して前記ステム140と一体的に変位自在に設
けられる。また、固定鉄心142と変位部材150との
間には所定のクリアランスが形成されている。なお、参
照符号152は、ステム140を駆動するために制御装
置242から前記電磁コイル148に電流を流すための
リード線を示す。
The fixed iron core 1 is provided in the chamber 138.
The fixed pole magnet 14 fixed to the inner wall surface of the housing 136 via the support member 144 and separated from the fixed pole magnet 42 by a predetermined distance.
6 are provided. In this case, a substantially horizontal magnetic field is formed between the fixed pole magnet 146 and the fixed iron core 142. Further, a displacement member (bobbin) 15 around which an electromagnetic coil 148 is wound between the fixed iron core 142 and the fixed pole magnet 146.
The displacement member 150 is provided so as to be displaceable integrally with the stem 140 via a connecting pin (not shown). Also, a predetermined clearance is formed between the fixed iron core 142 and the displacement member 150. Reference numeral 152 indicates a lead wire for flowing a current from the control device 242 to the electromagnetic coil 148 to drive the stem 140.

【0019】前記ハウジング136の内壁面は、前記支
持部材144を介してガイド部材154が設けられ、該
ガイド部材154は前記ステム140の凹部156と係
合することにより、前記ステム140を直線状に案内す
ると共に、該ステム140の変位量を規制する機能を営
む。
A guide member 154 is provided on the inner wall surface of the housing 136 via the support member 144, and the guide member 154 engages with the concave portion 156 of the stem 140 to linearly move the stem 140. It guides and regulates the displacement of the stem 140.

【0020】前記ガイド部材154と反対側のハウジン
グ136の内壁部には支持部材158を介してエンコー
ダ(リフト検出手段)160が固着される。該エンコー
ダ160はハウジング136側に固定された図示しない
フォトセンサと、ガラス基板に一定の間隔でスケール値
が形成されステム140側に固着された図示しないガラ
ススケールとを有する。この場合、ステム140の変位
量がガラススケールを介して図示しないフォトセンサに
よって検出され、前記フォトセンサから導出されるパル
ス状の検出信号はリード線162を介して制御装置24
2にフィードバックされる。
An encoder (lift detecting means) 160 is fixed to an inner wall portion of the housing 136 opposite to the guide member 154 via a support member 158. The encoder 160 has a photosensor (not shown) fixed to the housing 136 side, and a glass scale (not shown) fixed to the stem 140 side with scale values formed on the glass substrate at regular intervals. In this case, the amount of displacement of the stem 140 is detected by a photo sensor (not shown) via a glass scale, and a pulse-like detection signal derived from the photo sensor is transmitted via a lead wire 162 to the control device 24.
2 is fed back.

【0021】前記リニアボイスコイル型駆動装置134
のステム140の下部には棒状の変位部材206が固着
され、該変位部材206は前記孔部202および前記凹
部198に挿通される。前記変位部材206の外周に
は、図2Aに示すように、フランジ部208が形成さ
れ、該フランジ部208の上面にはコイルスプリング2
10の一端部が着座し、該コイルスプリング210の他
端部は前記凹部198を形成する上面部に着座する。
The linear voice coil type driving device 134
A rod-shaped displacement member 206 is fixed to a lower portion of the stem 140, and the displacement member 206 is inserted into the hole 202 and the recess 198. As shown in FIG. 2A, a flange portion 208 is formed on the outer periphery of the displacement member 206, and a coil spring 2 is formed on an upper surface of the flange portion 208.
10 is seated, and the other end of the coil spring 210 is seated on the upper surface forming the recess 198.

【0022】従って、前記変位部材206は前記コイル
スプリング210によって矢印A方向に順次付勢され
る。前記変位部材206の先端部には円錐部212が形
成され、該円錐部212は前記厚肉部176の凹部18
2に進入し、前記円錐部212と変位部材206に形成
された雄ねじ214に螺入される筒状部材216とによ
って前記厚肉部176が狭持される。
Accordingly, the displacement member 206 is sequentially urged in the direction of arrow A by the coil spring 210. A conical portion 212 is formed at the tip of the displacement member 206, and the conical portion 212 is formed in the concave portion 18 of the thick portion 176.
2, the thick portion 176 is held by the conical portion 212 and the cylindrical member 216 screwed into the male screw 214 formed in the displacement member 206.

【0023】なお、前記ステム140、変位部材206
および開閉弁用ダイヤフラム168は、矢印AまたはB
方向に一体的に変位することにより、開閉弁40の弁体
として機能するものである。
The stem 140 and the displacement member 206
And the opening / closing valve diaphragm 168 is indicated by an arrow A or B
By integrally displacing in the direction, it functions as a valve body of the on-off valve 40.

【0024】制御装置242は、エンコーダ160から
出力されるパルス状の検出信号を受けて計数し、計数値
が弁体のリフト位置に対応するパルスカウンタ243
と、電流値信号を増幅し、増幅した電流を電磁コイル1
48に通電させる電流増幅器244と、後記の中央演算
装置246を制御する制御プログラムと閉弁時の複数の
閉弁プログラムコントロールパターンとが格納されたR
OM(記憶手段)245と、ROM245に格納された
制御プログラムの制御のもとにパルスカウンタ243の
計数値に基づく弁体のリフト位置と閉弁プログラムコン
トロールパターンに基づく弁体のリフト位置とを比較し
てその偏差を求め、偏差に基づく電流値信号を電流増幅
器244へ送出する中央演算装置246とを備えてい
る。
The control device 242 receives and counts the pulse-like detection signal output from the encoder 160, and counts the pulse count corresponding to the lift position of the valve body.
And the current value signal is amplified, and the amplified current is supplied to the electromagnetic coil 1
R that stores a current amplifier 244 for energizing the C. 48, a control program for controlling the central processing unit 246 described later, and a plurality of valve closing program control patterns at the time of valve closing.
Under the control of a control program stored in the ROM 245, the OM (storage means) 245 compares the valve lift position based on the count value of the pulse counter 243 with the valve lift position based on the valve closing program control pattern. A central processing unit 246 for obtaining the deviation and sending a current value signal based on the deviation to the current amplifier 244.

【0025】ここで、中央演算処理装置246は、予め
定めた所定時間ごとに計時を行うタイマ手段246a
と、前記所定時間ごとにおける閉弁プログラムコントロ
ールパターンに基づく弁体のリフト位置とパルスカウン
タ243の計数値に基づく弁体のリフト位置との偏差を
求める偏差演算手段246bと、偏差演算手段246b
によって求めた偏差を零にするために偏差に基づく電流
値信号を送出する電流値制御手段(電流量制御手段)2
46cとを、機能的に備えている。
Here, the central processing unit 246 is provided with a timer means 246a for measuring time at predetermined time intervals.
A deviation calculating means 246b for obtaining a deviation between the valve body lift position based on the valve closing program control pattern and the valve body lift position based on the count value of the pulse counter 243 at every predetermined time, and a deviation calculating means 246b.
Value control means (current amount control means) for sending out a current value signal based on the deviation in order to make the deviation obtained by the method zero.
46c is provided functionally.

【0026】なお、ROM245を除いた電流増幅器2
44、パルスカウンタ243、タイマ手段246a、偏
差演算手段246bおよび電流値制御手段246cは、
制御手段として機能するものである。
The current amplifier 2 excluding the ROM 245
44, pulse counter 243, timer means 246a, deviation calculating means 246b, and current value controlling means 246c
It functions as control means.

【0027】本実施の形態に係る開閉弁40は、基本的
には以上のように構成されるものであり、次にその動作
並びに作用効果について説明する。
The on-off valve 40 according to the present embodiment is basically configured as described above. Next, the operation and effect of the on-off valve will be described.

【0028】先ず、図1に示すように、開閉弁40の第
1のポート48に連通するチューブ52aには、半導体
ウェハ230に向かってコーティング液を滴下させる流
体ノズル234が設けられたコーティング液滴下装置2
36が接続され、一方、第2のポート50に連通するチ
ューブ52bには、半導体ウェハ230に向かって滴下
されるコーティング液が貯留され且つ所定圧力でコーテ
ィング液を供給するコーティング液供給源232が接続
される。また、リニアボイスコイル型駆動装置134お
よびエンコーダ160には、それぞれ、制御装置242
が接続される。
First, as shown in FIG. 1, a tube 52a communicating with the first port 48 of the on-off valve 40 is provided with a coating liquid drop 234 provided with a fluid nozzle 234 for dropping the coating liquid toward the semiconductor wafer 230. Device 2
The coating liquid supply source 232 that stores the coating liquid dropped toward the semiconductor wafer 230 and supplies the coating liquid at a predetermined pressure is connected to the tube 52b communicating with the second port 50. Is done. In addition, the linear voice coil type driving device 134 and the encoder 160 have a control device 242, respectively.
Is connected.

【0029】そこで、制御装置242によって開閉弁4
0のリニアボイスコイル型駆動装置134を付勢して電
磁コイル148に電流を流すと、該電磁コイル148に
電磁力が発生する。固定極磁石146と固定鉄心142
とによって形成された磁界と前記電磁力との相互作用に
より、いわゆるフレミングの左手の法則に従って前記電
磁コイル148が巻回された変位部材150およびステ
ム140が矢印A方向に一体的に変位する。この電磁力
は、電磁コイル148に流される電流の大きさを適切に
調節することによって所望の大きさおよび持続時間に調
整することが可能であり、また、前記電磁コイル148
に流される電流の極性を逆転させることにより、その力
の向きを矢印AまたはB方向に変えることが可能であ
る。
Therefore, the control device 242 controls the on-off valve 4
When the 0 linear voice coil type driving device 134 is energized and a current flows through the electromagnetic coil 148, an electromagnetic force is generated in the electromagnetic coil 148. Fixed pole magnet 146 and fixed iron core 142
And the electromagnetic force, the displacement member 150 around which the electromagnetic coil 148 is wound and the stem 140 are integrally displaced in the direction of arrow A according to the so-called Fleming's left-hand rule. This electromagnetic force can be adjusted to a desired magnitude and duration by appropriately adjusting the magnitude of the current flowing through the electromagnetic coil 148.
The direction of the force can be changed in the direction of arrow A or B by reversing the polarity of the current flowing through the arrow.

【0030】このようにしてステム140を矢印B方向
に変位させると、変位部材206がコイルスプリング2
10の弾発力に抗して変位し、開閉弁用ダイヤフラム1
68の厚肉部176が着座部180から離間することに
より、第1のポート48と第2のポート50とが連通す
る。
When the stem 140 is displaced in the direction of arrow B in this manner, the displacement member 206
Displacement against the elastic force of 10
By separating the thick portion 176 from the seating portion 180, the first port 48 and the second port 50 communicate with each other.

【0031】以上のような準備段階を経て、コーティン
グ液供給源232を付勢すると、コーティング液が一方
のチューブ52bから流体通路62を通ってコーティン
グ液滴下装置236に供給され、流体ノズル234から
半導体ウェハ230に滴下される。この結果、半導体ウ
ェハ230には所望の膜厚を有する被膜(図示せず)が
形成される。
When the coating liquid supply source 232 is energized through the preparatory steps as described above, the coating liquid is supplied from one of the tubes 52b to the coating liquid dropping device 236 through the fluid passage 62, and is supplied from the fluid nozzle 234 to the semiconductor. It is dropped on the wafer 230. As a result, a film (not shown) having a desired film thickness is formed on the semiconductor wafer 230.

【0032】次に、開閉弁40を閉止させる場合につい
て、図3のフローチャートに基づいて説明する。
Next, the case where the on-off valve 40 is closed will be described with reference to the flowchart of FIG.

【0033】開閉弁40に開弁が指示されたとき、プロ
グラムの実行が開始され、流体としてのコーティング液
に対して設定されている粘度指示信号および表面張力指
示信号が制御装置242に読み込まれる(ステップS
1)。
When the opening / closing valve 40 is instructed to open, the execution of the program is started, and the viscosity instruction signal and the surface tension instruction signal set for the coating liquid as a fluid are read into the control device 242 ( Step S
1).

【0034】さらに、閉弁プログラムコントロールパタ
ーンは、具体的には、コーティング液の粘度および表面
張力のほかに、コーティング液供給源232から送出さ
れるコーティング液の圧力、周囲温度および開閉弁40
からコーティング液滴下装置236を介した流体ノズル
234先端までの容量によっても影響を受けるが、本例
の開閉弁40が設けられる装置においては、コーティン
グ液供給源232から送出されるコーティング液の圧
力、周囲温度および開閉弁40からコーティング液滴下
装置236を介した流体ノズル234先端までの容量
は、開閉弁40の装着前に定まっているので、これらは
ROM245に格納されている閉弁プログラムコントロ
ールパターンに既に反映されているものとし、使用され
るコーティング液の変更にのみに対応させる場合につい
て例示している。
Further, the valve closing program control pattern specifically includes, in addition to the viscosity and surface tension of the coating liquid, the pressure of the coating liquid sent from the coating liquid supply source 232, the ambient temperature, and the on-off valve 40.
Is also affected by the volume from the coating liquid dropping device 236 to the tip of the fluid nozzle 234. However, in the device provided with the on-off valve 40 of the present example, the pressure of the coating liquid supplied from the coating liquid supply source 232, Since the ambient temperature and the volume from the on-off valve 40 to the tip of the fluid nozzle 234 via the coating liquid dropping device 236 are determined before the on-off valve 40 is mounted, these are determined by the valve closing program control pattern stored in the ROM 245. It is assumed that the information has already been reflected, and an example is given of a case where only the change of the coating liquid to be used is dealt with.

【0035】ステップS1の実行に続いて開閉弁40が
開放状態に制御される。
Following execution of step S1, the on-off valve 40 is controlled to be open.

【0036】ステップS1に続く開閉弁40の開放状態
の制御に続いて、読み込まれたコーティング液の粘度指
示信号および表面張力指示信号に基づいて、対応する閉
弁プログラムコントロールパターンがROM245から
読み出され、該閉弁プログラムコントロールパターンが
図示していないRAMに転送されて格納される(ステッ
プS2)。この閉弁プログラムコントロールパターンの
一例を図4に示す。
Subsequent to the control of the open state of the on-off valve 40 following step S1, a corresponding valve-closing program control pattern is read out from the ROM 245 based on the read-in viscosity signal and the surface tension command signal of the coating liquid. Then, the valve closing program control pattern is transferred to and stored in a RAM (not shown) (step S2). FIG. 4 shows an example of the valve closing program control pattern.

【0037】図4からも明らかなように、閉弁指示時t
0からの経過時間に対する弁開度、すなわち弁体のリフ
ト位置を示しており、弁体のリフト位置が位置P1に達
するまでは、時間に対して予め定めた急勾配で閉弁方向
に移動させ、位置P1に達した後は閉止まで、時間に対
して予め定めた緩勾配で閉弁方向に移動させる閉弁プロ
グラムコントロールパターンに設定されている。かかる
閉弁プログラムコントロールパターンを採る理由につい
ては後記する。
As is apparent from FIG.
It indicates the valve opening degree relative to the elapsed time from 0, that is, the lift position of the valve body. Until the lift position of the valve body reaches the position P1, the valve is moved in the valve closing direction at a predetermined steep gradient with respect to time. After the position P1 is reached, a valve closing program control pattern is set to move the valve in the valve closing direction at a predetermined gentle gradient with respect to time until closing. The reason for adopting such a valve closing program control pattern will be described later.

【0038】ステップS2に続いて閉弁指示がなされる
のを待ち(ステップS3)、閉弁指示がなされると、タ
イマ手段246aによる計時が開始され(ステップS
4)、続いてパルスカウンタ243の計数値が読み込ま
れる(ステップS5)。ステップS5に続いて弁体が全
閉位置に達したか否かがチェックされる(ステップS
6)。
Waiting for the instruction to close the valve following step S2 (step S3), when the instruction to close the valve is issued, the timer 246a starts counting time (step S3).
4) Subsequently, the count value of the pulse counter 243 is read (step S5). Subsequent to step S5, it is checked whether the valve body has reached the fully closed position (step S5).
6).

【0039】ステップS6において弁体が全閉位置に達
していないと判別されたときは、閉弁プログラムコント
ロールパターンが参照されて、タイマ手段246aによ
る次の計時時期に対応する弁体のリフト位置が閉弁プロ
グラムコントロールパターンから読み出され(ステップ
S7)、ステップS7において読み出された弁体のリフ
ト位置とパルスカウンタ243の計数値に基づく弁体の
リフト位置との偏差が求められて(ステップS8)、ス
テップS8において求めた偏差に基づいて電流値制御信
号が電流増幅器244へ送出される(ステップS9)。
If it is determined in step S6 that the valve body has not reached the fully closed position, the valve closing position corresponding to the next time measured by the timer means 246a is determined by referring to the valve closing program control pattern. It is read from the valve closing program control pattern (step S7), and the deviation between the valve body lift position read in step S7 and the valve body lift position based on the count value of the pulse counter 243 is determined (step S8). ), A current value control signal is sent to the current amplifier 244 based on the deviation obtained in step S8 (step S9).

【0040】この電流値制御信号を受けた電流増幅器2
44から出力される電流値の電流が電磁コイル148に
送出されて、弁体が閉弁方向に駆動される。この状態が
予め定めた前記次の計時時期が経過するまで継続されて
(ステップS10)、ステップS10において前記次の
計時時期を経過したと判別されたときはステップS10
に続いてステップS5から繰り返して再び実行される。
The current amplifier 2 receiving the current value control signal
The current having the current value output from 44 is sent to the electromagnetic coil 148, and the valve body is driven in the valve closing direction. This state is continued until the predetermined time has elapsed (step S10). If it is determined in step S10 that the next time has elapsed, the process proceeds to step S10.
Is repeated from step S5 and executed again.

【0041】上記繰り返しの実行は、ステップS6にお
いて弁体が全閉位置に達したと判別されるまで、順次閉
弁方向へ、繰り返し実行される。
The above-described repetition is repeatedly performed in the valve closing direction until it is determined in step S6 that the valve body has reached the fully closed position.

【0042】ここで、ステップS5において弁体のリフ
ト位置を読み込んだ時期の次の計時時期に対応する弁体
のリフト位置を、引き続くステップS7において閉弁プ
ログラムコントロールパターンから読み込むのは、閉弁
開始時(t0)において直ちに電流値制御信号を送出さ
せるためである。
Here, the reading of the valve body lift position corresponding to the time measured next to the time at which the valve body lift position was read in step S5 from the valve closing program control pattern in the following step S7 is the start of valve closing. This is because the current value control signal is immediately transmitted at the time (t0).

【0043】したがって、所定量のコーティング液が半
導体ウェハ230に塗布された後、制御装置242によ
って開閉弁40を閉弁方向に駆動する。リニアボイスコ
イル型駆動装置134を上記の閉弁プログラムコントロ
ールパターンに従うべく付勢し、ステム140を矢印A
方向に変位させ、図2Aに示すように、開閉弁用ダイヤ
フラム168の厚肉部176が着座部180の方向に順
次移動し、遂には当接して、第1のポート48と第2の
ポート50との連通が遮断される。従って、コーティン
グ液滴下装置236の流体ノズル234から半導体ウェ
ハ230に対するコーティング液の滴下が停止される。
Therefore, after a predetermined amount of the coating liquid is applied to the semiconductor wafer 230, the control device 242 drives the on-off valve 40 in the valve closing direction. The linear voice coil type driving device 134 is urged to follow the above-described valve closing program control pattern, and the stem 140 is moved to the direction indicated by the arrow A.
2A, the thick portion 176 of the on-off valve diaphragm 168 sequentially moves in the direction of the seating portion 180, and finally comes into contact with the first port 48 and the second port 50. Communication with is interrupted. Therefore, the dropping of the coating liquid onto the semiconductor wafer 230 from the fluid nozzle 234 of the coating liquid dropping device 236 is stopped.

【0044】上記の閉弁プログラムコントロールパター
ンによって制御されたときの弁体の閉弁パターンは、図
4に示した閉弁プログラムコントロールパターンにした
がうことになる。この場合に、弁体が開放されている状
態から閉弁指示されたとき、弁体は位置P1にまで急勾
配で閉弁方向に駆動され、短時間で弁体が位置P1に達
する。位置P1に達したときから緩勾配で閉弁方向に、
閉弁まで駆動される。
The valve closing pattern of the valve body when controlled by the above-described valve closing program control pattern follows the valve closing program control pattern shown in FIG. In this case, when a valve closing instruction is given from the state where the valve body is open, the valve body is driven in the valve closing direction at a steep gradient to the position P1, and the valve body reaches the position P1 in a short time. When the position P1 is reached, the valve is gradually closed in the direction to close the valve.
It is driven until the valve closes.

【0045】ここで、かかる閉弁プログラムコントロー
ルパターンによって閉弁制御された開閉弁40によると
きのコーティング液の液だれについて説明する。
Here, the dripping of the coating liquid when the on-off valve 40 is controlled to be closed by the valve closing program control pattern will be described.

【0046】閉弁開始時においては、流体ノズル234
内に半導体230に滴下される直前のコーティング液が
残存している。この状態で急速に弁体のリフト位置を位
置P1にまで低下させ、ついで緩勾配によって順次閉弁
方向に駆動すると、閉弁開始時において流体ノズル23
4内に残存していたコーティング液は開閉弁40から流
体ノズル234までの管内に留まった状態を維持して、
流体ノズル234から液だれとして適下しないことが実
験によって確認された。
At the start of valve closing, the fluid nozzle 234
The coating liquid immediately before being dropped on the semiconductor 230 remains therein. In this state, when the lift position of the valve body is rapidly lowered to the position P1, and then the valve body is sequentially driven in the valve closing direction with a gentle gradient, the fluid nozzle 23 starts to close.
The coating liquid remaining in 4 remains in the pipe from the on-off valve 40 to the fluid nozzle 234,
Experiments have confirmed that the fluid nozzle 234 does not fall down as a liquid dripping.

【0047】この場合に、開弁時から位置P1までに至
る勾配および位置P1から閉弁に至るまでの閉弁方向へ
の勾配はコーティング液の粘度および表面張力に基づい
ており、これらは、コーティング液の粘度および表面張
力等の特性、コーティング液の圧力および流体ノズル2
34先端までの容量等に基づいて定まることが判った。
In this case, the gradient from the valve opening to the position P1 and the gradient in the valve closing direction from the position P1 to the valve closing are based on the viscosity and the surface tension of the coating liquid. Characteristics such as viscosity and surface tension of liquid, pressure of coating liquid and fluid nozzle 2
It was found that it was determined based on the capacity up to 34 tips.

【0048】すなわち、開閉弁40が急速に閉弁に近い
位置P1にまで急勾配で駆動することによって、開閉弁
40を通過するコーティング液の量は急速に減少させら
れるが、位置P1における開閉弁40から流出するコー
ティング液の存在によってウオータハンマー現象により
発生する最高圧力は減少し、さらに開閉弁40から流出
するコーティング液量は少なく、開閉弁40から流体ノ
ズル234内に滞留しているコーティング液を、コーテ
ィング液の表面張力に抗して流体ノズル234から液だ
れさせることはない。さらに閉弁に近い位置P1から緩
勾配で閉止に至るまで弁体を順次閉弁させるため、開閉
弁40を通過するコーティング液は緩やかに減少し、開
閉弁40から流体ノズル234内に滞留しているコーテ
ィング液に、コーティング液の表面張力に抗して流体ノ
ズル234からコーティング液を排出させるほどの運動
エネルギを与えることもなく、液だれを生じさせること
もないためであると思われる。
That is, the amount of the coating liquid passing through the on-off valve 40 is rapidly reduced by driving the on-off valve 40 steeply to the position P1 close to the closing of the valve. The maximum pressure generated by the water hammer phenomenon is reduced due to the presence of the coating liquid flowing out of the on / off valve 40, and the amount of the coating liquid flowing out of the on / off valve 40 is small, and the coating liquid remaining in the fluid nozzle 234 from the on / off valve 40 is removed. The liquid does not drip from the fluid nozzle 234 against the surface tension of the coating liquid. Further, since the valve body is sequentially closed from the position P1 close to the valve closing to the closing with a gentle gradient, the coating liquid passing through the on-off valve 40 gradually decreases and stays in the fluid nozzle 234 from the on-off valve 40. This is probably because the applied coating liquid does not have kinetic energy enough to discharge the coating liquid from the fluid nozzle 234 against the surface tension of the coating liquid and does not cause dripping.

【0049】このように、閉弁プログラムコントロール
パターン、すなわち位置P1、開閉弁40の開位置から
弁体の位置P1までの移動勾配、位置P1から閉弁まで
の勾配を、温度、コーティング液の圧力および管路の容
量、コーティング液の粘度および表面張力等によって設
定することにより、コーティング液の液だれを防止する
ことができる。
As described above, the valve closing program control pattern, that is, the position P1, the moving gradient from the open position of the on-off valve 40 to the position P1 of the valve body, and the gradient from the position P1 to the valve closing are represented by the temperature and the pressure of the coating liquid. By setting the volume of the pipe, the viscosity of the coating liquid, the surface tension, and the like, it is possible to prevent the coating liquid from dripping.

【0050】なお、リニアボイスコイル型駆動装置13
4は電気制御であるため、ステム140の変位を容易且
つ正確に制御することができる。このため、図4に実線
で示すように、ダイヤフラム168を滑らかに変位させ
ることができる。
The linear voice coil type driving device 13
4 is an electric control, so that the displacement of the stem 140 can be easily and accurately controlled. Therefore, as shown by the solid line in FIG. 4, the diaphragm 168 can be smoothly displaced.

【0051】また、制御装置242は、リニアボイスコ
イル型駆動装置134のエンコーダ160から入力され
るステム140の変位量に対応する信号に基づいて該ス
テム140の変位を制御するため、開閉弁用ダイヤフラ
ム168の変位を高精度に制御することができ、従っ
て、この開閉弁40によって吸引されるコーティング液
の量を高精度に制御することもできる。
The control device 242 controls the displacement of the stem 140 based on a signal corresponding to the displacement amount of the stem 140 input from the encoder 160 of the linear voice coil type driving device 134. 168 can be controlled with high precision, and therefore, the amount of the coating liquid sucked by the on-off valve 40 can be controlled with high precision.

【0052】さらに、本実施の形態では、電動アクチュ
エータはリニアボイスコイル型駆動装置134であった
が、これに限らず、例えば、リニアDCモータ、リニア
パルスモータでもよく、あるいは、回転DCモータまた
は回転ステッピングモータの回転軸にボールねじが設け
られ、該ボールねじの回転運動を変位部材によって直線
運動に変換する電動リニアアクチュエータでもよい。
Further, in this embodiment, the electric actuator is the linear voice coil type driving device 134. However, the present invention is not limited to this. For example, a linear DC motor or a linear pulse motor may be used. An electric linear actuator may be used in which a ball screw is provided on the rotation shaft of the stepping motor, and the rotational motion of the ball screw is converted into linear motion by a displacement member.

【0053】[0053]

【発明の効果】本発明の開閉弁によれば、閉弁指示時か
ら流体の特性に基づく第1の勾配によって弁体リフト位
置が予め定めた弁体リフト位置にまで駆動され、弁体リ
フト位置が予め定めた弁体リフト位置にまで達したとき
から第1の勾配よりも緩勾配である流体の特性に基づく
第2の勾配によって閉弁位置にまで駆動されて、開閉弁
の流出側に接続される流体ノズルから、閉弁のときにお
ける液だれが発生しないという効果が得られる。従っ
て、従来、開閉弁に接続されて流体ノズルからの液だれ
を防止していたサックバックバルブが不要となるという
効果が得られる。
According to the opening / closing valve of the present invention, the valve lift position is driven to the predetermined valve lift position by the first gradient based on the fluid characteristic from the time of the valve closing instruction, and the valve lift position is set. Is driven to the valve closing position by the second gradient based on the characteristic of the fluid that is gentler than the first gradient from when the valve reaches the predetermined valve body lift position, and is connected to the outlet side of the on-off valve. An effect is obtained that no dripping occurs when the valve is closed from the fluid nozzle to be closed. Therefore, an effect is obtained that a suck-back valve that is conventionally connected to the on-off valve to prevent dripping from the fluid nozzle becomes unnecessary.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の形態にかかる開閉弁を示す概略
構成断面図である。
FIG. 1 is a schematic configuration sectional view showing an on-off valve according to an embodiment of the present invention.

【図2】図2Aは、開閉弁の一部拡大縦断面図であり、
図2Bは、図2Aのダイヤフラムの詳細を示す一部拡大
断面図である。
FIG. 2A is a partially enlarged longitudinal sectional view of an on-off valve;
FIG. 2B is a partially enlarged sectional view showing details of the diaphragm in FIG. 2A.

【図3】本発明の実施の形態に係る開閉弁の閉弁時の作
用の説明に供するフローチャートである。
FIG. 3 is a flowchart for explaining an operation when the on-off valve according to the embodiment of the present invention is closed.

【図4】本発明の実施の形態にかかる開閉弁の閉弁プロ
グラムコントロールパターンを示す模式図である。
FIG. 4 is a schematic diagram showing a valve closing program control pattern of the on-off valve according to the embodiment of the present invention;

【図5】従来技術にかかる開閉弁を示す概略縦断面図で
ある。
FIG. 5 is a schematic longitudinal sectional view showing an on-off valve according to the related art.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

40…開閉弁 42…弁ボデ
イ 62…流体通路 168…ダイ
ヤフラム 134…リニアボイスコイル型駆動装置 140…ステ
ム 160…エンコーダ 206…変位
部材 230…半導体ウエハ 232…コー
ティング液供給源 234…流体ノズル 236…コー
ティング液滴下装置 242…制御装置 243…パル
スカウンタ 244…電流増幅器 245…RO
M 246…中央演算装置 246a…タ
イマ手段 246b…偏差演算手段 246c…電
流値制御手段
Reference Signs List 40 ... On-off valve 42 ... Valve body 62 ... Fluid passage 168 ... Diaphragm 134 ... Linear voice coil type driving device 140 ... Stem 160 ... Encoder 206 ... Displacement member 230 ... Semiconductor wafer 232 ... Coating liquid supply source 234 ... Fluid nozzle 236 ... Coating Dropping device 242 ... Control device 243 ... Pulse counter 244 ... Current amplifier 245 ... RO
M 246 central processing unit 246a timer unit 246b deviation calculation unit 246c current value control unit

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】電動アクチュエータの駆動のもとに流路の
開閉を制御する開閉弁において、 開閉弁の閉弁指示時から弁体リフト位置が予め定めた弁
体リフト位置に達するまでの時間に対する第1の勾配と
弁体リフト位置が前記予め定めた弁体リフト位置に達し
たときから閉弁までの前記第1の勾配よりも緩勾配であ
る時間に対する第2の勾配とによって定めた、閉弁時に
おける液だれを防ぐための閉弁プログラムコントロール
パターンを流路に流す流体の特性に対応して複数記憶さ
せた記憶手段と、 前記流路に流す流体の特性に基づき前記記憶手段から読
み出して閉弁プログラムコントロールパターンにしたが
って電動アクチュエータへの通電量を制御して弁体リフ
ト位置を閉弁方向に制御する制御手段と、 を備えたことを特徴とする開閉弁。
1. An on-off valve for controlling the opening and closing of a flow path under the drive of an electric actuator, wherein an opening / closing valve is instructed to close from a time until a valve lift position reaches a predetermined valve lift position. A closing determined by a first slope and a second slope for a time that is gentler than the first slope from when the valve element lift position reaches the predetermined valve element lift position to when the valve is closed is determined. Storage means for storing a plurality of valve-closing program control patterns for preventing liquid dripping at the time of valve operation in accordance with the characteristics of the fluid flowing through the flow path; and reading out from the storage means based on the characteristics of the fluid flowing through the flow path. Control means for controlling the amount of current supplied to the electric actuator in accordance with the valve closing program control pattern to control the valve body lift position in the valve closing direction.
【請求項2】請求項1記載の開閉弁において、流体の特
性には流体の粘度および表面張力を含むことを特徴とす
る開閉弁。
2. The on-off valve according to claim 1, wherein the characteristics of the fluid include viscosity and surface tension of the fluid.
【請求項3】請求項1記載の開閉弁において、予め定め
た弁体リフト位置、第1の勾配および第2の勾配は流体
の粘度および表面張力に基づいて定められていることを
特徴とする開閉弁。
3. The on-off valve according to claim 1, wherein the predetermined valve body lift position, the first gradient and the second gradient are determined based on the viscosity and surface tension of the fluid. On-off valve.
【請求項4】請求項1記載の開閉弁において、制御手段
は弁体リフト位置を検出するリフト検出手段と、前記リ
フト検出手段によって検出した弁体リフト位置と閉弁プ
ログラムコントロールパターンに基づく弁体リフト位置
との偏差を求める偏差演算手段と、前記偏差演算手段に
よって求めた偏差に基づく電流量を電動アクチュエータ
へ送出する電流量制御手段とを備えたことを特徴とする
開閉弁。
4. The on-off valve according to claim 1, wherein the control means includes a lift detecting means for detecting a valve element lift position, and a valve element based on the valve element lift position detected by the lift detecting means and a valve closing program control pattern. An on-off valve comprising: a deviation calculating means for obtaining a deviation from a lift position; and a current amount control means for sending a current amount based on the deviation obtained by the deviation calculating means to an electric actuator.
【請求項5】請求項4記載の開閉弁において、リフト検
出手段は開閉弁のステムに装着したエンコーダと、前記
エンコーダの出力を計数するカウンタとを備えたことを
特徴とする開閉弁。
5. The on-off valve according to claim 4, wherein the lift detecting means includes an encoder mounted on a stem of the on-off valve, and a counter for counting an output of the encoder.
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