JPH11300604A - 球体研磨盤 - Google Patents
球体研磨盤Info
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- JPH11300604A JPH11300604A JP11219798A JP11219798A JPH11300604A JP H11300604 A JPH11300604 A JP H11300604A JP 11219798 A JP11219798 A JP 11219798A JP 11219798 A JP11219798 A JP 11219798A JP H11300604 A JPH11300604 A JP H11300604A
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- spherical
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 設計基準範囲外の総数量が少ないロットを加
工する場合において、加工精度を向上可能な球体研磨盤
を提供すること。 【解決手段】 球体を円周方向同心状に案内する複数の
循環溝を有し、切欠部６ｂが設けられた固定盤６と、固
定盤６と対向して配置された回転盤５とを備え、固定盤
６と回転盤５の間で球体の表面が研磨加工される球体研
磨盤１において、球体を回転盤５方向に押圧する圧力を
供給する加圧手段１３と、加圧手段１３によって循環溝
の出口から排出された球体を所望の循環溝の入口に導く
管状搬送路１１を備えた球体研磨盤１を提供することに
よって解決される。
工する場合において、加工精度を向上可能な球体研磨盤
を提供すること。 【解決手段】 球体を円周方向同心状に案内する複数の
循環溝を有し、切欠部６ｂが設けられた固定盤６と、固
定盤６と対向して配置された回転盤５とを備え、固定盤
６と回転盤５の間で球体の表面が研磨加工される球体研
磨盤１において、球体を回転盤５方向に押圧する圧力を
供給する加圧手段１３と、加圧手段１３によって循環溝
の出口から排出された球体を所望の循環溝の入口に導く
管状搬送路１１を備えた球体研磨盤１を提供することに
よって解決される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、球体を研磨する球
体研磨盤に関する。さらに詳しくは、玉軸受に使用され
る球体を研磨する球体研磨盤に関する。
体研磨盤に関する。さらに詳しくは、玉軸受に使用され
る球体を研磨する球体研磨盤に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の球体研磨盤は、回転用と固定用の
２枚の研磨盤の間に球体を挟み研磨加工を行うもので、
その構造は、回転用研磨盤（以下「回転盤」という。）
のみが回転可能に軸支され、固定用研磨盤（以下「固定
盤」という。）は油圧シリンダのロッドに連結されてな
る。
２枚の研磨盤の間に球体を挟み研磨加工を行うもので、
その構造は、回転用研磨盤（以下「回転盤」という。）
のみが回転可能に軸支され、固定用研磨盤（以下「固定
盤」という。）は油圧シリンダのロッドに連結されてな
る。
【０００３】例えば、実開昭５４−１６４１８９号公報
に、球体研磨盤の一例が開示されている。図３に示すよ
うに、この球体研磨盤４０は、回転盤５と固定盤６の中
心線が共に水平になるように対向して配置されている。
また、特開昭４７−８５９９号公報にも、球体研磨盤の
一例が開示されている。図４に示すように、この球体研
磨盤５０は、回転盤５と固定盤６の中心線が共に垂直に
なるように対向して配置されている。
に、球体研磨盤の一例が開示されている。図３に示すよ
うに、この球体研磨盤４０は、回転盤５と固定盤６の中
心線が共に水平になるように対向して配置されている。
また、特開昭４７−８５９９号公報にも、球体研磨盤の
一例が開示されている。図４に示すように、この球体研
磨盤５０は、回転盤５と固定盤６の中心線が共に垂直に
なるように対向して配置されている。
【０００４】上述した球体研磨盤４０，５０において、
回転盤５と固定盤６の間への球体の供給、排出、循環
は、いずれの場合にも適宜の手段により行われている。
ここで、回転盤５と固定盤６の中心線が共に水平になる
ように設定した場合、すなわち図３に示す球体研磨盤４
０の球体の供給、排出、循環は、例えば図５に示すよう
な方法で行われている。
回転盤５と固定盤６の間への球体の供給、排出、循環
は、いずれの場合にも適宜の手段により行われている。
ここで、回転盤５と固定盤６の中心線が共に水平になる
ように設定した場合、すなわち図３に示す球体研磨盤４
０の球体の供給、排出、循環は、例えば図５に示すよう
な方法で行われている。
【０００５】また、加工する球体数量が少ない場合等に
は、上述した図４に示す各研磨盤の中心線が共に垂直に
なるように対向して設定したもので、図５に示すストレ
ージを使用せず、固定盤６に球体の供給、排出をならし
めるための切欠部がない球体研磨盤が用いられている。
は、上述した図４に示す各研磨盤の中心線が共に垂直に
なるように対向して設定したもので、図５に示すストレ
ージを使用せず、固定盤６に球体の供給、排出をならし
めるための切欠部がない球体研磨盤が用いられている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】ところで、図５に示す
ストレージを介して球体の供給、排出、循環を行う図３
に示す従来の球体研磨盤では、盤間で加工される球体の
数量ｎ（個）は、ｎ＝（２×Ｓ×ｋ）／（Ｄ×Ｃ）と定
義でき、球体１個に作用する圧力ｐ（Ｎ／個）は、ｐ＝
Ｆ／ｎと定義できる。なお、Ｓは加工される球体の総数
（個）、ｋは固定盤の有効溝長さ比（切欠部を除いた実
際の溝長さ／切欠部がないとした場合の１周分の溝長
さ）、Ｄは回転盤の回転数（ｒｐｍ）、Ｃはストレージ
の１周期にかかる時間（ｍｉｎ）、Ｆは盤間に作用する
総圧力（Ｎ）である。
ストレージを介して球体の供給、排出、循環を行う図３
に示す従来の球体研磨盤では、盤間で加工される球体の
数量ｎ（個）は、ｎ＝（２×Ｓ×ｋ）／（Ｄ×Ｃ）と定
義でき、球体１個に作用する圧力ｐ（Ｎ／個）は、ｐ＝
Ｆ／ｎと定義できる。なお、Ｓは加工される球体の総数
（個）、ｋは固定盤の有効溝長さ比（切欠部を除いた実
際の溝長さ／切欠部がないとした場合の１周分の溝長
さ）、Ｄは回転盤の回転数（ｒｐｍ）、Ｃはストレージ
の１周期にかかる時間（ｍｉｎ）、Ｆは盤間に作用する
総圧力（Ｎ）である。
【０００７】ここで、球体研磨盤は上記の各値が適切に
なるように球体寸法や標準加工総数量別に設計されてい
る。しかしながら、例えば、極端に総数量が少ないロッ
トを加工する場合は、回転盤の回転数やストレージの１
周期にかかる時間を設定範囲内で調節しても、球体１個
に作用する圧力ｐが大きくなってしまう。その結果、球
体製品の真球度や粗さ等の加工精度が悪化してしまった
り、盤の溝に圧痕を付けてしまったりするという問題が
生ずる場合がある。
なるように球体寸法や標準加工総数量別に設計されてい
る。しかしながら、例えば、極端に総数量が少ないロッ
トを加工する場合は、回転盤の回転数やストレージの１
周期にかかる時間を設定範囲内で調節しても、球体１個
に作用する圧力ｐが大きくなってしまう。その結果、球
体製品の真球度や粗さ等の加工精度が悪化してしまった
り、盤の溝に圧痕を付けてしまったりするという問題が
生ずる場合がある。
【０００８】また、上記問題を解決するために、ストレ
ージの容量を変更したり、回転盤の回転数やストレージ
の１周期にかかる時間の調整範囲を変更するためのモー
タ、プーリやギヤ等を付け替える場合には、手間やコス
トが多くかかってしまうという問題がある。
ージの容量を変更したり、回転盤の回転数やストレージ
の１周期にかかる時間の調整範囲を変更するためのモー
タ、プーリやギヤ等を付け替える場合には、手間やコス
トが多くかかってしまうという問題がある。
【０００９】さらに、上記問題を解決するために、上記
図５に示すストレージを使用せず、固定盤に球体の供
給、排出をならしめるための切欠部がない上記図４に示
す球体研磨盤を用いた場合、加工圧力等の装置設定条件
に問題がない場合でも、球体の盤間への出し入れがな
い。その結果、球体の自転軸が変動せず、同じ部分のみ
研磨されるので、球体製品の真球度等の加工精度が悪化
するという問題が生ずる。
図５に示すストレージを使用せず、固定盤に球体の供
給、排出をならしめるための切欠部がない上記図４に示
す球体研磨盤を用いた場合、加工圧力等の装置設定条件
に問題がない場合でも、球体の盤間への出し入れがな
い。その結果、球体の自転軸が変動せず、同じ部分のみ
研磨されるので、球体製品の真球度等の加工精度が悪化
するという問題が生ずる。
【００１０】また、切欠部がない図４に示す球体研磨盤
５０において、加工溝を複数本用いた場合、各溝の長さ
がことなり、各溝での球体の削れ量が異なるために、各
溝での最終的な球体寸法が異なってしまうという問題が
ある。
５０において、加工溝を複数本用いた場合、各溝の長さ
がことなり、各溝での球体の削れ量が異なるために、各
溝での最終的な球体寸法が異なってしまうという問題が
ある。
【００１１】更に、上記問題を解決するために、加工途
中で研磨盤を止め、各溝の球体を少なくとも１回以上入
れ替える場合には、手間やコストが多くかかってしまう
という問題がある。
中で研磨盤を止め、各溝の球体を少なくとも１回以上入
れ替える場合には、手間やコストが多くかかってしまう
という問題がある。
【００１２】以上のような場合でも、ＪＩＳ規格のＧ３
等級であれば品質保証上の問題がない場合もあったが、
例えば、昨今のＶＴＲ、ＨＤＤ（ハードディスク）、Ｃ
Ｄ−ＲＯＭその他に使用される軸受等には、従来のＧ３
等級以上の高い評価基準が要求されてきており、球体製
品の真球度、粗さ等の加工精度に対する要求も厳しくな
ってきている。
等級であれば品質保証上の問題がない場合もあったが、
例えば、昨今のＶＴＲ、ＨＤＤ（ハードディスク）、Ｃ
Ｄ−ＲＯＭその他に使用される軸受等には、従来のＧ３
等級以上の高い評価基準が要求されてきており、球体製
品の真球度、粗さ等の加工精度に対する要求も厳しくな
ってきている。
【００１３】本発明はかかる事情に鑑み、設計基準範囲
外の総数量が少ないロットを加工する場合において、加
工精度を向上可能な球体研磨盤を提供することを目的と
する。
外の総数量が少ないロットを加工する場合において、加
工精度を向上可能な球体研磨盤を提供することを目的と
する。
【００１４】
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、球
体を円周方向同心状に案内する複数の循環溝を有し、切
欠部が設けられた固定盤と、前記固定盤と対向して配置
された回転盤とを備え、前記固定盤と前記回転盤の間で
球体の表面が研磨加工される球体研磨盤において、球体
を回転盤方向に押圧する圧力を供給する加圧手段と、前
記加圧手段によって前記循環溝の出口から排出された球
体を所望の循環溝の入口に導く管状搬送路とを備えたこ
とを特徴とする球体研磨盤を提供することによって達成
される。
体を円周方向同心状に案内する複数の循環溝を有し、切
欠部が設けられた固定盤と、前記固定盤と対向して配置
された回転盤とを備え、前記固定盤と前記回転盤の間で
球体の表面が研磨加工される球体研磨盤において、球体
を回転盤方向に押圧する圧力を供給する加圧手段と、前
記加圧手段によって前記循環溝の出口から排出された球
体を所望の循環溝の入口に導く管状搬送路とを備えたこ
とを特徴とする球体研磨盤を提供することによって達成
される。
【００１５】本発明の球体研磨盤によれば、加圧手段に
よって循環溝の出口に回転盤方向に球体を押圧する圧力
が供給されると、潤滑溝の出口から球体が排出される。
すると、この球体の自転軸が管状搬送路で変化し、所望
の循環溝の入口に導かれる。したがって、今まで加工さ
れてきた球体の自転軸が変化することにより、球体の表
面が均一に加工されるので、球体の真球度、寸法精度、
相互差が向上する。また、ストレージを使用しないの
で、球体の供給速度が一定となり、球体１個に作用する
圧力ｐが一定の加工ができ、研磨精度がさらに向上す
る。
よって循環溝の出口に回転盤方向に球体を押圧する圧力
が供給されると、潤滑溝の出口から球体が排出される。
すると、この球体の自転軸が管状搬送路で変化し、所望
の循環溝の入口に導かれる。したがって、今まで加工さ
れてきた球体の自転軸が変化することにより、球体の表
面が均一に加工されるので、球体の真球度、寸法精度、
相互差が向上する。また、ストレージを使用しないの
で、球体の供給速度が一定となり、球体１個に作用する
圧力ｐが一定の加工ができ、研磨精度がさらに向上す
る。
【００１６】
【発明の実施の形態】以下、添付図面に基づいて本発明
の一実施形態を詳細に説明する。図１は本発明の一実施
形態に係る球体研磨盤の要部平面図、図２（ａ）は図１
のＡ方向から見た要部正面図（一部断面）、図２（ｂ）
は図１のＢ方向から見た要部正面図（一部断面）であ
る。なお、従来の球体研磨盤と共通する構成部分につい
ては同一符号を使用するものとする。
の一実施形態を詳細に説明する。図１は本発明の一実施
形態に係る球体研磨盤の要部平面図、図２（ａ）は図１
のＡ方向から見た要部正面図（一部断面）、図２（ｂ）
は図１のＢ方向から見た要部正面図（一部断面）であ
る。なお、従来の球体研磨盤と共通する構成部分につい
ては同一符号を使用するものとする。
【００１７】本発明の一実施形態に係る球体研磨盤は、
図４で示した球体研磨盤のように両盤の中心線が垂直に
なるように対向して設定されている。図１に示すよう
に、本発明の球体研磨盤１は、球体を円周方向同心状に
案内する複数の循環溝６ａを有し、切欠部６ｂが設けら
れた固定盤６と、固定盤６と対向して配置された回転盤
５とを備え、固定盤６と回転盤５の間で球体の表面が研
磨加工されるようになっている。
図４で示した球体研磨盤のように両盤の中心線が垂直に
なるように対向して設定されている。図１に示すよう
に、本発明の球体研磨盤１は、球体を円周方向同心状に
案内する複数の循環溝６ａを有し、切欠部６ｂが設けら
れた固定盤６と、固定盤６と対向して配置された回転盤
５とを備え、固定盤６と回転盤５の間で球体の表面が研
磨加工されるようになっている。
【００１８】さらにこの球体研磨盤１は、固定盤６の循
環溝６ａの出口に設けられ、循環溝６ａの出口から球体
を排出するための排出路を備えた球体排出部８と、循環
溝６ａの入口側に設けられ、球体を循環溝６ａの入口に
供給するための供給路を備えた球体供給部９とを備えて
おり、球体排出部８と球体供給部９との間で球体を授受
しつつ循環し、球体を所望の寸法に加工するように構成
されている。
環溝６ａの出口に設けられ、循環溝６ａの出口から球体
を排出するための排出路を備えた球体排出部８と、循環
溝６ａの入口側に設けられ、球体を循環溝６ａの入口に
供給するための供給路を備えた球体供給部９とを備えて
おり、球体排出部８と球体供給部９との間で球体を授受
しつつ循環し、球体を所望の寸法に加工するように構成
されている。
【００１９】この球体研磨盤１は、図５に示すような円
形のストレージが取り付けられて、１／１６“サイズの
球体を１ロット当たり約２０００００個加工する設計に
なっている研磨盤に相当する。しかしながら、本実施形
態の場合、このストレージを取り外し、盤間から球体を
排出ならしめる球体排出部８と盤間に球体を供給ならし
める球体供給部９とを設置し、この球体排出部８とこの
球体供給部９は管状搬送路としての透明のテフロンチュ
ーブ１１によって接続されている。
形のストレージが取り付けられて、１／１６“サイズの
球体を１ロット当たり約２０００００個加工する設計に
なっている研磨盤に相当する。しかしながら、本実施形
態の場合、このストレージを取り外し、盤間から球体を
排出ならしめる球体排出部８と盤間に球体を供給ならし
める球体供給部９とを設置し、この球体排出部８とこの
球体供給部９は管状搬送路としての透明のテフロンチュ
ーブ１１によって接続されている。
【００２０】なお、図１において、このテフロンチュー
ブ１１の数は３本とされているが、その数は３個に限定
されず、例えば循環溝に対応した個数であってもよい。
また、球体排出部８と球体供給部９を設けず、循環溝６
ａの出口と入口をテフロンチューブによって直接接続す
る構成であってもよい。
ブ１１の数は３本とされているが、その数は３個に限定
されず、例えば循環溝に対応した個数であってもよい。
また、球体排出部８と球体供給部９を設けず、循環溝６
ａの出口と入口をテフロンチューブによって直接接続す
る構成であってもよい。
【００２１】図２（ａ）に示すように、球体排出部８
は、循環溝６ａの出口側の切欠部６ｂにボルト１７によ
って固定されている。そして、この球体排出部８には、
循環溝６ａの出口から球体を排出するための排出路８ａ
が設けられている。この排出路８ａは、循環溝６ａに対
して傾斜した孔からなる。またテフロンチューブ１１
は、チューブ押さえ部材１５によって、球体排出部８に
固定され、排出路８ａと連設されている。なお、この球
体排出部８は、回転盤５に干渉しない位置に設けられて
いる。
は、循環溝６ａの出口側の切欠部６ｂにボルト１７によ
って固定されている。そして、この球体排出部８には、
循環溝６ａの出口から球体を排出するための排出路８ａ
が設けられている。この排出路８ａは、循環溝６ａに対
して傾斜した孔からなる。またテフロンチューブ１１
は、チューブ押さえ部材１５によって、球体排出部８に
固定され、排出路８ａと連設されている。なお、この球
体排出部８は、回転盤５に干渉しない位置に設けられて
いる。
【００２２】更に、球体排出部８には、加圧流体を供給
するための加圧手段としての液体加圧手段１３が設けら
れている。この液体加圧手段１３は、管状部１３ａと、
この管状部１３ａに繋がっている液溜室１３ｂと、この
液溜室１３ａの下部に繋がっている穴１３ｂとを備え、
この穴１３ｂが循環溝６ａの出口に繋がっている。
するための加圧手段としての液体加圧手段１３が設けら
れている。この液体加圧手段１３は、管状部１３ａと、
この管状部１３ａに繋がっている液溜室１３ｂと、この
液溜室１３ａの下部に繋がっている穴１３ｂとを備え、
この穴１３ｂが循環溝６ａの出口に繋がっている。
【００２３】それに対して、図２（ｂ）に示すように、
球体供給部９は、循環溝６ａの入口側の切欠部６ｂにボ
ルト１８によって固定されている。そして、この球体供
給部９には、球体を循環溝６ａの入口に供給するための
供給路９ａが設けられている。この供給路９ａは、循環
溝６ａに対して傾斜し、上部が開放した溝からなる。ま
たテフロンチューブ１１は、チューブ押さえ１６によっ
て、球体供給部９に固定され、供給路９ａと連設されて
いる。なお、この球体供給部９も、回転盤５に干渉しな
い位置に設けられている。
球体供給部９は、循環溝６ａの入口側の切欠部６ｂにボ
ルト１８によって固定されている。そして、この球体供
給部９には、球体を循環溝６ａの入口に供給するための
供給路９ａが設けられている。この供給路９ａは、循環
溝６ａに対して傾斜し、上部が開放した溝からなる。ま
たテフロンチューブ１１は、チューブ押さえ１６によっ
て、球体供給部９に固定され、供給路９ａと連設されて
いる。なお、この球体供給部９も、回転盤５に干渉しな
い位置に設けられている。
【００２４】次に本実施形態に係る球体研磨盤１の作用
について説明する。まず、液体加圧手段１３によって管
状部１３ａ、液溜室１３ｂ及び穴１３ｃを介して、循環
溝６ａの出口に回転盤方向に液圧が供給される。する
と、球体７は両盤間で加圧されているため、排出路８ａ
から球体７が排出される。その後、管状搬送路１１でこ
の球体７の自転軸が変化し、供給路９ａを介して所望の
循環溝６ａの入口に導かれる。したがって、今まで加工
されてきた球体７の自転軸が変化することにより、球体
７の表面が均一に加工できるので、球体の真球度、寸法
精度等が向上する。また、ストレージを使用しないの
で、球体の供給速度が一定となり、球体１個に作用する
圧力ｐが一定の加工ができ、研磨精度がさらに向上す
る。
について説明する。まず、液体加圧手段１３によって管
状部１３ａ、液溜室１３ｂ及び穴１３ｃを介して、循環
溝６ａの出口に回転盤方向に液圧が供給される。する
と、球体７は両盤間で加圧されているため、排出路８ａ
から球体７が排出される。その後、管状搬送路１１でこ
の球体７の自転軸が変化し、供給路９ａを介して所望の
循環溝６ａの入口に導かれる。したがって、今まで加工
されてきた球体７の自転軸が変化することにより、球体
７の表面が均一に加工できるので、球体の真球度、寸法
精度等が向上する。また、ストレージを使用しないの
で、球体の供給速度が一定となり、球体１個に作用する
圧力ｐが一定の加工ができ、研磨精度がさらに向上す
る。
【００２５】ここで、テフロンチューブ１１の接続方法
を、循環溝の出口側の内周側から入口側の内周側に接続
するように、又はその逆にすれば、各溝での球体の削れ
量の平均化を図ることができ、さらに球体の真球度、寸
法精度、相互差が向上する。
を、循環溝の出口側の内周側から入口側の内周側に接続
するように、又はその逆にすれば、各溝での球体の削れ
量の平均化を図ることができ、さらに球体の真球度、寸
法精度、相互差が向上する。
【００２６】また、図１において各テフロンチューブ１
１を各々循環溝６ａと個々に対応して設け、これらの間
に複数種のサイズの異なる球体を独立して循環させ研磨
することにより異なったサイズの球体をそしてこれら球
体をテフロンチューブ１１の間に自転軸を変化させつつ
研磨することができるので、１台の研磨盤により多種サ
イズの球体を加工でき、コストダウン、特に小ロットの
ボールを加工するとき及び試作に適する。そして、球体
の真球度、寸法精度、相互差が向上するとともに、スト
レージを使用しないので、球体の供給速度が一定とな
り、球体１個に作用する圧力ｐが一定とすることが可能
で、研磨精度を向上することができる。
１を各々循環溝６ａと個々に対応して設け、これらの間
に複数種のサイズの異なる球体を独立して循環させ研磨
することにより異なったサイズの球体をそしてこれら球
体をテフロンチューブ１１の間に自転軸を変化させつつ
研磨することができるので、１台の研磨盤により多種サ
イズの球体を加工でき、コストダウン、特に小ロットの
ボールを加工するとき及び試作に適する。そして、球体
の真球度、寸法精度、相互差が向上するとともに、スト
レージを使用しないので、球体の供給速度が一定とな
り、球体１個に作用する圧力ｐが一定とすることが可能
で、研磨精度を向上することができる。
【００２７】以上、本発明の一実施形態を説明したが、
本発明は上述した実施形態に限定されることなく本発明
の趣旨に基づいて適宜変形、改良等可能である。例え
ば、本発明の球体研磨盤は、中心軸が水平であるタイプ
にも適用可能である。また、加圧手段は、液体加圧手段
に限定されず、気体加圧手段等であってもよい。
本発明は上述した実施形態に限定されることなく本発明
の趣旨に基づいて適宜変形、改良等可能である。例え
ば、本発明の球体研磨盤は、中心軸が水平であるタイプ
にも適用可能である。また、加圧手段は、液体加圧手段
に限定されず、気体加圧手段等であってもよい。
【００２８】
【発明の効果】以上のように本発明の球体研磨盤によれ
ば、球体を固定盤方向に押圧する圧力を供給する加圧手
段と、前記加圧手段にによって循環溝の出口側から排出
された球体を所望の循環溝に導く管状搬送路とを備えて
いるので、管状搬送路で球体の自転軸が変化し、所望の
循環溝に導かれる。したがって、今まで加工されてきた
球体の自転軸が変化することにより、球体の表面が均一
に加工されるので、球体の真球度、寸法精度、相互差が
向上する。また、ストレージを使用しないので、球体の
供給速度が一定となり、球体１個に作用する圧力ｐが一
定の加工ができ、研磨精度がさらに向上する。
ば、球体を固定盤方向に押圧する圧力を供給する加圧手
段と、前記加圧手段にによって循環溝の出口側から排出
された球体を所望の循環溝に導く管状搬送路とを備えて
いるので、管状搬送路で球体の自転軸が変化し、所望の
循環溝に導かれる。したがって、今まで加工されてきた
球体の自転軸が変化することにより、球体の表面が均一
に加工されるので、球体の真球度、寸法精度、相互差が
向上する。また、ストレージを使用しないので、球体の
供給速度が一定となり、球体１個に作用する圧力ｐが一
定の加工ができ、研磨精度がさらに向上する。
【図１】本発明の一実施形態に係る球体研磨盤の要部平
面図である。
面図である。
【図２】（ａ）は図１のＡ方向から見た要部正面図（一
部断面）であり、（ｂ）は図１のＢ方向から見た要部正
面図（一部断面）である。
部断面）であり、（ｂ）は図１のＢ方向から見た要部正
面図（一部断面）である。
【図３】従来の球体研磨盤の概要図である。
【図４】従来の球体研磨盤の概要図である。
【図５】図３の球体研磨盤とコンベヤとの接続状態を示
す斜視図である。
す斜視図である。
１ 球体研磨盤 ５ 回転盤 ５ａ 循環溝 ６ 固定盤 ６ａ 循環溝 ６ｂ 切欠部 ７ 球体 ８ 球体排出部 ９ 球体供給部 １１ テフロンチューブ １３ 液体加圧手段
Claims (1)
- 【請求項１】 球体を円周方向同心状に案内する複数の
循環溝を有し、切欠部が設けられた固定盤と、 前記固定盤と対向して配置された回転盤とを備え、 前記固定盤と前記回転盤の間で球体の表面が研磨加工さ
れる球体研磨盤において、 球体を回転盤方向に押圧する圧力を供給する加圧手段
と、前記加圧手段によって前記循環溝の出口から排出さ
れた球体を所望の循環溝の入口に導く管状搬送路とを備
えたことを特徴とする球体研磨盤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11219798A JPH11300604A (ja) | 1998-04-22 | 1998-04-22 | 球体研磨盤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11219798A JPH11300604A (ja) | 1998-04-22 | 1998-04-22 | 球体研磨盤 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11300604A true JPH11300604A (ja) | 1999-11-02 |
Family
ID=14580701
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11219798A Pending JPH11300604A (ja) | 1998-04-22 | 1998-04-22 | 球体研磨盤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11300604A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6617756B1 (en) * | 1999-06-18 | 2003-09-09 | Toyo Communication Equipment Co., Ltd. | Piezo-oscillator |
| JP2009095929A (ja) * | 2007-10-17 | 2009-05-07 | Amatsuji Steel Ball Mfg Co Ltd | ボールの仕上げ加工装置 |
| CN112497047A (zh) * | 2020-12-17 | 2021-03-16 | 泰安市超越精密钢球有限公司 | 一种提高成品钢球圆度的装置及其使用工艺 |
-
1998
- 1998-04-22 JP JP11219798A patent/JPH11300604A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6617756B1 (en) * | 1999-06-18 | 2003-09-09 | Toyo Communication Equipment Co., Ltd. | Piezo-oscillator |
| JP2009095929A (ja) * | 2007-10-17 | 2009-05-07 | Amatsuji Steel Ball Mfg Co Ltd | ボールの仕上げ加工装置 |
| CN112497047A (zh) * | 2020-12-17 | 2021-03-16 | 泰安市超越精密钢球有限公司 | 一种提高成品钢球圆度的装置及其使用工艺 |
| CN112497047B (zh) * | 2020-12-17 | 2022-01-28 | 泰安市超越精密钢球有限公司 | 一种提高成品钢球圆度的装置及其使用工艺 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20041227 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050119 |
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| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050318 |
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| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20050606 |