JPH11300604A - 球体研磨盤 - Google Patents

球体研磨盤

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JPH11300604A
JPH11300604A JP11219798A JP11219798A JPH11300604A JP H11300604 A JPH11300604 A JP H11300604A JP 11219798 A JP11219798 A JP 11219798A JP 11219798 A JP11219798 A JP 11219798A JP H11300604 A JPH11300604 A JP H11300604A
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JP
Japan
Prior art keywords
sphere
polishing machine
spherical body
spherical
circulation groove
Prior art date
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Pending
Application number
JP11219798A
Other languages
English (en)
Inventor
Masami Sasamoto
正美 篠本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NSK Ltd
Original Assignee
NSK Ltd
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Publication date
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  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 設計基準範囲外の総数量が少ないロットを加
工する場合において、加工精度を向上可能な球体研磨盤
を提供すること。 【解決手段】 球体を円周方向同心状に案内する複数の
循環溝を有し、切欠部6bが設けられた固定盤6と、固
定盤6と対向して配置された回転盤5とを備え、固定盤
6と回転盤5の間で球体の表面が研磨加工される球体研
磨盤1において、球体を回転盤5方向に押圧する圧力を
供給する加圧手段13と、加圧手段13によって循環溝
の出口から排出された球体を所望の循環溝の入口に導く
管状搬送路11を備えた球体研磨盤1を提供することに
よって解決される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、球体を研磨する球
体研磨盤に関する。さらに詳しくは、玉軸受に使用され
る球体を研磨する球体研磨盤に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の球体研磨盤は、回転用と固定用の
2枚の研磨盤の間に球体を挟み研磨加工を行うもので、
その構造は、回転用研磨盤(以下「回転盤」という。)
のみが回転可能に軸支され、固定用研磨盤(以下「固定
盤」という。)は油圧シリンダのロッドに連結されてな
る。
【0003】例えば、実開昭54−164189号公報
に、球体研磨盤の一例が開示されている。図3に示すよ
うに、この球体研磨盤40は、回転盤5と固定盤6の中
心線が共に水平になるように対向して配置されている。
また、特開昭47−8599号公報にも、球体研磨盤の
一例が開示されている。図4に示すように、この球体研
磨盤50は、回転盤5と固定盤6の中心線が共に垂直に
なるように対向して配置されている。
【0004】上述した球体研磨盤40,50において、
回転盤5と固定盤6の間への球体の供給、排出、循環
は、いずれの場合にも適宜の手段により行われている。
ここで、回転盤5と固定盤6の中心線が共に水平になる
ように設定した場合、すなわち図3に示す球体研磨盤4
0の球体の供給、排出、循環は、例えば図5に示すよう
な方法で行われている。
【0005】また、加工する球体数量が少ない場合等に
は、上述した図4に示す各研磨盤の中心線が共に垂直に
なるように対向して設定したもので、図5に示すストレ
ージを使用せず、固定盤6に球体の供給、排出をならし
めるための切欠部がない球体研磨盤が用いられている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】ところで、図5に示す
ストレージを介して球体の供給、排出、循環を行う図3
に示す従来の球体研磨盤では、盤間で加工される球体の
数量n(個)は、n=(2×S×k)/(D×C)と定
義でき、球体1個に作用する圧力p(N/個)は、p=
F/nと定義できる。なお、Sは加工される球体の総数
(個)、kは固定盤の有効溝長さ比(切欠部を除いた実
際の溝長さ/切欠部がないとした場合の1周分の溝長
さ)、Dは回転盤の回転数(rpm)、Cはストレージ
の1周期にかかる時間(min)、Fは盤間に作用する
総圧力(N)である。
【0007】ここで、球体研磨盤は上記の各値が適切に
なるように球体寸法や標準加工総数量別に設計されてい
る。しかしながら、例えば、極端に総数量が少ないロッ
トを加工する場合は、回転盤の回転数やストレージの1
周期にかかる時間を設定範囲内で調節しても、球体1個
に作用する圧力pが大きくなってしまう。その結果、球
体製品の真球度や粗さ等の加工精度が悪化してしまった
り、盤の溝に圧痕を付けてしまったりするという問題が
生ずる場合がある。
【0008】また、上記問題を解決するために、ストレ
ージの容量を変更したり、回転盤の回転数やストレージ
の1周期にかかる時間の調整範囲を変更するためのモー
タ、プーリやギヤ等を付け替える場合には、手間やコス
トが多くかかってしまうという問題がある。
【0009】さらに、上記問題を解決するために、上記
図5に示すストレージを使用せず、固定盤に球体の供
給、排出をならしめるための切欠部がない上記図4に示
す球体研磨盤を用いた場合、加工圧力等の装置設定条件
に問題がない場合でも、球体の盤間への出し入れがな
い。その結果、球体の自転軸が変動せず、同じ部分のみ
研磨されるので、球体製品の真球度等の加工精度が悪化
するという問題が生ずる。
【0010】また、切欠部がない図4に示す球体研磨盤
50において、加工溝を複数本用いた場合、各溝の長さ
がことなり、各溝での球体の削れ量が異なるために、各
溝での最終的な球体寸法が異なってしまうという問題が
ある。
【0011】更に、上記問題を解決するために、加工途
中で研磨盤を止め、各溝の球体を少なくとも1回以上入
れ替える場合には、手間やコストが多くかかってしまう
という問題がある。
【0012】以上のような場合でも、JIS規格のG3
等級であれば品質保証上の問題がない場合もあったが、
例えば、昨今のVTR、HDD(ハードディスク)、C
D−ROMその他に使用される軸受等には、従来のG3
等級以上の高い評価基準が要求されてきており、球体製
品の真球度、粗さ等の加工精度に対する要求も厳しくな
ってきている。
【0013】本発明はかかる事情に鑑み、設計基準範囲
外の総数量が少ないロットを加工する場合において、加
工精度を向上可能な球体研磨盤を提供することを目的と
する。
【0014】
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、球
体を円周方向同心状に案内する複数の循環溝を有し、切
欠部が設けられた固定盤と、前記固定盤と対向して配置
された回転盤とを備え、前記固定盤と前記回転盤の間で
球体の表面が研磨加工される球体研磨盤において、球体
を回転盤方向に押圧する圧力を供給する加圧手段と、前
記加圧手段によって前記循環溝の出口から排出された球
体を所望の循環溝の入口に導く管状搬送路とを備えたこ
とを特徴とする球体研磨盤を提供することによって達成
される。
【0015】本発明の球体研磨盤によれば、加圧手段に
よって循環溝の出口に回転盤方向に球体を押圧する圧力
が供給されると、潤滑溝の出口から球体が排出される。
すると、この球体の自転軸が管状搬送路で変化し、所望
の循環溝の入口に導かれる。したがって、今まで加工さ
れてきた球体の自転軸が変化することにより、球体の表
面が均一に加工されるので、球体の真球度、寸法精度、
相互差が向上する。また、ストレージを使用しないの
で、球体の供給速度が一定となり、球体1個に作用する
圧力pが一定の加工ができ、研磨精度がさらに向上す
る。
【0016】
【発明の実施の形態】以下、添付図面に基づいて本発明
の一実施形態を詳細に説明する。図1は本発明の一実施
形態に係る球体研磨盤の要部平面図、図2(a)は図1
のA方向から見た要部正面図(一部断面)、図2(b)
は図1のB方向から見た要部正面図(一部断面)であ
る。なお、従来の球体研磨盤と共通する構成部分につい
ては同一符号を使用するものとする。
【0017】本発明の一実施形態に係る球体研磨盤は、
図4で示した球体研磨盤のように両盤の中心線が垂直に
なるように対向して設定されている。図1に示すよう
に、本発明の球体研磨盤1は、球体を円周方向同心状に
案内する複数の循環溝6aを有し、切欠部6bが設けら
れた固定盤6と、固定盤6と対向して配置された回転盤
5とを備え、固定盤6と回転盤5の間で球体の表面が研
磨加工されるようになっている。
【0018】さらにこの球体研磨盤1は、固定盤6の循
環溝6aの出口に設けられ、循環溝6aの出口から球体
を排出するための排出路を備えた球体排出部8と、循環
溝6aの入口側に設けられ、球体を循環溝6aの入口に
供給するための供給路を備えた球体供給部9とを備えて
おり、球体排出部8と球体供給部9との間で球体を授受
しつつ循環し、球体を所望の寸法に加工するように構成
されている。
【0019】この球体研磨盤1は、図5に示すような円
形のストレージが取り付けられて、1/16“サイズの
球体を1ロット当たり約200000個加工する設計に
なっている研磨盤に相当する。しかしながら、本実施形
態の場合、このストレージを取り外し、盤間から球体を
排出ならしめる球体排出部8と盤間に球体を供給ならし
める球体供給部9とを設置し、この球体排出部8とこの
球体供給部9は管状搬送路としての透明のテフロンチュ
ーブ11によって接続されている。
【0020】なお、図1において、このテフロンチュー
ブ11の数は3本とされているが、その数は3個に限定
されず、例えば循環溝に対応した個数であってもよい。
また、球体排出部8と球体供給部9を設けず、循環溝6
aの出口と入口をテフロンチューブによって直接接続す
る構成であってもよい。
【0021】図2(a)に示すように、球体排出部8
は、循環溝6aの出口側の切欠部6bにボルト17によ
って固定されている。そして、この球体排出部8には、
循環溝6aの出口から球体を排出するための排出路8a
が設けられている。この排出路8aは、循環溝6aに対
して傾斜した孔からなる。またテフロンチューブ11
は、チューブ押さえ部材15によって、球体排出部8に
固定され、排出路8aと連設されている。なお、この球
体排出部8は、回転盤5に干渉しない位置に設けられて
いる。
【0022】更に、球体排出部8には、加圧流体を供給
するための加圧手段としての液体加圧手段13が設けら
れている。この液体加圧手段13は、管状部13aと、
この管状部13aに繋がっている液溜室13bと、この
液溜室13aの下部に繋がっている穴13bとを備え、
この穴13bが循環溝6aの出口に繋がっている。
【0023】それに対して、図2(b)に示すように、
球体供給部9は、循環溝6aの入口側の切欠部6bにボ
ルト18によって固定されている。そして、この球体供
給部9には、球体を循環溝6aの入口に供給するための
供給路9aが設けられている。この供給路9aは、循環
溝6aに対して傾斜し、上部が開放した溝からなる。ま
たテフロンチューブ11は、チューブ押さえ16によっ
て、球体供給部9に固定され、供給路9aと連設されて
いる。なお、この球体供給部9も、回転盤5に干渉しな
い位置に設けられている。
【0024】次に本実施形態に係る球体研磨盤1の作用
について説明する。まず、液体加圧手段13によって管
状部13a、液溜室13b及び穴13cを介して、循環
溝6aの出口に回転盤方向に液圧が供給される。する
と、球体7は両盤間で加圧されているため、排出路8a
から球体7が排出される。その後、管状搬送路11でこ
の球体7の自転軸が変化し、供給路9aを介して所望の
循環溝6aの入口に導かれる。したがって、今まで加工
されてきた球体7の自転軸が変化することにより、球体
7の表面が均一に加工できるので、球体の真球度、寸法
精度等が向上する。また、ストレージを使用しないの
で、球体の供給速度が一定となり、球体1個に作用する
圧力pが一定の加工ができ、研磨精度がさらに向上す
る。
【0025】ここで、テフロンチューブ11の接続方法
を、循環溝の出口側の内周側から入口側の内周側に接続
するように、又はその逆にすれば、各溝での球体の削れ
量の平均化を図ることができ、さらに球体の真球度、寸
法精度、相互差が向上する。
【0026】また、図1において各テフロンチューブ1
1を各々循環溝6aと個々に対応して設け、これらの間
に複数種のサイズの異なる球体を独立して循環させ研磨
することにより異なったサイズの球体をそしてこれら球
体をテフロンチューブ11の間に自転軸を変化させつつ
研磨することができるので、1台の研磨盤により多種サ
イズの球体を加工でき、コストダウン、特に小ロットの
ボールを加工するとき及び試作に適する。そして、球体
の真球度、寸法精度、相互差が向上するとともに、スト
レージを使用しないので、球体の供給速度が一定とな
り、球体1個に作用する圧力pが一定とすることが可能
で、研磨精度を向上することができる。
【0027】以上、本発明の一実施形態を説明したが、
本発明は上述した実施形態に限定されることなく本発明
の趣旨に基づいて適宜変形、改良等可能である。例え
ば、本発明の球体研磨盤は、中心軸が水平であるタイプ
にも適用可能である。また、加圧手段は、液体加圧手段
に限定されず、気体加圧手段等であってもよい。
【0028】
【発明の効果】以上のように本発明の球体研磨盤によれ
ば、球体を固定盤方向に押圧する圧力を供給する加圧手
段と、前記加圧手段にによって循環溝の出口側から排出
された球体を所望の循環溝に導く管状搬送路とを備えて
いるので、管状搬送路で球体の自転軸が変化し、所望の
循環溝に導かれる。したがって、今まで加工されてきた
球体の自転軸が変化することにより、球体の表面が均一
に加工されるので、球体の真球度、寸法精度、相互差が
向上する。また、ストレージを使用しないので、球体の
供給速度が一定となり、球体1個に作用する圧力pが一
定の加工ができ、研磨精度がさらに向上する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態に係る球体研磨盤の要部平
面図である。
【図2】(a)は図1のA方向から見た要部正面図(一
部断面)であり、(b)は図1のB方向から見た要部正
面図(一部断面)である。
【図3】従来の球体研磨盤の概要図である。
【図4】従来の球体研磨盤の概要図である。
【図5】図3の球体研磨盤とコンベヤとの接続状態を示
す斜視図である。
【符号の説明】
1 球体研磨盤 5 回転盤 5a 循環溝 6 固定盤 6a 循環溝 6b 切欠部 7 球体 8 球体排出部 9 球体供給部 11 テフロンチューブ 13 液体加圧手段

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 球体を円周方向同心状に案内する複数の
    循環溝を有し、切欠部が設けられた固定盤と、 前記固定盤と対向して配置された回転盤とを備え、 前記固定盤と前記回転盤の間で球体の表面が研磨加工さ
    れる球体研磨盤において、 球体を回転盤方向に押圧する圧力を供給する加圧手段
    と、前記加圧手段によって前記循環溝の出口から排出さ
    れた球体を所望の循環溝の入口に導く管状搬送路とを備
    えたことを特徴とする球体研磨盤。
JP11219798A 1998-04-22 1998-04-22 球体研磨盤 Pending JPH11300604A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6617756B1 (en) * 1999-06-18 2003-09-09 Toyo Communication Equipment Co., Ltd. Piezo-oscillator
JP2009095929A (ja) * 2007-10-17 2009-05-07 Amatsuji Steel Ball Mfg Co Ltd ボールの仕上げ加工装置
CN112497047A (zh) * 2020-12-17 2021-03-16 泰安市超越精密钢球有限公司 一种提高成品钢球圆度的装置及其使用工艺

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6617756B1 (en) * 1999-06-18 2003-09-09 Toyo Communication Equipment Co., Ltd. Piezo-oscillator
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CN112497047A (zh) * 2020-12-17 2021-03-16 泰安市超越精密钢球有限公司 一种提高成品钢球圆度的装置及其使用工艺
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