JPH11296909A - Recording medium and master disk for manufacturing recording medium - Google Patents

Recording medium and master disk for manufacturing recording medium

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JPH11296909A
JPH11296909A JP10091989A JP9198998A JPH11296909A JP H11296909 A JPH11296909 A JP H11296909A JP 10091989 A JP10091989 A JP 10091989A JP 9198998 A JP9198998 A JP 9198998A JP H11296909 A JPH11296909 A JP H11296909A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
groove
recording medium
recording
pattern
photoresist
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP10091989A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Fusaaki Endo
惣銘 遠藤
Katsuhiko Otomo
勝彦 大友
Fuji Tanaka
富士 田中
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP10091989A priority Critical patent/JPH11296909A/en
Publication of JPH11296909A publication Critical patent/JPH11296909A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a recording medium which discriminates adjacent recording tracks even if a track pitch is made very narrow and also stably performs tracking servo. SOLUTION: When grooves are formed along a recording tack, they are formed so that wobbling grooves 6 and straight grooves 7 may describe a double helix. And, the widths of the grooves 6 and 7 are made different from each other so that the level of a push-pull signal obtained from light undergoing reflection diffraction by the grooves 6 can be different from the level of a push-pull signal obtained from light undergoing reflection diffraction by the grooves 7.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、記録トラックに沿
ってグルーブが形成されてなる記録媒体に関する。ま
た、本発明は、そのような記録媒体を製造する際に使用
される記録媒体製造用原盤に関する。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a recording medium having grooves formed along recording tracks. Further, the present invention relates to a recording medium manufacturing master used when manufacturing such a recording medium.

【0002】[0002]

【従来の技術】記録媒体として、円盤状に形成されてな
り光学的に記録及び/又は再生が行われる光ディスクが
実用化されている。このような光ディスクには、データ
に対応したエンボスピットがディスク基板に予め形成さ
れてなる再生専用光ディスクや、磁気光学効果を利用し
てデータの記録を行う光磁気ディスクや、記録膜の相変
化を利用してデータの記録を行う相変化型光ディスクな
どがある。
2. Description of the Related Art As a recording medium, an optical disk formed in a disk shape and optically recorded and / or reproduced has been put to practical use. Such optical discs include a read-only optical disc in which embossed pits corresponding to data are formed in advance on a disc substrate, a magneto-optical disc for recording data using a magneto-optical effect, and a phase change of a recording film. There is a phase change type optical disk for recording data by utilizing the same.

【0003】これらの光ディスクのうち、光磁気ディス
クや相変化型光ディスクのように書き込みが可能な光デ
ィスクでは、通常、記録トラックに沿ったグルーブがデ
ィスク基板に形成される。ここで、グルーブとは、主に
トラッキングサーボを行えるようにするために、記録ト
ラックに沿って形成された、いわゆる案内溝のことであ
る。なお、グルーブとグルーブの間の部分は、ランドと
称される。
[0003] Of these optical disks, writable optical disks such as magneto-optical disks and phase-change optical disks usually have grooves along recording tracks formed on the disk substrate. Here, the groove is a so-called guide groove formed along a recording track in order to mainly perform tracking servo. The portion between the grooves is called a land.

【0004】そして、グルーブが形成されてなる光ディ
スクでは、グルーブで反射回折された光から得られるプ
ッシュプル信号に基づいて、トラッキングサーボがなさ
れる。ここで、プッシュプル信号は、グルーブで反射回
折された光を、トラック中心に対して対象に配置された
2つの光検出器により検出し、それら2つの光検出器か
らの出力の差をとることにより得られる。
In an optical disk having a groove formed thereon, tracking servo is performed based on a push-pull signal obtained from light reflected and diffracted by the groove. Here, the push-pull signal is obtained by detecting the light reflected and diffracted by the groove by two photodetectors arranged symmetrically with respect to the track center, and taking the difference between the outputs from the two photodetectors. Is obtained by

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】ところで、記録媒体の
高記録密度化に対する要求はとどまるところを知らず、
光ディスク等の記録媒体には更なる高記録密度化が望ま
れている。記録媒体の高記録密度化を図るには、例え
ば、隣接するグルーブの間隔を狭くして、トラックピッ
チを狭くしてやればよい。しかしながら、従来の記録媒
体では、トラックピッチをあまりに狭くすると、隣接す
る記録トラックを区別することができなくなったり、安
定にトラッキングサーボを行うことができなくなってし
まうなどの問題があった。
By the way, the demand for a higher recording density of a recording medium never stops.
It is desired that recording media such as optical disks have higher recording densities. In order to increase the recording density of the recording medium, for example, the track pitch may be reduced by reducing the interval between adjacent grooves. However, in the conventional recording medium, if the track pitch is too narrow, there are problems such as the inability to distinguish adjacent recording tracks and the inability to perform stable tracking servo.

【0006】本発明は、以上のような従来の実情に鑑み
て提案されたものであり、トラックピッチを非常に狭く
しても、隣接する記録トラックを区別することが可能で
あり、且つ安定にトラッキングサーボを行うことが可能
な記録媒体を提供することを目的としている。また、本
発明は、そのような記録媒体を製造することが可能な記
録媒体製造用原盤を提供することも目的としている。
The present invention has been proposed in view of the above-described conventional circumstances. Even if the track pitch is extremely narrow, it is possible to distinguish adjacent recording tracks and to stably record the tracks. It is an object to provide a recording medium capable of performing tracking servo. Another object of the present invention is to provide a master for manufacturing a recording medium capable of manufacturing such a recording medium.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明に係る記録媒体
は、記録トラックに沿ってグルーブが形成されてなる記
録媒体であり、上記グルーブとして第1のグルーブと第
2のグルーブとが2重螺旋を描くように形成されてな
る。そして、第1のグルーブの断面形状と第2のグルー
ブの断面形状とが異なり、第1のグルーブで反射回折さ
れた光から得られるプッシュプル信号のレベルと、第2
のグルーブで反射回折された光から得られるプッシュプ
ル信号のレベルとが異なることを特徴とする。なお、第
1のグルーブの断面形状と上記第2のグルーブの断面形
状とが異なるようにするには、例えば、第1のグルーブ
の幅と第2のグルーブの幅とが異なるようにすればよ
い。
A recording medium according to the present invention is a recording medium in which a groove is formed along a recording track, wherein the first groove and the second groove are double spirals. It is formed so as to draw. The cross-sectional shape of the first groove is different from the cross-sectional shape of the second groove, and the level of the push-pull signal obtained from the light reflected and diffracted by the first groove is different from that of the second groove.
And the level of the push-pull signal obtained from the light reflected and diffracted by the groove is different. In order to make the cross-sectional shape of the first groove different from the cross-sectional shape of the second groove, for example, the width of the first groove may be different from the width of the second groove. .

【0008】上記記録媒体では、第1のグルーブで反射
回折された光から得られるプッシュプル信号のレベル
と、第2のグルーブで反射回折された光から得られるプ
ッシュプル信号のレベルとが異なるので、第1のグルー
ブの側に光スポットがずれたときに得られるプッシュプ
ル信号のレベルと、第2のグルーブの側に光スポットが
ずれたときに得られるプッシュプル信号のレベルとが異
なるものとなる。したがって、本発明に係る記録媒体で
は、左側に第1のグルーブ、右側に第2のグルーブがあ
る記録トラックと、左側に第2のグルーブ、右側に第1
のグルーブがある記録トラックとを、プッシュプル信号
により判別することができる。
In the above recording medium, the level of the push-pull signal obtained from the light reflected and diffracted by the first groove is different from the level of the push-pull signal obtained from the light reflected and diffracted by the second groove. The level of the push-pull signal obtained when the light spot is shifted to the side of the first groove is different from the level of the push-pull signal obtained when the light spot is shifted to the side of the second groove. Become. Therefore, in the recording medium according to the present invention, the recording track having the first groove on the left side and the second groove on the right side, the second groove on the left side, and the first track on the right side.
And the recording track having the groove can be determined by the push-pull signal.

【0009】なお、上記記録媒体では、第1のグルーブ
を、少なくとも一部が蛇行するように形成されたウォブ
リンググルーブとし、第2のグルーブを、蛇行すること
なく形成されたストレートグルーブとするようにしても
よい。このようにグルーブを蛇行させてウォブリンググ
ルーブとすることにより、グルーブ自体にアドレス情報
を付加することができる。しかも、一方のグルーブをウ
ォブリンググルーブとして、他方のグルーブをストレー
トグルーブとした場合には、両方のグルーブをウォブリ
ンググルーブにした場合に比べて、狭トラック化を図り
やすいので、更なる高記録密度化を実現できる。
In the recording medium, the first groove is a wobbling groove formed so that at least a part of the groove is meandering, and the second groove is a straight groove formed without meandering. You may. By making the groove meander as described above to form a wobbling groove, it is possible to add address information to the groove itself. In addition, when one groove is a wobbling groove and the other groove is a straight groove, it is easier to narrow the track than when both grooves are a wobbling groove. realizable.

【0010】なお、上記記録媒体において、第1のグル
ーブで反射回折された光から得られるプッシュプル信号
のピーク値と、第2のグルーブで反射回折された光から
得られるプッシュプル信号のピーク値とのうち、小さい
方のピーク値をP1、大きい方のピーク値をP2とした
とき、P1/P2は0.83以下であることが好まし
い。P1/P2が0.83以下であれば、第1のグルー
ブで反射回折された光から得られるプッシュプル信号の
レベルと、第2のグルーブで反射回折された光から得ら
れるプッシュプル信号のレベルとの差を十分に検出する
ことができる。したがって、P1/P2が0.83以下
であれば、左側に第1のグルーブ、右側に第2のグルー
ブがある記録トラックと、左側に第2のグルーブ、右側
に第1のグルーブがある記録トラックとの判別を、より
確実に行うことができる。
In the recording medium, a peak value of a push-pull signal obtained from light reflected and diffracted by the first groove and a peak value of a push-pull signal obtained from light reflected and diffracted by the second groove are used. When the smaller peak value is P1 and the larger peak value is P2, P1 / P2 is preferably 0.83 or less. If P1 / P2 is 0.83 or less, the level of the push-pull signal obtained from the light reflected and diffracted by the first groove and the level of the push-pull signal obtained from the light reflected and diffracted by the second groove Can be sufficiently detected. Therefore, if P1 / P2 is 0.83 or less, a recording track with a first groove on the left and a second groove on the right, a recording track with a second groove on the left and a first groove on the right. Can be more reliably determined.

【0011】一方、本発明に係る記録媒体製造用原盤
は、記録トラックに沿ってグルーブが形成されてなる記
録媒体を製造する際に使用される記録媒体製造用原盤で
ある。そして、上記グルーブに対応した凹凸パターンと
して、第1のグルーブパターンと第2のグルーブパター
ンとが2重螺旋を描くように形成されてなり、第1のグ
ルーブパターンの幅と第2のグルーブパターンの幅とが
異なることを特徴とする。
On the other hand, the master for manufacturing a recording medium according to the present invention is a master for manufacturing a recording medium used when manufacturing a recording medium in which grooves are formed along recording tracks. The first groove pattern and the second groove pattern are formed so as to draw a double spiral as an uneven pattern corresponding to the groove, and the width of the first groove pattern and the width of the second groove pattern are formed. The width is different.

【0012】上記記録媒体製造用原盤は、第1のグルー
ブパターンの幅と第2のグルーブパターンの幅とが異な
るので、この記録媒体製造用原盤を用いて作製された記
録媒体は、幅の異なる第1のグルーブと第2のグルーブ
とが形成されることとなる。そして、このように幅の異
なる一対のグルーブが形成された記録媒体では、第1の
グルーブで反射回折された光から得られるプッシュプル
信号のレベルと、第2のグルーブで反射回折された光か
ら得られるプッシュプル信号のレベルとが異なるものと
なるので、第1のグルーブの側に光スポットがずれたと
きに得られるプッシュプル信号のレベルと、第2のグル
ーブの側に光スポットがずれたときに得られるプッシュ
プル信号のレベルとが異なるものとなる。したがって、
この記録媒体では、左側に第1のグルーブ、右側に第2
のグルーブがある記録トラックと、左側に第2のグルー
ブ、右側に第1のグルーブがある記録トラックとを、プ
ッシュプル信号により判別することができる。
Since the width of the first groove pattern and the width of the second groove pattern of the above-mentioned master for producing a recording medium are different, the recording media produced using this master for producing a recording medium have different widths. A first groove and a second groove are formed. In the recording medium in which a pair of grooves having different widths is formed, the level of the push-pull signal obtained from the light reflected and diffracted by the first groove and the light reflected and diffracted by the second groove are used. Since the level of the obtained push-pull signal is different, the level of the push-pull signal obtained when the light spot is shifted toward the first groove and the light spot is shifted toward the second groove. The level of the push-pull signal obtained sometimes differs. Therefore,
In this recording medium, the first groove is on the left and the second groove is on the right.
And the recording track having the second groove on the left and the first groove on the right can be determined by the push-pull signal.

【0013】すなわち、上記記録媒体製造用原盤によれ
ば、左側に第1のグルーブパターンに対応したグルーブ
があり、且つ右側に第2のグルーブパターンに対応した
グルーブがある記録トラックと、左側に第2のグルーブ
パターンに対応したグルーブがあり、且つ右側に第1の
グルーブパターンに対応したグルーブがある記録トラッ
クとを、プッシュプル信号により判別することが可能な
記録媒体を作製することができる。
In other words, according to the master for producing a recording medium, a recording track having a groove corresponding to the first groove pattern on the left side and a groove corresponding to the second groove pattern on the right side, and a recording track having a groove corresponding to the second groove pattern on the right side. A recording medium capable of discriminating, by a push-pull signal, a recording track having a groove corresponding to the second groove pattern and a recording track having a groove corresponding to the first groove pattern on the right side can be manufactured.

【0014】なお、上記記録媒体製造用原盤では、第1
のグルーブパターンを、少なくとも一部が蛇行するよう
に形成されるウォブリンググルーブに対応した凹凸パタ
ーンとし、第2のグルーブパターンを、蛇行することな
く形成されるストレートグルーブに対応した凹凸パター
ンとするようにしてもよい。
In the above-mentioned master for producing a recording medium, the first
The groove pattern of at least a part of the groove pattern is formed as an uneven pattern corresponding to a wobbling groove formed so as to meander, and the second groove pattern is formed as an uneven pattern corresponding to a straight groove formed without meandering. You may.

【0015】この記録媒体製造用原盤によれば、ウォブ
リンググルーブとストレートグルーブとを有する記録媒
体を作製することができる。グルーブを蛇行させてウォ
ブリンググルーブとすることにより、グルーブ自体にア
ドレス情報を付加することができるので、第1のグルー
ブパターンをウォブリンググルーブに対応した凹凸パタ
ーンとした上記記録媒体製造用原盤によれば、グルーブ
自体にアドレス情報を付加した記録媒体を作製すること
ができる。
According to this master for manufacturing a recording medium, a recording medium having a wobbling groove and a straight groove can be manufactured. By making the groove meander to form a wobbling groove, address information can be added to the groove itself. According to the above-mentioned recording medium manufacturing master, the first groove pattern is an uneven pattern corresponding to the wobbling groove. A recording medium in which address information is added to the groove itself can be manufactured.

【0016】しかも、一方のグルーブをウォブリンググ
ルーブとして、他方のグルーブをストレートグルーブと
した場合には、両方のグルーブをウォブリンググルーブ
にした場合に比べて、狭トラック化を図りやすい。した
がって、第2のグルーブパターンをストレートグルーブ
に対応した凹凸パターンとした上記記録媒体製造用原盤
によれば、グルーブ自体にアドレス情報を付加しつつ、
記録媒体のトラックピッチを更に狭くすることができ
る。
Moreover, when one groove is a wobbling groove and the other groove is a straight groove, it is easier to narrow the track than when both grooves are wobbling grooves. Therefore, according to the above-mentioned master for manufacturing a recording medium, in which the second groove pattern is a concavo-convex pattern corresponding to a straight groove, while adding address information to the groove itself,
The track pitch of the recording medium can be further reduced.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、以下の
説明では、グルーブの蛇行のことをウォブリングと称
し、ウォブリングするように形成されたグルーブのこと
をウォブリンググルーブと称する。また、ウォブリング
グルーブに対して、蛇行することなく形成されたグルー
ブのことをストレートグルーブと称する。また、2重螺
旋を描くように形成された2つのグルーブのことをまと
めて、ダブルスパイラルグルーブと称する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. In the following description, a meandering groove is called wobbling, and a groove formed so as to wobble is called a wobbling groove. Also, a groove formed without meandering with respect to the wobbling groove is called a straight groove. Further, two grooves formed so as to draw a double spiral are collectively referred to as a double spiral groove.

【0018】<光磁気ディスク>本発明を適用した光磁
気ディスクについて、要部を拡大した断面図を図1に示
す。
<Magneto-Optical Disk> FIG. 1 is an enlarged cross-sectional view of a main part of a magneto-optical disk to which the present invention is applied.

【0019】この光磁気ディスク1は、円盤状に形成さ
れてなり、磁気光学効果を利用してデータの記録が行わ
れる。そして、この光磁気ディスク1は、ポリメチルメ
タクリレート(PMMA)やポリカーボネート(PC)
等からなるディスク基板2上に、光磁気記録がなされる
記録層3と、当該記録層3を保護する保護層4とが形成
されてなる。ここで、記録層3は、例えば、SiN等か
らなる誘電体膜と、TeFeCo合金等からなる垂直磁
気記録膜と、SiN等からなる誘電体膜と、Al等から
なる反射膜とが積層されてなる。また、保護層4は、例
えば、記録層3の上に紫外線硬化樹脂がスピンコートさ
れてなる。なお、本発明において、記録層3や保護層4
の構成は任意であり、本例に限定されるものではない。
The magneto-optical disk 1 is formed in a disk shape, and data is recorded using a magneto-optical effect. The magneto-optical disk 1 is made of polymethyl methacrylate (PMMA) or polycarbonate (PC).
A recording layer 3 on which magneto-optical recording is performed and a protective layer 4 for protecting the recording layer 3 are formed on a disk substrate 2 made of the same. Here, the recording layer 3 is formed by laminating, for example, a dielectric film made of SiN or the like, a perpendicular magnetic recording film made of a TeFeCo alloy or the like, a dielectric film made of SiN or the like, and a reflective film made of Al or the like. Become. The protective layer 4 is formed by, for example, spin-coating an ultraviolet curable resin on the recording layer 3. In the present invention, the recording layer 3 and the protective layer 4
Is arbitrary and is not limited to this example.

【0020】この光磁気ディスク1は、記録領域の一部
を拡大した図2に示すように、記録領域の一部が、TO
C(Table Of Contents)情報等がエンボスピット5に
よって予め書き込まれた再生専用の領域B1とされてお
り、その他の領域が、光磁気記録によるデータの書き込
みが可能な領域B2となっている。
In this magneto-optical disk 1, as shown in FIG. 2 where a part of the recording area is enlarged, a part of the recording area is
A read-only area B1 in which C (Table Of Contents) information and the like are written in advance by the emboss pits 5, and the other area is an area B2 in which data can be written by magneto-optical recording.

【0021】なお、エンボスピット5によってTOC情
報等が書き込まれている領域B1は、再生専用のデータ
領域であり、以下の説明では、このデータ領域のことを
再生専用領域B1と称する。また、光磁気記録によるデ
ータの書き込みが可能となっている領域B2のことを、
以下の説明では、書き込み可能領域B2と称する。
The area B1 in which the TOC information and the like are written by the emboss pits 5 is a read-only data area, and in the following description, this data area is referred to as a read-only area B1. Further, an area B2 in which data can be written by magneto-optical recording is referred to as an area B2.
In the following description, it is referred to as a writable area B2.

【0022】この光磁気ディスク1において、再生専用
領域B1に形成されたエンボスピット5は、例えば2−
8変調が施されてなるピットパターンが、シングルスパ
イラル状に形成されている。すなわち、記録トラックに
沿ってシングルスパイラル状に形成されたピット列によ
り、再生専用領域B1にTOC情報等が書き込まれてい
る。
In the magneto-optical disk 1, the emboss pits 5 formed in the read-only area B1 are, for example, 2-
A pit pattern subjected to eight modulations is formed in a single spiral shape. That is, TOC information and the like are written in the read-only area B1 by a pit row formed in a single spiral along the recording track.

【0023】一方、書き込み可能領域B2には、ウォブ
リンググルーブ6とストレートグルーブ7とがダブルス
パイラル状に形成されており、ウォブリンググルーブ6
とストレートグルーブ7との間のランドの部分に、光磁
気記録によるデータの記録が行われる。すなわち、図2
に示すように、ウォブリンググルーブ6とストレートグ
ルーブ7の間であって、ディスク内周側がストレートグ
ルーブ7となっている部分が、情報信号が記録される第
1の記録トラックTrackAとなり、また、ウォブリング
グルーブ6とストレートグルーブ7の間であって、ディ
スク内周側がウォブリンググルーブ6となっている部分
が、情報信号が記録される第2の記録トラックTrackB
となる。
On the other hand, in the writable area B2, the wobbling groove 6 and the straight groove 7 are formed in a double spiral shape.
Data is recorded by magneto-optical recording on a land between the straight groove 7 and the land. That is, FIG.
As shown in the figure, the portion between the wobbling groove 6 and the straight groove 7 and the inner circumferential side of the disk being the straight groove 7 becomes the first recording track TrackA where the information signal is recorded, and the wobbling groove 6 between the straight groove 7 and the wobbling groove 6 on the inner circumferential side of the disk is the second recording track TrackB where the information signal is recorded.
Becomes

【0024】ここで、ウォブリンググルーブ6は、±2
0nmの振幅にて一定の周期で蛇行するように形成され
ている。すなわち、この光磁気ディスク1では、一方の
グルーブ(すなわちウォブリンググルーブ6)を±20
nmの振幅にてウォブリングさせることにより、グルー
ブにアドレス情報を付加している。
Here, the wobbling groove 6 is ± 2.
It is formed so as to meander at a constant cycle with an amplitude of 0 nm. That is, in this magneto-optical disk 1, one of the grooves (that is, the wobbling groove 6) is set to ± 20.
By wobbling with an amplitude of nm, address information is added to the groove.

【0025】また、この光磁気ディスク1において、再
生専用領域B1のトラックピッチTPitchは0.95μm
とされ、同様に、書き込み可能領域B2のトラックピッ
チTPitchは0.95μmとされている。
In this magneto-optical disk 1, the track pitch TPitch of the read-only area B1 is 0.95 μm.
Similarly, the track pitch TPitch of the writable area B2 is set to 0.95 μm.

【0026】ここで、再生専用領域B1のトラックピッ
チTPitchは、隣接するピット列の中心位置の間隔に相当
する。すなわち、この光磁気ディスク1において、隣接
するピット列の中心位置の間隔は、0.95μmとされ
ている。また、書き込み可能領域B2のトラックピッチ
は、ウォブリンググルーブ6とストレートグルーブ7の
中心位置の間隔に相当する。すなわち、この光磁気ディ
スク1において、ウォブリンググルーブ6とストレート
グルーブ7の中心位置の間隔は、0.95μmとされ
る。
Here, the track pitch TPitch of the read-only area B1 corresponds to the interval between the center positions of adjacent pit rows. That is, in the magneto-optical disk 1, the interval between the center positions of the adjacent pit rows is 0.95 μm. The track pitch of the writable area B2 corresponds to the interval between the center positions of the wobbling groove 6 and the straight groove 7. That is, in the magneto-optical disk 1, the interval between the center positions of the wobbling groove 6 and the straight groove 7 is 0.95 μm.

【0027】なお、以下の説明では、隣接するストレー
トグルーブ7の中心位置の間隔のことをトラックピリオ
ドTPeriodと称する。トラックピリオドTPeriodは、トラ
ックピッチTPitchの2倍に相当するものであり、この光
磁気ディスク1においてトラックピリオドTPeriodは、
1.90μmとされている。
In the following description, the interval between the center positions of the adjacent straight grooves 7 is referred to as a track period TPeriod. The track period TPeriod is equivalent to twice the track pitch TPitch. In this magneto-optical disk 1, the track period TPeriod is:
It is 1.90 μm.

【0028】また、この光磁気ディスク1において、再
生専用領域B1と書き込み可能領域B2との間の領域を
遷移領域B3と称する。そして、この光磁気ディスク1
では、再生専用領域B1と書き込み可能領域B2とのデ
ィスク半径方向における間隔、すなわち遷移領域B3の
幅t1を20μm以内とする。このように遷移領域B3
の幅t1を十分に小さくしておくことにより、記録再生
時に、記録再生位置が再生専用領域B1から書き込み可
能領域B2に遷移したり、或いは、記録再生位置が書き
込み可能領域B2から再生専用領域B1に遷移したりし
た場合にも、記録トラックを見失うことなく、連続して
記録再生を安定に行うことが可能となる。
In the magneto-optical disk 1, an area between the read-only area B1 and the writable area B2 is called a transition area B3. And this magneto-optical disk 1
In this case, the interval between the read-only area B1 and the writable area B2 in the disk radial direction, that is, the width t1 of the transition area B3 is set within 20 μm. Thus, the transition region B3
Is sufficiently small, the recording / reproducing position shifts from the read-only area B1 to the writable area B2 at the time of recording / reproducing, or the recording / reproducing position changes from the writable area B2 to the read-only area B1. , It is possible to continuously perform stable recording and reproduction without losing the recording track.

【0029】そして、本発明を適用してなる上記光磁気
ディスク1では、ウォブリンググルーブ6とストレート
グルーブ7とが、それらの幅が異なるように形成されて
いる。すなわち、上記光磁気ディスク1において、ウォ
ブリンググルーブ6の断面形状と、ストレートグルーブ
7の断面形状とは異なっている。そして、このように、
ウォブリンググルーブ6の断面形状と、ストレートグル
ーブ7の断面形状とを異なるようにすることにより、こ
の光磁気ディスク1では、ウォブリンググルーブ6で反
射回折された光から得られるプッシュプル信号のレベル
と、ストレートグルーブ7で反射回折された光から得ら
れるプッシュプル信号のレベルとが異なるようになされ
ている。
In the magneto-optical disk 1 to which the present invention is applied, the wobbling groove 6 and the straight groove 7 are formed to have different widths. That is, in the magneto-optical disk 1, the cross-sectional shape of the wobbling groove 6 and the cross-sectional shape of the straight groove 7 are different. And like this,
By making the cross-sectional shape of the wobbling groove 6 different from the cross-sectional shape of the straight groove 7, in the magneto-optical disk 1, the level of the push-pull signal obtained from the light reflected and diffracted by the wobbling groove 6, The level of the push-pull signal obtained from the light reflected and diffracted by the groove 7 is made different.

【0030】具体的には、この光磁気ディスク1では、
ウォブリンググルーブ6で反射回折された光から得られ
るプッシュプル信号のピーク値と、第2のグルーブで反
射回折された光から得られるプッシュプル信号のピーク
値とのうち、小さい方のピーク値をP1、大きい方のピ
ーク値をP2としたとき、P1/P2が0.83以下と
なるようになされている。
Specifically, in this magneto-optical disk 1,
The smaller of the peak value of the push-pull signal obtained from the light reflected and diffracted by the wobbling groove 6 and the peak value of the push-pull signal obtained from the light reflected and diffracted by the second groove is P1 When the larger peak value is P2, P1 / P2 is 0.83 or less.

【0031】なお、本例では、グルーブとしてウォブリ
ンググルーブ6及びストレートグルーブ7が形成された
光磁気ディスク1を例に挙げたが、本発明に係る記録媒
体は、隣接するグルーブの断面形状が異なるようになさ
れていればよい。すなわち、本発明は、例えば、グルー
ブとしてウォブリンググルーブだけが形成された記録媒
体や、グルーブとしてストレートグルーブだけが形成さ
れた記録媒体等にも適用可能である。
In this embodiment, the magneto-optical disk 1 in which the wobbling groove 6 and the straight groove 7 are formed is taken as an example. However, in the recording medium according to the present invention, the sectional shapes of the adjacent grooves are different. It should just be done. That is, the present invention is applicable to, for example, a recording medium in which only a wobbling groove is formed as a groove, a recording medium in which only a straight groove is formed as a groove, and the like.

【0032】<レーザカッティング装置>以上のような
光磁気ディスク1を製造する際には、当該光磁気ディス
ク1の原盤となる記録媒体製造用原盤の作製にレーザカ
ッティング装置が使用される。以下、記録媒体製造用原
盤の作製に使用されるレーザカッティング装置の一例に
ついて、図3を参照して詳細に説明する。
<Laser Cutting Apparatus> When the above-described magneto-optical disc 1 is manufactured, a laser cutting apparatus is used for producing a master for producing a recording medium, which is the master of the magneto-optical disc 1. Hereinafter, an example of a laser cutting device used for manufacturing a master for manufacturing a recording medium will be described in detail with reference to FIG.

【0033】図3に示したレーザカッティング装置10
は、ガラス基板11の上に塗布されたフォトレジスト1
2を露光して潜像を形成するためのものである。このレ
ーザカッティング装置10でフォトレジスト12に潜像
を形成する際、フォトレジスト12が塗布されたガラス
基板11は、移動光学テーブル上に設けられた回転駆動
装置に取り付けられる。そして、フォトレジスト12を
露光する際、ガラス基板11は、フォトレジスト12の
全面にわたって所望のパターンでの露光がなされるよう
に、図中矢印C1に示すように回転駆動装置によって回
転駆動されるとともに、移動光学テーブルによって平行
移動される。
The laser cutting device 10 shown in FIG.
Is the photoresist 1 applied on the glass substrate 11
Exposure No. 2 to form a latent image. When a latent image is formed on the photoresist 12 by the laser cutting device 10, the glass substrate 11 coated with the photoresist 12 is attached to a rotary driving device provided on a movable optical table. When exposing the photoresist 12, the glass substrate 11 is driven to rotate by a rotation driving device as shown by an arrow C <b> 1 in the drawing so that the entire surface of the photoresist 12 is exposed in a desired pattern. Is translated by the moving optical table.

【0034】このレーザカッティング装置10は、3つ
の露光ビームによってフォトレジスト12を露光するこ
とが可能となっており、エンボスピット5に対応した潜
像と、ウォブリンググルーブ6に対応した潜像と、スト
レートグルーブ7に対応した潜像とを、それぞれの露光
ビームにより形成する。すなわち、このレーザカッティ
ング装置10では、第1の露光ビームによってエンボス
ピット5に対応した潜像を形成し、第2の露光ビームに
よってウォブリンググルーブ6に対応した潜像を形成
し、第3の露光ビームによってストレートグルーブ7に
対応した潜像を形成する。
The laser cutting device 10 is capable of exposing the photoresist 12 with three exposure beams. The latent image corresponding to the embossed pit 5, the latent image corresponding to the wobbling groove 6, and the A latent image corresponding to the groove 7 is formed by each exposure beam. That is, in the laser cutting apparatus 10, a latent image corresponding to the embossed pit 5 is formed by the first exposure beam, a latent image corresponding to the wobbling groove 6 is formed by the second exposure beam, and the third exposure beam is formed. As a result, a latent image corresponding to the straight groove 7 is formed.

【0035】このレーザカッティング装置10は、レー
ザ光を出射する光源13と、光源13から出射されたレ
ーザ光の光強度を調整するための電気光学変調器(EO
M:Electro Optical Modulator)14と、電気光学変
調器14から出射されたレーザ光の光軸上に配された検
光子15と、検光子15を透過してきたレーザ光を反射
光と透過光とに分割する第1のビームスプリッタ16
と、第1のビームスプリッタ16を透過してきたレーザ
光を反射光と透過光とに分割する第2のビームスプリッ
タ17と、第2のビームスプリッタ17を透過してきた
レーザ光を反射光と透過光とに分割する第3のビームス
プリッタ18と、第3のビームスプリッタ18を透過し
てきたレーザ光を検出するフォトディテクタ(PD:Ph
oto Detector)19と、電気光学変調器14に対して信
号電界を印加して当該電気光学変調器14から出射され
るレーザ光強度を調整するオートパワーコントローラ
(APC:Auto Power Controller)20とを備えてい
る。
The laser cutting device 10 includes a light source 13 for emitting laser light and an electro-optic modulator (EO) for adjusting the light intensity of the laser light emitted from the light source 13.
M: Electro Optical Modulator 14, an analyzer 15 arranged on the optical axis of the laser light emitted from the electro-optic modulator 14, and the laser light transmitted through the analyzer 15 into reflected light and transmitted light. First beam splitter 16 for splitting
A second beam splitter 17 that divides the laser light transmitted through the first beam splitter 16 into reflected light and transmitted light, and converts the laser light transmitted through the second beam splitter 17 into reflected light and transmitted light. And a photodetector (PD: Ph) for detecting a laser beam transmitted through the third beam splitter 18.
An auto power controller (APC) 20 for applying a signal electric field to the electro-optic modulator 14 and adjusting the intensity of laser light emitted from the electro-optic modulator 14 is provided. ing.

【0036】上記レーザカッティング装置10におい
て、光源13から出射されたレーザ光は、先ず、オート
パワーコントローラ20から印加される信号電界によっ
て駆動される電気光学変調器14によって所定の光強度
とされた上で検光子15に入射する。ここで、検光子1
5はS偏光だけを透過する検光子であり、この検光子1
5を透過してきたレーザ光はS偏光となる。
In the laser cutting apparatus 10, the laser light emitted from the light source 13 is first given a predetermined light intensity by an electro-optic modulator 14 driven by a signal electric field applied from an auto power controller 20. And enters the analyzer 15. Here, analyzer 1
Reference numeral 5 denotes an analyzer that transmits only S-polarized light.
The laser beam transmitted through 5 becomes S-polarized light.

【0037】なお、光源13には、任意のものが使用可
能であるが、比較的に短波長のレーザ光を出射するもの
が好ましい。具体的には、例えば、波長λが413nm
のレーザ光を出射するKrレーザや、波長λが442n
mのレーザ光を出射するHe−Cdレーザなどが、光源
13として好適である。
Although any light source can be used as the light source 13, a light source which emits a laser beam having a relatively short wavelength is preferable. Specifically, for example, the wavelength λ is 413 nm.
Kr laser that emits laser light of a wavelength of 442n
A He—Cd laser that emits m laser light is suitable as the light source 13.

【0038】そして、検光子15を透過してきたS偏光
のレーザ光は、先ず、第1のビームスプリッタ16によ
って反射光と透過光とに分けられ、更に、第1のビーム
スプリッタ16を透過したレーザ光は、第2のビームス
プリッタ17によって反射光と透過光とに分けられ、更
に、第2のビームスプリッタ17を透過したレーザ光
は、第3のビームスプリッタ18によって反射光と透過
光とに分けられる。
The S-polarized laser light transmitted through the analyzer 15 is first split into reflected light and transmitted light by a first beam splitter 16, and further transmitted through the first beam splitter 16. The light is split into reflected light and transmitted light by the second beam splitter 17, and the laser light transmitted through the second beam splitter 17 is split into reflected light and transmitted light by the third beam splitter 18. Can be

【0039】なお、このレーザカッティング装置10で
は、第1のビームスプリッタ16によって反射されたレ
ーザ光が第1の露光ビームとなり、第2のビームスプリ
ッタ17によって反射されたレーザ光が第2の露光ビー
ムとなり、第3のビームスプリッタ18によって反射さ
れたレーザ光が第3の露光ビームとなる。
In the laser cutting apparatus 10, the laser beam reflected by the first beam splitter 16 becomes the first exposure beam, and the laser beam reflected by the second beam splitter 17 becomes the second exposure beam. And the laser beam reflected by the third beam splitter 18 becomes a third exposure beam.

【0040】一方、第3のビームスプリッタ18を透過
したレーザ光は、フォトディテクタ19によって、その
光強度が検出され、当該光強度に応じた信号がフォトデ
ィテクタ19からオートパワーコントローラ20に送ら
れる。そして、フォトディテクタ19から送られてきた
信号に応じて、オートパワーコントローラ20は、フォ
トディテクタ19によって検出される光強度が所定のレ
ベルにて一定となるように、電気光学変調器14に対し
て印加する信号電界を調整する。これにより、電気光学
変調器14から出射するレーザ光の光強度が一定となる
ように、自動光量制御(APC:Auto Power Control)
が施され、ノイズの少ない安定したレーザ光が得られ
る。
On the other hand, the laser light transmitted through the third beam splitter 18 has its light intensity detected by a photodetector 19, and a signal corresponding to the light intensity is transmitted from the photodetector 19 to an auto power controller 20. Then, in response to the signal sent from the photodetector 19, the auto power controller 20 applies the light to the electro-optic modulator 14 so that the light intensity detected by the photodetector 19 becomes constant at a predetermined level. Adjust the signal electric field. Thereby, automatic light amount control (APC: Auto Power Control) is performed so that the light intensity of the laser light emitted from the electro-optic modulator 14 becomes constant.
Is performed, and a stable laser beam with little noise is obtained.

【0041】また、上記レーザカッティング装置10
は、第1のビームスプリッタ16によって反射されたレ
ーザ光を光強度変調するための第1の変調光学系21
と、第2のビームスプリッタ17によって反射されたレ
ーザ光を光強度変調するための第2の変調光学系22
と、第3のビームスプリッタ18によって反射されたレ
ーザ光を光強度変調するための第3の変調光学系23
と、第1乃至第3の変調光学系21,22,23によっ
て光強度変調が施された各レーザ光を再合成してフォト
レジスト12上に集光するための光学系24とを備えて
いる。
The laser cutting device 10
Is a first modulation optical system 21 for modulating the light intensity of the laser light reflected by the first beam splitter 16.
And a second modulation optical system 22 for modulating the light intensity of the laser light reflected by the second beam splitter 17.
And a third modulation optical system 23 for modulating the light intensity of the laser beam reflected by the third beam splitter 18.
And an optical system 24 for re-combining the laser light subjected to the light intensity modulation by the first to third modulation optical systems 21, 22 and 23 and condensing the laser light on the photoresist 12. .

【0042】そして、第1のビームスプリッタ16によ
って反射されてなる第1の露光ビームは、第1の変調光
学系21に導かれ、第1の変調光学系21によって光強
度変調が施される。同様に、第2のビームスプリッタ1
7によって反射されてなる第2の露光ビームは、第2の
変調光学系22に導かれ、第2の変調光学系22によっ
て光強度変調が施される。同様に、第3のビームスプリ
ッタ18によって反射されてなる第3の露光ビームは、
第3の変調光学系23に導かれ、第3の変調光学系23
によって光強度変調が施される。
Then, the first exposure beam reflected by the first beam splitter 16 is guided to the first modulation optical system 21, where the light intensity is modulated by the first modulation optical system 21. Similarly, the second beam splitter 1
The second exposure beam reflected by 7 is guided to a second modulation optical system 22 and is subjected to light intensity modulation by the second modulation optical system 22. Similarly, the third exposure beam reflected by the third beam splitter 18 is:
The third modulation optical system 23 is guided to the third modulation optical system 23.
Performs light intensity modulation.

【0043】そして、第1の変調光学系21に入射した
第1の露光ビームは、集光レンズ25によって集光され
た上で音響光学変調器(AOM:Acousto Optical Modu
lator)26に入射し、この音響光学変調器26によっ
て、所望する露光パターンに対応するように光強度変調
される。ここで、音響光学変調器26に使用される音響
光学素子としては、例えば、酸化テルル(TeO2)か
らなる音響光学素子が好適である。そして、音響光学変
調器26によって光強度変調された第1の露光ビーム
は、コリメートレンズ27によって平行光とされた上
で、第1の変調光学系21から出射される。
Then, the first exposure beam incident on the first modulation optical system 21 is condensed by a condenser lens 25 and is then subjected to an acousto-optic modulator (AOM).
, and the light intensity is modulated by the acousto-optic modulator 26 so as to correspond to a desired exposure pattern. Here, as the acousto-optic element used for the acousto-optic modulator 26, for example, an acousto-optic element made of tellurium oxide (TeO 2 ) is suitable. Then, the first exposure beam, the light intensity of which has been modulated by the acousto-optic modulator 26, is collimated by the collimator lens 27 and then emitted from the first modulation optical system 21.

【0044】ここで、音響光学変調器26には、当該音
響光学変調器26を駆動するための駆動用ドライバ28
が取り付けられている。そして、フォトレジスト12の
露光時には、所望する露光パターンに応じた信号S1が
駆動用ドライバ28に入力され、当該信号S1に応じて
駆動用ドライバ28によって音響光学変調器26が駆動
され、第1の露光ビームに対して光強度変調が施され
る。
Here, a driving driver 28 for driving the acousto-optic modulator 26 is provided in the acousto-optic modulator 26.
Is attached. At the time of exposing the photoresist 12, a signal S1 corresponding to a desired exposure pattern is input to the driving driver 28, and the acousto-optic modulator 26 is driven by the driving driver 28 in accordance with the signal S1, and the first Light intensity modulation is performed on the exposure beam.

【0045】具体的には、例えば、2−8変調が施され
たピットパターンの潜像をフォトレジスト12に形成す
るような場合には、2−8変調が施されたピットパター
ンに対応した変調信号が駆動用ドライバ28に入力さ
れ、当該変調信号に応じて駆動用ドライバ28によって
音響光学変調器26が駆動される。これにより、2−8
変調が施されたピットパターンに対応するように、第1
の露光ビームに対して光強度変調が施される。
More specifically, for example, when a latent image of a pit pattern subjected to 2-8 modulation is formed on the photoresist 12, the modulation corresponding to the pit pattern subjected to 2-8 modulation is performed. The signal is input to the driving driver 28, and the acousto-optic modulator 26 is driven by the driving driver 28 according to the modulation signal. Thereby, 2-8
In order to correspond to the modulated pit pattern, the first
Is subjected to light intensity modulation.

【0046】また、第2の変調光学系22に入射した第
2の露光ビームは、集光レンズ29によって集光された
上で音響光学変調器30に入射し、この音響光学変調器
30によって、所望する露光パターンに対応するように
光強度変調される。ここで、音響光学変調器30に使用
される音響光学素子としては、例えば、酸化テルル(T
eO2)からなる音響光学素子が好適である。そして、
音響光学変調器30によって光強度変調された第2の露
光ビームは、コリメートレンズ31によって平行光とさ
れた上で、第2の変調光学系22から出射される。
The second exposure beam incident on the second modulation optical system 22 is condensed by a condenser lens 29 and then incident on an acousto-optic modulator 30. The light intensity is modulated so as to correspond to a desired exposure pattern. Here, as an acousto-optic element used for the acousto-optic modulator 30, for example, tellurium oxide (T
An acousto-optic device made of eO 2 ) is preferred. And
The second exposure beam, the light intensity of which has been modulated by the acousto-optic modulator 30, is collimated by the collimator lens 31 and then emitted from the second modulation optical system 22.

【0047】ここで、音響光学変調器30には、当該音
響光学変調器30を駆動するための駆動用ドライバ32
が取り付けられている。そして、フォトレジストの露光
時には、所望する露光パターンに応じた信号S2が駆動
用ドライバ32に入力され、当該信号S2に応じて駆動
用ドライバ32によって音響光学変調器30が駆動さ
れ、第2の露光ビームに対して光強度変調が施される。
Here, a driving driver 32 for driving the acousto-optic modulator 30 is provided in the acousto-optic modulator 30.
Is attached. At the time of exposing the photoresist, a signal S2 corresponding to a desired exposure pattern is input to the driving driver 32, and the acousto-optic modulator 30 is driven by the driving driver 32 according to the signal S2. Light intensity modulation is performed on the beam.

【0048】具体的には、例えば、一定の深さのウォブ
リンググルーブ6に対応したグルーブパターンの潜像を
フォトレジスト12に形成するような場合には、一定レ
ベルのDC信号が駆動用ドライバ32に入力され、当該
DC信号に応じて駆動用ドライバ32によって音響光学
変調器30が駆動される。これにより、所望するグルー
ブパターンに対応するように、第2の露光ビームに対し
て光強度変調が施される。
More specifically, for example, when a latent image having a groove pattern corresponding to the wobbling groove 6 having a constant depth is formed on the photoresist 12, a DC signal having a constant level is transmitted to the driving driver 32. The acousto-optic modulator 30 is driven by the driving driver 32 according to the input DC signal. Thereby, light intensity modulation is performed on the second exposure beam so as to correspond to a desired groove pattern.

【0049】また、第3の変調光学系23に入射した第
3の露光ビームは、集光レンズ33によって集光された
上で音響光学変調器34に入射し、この音響光学変調器
34によって、所望する露光パターンに対応するように
光強度変調される。ここで、音響光学変調器34に使用
される音響光学素子としては、例えば、酸化テルル(T
eO2)からなる音響光学素子が好適である。そして、
音響光学変調器34によって光強度変調された第3の露
光ビームは、コリメートレンズ35によって平行光とさ
れるとともに、λ/2波長板36を透過することにより
偏光方向が90°回転させられた上で、第3の変調光学
系23から出射される。
The third exposure beam incident on the third modulating optical system 23 is condensed by a condensing lens 33 and then incident on an acousto-optic modulator 34. The light intensity is modulated so as to correspond to a desired exposure pattern. Here, as the acousto-optic element used for the acousto-optic modulator 34, for example, tellurium oxide (T
An acousto-optic device made of eO 2 ) is preferred. And
The third exposure beam, the light intensity of which has been modulated by the acousto-optic modulator 34, is collimated by a collimator lens 35 and transmitted through a λ / 2 wavelength plate 36, whereby the polarization direction is rotated by 90 °. Then, the light is emitted from the third modulation optical system 23.

【0050】ここで、音響光学変調器34には、当該音
響光学変調器34を駆動するための駆動用ドライバ37
が取り付けられている。そして、フォトレジスト12の
露光時には、所望する露光パターンに応じた信号S3が
駆動用ドライバ37に入力され、当該信号S3に応じて
駆動用ドライバ37によって音響光学変調器34が駆動
され、第3の露光ビームに対して光強度変調が施され
る。
Here, a driving driver 37 for driving the acousto-optic modulator 34 is provided in the acousto-optic modulator 34.
Is attached. When the photoresist 12 is exposed, a signal S3 corresponding to a desired exposure pattern is input to the driver 37, and the driver 37 drives the acousto-optic modulator 34 according to the signal S3. Light intensity modulation is performed on the exposure beam.

【0051】具体的には、例えば、一定の深さのストレ
ートグルーブ7に対応したグルーブパターンの潜像をフ
ォトレジスト12に形成するような場合には、一定レベ
ルのDC信号が駆動用ドライバ37に入力され、当該D
C信号に応じて駆動用ドライバ37によって音響光学変
調器34が駆動される。これにより、所望するグルーブ
パターンに対応するように、第3の露光ビームに対して
光強度変調が施される。
Specifically, for example, when a latent image having a groove pattern corresponding to the straight groove 7 having a constant depth is formed in the photoresist 12, a DC signal of a constant level is transmitted to the driving driver 37. Input and the D
The acousto-optic modulator 34 is driven by the driving driver 37 according to the C signal. Thereby, light intensity modulation is performed on the third exposure beam so as to correspond to a desired groove pattern.

【0052】以上のようにして、第1の露光ビームは第
1の変調光学系21によって光強度変調が施され、第2
の露光ビームは第2の変調光学系22によって光強度変
調が施され、第3の露光ビームは第3の変調光学系23
によって光強度変調が施される。このとき、第1の変調
光学系21から出射された第1の露光ビーム、及び第2
の変調光学系22から出射された第2の露光ビームは、
S偏光のままであるが、第3の変調光学系23から出射
された第3の露光ビームは、λ/2波長板36を透過す
ることにより偏光方向が90°回転させられているの
で、P偏光となっている。
As described above, the first exposure beam is subjected to light intensity modulation by the first modulation optical system 21, and
Is subjected to light intensity modulation by the second modulation optical system 22, and the third exposure beam is modulated by the third modulation optical system 23.
Performs light intensity modulation. At this time, the first exposure beam emitted from the first modulation optical system 21 and the second exposure beam
The second exposure beam emitted from the modulation optical system 22 of
Although the third exposure beam emitted from the third modulation optical system 23 has been rotated by 90 ° by passing through the λ / 2 wavelength plate 36, the polarization direction is rotated by 90 °. It is polarized.

【0053】そして、第1の変調光学系21から出射さ
れた第1の露光ビームは、ミラー40によって反射さ
れ、移動光学テーブル上に水平且つ平行に導かれる。同
様に、第2の変調光学系22から出射された第2の露光
ビームは、ミラー41によって反射され、移動光学テー
ブル上に水平且つ平行に導かれる。同様に、第3の変調
光学系23から出射された第3の露光ビームは、ミラー
42によって反射され、移動光学テーブル上に水平且つ
平行に導かれる。
Then, the first exposure beam emitted from the first modulation optical system 21 is reflected by the mirror 40 and is guided horizontally and parallel on the moving optical table. Similarly, the second exposure beam emitted from the second modulation optical system 22 is reflected by the mirror 41 and is guided horizontally and parallel on the moving optical table. Similarly, the third exposure beam emitted from the third modulation optical system 23 is reflected by the mirror 42 and is guided horizontally and parallel on the moving optical table.

【0054】そして、第1の変調光学系21から出射さ
れ、移動光学テーブル上に水平且つ平行に導かれた第1
の露光ビームは、ミラー43によって反射されて進行方
向が90°曲げられた上で、ハーフミラー44を介して
偏光ビームスプリッタ45に入射する。また、第2の変
調光学系22から出射され、移動光学テーブル上に水平
且つ平行に導かれた第2の露光ビームは、偏向光学系4
6によって光学偏向が施された上で、ハーフミラー44
によって反射されて進行方向が90°曲げられた上で偏
光ビームスプリッタ45に入射する。また、第3の変調
光学系23から出射され、移動光学テーブル上に水平且
つ平行に導かれた第3の露光ビームは、そのまま偏光ビ
ームスプリッタ45に入射する。
Then, the first light emitted from the first modulation optical system 21 and guided horizontally and in parallel on the movable optical table.
Is reflected by the mirror 43 and its traveling direction is bent by 90 °, and then enters the polarization beam splitter 45 via the half mirror 44. The second exposure beam emitted from the second modulation optical system 22 and guided horizontally and parallel to the moving optical table is transmitted to the deflection optical system 4.
6 after being optically deflected by the half mirror 44
Is reflected by the laser beam and the traveling direction is bent by 90 °, and then enters the polarization beam splitter 45. The third exposure beam emitted from the third modulation optical system 23 and guided horizontally and in parallel on the moving optical table directly enters the polarization beam splitter 45.

【0055】ここで、偏向光学系46は、ウォブリング
グルーブのウォブリングに対応するように、第2の露光
ビームに対して光学偏向を施すためのものである。すな
わち、第2の変調光学系22から出射され偏向光学系4
6に入射した第2の露光ビームは、ウェッジプリズム4
7を介して音響光学偏向器(AOD:Acousto Optical
Deflector)48に入射し、この音響光学偏向器48に
よって、所望する露光パターンに対応するように光学偏
向が施される。ここで、音響光学偏向器48に使用され
る音響光学素子としては、例えば、酸化テルル(TeO
2)からなる音響光学素子が好適である。そして、音響
光学偏向器48によって光学偏向が施された第2の露光
ビームは、ウエッジプリズム49を介して偏向光学系4
6から出射される。
Here, the deflection optical system 46 is for performing optical deflection on the second exposure beam so as to correspond to wobbling of the wobbling groove. That is, the light emitted from the second modulation optical system 22 and the deflection optical system 4
The second exposure beam incident on the wedge prism 4
7 through an acousto-optic deflector (AOD: Acousto Optical
Deflector) 48 and is subjected to optical deflection by the acousto-optic deflector 48 so as to correspond to a desired exposure pattern. Here, as an acousto-optic element used for the acousto-optic deflector 48, for example, tellurium oxide (TeO
The acousto-optic element consisting of 2 ) is preferred. The second exposure beam that has been optically deflected by the acousto-optic deflector 48 passes through the wedge prism 49 to the deflection optical system 4.
6 is emitted.

【0056】なお、ウェッジプリズム47,49は、音
響光学偏向器48の音響光学素子の格子面に対してブラ
ッグ条件を満たすように第2の露光ビームが入射するよ
うにするとともに、音響光学偏向器48によって第2の
露光ビームに対して光学偏向を施したとしてもビーム水
平高さが変わらないようにするためのものである。換言
すれば、ウエッジプリズム47、音響光学偏向器48及
びウエッジプリズム49は、音響光学偏向器48の音響
光学素子の格子面が第2の露光ビームに対してブラッグ
条件を満たし、且つ、偏向光学系46から出射される第
2の露光ビームのビーム水平高さが変わらないように配
置される。
The wedge prisms 47 and 49 allow the second exposure beam to be incident on the lattice plane of the acousto-optic device of the acousto-optic deflector 48 so as to satisfy the Bragg condition. The purpose of 48 is to prevent the beam horizontal height from changing even if the second exposure beam is optically deflected. In other words, the wedge prism 47, the acousto-optic deflector 48, and the wedge prism 49 are configured such that the grating surface of the acousto-optic element of the acousto-optic deflector 48 satisfies the Bragg condition with respect to the second exposure beam, and The second exposure beam emitted from 46 is arranged such that the beam horizontal height does not change.

【0057】ここで、音響光学偏向器48には、当該音
響光学偏向器48を駆動するための駆動用ドライバ50
が取り付けられており、当該駆動用ドライバ50には、
電圧制御発振器(VCO:Voltage Controlled Oscilla
tor)51からの高周波信号が、アドレス情報を含む制
御信号S4によりFM変調され供給される。そして、フ
ォトレジスト12の露光時には、所望する露光パターン
に応じた信号が、電圧制御発振器51から駆動用ドライ
バ50に入力され、当該信号に応じて駆動用ドライバ5
0によって音響光学偏向器48が駆動され、これによ
り、第2の露光ビームに対して光学偏向が施される。
Here, a driving driver 50 for driving the acousto-optic deflector 48 is provided in the acousto-optic deflector 48.
Is attached, and the driving driver 50 includes:
Voltage Controlled Oscilla (VCO)
tor) 51 is FM-modulated by a control signal S4 including address information and supplied. When the photoresist 12 is exposed, a signal corresponding to a desired exposure pattern is input from the voltage controlled oscillator 51 to the driving driver 50, and the driving driver 5
The acousto-optic deflector 48 is driven by 0, whereby the second exposure beam is optically deflected.

【0058】具体的には、例えば、周波数84.672
kHzにてグルーブをウォブリングさせることにより、
グルーブにアドレス情報を付加するような場合には、例
えば中心周波数が224MHzの高周波信号を周波数8
4.672kHzの制御信号にてFM変調した信号を、
電圧制御発振器51から駆動用ドライバ50に供給す
る。そして、この信号に応じて、駆動用ドライバ50に
よって音響光学偏向器48を駆動し、当該音響光学偏向
器48の音響光学素子のブラッグ角を変化させ、これに
より、周波数84.672kHzのウォブリングに対応
するように、第2の露光ビームに対して光学偏向を施
す。
Specifically, for example, a frequency of 84.672
By wobbling the groove at kHz,
In a case where address information is added to a groove, for example, a high frequency signal having a center frequency of 224 MHz
The signal FM-modulated by the control signal of 4.672 kHz is
It is supplied from the voltage controlled oscillator 51 to the driving driver 50. In response to this signal, the driving driver 50 drives the acousto-optic deflector 48 to change the Bragg angle of the acousto-optic element of the acousto-optic deflector 48, thereby supporting wobbling at a frequency of 84.672 kHz. Optical deflection is performed on the second exposure beam.

【0059】そして、このような偏向光学系46によっ
て、ウォブリンググルーブ6のウォブリングに対応する
ように光学偏向が施された第2の露光ビームは、上述し
たように、ハーフミラー44によって反射されて進行方
向が90°曲げられた上で偏光ビームスプリッタ45に
入射する。
The second exposure beam optically deflected by the deflection optical system 46 so as to correspond to the wobbling of the wobbling groove 6 is reflected by the half mirror 44 and proceeds as described above. The light is incident on the polarizing beam splitter 45 after being bent by 90 °.

【0060】ここで、偏光ビームスプリッタ45は、S
偏光を反射し、P偏光を透過するようになされている。
そして、第1の変調光学系21から出射された第1の露
光ビーム、並びに第2の変調光学系22から出射され偏
向光学系46によって光学偏向が施された第2の露光ビ
ームは、S偏光であり、また、第3の変調光学系23か
ら出射された第3の露光ビームはP偏光である。したが
って、第1及び第2の露光ビームは、当該偏光ビームス
プリッタ45によって反射され、また、第3の露光ビー
ムは、当該偏光ビームスプリッタ45を透過する。これ
により、第1の変調光学系21から出射された第1の露
光ビームと、第2の変調光学系22から出射され偏向光
学系46によって光学偏向が施された第2の露光ビーム
と、第3の変調光学系23から出射された第3の露光ビ
ームとは、進行方向が同一方向となるように再合成され
る。
Here, the polarization beam splitter 45
It reflects the polarized light and transmits the P-polarized light.
The first exposure beam emitted from the first modulation optical system 21 and the second exposure beam emitted from the second modulation optical system 22 and optically deflected by the deflection optical system 46 are S-polarized light. In addition, the third exposure beam emitted from the third modulation optical system 23 is P-polarized light. Therefore, the first and second exposure beams are reflected by the polarization beam splitter 45, and the third exposure beam passes through the polarization beam splitter 45. As a result, the first exposure beam emitted from the first modulation optical system 21, the second exposure beam emitted from the second modulation optical system 22 and optically deflected by the deflection optical system 46, The third exposure beam emitted from the third modulation optical system 23 is recombined with the third exposure beam so that the traveling directions are the same.

【0061】そして、進行方向が同一方向となるように
再合成されて偏光ビームスプリッタ45から出射した第
1乃至第3の露光ビームは、拡大レンズ52によって所
定のビーム径とされた上でミラー53によって反射され
て対物レンズ54へと導かれ、当該対物レンズ54によ
ってフォトレジスト12上に集光される。これにより、
フォトレジスト12が露光され、フォトレジスト12に
潜像が形成されることとなる。このとき、フォトレジス
ト12が塗布されているガラス基板11は、上述したよ
うに、フォトレジスト12の全面にわたって所望のパタ
ーンでの露光がなされるように、図中矢印C1に示すよ
うに回転駆動装置によって回転駆動されるとともに、移
動光学テーブルによって平行移動される。この結果、第
1乃至第3の露光ビームの照射軌跡に応じた潜像が、フ
ォトレジスト12の全面にわたって形成されることとな
る。
The first to third exposure beams recombined so that the traveling directions are the same direction and emitted from the polarizing beam splitter 45 are adjusted to a predetermined beam diameter by the magnifying lens 52, and then to the mirror 53. The light is reflected by the objective lens 54 and guided to the objective lens 54, and is focused on the photoresist 12 by the objective lens 54. This allows
The photoresist 12 is exposed, and a latent image is formed on the photoresist 12. At this time, as described above, the glass substrate 11 coated with the photoresist 12 is rotated by a rotary driving device as shown by an arrow C1 in the drawing so that the entire surface of the photoresist 12 is exposed in a desired pattern. , And is translated by a moving optical table. As a result, a latent image corresponding to the irradiation trajectory of the first to third exposure beams is formed over the entire surface of the photoresist 12.

【0062】なお、露光ビームをフォトレジスト12の
上に集光するための対物レンズ54は、より微細なピッ
トパターンやグルーブパターンを形成できるようにする
ために、開口数NAが大きい方が好ましく、具体的に
は、開口数NAが0.9程度の対物レンズが好適であ
る。
The objective lens 54 for condensing the exposure beam on the photoresist 12 preferably has a large numerical aperture NA in order to form a finer pit pattern or groove pattern. Specifically, an objective lens having a numerical aperture NA of about 0.9 is suitable.

【0063】また、このように第1乃至第3の露光ビー
ムをフォトレジスト12に照射する際は、必要に応じ
て、拡大レンズ52によって第1乃至第3の露光ビーム
のビーム径を変化させ、対物レンズ54に対する有効開
口数を調整するようにしてもよい。これにより、フォト
レジスト12の表面に集光される第1乃至第3の露光ビ
ームのスポット径を変化させることができる。
When irradiating the photoresist 12 with the first to third exposure beams as described above, the beam diameters of the first to third exposure beams are changed by the magnifying lens 52 as necessary. The effective numerical aperture for the objective lens 54 may be adjusted. Thereby, the spot diameters of the first to third exposure beams focused on the surface of the photoresist 12 can be changed.

【0064】ところで、偏光ビームスプリッタ45に入
射した第2の露光ビームは、当該偏光ビームスプリッタ
45の反射面にて、第3の露光ビームと合成される。こ
こで、偏光ビームスプリッタ45は、当該偏向ビームス
プリッタの反射面が、当該反射面で合成されて出射され
る光の進行方向に対して適度な反射角をなすように配さ
れる。
The second exposure beam incident on the polarization beam splitter 45 is combined with the third exposure beam on the reflection surface of the polarization beam splitter 45. Here, the polarization beam splitter 45 is arranged such that the reflection surface of the deflection beam splitter forms an appropriate reflection angle with respect to the traveling direction of the light synthesized and emitted by the reflection surface.

【0065】具体的には、偏光ビームスプリッタ54の
反射面の反射角は、第2の露光ビームに対応するスポッ
トと、第3の露光ビームに対応するスポットとの、ガラ
ス基板11の半径方向における間隔が、トラックピッチ
TPitchに対応するように設定しておく。これにより、第
2の露光ビームによりウォブリンググルーブ6に対応す
る部分を露光し、同時に、第3の露光ビームによりスト
レートグルーブ7に対応する部分を露光することが可能
となる。
More specifically, the reflection angle of the reflection surface of the polarizing beam splitter 54 is determined in such a manner that the spot corresponding to the second exposure beam and the spot corresponding to the third exposure beam in the radial direction of the glass substrate 11. The interval is the track pitch
Set to correspond to TPitch. This makes it possible to expose the portion corresponding to the wobbling groove 6 with the second exposure beam, and at the same time, to expose the portion corresponding to the straight groove 7 with the third exposure beam.

【0066】以上のようなレーザカッティング装置10
では、エンボスピット5に対応した潜像を形成するため
の第1の露光ビームに対応した光学系と、ウォブリング
グルーブ6に対応した潜像を形成するための第2の露光
ビームに対応した光学系と、ストレートグルーブ7に対
応した潜像を形成するための第3の露光ビームに対応し
た光学系とを備えているので、このレーザカッティング
装置10だけで、エンボスピット5に対応した潜像と、
ウォブリンググルーブ6に対応した潜像と、ストレート
グルーブ7に対応した潜像とをまとめて形成することが
できる。
The laser cutting apparatus 10 as described above
Then, an optical system corresponding to a first exposure beam for forming a latent image corresponding to the embossed pit 5 and an optical system corresponding to a second exposure beam for forming a latent image corresponding to the wobbling groove 6 are provided. And an optical system corresponding to a third exposure beam for forming a latent image corresponding to the straight groove 7, so that only the laser cutting device 10 can be used to form a latent image corresponding to the embossed pit 5,
A latent image corresponding to the wobbling groove 6 and a latent image corresponding to the straight groove 7 can be collectively formed.

【0067】しかも、このレーザカッティング装置10
では、第2の露光ビームと第3の露光ビームとを合成す
るための偏向ビームスプリッタ45の向きを調整するこ
とにより、第2の露光ビームの照射位置と第3の露光ビ
ームの照射位置とを容易に調整することができる。
Moreover, the laser cutting device 10
Then, the irradiation position of the second exposure beam and the irradiation position of the third exposure beam are adjusted by adjusting the direction of the deflection beam splitter 45 for synthesizing the second exposure beam and the third exposure beam. It can be easily adjusted.

【0068】また、上記レーザカッティング装置10で
は、拡大レンズ52によって、フォトレジスト12の表
面に集光される第1乃至第3の露光ビームのスポット径
を容易に変化させることができるので、エンボスピット
の幅をグルーブの幅に比べて大きくするようなことも、
容易に実現可能である。
In the laser cutting apparatus 10, the spot diameters of the first to third exposure beams focused on the surface of the photoresist 12 can be easily changed by the magnifying lens 52. To make the width of the groove larger than the width of the groove,
It can be easily realized.

【0069】<光磁気ディスクの製造方法>つぎに、図
1及び図2に示した光磁気ディスク1の製造方法につい
て、具体的な一例を挙げて詳細に説明する。
<Method of Manufacturing Magneto-Optical Disk> Next, a method of manufacturing the magneto-optical disk 1 shown in FIGS. 1 and 2 will be described in detail with a specific example.

【0070】光磁気ディスク1を作製する際は、先ず、
原盤工程として、エンボスピット5、ウォブリンググル
ーブ6及びストレートグルーブ7に対応した凹凸パター
ンを有する記録媒体製造用原盤を作製する。
When manufacturing the magneto-optical disk 1, first,
As a master step, a master for manufacturing a recording medium having a concavo-convex pattern corresponding to the embossed pit 5, the wobbling groove 6, and the straight groove 7 is manufactured.

【0071】この原盤工程においては、先ず、表面を研
磨した円盤状のガラス基板11を洗浄し乾燥させ、その
後、このガラス基板11上に感光材料であるフォトレジ
スト12を塗布する。次に、このフォトレジスト12を
上記レーザカッティング装置10によって露光し、エン
ボスピット5、ウォブリンググルーブ6及びストレート
グルーブ7に対応した潜像をフォトレジスト12に形成
する。
In this mastering step, first, a disk-shaped glass substrate 11 whose surface is polished is washed and dried, and then a photoresist 12 as a photosensitive material is applied on the glass substrate 11. Next, the photoresist 12 is exposed by the laser cutting device 10 to form latent images corresponding to the emboss pits 5, the wobbling grooves 6, and the straight grooves 7 on the photoresist 12.

【0072】なお、後述する評価用光磁気ディスクを作
製する際、レーザカッティング装置10の光源13に
は、波長λが413nmのレーザ光を出射するKrレー
ザを使用し、第1乃至第3の露光ビームをフォトレジス
ト12上に集光するための対物レンズ54には、開口数
NAが0.9のものを使用した。また、拡大レンズには
焦点距離が80mmのレンズを使用した。
When a magneto-optical disk for evaluation described later is manufactured, a Kr laser emitting a laser beam having a wavelength λ of 413 nm is used as the light source 13 of the laser cutting device 10, and the first to third exposures are performed. The objective lens 54 for condensing the beam on the photoresist 12 has a numerical aperture NA of 0.9. A lens having a focal length of 80 mm was used as the magnifying lens.

【0073】そして、フォトレジスト12をレーザカッ
ティング装置10によって露光する際は、先ず、第1の
露光ビームによってフォトレジスト12を露光すること
により、エンボスピット5に対応した潜像をフォトレジ
スト12に形成し、その後、第2及び第3の露光ビーム
によってフォトレジスト12を露光することにより、ウ
ォブリンググルーブ6及びストレートグルーブ7に対応
した潜像をフォトレジスト12に形成する。
When the photoresist 12 is exposed by the laser cutting device 10, first, the photoresist 12 is exposed by a first exposure beam to form a latent image corresponding to the embossed pit 5 on the photoresist 12. Then, by exposing the photoresist 12 with the second and third exposure beams, a latent image corresponding to the wobbling groove 6 and the straight groove 7 is formed on the photoresist 12.

【0074】なお、第1の露光ビームによってフォトレ
ジスト12を露光する際は、第2及び第3の露光ビーム
がフォトレジスト12に入射しないように、音響光学変
調器30,34により、第2及び第3の露光ビームを遮
光しておく。逆に、第2及び第3の露光ビームによって
フォトレジスト12を露光する際は、第1の露光ビーム
がフォトレジスト12に入射しないように、音響光学変
調器26により第1の露光ビームを遮光しておく。
When exposing the photoresist 12 with the first exposure beam, the second and third exposure beams are controlled by the acousto-optic modulators 30 and 34 so that the second and third exposure beams do not enter the photoresist 12. The third exposure beam is shielded. Conversely, when exposing the photoresist 12 with the second and third exposure beams, the first exposure beam is shielded by the acousto-optic modulator 26 so that the first exposure beam does not enter the photoresist 12. Keep it.

【0075】第1の露光ビームによってフォトレジスト
12を露光することにより、エンボスピット5に対応し
た潜像をフォトレジスト12に形成する際は、第1の変
調光学系21により第1の露光ビームに対して光強度変
調を施す。具体的には、例えば、2−8変調が施された
ピットパターンに対応した変調信号を駆動用ドライバ2
8に入力し、当該変調信号に基づいて駆動用ドライバ2
8によって音響光学変調器26を駆動し、これにより、
2−8変調が施されたピットパターンに対応するよう
に、第1の露光ビームに対して光強度変調を施す。そし
て、このように光強度変調を施した第1の露光ビーム
を、対物レンズ54によってフォトレジスト12上に集
光することにより、フォトレジスト12を露光し、エン
ボスピット5に対応した潜像をフォトレジスト12に形
成する。
When a latent image corresponding to the embossed pits 5 is formed on the photoresist 12 by exposing the photoresist 12 with the first exposure beam, the first modulation optical system 21 converts the latent image to the first exposure beam. Then, light intensity modulation is performed. Specifically, for example, a modulation signal corresponding to a pit pattern subjected to 2-8 modulation is supplied to the driving driver 2.
8 and the driving driver 2 based on the modulated signal.
8 drives the acousto-optic modulator 26, whereby
Light intensity modulation is performed on the first exposure beam so as to correspond to the pit pattern subjected to the 2-8 modulation. Then, the first exposure beam having been subjected to the light intensity modulation is condensed on the photoresist 12 by the objective lens 54, thereby exposing the photoresist 12 to form a latent image corresponding to the embossed pit 5 into a photo. It is formed on a resist 12.

【0076】なお、このようにフォトレジスト12を露
光して、エンボスピット5に対応した潜像を形成する際
は、フォトレジスト12が塗布形成されているガラス基
板11を、所定の回転速度にて回転駆動させるととも
に、所定の速度にて平行移動させる。
When the photoresist 12 is thus exposed to form a latent image corresponding to the embossed pit 5, the glass substrate 11 on which the photoresist 12 is applied is formed at a predetermined rotation speed. It is driven to rotate and is translated at a predetermined speed.

【0077】具体的には、後述する評価用光磁気ディス
クを作製する際、ガラス基板11の回転速度は、第1の
露光ビームによる光スポットとフォトレジスト12との
相対的な移動速度が線速1.0m/secとなるように
した。そして、当該ガラス基板11を1回転毎に0.9
5μm(すなわちトラックピッチTPitchの分)だけ、移
動光学テーブルによってガラス基板11の半径方向に平
行移動させた。
More specifically, when producing a magneto-optical disk for evaluation, which will be described later, the rotational speed of the glass substrate 11 is set to a linear speed between the light spot by the first exposure beam and the photoresist 12. 1.0 m / sec. Then, the glass substrate 11 is moved 0.9 times per rotation.
The glass substrate 11 was translated in the radial direction by a moving optical table by 5 μm (that is, the track pitch TPitch).

【0078】以上のように第1の露光ビームによってフ
ォトレジスト12を露光することにより、例えば2−8
変調が施されたピットパターンに対応した潜像が、シン
グルスパイラル状にフォトレジスト12に形成される。
By exposing the photoresist 12 with the first exposure beam as described above, for example, 2-8
A latent image corresponding to the modulated pit pattern is formed on the photoresist 12 in a single spiral shape.

【0079】そして、以上のようにしてエンボスピット
5に対応した潜像をフォトレジスト12に形成した後、
第2及び第3の露光ビームによってフォトレジスト12
を露光することにより、ウォブリンググルーブ6及びス
トレートグルーブ7に対応した潜像をフォトレジスト1
2に形成する。
After the latent image corresponding to the emboss pit 5 is formed on the photoresist 12 as described above,
The photoresist 12 is exposed by the second and third exposure beams.
Are exposed to form latent images corresponding to the wobbling groove 6 and the straight groove 7 in the photoresist 1.
2 is formed.

【0080】第2の露光ビームによってフォトレジスト
12を露光することにより、ウォブリンググルーブ6に
対応した潜像をフォトレジスト12に形成する際は、第
2の露光ビームに対して、第2の変調光学系22により
光強度変調を施すとともに、光学偏向系46により光学
偏向を施す。
When a latent image corresponding to the wobbling groove 6 is formed on the photoresist 12 by exposing the photoresist 12 with the second exposure beam, the second modulation beam is applied to the second exposure beam. The optical intensity modulation is performed by the system 22 and the optical deflection is performed by the optical deflection system 46.

【0081】具体的には、先ず、一定レベルのDC信号
を駆動用ドライバ32に入力し、当該DC信号に基づい
て駆動用ドライバ32によって音響光学変調器30を駆
動し、これにより、ウォブリンググルーブ6のパターン
に対応するように、第2の露光ビームに対して光強度変
調を施す。ここで、ウォブリンググルーブ6は一定の深
さの連続した溝であるので、ウォブリンググルーブ6に
対応した潜像を形成している間は、第2の露光ビームの
光強度が一定となるように光強度変調を施す。
More specifically, first, a DC signal of a fixed level is input to the driving driver 32, and the acousto-optic modulator 30 is driven by the driving driver 32 based on the DC signal. The light intensity modulation is performed on the second exposure beam so as to correspond to the pattern (1). Here, since the wobbling groove 6 is a continuous groove having a constant depth, while the latent image corresponding to the wobbling groove 6 is being formed, light is emitted so that the light intensity of the second exposure beam becomes constant. Apply intensity modulation.

【0082】次いで、第2の変調光学系22によって光
強度変調が施された第2の露光ビームに対して、偏向光
学系46により光学偏向を施す。具体的には、電圧制御
発振器51から高周波信号を制御信号にてFM変調して
駆動用ドライバ50に供給し、この信号に基づいて駆動
用ドライバ50によって音響光学偏向器48を駆動し
て、当該音響光学偏向器48の音響光学素子のブラッグ
角を変化させ、これにより、第2の露光ビームに対して
光学偏向を施す。
Next, the second exposure beam subjected to the light intensity modulation by the second modulation optical system 22 is optically deflected by the deflection optical system 46. Specifically, a high frequency signal is FM-modulated from the voltage controlled oscillator 51 by a control signal and supplied to the driving driver 50, and the driving driver 50 drives the acousto-optical deflector 48 based on this signal, and The Bragg angle of the acousto-optic device of the acousto-optic deflector 48 is changed, and thereby the second exposure beam is optically deflected.

【0083】なお、後述する評価用光磁気ディスクを作
製する際は、中心周波数224MHzの高周波信号を周
波数84.672kHzの制御信号にてFM変調して、
電圧制御発振器51から駆動用ドライバ50に供給し
た。そして、この信号に基づいて、駆動用ドライバ50
によって音響光学偏向器48を駆動し、当該音響光学偏
向器48の音響光学素子のブラッグ角を変化させ、これ
により、フォトレジスト12上に集光される第2の露光
ビームの光スポットの位置が、周波数84.672kH
z,振幅±20nmにて、ガラス基板11の半径方向に
振動するように光学偏向を行った。
When a magneto-optical disk for evaluation described later is manufactured, a high frequency signal having a center frequency of 224 MHz is FM-modulated by a control signal having a frequency of 84.672 kHz.
The voltage-controlled oscillator 51 supplied the driving driver 50. Then, based on this signal, the driving driver 50
Drives the acousto-optic deflector 48 to change the Bragg angle of the acousto-optic element of the acousto-optic deflector 48, whereby the position of the light spot of the second exposure beam focused on the photoresist 12 is changed. , Frequency 84.672 kHz
Optical deflection was performed so as to vibrate in the radial direction of the glass substrate 11 at z and amplitude ± 20 nm.

【0084】そして、このように光強度変調及び光学偏
向を施した第2の露光ビームを、対物レンズ54によっ
てフォトレジスト12上に集光することにより、フォト
レジスト12を露光し、ウォブリンググルーブ6に対応
した潜像をフォトレジスト12に形成する。
Then, the second exposure beam having been subjected to the light intensity modulation and the optical deflection is condensed on the photoresist 12 by the objective lens 54, thereby exposing the photoresist 12 to the wobbling groove 6. A corresponding latent image is formed on the photoresist 12.

【0085】また、第2の露光ビームによりフォトレジ
スト12を露光するのと同時に、第3の露光ビームによ
ってフォトレジスト12を露光することにより、ストレ
ートグルーブ7に対応した潜像をフォトレジスト12に
形成する。
The photoresist 12 is exposed by the third exposure beam at the same time as the photoresist 12 is exposed by the second exposure beam, so that a latent image corresponding to the straight groove 7 is formed on the photoresist 12. I do.

【0086】第3の露光ビームによってフォトレジスト
12を露光することにより、ストレートグルーブ7に対
応した潜像をフォトレジスト12に形成する際は、第3
の露光ビームに対して、第3の変調光学系23により光
強度変調を施す。
When a latent image corresponding to the straight groove 7 is formed on the photoresist 12 by exposing the photoresist 12 with the third exposure beam, the third
Is subjected to light intensity modulation by the third modulation optical system 23.

【0087】具体的には、一定レベルのDC信号を駆動
用ドライバ37に入力し、当該DC信号に基づいて駆動
用ドライバ37によって音響光学変調器34を駆動し、
これにより、ストレートグルーブ7のパターンに対応す
るように、第3の露光ビームに対して光強度変調を施
す。ここで、ストレートグルーブ7は一定の深さの連続
した溝であるので、ストレートグルーブ7に対応した潜
像を形成している間は、第3の露光ビームの光強度が一
定となるように光強度変調を施す。
Specifically, a constant level DC signal is input to the driving driver 37, and the acousto-optic modulator 34 is driven by the driving driver 37 based on the DC signal.
Thus, light intensity modulation is performed on the third exposure beam so as to correspond to the pattern of the straight groove 7. Here, since the straight groove 7 is a continuous groove having a constant depth, while the latent image corresponding to the straight groove 7 is being formed, the light is emitted so that the light intensity of the third exposure beam is constant. Apply intensity modulation.

【0088】そして、このように光強度変調を施した第
3の露光ビームを、対物レンズ54によってフォトレジ
スト12上に集光することにより、フォトレジスト12
を露光し、ストレートグルーブ7に対応した潜像をフォ
トレジスト12に形成する。
Then, the third exposure beam subjected to the light intensity modulation as described above is condensed on the photoresist 12 by the objective lens 54, so that the photoresist 12
Is exposed to form a latent image corresponding to the straight groove 7 on the photoresist 12.

【0089】なお、このようにフォトレジスト12を露
光して、ウォブリンググルーブ6及びストレートグルー
ブ7に対応した潜像を形成する際は、フォトレジスト1
2が塗布されているガラス基板11を、所定の回転速度
にて回転駆動させるとともに、所定の速度にて平行移動
させる。
When the photoresist 12 is exposed to form latent images corresponding to the wobbling groove 6 and the straight groove 7, the photoresist 1 is exposed.
The glass substrate 11 coated with 2 is rotationally driven at a predetermined rotation speed and is translated at a predetermined speed.

【0090】具体的には、後述する評価用光磁気ディス
クを作製する際、ガラス基板11の回転速度は、第2及
び第3の露光ビームによる光スポットとフォトレジスト
12との相対的な移動速度が線速1.0m/secとな
るようにした。そして、当該ガラス基板11を1回転毎
に1.90μm(すなわちトラックピリオドTPeriodの
分)だけ、移動光学テーブルによってガラス基板11の
半径方向に平行移動させた。
More specifically, when producing a magneto-optical disk for evaluation, which will be described later, the rotation speed of the glass substrate 11 depends on the relative movement speed between the light spot by the second and third exposure beams and the photoresist 12. Was set to a linear velocity of 1.0 m / sec. Then, the glass substrate 11 was moved in parallel in the radial direction of the glass substrate 11 by a moving optical table by 1.90 μm per rotation (that is, by a track period TPeriod).

【0091】以上のように第2及び第3の露光ビームに
よってフォトレジスト12を露光することにより、ウォ
ブリンググルーブ6に対応した潜像と、ストレートグル
ーブ7に対応した潜像とが、ダブルスパイラル状にフォ
トレジスト12に形成される。
By exposing the photoresist 12 with the second and third exposure beams as described above, the latent image corresponding to the wobbling groove 6 and the latent image corresponding to the straight groove 7 are formed into a double spiral. Formed on photoresist 12.

【0092】なお、このように第2及び第3の露光ビー
ムによってフォトレジスト12を露光する際は、駆動用
ドライバ32,37に入力するDC信号のレベルを調整
して、第2の露光ビームのパワーと第3の露光ビームの
パワーとが異なるようにしておく。これにより、ウォブ
リンググルーブ6に対応した潜像の幅と、ストレートグ
ルーブ7に対応した潜像の幅とが異なるものとなる。
When the photoresist 12 is exposed by the second and third exposure beams as described above, the level of the DC signal input to the driving drivers 32 and 37 is adjusted to adjust the level of the second exposure beam. The power is set to be different from the power of the third exposure beam. Thus, the width of the latent image corresponding to the wobbling groove 6 is different from the width of the latent image corresponding to the straight groove 7.

【0093】また、上記レーザカッティング装置10で
は、第2の露光ビームに対応するスポットと、第3の露
光ビームに対応するスポットとのガラス基板11の半径
方向における間隔が、トラックピッチTPitchに対応する
ように、偏光ビームスプリッタ45の反射面の反射角を
設定しておく。
In the laser cutting apparatus 10, the distance between the spot corresponding to the second exposure beam and the spot corresponding to the third exposure beam in the radial direction of the glass substrate 11 corresponds to the track pitch TPitch. As described above, the reflection angle of the reflection surface of the polarization beam splitter 45 is set in advance.

【0094】このように偏光ビームスプリッタ45の反
射面の反射角を設定しておくことにより、第2の露光ブ
ームによってウォブリンググルーブ6に対応した潜像が
形成されるとともに、当該ウォブリンググルーブ6に隣
接したストレートグルーブ7に対応した潜像が第3の露
光ビームによって形成されることとなる。このことは、
換言すれば、ウォブリンググルーブ6とストレートグル
ーブ7との相対的な位置決めは、偏向ビームスプリッタ
45の向きを調整することにより実現できるということ
でもある。
By setting the reflection angle of the reflection surface of the polarization beam splitter 45 in this way, a latent image corresponding to the wobbling groove 6 is formed by the second exposure boom, and the latent image adjacent to the wobbling groove 6 is formed. A latent image corresponding to the straight groove 7 thus formed is formed by the third exposure beam. This means
In other words, the relative positioning between the wobbling groove 6 and the straight groove 7 can be realized by adjusting the direction of the deflection beam splitter 45.

【0095】そして、以上のようにしてフォトレジスト
12に潜像を形成した後、フォトレジスト12が塗布さ
れている面が上面となるように、ガラス基板11を現像
機のターンテーブル上に載置する。そして、当該ターン
テーブルを回転させることによりガラス基板11を回転
させながら、フォトレジスト12上に現像液を滴下して
現像処理を施して、ガラス基板11上にエンボスピット
5、ウォブリンググルーブ6及びストレートグルーブ7
に対応した凹凸パターンを形成する。
After the latent image is formed on the photoresist 12 as described above, the glass substrate 11 is placed on a turntable of a developing machine such that the surface on which the photoresist 12 is coated is the upper surface. I do. Then, while rotating the glass substrate 11 by rotating the turntable, a developing solution is dropped on the photoresist 12 to perform a developing process, and the embossed pits 5, the wobbling groove 6, and the straight groove are formed on the glass substrate 11. 7
A concavo-convex pattern corresponding to is formed.

【0096】次に、上記凹凸パターン上に無電界メッキ
法によりNi等からなる導電化膜を形成し、その後、導
電化膜が形成されたガラス基板11を電鋳装置に取り付
け、電気メッキ法により導電化膜上にNi等からなるメ
ッキ層を、300±5μm程度の厚さとなるように形成
する。その後、このメッキ層を剥離し、剥離したメッキ
をアセトン等を用いて洗浄し、凹凸パターンが転写され
た面に残存しているフォトレジスト12を除去する。
Next, a conductive film made of Ni or the like is formed on the concave / convex pattern by electroless plating, and then the glass substrate 11 on which the conductive film is formed is attached to an electroforming apparatus, and is then subjected to electroplating. A plating layer made of Ni or the like is formed on the conductive film so as to have a thickness of about 300 ± 5 μm. Thereafter, the plating layer is peeled off, and the peeled plating is washed with acetone or the like to remove the photoresist 12 remaining on the surface to which the uneven pattern has been transferred.

【0097】以上の工程により、ガラス基板11上に形
成されていた凹凸パターンが転写されたメッキからなる
記録媒体製造用原盤、すなわち、エンボスピット5、ウ
ォブリンググルーブ6及びストレートグルーブ7に対応
した凹凸パターンが形成された記録媒体製造用原盤が完
成する。
According to the above steps, a master for producing a recording medium made of plating on which the concavo-convex pattern formed on the glass substrate 11 has been transferred, that is, the concavo-convex pattern corresponding to the embossed pits 5, the wobbling grooves 6, and the straight grooves 7. The master for manufacturing a recording medium on which is formed is completed.

【0098】なお、この記録媒体製造用原盤は、本発明
が適用されてなる記録媒体製造用原盤である。すなわ
ち、この記録媒体製造用原盤は、記録トラックに沿って
ウォブリンググルーブ6及びストレートグルーブ7が形
成されてなる光磁気ディスク1を製造する際に使用され
る記録媒体製造用原盤であって、ウォブリンググルーブ
6に対応した凹凸パターンである第1のグルーブパター
ンと、ストレートグルーブ7に対応した凹凸パターンで
ある第2のグルーブパターンとがダブルスパイラル状に
形成されてなる。そして、第1のグルーブパターンと第
2のグルーブパターンとは、それらの幅が互いに異なる
ように形成されている。
The recording medium producing master is a recording medium producing master to which the present invention is applied. That is, this master for manufacturing a recording medium is a master for manufacturing a recording medium used when manufacturing the magneto-optical disk 1 in which the wobbling groove 6 and the straight groove 7 are formed along the recording track. A first groove pattern which is an uneven pattern corresponding to 6 and a second groove pattern which is an uneven pattern corresponding to the straight groove 7 are formed in a double spiral shape. The first groove pattern and the second groove pattern are formed so that their widths are different from each other.

【0099】次に、転写工程として、フォトポリマー法
(いわゆる2P法)を用いて、上記記録媒体製造用原盤
の表面形状が転写されてなるディスク基板を作製する。
Next, as a transfer step, a disk substrate on which the surface shape of the above-mentioned master for producing a recording medium is transferred is manufactured by using a photopolymer method (so-called 2P method).

【0100】具体的には、先ず、記録媒体製造用原盤の
凹凸パターンが形成された面上にフォトポリマーを平滑
に塗布してフォトポリマー層を形成し、次に、当該フォ
トポリマー層に泡やゴミが入らないようにしながら、フ
ォトポリマー層上にベースプレートを密着させる。ここ
で、ベースプレートには、例えば、1.2mm厚のポリ
メチルメタクリレート(屈折率1.49)からなるベー
スプレートを使用する。
More specifically, first, a photopolymer is applied smoothly on the surface of the master for manufacturing a recording medium on which the concavo-convex pattern has been formed to form a photopolymer layer. The base plate is brought into close contact with the photopolymer layer while preventing dust from entering. Here, as the base plate, for example, a base plate made of polymethyl methacrylate (refractive index: 1.49) having a thickness of 1.2 mm is used.

【0101】その後、紫外線を照射してフォトポリマー
を硬化させ、その後、記録媒体製造用原盤を剥離するこ
とにより、記録媒体製造用原盤の表面形状が転写されて
なるディスク基板2を作製する。
Thereafter, the photopolymer is cured by irradiating ultraviolet rays, and then, the master for recording medium production is peeled off, thereby producing a disk substrate 2 on which the surface shape of the master for recording medium production is transferred.

【0102】なお、ここでは、記録媒体製造用原盤に形
成された凹凸パターンがより正確にディスク基板2に転
写されるように、2P法を用いてディスク基板2を作製
する例を挙げたが、ディスク基板2を量産するような場
合には、ポリメチルメタクリレートやポリカーボネート
等の透明樹脂を用いて射出成形によってディスク基板2
を作製するようにしても良いことは言うまでもない。
Here, an example has been described in which the disk substrate 2 is manufactured by using the 2P method so that the concave and convex pattern formed on the master for manufacturing a recording medium is more accurately transferred to the disk substrate 2. When the disk substrate 2 is mass-produced, the disk substrate 2 is formed by injection molding using a transparent resin such as polymethyl methacrylate or polycarbonate.
Needless to say, it may be possible to produce

【0103】次に、成膜工程として、記録媒体製造用原
盤の表面形状が転写されてなるディスク基板2上に記録
層3及び保護層4を形成する。具体的には、例えば、先
ず、ディスク基板2の凹凸パターンが形成された面上
に、SiN等からなる第1の誘電体膜と、TeFeCo
合金等からなる垂直磁気記録膜と、SiN等からなる第
2の誘電体膜とをスパッタリングによって順次成膜し、
更に、第2の誘電体膜上にAl等からなる光反射膜を蒸
着によって成膜することにより、第1の誘電体膜、垂直
磁気記録膜、第2の誘電体膜及び光反射膜からなる記録
層3を形成する。その後、上記記録層3上に紫外線硬化
樹脂をスピンコート法により塗布し、当該紫外線硬化樹
脂に対して紫外線を照射し硬化させることにより、保護
層4を形成する。
Next, as a film forming step, the recording layer 3 and the protective layer 4 are formed on the disk substrate 2 on which the surface shape of the recording medium manufacturing master has been transferred. Specifically, for example, first, a first dielectric film made of SiN or the like and a TeFeCo
A perpendicular magnetic recording film made of an alloy or the like and a second dielectric film made of SiN or the like are sequentially formed by sputtering,
Further, by forming a light reflecting film made of Al or the like on the second dielectric film by vapor deposition, the light reflecting film comprises a first dielectric film, a perpendicular magnetic recording film, a second dielectric film, and a light reflecting film. The recording layer 3 is formed. Thereafter, an ultraviolet curable resin is applied on the recording layer 3 by a spin coating method, and the ultraviolet curable resin is irradiated with ultraviolet light to be cured, thereby forming the protective layer 4.

【0104】以上の工程により、光磁気ディスク1が完
成する。
Through the above steps, the magneto-optical disk 1 is completed.

【0105】<光磁気ディスクの評価>つぎに、上述の
ような製造方法にて評価用光磁気ディスクを複数作製
し、それらの評価を行った結果について説明する。
<Evaluation of Magneto-Optical Disk> Next, a plurality of evaluation magneto-optical disks will be manufactured by the above-described manufacturing method, and the results of the evaluation will be described.

【0106】評価用光磁気ディスクの評価を行うにあた
って、まず、ウォブリンググルーブ6に対応した潜像を
形成するための第2の露光ビームのパワーを、0.5m
Wを中心として変化させて、複数の記録媒体製造用原盤
を作製した。ここで、ストレートグルーブ7に対応した
潜像を形成するための第3の露光ビームのパワーは、
0.5mWで一定とした。
In evaluating the magneto-optical disk for evaluation, first, the power of the second exposure beam for forming a latent image corresponding to the wobbling groove 6 is set to 0.5 m.
A plurality of masters for producing a recording medium were produced by changing the value of W as a center. Here, the power of the third exposure beam for forming a latent image corresponding to the straight groove 7 is:
It was constant at 0.5 mW.

【0107】そして、それらの記録媒体製造用原盤に形
成されたウォブリンググルーブ6に対応した凹凸パター
ンの幅を、走査型電子顕微鏡(SEM:Scanning Elect
ronMicroscope)により測定した。第2の露光ビームの
パワーとウォブリンググルーブ6に対応した凹凸パター
ンの幅との関係を測定した結果を表1に示す。
The width of the concavo-convex pattern corresponding to the wobbling groove 6 formed on the recording medium manufacturing master is determined by scanning electron microscope (SEM: Scanning Elect).
ronMicroscope). Table 1 shows the result of measurement of the relationship between the power of the second exposure beam and the width of the concavo-convex pattern corresponding to the wobbling groove 6.

【0108】[0108]

【表1】 [Table 1]

【0109】表1から、第2の露光ビームのパワーを変
化させることにより、ウォブリンググルーブ6に対応し
た凹凸パターンの幅が変化することが分かる。このこと
は換言すれば、第2の露光ビームのパワーを変化させる
ことにより、光磁気ディスク1のウォブリンググルーブ
6の幅を変化させることができるということでもある。
From Table 1, it can be seen that the width of the concavo-convex pattern corresponding to the wobbling groove 6 changes by changing the power of the second exposure beam. This means that the width of the wobbling groove 6 of the magneto-optical disk 1 can be changed by changing the power of the second exposure beam.

【0110】つぎに、以上のような記録媒体製造用原盤
を用いて2P法により評価用光磁気ディスクを作製し、
それらの評価用光磁気ディスクについて、プッシュプル
信号の測定を行った。ここで、プッシュプル信号の測定
には、レーザ光の波長λが650nm、対物レンズの開
口数NAが0.52の光ピックアップを用いた。
Next, a magneto-optical disk for evaluation was produced by the 2P method using the above-mentioned master for producing a recording medium.
The push-pull signal was measured for those evaluation magneto-optical disks. Here, for the measurement of the push-pull signal, an optical pickup having a wavelength λ of the laser beam of 650 nm and a numerical aperture NA of the objective lens of 0.52 was used.

【0111】そして、各評価用光磁気ディスクについ
て、ウォブリンググルーブ6で反射回折された光から得
られるプッシュプル信号と、ストレートグルーブ7で反
射回折された光から得られるプッシュプル信号とを測定
した。測定結果を図4に示す。
For each evaluation magneto-optical disk, a push-pull signal obtained from the light reflected and diffracted by the wobbling groove 6 and a push-pull signal obtained from the light reflected and diffracted by the straight groove 7 were measured. FIG. 4 shows the measurement results.

【0112】なお、図4において、縦軸は、プッシュプ
ル信号の変動量を示している。具体的には、この縦軸
は、ウォブリンググルーブ6で反射回折された光から得
られるプッシュプル信号のピーク値と、ストレートグル
ーブ7で反射回折された光から得られるプッシュプル信
号のピーク値とのうち、小さい方のピーク値をP1、大
きい方のピーク値をP2としたときの、P1/P2の値
を示している。また、横軸は、ウォブリンググルーブ6
に対応した潜像を形成するための第2の露光ビームのパ
ワーを、0.5mWを100%として示している。
In FIG. 4, the vertical axis indicates the variation of the push-pull signal. Specifically, the vertical axis represents the peak value of the push-pull signal obtained from the light reflected and diffracted by the wobbling groove 6 and the peak value of the push-pull signal obtained from the light reflected and diffracted by the straight groove 7. The value of P1 / P2 is shown when the smaller peak value is P1 and the larger peak value is P2. The horizontal axis is the wobbling groove 6
The power of the second exposure beam for forming a latent image corresponding to.

【0113】図4に示した結果から、第2の露光ビーム
のパワーを変えることにより、P1/P2の値が変化す
ることが分かる。ここで、第2の露光ビームのパワーを
変えるということは、表1に示した結果からも分かるよ
うに、ウォブリンググルーブ6の幅を変えるということ
である。これらのことから、ウォブリンググルーブ6の
幅を変えることにより、P1/P2の値が変化すること
が分かる。
From the results shown in FIG. 4, it is found that the value of P1 / P2 changes by changing the power of the second exposure beam. Here, changing the power of the second exposure beam means changing the width of the wobbling groove 6, as can be seen from the results shown in Table 1. From these facts, it can be seen that changing the width of the wobbling groove 6 changes the value of P1 / P2.

【0114】そして、P1/P2の値が異なる各評価用
光磁気ディスクについて、プッシュプル信号のレベルを
検出することにより、ウォブリンググルーブ6とストレ
ートグルーブ7の区別を行い、これにより、ディスク内
周側がストレートグルーブ7となっている第1の記録ト
ラックTrackAと、ディスク内周側がウォブリンググル
ーブ6となっている第2の記録トラックTrackBとの判
別を行った。
Then, the wobbling groove 6 and the straight groove 7 are distinguished by detecting the level of the push-pull signal for each evaluation magneto-optical disk having a different value of P1 / P2. The discrimination was made between the first recording track TrackA having the straight groove 7 and the second recording track TrackB having the wobbling groove 6 on the inner circumferential side of the disk.

【0115】その結果、P1/P2の値が0.83以下
の各評価用光磁気ディスクでは、プッシュプル信号のレ
ベルを検出することにより、第1の記録トラックTrack
Aと第2の記録トラックTrackBとの判別を行うことが
できた。このことから、P1/P2の値が0.83以下
となるようにすれば、プッシュプル信号の変動から、隣
接する記録トラックTrackA,TrackBを区別することが
可能であることが分かった。
As a result, in each evaluation magneto-optical disk in which the value of P1 / P2 is 0.83 or less, the level of the push-pull signal is detected so that the first recording track Track is detected.
A could be distinguished from the second recording track TrackB. From this, it was found that if the value of P1 / P2 is set to 0.83 or less, it is possible to distinguish the adjacent recording tracks TrackA and TrackB from the fluctuation of the push-pull signal.

【0116】すなわち、P1/P2の値が0.83以下
となるように、ウォブリンググルーブ6の幅とストレー
トグルーブ7の幅とを異なるものとすることにより、従
来の光磁気ディスクでは隣接する記録トラックを区別す
ることができない程度にまで狭トラック化を図ったとし
ても、プッシュプル信号の変動から、隣接する記録トラ
ックTrackA,TrackBを判別することが可能となる。
That is, by making the width of the wobbling groove 6 and the width of the straight groove 7 different so that the value of P1 / P2 is 0.83 or less, in the conventional magneto-optical disk, adjacent recording tracks are formed. Even if the track is narrowed to such an extent that it cannot be distinguished, the adjacent recording tracks TrackA and TrackB can be determined from the fluctuation of the push-pull signal.

【0117】ただし、P1/P2の値が小さくなると言
うことは、一方のグルーブによって反射回折された光か
ら得られるプッシュプル信号のレベルが小さくなると言
うことでもあるので、P1/P2の値があまりに小さく
なってしまうと、トラッキングサーボが行えなくなって
しまう恐れがある。
However, the fact that the value of P1 / P2 is small means that the level of the push-pull signal obtained from the light reflected and diffracted by one groove becomes small, so that the value of P1 / P2 is too large. If the size is reduced, the tracking servo may not be performed.

【0118】しかし、第2の露光ビームのパワーを90
%〜110%の範囲で変化させて作製した各評価用光磁
気ディスクでは、いずれも正常なトラッキングサーボが
可能であった。そして、これらの各評価用光磁気ディス
クのうち、最もP1/P2の値が小さかった評価用光磁
気ディスクにおいて、当該P1/P2の値は0.4であ
った。このことから、P1/P2の値が、少なくとも
0.4以上であれば、正常にトラッキングサーボを行う
ことが可能であると言える。
However, if the power of the second exposure beam is 90
In each of the evaluation magneto-optical disks manufactured by changing the values in the range of% to 110%, normal tracking servo was possible. Then, among the evaluation magneto-optical disks, among the evaluation magneto-optical disks having the smallest value of P1 / P2, the value of P1 / P2 was 0.4. From this, it can be said that if the value of P1 / P2 is at least 0.4 or more, tracking servo can be performed normally.

【0119】以上のことから、P1/P2の値が0.4
〜0.83の間となるように、ウォブリンググルーブ6
及びストレートグルーブ7の形状を設定すれば、隣接す
る記録トラックTrackA,TrackBの判別と、安定なトラ
ッキングサーボとの両方を実現することが可能であるこ
とが分かった。
As described above, the value of P1 / P2 is 0.4
Wobbling groove 6 so that it is between
Also, it has been found that if the shape of the straight groove 7 is set, it is possible to realize both the determination of the adjacent recording tracks TrackA and TrackB and the stable tracking servo.

【0120】なお、特開平6−309672号公報に、
隣接する2つのグルーブのうち、一方のグルーブによ
り、2つの記録トラックに対してトラッキングサーボを
行う方法が開示されている。この方法を用いた場合、も
う一方のグルーブによるトラッキングサーボを行う必要
はない。したがって、この方法を用いた場合には、P1
/P2の値が0.4未満であっても、安定なトラッキン
グサーボを実現することが可能である。したがって、P
1/P2の値は、必ずしも0.4以上にしなければなら
ない訳ではない。
Incidentally, Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-309672 discloses that
There is disclosed a method of performing tracking servo on two recording tracks by using one of two adjacent grooves. When this method is used, there is no need to perform tracking servo using the other groove. Therefore, when this method is used, P1
Even if the value of / P2 is less than 0.4, stable tracking servo can be realized. Therefore, P
The value of 1 / P2 does not necessarily have to be 0.4 or more.

【0121】ところで、P1/P2の値を小さくするに
は、上述の実験結果からも分かるように、ウォブリング
グルーブ6及びストレートグルーブ7のいずれか一方の
幅を狭くすればよい。ウォブリンググルーブ6及びスト
レートグルーブ7のいずれか一方の幅を狭くすると、結
果的にランドの部分の幅が広くなり、記録トラックTrac
kA,TrackBの幅が広くなる。そして、記録トラックTr
ackA,TrackBの幅が広くなれば、記録トラックTrack
A,TrackBから検出される再生信号のC/Nが向上す
る。すなわち、P1/P2の値が小さくなるように、ウ
ォブリンググルーブ6及びストレートグルーブ7のいず
れか一方の幅を狭くするということには、再生信号の特
性が向上するという利点もある。
By the way, in order to reduce the value of P1 / P2, as can be seen from the above-described experimental results, the width of one of the wobbling groove 6 and the straight groove 7 may be reduced. If the width of one of the wobbling groove 6 and the straight groove 7 is reduced, the width of the land becomes large as a result, and the recording track Trac is reduced.
The width of kA and TrackB becomes wider. And the recording track Tr
If the width of ackA and TrackB becomes wider, the recording track Track
The C / N of the reproduction signal detected from A and TrackB is improved. That is, reducing the width of either the wobbling groove 6 or the straight groove 7 so as to reduce the value of P1 / P2 has the advantage of improving the characteristics of the reproduced signal.

【0122】なお、本発明は、記録トラックに沿ってグ
ルーブが形成されてなる記録媒体、並びにその製造に使
用される記録媒体製造用原盤に対して広く適用可能であ
り、本発明の対象となる記録媒体は、例えば、再生専用
の記録媒体、繰り返しデータの書き換えが可能な記録媒
体、或いはデータの追記は可能だか消去はできないよう
な記録媒体のいずれでもよい。
The present invention can be widely applied to a recording medium having grooves formed along recording tracks, and a recording medium manufacturing master used for manufacturing the recording medium, and is an object of the present invention. The recording medium may be, for example, a read-only recording medium, a recording medium capable of repeatedly rewriting data, or a recording medium in which data can be additionally written or cannot be erased.

【0123】また、データの記録方法も特に限定される
ものではなく、本発明の対象となる記録媒体は、例え
ば、予めエンボスピット等によりデータが書き込まれて
いる再生専用の光記録媒体、磁気光学効果を利用してデ
ータの記録を行う光磁気記録媒体、或いは記録層の相変
化を利用してデータの記録を行う相変化型記録媒体のい
ずれでもよい。
The method of recording data is not particularly limited. For example, a recording medium to which the present invention is applied is a read-only optical recording medium in which data is written in advance by emboss pits or the like, a magneto-optical recording medium, or the like. Either a magneto-optical recording medium for recording data using the effect or a phase change recording medium for recording data using the phase change of the recording layer may be used.

【0124】また、本発明は、記録領域の少なくとも一
部にグルーブが形成されている記録媒体、並びにその製
造に使用される記録媒体製造用原盤に対して広く適用可
能である。すなわち、例えば、記録領域全体にグルーブ
が形成されていてもよいし、或いは、グルーブが形成さ
れることなくエンボスピットによってデータが記録され
ているような領域が記録領域内に存在していてもよい。
The present invention can be widely applied to a recording medium having a groove formed in at least a part of a recording area, and a recording medium manufacturing master used for manufacturing the recording medium. That is, for example, a groove may be formed in the entire recording area, or an area in which data is recorded by embossed pits without forming a groove may exist in the recording area. .

【0125】[0125]

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、トラックピッチを非常に狭くしても、隣接す
る記録トラックを区別することが可能で、しかも安定に
トラッキングサーボを行うことが可能な記録媒体、並び
にそのような記録媒体を製造することが可能な記録媒体
製造用原盤を提供することができる。したがって、本発
明によれば、狭トラック化を更に進めて、記録媒体の更
なる高記録密度化を図ることができる。
As is apparent from the above description, according to the present invention, even if the track pitch is extremely narrow, it is possible to distinguish adjacent recording tracks and to perform tracking servo stably. It is possible to provide a recording medium capable of performing the recording, and a recording medium production master capable of producing such a recording medium. Therefore, according to the present invention, it is possible to further narrow the track and achieve a higher recording density of the recording medium.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明を適用した光磁気ディスクの一例につい
て、その要部を拡大して示す断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing an enlarged main part of an example of a magneto-optical disk to which the present invention is applied.

【図2】本発明を適用した光磁気ディスクの記録領域の
一部を拡大して示す図である。
FIG. 2 is an enlarged view showing a part of a recording area of a magneto-optical disk to which the present invention is applied.

【図3】本発明に係る記録媒体及び記録媒体製造用原盤
を作製する際に使用されるレーザカッティング装置の一
例について、その光学系の概要を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing an outline of an optical system of an example of a laser cutting apparatus used when producing a recording medium and a master for producing a recording medium according to the present invention.

【図4】第2の露光ビームのパワーとプッシュプル信号
の変動量との関係を示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing the relationship between the power of a second exposure beam and the amount of fluctuation of a push-pull signal.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 光磁気ディスク、 2 ディスク基板、 3 記録
層、 4 保護層、5 エンボスピット、 6 ウォブ
リンググルーブ、 7 ストレートグルーブ、 21
第1の変調光学系、 22 第2の変調光学系、 23
第3の変調光学系、 46 偏向光学系
Reference Signs List 1 magneto-optical disk, 2 disk substrate, 3 recording layer, 4 protective layer, 5 embossed pit, 6 wobbling groove, 7 straight groove, 21
First modulation optical system, 22 second modulation optical system, 23
Third modulation optical system, 46 deflection optical system

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 記録トラックに沿ってグルーブが形成さ
れてなる記録媒体であって、 上記グルーブとして、第1のグルーブと第2のグルーブ
とが2重螺旋を描くように形成されてなり、 上記第1のグルーブの断面形状と上記第2のグルーブの
断面形状とが異なり、 上記第1のグルーブで反射回折された光から得られるプ
ッシュプル信号のレベルと、上記第2のグルーブで反射
回折された光から得られるプッシュプル信号のレベルと
が異なることを特徴とする記録媒体。
1. A recording medium in which a groove is formed along a recording track, wherein the first groove and the second groove are formed so as to draw a double spiral. The cross-sectional shape of the first groove is different from the cross-sectional shape of the second groove. The level of the push-pull signal obtained from the light reflected and diffracted by the first groove, and the level of the push-pull signal reflected and diffracted by the second groove A recording medium characterized in that the level of the push-pull signal obtained from the reflected light is different.
【請求項2】 上記第1のグルーブの幅と、上記第2の
グルーブの幅とが異なることを特徴とする請求項1記載
の記録媒体。
2. The recording medium according to claim 1, wherein a width of said first groove is different from a width of said second groove.
【請求項3】 上記第1のグルーブは、少なくとも一部
が蛇行するように形成されたウォブリンググルーブであ
り、 上記第2のグルーブは、蛇行することなく形成されたス
トレートグルーブであることを特徴とする請求項1記載
の記録媒体。
3. The first groove is a wobbling groove formed at least partially so as to meander, and the second groove is a straight groove formed without meandering. The recording medium according to claim 1, wherein
【請求項4】 上記第1のグルーブで反射回折された光
から得られるプッシュプル信号のピーク値と、上記第2
のグルーブで反射回折された光から得られるプッシュプ
ル信号のピーク値とのうち、小さい方のピーク値をP
1、大きい方のピーク値をP2としたとき、P1/P2
が、0.83以下であることを特徴とする請求項1記載
の記録媒体。
4. A peak value of a push-pull signal obtained from light reflected and diffracted by the first groove, and
The smaller of the peak values of the push-pull signal obtained from the light reflected and diffracted by the groove
1. When the larger peak value is P2, P1 / P2
2. The recording medium according to claim 1, wherein is less than or equal to 0.83.
【請求項5】 記録トラックに沿ってグルーブが形成さ
れてなる記録媒体を製造する際に使用される記録媒体製
造用原盤であって、 上記グルーブに対応した凹凸パターンとして、第1のグ
ルーブパターンと第2のグルーブパターンとが2重螺旋
を描くように形成されてなり、 上記第1のグルーブパターンの幅と上記第2のグルーブ
パターンの幅とが異なることを特徴とする記録媒体製造
用原盤。
5. A recording medium manufacturing master used when manufacturing a recording medium in which a groove is formed along a recording track, wherein a concave and convex pattern corresponding to the groove includes a first groove pattern and a concave and convex pattern. A master for producing a recording medium, wherein a second groove pattern is formed so as to draw a double spiral, and a width of the first groove pattern is different from a width of the second groove pattern.
【請求項6】 上記第1のグルーブパターンは、少なく
とも一部が蛇行するように形成されるウォブリンググル
ーブに対応した凹凸パターンであり、 上記第2のグルーブパターンは、蛇行することなく形成
されるストレートグルーブに対応した凹凸パターンであ
ることを特徴とする請求項5記載の記録媒体製造用原
盤。
6. The first groove pattern is a concavo-convex pattern corresponding to a wobbling groove formed at least partially so as to meander, and the second groove pattern is a straight pattern formed without meandering. 6. The master for producing a recording medium according to claim 5, wherein the master has an uneven pattern corresponding to the groove.
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