JPH11286798A - Sealing agent - Google Patents
Sealing agentInfo
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- JPH11286798A JPH11286798A JP6372398A JP6372398A JPH11286798A JP H11286798 A JPH11286798 A JP H11286798A JP 6372398 A JP6372398 A JP 6372398A JP 6372398 A JP6372398 A JP 6372398A JP H11286798 A JPH11286798 A JP H11286798A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、金属メッキの上に
半田付けを行なうにあたって半田付性能を改良し、また
貴金属メッキ接点の耐蝕性を向上する処理剤に関するも
のである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a treatment agent for improving soldering performance when soldering on metal plating and improving the corrosion resistance of precious metal plated contacts.
【0002】[0002]
【従来の技術】ICのリードフレーム、リレーの端子、
プリント配線板などの金属材の表面に半田付けを行なう
にあたって、半田の密着性を確保するために、金属材の
表面にメッキを施した後に、このメッキの上に半田付け
することが行なわれている。このメッキとしては、半田
付け部には半田めっき(Sn−Pb)が最も一般的であ
るが、Auメッキ、Pdメッキや、PbフリーのSn−
Zn、Sn−Bi、Sn−Ag等の合金メッキも行なわ
れている。2. Description of the Related Art IC lead frames, relay terminals,
When soldering to the surface of a metal material such as a printed wiring board, plating is performed on the surface of the metal material and then soldering is performed on this plating to ensure solder adhesion. I have. As this plating, solder plating (Sn-Pb) is the most common in the soldering portion, but Au plating, Pd plating, or Pb-free Sn-Pb is used.
Alloy plating of Zn, Sn-Bi, Sn-Ag or the like is also performed.
【0003】また接点部にはAuメッキ、Pdメッキを
施した上にAuフラッシュメッキ、Sn−Pbメッキ等
が行なわれている。[0003] In addition, Au flash plating, Sn-Pb plating and the like are performed on the contact portions after Au plating and Pd plating are performed.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】金属材に半田付けを行
なうにあたって、上記のように金属材に予めメッキを施
しておいても、半田に対する濡れが不十分であり、半田
付性を十分に得ることは難しい。このために、半田付け
を行なうにあたってフラックスを使用することが必要で
あった。In soldering a metal material, even if the metal material is plated in advance as described above, the wettability to the solder is insufficient, and sufficient solderability is obtained. It is difficult. For this reason, it was necessary to use a flux when performing soldering.
【0005】また、コネクタ等の接点部においては、耐
蝕性を得ることが難しいという問題があった。本発明は
上記の点に鑑みてなされたものであり、半田付性を向上
することができ、また耐蝕性を向上することができる封
孔処理剤を提供することを目的とするものである。Further, there is a problem that it is difficult to obtain corrosion resistance at a contact portion such as a connector. The present invention has been made in view of the above points, and has as its object to provide a sealing agent capable of improving solderability and improving corrosion resistance.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明の請求項1に係る
封孔処理剤は、ネオペンチル脂肪酸エステル、二塩基
酸、二塩基酸のアミン塩のうち少なくとも一種類を、ア
ルコール系、塩素系、フッ素系のうち少なくとも一種類
の溶剤に溶解して成ることを特徴とするものである。The pore-treating agent according to claim 1 of the present invention comprises at least one of neopentyl fatty acid ester, dibasic acid and amine salt of dibasic acid, which is an alcohol-based, chlorine-based, It is characterized by being dissolved in at least one type of fluorine-based solvent.
【0007】本発明の請求項2に係る封孔処理剤は、ネ
オペンチル脂肪酸エステル、二塩基酸、二塩基酸のアミ
ン塩のうち少なくとも一種類及び、5−アミノテトラゾ
ール、5−メチルベンゾトリアゾールのうち少なくとも
一種類を、アルコール系、塩素系、フッ素系のうち少な
くとも一種類の溶剤に溶解して成ることを特徴とするも
のである。The pore-sealing agent according to claim 2 of the present invention comprises at least one of neopentyl fatty acid ester, dibasic acid, and amine salt of dibasic acid and 5-aminotetrazole and 5-methylbenzotriazole. It is characterized in that at least one kind is dissolved in at least one kind of solvent among alcohol type, chlorine type and fluorine type.
【0008】また請求項3の発明は、ネオペンチル脂肪
酸エステルは0.02〜1.0%(w/v)、二塩基酸
は0.01〜0.5%(w/v)、二塩基酸のアミン塩
は0.01〜0.1%(w/v)、5−アミノテトラゾ
ールは0.001〜0.05%(w/v)、5−メチル
ベンゾトリアゾールは0.001〜0.05%(w/
v)の濃度でそれぞれ溶剤に溶解することを特徴とする
ものである。The invention of claim 3 is characterized in that neopentyl fatty acid ester is 0.02-1.0% (w / v), dibasic acid is 0.01-0.5% (w / v), dibasic acid Amine salt of 0.01-0.1% (w / v), 5-aminotetrazole 0.001-0.05% (w / v), 5-methylbenzotriazole 0.001-0.05 % (W /
It is characterized by being dissolved in a solvent at the concentration of v).
【0009】また請求項4の発明は、溶剤には少なくと
もエタノールを含むことを特徴とするものである。The invention according to claim 4 is characterized in that the solvent contains at least ethanol.
【0010】[0010]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を説明
する。本発明において、ネオペンチル脂肪酸エステル
としては、特に限定されるものではないが、次の化学構
造式で示されるトリメチロールプロパン脂肪酸エステル
を用いることができる。Embodiments of the present invention will be described below. In the present invention, the neopentyl fatty acid ester is not particularly limited, but trimethylolpropane fatty acid ester represented by the following chemical structural formula can be used.
【0011】[0011]
【化1】 Embedded image
【0012】また本発明において、二塩基酸として
は、特に限定されるものではないが、1,16−ヘキサ
デカンジカルボン酸を用いることができるものであり、
さらに二塩基酸のアミン塩としては、特に限定される
ものではないが、1,16−ヘキサデカンジカルボン酸
とモノイソプロパノールアミンとの反応生成物を用いる
ことができる。尚、これらの二塩基酸や、二塩基酸
のアミン塩の代わりに、炭素数2以上の脂肪族カルボン
酸を用いることも可能である。In the present invention, the dibasic acid is not particularly limited, but 1,16-hexadecanedicarboxylic acid can be used.
The amine salt of the dibasic acid is not particularly limited, but a reaction product of 1,16-hexadecanedicarboxylic acid and monoisopropanolamine can be used. In addition, instead of these dibasic acids and amine salts of dibasic acids, aliphatic carboxylic acids having 2 or more carbon atoms can be used.
【0013】そして、上記のネオペンチル脂肪酸エス
テル、二塩基酸、二塩基酸のアミン塩のうち一種類
以上を溶剤に溶解することによって、封孔処理剤を調製
することができる(請求項1)。例えば、ネオペンチ
ル脂肪酸エステルと二塩基酸の組み合わせ、ネオペ
ンチル脂肪酸エステルと二塩基酸のアミン塩の組み合
わせ、ネオペンチル脂肪酸エステルと二塩基酸と
二塩基酸のアミン塩の組み合わせで溶剤に溶解して封孔
処理剤を調製することができる。The pore-treating agent can be prepared by dissolving at least one of the above-mentioned neopentyl fatty acid esters, dibasic acids, and dibasic acid amine salts in a solvent. For example, a combination of neopentyl fatty acid ester and dibasic acid, a combination of neopentyl fatty acid ester and amine salt of dibasic acid, and a combination of neopentyl fatty acid ester, dibasic acid and amine salt of dibasic acid are dissolved in a solvent and sealed. An agent can be prepared.
【0014】また、このネオペンチル脂肪酸エステ
ル、二塩基酸、二塩基酸のアミン塩から一種類以上
選ばれるものに加えて、5−アミノテトラゾールと
5−メチルベンゾトリアゾールのうち一方あるいは両方
を溶剤に溶解することによっても、封孔処理剤を調製す
ることができる(請求項2)。溶剤としては、アルコー
ル系溶剤、塩素系溶剤、フッ素系溶剤のうちから一種類
以上を選んで使用することができるものであり、例えば
アルコール系溶剤と塩素系溶剤とフッ素系溶剤を80:
10:10の容量比で混合して使用することができる。
ここで、アルコール系溶剤としてはエチルアルコール、
メチルアルコール、イソプロピルアルコール等を、塩素
系溶剤としては1,1,1−トリクロロエタン、メチレ
ンクロライド等を、フッ素系溶剤としてはフロン1,
1,3、フロン225等を用いることができるが、溶剤
は100%エタノールであっても良い。Further, in addition to one or more selected from neopentyl fatty acid ester, dibasic acid and amine salt of dibasic acid, one or both of 5-aminotetrazole and 5-methylbenzotriazole are dissolved in a solvent. By doing so, the pore-treating agent can be prepared (claim 2). As the solvent, one or more kinds of alcohol-based solvents, chlorine-based solvents, and fluorine-based solvents can be selected and used. For example, an alcohol-based solvent, a chlorine-based solvent, and a fluorine-based solvent can be used:
They can be mixed and used at a volume ratio of 10:10.
Here, as the alcohol solvent, ethyl alcohol,
Methyl alcohol, isopropyl alcohol, etc .; 1,1,1-trichloroethane, methylene chloride, etc. as chlorine solvents;
1, 3, Freon 225 and the like can be used, but the solvent may be 100% ethanol.
【0015】また、上記の各成分の溶剤への配合量は、
ネオペンチル脂肪酸エステルは0.02〜1.0%
(w/v)〔溶剤1リットルに対してネオペンチル脂肪
酸エステル0.2〜10g〕、二塩基酸は0.01〜
0.5%(w/v)〔溶剤1リットルに対して二塩基酸
0.1〜5g〕、二塩基酸のアミン塩は0.01〜0.
1%(w/v)〔溶剤1リットルに対して二塩基酸のア
ミン塩0.1〜1g〕、5−アミノテトラゾールは0.
001〜0.05%(w/v)〔溶剤1リットルに対し
て5−アミノテトラゾール0.01〜0.5g〕、5−
メチルベンゾトリアゾールは0.001〜0.05%
(w/v)〔溶剤1リットルに対して5−メチルベンゾ
トリアゾール0.01〜0.5g〕に設定するのが好ま
しい。The amount of each component described above in the solvent is as follows:
0.02-1.0% neopentyl fatty acid ester
(W / v) [neopentyl fatty acid ester 0.2 to 10 g per liter of solvent], dibasic acid 0.01 to 0.01
0.5% (w / v) [0.1-5 g of dibasic acid per liter of solvent], and 0.01-0.5 g of amine salt of dibasic acid.
1% (w / v) [0.1-1 g of dibasic acid amine salt per liter of solvent], 5-aminotetrazole is 0.1% (w / v).
001 to 0.05% (w / v) [0.01 to 0.5 g of 5-aminotetrazole per liter of solvent], 5-
Methyl benzotriazole 0.001-0.05%
(W / v) [0.01 to 0.5 g of 5-methylbenzotriazole per liter of solvent] is preferably set.
【0016】上記のようにして封孔処理剤を調製するこ
とができるものであり、ICのリードフレーム、リレー
の端子、ソケットのコンタクト、プリント配線板などの
金属材の表面に半田メッキ、Auメッキ、Pdメッキ、
Sn−Zn、Sn−Bi、Sn−Ag、Sn−In等の
合金メッキなど、金属メッキを施した直後に、この封孔
処理剤に浸漬等することによって、金属メッキの表面を
処理することができる。The sealing agent can be prepared as described above. The surface of a metal material such as an IC lead frame, a relay terminal, a socket contact, a printed wiring board or the like is solder-plated or Au-plated. , Pd plating,
Immediately after metal plating, such as alloy plating of Sn-Zn, Sn-Bi, Sn-Ag, Sn-In, or the like, the surface of the metal plating can be treated by immersion in this sealing agent. it can.
【0017】そしてこのように金属メッキの表面を封孔
処理剤で処理することによって、半田の濡れ性が向上
し、半田付着性を高めることができるものであり、従っ
て、半田付けを行なうにあたってフラックスを不要にす
ることが可能になるものである。このような効果の他
に、本発明の封孔処理剤は、金属メッキの酸化を防止す
る効果があり、また摺動性を向上させることができ、特
に金属材料が削れ易いものである場合に有効である。さ
らに接触抵抗が経時劣化することを防ぐことができると
共に耐熱性を向上させることができ、加えて耐蝕性向上
の効果もある。By treating the surface of the metal plating with the sealing agent as described above, the wettability of the solder can be improved and the solder adhesion can be enhanced. Can be made unnecessary. In addition to such effects, the sealing agent of the present invention has an effect of preventing oxidation of metal plating, and can also improve slidability, particularly when the metal material is easily scraped. It is valid. Further, it is possible to prevent the contact resistance from deteriorating with time, and to improve the heat resistance. In addition, there is an effect of improving the corrosion resistance.
【0018】[0018]
【実施例】次に、本発明を実施例によって具体的に説明
する。溶剤としてエタノールと1,1,1−トリクロロ
エタンの2:8の容量比の混合溶剤を用い、1リットル
の溶剤に次の配合量で各成分を配合して溶解することに
よって、封孔処理剤を調製した。 ・ネオペンチル脂肪酸エステル …3.0g/リットル ・二塩基酸(1,16−ヘキサデカンジカルボン酸) …1.5g/リットル ・二塩基酸のアミン塩(1,16−ヘキサデカンジカルボン酸とモノイソプロパ ノールアミンとの反応生成物) …0.5g/リットル ・5−アミノテトラゾール …0.1g/リットル ・5−メチルベンゾトリアゾール …0.2g/リットル 一方、半田付性を評価するための試験片として図1に示
すようなソケットのコンタクト1を用いた。Next, the present invention will be described specifically with reference to examples. By using a mixed solvent of ethanol and 1,1,1-trichloroethane in a volume ratio of 2: 8 as a solvent and mixing and dissolving the respective components in the following amounts in 1 liter of the solvent, the sealing agent is Prepared. -Neopentyl fatty acid ester ... 3.0 g / liter-Dibasic acid (1,16-hexadecanedicarboxylic acid) ... 1.5 g / liter-Amine salt of dibasic acid (reaction between 1,16-hexadecanedicarboxylic acid and monoisopropanolamine) 0.5 g / liter 5-aminotetrazole 0.1 g / liter 5-methylbenzotriazole 0.2 g / liter On the other hand, as shown in FIG. 1, a test piece for evaluating solderability was used. The contact 1 of a simple socket was used.
【0019】(試験1)コンタクト1に厚み3μmの半
田メッキ(Sn:Pb=9:1)を施した後に、コンタ
クト1を上記の封孔処理剤に1秒間浸漬し、図1のクロ
ス斜線で示す部分を封孔処理剤で処理した。そしてフラ
ックスによる処理をせず、このコンタクト1について半
田付性の試験を行なった。半田付性の試験は、コンタク
ト1を半田浴に浸漬したときのゼロクロスタイム(浸漬
してから浸漬部分が濡れるまでの時間:半田濡れ時間)
を測定することによって行なった。(Test 1) After applying a solder plating (Sn: Pb = 9: 1) with a thickness of 3 μm to the contact 1, the contact 1 is immersed in the above-mentioned sealing agent for 1 second, and the contact is shaded by cross lines in FIG. The indicated part was treated with a sealing agent. Then, a solderability test was performed on the contact 1 without performing the treatment with the flux. The solderability test was performed using a zero cross time when the contact 1 was immersed in a solder bath (time from immersion to wet of the immersed part: solder wetting time).
Was measured.
【0020】結果は、半田濡れ時間0.2秒以下であっ
た。比較のために、封孔処理剤で処理をせず、フラック
ス処理無しで同様に半田付性の試験を行なったところ、
半田濡れ時間5秒以上であり、封孔処理剤で処理するこ
とによって半田濡れ性が高まり、半田付性が向上してい
ることが確認された。 (試験2)コンタクト1に厚み2μmのNiメッキを施
した後にさらにこの上に厚み0.05μmのAuメッキ
を施した後、コンタクト1を上記の封孔処理剤に1秒間
浸漬することによって、図1のクロス斜線で示す部分を
封孔処理剤で処理した。As a result, the solder wetting time was 0.2 seconds or less. For comparison, without soldering treatment, the same solderability test was performed without flux treatment.
The solder wetting time was 5 seconds or longer, and it was confirmed that the treatment with the sealing agent increased the solder wettability and improved the solderability. (Test 2) The contact 1 was plated with 2 μm thick Ni, and further plated thereon with 0.05 μm thick Au, and then immersed in the above sealing agent for 1 second. 1 was treated with a sealing agent.
【0021】そして100℃で1時間加熱処理した後、
フラックスによる処理をせず、このコンタクト1につい
て半田付性の試験を行なった。結果は半田濡れ時間3秒
であった。比較のために封孔処理剤で処理をせず、フラ
ックス処理無しで同様に半田付性の試験を行なったとこ
ろ、半田濡れ時間5秒以上であった。またフラックスと
してタムラ化研株式会社製「NA−200」を用い、フ
ラックスにコンタクト1を浸漬してフラックス処理した
ものについても、同様に半田付性の試験を行なったとこ
ろ、半田濡れ時間0.5秒であった。比較のために封孔
処理剤で処理をせず、フラックス処理をして同様に半田
付性の試験を行なったところ、半田濡れ時間5秒以上で
あった。After heating at 100 ° C. for 1 hour,
This contact 1 was subjected to a solderability test without treatment with a flux. The result was a solder wetting time of 3 seconds. For comparison, a similar solderability test was conducted without a treatment with a sealing agent and without a flux treatment. As a result, the solder wetting time was 5 seconds or more. A solderability test was also performed on a flux treated by immersing the contact 1 in the flux using "NA-200" manufactured by Tamura Kaken Co., Ltd. as a flux. Seconds. For comparison, the same solderability test was conducted by performing flux treatment without treating with a sealing agent, and it was found that the solder wetting time was 5 seconds or more.
【0022】このように、封孔処理剤で処理することに
よって、フラックス処理をする必要なく、高い半田付性
を得ることができることが確認された。 (試験3)コンタクト1に厚み3μmのSn−Znメッ
キ(Sn:Zn=7:3)を施した後、コンタクト1を
上記の封孔処理剤に1秒間浸漬することによって、図1
のクロス斜線で示す部分を封孔処理剤で処理した。As described above, it has been confirmed that high solderability can be obtained without the need for flux treatment by treating with a sealing agent. (Test 3) After the contact 1 was subjected to Sn-Zn plating (Sn: Zn = 7: 3) with a thickness of 3 μm, the contact 1 was immersed in the above-mentioned sealing agent for 1 second to obtain FIG.
Was treated with a pore-sealing agent.
【0023】そして100℃で1時間加熱処理した後、
フラックスによる処理をせず、このコンタクト1につい
て半田付性の試験を行なった。結果は半田濡れ時間1秒
であった。比較のために封孔処理剤で処理をせず、フラ
ックス処理無しで同様に半田付性の試験を行なったとこ
ろ、半田濡れ時間5秒以上であった。またコンタクト1
をフラックス処理したものについても、同様に半田付性
の試験を行なったところ、半田濡れ時間0.5秒であっ
た。比較のために封孔処理剤で処理をせず、フラックス
処理をして同様に半田付性の試験を行なったところ、半
田濡れ時間5秒以上であった。After heating at 100 ° C. for 1 hour,
This contact 1 was subjected to a solderability test without treatment with a flux. The result was a solder wetting time of 1 second. For comparison, a similar solderability test was conducted without a treatment with a sealing agent and without a flux treatment. As a result, the solder wetting time was 5 seconds or more. Contact 1
When the soldering property test was performed in the same manner also for the one subjected to the flux treatment, the solder wetting time was 0.5 seconds. For comparison, the same solderability test was conducted by performing flux treatment without treating with a sealing agent, and it was found that the solder wetting time was 5 seconds or more.
【0024】このように、封孔処理剤で処理することに
よって、フラックス処理をする必要なく、高い半田付性
を得ることができることが確認された。 (試験4)コネクタの接点にAuメッキを施した後、こ
のコネクタを上記の封孔処理剤に1秒間浸漬することに
よってコネクタの接点を封孔処理剤で処理した。これを
SO2 ガス10ppm、相対湿度95%、温度40℃の
雰囲気中に放置しても、腐食は発生なかった。Thus, it was confirmed that high solderability can be obtained without the need for flux treatment by treating with a sealing agent. (Test 4) After Au plating was applied to the contacts of the connector, the contacts of the connector were treated with the sealing agent by immersing the connector in the sealing agent for 1 second. Even when this was left in an atmosphere of 10 ppm SO 2 gas, 95% relative humidity and 40 ° C., no corrosion occurred.
【0025】[0025]
【発明の効果】上記のように本発明は、ネオペンチル脂
肪酸エステル、二塩基酸、二塩基酸のアミン塩のうち少
なくとも一種類、あるいはこれと5−アミノテトラゾー
ル、5−メチルベンゾトリアゾールのうち少なくとも一
種類を、アルコール系、塩素系、フッ素系のうち少なく
とも一種類の溶剤に溶解して封孔処理剤を調製したもの
であり、金属メッキの表面の半田濡れ性を高めて、半田
付性を向上させることができるものであり、フラックス
処理をする必要なく半田付けをすることが可能になるも
のである。また、Auメッキなどの金属メッキ部分の耐
蝕性を向上させることができるものである。As described above, the present invention provides at least one of neopentyl fatty acid ester, dibasic acid, and amine salt of dibasic acid, or at least one of 5-aminotetrazole and 5-methylbenzotriazole. The sealing agent was prepared by dissolving the type in at least one of alcohol, chlorine, and fluorine solvents, improving the solder wettability of the metal plating surface and improving the solderability. This makes it possible to perform soldering without the need for flux treatment. Further, it is possible to improve the corrosion resistance of a metal plating portion such as Au plating.
【図1】半田付けの試験に用いたソケットのコンタクト
を示すものであり、(a)は一部の正面図、(b)は一
部の側面図である。FIGS. 1A and 1B show a socket contact used in a soldering test, wherein FIG. 1A is a partial front view and FIG. 1B is a partial side view.
1 ソケットのコンタクト 1 Socket contacts
Claims (4)
酸、二塩基酸のアミン塩のうち少なくとも一種類を、ア
ルコール系、塩素系、フッ素系のうち少なくとも一種類
の溶剤に溶解して成ることを特徴とする封孔処理剤。1. A method comprising dissolving at least one kind of neopentyl fatty acid ester, dibasic acid and amine salt of dibasic acid in at least one kind of alcohol, chlorine and fluorine solvents. Sealant.
酸、二塩基酸のアミン塩のうち少なくとも一種類及び、
5−アミノテトラゾール、5−メチルベンゾトリアゾー
ルのうち少なくとも一種類を、アルコール系、塩素系、
フッ素系のうち少なくとも一種類の溶剤に溶解して成る
ことを特徴とする封孔処理剤。2. At least one of neopentyl fatty acid ester, dibasic acid, amine salt of dibasic acid, and
5-aminotetrazole, at least one of 5-methylbenzotriazole, alcohol-based, chlorine-based,
A pore-sealing agent characterized by being dissolved in at least one fluorine-based solvent.
〜1.0%(w/v)、二塩基酸は0.01〜0.5%
(w/v)、二塩基酸のアミン塩は0.01〜0.1%
(w/v)、5−アミノテトラゾールは0.001〜
0.05%(w/v)、5−メチルベンゾトリアゾール
は0.001〜0.05%(w/v)の濃度でそれぞれ
溶剤に溶解することを特徴とする請求項1又は2に記載
の封孔処理剤。3. The amount of neopentyl fatty acid ester is 0.02.
1.0% (w / v), 0.01 to 0.5% dibasic acid
(W / v), 0.01 to 0.1% of amine salt of dibasic acid
(W / v), 0.001 to 5-aminotetrazole
3. The method according to claim 1, wherein 0.05% (w / v) and 5-methylbenzotriazole are dissolved in the solvent at a concentration of 0.001 to 0.05% (w / v). Sealing agent.
とを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の封孔
処理剤。4. The pore-sealing agent according to claim 1, wherein the solvent contains at least ethanol.
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JP10-24944 | 1998-02-05 | ||
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