JPH112822A - Liquid crystal display device and its manufacture - Google Patents

Liquid crystal display device and its manufacture

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JPH112822A
JPH112822A JP15714897A JP15714897A JPH112822A JP H112822 A JPH112822 A JP H112822A JP 15714897 A JP15714897 A JP 15714897A JP 15714897 A JP15714897 A JP 15714897A JP H112822 A JPH112822 A JP H112822A
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liquid crystal
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display device
resist
crystal display
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide the liquid crystal display device which prevents resin as a sealing material from spreading from specific line width, hold the cell gap of an area-increased liquid crystal layer at a constant value on the whole, and has improved production efficiency and high display quality and its manufacture as to a liquid crystal display device which has its screen made large by sticking a connection substrate consisting of small-sized substrates opposite a large-size substrate by using the sealing material. SOLUTION: Two TFT substrates 2a and 2a are stuck together by using the sealing material 3 and spacers 4 formed independently of the same pressure- resisting resin. Those sealing material 3 and spacers 4 are formed with high fineness in one process by using a photomask. The spaces 4 are so formed that they are put in areas of the BM(black matrix) on a CF substrate 1.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、オーディオビジュ
アル(AV)機器やオフィスオートメーション(OA)
機器に使用できる直視型の大表示画面を有する液晶表示
装置に関し、特に、アクティブマトリクス基板を組み合
わせた表示品位の高い液晶表示装置およびその製造方法
に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to audio-visual (AV) equipment and office automation (OA).
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display device having a large direct-view display screen that can be used in equipment, and more particularly to a liquid crystal display device having a high display quality combined with an active matrix substrate and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、オーディオビジュアル機器やオフ
ィスオートメーション機器などに用いられている表示装
置に対しては、軽量化、薄型化、低消費電力化、高精細
化、および表示画面の大型化(以下、大画面化とする)
が要求されている。この中でも、特に大画面化について
は、CRT(Cathode Ray Tube)方式を始めとして、液
晶表示装置(LCD)、プラズマ表示装置(PDP)、
エレクトロルミネセンス(EL)表示装置、発光ダイオ
ード(LED)表示装置など各種の表示装置において開
発および実用化が進められている。
2. Description of the Related Art In recent years, for display devices used in audiovisual equipment and office automation equipment, weight reduction, thinning, low power consumption, high definition, and large display screen (hereinafter referred to as "large") have been proposed. , Large screen)
Is required. Among them, especially for large screens, liquid crystal display (LCD), plasma display (PDP), CRT (Cathode Ray Tube) system, etc.
Various display devices such as an electroluminescence (EL) display device and a light emitting diode (LED) display device are being developed and put to practical use.

【0003】なかでも、液晶表示装置は、他の表示装置
に比べて厚さ(奥行き)が格段に薄くできること、消費
電力が小さいこと、フルカラー化が容易なことなどの利
点を有するため、現在幅広い分野で用いられており、大
画面化への期待も大きい。
[0003] Among them, liquid crystal display devices have the advantages of being significantly thinner (depth) than other display devices, low power consumption, and being easy to be full-colored. It is used in the field, and there is great expectation for a large screen.

【0004】しかし、液晶表示装置は大画面化を図る
と、製造工程において、信号線などの断線や画素の欠陥
などに由来する不良率が急激に上昇する。これに加え
て、大画面化によって製造工程も煩雑化し、その結果、
液晶表示装置の価格上昇をもたらすといった問題点が生
じている。
However, when the size of the liquid crystal display device is increased, a defective rate caused by a disconnection of a signal line or the like or a defect of a pixel rapidly increases in a manufacturing process. In addition to this, the large screen makes the manufacturing process complicated, and as a result,
There is a problem that the price of the liquid crystal display increases.

【0005】そこで、上記の問題点を解決するために、
複数枚の小型基板同士を接続して大画面化を図る液晶表
示装置が提案されている。この大画面化された液晶表示
装置は、具体的には、該液晶表示装置を構成する電極付
きの一対の基板のうち、少なくとも1枚の基板が、複数
枚の小型基板同士をその側面で接続してなる1枚の大型
の接続基板である構成を有している。
Therefore, in order to solve the above problems,
A liquid crystal display device for connecting a plurality of small substrates to each other to increase the screen size has been proposed. Specifically, in the liquid crystal display device having a large screen, at least one substrate of a pair of electrodes with electrodes constituting the liquid crystal display device connects a plurality of small substrates to each other on a side surface thereof. In the form of a single large connection substrate.

【0006】特に、アクティブマトリクス型の液晶表示
装置の場合、1画素毎に微細なアクティブ素子が形成さ
れている基板であるアクティブマトリクス基板を大面積
で歩留りよく製造することが極めて困難である。そこ
で、このアクティブマトリクス基板を複数枚の小型基板
同士を接続した接続基板とする。このように、大基板化
することが困難なアクティブマトリクス基板を接続基板
とすることによって、大画面化された液晶表示装置にお
ける生産面での効率化を図ることができる。
In particular, in the case of an active matrix type liquid crystal display device, it is extremely difficult to manufacture an active matrix substrate, which is a substrate on which fine active elements are formed for each pixel, with a large area and a high yield. Therefore, this active matrix substrate is used as a connection substrate that connects a plurality of small substrates. As described above, by using the active matrix substrate, which is difficult to increase in size, as the connection substrate, the efficiency of the liquid crystal display device having a larger screen can be improved in terms of production.

【0007】上記のような接続基板を用いる液晶表示装
置としては、実開昭60−191029号公報に開示さ
れている液晶パネルや、特開平8−184849号公報
に開示されている液晶表示装置およびその製造方法など
がある。
As a liquid crystal display device using the above-described connection substrate, a liquid crystal panel disclosed in Japanese Utility Model Laid-Open No. 60-191029, a liquid crystal display device disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. There are manufacturing methods and the like.

【0008】たとえば、特開平8−184849号公報
の液晶表示装置は、図10(a)(b)に示すように、
小型基板61aを4枚、「田」字状に接続して1枚の大
基板61とし、この大基板61と対向基板62とを、シ
ール材63によって封入された液晶層64を介して貼り
合わせてなっている。この液晶表示装置では、上記小型
基板61aの接続部と、対向基板に形成された非透光性
パターン65との間に支持材66が設けられている。
For example, a liquid crystal display device disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. H8-184849, as shown in FIGS.
Four small substrates 61a are connected in a "-" shape to form one large substrate 61, and the large substrate 61 and the opposing substrate 62 are bonded together via a liquid crystal layer 64 sealed with a sealing material 63. Has become. In this liquid crystal display device, a support member 66 is provided between the connection portion of the small substrate 61a and the non-light-transmitting pattern 65 formed on the counter substrate.

【0009】上記の液晶表示装置の製造工程において
は、まず、対向基板62上に、シール材63、非透光性
パターン65が形成される。次に、小型基板61a同士
が接着材67によって接続される。さらに、この小型基
板61a同士の接続部に対応する位置の非透光性パター
ン65上に、シール材63と同一の素材からなる支持材
66が形成される。
In the manufacturing process of the liquid crystal display device, first, a sealing material 63 and a non-light-transmitting pattern 65 are formed on a counter substrate 62. Next, the small substrates 61a are connected to each other by the adhesive 67. Further, a supporting member 66 made of the same material as the sealing material 63 is formed on the non-light-transmitting pattern 65 at a position corresponding to the connection between the small substrates 61a.

【0010】したがって、上記支持材66は、小型基板
61a・61a同士を接着剤67によって接続した接続
部と対向する非透光性パターン65との間に形成されて
いることになる。この支持材66によって、小型基板6
1a・61a同士の段差に由来する表示画面への悪影響
を回避することができるとともに、良品率の低下も回避
することができ、生産性が向上する。
Therefore, the supporting member 66 is formed between the connection portion where the small substrates 61a are connected to each other by the adhesive 67 and the opposing non-translucent pattern 65. The support 66 allows the small substrate 6
It is possible to avoid the adverse effect on the display screen due to the step between 1a and 61a, and it is also possible to avoid a decrease in the non-defective product rate, thereby improving the productivity.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】ところが、上記特開平
8−184849号公報などに開示されている液晶表示
装置およびその製造方法では、液晶表示装置の構造上や
製造工程上の理由から、以下に示す(1)および(2)
の問題点が発生する。
However, in the liquid crystal display device and the method of manufacturing the same disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. H8-184849 or the like, the following are required due to the structure of the liquid crystal display device and the manufacturing process. Show (1) and (2)
Problem occurs.

【0012】(1)上記の液晶表示装置の製造工程で
は、接続基板と大型基板とを対向させて貼り合わせる工
程と、その後、これら各基板の間隙である液晶層のセル
ギャップを設定する工程とが必須となる。これら工程の
うち、上記各基板を対向させて貼り合わせる工程では、
大型基板上の、接続基板となる小型基板の外枠領域に相
当する部位にシール材となる樹脂を描画する。このシー
ル材は、上記各基板同士を貼り合わせるとともに液晶層
を封入するための部材である。
(1) In the manufacturing process of the liquid crystal display device, a connecting substrate and a large-sized substrate are bonded to each other so as to face each other, and then a cell gap of a liquid crystal layer which is a gap between these substrates is set. Is required. In these steps, in the step of bonding the above substrates while facing each other,
A resin serving as a sealing material is drawn on a portion of the large substrate corresponding to the outer frame region of the small substrate serving as the connection substrate. This sealing material is a member for bonding the above substrates together and enclosing the liquid crystal layer.

【0013】そして、この描画された樹脂のパターンに
合わせて、接続基板を貼り合わせる。その後、プレス装
置などを用いて、これら各基板同士をプレスしてセルギ
ャップを設定する。このセルギャップの設定後に、未硬
化の状態であるシール材となる樹脂を硬化させてシール
材を形成する。
[0013] Then, a connection substrate is bonded in accordance with the drawn resin pattern. Thereafter, these substrates are pressed against each other using a pressing device or the like to set a cell gap. After the setting of the cell gap, the uncured resin serving as the sealing material is cured to form the sealing material.

【0014】ここで、セルギャップの設定を行うための
プレスの際には、上記描画された樹脂は硬化した状態で
はない。そのため、上記プレスによって、描画された樹
脂の線幅は、ある程度広がることになる。このように、
樹脂の線幅が広がると、広がった樹脂が液晶層における
表示画面領域へはみ出すおそれがある。
At the time of pressing for setting the cell gap, the drawn resin is not in a cured state. For this reason, the line width of the resin drawn by the above-mentioned press is increased to some extent. in this way,
When the line width of the resin is widened, the spread resin may protrude into the display screen area in the liquid crystal layer.

【0015】特に、小型基板同士の接続部の間において
は、該接続部をできる限り狭い領域とする必要がある。
これは、接続部が広い領域であると、得られる表示画面
において、該接続部の部位だけ画素ピッチが乱れて接続
部が目立つことになり、表示画面全体として違和感が生
じることになるためである。
In particular, between the connecting portions of the small substrates, it is necessary to make the connecting portion as narrow as possible.
This is because, if the connection portion is a wide area, the pixel pitch is disturbed only in the portion of the connection portion on the obtained display screen, so that the connection portion is conspicuous, which causes a sense of incongruity as the entire display screen. .

【0016】上記のように表示画面領域にはみ出した樹
脂は、ブラックマトリクス(BM)などの非透光性パタ
ーンで遮蔽する。この非透光性パターンは表示画面上で
は非表示領域となるため、はみ出した樹脂が表示画面へ
悪影響を及ぼすことは回避できる。ところが、樹脂のは
み出しを遮蔽するためには、この非透光性パターンの領
域を広くする必要がある。この非透光性パターンの領域
が広くなると、画素の開口率が低下するという問題点を
招来することになる。
As described above, the resin protruding into the display screen area is shielded by a non-translucent pattern such as a black matrix (BM). Since the non-light-transmitting pattern becomes a non-display area on the display screen, it is possible to prevent the resin that has overflowed from adversely affecting the display screen. However, in order to shield the protrusion of the resin, it is necessary to widen the area of the non-light-transmitting pattern. When the area of the non-light-transmitting pattern is widened, a problem that the aperture ratio of the pixel decreases is caused.

【0017】この画素の開口率の低下は、表示画面全体
を暗くしてコントラストを低下させることになる。この
コントラストの低下を抑制するには、バックライトを明
るくする手段があるが、この手段ではバックライトの消
費電力が大きくなり、液晶表示装置全体の消費電力も大
きくなるため、好ましくない。
The decrease in the aperture ratio of the pixel darkens the entire display screen and lowers the contrast. In order to suppress the decrease in contrast, there is a means for increasing the brightness of the backlight. However, this means is not preferable because the power consumption of the backlight increases and the power consumption of the entire liquid crystal display device also increases.

【0018】さらに、画素の開口率が低下した液晶表示
装置における表示画面の解像度は、同じサイズの表示画
面を有する通常の液晶表示装置の解像度よりも低下する
ことになる。
Further, the resolution of the display screen of the liquid crystal display device having the reduced aperture ratio of the pixels is lower than that of a normal liquid crystal display device having a display screen of the same size.

【0019】通常、画素間の非表示領域は、2本のシー
ル材のパターンおよび接続マージンを含むことができる
幅を有するように設定されている。そのため、1画素内
には、一定面積の非表示領域が必要となる。ところが、
解像度を上げるためには1画素当たりの面積を小さくし
なければならない。これに対して、非表示領域の面積は
画素の面積に関わらず一定である。したがって、上記構
成の液晶表示装置において、画素の面積を小さくして解
像度を上昇させようとすると、画素の面積に対する非表
示領域の面積の比が相対的に大きくなる。その結果、画
素の開口率はさらに低下することになる。
Normally, a non-display area between pixels is set to have a width that can include a pattern of two seal materials and a connection margin. Therefore, a non-display area having a certain area is required in one pixel. However,
In order to increase the resolution, the area per pixel must be reduced. On the other hand, the area of the non-display area is constant regardless of the area of the pixel. Therefore, in the liquid crystal display device having the above configuration, if the resolution is increased by reducing the area of the pixel, the ratio of the area of the non-display area to the area of the pixel becomes relatively large. As a result, the aperture ratio of the pixel is further reduced.

【0020】それゆえ、複数の小型基板を接続させて大
画面化を図る液晶表示装置では、上記のように、開口率
の低下を抑制しない限り、該液晶表示装置の表示品位を
向上させることは困難であるという問題点を招来してい
る。そして、この問題点を解決するためには、特に小型
基板同士の接続部において、シール材となる樹脂が所定
の線幅から広がることを抑制する必要がある。
Therefore, in a liquid crystal display device which enlarges the screen by connecting a plurality of small substrates, it is impossible to improve the display quality of the liquid crystal display device unless the decrease in the aperture ratio is suppressed as described above. The problem is that it is difficult. In order to solve this problem, it is necessary to suppress the resin serving as a sealing material from expanding from a predetermined line width, particularly at a connection portion between the small substrates.

【0021】(2)液晶表示装置の大画面化に伴い、接
続基板と大型基板とによって挟持される液晶層の面積も
大きくなる。このため、この大きくなった液晶層の厚さ
である液晶層のセルギャップは、該液晶層全体において
一定の値に維持することが不十分となる。
(2) As the screen size of the liquid crystal display device increases, the area of the liquid crystal layer sandwiched between the connection substrate and the large substrate also increases. For this reason, the cell gap of the liquid crystal layer, which is the increased thickness of the liquid crystal layer, is insufficient to maintain a constant value in the entire liquid crystal layer.

【0022】このセルギャップの維持が不十分となる
と、上記液晶層では、表示画面の下方となる部分に液晶
自体の重みのために液晶が偏在する傾向がある。この液
晶の偏在に伴い、表示画面に表示ムラが発生するという
問題点を招来する。
If the maintenance of the cell gap becomes insufficient, the liquid crystal tends to be unevenly distributed in the lower part of the display screen due to the weight of the liquid crystal itself in the liquid crystal layer. The uneven distribution of the liquid crystal causes a problem that display unevenness occurs on the display screen.

【0023】このように、従来の液晶表示装置では、上
記の(1)および(2)の各問題点が生じているため、
高い表示品位を維持しつつ、液晶表示装置を大画面化す
ることは、未だ不十分となっている。
As described above, in the conventional liquid crystal display device, since each of the problems (1) and (2) has occurred,
Enlarging the screen of a liquid crystal display device while maintaining high display quality is still insufficient.

【0024】本発明は、上記問題点に鑑みてなされたも
のであり、その目的は、複数枚の小型基板からなる接続
基板を大型基板に対向させてシール材にて貼り合わせる
ことにより大画面化された液晶表示装置において、上記
シール材となる樹脂が所定の線幅から広がることを防止
するとともに、大面積化した液晶層のセルギャップを全
体的に一定の値に維持することができる、生産効率の向
上した、高い表示品位を有する液晶表示装置と、その製
造方法を提供することである。
The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a large screen by bonding a connecting substrate composed of a plurality of small substrates to a large substrate with a sealing material and bonding them together. In the liquid crystal display device, it is possible to prevent the resin serving as the sealing material from spreading from a predetermined line width and maintain the cell gap of the liquid crystal layer having a large area as a whole at a constant value. An object of the present invention is to provide a liquid crystal display device having improved display efficiency and high display quality, and a method for manufacturing the same.

【0025】[0025]

【課題を解決するための手段】本発明の請求項1記載の
液晶表示装置は、上記の課題を解決するために、マトリ
クス状の非透光性パターンを備えている大型基板と、複
数枚の小型基板をその側面部で接続してなる1枚の接続
基板とを対向させ、その間に液晶層を挟持してなる液晶
表示装置において、上記大型基板と接続基板とを貼り合
わせるためのシール材と、大型基板と接続基板に挟持さ
れる液晶層の厚さを所定の値に維持するスペーサとが耐
圧性を有するレジストからなっていることを特徴として
いる。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a liquid crystal display device comprising: a large-sized substrate having a matrix-like non-light-transmitting pattern; In a liquid crystal display device in which a single connection substrate formed by connecting a small substrate at a side portion thereof and a liquid crystal layer is sandwiched therebetween, a sealing material for bonding the large substrate and the connection substrate is provided. The large-sized substrate and the spacer for maintaining the thickness of the liquid crystal layer sandwiched between the connection substrates at a predetermined value are made of a resist having a pressure resistance.

【0026】上記の請求項1記載の構成によれば、シー
ル材およびスペーサがレジストからなっているため、対
向する上記大型基板と接続基板とをプレスしてセルギャ
ップを設定する際には、上記シール材となるレジスト
は、硬化している状態とすることができる。この硬化し
たレジストのため、上記プレス工程の際にレジストが押
圧されて所定の線幅から広がり、シール材の形成領域が
表示画面領域へはみ出すことがない。つまり、レジスト
からなるシール材は、液晶表示装置の製造工程におい
て、該シール材としての形状が必要以上に変化しない安
定した形状となっている。
According to the first aspect of the present invention, since the sealing material and the spacer are made of a resist, when setting the cell gap by pressing the large substrate and the connection substrate facing each other, The resist serving as a sealing material can be in a cured state. Due to the cured resist, the resist is pressed during the above-mentioned pressing step and spreads from a predetermined line width, so that the formation region of the sealing material does not protrude into the display screen region. That is, the sealing material made of the resist has a stable shape in which the shape of the sealing material does not change more than necessary in the manufacturing process of the liquid crystal display device.

【0027】さらに、シール材がレジストからなってい
ることにより、該シール材を高精細に形成することがで
きる。このため、上記小型基板同士の接続部において、
シール材をより表示画面領域に近接させて形成すること
ができる。それゆえ、上記接続部において、シール材と
なる樹脂(この場合レジスト)を遮蔽するために、非透
光性パターンの領域を広くすることは回避できる。
Further, since the sealing material is made of a resist, the sealing material can be formed with high definition. For this reason, in the connection portion between the small substrates,
The sealant can be formed closer to the display screen area. Therefore, it is possible to avoid widening the area of the non-light-transmitting pattern in the connection portion in order to shield the resin (resist in this case) serving as a sealing material.

【0028】したがって、得られる液晶表示装置におい
て、画素の開口率の低下は回避され、表示画面のコント
ラストや解像度を上昇させることが可能となる。その結
果、接続部の目立たない、高い表示品位を有する大画面
化された液晶表示装置を提供することができる。
Therefore, in the obtained liquid crystal display device, a decrease in the aperture ratio of the pixel is avoided, and the contrast and the resolution of the display screen can be increased. As a result, it is possible to provide a large-screen liquid crystal display device having a high display quality and inconspicuous connection portions.

【0029】また、上記シール材だけでなくスペーサも
レジストからなっていることから、該シール材およびス
ペーサは、フォトマスクを用いた現像パターンにて、1
工程でしかも高精細に形成することができる。特に、上
記スペーサは、表示画面上では非透光性パターンに遮蔽
されるように、該非透光性パターンの領域内に収まるよ
うに形成することが可能となる。したがって、スペーサ
が表示画面に何らかの影響を及ぼすことはない。
Further, since not only the sealing material but also the spacer is made of a resist, the sealing material and the spacer are formed by a developing pattern using a photomask.
It can be formed in a process and with high definition. In particular, the spacer can be formed so as to be shielded by the non-translucent pattern on the display screen and to fit within the region of the non-translucent pattern. Therefore, the spacer does not have any effect on the display screen.

【0030】その結果、従来よりも多い数量のスペーサ
を表示画面に影響を及ぼすことなく、しかも安定した位
置に形成することができる。そのため、液晶表示装置が
大画面化されることに伴い、液晶層の面積が広くなっ
て、該液晶層のセルギャップが全体的に均一に維持する
ことが困難となっても、十分な数量のスペーサを形成す
ることが可能となる。これによって、セルギャップが十
分に維持されないことによる液晶の下方への偏在を抑制
し、表示ムラのない高品位表示の液晶表示装置を得るこ
とができる。
As a result, a larger number of spacers than before can be formed at a stable position without affecting the display screen. Therefore, as the size of the liquid crystal display device is increased, the area of the liquid crystal layer is increased, and even if it is difficult to maintain the cell gap of the liquid crystal layer as a whole uniformly, a sufficient number of liquid crystal layers are required. Spacers can be formed. Thereby, the uneven distribution of the liquid crystal downward due to the insufficient maintenance of the cell gap can be suppressed, and a high-quality liquid crystal display device without display unevenness can be obtained.

【0031】本発明の請求項2記載の液晶表示装置は、
上記の課題を解決するために、上記請求項1記載の構成
に加えて、上記レジストが接着性を有していることを特
徴としている。
According to the liquid crystal display device of the present invention,
In order to solve the above problem, in addition to the configuration described in claim 1, the resist has an adhesive property.

【0032】上記の請求項2記載の構成によれば、レジ
ストが接着性を有していることから、接続基板と大型基
板はシール材だけでなくスペーサによっても貼り合わせ
られていることになる。そのため、上記各基板同士が対
向した貼り合わせ構造がより安定化し、大面積の液晶層
においてもセルギャップの維持を十分に行うことができ
る。
According to the second aspect of the present invention, since the resist has an adhesive property, the connection substrate and the large-sized substrate are bonded not only with the sealing material but also with the spacer. Therefore, the bonding structure in which the substrates face each other is further stabilized, and the cell gap can be sufficiently maintained even in a large-area liquid crystal layer.

【0033】また、上記レジストは所定の領域からはみ
出すことがないが、プレスにより若干押しつぶされる程
度の可塑性を有した状態で硬化している。そのため、プ
レスにより若干押しつぶされた上記レジストは、対向す
る基板との接着面積を大きくして、各基板同士の接着強
度を向上させることができる。その結果、液晶の下方へ
の偏在はより抑制され、表示ムラのない高品位表示の液
晶表示装置を得ることができる。
The resist does not protrude from a predetermined area, but is hardened in a state having plasticity enough to be slightly crushed by a press. Therefore, the resist slightly crushed by the press can increase the bonding area between the opposing substrates and improve the bonding strength between the substrates. As a result, the uneven distribution of the liquid crystal downward is further suppressed, and a liquid crystal display device of high quality display without display unevenness can be obtained.

【0034】さらに、レジスト自体が接着性を有してい
ることから、上記各基板同士を貼り合わせるために、た
とえば、このレジストに対して、さらに接着剤の層を形
成するなどといった製造工程の煩雑化が回避される。そ
のため、得られる液晶表示装置の構造も簡素化でき、製
造コストも低減することができる。
Further, since the resist itself has an adhesive property, in order to bond the above-mentioned substrates to each other, for example, an additional layer of an adhesive is formed on the resist to complicate the manufacturing process. Is avoided. Therefore, the structure of the obtained liquid crystal display device can be simplified, and the manufacturing cost can be reduced.

【0035】本発明の請求項3記載の液晶表示装置は、
上記の課題を解決するために、上記請求項1または2記
載の構成に加えて、上記スペーサはさらに接着剤の層を
備えていることを特徴としている。
A liquid crystal display device according to a third aspect of the present invention comprises:
In order to solve the above-described problem, in addition to the configuration described in claim 1 or 2, the spacer is further provided with an adhesive layer.

【0036】上記請求項3記載の構成によれば、上記レ
ジスト自体に接着性がなかった場合でも、接着剤の層を
形成することでシール材およびスペーサに接着性を付与
することができる。また、レジストが接着性を有してい
る場合でも、接着剤の層を形成することで、シール材お
よびスペーサの接着性をより確実なものとすることがで
きる。そのため、上記大型基板と接続基板とが貼り合わ
せられる構造をより強固にすることができ、液晶層のセ
ルギャップを全体的により均一に維持することができ
る。
According to the third aspect of the present invention, even when the resist itself has no adhesiveness, it is possible to impart adhesiveness to the sealing material and the spacer by forming an adhesive layer. Further, even when the resist has adhesiveness, by forming the adhesive layer, the adhesiveness of the sealant and the spacer can be further ensured. Therefore, the structure in which the large-sized substrate and the connection substrate are bonded to each other can be made stronger, and the cell gap of the liquid crystal layer can be maintained more uniformly as a whole.

【0037】本発明の請求項4記載の液晶表示装置は、
上記の課題を解決するために、上記請求項1、2または
3記載の構成に加えて、上記液晶層は、複数枚の小型基
板毎にシール材で分離されていることを特徴としてい
る。
A liquid crystal display device according to a fourth aspect of the present invention comprises:
In order to solve the above-mentioned problem, in addition to the configuration described in claim 1, 2, or 3, the liquid crystal layer is separated by a sealing material for each of a plurality of small substrates.

【0038】上記請求項4記載の構成によれば、得られ
る液晶表意装置の表示画面全体に違和感が生じないよう
に、すなわち、上記小型基板同士の接続部における段差
が表示画面に悪影響を及ぼさないように、液晶層のセル
ギャップを上記小型基板毎にコントロールすることが可
能となる。また、液晶層の面積は、各小型基板毎の小さ
な面積となるため、セルギャップ全体の均一性は、上記
レジストからなるスペーサによってより維持し易くな
る。これによって、より高い表示品位を有する大画面化
された液晶表示装置を提供することができる。
According to the structure of the fourth aspect of the present invention, the display screen of the obtained liquid crystal display device does not have a sense of incongruity, that is, the step at the connection between the small substrates does not adversely affect the display screen. Thus, the cell gap of the liquid crystal layer can be controlled for each of the small substrates. In addition, since the area of the liquid crystal layer is small for each small substrate, the uniformity of the entire cell gap is more easily maintained by the spacer made of the resist. This makes it possible to provide a large-screen liquid crystal display device having higher display quality.

【0039】本発明の請求項5記載の液晶表示装置は、
上記の課題を解決するために、上記請求項1から4の何
れか1項に記載の構成に加えて、上記接続基板は、上記
マトリクス状の非透光性パターンの領域内に収まる間隙
で複数枚の小型基板同士を接続してなる基板であること
を特徴としている。
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a liquid crystal display device comprising:
In order to solve the above-described problem, in addition to the configuration according to any one of claims 1 to 4, the connection substrate may include a plurality of gaps that fit in a region of the matrix-shaped non-transparent pattern. It is characterized in that it is a substrate formed by connecting two small substrates.

【0040】上記請求項5記載の構成によれば、上記接
続部に形成されるシール材がレジストからなっているこ
とから、該接続部において、シール材となるレジストが
広がって表示画面領域にはみ出すことがなく、さらに、
該シール材のパターンをより細い線幅で高精細に形成す
ることができる。したがって、非透光性パターンの領域
を広くする必要がない。
According to the fifth aspect of the present invention, since the sealing material formed at the connection portion is made of a resist, the resist serving as the sealing material spreads out at the connection portion and protrudes into the display screen area. Without,
The pattern of the sealing material can be formed with a finer line width and high definition. Therefore, it is not necessary to increase the area of the non-translucent pattern.

【0041】このため、上記接続部が上記非透光性パタ
ーンの領域内に収まる間隙となることによって、画素の
開口率の低下を伴わずに、表示画面における画素ピッチ
を表示画面全体として均一にすることができる。その結
果、上記接続部が表示画面に悪影響を及ぼすことを回避
できるとともに、高品位表示が可能な大画面化された液
晶表示装置を実現することができる。
For this reason, the connection portion forms a gap that fits within the area of the non-translucent pattern, so that the pixel pitch on the display screen is made uniform over the entire display screen without lowering the aperture ratio of the pixels. can do. As a result, it is possible to prevent the connection section from adversely affecting the display screen, and to realize a large-screen liquid crystal display device capable of high-quality display.

【0042】本発明の請求項6記載の液晶表示装置は、
上記の課題を解決するために、上記請求項1から5の何
れか1項に記載の構成に加えて、上記接続基板における
複数枚の小型基板同士の間隙に、該小型基板の基板材料
とほぼ同一の屈折率を有する樹脂が充填されていること
を特徴としている。
A liquid crystal display device according to a sixth aspect of the present invention comprises:
In order to solve the above-described problem, in addition to the configuration according to any one of claims 1 to 5, a gap between the plurality of small substrates in the connection substrate is substantially equal to a substrate material of the small substrates. It is characterized by being filled with resins having the same refractive index.

【0043】上記請求項6記載の構成によれば、大型基
板と小型基板とが、シール材およびスペーサに加えて、
小型基板同士の接続部において上記接着剤によっても貼
り合わせられていることになる。このため、大型基板と
接続基板とが貼り合わせられる構造をより強固とするこ
とができ、特に、小型基板同士の接続部における構造を
より強固なものとするとができる。したがって、液晶層
のセルギャップを全体的により均一に維持することがで
きる。
According to the above configuration, the large-sized substrate and the small-sized substrate include the sealing material and the spacer,
This means that the small substrates are bonded together with the adhesive at the connection portion. For this reason, the structure in which the large-sized substrate and the connection substrate are bonded to each other can be made stronger, and in particular, the structure at the connection portion between the small-sized substrates can be made stronger. Therefore, the cell gap of the liquid crystal layer can be maintained more uniformly as a whole.

【0044】また、上記接着剤は、小型基板の基板材料
とほぼ同一の屈折率を有しているため、上記接続部の小
型基板間における光の屈折および散乱を防止することが
できる。このため、上記接続部が表示画面に悪影響を及
ぼすことは回避できる。
Since the adhesive has substantially the same refractive index as the substrate material of the small substrate, it is possible to prevent refraction and scattering of light between the small substrates of the connection portion. For this reason, it is possible to prevent the connection section from adversely affecting the display screen.

【0045】本発明の請求項7記載の液晶表示装置は、
上記の課題を解決するために、上記請求項1から6の何
れか1項に記載の構成に加えて、上記スペーサおよびシ
ール材となるレジストは、大型基板上に形成されている
ことを特徴としている。
A liquid crystal display device according to a seventh aspect of the present invention comprises:
In order to solve the above problem, in addition to the configuration according to any one of claims 1 to 6, the resist serving as the spacer and the sealing material is formed on a large-sized substrate. I have.

【0046】上記請求項7記載の構成によれば、シール
材およびスペーサとなるレジストを小型基板上に形成す
ると、小型基板同士の接続部における段差のために、レ
ジストの厚さが異なるおそれがある。これに対して、大
型基板上にレジストを形成することによって、該レジス
トの厚さは一定となる。そのため、レジストの厚さがこ
となることに伴う色合いの変化などの悪影響が回避さ
れ、接続部がより目立たない高品位の表示画面を実現す
ることができる。
According to the above configuration, when the resist serving as the sealing material and the spacer is formed on the small-sized substrate, the thickness of the resist may be different due to a step at a connection portion between the small-sized substrates. . On the other hand, by forming a resist on a large substrate, the thickness of the resist becomes constant. For this reason, adverse effects such as a change in color tone due to different thicknesses of the resist can be avoided, and a high-quality display screen with less noticeable connection portions can be realized.

【0047】本発明の請求項8記載の液晶表示装置は、
上記の課題を解決するために、電極付きの一対の基板を
対向させて貼り合わせ、この基板間に液晶層を挟持して
なる液晶表示装置において、上記一対の基板を貼り合わ
せるためのシール材と、該基板間に挟持されている液晶
層の厚さを所定の値に維持するためのスペーサとが、耐
圧性を有するレジストからなっていることを特徴として
いる。
The liquid crystal display device according to claim 8 of the present invention,
In order to solve the above problem, a pair of substrates with electrodes are attached to each other so as to face each other, and a liquid crystal display device including a liquid crystal layer sandwiched between the substrates is provided with a sealing material for attaching the pair of substrates. The spacer for maintaining the thickness of the liquid crystal layer sandwiched between the substrates at a predetermined value is made of a resist having a pressure resistance.

【0048】上記請求項8記載の構成によれば、シール
材とスペーサとがレジストからなっているため、フォト
マスクを用いた現像パターンにより、シール材およびス
ペーサを1工程でしかも高精細で形成することができ
る。そのため、上記スペーサを非表示パターンの領域内
に収まるように容易に形成できるとともに、セルギャッ
プを十分維持できる数のスペーサを表示画面に悪影響を
与えることなく形成することができる。したがって、得
られる液晶表示装置の構造を安定化して、液晶の偏在な
どによる表示品位の低下を回避することができる。
According to the structure of the eighth aspect, since the sealing material and the spacer are made of a resist, the sealing material and the spacer are formed in one step and with high definition by a development pattern using a photomask. be able to. Therefore, the spacers can be easily formed so as to fit within the non-display pattern region, and the number of spacers capable of sufficiently maintaining the cell gap can be formed without adversely affecting the display screen. Therefore, it is possible to stabilize the structure of the obtained liquid crystal display device and to avoid a decrease in display quality due to uneven distribution of liquid crystal.

【0049】本発明の請求項9記載の液晶表示装置の製
造方法は、上記の課題を解決するために、マトリクス状
の非透光性パターンを備えている大型基板上に、シール
材およびスペーサとなるレジストを硬化させた状態で所
定のパターンとして形成する工程と、上記レジストを形
成した大型基板に、複数枚の小型基板がその側面部で隣
接して1枚の接続基板を形成するように各小型基板を対
向して貼り合わせる工程と、対向している上記大型基板
と接続基板とをプレスすることにより、該大型基板と接
続基板とで挟持される空間の厚さを所定の値に設定する
工程とを含むことを特徴としている。
According to a ninth aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a liquid crystal display device, wherein a sealing material and a spacer are provided on a large-sized substrate having a matrix-like non-light-transmitting pattern. Forming a predetermined pattern in a state where the resist is cured, and forming a single connection substrate such that a plurality of small substrates are adjacent to side surfaces of a large substrate on which the resist is formed. The thickness of the space sandwiched between the large-sized substrate and the connection substrate is set to a predetermined value by pressing the small-sized substrate and the large-sized substrate and the connection substrate facing each other. And a process.

【0050】上記請求項9記載の製造方法によれば、上
記各基板をセルギャップ設定のためにプレスする際に、
シール材およびスペーサは、硬化させた状態のレジスト
として形成されている。この硬化により、このレジスト
の形状は安定となるため、上記各基板同士をプレスする
ことによって、シール材となるレジストが所定の線幅か
ら広がって、表示画面領域にまではみ出すことは回避さ
れる。また、スペーサも同様に所定の領域から広がっ
て、たとえば、非透光性パターンから表示画面領域には
み出すことはない。それゆえ、これらシール材およびス
ペーサを遮蔽する非透光性パターンの領域を広くして、
シール材やスペーサのはみ出しを考慮する必要がなくな
る。したがって、画素の開口率を向上させることができ
る。
According to the manufacturing method of the ninth aspect, when each of the substrates is pressed for setting a cell gap,
The sealing material and the spacer are formed as a cured resist. By this curing, the shape of the resist becomes stable. Therefore, by pressing the substrates, the resist serving as the sealing material is prevented from spreading from a predetermined line width and protruding into the display screen area. Similarly, the spacer also extends from the predetermined area, and does not protrude from the non-light-transmitting pattern to the display screen area, for example. Therefore, the area of the non-light-transmitting pattern that shields these sealing materials and spacers is increased,
It is not necessary to consider the protrusion of the sealing material and the spacer. Therefore, the aperture ratio of the pixel can be improved.

【0051】また、シール材およびスペーサとなるレジ
ストは、フォトマスクを用いた現像パターンにて1工程
で形成することができる。このため、製造工程の煩雑化
は回避されるとともに、製造工程の簡素化も図ることが
できる。
In addition, the resist serving as the sealing material and the spacer can be formed in one step by a development pattern using a photomask. For this reason, complication of the manufacturing process can be avoided, and the manufacturing process can be simplified.

【0052】さらに、上記製造方法では、接続基板を大
型基板に貼り合わせる際に、複数枚の小型基板を、先に
大型基板に貼り合わせてから接続することになる。この
ため、小型基板同士を先に接続して大型基板に貼り合わ
せる場合に、小型基板同士の接続部の面積が小さいこと
によって接続基板の構造に不安定さが生じるというよう
なことがない。それゆえ、接続基板の取扱いに注意を要
するなどといった製造工程の煩雑化を回避できる。
Further, in the above manufacturing method, when bonding the connection substrate to the large substrate, a plurality of small substrates are bonded to the large substrate first and then connected. For this reason, when connecting small substrates first and bonding them to a large substrate, the structure of the connection substrate does not become unstable due to the small area of the connection portion between the small substrates. Therefore, it is possible to avoid complication of the manufacturing process, such as requiring care in handling the connection substrate.

【0053】本発明の請求項10記載の液晶表示装置の
製造方法は、上記の課題を解決するために、上記請求項
9記載の製造方法において、さらに、上記大型基板と接
する側の表面に接着剤が塗布された転写基板を、該大型
基板と対向するように貼り合わせることによって、上記
のレジストの上に接着剤の層を転写形成する工程を含む
ことを特徴としている。
According to a tenth aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a liquid crystal display device according to the ninth aspect, further comprising the step of bonding to a surface in contact with the large-sized substrate. The method includes a step of transferring and forming an adhesive layer on the resist by bonding a transfer substrate coated with an agent so as to face the large substrate.

【0054】上記請求項10記載の製造方法によれば、
転写基板とレジストが形成された大型基板とをプレスす
ることにより、上記接着剤の層を転写するだけで形成で
きるので、製造工程の煩雑化は回避される。
According to the manufacturing method of the tenth aspect,
By pressing the transfer substrate and the large-sized substrate on which the resist is formed, the adhesive can be formed only by transferring the adhesive layer, so that the manufacturing process is not complicated.

【0055】本発明の請求項11記載の液晶表示装置の
製造方法は、上記の課題を解決するために、上記請求項
9または10記載の製造方法において、上記対向してい
る基板同士を大気圧によってプレスすることを特徴とし
ている。
In order to solve the above-mentioned problems, a method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 11 of the present invention is characterized in that, in the manufacturing method according to claim 9 or 10, the substrates facing each other are subjected to atmospheric pressure. It is characterized by being pressed by.

【0056】上記請求項11記載の製造方法によれば、
上記大型基板と小型基板とを貼り合わせる場合では、上
記小型基板同士の接続面も含めて、全体的にほぼ均一な
セルギャップとして各基板同士を貼り合わせることがで
きる。このため、得られる液晶表示装置の液晶層のセル
ギャップを全体的により均一にすることができる。ま
た、上記の接着剤の層を転写する場合でも、大型基板と
転写基板とを全体的により均一にプレスすることができ
る。したがって、転写される接着剤の層もより均一とす
ることができる。
According to the manufacturing method of the eleventh aspect,
In the case where the large-sized substrate and the small-sized substrate are bonded to each other, the substrates can be bonded to each other with a substantially uniform cell gap as a whole including the connection surfaces of the small-sized substrates. Therefore, the cell gap of the liquid crystal layer of the obtained liquid crystal display device can be made more uniform as a whole. In addition, even when the above adhesive layer is transferred, the large substrate and the transfer substrate can be pressed more uniformly as a whole. Therefore, the transferred adhesive layer can be made more uniform.

【0057】[0057]

【発明の実施の形態】本発明の実施の一形態について図
1から図5に基づいて説明すれば、以下の通りである。
なお、これによって本発明が限定されるものではない。
本実施の形態の液晶表示装置は、図1に示すように、1
枚の大型基板(以下、CF基板とする)1と、アクティ
ブ素子としてTFTを用いた小型基板としてのアクティ
ブマトリクス基板(以下、TFT基板とする)2aをそ
の側面で2枚接続した1枚の接続基板2とが、シール材
3、スペーサ4およびTFT基板2a・2aの接続部に
おける接着剤5によって貼り合わせられてなっている。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS.
Note that the present invention is not limited by this.
As shown in FIG.
One large substrate (hereinafter, referred to as a CF substrate) 1 and an active matrix substrate (hereinafter, referred to as a TFT substrate) 2a as a small substrate using a TFT as an active element 2a are connected on one side by one side. The substrate 2 is bonded to the sealing material 3, the spacer 4, and the adhesive 5 at a connection portion between the TFT substrates 2 a and 2 a.

【0058】上記各TFT基板2aの辺縁部に沿って、
各TFT基板2aとCF基板1とは、シール材3によっ
て貼り合わせられている。このため、シール材3は、C
F基板1に対して、各TFT基板2aをそれぞれ独立し
て貼り合わせていることになる。したがって、液晶層1
4は、各TFT基板2aとCF基板1とによって個別に
挟持されている。
Along the edge of each of the TFT substrates 2a,
Each of the TFT substrates 2a and the CF substrate 1 are bonded to each other with a sealing material 3. Therefore, the sealing material 3 is C
This means that the TFT substrates 2a are independently attached to the F substrate 1. Therefore, the liquid crystal layer 1
4 are individually sandwiched between each TFT substrate 2a and the CF substrate 1.

【0059】上記シール材3およびスペーサ4は、CF
基板1上に形成されている。このスペーサ4と接続部に
おけるシール材3とは、CF基板1上に形成されている
非透光性パターンであるブラックマトリクス(以下、B
Mとする)12の領域内に収まるように形成されてい
る。加えて、シール材3のパターンには、図2に示すよ
うに、液晶を注入するための開口部15が形成されてい
る。
The sealing material 3 and the spacer 4 are made of CF.
It is formed on a substrate 1. The spacer 4 and the sealing material 3 at the connection portion are formed by a black matrix (hereinafter, referred to as B
M) 12 are formed. In addition, as shown in FIG. 2, an opening 15 for injecting a liquid crystal is formed in the pattern of the sealing material 3.

【0060】また、上記TFT基板2aには、図2に示
すように、画素6がマトリクス状に形成され、1つの画
素6には、赤(R)・緑(G)・青(B)のカラーフィ
ルタに対応した3つの画素電極7が配置されている。
As shown in FIG. 2, pixels 6 are formed in a matrix on the TFT substrate 2a, and one pixel 6 includes red (R), green (G), and blue (B). Three pixel electrodes 7 corresponding to the color filters are arranged.

【0061】図1および図2に示したTFT基板2aに
ついてさらに詳しく説明すると、図3に示すように、各
画素電極7には、アクティブ素子としてのTFT8が形
成され、さらに、上記画素電極7を駆動させるための走
査線9および信号線10がそれぞれ互いに交差するよう
に形成されている。また、CF基板1には、上記各カラ
ーフィルタ(以下、CFとする)11、BM12、共通
電極13が形成されている。
The TFT substrate 2a shown in FIGS. 1 and 2 will be described in more detail. As shown in FIG. 3, a TFT 8 as an active element is formed on each pixel electrode 7, and the pixel electrode 7 is The scanning lines 9 and the signal lines 10 for driving are formed so as to cross each other. Further, on the CF substrate 1, each color filter (hereinafter, referred to as CF) 11, BM 12, and common electrode 13 are formed.

【0062】TFT基板2a・2aの接続部には、図1
に示すように、TFT基板2aの基板材料とほぼ同一の
屈折率を有する樹脂である接着剤5が充填されている。
そして、この接着剤5からなる層の両側に接触するよう
にシール材3からなる層が形成されている。上記接着剤
5は、2つのTFT基板2a・2aをその側面で接続し
ているとともに、CF基板1にも接触するように形成さ
れている。
The connection between the TFT substrates 2a and 2a is shown in FIG.
As shown in FIG. 5, an adhesive 5 which is a resin having substantially the same refractive index as the substrate material of the TFT substrate 2a is filled.
Then, a layer made of the sealing material 3 is formed so as to contact both sides of the layer made of the adhesive 5. The adhesive 5 is formed so as to connect the two TFT substrates 2 a and 2 a on the side surfaces thereof and also to contact the CF substrate 1.

【0063】つまり、2枚のTFT基板2a・2aとC
F基板1とは、シール材3およびスペーサ4に加えて、
上記接続部において接着剤5によっても貼り合わせられ
ている。このとき、接着剤5の層と上記接続部における
シール材3の層とは、該接続部に対向するCF基板1上
におけるBM12の領域内に収まる間隙となるように形
成されている。
That is, the two TFT substrates 2a and 2a and C
The F substrate 1 includes, in addition to the sealing material 3 and the spacer 4,
It is also bonded at the connection portion by an adhesive 5. At this time, the layer of the adhesive 5 and the layer of the sealing material 3 at the connection portion are formed so as to form a gap that fits in the region of the BM 12 on the CF substrate 1 facing the connection portion.

【0064】より具体的には、図4に示すように、上記
接続部においては、該接続部のシール材3および接着剤
5の層は、画素6を構成する3つの画素電極7に重なら
ないように形成されている。すなわち、CF基板1に形
成されたBM12は、画素電極7に重ならない非表示領
域となっている。それゆえ、シール材3および接着剤5
の層がBM12の領域内に収まるように形成されていれ
ば、得られる液晶表示装置における表示画面に、該シー
ル材3および接着剤5からなる層が悪影響を及ぼすこと
は回避される。
More specifically, as shown in FIG. 4, in the connection portion, the sealing material 3 and the adhesive 5 layer of the connection portion do not overlap the three pixel electrodes 7 constituting the pixel 6. It is formed as follows. That is, the BM 12 formed on the CF substrate 1 is a non-display area that does not overlap the pixel electrode 7. Therefore, the sealing material 3 and the adhesive 5
Is formed so as to fit within the region of the BM 12, it is possible to avoid that the layer composed of the sealing material 3 and the adhesive 5 adversely affects the display screen of the obtained liquid crystal display device.

【0065】たとえば、上記接続部において、BM12
の領域の幅(以下、BM12の幅とする)をWとし、接
着剤5からなる層の幅をM、シール材3からなる層の幅
をNとする。この場合、TFT基板2a・2aの接続部
を形成する、シール材3および接着剤5からなる層の幅
の和M+2Nは、BM12の幅Wと比較した場合、M+
2N<Wの関係となる。
For example, in the connection section, the BM12
Is W, the width of the layer made of the adhesive 5 is M, and the width of the layer made of the sealing material 3 is N. In this case, the sum M + 2N of the widths of the layers formed of the sealing material 3 and the adhesive 5 forming the connection portions of the TFT substrates 2a and 2a is M + 2 when compared with the width W of the BM 12.
2N <W.

【0066】上記TFT基板2aとしては、たとえば、
無アルカリガラス(コーニング7059など)からなる
ガラス基板を用いることができる。本実施の形態では、
上記TFT基板2aは2枚用いられているが、TFT基
板2a・2a同士の接続部において、上述のような、シ
ール材3からなる層と接着剤5からなる層とが形成され
ることによって接続されていれば、3枚以上であっても
構わない。たとえば、TFT基板2aが「田」字状に4
枚接続されることによって、1つの接続基板2を形成す
ることができる。
As the TFT substrate 2a, for example,
A glass substrate made of non-alkali glass (such as Corning 7059) can be used. In the present embodiment,
Although two TFT substrates 2a are used, the connection is made by forming the layer made of the sealing material 3 and the layer made of the adhesive 5 as described above at the connection portion between the TFT substrates 2a. If so, three or more sheets may be used. For example, when the TFT substrate 2a is
One connection board 2 can be formed by the connection.

【0067】上記接着剤5としては、TFT基板2aに
用いられているガラス基板とほぼ等しい屈折率を有する
透明なものを用いることが好ましい。具体的には、紫外
線硬化型接着剤がよく用いられている。紫外線硬化型接
着剤は、TFT基板2aに用いられているガラス基板
(上記のコーニング7059の場合では、屈折率は1.
53)とほぼ等しい屈折率のものを容易に入手できる。
As the adhesive 5, it is preferable to use a transparent adhesive having a refractive index substantially equal to that of the glass substrate used for the TFT substrate 2a. Specifically, an ultraviolet curable adhesive is often used. The ultraviolet curable adhesive is a glass substrate used for the TFT substrate 2a (in the case of Corning 7059, the refractive index is 1.
One having a refractive index substantially equal to 53) can be easily obtained.

【0068】このため、2枚のTFT基板2a・2aの
間隙で、光の屈折や散乱を防止することができ、接続部
を透過する光が着色することによる表示画面に与える悪
影響を回避できる。加えて、硬化時に熱を必要としない
ため、TFT基板2aやCF基板1に対する熱による悪
影響も回避できる。
For this reason, refraction and scattering of light can be prevented in the gap between the two TFT substrates 2a, and the adverse effect on the display screen due to coloring of the light transmitted through the connection portion can be avoided. In addition, since no heat is required at the time of curing, adverse effects of heat on the TFT substrate 2a and the CF substrate 1 can be avoided.

【0069】ところで、従来、上記シール材3として用
いられている樹脂は、TFT基板2a・2aからなる接
続基板2とCF基板1とを貼り合わせてプレスする際
に、所定の線幅から広がるという問題点を有している。
このように、上記樹脂が所定の線幅から広がると、該樹
脂が表示画面領域にはみ出して、表示画面に悪影響を及
ぼすことになる。そこで、このはみ出した樹脂は、上記
BM12によって遮蔽するために、樹脂のはみ出しを考
慮して、上記接続部において、BM12の幅Wを広くす
ることが行われている。
By the way, the resin conventionally used as the sealing material 3 spreads from a predetermined line width when the connection substrate 2 composed of the TFT substrates 2a and the CF substrate 1 are bonded and pressed. Has problems.
As described above, when the resin spreads from a predetermined line width, the resin protrudes into the display screen area, and adversely affects the display screen. Therefore, in order to shield the protruding resin by the BM 12, the width W of the BM 12 is increased at the connection portion in consideration of the protruding resin.

【0070】しかしながら、上記接続部におけるBM1
2の幅Wを広くすると、画素6の開口率は低下すること
になる。これは、BM12が表示画面上では非表示領域
であるので、上記接続部におけるBM12の幅Wを広く
すると、表示画面全体で一つのパターンとなっているB
M12全体の領域が広くなるためである。仮に、上記接
続部のみ広い幅のBM12とすると、表示画面におい
て、接続部が目立ち、表示画面全体に違和感を与えるこ
とになる。このような開口率の低下は、表示画面全体を
暗くしてコントラストを低下させたり、表示画面の解像
度を低下させるなどの表示品位の低下を招来する。
However, the BM1 at the connection section
When the width W of the pixel 2 is increased, the aperture ratio of the pixel 6 decreases. This is because the BM 12 is a non-display area on the display screen. Therefore, if the width W of the BM 12 in the connection portion is increased, the BM 12 forms one pattern on the entire display screen.
This is because the entire area of M12 is widened. If only the connection portion is a BM 12 having a wide width, the connection portion is conspicuous on the display screen, giving an uncomfortable feeling to the entire display screen. Such a decrease in the aperture ratio causes a decrease in display quality such as a decrease in contrast by darkening the entire display screen or a decrease in resolution of the display screen.

【0071】そこで、本発明の液晶表示装置では、上記
シール材3となる樹脂として、耐圧性を有するレジスト
用いることにより、上記の問題点の発生を防止してい
る。このレジストは、後述するように、スペーサ4と同
一の材質であり、該レジスト自体が接着性を有している
か、レジストの上に接着剤の層を形成することによっ
て、接続基板2とCF基板1とを貼り合わせることがで
きるものとなっている。
Therefore, in the liquid crystal display device of the present invention, the above problem is prevented by using a resist having a pressure resistance as the resin for the sealing material 3. The resist is made of the same material as that of the spacer 4 as described later. The resist itself has an adhesive property, or the connection substrate 2 and the CF substrate are formed by forming an adhesive layer on the resist. 1 can be attached.

【0072】しかも、CF基板1と接続基板2とを貼り
合わせた後に、セルギャップを設定するためのプレス時
においては、上記シール材3となるレジストは硬化した
状態とすることができる。この硬化したレジストは、形
成された状態が安定となるため、上記プレス時に該レジ
ストの線幅が広がって、表示画面領域へはみ出すことは
防止される。
Further, after the CF substrate 1 and the connection substrate 2 are bonded together, at the time of pressing for setting the cell gap, the resist serving as the sealing material 3 can be in a cured state. Since the cured resist is formed in a stable state, the line width of the resist is increased at the time of the pressing, and the resist is prevented from protruding into the display screen area.

【0073】これによって、図4に示したTFT基板2
a・2aの接続部において、シール材3の幅Nは、BM
12の幅Wに収まる領域内で、表示画面領域に近接した
位置にまで偏在させることができる。したがって、シー
ル材3となる樹脂のはみ出しを考慮して非表示領域であ
るBM12の幅Wを広くする必要はない。
As a result, the TFT substrate 2 shown in FIG.
a · 2a, the width N of the seal material 3 is BM
In the area that fits within the width W of 12, the image can be unevenly distributed to a position close to the display screen area. Therefore, it is not necessary to increase the width W of the BM 12, which is a non-display area, in consideration of the protrusion of the resin serving as the sealing material 3.

【0074】それゆえ、本実施の形態の液晶表示装置で
は、TFT基板2a・2aを接続して大画面化を図った
場合でも、従来とは異なり、BM12として通常用いら
れているBMのパターンとほぼ同一のパターンを有する
ものを用いることが可能となる。したがって、画素6の
開口率の低下を招来することは回避される。
Therefore, in the liquid crystal display device of the present embodiment, even when the TFT substrates 2a and 2a are connected to increase the screen size, unlike the related art, the BM pattern normally used as the BM 12 is different from that of the conventional BM. It is possible to use one having substantially the same pattern. Therefore, a decrease in the aperture ratio of the pixel 6 is avoided.

【0075】このように、画素6の開口率が低下しない
ことによって、得られる表示画面の解像度を上昇させる
ことができるともに、コントラストの低下も回避するこ
とができる。それゆえ、バックライトを明るくするな
ど、液晶表示装置の消費電力が大きくなることも回避で
きる。
As described above, since the aperture ratio of the pixel 6 does not decrease, the resolution of the obtained display screen can be increased, and a decrease in contrast can be avoided. Therefore, it is possible to avoid an increase in power consumption of the liquid crystal display device such as increasing the brightness of the backlight.

【0076】また、上記シール材3としてレジストを用
いると、該シール材3が有する所定のパターンを高精細
に形成することができる。そのため、上記接続部におい
ては、シール材3の幅Nは、BM12の幅Wに収まる領
域内で、表示画面領域に近接する限界となる位置にまで
偏在させることが可能となる。それゆえ、上記接続部に
おける画素ピッチは、従来よりも、それ以外の領域の画
素ピッチと同一に設定し易くなる。これによって、2枚
のTFT基板2a・2aの接続部が表示画面に悪影響を
及ぼすことは回避され、観視者にとって違和感のない大
表示画面が可能となる。
When a resist is used as the sealing material 3, a predetermined pattern of the sealing material 3 can be formed with high definition. Therefore, in the connection portion, the width N of the sealing material 3 can be unevenly distributed to a limit position close to the display screen region within a region that fits within the width W of the BM 12. Therefore, it is easier to set the pixel pitch in the connection portion to be the same as the pixel pitch in the other region than in the related art. This avoids the connection portion between the two TFT substrates 2a and 2a from adversely affecting the display screen, and enables a large display screen without a sense of incongruity for the viewer.

【0077】加えて、上記接続部はBM12の幅Wに収
まるように形成されているとともに、該接続部にはTF
T基板2aの基板材料とほぼ同一の屈折率を有する接着
剤5が充填されている。このため、得られる表示画面上
で、該接続部が目立つことは抑制される。
In addition, the connecting portion is formed so as to fit within the width W of the BM 12, and the connecting portion has a TF.
An adhesive 5 having substantially the same refractive index as the substrate material of the T substrate 2a is filled. For this reason, the connection portion is suppressed from being conspicuous on the obtained display screen.

【0078】さらに、液晶層14は、上記TFT基板2
a毎に独立して形成されているため、表示画面全体とし
て違和感がないように、各TFT基板2a毎の液晶層1
4のセルギャップをコントロールすることができる。そ
れゆえ、上記の接続部に段差が生じるような場合でも、
表示画面に悪影響を及ぼすことは回避できる。
Further, the liquid crystal layer 14 is formed on the TFT substrate 2
a for each TFT substrate 2 a so that the entire display screen does not feel uncomfortable.
4 can be controlled. Therefore, even in the case where a step occurs in the above-mentioned connection portion,
The adverse effect on the display screen can be avoided.

【0079】また、スペーサ4は、前述したように、シ
ール材3と同一の材質であるレジストからなっており、
CF基板1上のBM12の領域内に収まるように形成さ
れている。このスペーサ4は、CF基板1と接続基板2
とが挟持する液晶層14の厚さであるセルギャップを一
定に維持するとともに、上記シール材3と同様にTFT
基板2a・2aとCF基板1とを貼り合わせる働きを有
している。
As described above, the spacer 4 is made of the same material as the sealing material 3 such as resist.
It is formed so as to fit within the area of the BM 12 on the CF substrate 1. The spacer 4 is composed of the CF substrate 1 and the connection substrate 2
And the cell gap, which is the thickness of the liquid crystal layer 14 sandwiched between them, is kept constant.
It has a function of bonding the substrates 2a and 2a to the CF substrate 1.

【0080】上記レジストは前記の通り耐圧性を有して
いる。これは、スペーサ4としてCF基板1とTFT基
板2a・2aとによって挟持されて形成されるセルの厚
さ、すなわち、液晶層14のセルギャップを所定の値に
維持する必要があるためである。上記レジストとして
は、たとえば、耐圧性のあるUV硬化型レジストを用い
ることができる。
The resist has a pressure resistance as described above. This is because it is necessary to maintain the thickness of the cell formed as the spacer 4 sandwiched between the CF substrate 1 and the TFT substrates 2a, 2a, that is, the cell gap of the liquid crystal layer 14 at a predetermined value. As the resist, for example, a UV-curable resist having pressure resistance can be used.

【0081】このスペーサ4としては、上記レジストの
上に、CF基板1とTFT基板2a・2aとを貼り合わ
せるための接着剤の層を有する2層構造のものを用いる
ことができる。また、自身が接着性を有するレジストか
らなる1層のみの構造であってもよい。上記のように、
スペーサ4が接着性を有しているため、該スペーサ4
は、シール材3とともに2枚のTFT基板2a・2aと
CF基板1とを貼り合わせている働きも有している。
As the spacer 4, a two-layer structure having an adhesive layer for bonding the CF substrate 1 and the TFT substrates 2a on the resist can be used. Further, the structure may be a single-layer structure made of a resist having an adhesive property. as mentioned above,
Since the spacer 4 has adhesiveness, the spacer 4
Has a function of bonding the two TFT substrates 2 a and 2 a and the CF substrate 1 together with the sealing material 3.

【0082】したがって、CF基板1とTFT基板2a
・2aとは、シール材3だけでなく、スペーサ4によっ
ても貼り合わせられていることになる。なお、スペーサ
4およびシール材3の材質としては、高精細な形成が可
能で、耐圧性があり、上記各基板を貼り合わせることが
可能な接着性を有していれば上記レジストのみに限定さ
れるものではない。
Therefore, the CF substrate 1 and the TFT substrate 2a
2a means that not only the sealing material 3 but also the spacer 4 is attached. The material of the spacer 4 and the sealing material 3 is limited to the above-mentioned resist only as long as it can be formed with high definition, has a pressure resistance, and has an adhesive property capable of bonding the above substrates. Not something.

【0083】ここで、従来よりスペーサとしては、樹脂
製やシリカ製のビーズ状のスペーサがよく用いられてい
る。これらビーズ状のスペーサは、その径が極端に小さ
く(液晶層のセルギャップとほぼ同一の径)、たとえ
ば、液晶層のセルギャップが5μmならば、約5μmの
径のものが用いられることになる。そのため、表示画面
上では、観視者はこのスペーサを確認することができ
ず、表示画面に悪影響を与えることはほとんどない。そ
のため、上記スペーサは、液晶層の表示画面領域に、均
一な密度となるようにほぼランダムに散布されることに
なる。
Here, bead spacers made of resin or silica have been often used as the spacers. These bead-shaped spacers have extremely small diameters (about the same diameter as the cell gap of the liquid crystal layer). For example, if the cell gap of the liquid crystal layer is 5 μm, a diameter of about 5 μm is used. . Therefore, the viewer cannot see the spacer on the display screen, and there is almost no adverse effect on the display screen. Therefore, the spacers are scattered almost randomly over the display screen area of the liquid crystal layer so as to have a uniform density.

【0084】このとき、スペーサの数量は多いほど液晶
層全体のセルギャップを均一に維持することができる。
ところが、上記液晶層において、スペーサの部分には液
晶が存在しないため、液晶の駆動状態によらず表示画面
が常に白くなって黒表示のレベルをわずかながら低下さ
せる。それゆえ、得られる表示画面のコントラストは低
下することになる。
At this time, as the number of spacers increases, the cell gap of the entire liquid crystal layer can be maintained more uniform.
However, in the liquid crystal layer, since no liquid crystal exists in the spacer portion, the display screen is always white regardless of the driving state of the liquid crystal, and the level of black display is slightly reduced. Therefore, the contrast of the obtained display screen is reduced.

【0085】したがって、表示画面上で観視者に確認さ
れることはないとはいえ、スペーサの散布される数量は
制限される必要がある。しかしながら、スペーサの数量
が制限されると、液晶層全体としてのセルギャップを均
一に維持することが不十分となる。特に、大表示画面を
有する液晶表示装置では、液晶層全体のセルギャップが
維持できないと、表示画面の下方に、液晶自身の重みで
液晶が偏在することになり、表示ムラが生じるなど、表
示画面に悪影響を及ぼすことになる。
Therefore, the number of spacers to be scattered needs to be limited, although it is not confirmed by the viewer on the display screen. However, when the number of spacers is limited, it is insufficient to maintain a uniform cell gap as the entire liquid crystal layer. In particular, in a liquid crystal display device having a large display screen, if the cell gap of the entire liquid crystal layer cannot be maintained, the liquid crystal is unevenly distributed below the display screen due to the weight of the liquid crystal itself, causing display unevenness. Will have an adverse effect.

【0086】これに対して、本実施の形態の液晶表示装
置では、スペーサ4がレジストからなっているため、特
定の位置に高精細に形成することが可能である。そのた
め、スペーサ4は、CF基板1に形成されている非表示
領域となるBM12の領域内に収まるように、正確に形
成することが可能となる。したがって、CF基板1とT
FT基板2a・2aとの間には、液晶層14のセルギャ
ップを全体的により均一に維持できるだけの数量のスペ
ーサ4を、表示画面に全く影響を与えることなく形成す
ることができる。
On the other hand, in the liquid crystal display device of the present embodiment, since the spacer 4 is made of a resist, it can be formed at a specific position with high definition. Therefore, the spacers 4 can be accurately formed so as to fit within the non-display area BM 12 formed on the CF substrate 1. Therefore, CF substrate 1 and T
Between the FT substrates 2a, 2a, a sufficient number of spacers 4 capable of maintaining the cell gap of the liquid crystal layer 14 more uniformly can be formed without affecting the display screen at all.

【0087】なお、上記スペーサ4の形状は、BM12
の領域内に収まる大きさであれば特に限定されるもので
はない。具体的には、上記スペーサ4の形状は、BM1
2の領域内に収まるような線幅で、該BM12に沿った
線状のパターンであってもよい。または、柱状のレジス
トの層が、BM12に遮蔽される領域内において一定の
間隔で形成されるようなアイランド状のパターンであっ
てもよい。このとき、これらスペーサ4のパターンは、
各TFT基板2a毎に、単位画素面積当たりのスペーサ
4の占有面積がほぼ同一となるように形成される必要が
ある。
The shape of the spacer 4 is BM12
The size is not particularly limited as long as the size can fit within the area. Specifically, the shape of the spacer 4 is BM1
A line pattern along the BM 12 with a line width that fits within the region 2 may be used. Alternatively, an island-shaped pattern in which pillar-shaped resist layers are formed at regular intervals in a region shielded by the BM 12 may be used. At this time, the pattern of these spacers 4 is
Each TFT substrate 2a needs to be formed such that the occupied area of the spacer 4 per unit pixel area is substantially the same.

【0088】上記のようなレジストからなるスペーサ4
は、表示画面上では非透光性パターンに遮蔽されるた
め、該スペーサ4が表示画面に悪影響を及ぼすことはな
い。その結果、従来よりも多い数量のスペーサ4を、表
示画面に影響を及ぼすことなく、しかも安定した位置に
形成することができる。それゆえ、大面積化した液晶層
14においてもセルギャップを十分に維持することがで
きる。
Spacer 4 made of resist as described above
Is shielded by a non-translucent pattern on the display screen, so that the spacer 4 does not adversely affect the display screen. As a result, a larger number of spacers 4 than before can be formed at a stable position without affecting the display screen. Therefore, the cell gap can be sufficiently maintained even in the liquid crystal layer 14 having a large area.

【0089】さらに、上記スペーサ4は、シール材3と
ともに、CF基板1とTFT基板2a・2aとを貼り合
わせている。このため、従来の液晶表示装置と比較し
て、各基板の辺縁部だけでなく、液晶層の表示画面領域
の全体で均一に基板同士を貼り合わせていることにな
る。加えて、前述した通り、TFT基板2a・2aの接
続部の間隙には、CF基板1とも接触するように、接着
剤5が充填されている。このため、CF基板1と接続基
板2とは、シール材3、スペーサ4および上記接着剤5
によって貼り合わせられていることになる。
Further, the spacer 4 bonds the CF substrate 1 and the TFT substrates 2a together with the sealing material 3. For this reason, compared with the conventional liquid crystal display device, the substrates are uniformly bonded not only at the peripheral portion of each substrate but also over the entire display screen area of the liquid crystal layer. In addition, as described above, the gap between the connection portions of the TFT substrates 2a is filled with the adhesive 5 so as to be in contact with the CF substrate 1. Therefore, the CF substrate 1 and the connection substrate 2 are separated from each other by the sealing material 3, the spacer 4 and the adhesive 5.
Will be bonded together.

【0090】したがって、CF基板1と接続基板2とが
貼り合わせられている本実施の形態の液晶表示装置で
は、液晶層14のセルギャップは、従来の大画面化され
た液晶表示装置よりも強固な構造にて維持されている。
それゆえ、液晶層14のセルギャップも全体的により均
一に維持され、大表示画面の液晶表示装置であっても、
液晶自身の重みで液晶が下方に偏在することを抑制でき
る。したがって、表示ムラのない、高い表示品位の表示
画面を提供することができる。
Therefore, in the liquid crystal display device of the present embodiment in which the CF substrate 1 and the connection substrate 2 are bonded, the cell gap of the liquid crystal layer 14 is stronger than that of the conventional liquid crystal display device having a large screen. The structure is maintained.
Therefore, the cell gap of the liquid crystal layer 14 is also maintained more uniformly as a whole, and even in a liquid crystal display device having a large display screen,
The uneven distribution of the liquid crystal downward can be suppressed by the weight of the liquid crystal itself. Therefore, it is possible to provide a display screen with high display quality without display unevenness.

【0091】さらに、上記液晶層14は、本実施の形態
では、上記TFT基板2a毎に独立して形成されてい
る。そのため、液晶層14の面積は、液晶表示装置の大
画面化に伴っても極端に広くなることがない。したがっ
て、液晶層14においては、セルギャップ全体の均一性
がより維持し易くなっている。これによって、より高い
表示品位を有する大画面化された液晶表示装置を提供す
ることができる。
Further, in the present embodiment, the liquid crystal layer 14 is formed independently for each of the TFT substrates 2a. Therefore, the area of the liquid crystal layer 14 does not become extremely large even as the screen size of the liquid crystal display device increases. Therefore, in the liquid crystal layer 14, the uniformity of the entire cell gap is more easily maintained. This makes it possible to provide a large-screen liquid crystal display device having higher display quality.

【0092】加えて、上記シール材3およびスペーサ4
となるレジストは、大型基板であるCF基板1上に形成
されている。これは、上記TFT基板2a・2aの接続
部をより目立たなくするためである。
In addition, the sealing material 3 and the spacer 4
Is formed on the CF substrate 1 which is a large substrate. This is to make the connection between the TFT substrates 2a less noticeable.

【0093】たとえば、上記レジストをTFT基板2a
・2a上に形成した場合、TFT基板2a同士の接続部
において、該レジストの厚さが異なるおそれがある。す
なわち、TFT基板2a同士の接続部にわずかな段差や
間隙などがあると、この接続部に形成されるレジストの
厚さに影響を及ぼす。
For example, the above resist is applied to the TFT substrate 2a.
-When formed on 2a, the thickness of the resist may be different at the connection between the TFT substrates 2a. That is, if there is a slight step or gap at the connection between the TFT substrates 2a, the thickness of the resist formed at this connection is affected.

【0094】特に、シール材3となるレジストの厚さが
0.3μm以上異なると、液晶層14のセルギャップが
接続部で大幅に変化することになる。このようなセルギ
ャップの大幅な変化は、表示画面上でTFT基板2a・
2aの接続部の色合いの変化を生じさせるため、該接続
部が目立つことになる。
In particular, if the thickness of the resist serving as the sealing material 3 differs by 0.3 μm or more, the cell gap of the liquid crystal layer 14 will change significantly at the connection. Such a large change in the cell gap is caused by the TFT substrate 2a on the display screen.
Since the color change of the connection portion 2a occurs, the connection portion becomes conspicuous.

【0095】これに対して、CF基板1上にレジストを
形成すると、上記のような小型基板同士を接続すること
による段差の発生は生じないため、レジストの厚さが異
なることは回避される。それゆえ、接続部が目立つこと
は防止され、より高品位の表示画面を実現することがで
きる。
On the other hand, when a resist is formed on the CF substrate 1, no step is generated by connecting the small substrates as described above, so that a difference in the thickness of the resist is avoided. Therefore, the connection portion is prevented from being conspicuous, and a higher-quality display screen can be realized.

【0096】以上の構成を有する本実施の形態の液晶表
示装置は、表示画面に表示ムラがなく、かつ、高い開口
率を有している。さらに、小型基板同士を接続すること
によって大画面化を図っても、該小型基板同士の接続部
が目立って、表示画面全体に違和感を与えることがな
い。それゆえ、従来よりも表示品位がより向上した大表
示画面の液晶表示装置を提供することが可能となる。
The liquid crystal display device of this embodiment having the above configuration has no display unevenness on the display screen and has a high aperture ratio. Further, even if the screen is enlarged by connecting the small substrates, the connection portion between the small substrates is conspicuous, and the whole display screen does not feel strange. Therefore, it is possible to provide a liquid crystal display device having a large display screen with a higher display quality than before.

【0097】なお、以上の構成は、画素6の配列がスト
ライプ配列の場合に好適に適用することができる。画素
6の配列がデルタ配列の場合では、BM12の領域が直
線状とならないため、以上の構成を適用することは困難
となる。
The above configuration can be suitably applied when the arrangement of the pixels 6 is a stripe arrangement. In the case where the arrangement of the pixels 6 is a delta arrangement, since the region of the BM 12 is not linear, it is difficult to apply the above configuration.

【0098】次に、本発明の液晶表示装置の製造方法に
ついて説明する。本発明の液晶表示装置の製造方法は、
図5にも示すように、以下の6つの基本工程を有してい
る。
Next, a method for manufacturing the liquid crystal display device of the present invention will be described. The method for manufacturing a liquid crystal display device of the present invention includes:
As shown in FIG. 5, the method has the following six basic steps.

【0099】まず、第1の工程(P1;以下、工程をP
と略す)として、CF基板1上にシール材3およびスペ
ーサ4となるレジストの層を塗布する。そして、所定の
パターンを有するフォトマスクを用いて、上記レジスト
の層を露光・現像し、シール材3およびスペーサ4とな
るレジストを所定のパターンとして上記CF基板1上に
同時に形成する。
First, the first step (P1; hereinafter, the step is referred to as P
(Abbreviated as)), a layer of a resist serving as a sealing material 3 and a spacer 4 is applied on the CF substrate 1. Then, using a photomask having a predetermined pattern, the resist layer is exposed and developed, and a resist serving as a sealing material 3 and a spacer 4 is simultaneously formed on the CF substrate 1 as a predetermined pattern.

【0100】このとき、シール材3およびスペーサ4と
なるレジストに対してさらに接着剤の層を形成する場合
は、該レジストをポストベークすることによって完全に
硬化させる。また、接着剤の層を形成しない接着性を有
するレジストのみの場合は、ガラス転移温度以下で仮硬
化させておく。いずれの場合でも、P1から次の工程に
移行する際には、レジストは硬化している状態となって
いる。
At this time, when an adhesive layer is further formed on the resist serving as the sealing material 3 and the spacer 4, the resist is completely cured by post-baking. In the case of using only an adhesive resist that does not form an adhesive layer, it is temporarily cured at a glass transition temperature or lower. In any case, when the process moves from P1 to the next step, the resist is in a hardened state.

【0101】次に、第2の工程(P2)として、CF基
板1および複数枚のTFT基板2a(本実施の形態では
2枚)のそれぞれの対向面に配向膜を形成する。
Next, as a second step (P2), an alignment film is formed on each of the opposing surfaces of the CF substrate 1 and the plurality of TFT substrates 2a (two in this embodiment).

【0102】その後、第3の工程(P3)として、上記
CF基板1に、複数枚のTFT基板2aをその側面部で
隣接して1枚の接続基板2を形成するように、各接続基
板2を対向して貼り合わせる。このとき、上記CF基板
1上に、所定のパターンとして形成されたレジストと対
応するように、2枚のTFT基板2aを貼り合わせる必
要がある。
Then, as a third step (P3), each of the connection substrates 2 is formed such that a plurality of TFT substrates 2a are adjacent to the CF substrate 1 on the side surfaces thereof to form one connection substrate 2. And stick them together. At this time, it is necessary to bond two TFT substrates 2a so as to correspond to the resist formed as a predetermined pattern on the CF substrate 1.

【0103】次に、第4の工程(P4)として、CF基
板1とTFT基板2a・2aとで挟持される空間の厚
さ、すなわち、液晶層14におけるセルギャップを所定
の値に設定するためにプレスする。そして、レジスト上
に形成されている接着剤の層を硬化させる、または、仮
硬化の状態にあるレジストを本硬化させることにより上
記各基板の対向状態を固定する。
Next, as a fourth step (P4), the thickness of the space sandwiched between the CF substrate 1 and the TFT substrates 2a, that is, the cell gap in the liquid crystal layer 14 is set to a predetermined value. Press to Then, the facing state of each substrate is fixed by hardening the adhesive layer formed on the resist or by fully hardening the resist in a temporarily hardened state.

【0104】このとき硬化しているレジストは、約0.
7kg/cm2 の強度を有している。レジストがプレス
によってもほとんど押しつぶされないためには、該レジ
ストの強度としては約1.0kg/cm2 の強度が必要
である。しかしながら、上記P4では、セルギャップの
設定のためにプレスを行うため、レジストをプレスによ
って若干押しつぶすことにより、セルギャップを可変さ
せる必要がある。それゆえ、上記硬化レジストにおいて
は、上記のように少し強度を低下させて設定することが
好ましい。
At this time, the hardened resist is about 0.1 mm.
It has a strength of 7 kg / cm 2 . In order for the resist to be hardly crushed even by pressing, the strength of the resist needs to be about 1.0 kg / cm 2 . However, in the above P4, since the press is performed for setting the cell gap, it is necessary to change the cell gap by slightly crushing the resist by the press. Therefore, in the above-mentioned cured resist, it is preferable that the strength is set slightly lower as described above.

【0105】さらに、第5の工程(P5)として、上記
複数枚のTFT基板2a・2aの接続部における間隙
に、TFT基板2aの基板材料とほぼ同一の屈折率を有
する接着剤5を充填する。
Further, as a fifth step (P5), an adhesive 5 having substantially the same refractive index as the substrate material of the TFT substrate 2a is filled in the gap between the connection portions of the plurality of TFT substrates 2a. .

【0106】最後に、第6の工程(P6)として、上記
シール材3のパターンに予め形成されていた開口部15
から液晶を注入し、その後、該開口部15を封止材で封
止することにより、本発明の大表示画面の液晶表示装置
が製造される。
Finally, as a sixth step (P6), the opening 15 previously formed in the pattern of the sealing material 3 is formed.
The opening 15 is sealed with a sealing material, and the liquid crystal display device having a large display screen of the present invention is manufactured.

【0107】上記の製造方法では、P1において、シー
ル材3およびスペーサ4となるレジストは、フォトマス
クを用いた現像パターンにより1工程で形成することが
可能となる。したがって、上記フォトマスクには、スペ
ーサ4のパターンとシール材3のパターンとの両方を一
度にCF基板1上に配設することができる。そのため、
液晶表示装置の製造工程を簡素化することができる。
In the above manufacturing method, in P1, the resist to be the sealing material 3 and the spacer 4 can be formed in one step by a development pattern using a photomask. Therefore, both the pattern of the spacer 4 and the pattern of the sealing material 3 can be disposed on the CF substrate 1 at a time on the photomask. for that reason,
The manufacturing process of the liquid crystal display device can be simplified.

【0108】さらに、上記製造方法では、接続基板2を
CF基板1に貼り合わせる際に、P3において、複数枚
のTFT基板2aを先にCF基板1に貼り合わせてから
P5において接続することになる。このため、TFT基
板2a同士の接続部の面積が小さいことにより接続基板
2の構造が不安定となって、該接続基板2の取扱いに注
意を要するなどといった製造工程の煩雑化を回避でき
る。
Further, in the above manufacturing method, when bonding the connection substrate 2 to the CF substrate 1, a plurality of TFT substrates 2a are bonded to the CF substrate 1 first in P3 and then connected in P5. . For this reason, the structure of the connection substrate 2 becomes unstable due to the small area of the connection portion between the TFT substrates 2a, so that it is possible to avoid complication of the manufacturing process such that the handling of the connection substrate 2 requires attention.

【0109】加えて、上記P4においては、液晶を注入
するための上記開口部から、液晶層14となるセルの内
部を減圧し、大気圧で各基板をプレスする方法を行うと
大面積でも均一なプレスが可能となる。この大気圧によ
るプレス方法は、液晶層14のセルギャップを所定の値
に設定する際に、セルギャップを全体的に均一とするこ
とができるため好ましい。
In addition, in the above P4, when the inside of the cell to be the liquid crystal layer 14 is depressurized from the opening for injecting the liquid crystal and the substrates are pressed at atmospheric pressure, the uniformity can be obtained even in a large area. Press is possible. This pressing method using the atmospheric pressure is preferable because the cell gap can be made uniform as a whole when the cell gap of the liquid crystal layer 14 is set to a predetermined value.

【0110】なお、上記P2の配向膜の形成は、P3に
おける各基板同士の貼り合わせの前に行われなければな
らないが、その順序は特に限定されるものではなく、た
とえば、P1のレジストの層が形成される前に行われて
もよい。
The formation of the alignment film of P2 must be performed before the bonding of the substrates in P3. However, the order is not particularly limited. May be performed before is formed.

【0111】また、上記P1において形成されるシール
材3およびスペーサ4は、前述した通り、レジストのみ
の1層の構造である場合と、レジストの上にさらに接着
剤の層を形成している2層構造となっている場合とがあ
る。これらの形成手法としては、たとえば、次に示すよ
うな手法を用いることができる。
As described above, the sealing material 3 and the spacer 4 formed in the above P1 have a single-layer structure composed of only a resist, and have a structure in which an adhesive layer is further formed on the resist. It may have a layered structure. As these forming methods, for example, the following methods can be used.

【0112】(1)レジスト(たとえば、UV硬化型レ
ジスト)をCF基板1上に塗布し、これをフォトマスク
を用いて露光・現像することにより、所定のパターンを
有するレジストを形成する。次に、このレジストをポス
トベークにより本硬化させる。その後、後述する大気圧
によるプレスなどにより、レジストが形成されたCF基
板1と、このCF基板1に接する側の表面に接着剤が塗
布された転写基板とを対向するように貼り合わせる。こ
の各基板同士の貼り合わせによって、レジストの上に接
着剤の層を転写形成する。これによって、レジストと接
着剤の層とからなる2層構造のシール材3およびスペー
サ4が形成される。
(1) A resist (for example, a UV-curable resist) is applied on the CF substrate 1 and is exposed and developed using a photomask to form a resist having a predetermined pattern. Next, the resist is fully cured by post-baking. Thereafter, the CF substrate 1 on which the resist is formed and the transfer substrate coated with an adhesive on the surface in contact with the CF substrate 1 are bonded to each other by pressing under atmospheric pressure, which will be described later. By bonding the substrates, an adhesive layer is transferred and formed on the resist. Thus, the sealing material 3 and the spacer 4 having a two-layer structure including the resist and the adhesive layer are formed.

【0113】(2)接着性を有するレジストをCF基板
1上に塗布し、このレジストのガラス転移温度以下の温
度で、該レジストを仮硬化させる。その後、この仮硬化
させたレジストをフォトマスクを用いて露光・現像する
ことにより、所定のパターンを有するレジストを形成す
る。さらに、CF基板1とTFT基板2a・2aと、こ
の仮硬化させたレジストが有する接着性(粘性)により
貼り合わせる。この後、この仮硬化させたレジストをガ
ラス転移温度以上の温度でポストベークすることにより
本硬化させる。この本硬化により、レジストのみからな
るスペーサ4を形成する。
(2) A resist having an adhesive property is applied on the CF substrate 1, and the resist is temporarily cured at a temperature equal to or lower than the glass transition temperature of the resist. Thereafter, the temporarily cured resist is exposed and developed using a photomask to form a resist having a predetermined pattern. Further, the CF substrate 1 and the TFT substrates 2a, 2a are bonded together by the adhesiveness (viscosity) of the temporarily cured resist. Thereafter, the temporarily cured resist is post-baked at a temperature equal to or higher than the glass transition temperature, so that the resist is fully cured. By this main curing, the spacer 4 made of only the resist is formed.

【0114】ここで、上記の2層構造となったスペーサ
4において、レジストの上に形成される接着剤の層は、
転写基板とレジストが形成されたCF基板1とをプレス
することにより、転写するだけで形成できる。それゆ
え、製造工程の煩雑化は回避される。このときのプレス
の方法も、接着剤の層を上記レジストの上に均一に転写
できるため、大気圧によるプレス方法が好ましい。
Here, in the spacer 4 having the above-described two-layer structure, the adhesive layer formed on the resist is
By pressing the transfer substrate and the CF substrate 1 on which the resist is formed, the transfer substrate can be formed only by transferring. Therefore, complication of the manufacturing process is avoided. The pressing method at this time is also preferably a pressing method using atmospheric pressure because the adhesive layer can be uniformly transferred onto the resist.

【0115】なお、2層構造のスペーサ4においては、
レジストは接着性を有している必要はないが、接着性を
有していてもかまわない。レジストが接着性を有してい
る場合でも、接着剤の層を備えていることによって、C
F基板1と接続基板2とが貼り合わせられる構造をより
強固にすることができる。それゆえ、液晶層のセルギャ
ップを全体的により均一に維持することができる。
In the spacer 4 having a two-layer structure,
The resist does not need to have an adhesive property, but may have an adhesive property. Even if the resist has an adhesive property, the presence of the adhesive layer allows the C
The structure in which the F substrate 1 and the connection substrate 2 are bonded to each other can be further strengthened. Therefore, the cell gap of the liquid crystal layer can be maintained more uniformly as a whole.

【0116】また、上記(1)または(2)の各手法に
おいて、セルギャップの設定は、大気圧で固定した状態
において行われる。すなわち、(1)の手法では、接着
剤の層の転写形成後、CF基板1とTFT基板2a・2
aとを対向させて大気圧によりプレスする工程におい
て、セルギャップの設定が行われる。このとき、セルギ
ャップを決定するシール材3およびスペーサ4における
レジストは、ポストベークによりすでに硬化している。
それゆえ、上記のプレス工程によってもシール材3およ
びスペーサ4が、所定の領域からはみ出すことがない。
In each of the above methods (1) and (2), the cell gap is set in a state where the cell gap is fixed at the atmospheric pressure. That is, in the method (1), after the transfer of the adhesive layer is performed, the CF substrate 1 and the TFT substrates 2a and 2
The cell gap is set in the step of pressing under the atmospheric pressure while facing a. At this time, the resist in the sealing material 3 and the spacer 4 that determines the cell gap has already been cured by post-baking.
Therefore, the sealing member 3 and the spacer 4 do not protrude from the predetermined region even by the above-described pressing process.

【0117】一方、(2)の手法では、ポストベーク前
のレジストによって、CF基板1とTFT基板2a・2
aとが貼り合わせられる。この基板同士の貼り合わせ
は、レジストが有している接着性によってなされる。こ
の後、大気圧により基板同士をプレスするが、この対向
してプレスされている基板同士を固定した状態で、仮硬
化レジストをポストベークする。このポストベークによ
って、上記基板同士の対向している状態が固定され、セ
ルギャップが設定される。
On the other hand, in the method (2), the CF substrate 1 and the TFT substrates 2a and 2
and a are bonded together. The bonding of the substrates is performed by the adhesiveness of the resist. Thereafter, the substrates are pressed with each other under the atmospheric pressure, and the temporarily cured resist is post-baked in a state where the substrates pressed opposite to each other are fixed. The state where the substrates face each other is fixed by the post-baking, and the cell gap is set.

【0118】ここで、プレス前の仮硬化レジストは、基
板同士を接着できる粘性を有してはいるもののガラス転
移温度以下の温度で仮硬化させてある。それゆえ、CF
基板1とTFT基板2a・2aとを貼り合わせて大気圧
でプレスする際に、シール材3およびスペーサ4となる
レジストは所定の領域からはみ出すことがない。
Here, the pre-cured resist before pressing is pre-cured at a temperature equal to or lower than the glass transition temperature although it has a viscosity capable of bonding substrates. Therefore, CF
When the substrate 1 and the TFT substrates 2a and 2a are bonded to each other and pressed at atmospheric pressure, the resist serving as the sealing material 3 and the spacer 4 does not protrude from a predetermined region.

【0119】また、上記仮硬化レジストは、所定の領域
からはみ出すことがない程度の硬化状態となっている
が、上記プレスにより若干押しつぶされる程度の可塑性
を有している。そのため、CF基板1上に形成された仮
硬化レジストは、プレスにより若干押しつぶされて広が
り、対向する接続基板2との接着面積を大きくすること
になる。したがって、CF基板1と接続基板2との接着
強度を向上させることができる。
Although the temporary curing resist is in a cured state that does not protrude from a predetermined region, it has plasticity enough to be slightly crushed by the press. Therefore, the pre-cured resist formed on the CF substrate 1 is slightly crushed and spread by the press, so that the bonding area with the opposing connection substrate 2 is increased. Therefore, the adhesive strength between the CF substrate 1 and the connection substrate 2 can be improved.

【0120】なお、上記シール材3およびスペーサ4の
構造は、上記(1)および(2)に限定されるものでは
なく、必要ならば他の材質からなる層を含む3層以上の
多層構造となっていてもよい。
The structures of the sealing material 3 and the spacer 4 are not limited to the above (1) and (2), and may have a multilayer structure of three or more layers including a layer made of another material if necessary. It may be.

【0121】以上のように、本発明の液晶表示装置の製
造方法では、シール材3およびスペーサ4となる耐圧性
を有するレジストを、フォトマスクを用いた現像パター
ンにて、1工程で、しかも高精細に形成することができ
る。このため、液晶表示装置の製造工程をより簡素化で
きるとともに、製造コストも低減させることができる。
As described above, in the manufacturing method of the liquid crystal display device of the present invention, the resist having the pressure resistance, which becomes the sealing material 3 and the spacer 4, is developed in one step by a development pattern using a photomask. It can be formed finely. Therefore, the manufacturing process of the liquid crystal display device can be simplified, and the manufacturing cost can be reduced.

【0122】また、上記シール材3およびスペーサ4と
なるレジストは、CF基板1とTFT基板2a・2aか
らなる接続基板2とを貼り合わせる際に、硬化させた状
態とすることができる。それゆえ、各基板同士を大気圧
などでプレスしても、シール材3およびスペーサ4とな
るレジストが所定の線幅から広がってはみ出すことを防
止できる。
The resist serving as the sealing material 3 and the spacer 4 can be cured when the CF substrate 1 and the connection substrate 2 including the TFT substrates 2a and 2a are bonded. Therefore, even if the respective substrates are pressed with each other at atmospheric pressure or the like, it is possible to prevent the resist serving as the sealing material 3 and the spacer 4 from spreading out from a predetermined line width.

【0123】また、上記レジストはフォトマスクを用い
た現像パターンにて、高精細に形成することができる。
このため、上記TFT基板2a同士の接続部において、
シール材3をより表示画面領域に近接させて形成するこ
とができるとともに、スペーサ4を、非透光性パターン
であるBM12の領域内に収まるように形成することが
できる。
Further, the resist can be formed with high definition by a development pattern using a photomask.
Therefore, at the connection between the TFT substrates 2a,
The seal material 3 can be formed closer to the display screen area, and the spacer 4 can be formed so as to fit within the area of the BM 12 which is a non-light-transmitting pattern.

【0124】それゆえ、得られる液晶表示装置の開口率
は低下することなく、TFT基板2a同士の接続部も目
立つことがない。さらに、セルギャップも従来より全体
的に維持し易くなっている。したがって、高い表示品位
の大表示画面の液晶表示装置を、製造工程の煩雑化を回
避し、より低コストで提供することができる。
Therefore, the connection ratio between the TFT substrates 2a is not noticeable without lowering the aperture ratio of the obtained liquid crystal display device. Further, the cell gap can be easily maintained as a whole as compared with the related art. Therefore, a liquid crystal display device having a large display screen with high display quality can be provided at a lower cost without complicating the manufacturing process.

【0125】また、上記各工程は、上述してきた本実施
の形態の液晶表示装置を製造する際に最低限必要な基本
工程であって、本発明の液晶表示装置の製造方法におい
ては、製造される液晶表示装置の種類に応じて、上記以
外にも様々な工程を適宜追加することができる。
The above-described steps are the minimum basic steps required for manufacturing the above-described liquid crystal display device of the present embodiment. Depending on the type of the liquid crystal display device, various steps other than the above can be appropriately added.

【0126】なお、本発明の液晶表示装置の構成並びに
その製造方法は、小型基板を複数枚接続することによっ
て大画面化されたものに限定されるものではなく、1枚
のTFT基板からなる液晶表示装置についても適用する
ことができる。
The structure of the liquid crystal display device of the present invention and the method of manufacturing the same are not limited to those having a large screen by connecting a plurality of small substrates, but a liquid crystal display comprising one TFT substrate. The present invention can be applied to a display device.

【0127】具体的には、図9に示すように、電極付き
の一対の基板、この場合、CF基板31とTFT基板3
2とを、それぞれ1枚ずつ対向させて液晶層35を挟持
してなる液晶表示装置において、上記各基板同士を貼り
合わせるとともに液晶層35を封入するためのシール材
33と、該液晶層35のセルギャップを維持するための
スペーサ34とが、同一の耐圧性を有するレジストから
なっている構成である。このときスペーサ34は、マト
リクス状の非透光性パターンであるBM36の領域内に
収まるように形成されている。
More specifically, as shown in FIG. 9, a pair of substrates with electrodes, in this case, a CF substrate 31 and a TFT substrate 3
2 and a liquid crystal display device sandwiching the liquid crystal layer 35 one by one, respectively, in a liquid crystal display device, a sealing material 33 for bonding the substrates together and enclosing the liquid crystal layer 35, In this configuration, the spacer 34 for maintaining the cell gap is made of a resist having the same pressure resistance. At this time, the spacer 34 is formed so as to fit within the region of the BM 36 which is a matrix non-light-transmitting pattern.

【0128】このように、シール材33とスペーサ34
とがレジストからなっていると、フォトマスクを用いた
現像パターンとして、シール材33およびスペーサ34
を1工程でしかも高精細で形成することができる。その
ため、スペーサ34をBM36によって遮蔽できる位置
に容易に形成できるとともに、セルギャップを十分維持
できる数量のスペーサ34を表示画面に悪影響を与える
ことなく形成することができる。
As described above, the sealing material 33 and the spacer 34
Is made of a resist, the sealing material 33 and the spacer 34 are used as a development pattern using a photomask.
Can be formed in one step and with high definition. Therefore, the spacers 34 can be easily formed at positions where they can be shielded by the BM 36, and the number of spacers 34 that can sufficiently maintain the cell gap can be formed without adversely affecting the display screen.

【0129】したがって、得られる液晶表示装置の構造
を安定化して、液晶の偏在などによる表示品位の低下を
回避することができる。その結果、高い表示品位の液晶
表示装置を低コストで、製造方法の煩雑化を招来するこ
となく提供することができる。
Therefore, it is possible to stabilize the structure of the obtained liquid crystal display device and to avoid a decrease in display quality due to uneven distribution of liquid crystal. As a result, a high-quality liquid crystal display device can be provided at low cost without complicating the manufacturing method.

【0130】さらに、本発明の液晶表示装置の構成並び
にその製造方法は、電極付きの一対の基板同士を対向し
て液晶層を介して貼り合わせた液晶パネルを、複数枚接
続して大画面化を図るマルチパネル方式の液晶表示装置
に対しても好適に用いることができる。
Further, according to the structure of the liquid crystal display device of the present invention and the method of manufacturing the same, a plurality of liquid crystal panels in which a pair of substrates with electrodes are opposed to each other and bonded together via a liquid crystal layer are connected to increase the screen size. The present invention can also be suitably applied to a multi-panel type liquid crystal display device for achieving the above.

【0131】[0131]

【実施例】続いて、本発明における液晶表示装置の製造
方法の具体例を図6ないし図8に基づいて説明する。な
お、説明の便宜上、図6ないし図8では、シール材3と
なるレジストを実際よりも広い線幅となるように示して
いる。
Next, a specific example of a method for manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention will be described with reference to FIGS. For convenience of description, FIGS. 6 to 8 show the resist serving as the sealing material 3 so as to have a wider line width than actual.

【0132】〔実施例1〕まず、図6(a)に示すよう
に、図示しないCF、BM、共通電極が少なくとも形成
されたCF基板1上に、耐圧性を有するUV硬化型レジ
スト(本実施の形態ではネガ型)を塗布し、レジスト層
4aを形成した。その後フォトマスクを用いて露光、現
像し、さらに、このレジスト層4aの形成されたCF基
板1をオーブンによって加熱してポストベークすること
により、図6(b)に示すように、シール材3となる硬
化レジスト4cとスペーサ4となる硬化レジスト4dを
形成した(P1)。
Embodiment 1 First, as shown in FIG. 6A, a UV-curable resist having a pressure resistance (this embodiment) is formed on a CF substrate 1 on which at least CF, BM, and a common electrode (not shown) are formed. In this embodiment, a negative type) was applied to form a resist layer 4a. Thereafter, exposure and development are performed using a photomask, and further, the CF substrate 1 on which the resist layer 4a is formed is heated by an oven and post-baked, so that the sealing material 3 is formed as shown in FIG. The hardened resist 4c to be formed and the hardened resist 4d to be the spacer 4 were formed (P1).

【0133】このとき、硬化レジスト4cのパターン
は、2枚のTFT基板2a・2aの形状に対応している
とともに、後の工程で液晶を注入するための図示しない
開口部を設けるようなパターンとした。また、硬化レジ
スト4dのパターンは、CF基板1上に設けられたBM
に対応するようなパターンとした。
At this time, the pattern of the cured resist 4c corresponds to the shape of the two TFT substrates 2a and 2a, and has a pattern in which an opening (not shown) for injecting liquid crystal in a later step is provided. did. Further, the pattern of the cured resist 4d is the same as that of the BM provided on the CF substrate 1.
And a pattern corresponding to

【0134】上記硬化レジスト4cは、外枠におけるシ
ール材3となる硬化レジスト4cの幅が100μm、T
FT基板2a同士の接続部におけるシール材3となる硬
化レジスト4cの幅が50μmとなるように形成した。
また、上記硬化レジスト4dは、BM12の幅に対応し
て、300μmの幅とした。これら各硬化レジスト4c
・4dの厚さは、後の工程で形成される液晶層14の厚
さ、すなわち、セルギャップと同一となるように、5.
0μmとなるように形成した。
The cured resist 4c has a width of 100 μm and a thickness of 100 μm.
The width of the cured resist 4c to be the sealing material 3 at the connection between the FT substrates 2a was formed to be 50 μm.
Further, the width of the cured resist 4d was set to 300 μm corresponding to the width of the BM 12. Each of these cured resists 4c
The thickness of 4d is set to be the same as the thickness of the liquid crystal layer 14 formed in a later step, that is, the cell gap.
It was formed to have a thickness of 0 μm.

【0135】この後、上記各硬化レジスト4c・4dが
配設されたCF基板1と、これに対向して貼り合わせら
れるTFT基板2a・2aとの表面に、図示しない配向
膜を塗布し、それぞれ焼成した後ラビング処理を行った
(P2)。
Thereafter, an alignment film (not shown) is applied to the surfaces of the CF substrate 1 on which the above-described cured resists 4c and 4d are disposed and the TFT substrates 2a and 2a which are bonded to face each other. After firing, a rubbing treatment was performed (P2).

【0136】次に、図6(c)に示すように、上記CF
基板1に対して、接着剤層4bを塗布した転写基板20
を対向させた。この転写基板20とCF基板1とを真空
プレスにより貼り合わせた後、転写基板20を剥離し
た。これによって、図6(d)に示すように、CF基板
1に形成された硬化レジスト4c・4d上に接着剤層4
bが転写された。この接着剤層4bの転写によって、硬
化レジスト4cと接着剤層4bとからなるシール材3
と、硬化レジスト4dと接着剤層4bとからなるスペー
サ4が形成された。
Next, as shown in FIG.
Transfer substrate 20 coated with adhesive layer 4b on substrate 1
Were opposed to each other. After the transfer substrate 20 and the CF substrate 1 were bonded by a vacuum press, the transfer substrate 20 was peeled off. Thereby, as shown in FIG. 6D, the adhesive layer 4 is formed on the cured resists 4c and 4d formed on the CF substrate 1.
b was transferred. By the transfer of the adhesive layer 4b, the sealing material 3 composed of the cured resist 4c and the adhesive layer 4b is formed.
Thus, the spacer 4 composed of the cured resist 4d and the adhesive layer 4b was formed.

【0137】上記CF基板1に対して、図7(a)に示
すように、側面部で隣接した状態で、2枚のTFT基板
2a・2aを、シール材3およびスペーサ4が形成され
たCF基板1に対向して配置し、それぞれを貼り合わせ
た(P3)。このとき、それぞれ前工程で形成されたシ
ール材3のパターンに合わせて、2枚のTFT基板2a
・2aを貼り合わせた。
As shown in FIG. 7 (a), the two TFT substrates 2a, 2a are placed on the CF substrate 1 on which the sealing material 3 and the spacer 4 are formed. They were placed facing the substrate 1 and bonded together (P3). At this time, the two TFT substrates 2a are respectively adjusted according to the pattern of the sealing material 3 formed in the previous step.
-2a was bonded.

【0138】貼り合わせられた2枚のTFT基板2a・
2aとCF基板1とによって形成されるセルにおいて
は、シール材3のパターンに設けられた図示しない開口
部より内部を減圧した。このような減圧によって、図7
(b)に示すように、TFT基板2a・2aからなる接
続基板2とCF基板1とを大気圧によりプレスした(P
4)。
[0138] The two TFT substrates 2a
In the cell formed by the 2a and the CF substrate 1, the pressure inside the cell was reduced through an opening (not shown) provided in the pattern of the sealing material 3. As a result of such reduced pressure, FIG.
As shown in (b), the connection substrate 2 composed of the TFT substrates 2a and 2a and the CF substrate 1 were pressed under atmospheric pressure (P
4).

【0139】このプレス工程によって、上記TFT基板
2a・2aとCF基板1とが形成する間隙の幅である液
晶層のセルギャップを5.0μmに設定した。上記プレ
ス工程によりセルギャップが所定の値に達した時点で、
これら対向した各基板を高温で保持した。これによっ
て、接着剤層4bの硬化を促進させ、CF基板1とTF
T基板2a・2aとの貼り合わせた状態を完全に固定し
た。
Through this pressing step, the cell gap of the liquid crystal layer, which is the width of the gap formed between the TFT substrates 2a and 2a and the CF substrate 1, was set to 5.0 μm. When the cell gap reaches a predetermined value by the above pressing process,
These opposed substrates were held at a high temperature. Thereby, the curing of the adhesive layer 4b is promoted, and the CF substrate 1 and the TF
The state of being bonded to the T substrates 2a was completely fixed.

【0140】続いて、CF基板1に貼り合わされた2枚
のTFT基板2a・2aを接続するために、図7(c)
に示すように、2枚のTFT基板2a・2aの間隙に、
紫外線硬化型の接着剤5を充填した(P5)。
Subsequently, in order to connect the two TFT substrates 2a and 2a bonded to the CF substrate 1, FIG.
As shown in the figure, in the gap between the two TFT substrates 2a, 2a,
The ultraviolet curing adhesive 5 was filled (P5).

【0141】その後、図7(d)に示すように、シール
材3のパターンに設けられた開口部より液晶を注入して
液晶層14を形成し(P6)、図示しない封止材で開口
部を封止することによって、本発明の液晶表示装置を製
造した。
Thereafter, as shown in FIG. 7D, liquid crystal is injected from the opening provided in the pattern of the sealing material 3 to form a liquid crystal layer 14 (P6), and the opening is formed by a sealing material (not shown). Was sealed to produce a liquid crystal display device of the present invention.

【0142】〔実施例2〕上記実施例1において、CF
基板1およびTFT基板2a・2aに対する配向膜の形
成(P2)を、レジスト層4aの形成(P1)の前に行
った以外は、同様の条件および工程で本発明の液晶表示
装置を製造した。
[Embodiment 2] In the above embodiment 1, the CF
The liquid crystal display device of the present invention was manufactured under the same conditions and steps except that the formation of the alignment film (P2) on the substrate 1 and the TFT substrates 2a and 2a was performed before the formation of the resist layer 4a (P1).

【0143】〔実施例3〕まず、図8(a)に示すよう
に、図示しないCF、BM、共通電極が少なくとも形成
されたCF基板1上に、耐圧性および接着性を有するネ
ガ型のUV硬化型レジストであるレジスト層24aを塗
布した。その後、CF基板1をオーブンに入れてレジス
トのガラス転移温度以下にて加熱し、上記レジスト層2
4を仮硬化させた。
[Embodiment 3] First, as shown in FIG. 8A, on a CF substrate 1 on which at least CF, BM and a common electrode (not shown) are formed, a negative type UV having a pressure resistance and an adhesive property is provided. A resist layer 24a, which is a curable resist, was applied. Thereafter, the CF substrate 1 is placed in an oven and heated at a temperature lower than the glass transition temperature of the resist.
4 was pre-cured.

【0144】次に、仮硬化させたレジスト層24aをフ
ォトマスクを用いて露光、現像することにより、図8
(b)に示すように、シール材3となる仮硬化レジスト
24cおよびスペーサ4となる仮硬化レジスト24dを
形成した(P1)。このとき、上記各仮硬化レジスト2
4cおよび仮硬化レジスト24dのパターンは実施例1
の硬化レジスト4cおよび硬化レジスト4dのパターン
と同一のパターンとした。
Next, the temporarily cured resist layer 24a is exposed and developed using a photomask to obtain the resist layer 24a shown in FIG.
As shown in (b), a temporarily cured resist 24c to be the sealing material 3 and a temporarily cured resist 24d to be the spacer 4 were formed (P1). At this time, each of the temporarily cured resists 2
4c and the pattern of the temporary curing resist 24d are the same as those of the first embodiment
And the same pattern as the patterns of the cured resists 4c and 4d.

【0145】この後、上記各仮硬化レジスト24c・2
4dが配設されたCF基板1と、これに対向して貼り合
わせられるTFT基板2a・2aとの表面に、図示しな
い配向膜を塗布し、それぞれ焼成した後ラビング処理を
行った(P2)。
Thereafter, each of the temporary curing resists 24c and 2c
An alignment film (not shown) was applied to the surfaces of the CF substrate 1 on which the 4d was disposed and the TFT substrates 2a and 2a which were bonded to face each other, baked, and then rubbed (P2).

【0146】次に、図8(c)に示すように、仮硬化レ
ジスト24c・24dが形成されたCF基板1に対し
て、2枚のTFT基板2a・2aを側面部で隣接した状
態で対向させて配置し、貼り合わせた(P3)。その
後、実施例1と同様に、各基板同士を大気圧によりプレ
スした(P4)。
Next, as shown in FIG. 8C, the two TFT substrates 2a and 2a are opposed to the CF substrate 1 on which the temporary curing resists 24c and 24d are formed, with the side surfaces being adjacent to each other. They were arranged and bonded together (P3). Thereafter, as in Example 1, the substrates were pressed with each other under atmospheric pressure (P4).

【0147】このプレス工程によって、上記TFT基板
2a・2aとCF基板1とが形成する間隙の幅である液
晶層のセルギャップを5.0μmに設定した。このよう
にセルギャップが5.0μmに設定された状態で、上記
各基板は、仮硬化レジスト4c・4dの有する粘性によ
って貼り合わせられ、仮固定された状態となった。
Through this pressing step, the cell gap of the liquid crystal layer, which is the width of the gap formed between the TFT substrates 2a and 2a and the CF substrate 1, was set to 5.0 μm. With the cell gap set to 5.0 μm in this way, the above-mentioned substrates were bonded together by the viscosity of the temporarily cured resists 4c and 4d, and were temporarily fixed.

【0148】そして、この仮固定された状態の各基板を
再びオーブンに入れて加熱することによってポストベー
クし、各基板を貼り合わせている仮硬化レジスト24c
・24dを本硬化させた。この本硬化によって、シール
材3およびスペーサ4が形成され、CF基板1とTFT
基板2a・2aとの貼り合わせた状態が完全に固定され
た。したがって、本実施例では、前記実施例1におい
て、接着剤層4bを転写形成する工程が省略できた。
Then, each of the temporarily fixed substrates is again put into an oven and heated to be post-baked, and the temporarily-cured resist 24c bonding the respective substrates together is used.
-24d was fully cured. By this main curing, the sealing material 3 and the spacer 4 are formed, and the CF substrate 1 and the TFT
The state of being bonded to the substrates 2a was completely fixed. Therefore, in this embodiment, the step of transferring and forming the adhesive layer 4b in the first embodiment can be omitted.

【0149】続いて、CF基板1に貼り合わされた2枚
のTFT基板2a・2aを接続するために、図8(d)
に示すように、2枚のTFT基板2a・2aの間隙に、
紫外線硬化型の接着剤5を充填した(P5)。その後、
図8(e)に示すように、シール材3のパターンに設け
られた開口部より液晶を注入して液晶層14を形成し
(P6)、図示しない封止材で開口部を封止することに
よって、本発明の液晶表示装置を製造した。
Next, in order to connect the two TFT substrates 2a and 2a bonded to the CF substrate 1, FIG.
As shown in the figure, in the gap between the two TFT substrates 2a, 2a,
The ultraviolet curing adhesive 5 was filled (P5). afterwards,
As shown in FIG. 8E, liquid crystal is injected from an opening provided in the pattern of the sealing material 3 to form a liquid crystal layer 14 (P6), and the opening is sealed with a sealing material (not shown). Thus, the liquid crystal display device of the present invention was manufactured.

【0150】〔比較例〕上記実施例1において、P2に
おけるCF基板1に形成するレジストのパターンをスペ
ーサ4またはスペーサ24のパターンのみとし、シール
材3またはシール材23として、従来シール材として用
いられている塗布型の樹脂を用いてCF基板1上にシー
ル材3となるパターンを描画した以外は、同様の条件お
よび工程で比較例としての液晶表示装置を製造した。
[Comparative Example] In the first embodiment, the resist pattern formed on the CF substrate 1 in P2 is only the pattern of the spacer 4 or the spacer 24, and is used as the sealing material 3 or the sealing material 23 as a conventional sealing material. A liquid crystal display device as a comparative example was manufactured under the same conditions and steps except that a pattern serving as the sealing material 3 was drawn on the CF substrate 1 using the coating type resin.

【0151】上記各実施例により製造された本発明の液
晶表示装置では、セルギャップの設定の際にシール材と
なるレジストが所定の線幅から広がることは回避され
た。つまり、上記実施例1および実施例2では、基板同
士をプレスする際には、シール材3は硬化レジスト4c
と接着剤層4dとからなっており、実施例3では、シー
ル材23が仮硬化レジスト24cからなっている。それ
ゆえ、P4におけるプレスの際には、上記硬化レジスト
4cあるいは仮硬化レジスト24cは、硬化した状態に
あり、容易にシール材3またはシール材23としての形
状が変化しない状態となっている。
In the liquid crystal display device of the present invention manufactured according to each of the above embodiments, the spread of the resist serving as the sealing material from the predetermined line width when setting the cell gap was avoided. That is, in the first and second embodiments, when the substrates are pressed with each other, the sealing material 3 is hardened by the cured resist 4c.
And the adhesive layer 4d. In the third embodiment, the sealing material 23 is made of a temporary curing resist 24c. Therefore, at the time of pressing at P4, the cured resist 4c or the temporarily cured resist 24c is in a cured state, and the shape of the seal material 3 or the seal material 23 does not easily change.

【0152】したがって、上記プレスにより、硬化レジ
スト4cまたは仮硬化レジスト24cが所定の線幅から
広がることは防止されるため、TFT基板2a・2aの
接続部において、シール材3の線幅はそのまま画素6側
におけるBM12の限界となる位置まで偏在させること
ができた。それゆえ、非表示領域であるBM12は従来
用いられているBMと同じ幅のものを用いることができ
た。
Accordingly, the pressing prevents the cured resist 4c or the pre-cured resist 24c from expanding from a predetermined line width, so that the line width of the sealing material 3 is not changed at the connection portion of the TFT substrates 2a. The BM 12 could be unevenly distributed on the 6 side to the limit position. Therefore, the BM 12 which is the non-display area can have the same width as the conventionally used BM.

【0153】さらに、上記各実施例の液晶表示装置で
は、スペーサ4・24となるレジストをCF基板1の非
表示領域であるBM12の領域内に収まるように高精細
に形成することができた。このため、液晶層14のセル
ギャップを全体的に十分に均一に維持することができる
数量のスペーサ4(実施例1・2)またはスペーサ24
(実施例3)を、表示画面に影響を与えることなく形成
することができた。
Further, in the liquid crystal display device of each of the above embodiments, the resists serving as the spacers 4 and 24 could be formed with high definition so as to be contained in the non-display area BM12 of the CF substrate 1. For this reason, the number of spacers 4 (Examples 1 and 2) or spacers 24 that can maintain the cell gap of the liquid crystal layer 14 as a whole sufficiently uniform.
(Example 3) could be formed without affecting the display screen.

【0154】加えて、上記各実施例の液晶表示装置で
は、CF基板1とTFT基板2a・2aとをシール材だ
けでなく、スペーサによっても貼り合わせている。この
ため、従来の液晶表示装置よりも、CF基板1と接続基
板2との貼り合わせられた構造がより強固なものとな
り、液晶層14のセルギャップを全体的により均一に維
持することができた。
In addition, in the liquid crystal display device of each of the above embodiments, the CF substrate 1 and the TFT substrates 2a are bonded not only with the sealing material but also with the spacer. For this reason, the structure in which the CF substrate 1 and the connection substrate 2 are bonded to each other becomes stronger than in the conventional liquid crystal display device, and the cell gap of the liquid crystal layer 14 can be maintained more uniformly as a whole. .

【0155】また、上記各実施例の液晶表示装置の製造
方法では、スペーサとシール材との両方を1工程で1つ
のパターンとして形成できるため、液晶表示装置の製造
工程を減少させることができた。
In the manufacturing method of the liquid crystal display device of each of the above embodiments, since both the spacer and the sealing material can be formed as one pattern in one process, the manufacturing process of the liquid crystal display device can be reduced. .

【0156】つまり、上記各実施例の製造方法により得
られた本発明の液晶表示装置は、従来の液晶表示装置と
比較して、大画面化しても、液晶層のセルギャップを全
体的により均一に維持することができた。また、製造工
程においても、シール材3の線幅が広がることがなく、
BM12の領域を広くする必要が回避され、表示画面の
画素の開口率を従来のものよりも向上させることができ
るものとなった。
That is, the liquid crystal display device of the present invention obtained by the manufacturing method of each of the above embodiments has a uniform cell gap of the liquid crystal layer as a whole even when the screen is enlarged, as compared with the conventional liquid crystal display device. Could be maintained. Also, in the manufacturing process, the line width of the sealing material 3 does not increase,
The need to increase the area of the BM 12 is avoided, and the aperture ratio of the pixels on the display screen can be improved as compared with the conventional one.

【0157】これに対して、比較例の液晶表示装置は、
TFT基板2a・2aの接続部において、シール材3と
なる樹脂が液晶層14の画像表示領域にはみ出してい
た。このため、はみ出した上記樹脂により表示画面に対
して悪影響が及ぼされるとともに、液晶の配向の乱れが
招来された。それゆえ、比較例の液晶表示装置における
表示品位は、上記各実施例の液晶表示装置と比較して低
下したものとなった。
On the other hand, the liquid crystal display device of the comparative example is
At the connection between the TFT substrates 2a, the resin serving as the sealing material 3 protruded into the image display area of the liquid crystal layer 14. For this reason, the protruding resin has an adverse effect on the display screen, and the alignment of the liquid crystal is disturbed. Therefore, the display quality of the liquid crystal display device of the comparative example was lower than that of the liquid crystal display device of each of the above examples.

【0158】以上のように、本実施例の液晶表示装置で
は、画素の開口率が低下をすることを回避できたため、
高い表示品位を有する大画面化された液晶表示装置をえ
ることができた。また、その製造工程も煩雑化すること
がなく、製造コストも低減することができた。
As described above, in the liquid crystal display device according to the present embodiment, it was possible to avoid a decrease in the aperture ratio of the pixel.
A large screen liquid crystal display device having high display quality was obtained. In addition, the manufacturing process was not complicated, and the manufacturing cost could be reduced.

【0159】なお、本実施例では、アクティブ素子とし
てTFTを用いたアクティブマトリクス型の小型基板を
2枚並べて接続する場合について説明を行ったが、上記
の小型基板の枚数は特に制限されるものではない。ま
た、本発明の大表示画面の液晶表示装置の製造方法は、
TFTを用いたアクティブマトリクス型の液晶表示装置
に限定されるものではなく、MIMを用いたアクティブ
マトリクス型の液晶表示装置や、単純マトリクス型の液
晶表示装置、フラットディスプレイ型の液晶表示装置、
さらには、プラズマ表示装置(PDP)やフィールドエ
ミッション表示装置(FED)など他のフラットディス
プレイ型の表示装置にも適用することができる。
In this embodiment, a case has been described where two active matrix type small substrates using TFTs as active elements are connected side by side. However, the number of the small substrates is not particularly limited. Absent. Further, the method of manufacturing a large display screen liquid crystal display device of the present invention,
The present invention is not limited to an active matrix type liquid crystal display device using a TFT, but is an active matrix type liquid crystal display device using a MIM, a simple matrix type liquid crystal display device, a flat display type liquid crystal display device,
Further, the present invention can be applied to other flat display type display devices such as a plasma display device (PDP) and a field emission display device (FED).

【0160】[0160]

【発明の効果】本発明の請求項1記載の液晶表示装置
は、以上のように、マトリクス状の非透光性パターンを
備えている大型基板と、複数枚の小型基板をその側面部
で接続してなる1枚の接続基板とを対向させ、その間に
液晶層を挟持してなる液晶表示装置において、上記大型
基板と接続基板とを貼り合わせるためのシール材と、大
型基板と接続基板に挟持される液晶層の厚さを所定の値
に維持するスペーサとが耐圧性を有するレジストからな
っている構成である。
As described above, in the liquid crystal display device according to the first aspect of the present invention, a large-sized substrate having a matrix-like non-light-transmitting pattern and a plurality of small-sized substrates are connected by side surfaces thereof. In a liquid crystal display device having a single connection substrate formed so as to face and a liquid crystal layer sandwiched therebetween, a sealing material for bonding the large substrate and the connection substrate together, and a sealing material sandwiched between the large substrate and the connection substrate The spacer for maintaining the thickness of the liquid crystal layer to be maintained at a predetermined value is made of a resist having a pressure resistance.

【0161】それゆえ、上記構成では、シール材および
スペーサがレジストからなっているため、対向する上記
大型基板と接続基板とをプレスしてセルギャップを設定
する際には、上記シール材となるレジストは、硬化して
いる状態とすることができる。この硬化したレジストの
ため、上記プレス工程の際にレジストが押圧されて所定
の線幅から広がり、シール材の形成領域が表示画面領域
へはみ出すことがない。つまり、レジストからなるシー
ル材は、液晶表示装置の製造工程において、該シール材
としての形状が必要以上に変化しない安定した形状とな
っている。
Therefore, in the above configuration, since the sealing material and the spacer are made of resist, when setting the cell gap by pressing the large substrate and the connection substrate facing each other, the resist used as the sealing material is used. Can be in a cured state. Due to the cured resist, the resist is pressed during the above-mentioned pressing step and spreads from a predetermined line width, so that the formation region of the sealing material does not protrude into the display screen region. That is, the sealing material made of the resist has a stable shape in which the shape of the sealing material does not change more than necessary in the manufacturing process of the liquid crystal display device.

【0162】さらに、シール材がレジストからなってい
ることにより、該シール材を高精細に形成することがで
きる。このため、上記小型基板同士の接続部において、
シール材をより表示画面領域に近接させて形成すること
ができる。それゆえ、上記接続部において、シール材と
なる樹脂(この場合レジスト)を遮蔽するために、非透
光性パターンの領域を広くすることは回避できる。
Further, since the sealing material is made of a resist, the sealing material can be formed with high definition. For this reason, in the connection portion between the small substrates,
The sealant can be formed closer to the display screen area. Therefore, it is possible to avoid widening the area of the non-light-transmitting pattern in the connection portion in order to shield the resin (resist in this case) serving as a sealing material.

【0163】したがって、得られる液晶表示装置におい
て、画素の開口率の低下は回避され、表示画面のコント
ラストや解像度を上昇させることが可能となる。その結
果、接続部の目立たない、高い表示品位を有する大画面
化された液晶表示装置を提供することができるという効
果を奏する。
Therefore, in the obtained liquid crystal display device, a decrease in the aperture ratio of the pixel is avoided, and the contrast and resolution of the display screen can be increased. As a result, there is an effect that it is possible to provide a large-screen liquid crystal display device having a high display quality in which connection portions are inconspicuous.

【0164】また、上記シール材だけでなくスペーサも
レジストからなっていることから、該シール材およびス
ペーサは、フォトマスクを用いた現像パターンにて、1
工程でしかも高精細に形成することができる。特に、上
記スペーサは、表示画面上では非透光性パターンに遮蔽
されるように、該非透光性パターンの領域内に収まるよ
うに形成することが可能となる。したがって、スペーサ
が表示画面に何らかの影響を及ぼすことはない。
Since not only the sealing material but also the spacer is made of a resist, the sealing material and the spacer are formed by a developing pattern using a photomask.
It can be formed in a process and with high definition. In particular, the spacer can be formed so as to be shielded by the non-translucent pattern on the display screen and to fit within the region of the non-translucent pattern. Therefore, the spacer does not have any effect on the display screen.

【0165】その結果、従来よりも多い数量のスペーサ
を表示画面に影響を及ぼすことなく、しかも安定した位
置に形成することができる。そのため、液晶表示装置が
大画面化されることに伴い、液晶層の面積が広くなっ
て、該液晶層のセルギャップが全体的に均一に維持する
ことが困難となっても、十分な数量のスペーサを形成す
ることが可能となる。これによって、セルギャップが十
分に維持されないことによる液晶の下方への偏在を抑制
し、表示ムラのない高品位表示の液晶表示装置を得るこ
とができるという効果も奏する。
As a result, a larger number of spacers than before can be formed at a stable position without affecting the display screen. Therefore, as the size of the liquid crystal display device is increased, the area of the liquid crystal layer is increased, and even if it is difficult to maintain the cell gap of the liquid crystal layer as a whole uniformly, a sufficient number of liquid crystal layers are required. Spacers can be formed. As a result, there is an effect that the uneven distribution of the liquid crystal in the downward direction due to the insufficient maintenance of the cell gap can be suppressed, and a liquid crystal display device of high quality display without display unevenness can be obtained.

【0166】本発明の請求項2記載の液晶表示装置は、
以上のように、上記請求項1記載の構成に加えて、上記
レジストが接着性を有している構成である。
A liquid crystal display device according to a second aspect of the present invention is
As described above, in addition to the configuration described in the first aspect, the resist has an adhesive property.

【0167】それゆえ、上記構成では、レジストが接着
性を有していることから、接続基板と大型基板はシール
材だけでなくスペーサによっても貼り合わせられている
ことになる。そのため、上記各基板同士が対向した貼り
合わせ構造がより安定化し、大面積の液晶層においても
セルギャップの維持を十分に行うことができる。
Therefore, in the above configuration, since the resist has adhesiveness, the connection substrate and the large-sized substrate are bonded not only with the sealing material but also with the spacer. Therefore, the bonding structure in which the substrates face each other is further stabilized, and the cell gap can be sufficiently maintained even in a large-area liquid crystal layer.

【0168】また、上記レジストは、所定の領域からは
み出すことがないが、プレスにより若干押しつぶされる
程度の可塑性を有した状態で硬化している。そのため、
上記レジストは、プレスにより若干押しつぶされて広が
り、対向する基板との接着面積を大きくして、各基板同
士の接着強度を向上させることができる。その結果、液
晶の下方への偏在はより抑制され、表示ムラのない高品
位表示の液晶表示装置を得ることができるという効果を
奏する。
Although the resist does not protrude from a predetermined area, it is cured in a state having plasticity enough to be slightly crushed by a press. for that reason,
The resist is slightly crushed and spread by the press, and the bonding area between the resist and the opposing substrate is increased, so that the bonding strength between the substrates can be improved. As a result, there is an effect that the uneven distribution of the liquid crystal downward is further suppressed, and a liquid crystal display device of high quality display without display unevenness can be obtained.

【0169】さらに、レジスト自体が接着性を有してい
ることから、上記各基板同士を貼り合わせるために、た
とえば、このレジストに対して、さらに接着剤の層を形
成するなどといった製造工程の煩雑化が回避される。そ
のため、得られる液晶表示装置の構造も簡素化でき、製
造コストも低減することができるという効果も奏する。
Further, since the resist itself has an adhesive property, in order to attach the above-mentioned substrates to each other, for example, an additional layer of an adhesive is formed on the resist to complicate the manufacturing process. Is avoided. Therefore, there is an effect that the structure of the obtained liquid crystal display device can be simplified and the manufacturing cost can be reduced.

【0170】本発明の請求項3記載の液晶表示装置は、
以上のように、上記請求項1または2記載の構成に加え
て、上記スペーサはさらに接着剤の層を備えている構成
である。
A liquid crystal display device according to a third aspect of the present invention is
As described above, in addition to the configuration described in claim 1 or 2, the spacer has a configuration further including an adhesive layer.

【0171】それゆえ、上記構成では、上記レジスト自
体に接着性がなかった場合でも、接着剤の層を形成する
ことでシール材およびスペーサに接着性を付与すること
ができる。また、レジストが接着性を有している場合で
も、接着剤の層を形成することで、シール材およびスペ
ーサの接着性をより確実なものとすることができる。そ
のため、上記大型基板と接続基板とが貼り合わせられる
構造をより強固にすることができ、液晶層のセルギャッ
プを全体的により均一に維持することができるという効
果を奏する。
Therefore, in the above configuration, even when the resist itself does not have adhesiveness, adhesiveness can be imparted to the sealing material and the spacer by forming an adhesive layer. Further, even when the resist has adhesiveness, by forming the adhesive layer, the adhesiveness of the sealant and the spacer can be further ensured. Therefore, the structure in which the large-sized substrate and the connection substrate are bonded to each other can be further strengthened, and the cell gap of the liquid crystal layer can be maintained more uniformly as a whole.

【0172】本発明の請求項4記載の液晶表示装置は、
以上のように、上記請求項1、2または3記載の構成に
加えて、上記液晶層は、複数枚の小型基板毎にシール材
で分離されている構成である。
A liquid crystal display device according to a fourth aspect of the present invention comprises:
As described above, in addition to the configuration described in the first, second, or third aspect, the liquid crystal layer is configured to be separated by a sealant for each of a plurality of small substrates.

【0173】それゆえ、上記構成では、得られる液晶表
意装置の表示画面全体に違和感が生じないように、すな
わち、上記小型基板同士の接続部における段差が表示画
面に悪影響を及ぼさないように、液晶層のセルギャップ
を上記小型基板毎にコントロールすることが可能とな
る。また、液晶層の面積は、各小型基板毎の小さな面積
となるため、セルギャップ全体の均一性は、上記レジス
トからなるスペーサによってより維持し易くなる。これ
によって、より高い表示品位を有する大画面化された液
晶表示装置を提供することができる効果を奏する。
Therefore, in the above configuration, the liquid crystal display device is provided with a liquid crystal display device such that the entire display screen does not have a sense of incongruity, that is, the step at the connection between the small substrates does not adversely affect the display screen. The cell gap of the layer can be controlled for each of the small substrates. In addition, since the area of the liquid crystal layer is small for each small substrate, the uniformity of the entire cell gap is more easily maintained by the spacer made of the resist. As a result, it is possible to provide a large-screen liquid crystal display device having higher display quality.

【0174】本発明の請求項5記載の液晶表示装置は、
以上のように、上記請求項1から4の何れか1項に記載
の構成に加えて、上記接続基板は、上記マトリクス状の
非透光性パターンの領域内に収まる間隙で複数枚の小型
基板同士を接続してなる基板である構成である。
A liquid crystal display device according to a fifth aspect of the present invention is
As described above, in addition to the configuration according to any one of claims 1 to 4, the connection substrate includes a plurality of small substrates with a gap that fits within the area of the matrix-shaped non-transparent pattern. This is a configuration in which the substrates are connected to each other.

【0175】それゆえ、上記構成では、上記接続部に形
成されるシール材がレジストからなっていることから、
該接続部において、シール材となるレジストが広がって
表示画面領域にはみ出すことがなく、さらに、該シール
材のパターンをより細い線幅で高精細に形成することが
できる。したがって、非透光性パターンの領域を広くす
る必要がない。
Therefore, in the above configuration, since the sealing material formed at the connection portion is made of a resist,
In the connection portion, the resist serving as the sealant is not spread and does not protrude into the display screen area, and the pattern of the sealant can be formed with a finer line width and high definition. Therefore, it is not necessary to increase the area of the non-translucent pattern.

【0176】このため、上記接続部が上記非透光性パタ
ーンの領域内に収まる間隙となることによって、画素の
開口率の低下を伴わずに、表示画面における画素ピッチ
を表示画面全体として均一にすることができる。その結
果、上記接続部が表示画面に悪影響を及ぼすことを回避
できるとともに、高品位表示が可能な大画面化された液
晶表示装置を実現することができるという効果を奏す
る。
For this reason, since the connection portion forms a gap that fits within the non-light-transmitting pattern region, the pixel pitch on the display screen is made uniform throughout the display screen without lowering the aperture ratio of the pixel. can do. As a result, it is possible to prevent the connection portion from adversely affecting the display screen, and to realize a large-screen liquid crystal display device capable of high-quality display.

【0177】本発明の請求項6記載の液晶表示装置は、
以上のように、上記請求項1から5の何れか1項に記載
の構成に加えて、上記接続基板における複数枚の小型基
板同士の間隙に、該小型基板の基板材料とほぼ同一の屈
折率を有する樹脂が充填されている構成である。
A liquid crystal display device according to a sixth aspect of the present invention comprises:
As described above, in addition to the configuration according to any one of claims 1 to 5, in the gap between the plurality of small substrates in the connection substrate, the refractive index substantially equal to the substrate material of the small substrates is provided. Is filled with a resin having

【0178】それゆえ、上記構成では、大型基板と小型
基板とが、シール材およびスペーサに加えて、小型基板
同士の接続部において上記接着剤によっても貼り合わせ
られていることになる。このため、大型基板と接続基板
とが貼り合わせられる構造をより強固とすることがで
き、特に、小型基板同士の接続部における構造をより強
固なものとするとができる。したがって、液晶層のセル
ギャップを全体的により均一に維持することができると
いう効果を奏する。
Therefore, in the above configuration, the large-sized substrate and the small-sized substrate are bonded together with the adhesive at the connecting portion between the small-sized substrates, in addition to the sealing material and the spacer. For this reason, the structure in which the large-sized substrate and the connection substrate are bonded to each other can be made stronger, and in particular, the structure at the connection portion between the small-sized substrates can be made stronger. Therefore, there is an effect that the cell gap of the liquid crystal layer can be maintained more uniformly as a whole.

【0179】また、上記接着剤は、小型基板の基板材料
とほぼ同一の屈折率を有しているため、上記接続部の小
型基板間における光の屈折および散乱を防止することが
できる。このため、上記接続部が表示画面に悪影響を及
ぼすことは回避できるという効果も奏する。
Further, since the adhesive has substantially the same refractive index as the substrate material of the small substrate, it is possible to prevent refraction and scattering of light between the small substrates of the connection portion. For this reason, there is also an effect that it is possible to prevent the connection section from adversely affecting the display screen.

【0180】本発明の請求項7記載の液晶表示装置は、
以上のように、上記請求項1から6の何れか1項に記載
の構成に加えて、上記スペーサおよびシール材となるレ
ジストは、上記大型基板上に形成されている構成であ
る。
A liquid crystal display device according to a seventh aspect of the present invention comprises:
As described above, in addition to the configuration described in any one of the first to sixth aspects, the resist serving as the spacer and the sealing material is formed on the large-sized substrate.

【0181】それゆえ、上記構成では、シール材および
スペーサとなるレジストを小型基板上に形成すると、小
型基板同士の接続部における段差のために、レジストの
厚さが異なるおそれがある。これに対して、大型基板上
にレジストを形成することによって、該レジストの厚さ
は一定となる。そのため、レジストの厚さがことなるこ
とに伴う色合いの変化などの悪影響が回避され、接続部
がより目立たない高品位の表示画面を実現することがで
きるという効果を奏する。
Therefore, in the above configuration, when a resist serving as a sealing material and a spacer is formed on a small substrate, the thickness of the resist may be different due to a step at a connection portion between the small substrates. On the other hand, by forming a resist on a large substrate, the thickness of the resist becomes constant. Therefore, an adverse effect such as a change in color tone due to a difference in the thickness of the resist can be avoided, and an effect that a high-quality display screen with less noticeable connection portions can be realized.

【0182】本発明の請求項8記載の液晶表示装置は、
以上のように、電極付きの一対の基板を対向させて貼り
合わせ、この基板間に液晶層を挟持してなる液晶表示装
置において、上記一対の基板を貼り合わせるためのシー
ル材と、該基板間に挟持されている液晶層の厚さを所定
の値に維持するためのスペーサとが、耐圧性を有するレ
ジストからなっている製造方法である。
The liquid crystal display device according to the eighth aspect of the present invention,
As described above, in a liquid crystal display device in which a pair of substrates with electrodes are attached to face each other, and a liquid crystal layer is sandwiched between the substrates, a sealing material for attaching the pair of substrates is provided. This is a manufacturing method in which a spacer for maintaining the thickness of the liquid crystal layer sandwiched between them at a predetermined value is made of a resist having a pressure resistance.

【0183】それゆえ、上記製造方法では、シール材と
スペーサとがレジストからなっているため、フォトマス
クを用いた現像パターンにより、シール材およびスペー
サを1工程でしかも高精細で形成することができる。そ
のため、上記スペーサを非表示パターンの領域内に収ま
るように容易に形成できるとともに、セルギャップを十
分維持できる数のスペーサを表示画面に悪影響を与える
ことなく形成することができる。したがって、得られる
液晶表示装置の構造を安定化して、液晶の偏在などによ
る表示品位の低下を回避することができるという効果を
奏する。
Therefore, in the above-described manufacturing method, since the sealing material and the spacer are made of a resist, the sealing material and the spacer can be formed in one step and with high definition by a development pattern using a photomask. . Therefore, the spacers can be easily formed so as to fit within the non-display pattern region, and the number of spacers capable of sufficiently maintaining the cell gap can be formed without adversely affecting the display screen. Therefore, there is an effect that the structure of the obtained liquid crystal display device can be stabilized, and a decrease in display quality due to uneven distribution of liquid crystal or the like can be avoided.

【0184】本発明の請求項9記載の液晶表示装置の製
造方法は、以上のように、マトリクス状の非透光性パタ
ーンを備えている大型基板上に、シール材およびスペー
サとなるレジストを硬化させた状態で所定のパターンと
して形成する工程と、上記レジストを形成した大型基板
に、複数枚の小型基板がその側面部で隣接して1枚の接
続基板を形成するように各小型基板を対向して貼り合わ
せる工程と、対向している上記大型基板と接続基板とを
プレスすることにより、該大型基板と接続基板とで挟持
される空間の厚さを所定の値に設定する工程とを含む製
造方法である。
In the method for manufacturing a liquid crystal display device according to the ninth aspect of the present invention, as described above, a sealing material and a resist serving as a spacer are cured on a large-sized substrate having a matrix-like non-translucent pattern. A step of forming a predetermined pattern in a state in which the small substrates are opposed to the large substrate on which the resist is formed, such that a plurality of small substrates are adjacent to each other on a side surface to form one connection substrate. And bonding the large substrate and the connection substrate facing each other, and setting the thickness of a space sandwiched between the large substrate and the connection substrate to a predetermined value. It is a manufacturing method.

【0185】それゆえ、上記製造方法では、上記各基板
をセルギャップ設定のためにプレスする際に、シール材
およびスペーサは、硬化させた状態のレジストとして形
成されている。この硬化により、このレジストの形状は
安定となるため、上記各基板同士をプレスすることによ
って、シール材となるレジストが所定の線幅から広がっ
て、表示画面領域にまではみ出すことは回避される。ま
た、スペーサも同様に所定の領域から広がって、たとえ
ば、非透光性パターンから表示画面領域にはみ出すこと
はない。それゆえ、これらシール材およびスペーサを遮
蔽する非透光性パターンの領域を広くして、シール材や
スペーサのはみ出しを考慮する必要がなくなる。したが
って、画素の開口率を向上させることができるという効
果を奏する。
Therefore, in the above manufacturing method, when each of the substrates is pressed for setting the cell gap, the sealing material and the spacer are formed as a hardened resist. By this curing, the shape of the resist becomes stable. Therefore, by pressing the substrates, the resist serving as the sealing material is prevented from spreading from a predetermined line width and protruding into the display screen area. Similarly, the spacer also extends from the predetermined area, and does not protrude from the non-light-transmitting pattern to the display screen area, for example. Therefore, it is not necessary to increase the area of the non-light-transmitting pattern that shields the seal material and the spacer, and to consider the protrusion of the seal material and the spacer. Therefore, there is an effect that the aperture ratio of the pixel can be improved.

【0186】また、シール材およびスペーサとなるレジ
ストは、フォトマスクを用いた現像パターンにて1工程
で形成することができる。このため、製造工程の煩雑化
は回避されるとともに、製造工程の簡素化も図ることが
できるという効果を奏する。
[0186] The resist serving as the sealant and the spacer can be formed in one step by a development pattern using a photomask. For this reason, there is an effect that the complication of the manufacturing process can be avoided and the manufacturing process can be simplified.

【0187】さらに、上記製造方法では、接続基板を大
型基板に貼り合わせる際に、複数枚の小型基板を、先に
大型基板に貼り合わせてから接続することになる。この
ため、小型基板同士を先に接続して大型基板に貼り合わ
せる場合に、小型基板同士の接続部の面積が小さいこと
によって接続基板の構造に不安定さが生じるというよう
なことがない。それゆえ、接続基板の取扱いに注意を要
するなどといった製造工程の煩雑化を回避できるという
効果も奏する。
Further, in the above manufacturing method, when bonding the connection substrate to the large substrate, a plurality of small substrates are bonded to the large substrate first and then connected. For this reason, when connecting small substrates first and bonding them to a large substrate, the structure of the connection substrate does not become unstable due to the small area of the connection portion between the small substrates. Therefore, there is also an effect that it is possible to avoid complication of the manufacturing process such as requiring care in handling the connection substrate.

【0188】本発明の請求項10記載の液晶表示装置の
製造方法は、以上のように、上記請求項9記載の製造方
法において、さらに、上記大型基板と接する側の表面に
接着剤が塗布された転写基板を、該大型基板と対向する
ように貼り合わせることによって、上記のレジストの上
に接着剤の層を転写形成する工程を含む製造方法であ
る。
According to a tenth aspect of the present invention, in the method of manufacturing a liquid crystal display device according to the ninth aspect, an adhesive is further applied to the surface in contact with the large-sized substrate. A transfer substrate, which is attached to the large-sized substrate so as to face the large-sized substrate, thereby transferring and forming an adhesive layer on the resist.

【0189】それゆえ、上記製造方法では、転写基板と
レジストが形成された大型基板とをプレスすることによ
り、上記接着剤の層を転写するだけで形成できるので、
製造工程の煩雑化は回避されるという効果を奏する。
Therefore, in the above manufacturing method, the transfer substrate and the large-sized substrate on which the resist is formed can be formed only by transferring the adhesive layer by pressing.
There is an effect that complication of the manufacturing process is avoided.

【0190】本発明の請求項11記載の液晶表示装置の
製造方法は、以上のように、上記請求項9または10記
載の製造方法において、上記対向している基板同士を大
気圧によってプレスする製造方法である。
According to the method for manufacturing a liquid crystal display device according to the eleventh aspect of the present invention, as described above, in the manufacturing method according to the ninth or tenth aspect, the opposing substrates are pressed by atmospheric pressure. Is the way.

【0191】それゆえ、上記製造方法では、上記大型基
板と小型基板とを貼り合わせる場合では、上記小型基板
同士の接続面も含めて、全体的にほぼ均一なセルギャッ
プとして各基板同士を貼り合わせることができる。この
ため、得られる液晶表示装置の液晶層のセルギャップを
全体的により均一にすることができる。また、上記の接
着剤の層を転写する場合でも、大型基板と転写基板とを
全体的により均一にプレスすることができる。このた
め、転写される接着剤の層もより均一とすることができ
るという効果を奏する。
Therefore, in the above manufacturing method, when bonding the large substrate and the small substrate, the substrates are bonded to each other with a substantially uniform cell gap including the connection surface between the small substrates. be able to. Therefore, the cell gap of the liquid crystal layer of the obtained liquid crystal display device can be made more uniform as a whole. In addition, even when the above adhesive layer is transferred, the large substrate and the transfer substrate can be pressed more uniformly as a whole. Therefore, there is an effect that the transferred adhesive layer can be made more uniform.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の一形態にかかる液晶表示装置の
構成を示す断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1の液晶表示装置における平面図である。FIG. 2 is a plan view of the liquid crystal display device of FIG.

【図3】図1の液晶表示装置の画素部の構成を示す要部
の分解斜視図である。
FIG. 3 is an exploded perspective view of a main part showing a configuration of a pixel unit of the liquid crystal display device of FIG.

【図4】図1の液晶表示装置における画素部および非表
示部の構成を示す平面図である。
FIG. 4 is a plan view showing a configuration of a pixel portion and a non-display portion in the liquid crystal display device of FIG.

【図5】図1の液晶表示装置の製造方法における製造工
程全体の流れを示す図である。
5 is a diagram showing a flow of an entire manufacturing process in the method of manufacturing the liquid crystal display device of FIG.

【図6】(a)〜(d)は、図1の液晶表示装置の製造
方法を示す工程図である。
FIGS. 6A to 6D are process diagrams illustrating a method for manufacturing the liquid crystal display device of FIG.

【図7】(a)〜(d)は、図6の続きとなる、図1の
液晶表示装置の製造方法を示す工程図である。
7 (a) to 7 (d) are process diagrams showing a method for manufacturing the liquid crystal display device of FIG. 1, which is a continuation of FIG.

【図8】(a)〜(e)は、図1の液晶表示装置の他の
製造方法を示す工程図である。
FIGS. 8A to 8E are process diagrams showing another method for manufacturing the liquid crystal display device of FIG.

【図9】本発明の液晶表示装置の変形例の構成を示す断
面図である。
FIG. 9 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a modified example of the liquid crystal display device of the present invention.

【図10】(a)は、従来の液晶表示装置の斜視図であ
り、(b)は、(a)の液晶表示装置におけるA−A線
矢視断面図である。
10A is a perspective view of a conventional liquid crystal display device, and FIG. 10B is a cross-sectional view of the liquid crystal display device of FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 CF基板 2 接続基板 2a TFT基板 3 シール材 4 スペーサ 4a レジスト層 4b 接着剤層 4c 硬化レジスト 4d 硬化レジスト 12 ブラックマトリクス(非透光性パターン) 14 液晶層 23 シール材 24 スペーサ 24a レジスト層 24c 仮硬化レジスト 24d 仮硬化レジスト Reference Signs List 1 CF substrate 2 Connection substrate 2a TFT substrate 3 Sealing material 4 Spacer 4a Resist layer 4b Adhesive layer 4c Hardened resist 4d Hardened resist 12 Black matrix (non-light-transmitting pattern) 14 Liquid crystal layer 23 Sealing material 24 Spacer 24a Resist layer 24c Temporary Cured resist 24d Temporary cured resist

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】マトリクス状の非透光性パターンを備えて
いる大型基板と、複数枚の小型基板をその側面部で接続
してなる1枚の接続基板とを対向させ、その間に液晶層
を挟持してなる液晶表示装置において、 上記大型基板と接続基板とを貼り合わせるためのシール
材と、大型基板と接続基板に挟持される液晶層の厚さを
所定の値に維持するスペーサとが、耐圧性を有するレジ
ストからなっていることを特徴とする液晶表示装置。
1. A large-sized substrate having a matrix-like non-light-transmitting pattern is opposed to a single connection substrate formed by connecting a plurality of small-sized substrates on side surfaces thereof. In the liquid crystal display device sandwiched, a sealing material for bonding the large substrate and the connection substrate, and a spacer for maintaining the thickness of the liquid crystal layer sandwiched between the large substrate and the connection substrate at a predetermined value, A liquid crystal display device comprising a resist having a pressure resistance.
【請求項2】上記レジストが接着性を有していることを
特徴とする請求項1記載の液晶表示装置。
2. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein said resist has an adhesive property.
【請求項3】上記スペーサはさらに接着剤の層を備えて
いることを特徴とする請求項1または2記載の液晶表示
装置。
3. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein said spacer further comprises an adhesive layer.
【請求項4】上記液晶層は、複数枚の小型基板毎にシー
ル材で分離されていることを特徴とする請求項1、2ま
たは3記載の液晶表示装置。
4. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein said liquid crystal layer is separated by a sealing material for each of a plurality of small substrates.
【請求項5】上記接続基板は、対向する大型基板に設け
られているマトリクス状の非透光性パターンの領域内に
収まる間隙で複数枚の小型基板同士を接続してなる基板
であることを特徴とする請求項1から4の何れか1項に
記載の液晶表示装置。
5. The connection substrate according to claim 1, wherein the plurality of small substrates are connected to each other at a gap which is accommodated in a matrix-shaped non-translucent pattern region provided on the large substrate facing the connection substrate. The liquid crystal display device according to any one of claims 1 to 4, wherein:
【請求項6】上記接続基板における複数枚の小型基板同
士の間隙に、該小型基板の基板材料とほぼ同一の屈折率
を有する樹脂が充填されていることを特徴とする請求項
1から5の何れか1項に記載の液晶表示装置。
6. The connection substrate according to claim 1, wherein a gap between the plurality of small substrates in the connection substrate is filled with a resin having a refractive index substantially the same as the substrate material of the small substrates. The liquid crystal display device according to claim 1.
【請求項7】上記スペーサおよびシール材となるレジス
トは、上記大型基板上に形成されていることを特徴とす
る請求項1から6の何れか1項に記載の液晶表示装置。
7. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the resist serving as the spacer and the sealing material is formed on the large-sized substrate.
【請求項8】電極付きの一対の基板を対向させて貼り合
わせ、この基板間に液晶層を挟持してなる液晶表示装置
において、 上記一対の基板を貼り合わせるためのシール材と、各基
板間に挟持されている液晶層の厚さを所定の値に維持す
るためのスペーサとが、耐圧性を有するレジストからな
っていることを特徴とする液晶表示装置。
8. A liquid crystal display device in which a pair of substrates with electrodes are attached to each other so as to face each other, and a liquid crystal layer is sandwiched between the substrates. A spacer for maintaining the thickness of the liquid crystal layer sandwiched between the spacers at a predetermined value, the spacer being made of a resist having a pressure resistance.
【請求項9】マトリクス状の非透光性パターンを備えて
いる大型基板上に、シール材およびスペーサとなるレジ
ストを硬化させた状態で所定のパターンとして形成する
工程と、 上記レジストを形成した大型基板に、複数枚の小型基板
がその側面部で隣接して1枚の接続基板を形成するよう
に各小型基板を対向して貼り合わせる工程と、 対向している上記大型基板と接続基板とをプレスするこ
とにより、該大型基板と接続基板とで挟持される空間の
厚さを所定の値に設定する工程とを含むことを特徴とす
る液晶表示装置の製造方法。
9. A step of forming a resist as a sealing material and a spacer as a predetermined pattern on a large-sized substrate having a matrix-like non-light-transmitting pattern, and forming the resist into a predetermined pattern. A step of laminating the small substrates facing each other so that a plurality of small substrates are adjacent to each other on a side surface thereof to form a single connection substrate; and Setting the thickness of the space sandwiched between the large-sized substrate and the connection substrate to a predetermined value by pressing.
【請求項10】さらに、上記大型基板と接する側の表面
に接着剤が塗布された転写基板を、該大型基板と対向す
るように貼り合わせることによって、上記のレジストの
上に接着剤の層を転写形成する工程を含むことを特徴と
する請求項9記載の液晶表示装置の製造方法。
10. A transfer substrate having an adhesive applied to the surface in contact with the large-sized substrate is bonded so as to face the large-sized substrate, thereby forming an adhesive layer on the resist. 10. The method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 9, further comprising a step of performing transfer formation.
【請求項11】上記対向している基板同士を大気圧によ
ってプレスすることを特徴とする請求項9または10記
載の液晶表示装置の製造方法。
11. The method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 9, wherein said opposed substrates are pressed with each other under atmospheric pressure.
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