JPH11281783A - 真空容器内冷却水浸入時の圧力上昇抑制方法及びその装置 - Google Patents
真空容器内冷却水浸入時の圧力上昇抑制方法及びその装置Info
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- JPH11281783A JPH11281783A JP10102211A JP10221198A JPH11281783A JP H11281783 A JPH11281783 A JP H11281783A JP 10102211 A JP10102211 A JP 10102211A JP 10221198 A JP10221198 A JP 10221198A JP H11281783 A JPH11281783 A JP H11281783A
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- Y02E30/10—Nuclear fusion reactors
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Abstract
ーム装置,イオン源装置,加速器等の真空容器に於い
て、冷却水配管が破損して真空容器内に冷却水が浸入
し、真空中で冷却水が水蒸気となって真空容器内の圧力
が異常に上昇するのを抑制する。 【解決手段】 内部に冷却水配管等を有する真空容器に
接続して通常真空にして運転する空間を設け、この空間
へ前記真空容器内に浸入し蒸発した冷却水の水蒸気を導
き、この水蒸気を冷却し、凝結して、真空容器内の圧力
上昇を抑制する。
Description
等を有する真空容器、例えば核融合炉のプラズマ真空容
器、ビーム装置,イオン源装置,加速器等の真空容器に
於いて、冷却水配管が破損して真空容器内に冷却水が浸
入した際の圧力上昇抑制方法及びその装置に関する。
は、冷却水配管が破損して冷却水が容器内の真空雰囲気
に浸入する事象が生じると、冷却水の急激な蒸発により
容器内の圧力が上昇する。容器壁の温度が高い場合に
は、蒸発速度が大きく、蒸発した水蒸気が凝結しないた
め、圧力はさらに高い値まで上昇し、真空容器の破損を
招く恐れがある。
えば国際核融合実験炉設計では、図7に示すように水を
包蔵したサプレッションチャンバ(圧力抑制容器)1を
プラズマ真空容器2に接続し、接続部に図8に示すよう
にラプチャーディスク3を設置して真空容器2内の圧力
が設定値以上に到達した場合に、ラプチャーディスク3
を破って水蒸気をサプレッションチェンバ1に導いて凝
縮させることにより、圧力上昇を抑制して真空容器2の
破損を防止する対策が考えられ、採用されている。これ
は軽水冷却型原子力発電所における圧力抑制機構(サプ
レッションチェンバ)を適用したものである。図9に沸
騰水冷却型原子力発電所における原子炉と圧力抑制機構
の設置状況を示し、図10にその圧力抑制機構の系統図
を示す。
した場合に、真空容器2内の圧力上昇を抑制し、真空容
器の破損を防止できるような対策を講じることは可能で
あるが、この圧力抑制装置は以下に述べるような問題が
あった。
が大きくなるため、設置面積が大きく、製作コストが高
くなる。しかも真空容器2の近辺は、各種機器が錯綜し
ているので、ここにサプレションチャンバ1の設置場所
を確保することが困難となる。図7の設計例では、大半
径が15.7m、タンク内直径が4.75m、容積が約
1750m3 円環状サプレッションチェンバ1を設置す
る必要があった。これは、沸騰水型原子力発電所の冷却
水圧力が約70kg/cm2、核融合実験炉の冷却水圧力が約
40kg/cm2であること、核融合炉は大きな真空容器2を
具備しているため、空間容積当りの発生可能性のある水
蒸気量は少ないことから合理的な設計とは言えない。 圧力抑制装置の運転中は、真空容器2内が真空、水を
包蔵したサプレションチェンバ1が大気圧であるため、
接続部に不具合があると、サプレッションチェンバ1内
の大気圧に対する水蒸気が真空容器2に逆流して真空特
性に悪影響を与える可能性がある。このためラプチャー
ディスク3を二重にするなどの対策をとる必要がある。
また、万一サプレッションチェンバ1から水蒸気が真空
容器2内に逆流した場合には、真空容器2の表面のベー
キングなど修復に長時間かかることになる。 サプレッションチェンバ1内を真空排気系と接続する
ことができないため、冷却水浸入事象時に水と高温の壁
が反応して生じる水素など非凝縮性気体が発生した場
合、真空容器2内あるいはサプレッションチェンバ1内
に蓄積され、圧力上昇抑制機能に悪影響を与え、十分な
圧力抑制を達成できない可能性がある。
真空容器を持つ装置では、冷却水を使用していなかった
り、使用していても真空容器の容積に対して圧力が低
く、冷却水量が少なかったりして、圧力上昇抑制装置を
設置しなくても、真空容器を破損する恐れは少なかっ
た。また、真空容器内にトリチウムや放射性ダストのよ
うな放出を避けなければならない物質を内包していない
ので、真空容器の破損が重大な問題を生じることはなか
った。
ーム装置の高出力化、高出力密度化が達成され、ターゲ
ットなど真空容器内の機器を高圧の冷却水で冷却する必
要性が生じつつある。また、材料や機器などの加熱試験
や、大型機器の表面加工等では、長時間の連続運転が要
求されるため、材料や機器自体及びこれを保持するホル
ダなどが加熱することを回避するため、水冷が必要とな
る場合が生じる。
設置されることとなり、装置の破損を防止するために、
冷却水浸入時の圧力上昇抑制が必要される。特に、加速
器による放射性核種の消滅/短寿命化処理や、中性子線
照射した材料・機器などの加熱試験、放射性物質汚染機
器や化学的な毒性を有する機器のビーム加工などでは、
真空容器の破損が、放射性物質や化学的に毒性を有する
物質の飛散を生じる可能性があり、安全の観点から圧力
上昇を抑制することが肝要である。
合炉のプラズマ真空容器を始めとし、ビーム装置,イオ
ン源装置,加速器等の真空容器に於いて、冷却水配管が
破損して真空容器内に冷却水が浸入し、真空中で冷却水
が水蒸気となって真空容器内の圧力が異常に上昇するの
を抑制するための方法及びその装置を提供しようとする
ものである。
の本発明の真空容器内冷却水浸入時の圧力上昇抑制方法
は、内部に冷却水配管等を有する真空容器に接続して通
常真空にして運転する空間を設け、この空間へ前記真空
容器内に浸入し蒸発した冷却水の水蒸気を導き、この水
蒸気を冷却し、凝結して、真空容器内の圧力上昇を抑制
することを特徴とするものである。
本発明の真空容器内冷却水浸入時の圧力上昇抑制装置
は、内部に冷却水配管等を有する真空容器に接続して通
常真空にして運転する空間を設け、この空間に水蒸気を
冷却し、凝結させる冷却機構を具備したことを特徴とす
るものである。
抑制装置に於いて、水蒸気を冷却し、凝結させる冷却機
構は、多層の冷却パネルにより構成され、空間内に設置
されたものであることが好ましい。
上昇抑制装置に於いて、真空容器に接続して設けられた
空間は、真空容器の一部または真空排気系ダクトの一部
であることが好ましい。
の圧力上昇抑制方法及びその装置の実施形態について、
先ず圧力上昇抑制方法を実施するための装置を図によっ
て説明すると、図1のaの系統図に示すように圧力上昇
抑制装置10は、内部に冷却水配管11を有する真空容
器12に接続して通常真空ポンプ13により真空にして
運転する空間14を設け、この空間14に水蒸気を冷却
し、凝結させる冷却機構15を具備したものである。こ
の圧力上昇抑制装置10は、排気ダクト16の途中に設
けられ、運転中開放されているが、図1のbの系統図に
示すように圧力上昇抑制装置10を排気ダクト16の途
中から分岐して設け、必要に応じて真空ポンプ13の上
流で排気ダクト16に設けた遮断弁17の閉止により隔
離するようにしてもよい。
図2のaの概念図に示すように円筒容器14aの外面に
スパイラルに巻装固定した水冷配管15aでもよいが、
図2のbの概念図に示すように円筒容器14a内に配設
した多層の冷却パネル15bでもよい。勿論、冷却を水
以外の冷媒(例えば液体窒素)で行ってもよい。
る水蒸気を冷却機構15により効果的に凝縮させるの
で、小さい容積でよい。従って、真空容器12と真空ポ
ンプ13などの真空排気装置を接続する排気ダクト16
の一部を利用することができ、また真空容器12の一部
を利用することもできる。
空容器内冷却水浸入時の圧力上昇抑制方法について説明
する。図1のa及びbに示すように内部に冷却水配管1
1を有する真空容器12及びこれに接続された空間14
は、通常真空ポンプ13により真空にして運転される。
これにより空間14の接続部に不具合が生じた場合で
も、真空特性に悪影響を与えることはない。また、接続
部に従来のラプチャーディスクを設置する必要がなく、
運転中は開放でよい。さて、真空容器12内の冷却水配
管11が万が一破損して冷却水が真空容器12内の真空
雰囲気に浸入する事象が生じ、冷却水の急激な蒸発によ
り真空容器12内の圧力が上昇した場合には、運転継続
中の真空ポンプ13により真空容器12内の水蒸気が空
間14に導かれ、ここで冷却機構15により凝縮され
る。従って、小さいサプレッションチェンバ容積で真空
容器12内の圧力上昇を抑制できる。冷却機構15が図
2のbに示す多層の冷却パネル15bの場合、冷却面積
が増大するので、サプレッションチェンバ容積がさらに
大幅に小さくなる。このように圧力上昇抑制用の空間1
4は、小さくてよいので、排気ダクト16の一部や真空
容器12の一部を空間14として利用することができ、
これにより、設置空間の縮減、コスト低減を達成でき
る。
抑制方法及びその装置の種々の適用実施例を図によって
説明する。図3は、核融合炉20のプラズマ真空容器2
1内のブランケット22やダイバータ23と真空容器2
1との間に空間24が存在するので、この空間24に冷
却機構25を備えて、圧力上昇抑制装置26を構成した
ものである。この圧力上昇抑制装置26による圧力上昇
抑制方法によれば、図3に示すようにブランケット23
内の冷却通路(図示省略)が破損して冷却水Wが真空容
器21内(ブランケット22の内側)に浸入すると、冷
却水Wの急激な蒸発により真空容器21内の圧力が上昇
するが、排気ダクトを通して真空容器21内が真空吸引
されているので、ブランケット23の内側から水蒸気が
空間24に導かれ、ここで冷却機構25により圧力上昇
抑制装置26を冷却し、これにより水蒸気が凝縮される
結果、真空容器21内の圧力上昇が抑制され、従来のサ
プレッションチェンバのような圧力抑制装置を設置する
必要は無くなり、設置空間も不要となる。この場合、圧
力上昇抑制装置26及び冷却機構25は安全系であるの
で、ブランケット22が破損しても真空容器21と共に
破損を防止する必要がある。このため、必要に応じてブ
ランケット22との中間に保護板等(図示せず)を設け
る。
器28内の被加工材料29を保持するホルダ30の下側
に、該ホルダ30の加熱を防止するために水冷ジャケッ
ト31が設けられると共にこれに冷却水配管32が設け
られている場合、真空ポンプ33に連なる排気ダクト3
4の途中に空間35を設け、この空間35に冷却機構3
6を備えて、圧力上昇抑制装置37を構成したものであ
る。この圧力上昇抑制装置37による圧力上昇抑制方法
によれば、図4に示す冷却水配管32が破損して冷却水
が真空容器28内に浸入すると、冷却水の急激な蒸発に
より真空容器28内の圧力が上昇するが、排気ダクト3
4を通して真空容器28内が真空ポンプ33により真空
吸引されているので、真空容器28内から排気ダクト3
4の途中の空間35に水蒸気が導かれ、ここで冷却機構
36により冷却,凝縮される結果、真空容器28内の圧
力上昇が抑制され、電子ビーム加工装置27の破損が防
止される。
真空容器39内の試験試料40を保持する試験ベッド4
1が水冷ジャケットとされ、これに冷却水配管42が設
けられている場合、真空ポンプ43に連なる排気ダクト
44の途中に空間45を設け、この空間45に冷却機構
46を備えて、圧力上昇抑制装置47を構成したもので
ある。この圧力上昇抑制装置47による圧力上昇抑制方
法によれば、図5に示す冷却水配管42が破損して冷却
水が真空容器39内に浸入すると、冷却水の急激な蒸発
により真空容器39内の圧力が上昇するが、排気ダクト
44を通して真空容器39内が真空ポンプ43により真
空吸引されているので、真空容器39内から排気ダクト
44の途中の空間45に水蒸気が導かれ、ここで冷却機
構46により冷却,凝縮される結果、真空容器39内の
圧力上昇が抑制され、イオン源(加熱試験)装置38の
破損が防止される。
内のターゲット50を保持するホルダ51が水冷ジャケ
ットとされ、これに冷却水配管52が設けられている場
合、真空ポンプ53に連なる排気ダクト54の途中に空
間55を設け、この空間55に冷却機構56を備えて、
圧力上昇抑制装置47を構成したものである。この圧力
上昇抑制装置47による圧力上昇抑制方法によれば、図
6に示す冷却水配管52が破損して冷却水が真空容器4
9内に浸入すると、冷却水の急激な蒸発により真空容器
49内の圧力が上昇するが、排気ダクト54を通して真
空容器49内が真空ポンプ53により真空吸引されてい
るので、真空容器49内から排気ダクト54の途中の空
間55に水蒸気が導かれ、ここで冷却機構46により冷
却,凝縮される結果、真空容器49内の圧力上昇が抑制
され、超伝導加速器48の破損が防止される。
ば、核融合炉のプラズマ真空容器を始めとし、ビーム装
置,イオン源装置,加速器等の真空容器の内部に冷却水
配管等を包蔵している場合、冷却水配管が破損して真空
容器内に冷却水が浸入し、急激な蒸発により圧力上昇し
た際、真空容器内の水蒸気を真空容器に接続した空間に
導き、この水蒸気を冷却し、凝結して、真空容器内の圧
力上昇を抑制できるので、真空容器の破損を防止して、
放射性物質や化学的に毒性を有する物質の飛散を防止で
き、安全管理の面で極めて有用である。また、上記の真
空容器に接続した空間は、水蒸気を効果的に凝縮させる
ことで、小さいサプレッションチェンバ容積でよいの
で、圧力抑制空間として、真空容器と真空ポンプを接続
する排気用ダクトの一部を利用でき、これにより従来の
サプレッションチェンバのような圧力抑制装置は不要
で、設置空間の縮減、コスト低減を達成できる。
圧力上昇抑制装置の系統図である。
構の概念図である。
マ真空容器に適用した実施例を示す図である。
置の真空容器に適用した実施例を示す図である。
験)装置の真空容器に適用した実施例を示す図である。
空容器に適用した実施例を示す図である。
図である。
ョンチェンバを示す図である。
力抑制機構の設置状況を示す図である。
る。
Claims (4)
- 【請求項1】 内部に冷却水配管等を有する真空容器に
接続して通常真空にして運転する空間を設け、この空間
へ前記真空容器内に浸入し蒸発した冷却水の水蒸気を導
き、この水蒸気を冷却し、凝結して、真空容器内の圧力
上昇を抑制することを特徴とする真空容器内冷却水浸入
時の圧力上昇抑制方法 - 【請求項2】 内部に冷却水配管等を有する真空容器に
接続して通常真空にして運転する空間を設け、この空間
に水蒸気を冷却し、凝結させる冷却機構を具備したこと
を特徴とする真空容器内冷却水浸入時の圧力上昇抑制装
置。 - 【請求項3】 水蒸気を冷却し、凝結させる冷却機構
が、多層の冷却パネルにより構成され、空間内に設置さ
れたものであることを特徴とする請求項2記載の真空容
器内冷却水浸入時の圧力上昇抑制装置。 - 【請求項4】 真空容器に接続して設けられた空間が、
真空容器の一部または真空排気系ダクトの一部であるこ
とを特徴とする請求項2または3記載の真空容器内冷却
水浸入時の圧力上昇抑制装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10221198A JP3870236B2 (ja) | 1998-03-30 | 1998-03-30 | 真空容器内冷却水浸入時の圧力上昇抑制方法及びその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
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JP10221198A JP3870236B2 (ja) | 1998-03-30 | 1998-03-30 | 真空容器内冷却水浸入時の圧力上昇抑制方法及びその装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11281783A true JPH11281783A (ja) | 1999-10-15 |
JP3870236B2 JP3870236B2 (ja) | 2007-01-17 |
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---|---|---|---|
JP10221198A Expired - Fee Related JP3870236B2 (ja) | 1998-03-30 | 1998-03-30 | 真空容器内冷却水浸入時の圧力上昇抑制方法及びその装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP3870236B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113484058A (zh) * | 2021-09-06 | 2021-10-08 | 武汉联渔机械设备有限公司 | 设备状态管理方法、装置及存储介质 |
-
1998
- 1998-03-30 JP JP10221198A patent/JP3870236B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN113484058A (zh) * | 2021-09-06 | 2021-10-08 | 武汉联渔机械设备有限公司 | 设备状态管理方法、装置及存储介质 |
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