JPH11271736A - Substrate for plastic liquid crystal display element and its production - Google Patents

Substrate for plastic liquid crystal display element and its production

Info

Publication number
JPH11271736A
JPH11271736A JP7104898A JP7104898A JPH11271736A JP H11271736 A JPH11271736 A JP H11271736A JP 7104898 A JP7104898 A JP 7104898A JP 7104898 A JP7104898 A JP 7104898A JP H11271736 A JPH11271736 A JP H11271736A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
substrate
liquid crystal
crystal display
thickness
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP7104898A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Akihiro Ishiha
彰浩 石破
Akifumi Katsumura
明文 勝村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Bakelite Co Ltd filed Critical Sumitomo Bakelite Co Ltd
Priority to JP7104898A priority Critical patent/JPH11271736A/en
Publication of JPH11271736A publication Critical patent/JPH11271736A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To enhance optical characteristics, heat resistance and mechanical strength by sticking a polyether sulfone film having a specified thickness on one face or both faces of an amorphous polyolefin film having specified thickness with a transparent adhesive. SOLUTION: A polyether sulfone film 2 having 25-100 μm thickness is stuck to one face or both faces of an amorphous polyolefin film 1 having 150-300 μm thickness with a transparent adhesive to obtain the objective substrate for a plastic liq. crystal display element having 200-500 μm total thickness. As a preferable morpheme, a gas barrier layer 4 mainly consisting of silicon dioxide, aluminum oxide or magnesium oxide is preferably provided between at least one of the amorphous polyolefin film 1 and polyether sulfone film 2. A transparent electrically conductive thin film 5 made of indium tin oxide is preferably provided on the face of at least one polyether sulfone film 2 which is not in the side of the amorphous polyolefin film 1.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、プラスチック液晶
表示素子に用いられる上下電極基板を作成するための基
板材料に関する。
The present invention relates to a substrate material for forming upper and lower electrode substrates used for a plastic liquid crystal display device.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶表示素子は、薄型・軽量・低消費電
力等の特徴を生かして、電卓、デジタル腕時計、ページ
ャー、携帯電話等の携帯電子機器の表示素子として採用
されている。液晶表示素子は、透明電極を表面に形成し
た2枚の基板で液晶を挟み、その外側に偏光板を配置し
て構成されるが、従来の基板は、1.1mm厚さのガラ
ス板が用いられてきた。最近、液晶表示素子のさらなる
薄型・軽量化のためにガラス板の厚さを薄くする努力が
なされているが、ガラスは薄くなると極めて割れやすく
なり、目標とされている0.5mm以下の厚さになると
製造が困難であるとともに、製品自体も耐久性の欠ける
ものとなる。そこでガラスの代わりに樹脂基板を採用す
る試みがなされるようになってきた。このような樹脂を
基板に用いる液晶表示素子はプラスチック液晶表示素子
(プラ液晶と略す)と呼ばれている。プラ液晶には、樹
脂からなるフィルムを用い、ロールツーロール方式で巻
き取り・巻き出しによる加工を行う、新たな生産方式を
目指すもの(フィルム液晶)と、枚葉シートによる従来
からのガラス基板用の生産設備を用いて従来技術および
設備の有効活用を図ろうとするもの(シート液晶)があ
り、本特許はシート液晶用の基板に関わるものである。
2. Description of the Related Art Liquid crystal display devices have been adopted as display devices for portable electronic devices such as calculators, digital watches, pagers, and cellular phones, taking advantage of their features such as thinness, light weight, and low power consumption. A liquid crystal display element is configured by sandwiching liquid crystal between two substrates having transparent electrodes formed on the surface, and arranging a polarizing plate on the outside of the liquid crystal. A conventional substrate uses a 1.1 mm thick glass plate. I have been. Recently, efforts have been made to reduce the thickness of the glass plate in order to further reduce the thickness and weight of the liquid crystal display element. However, as the glass becomes thinner, it becomes extremely fragile, and the target thickness is 0.5 mm or less. In such a case, production becomes difficult, and the product itself also lacks durability. Therefore, attempts have been made to employ a resin substrate instead of glass. A liquid crystal display element using such a resin for a substrate is called a plastic liquid crystal display element (abbreviated as plastic liquid crystal). The plastic liquid crystal uses a film made of resin and is processed by winding and unwinding in a roll-to-roll system (film liquid crystal). There is a device (sheet liquid crystal) which attempts to make effective use of the conventional technology and the device by using the production equipment described above, and this patent relates to a substrate for the sheet liquid crystal.

【0003】シート液晶用基板としては、200μm以
上の厚さが必要である。また、500μmを超えるとガ
ラス基板での問題が生じず必要性が無くなる。よって、
求められる厚さは200〜500μmの厚さの基板であ
る。液晶表示素子の基板として用いるには、光学特性・
耐熱性・機械的強度等さまざまな要求を満たす必要があ
る。それらの要求を満足するものとして、ポリエーテル
スルホンフィルムが有望であり、フィルム液晶用の基板
として採用されているが、シート液晶用基板としては、
200μm以上の厚さになると黄色味が強くなり、複屈
折も大きくなり採用できなくなる。一方、200μm以
上の厚さでも無色透明で、複屈折も低く良好である樹脂
フィルムとして、アモルファスポリオレフィンフィルム
があるが、この場合は、耐熱性が低く、機械的強度にも
劣り、求めるシート基板は得られなかった。
A sheet liquid crystal substrate needs to have a thickness of 200 μm or more. On the other hand, if it exceeds 500 μm, no problem occurs on the glass substrate, and the necessity is eliminated. Therefore,
The required thickness is a substrate having a thickness of 200 to 500 μm. To use as a substrate of a liquid crystal display element,
It is necessary to satisfy various requirements such as heat resistance and mechanical strength. A polyethersulfone film is promising as a material that satisfies those requirements, and is used as a substrate for film liquid crystal.
When the thickness is 200 μm or more, the yellowish color becomes strong and the birefringence becomes too large to be adopted. On the other hand, as a resin film which is colorless and transparent even at a thickness of 200 μm or more and has low birefringence and good properties, there is an amorphous polyolefin film. In this case, the heat resistance is low and the mechanical strength is inferior. Could not be obtained.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、光学
特性、耐熱性、機械的強度に優れたプラスチック液晶表
示素子用基板を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a substrate for a plastic liquid crystal display device having excellent optical characteristics, heat resistance and mechanical strength.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明は、厚さ150〜
300μmのアモルファスポリオレフィンフィルムの片
面もしくは両面に、厚さ25〜100μmのポリエーテ
ルスルホンフィルムを、透明な接着剤で貼り合わせてな
り、全体の厚さが200〜500μmであるプラスチッ
ク液晶表示素子用基板である。好ましい形態としては、
少なくとも一方の、アモルファスポリオレフィンフィル
ムとポリエーテルスルホンフィルムの間に、酸化珪素、
酸化アルミニウムまたは酸化マグネシウムを主成分とす
るガスバリアー層を有し、少なくとも一方のポリエーテ
ルスルホンフィルムのアモルファスポリオレフィン側で
はない面に、インジウム錫酸化物からなる透明導電性薄
膜を有し、またガスバリアー層とポリエーテルスルホン
フィルムの間に、UV硬化型エポキシアクリレート系硬
化被膜層を有するプラスチック液晶表示素子用基板であ
る。更に好ましくは、透明導電性薄膜とポリエーテルス
ルホンフィルムの間に、UV硬化型エポキシアクリレー
ト系硬化被膜を有し、また少なくとも1方の表面に、U
V硬化型エポキシアクリレート系硬化被膜層を有するプ
ラスチック液晶表示用基板である。更には、アモルファ
スポリオレフィンフィルムおよびポリエーテルスルホン
フィルムを溶融押出法により連続した巻物として製造
し、貼り合わせ、ガスバリアー層の形成、透明導電性薄
膜の形成、UV硬化型エポキシアクリレート系硬化被膜
層の形成も連続した巻物の状態で加工した後に、枚葉に
切断するプラスチック液晶表示素子用基板の製造方法で
ある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has a thickness of 150 to 150 mm.
A plastic liquid crystal display element substrate in which a polyethersulfone film having a thickness of 25 to 100 μm is bonded to one or both sides of a 300 μm amorphous polyolefin film with a transparent adhesive, and the total thickness is 200 to 500 μm. is there. As a preferred form,
Silicon oxide between at least one of the amorphous polyolefin film and the polyethersulfone film,
A gas barrier layer containing aluminum oxide or magnesium oxide as a main component, a transparent conductive thin film made of indium tin oxide on at least one surface of the polyethersulfone film other than the amorphous polyolefin side, and a gas barrier This is a substrate for a plastic liquid crystal display element having a UV-curable epoxy acrylate-based cured coating layer between a layer and a polyethersulfone film. More preferably, a UV-curable epoxy acrylate-based cured film is provided between the transparent conductive thin film and the polyethersulfone film, and at least one surface has
This is a plastic liquid crystal display substrate having a V-curable epoxy acrylate-based cured coating layer. Furthermore, an amorphous polyolefin film and a polyethersulfone film are manufactured as continuous rolls by a melt extrusion method, bonded together, formed a gas barrier layer, formed a transparent conductive thin film, and formed a UV-curable epoxy acrylate-based cured coating layer. Is also a method of manufacturing a substrate for a plastic liquid crystal display element, which is processed in a continuous roll and then cut into single sheets.

【0006】[0006]

【発明の実施の形態】本発明に使用するアモルファスポ
リオレフィンフィルムの厚さは、150〜300μmで
ある。150μm未満の厚さではシート基板のたわみを
抑える効果が得られず、また300μmを超えると溶融
押出法で作成する場合に巻き取りが困難となり、またそ
の後の加工性も劣る。本発明に使用するポリエーテルス
ルホンフィルムの厚さは、25〜100μmである。2
5μm未満ではしわが発生しやすく、押出成膜法での作
成が困難であり、その後の加工でも扱いにくい。100
μmを超えると、片面のみの貼り合わせの場合は、アモ
ルファスポリオレフィンとの熱膨張等の特性の違いが大
きくなり、加熱時に反りや変形が生じるので好ましくな
い。また両面に貼り合わせる場合は、黄色味や複屈折が
大きくなるのでやはり好ましくない。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The thickness of an amorphous polyolefin film used in the present invention is 150 to 300 μm. If the thickness is less than 150 μm, the effect of suppressing the deflection of the sheet substrate cannot be obtained. If the thickness exceeds 300 μm, it becomes difficult to wind up the sheet substrate by melt extrusion, and the workability thereafter is also poor. The thickness of the polyethersulfone film used in the present invention is 25 to 100 μm. 2
If it is less than 5 μm, wrinkles are apt to occur, making it difficult to produce by extrusion film forming method, and it is difficult to handle even in subsequent processing. 100
If it exceeds μm, in the case of laminating on one side only, the difference in properties such as thermal expansion from the amorphous polyolefin becomes large, and warpage or deformation occurs during heating, which is not preferable. In the case of laminating on both sides, the yellow color and the birefringence increase, which is not preferable.

【0007】液晶表示素子用基板として重要な特性にガ
スバリアー性がある。そのために、枚葉のシートを液晶
表示素子に加工する工程中にガスバリアー膜を表面に形
成することも可能であるが、ガスバリアー層の形成は、
巻物の状態で行う方が生産性が高く効率的である。しか
も、アモルファスポリオレフィンフィルムとポリエーテ
ルスルホンフィルムの間に形成すれば、表面に擦り傷等
を受けてもガスバリアー性が損なわれる危険性が低減さ
れる。特に薄いフィルムであるほど巻物の状態で行う方
が好ましく、ポリエーテルスルホンフィルム側に形成す
ることが好ましい。ガスバリアー層には、温度や湿度の
影響を受けにくい無機物の透明薄膜が好ましく、酸化珪
素や酸化アルミニウムや酸化マグネシウムを主成分とす
る金属酸化物薄膜が好ましい。
An important property as a substrate for a liquid crystal display element is a gas barrier property. Therefore, it is possible to form a gas barrier film on the surface during the process of processing a single sheet into a liquid crystal display element, but the formation of the gas barrier layer is as follows:
It is more efficient and efficient to work in the state of a scroll. Moreover, when formed between the amorphous polyolefin film and the polyethersulfone film, the risk of impairing the gas barrier properties even if the surface is scratched or the like is reduced. In particular, the thinner the film, the more preferably it is carried out in the form of a roll, and the film is preferably formed on the polyethersulfone film side. For the gas barrier layer, a transparent thin film of an inorganic substance which is hardly affected by temperature and humidity is preferable, and a metal oxide thin film containing silicon oxide, aluminum oxide or magnesium oxide as a main component is preferable.

【0008】液晶表示素子用基板として、透明電極を形
成するための透明導電性薄膜が必要であるが、この薄膜
についても、枚葉のシートを液晶表示素子に加工する工
程中に形成することも可能であるが、透明導電性薄膜の
形成も、巻物の状態で行う方が生産性が高く、効率的で
ある。この場合も、特に薄いフィルムであるほど巻物の
状態で行う方が好ましく、貼り合わせる前のポリエーテ
ルスルホンフィルムに形成しておくことが好ましい。透
明導電性薄膜としては、インジウム錫酸化物を用いるこ
とが好ましい。
A transparent conductive thin film for forming a transparent electrode is required as a substrate for a liquid crystal display element. This thin film may also be formed during the process of processing a single sheet into a liquid crystal display element. Although it is possible, it is more efficient and efficient to form the transparent conductive thin film in the state of a roll. Also in this case, it is preferable that the film is formed in a roll as the film is particularly thin, and it is preferable that the film is formed on a polyethersulfone film before bonding. It is preferable to use indium tin oxide as the transparent conductive thin film.

【0009】ガスバリアー層をポリエーテルスルホンフ
ィルムの表面に形成するにあたり、ポリエーテルスルホ
ンフィルムの表面にUV硬化型エポキシアクリレート系
硬化被膜層を形成しておくと、ガスバリアー層の密着力
が向上し、貼り合わせ工程などでの損傷を防ぐことがで
きて好ましい。また、透明導電性薄膜をポリエーテルス
ルホンフィルムの表面に形成するにあたり、ポリエーテ
ルスルホンフィルムの表面にUV硬化型エポキシアクリ
レート系硬化被膜を形成しておくと、透明導電性薄膜の
密着力が向上し、貼り合わせ工程などでの損傷を防ぐこ
とができ、また、液晶表示素子用透明電極としての導電
性や透明性や耐久性が向上するので好ましい。
[0009] In forming the gas barrier layer on the surface of the polyethersulfone film, if a UV-curable epoxy acrylate-based cured coating layer is formed on the surface of the polyethersulfone film, the adhesion of the gas barrier layer is improved. This is preferable because damage in the bonding step or the like can be prevented. In forming a transparent conductive thin film on the surface of the polyethersulfone film, if a UV-curable epoxy acrylate-based cured film is formed on the surface of the polyethersulfone film, the adhesion of the transparent conductive thin film is improved. This is preferable because damage in a bonding step or the like can be prevented, and conductivity, transparency, and durability as a transparent electrode for a liquid crystal display element are improved.

【0010】[0010]

【実施例】《実施例1》溶融押出法で住友化学(株)製
ポリエーテルスルホン樹脂スミカエクセル4100を連
続的に50μm厚さのポリエーテルスルホンフィルムに
成形し巻き取った。光線透過率は600nmで89%、
400nmで88%であった。複屈折(リタデーショ
ン)は、セナルモンコンペンセータ法で5nmであっ
た。このポリエーテルスルホンフィルムの両面に、それ
ぞれ2μmの厚さに、UV硬化型エポキシアクリレート
を主成分とする樹脂をグラビア塗布法で塗布し、紫外線
(UV)を照射して硬化被膜を形成した。その硬化被膜
付きポリエーテルスルホンフィルムに、酸化珪素を真空
蒸着法により1000オングストロームの厚さに形成
し、ガスバリアー層とした。さらに、他方の硬化被膜面
には、インジウム錫酸化物を、スパッタリング法によっ
て、表面抵抗が100Ωになるように成膜した。このガ
スバリアー層と透明導電性薄膜を有するポリエーテルス
ルホンフィルムのガスバリアー層側に、接着剤を塗布
し、別途に溶融押出法で作成したアモルファスポリオレ
フィン樹脂としてJSR(株)製のアートン樹脂を25
0μm厚さでフィルム化したものと貼り合わせた。全体
の厚さは325μmであった。光線透過率は、600n
mで85%、400nmで81%であった。複屈折は、
5nmであった。この光学特性は液晶表示素子用基板と
して採用できるものである。またこの基板を300mm
x300mmの枚葉にカットし、既存のガラス基板用液
晶表示素子製造ラインに投入し、液晶表示素子を作成す
ることができた。
EXAMPLES Example 1 Sumika Excel 4100, a polyethersulfone resin manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., was continuously formed into a 50 μm-thick polyethersulfone film by melt extrusion and wound up. The light transmittance is 89% at 600 nm,
It was 88% at 400 nm. The birefringence (retardation) was 5 nm according to the Senarmont compensator method. A resin containing UV-curable epoxy acrylate as a main component was applied to both surfaces of the polyethersulfone film to a thickness of 2 μm by a gravure coating method, and irradiated with ultraviolet rays (UV) to form a cured film. Silicon oxide was formed to a thickness of 1000 angstroms on the cured polyethersulfone film by a vacuum evaporation method to form a gas barrier layer. Further, indium tin oxide was formed on the other cured film surface by a sputtering method so that the surface resistance became 100Ω. An adhesive is applied to the gas barrier layer side of the polyethersulfone film having the gas barrier layer and the transparent conductive thin film, and arton resin manufactured by JSR Corporation as an amorphous polyolefin resin separately prepared by a melt extrusion method is used.
It was bonded to a film having a thickness of 0 μm. The total thickness was 325 μm. Light transmittance is 600n
It was 85% at m and 81% at 400 nm. Birefringence is
It was 5 nm. These optical characteristics can be adopted as a substrate for a liquid crystal display element. In addition, this substrate is 300 mm
The sheet was cut into a single piece of x300 mm and put into an existing production line for a liquid crystal display element for glass substrates, whereby a liquid crystal display element could be produced.

【0011】《実施例2》溶融押出法で連続的に50μ
m厚さのポリエーテルスルホンフィルムを作成し巻き取
った。光線透過率は600nmで89%、400nmで
88%であった。複屈折(リタデーション)は、セナル
モンコンペンセータ法で5nmであった。このフィルム
を、実施例1のプラスチック液晶表示素子用基板の、枚
葉にカットする前の巻物の段階で、アモルファスポリオ
レフィンフィルム側に、実施例1の接着剤を用いて貼り
合わせた。全体の厚さは400μmであった。光線透過
率は、600nmで83%、400nmで79%であっ
た。複屈折は、10nmであった。この光学特性は液晶
表示素子用基板として採用できるものである。また、こ
の基板を300mmx300mmの枚葉にカットし、既
存のガラス基板用液晶表示素子製造ラインに投入し、液
晶表示素子を作成することができた。実施例1の基板に
比べて、加熱時の反りが小さく、加工性が向上してい
た。
Example 2 50 μm continuously by melt extrusion
A m-thick polyethersulfone film was prepared and wound. The light transmittance was 89% at 600 nm and 88% at 400 nm. The birefringence (retardation) was 5 nm according to the Senarmont compensator method. This film was bonded to the amorphous polyolefin film side using the adhesive of Example 1 at the stage of the roll of the plastic liquid crystal display element substrate of Example 1 before being cut into sheets. The total thickness was 400 μm. The light transmittance was 83% at 600 nm and 79% at 400 nm. The birefringence was 10 nm. These optical characteristics can be adopted as a substrate for a liquid crystal display element. Further, this substrate was cut into 300 mm × 300 mm single sheets, and put into an existing glass substrate liquid crystal display element production line, whereby a liquid crystal display element could be produced. Compared to the substrate of Example 1, the warpage during heating was small, and the workability was improved.

【0012】[0012]

【発明の効果】本発明によりシート液晶に必要な黄色
み、リタデーションが小さいシート基板が得られる。ま
た、ガスバリアー層や透明導電性薄膜を経済的に形成す
ることが可能となる。
According to the present invention, a sheet substrate having a small yellowness and a small retardation required for a sheet liquid crystal can be obtained. Further, it becomes possible to economically form a gas barrier layer and a transparent conductive thin film.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】〜FIG. 1

【図4】は本発明における基板の構成の断面図である。FIG. 4 is a sectional view of a configuration of a substrate according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1:アモルファスポリオレフィンフィルム 2:ポリエーテルスルホンフィルム 3:接着剤層 4:ガスバリアー層 5:透明導電性薄膜 6:UV硬化型エポキシアクリレート硬化被膜 1: amorphous polyolefin film 2: polyether sulfone film 3: adhesive layer 4: gas barrier layer 5: transparent conductive thin film 6: UV-curable epoxy acrylate cured film

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 厚さ150〜300μmのアモルファス
ポリオレフィンフィルムの片面もしくは両面に、厚さ2
5〜100μmのポリエーテルスルホンフィルムを、透
明な接着剤で貼り合わせてなり、全体の厚さが200〜
500μmであることを特徴とするプラスチック液晶表
示素子用基板。
1. An amorphous polyolefin film having a thickness of 150 to 300 μm is coated on one or both sides with a thickness of 2
A 5-100 μm polyethersulfone film is laminated with a transparent adhesive, and the total thickness is 200-200 μm.
A substrate for a plastic liquid crystal display element having a thickness of 500 μm.
【請求項2】 少なくとも一方の、アモルファスポリオ
レフィンフィルムとポリエーテルスルホンフィルムの間
に、酸化珪素、酸化アルミニウムまたは酸化マグネシウ
ムを主成分とするガスバリアー層を有する請求項1記載
のプラスチック液晶表示素子用基板。
2. The substrate for a plastic liquid crystal display element according to claim 1, further comprising a gas barrier layer containing silicon oxide, aluminum oxide or magnesium oxide as a main component, between at least one of the amorphous polyolefin film and the polyether sulfone film. .
【請求項3】 少なくとも一方のポリエーテルスルホン
フィルムのアモルファスポリオレフィン側ではない面
に、インジウム錫酸化物からなる透明導電性薄膜を有す
る請求項1または2記載のプラスチック液晶表示素子用
基板。
3. The substrate for a plastic liquid crystal display device according to claim 1, wherein a transparent conductive thin film made of indium tin oxide is provided on at least one surface of the polyethersulfone film which is not on the amorphous polyolefin side.
【請求項4】 ガスバリアー層とポリエーテルスルホン
フィルムの間に、UV硬化型エポキシアクリレート系硬
化被膜層を有する請求項2または3記載のプラスチック
液晶表示素子用基板。
4. The substrate for a plastic liquid crystal display device according to claim 2, wherein a UV-curable epoxy acrylate-based cured coating layer is provided between the gas barrier layer and the polyether sulfone film.
【請求項5】 透明導電性薄膜とポリエーテルスルホン
フィルムの間に、UV硬化型エポキシアクリレート系硬
化被膜を有する請求項3または4記載のプラスチック液
晶表示素子用基板。
5. The substrate for a plastic liquid crystal display device according to claim 3, wherein a UV-curable epoxy acrylate-based cured film is provided between the transparent conductive thin film and the polyethersulfone film.
【請求項6】 少なくとも1方の表面に、UV硬化型エ
ポキシアクリレート系硬化被膜層を有する請求項1〜5
記載のプラスチック液晶表示用基板。
6. A UV-curable epoxy acrylate-based cured coating layer on at least one surface.
A plastic liquid crystal display substrate as described in the above.
【請求項7】 アモルファスポリオレフィンフィルムお
よびポリエーテルスルホンフィルムを溶融押出法により
連続した巻物として製造し、貼り合わせ、ガスバリアー
層の形成、透明導電性薄膜の形成、UV硬化型エポキシ
アクリレート系硬化被膜層の形成も連続した巻物の状態
で加工した後に、枚葉に切断することを特徴とする請求
項1〜6記載のプラスチック液晶表示素子用基板の製造
方法。
7. An amorphous polyolefin film and a polyethersulfone film are produced as continuous rolls by a melt extrusion method, bonded together, formed a gas barrier layer, formed a transparent conductive thin film, and a UV-curable epoxy acrylate-based cured coating layer. The method for producing a substrate for a plastic liquid crystal display element according to claim 1, wherein the substrate is formed into a continuous roll and then cut into sheets.
JP7104898A 1998-03-19 1998-03-19 Substrate for plastic liquid crystal display element and its production Pending JPH11271736A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7104898A JPH11271736A (en) 1998-03-19 1998-03-19 Substrate for plastic liquid crystal display element and its production

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7104898A JPH11271736A (en) 1998-03-19 1998-03-19 Substrate for plastic liquid crystal display element and its production

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH11271736A true JPH11271736A (en) 1999-10-08

Family

ID=13449259

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP7104898A Pending JPH11271736A (en) 1998-03-19 1998-03-19 Substrate for plastic liquid crystal display element and its production

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH11271736A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017087476A1 (en) * 2015-11-18 2017-05-26 Gentex Corporation Electro-optic gas barrier

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017087476A1 (en) * 2015-11-18 2017-05-26 Gentex Corporation Electro-optic gas barrier
US10303031B2 (en) 2015-11-18 2019-05-28 Gentex Corporation Electro-optic gas barrier

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4122139B2 (en) Polymer coated glass thin film substrate
JP3819927B2 (en) Transparent conductive film
EP2246732A1 (en) Flexible substrate for display panel and manufacturing method thereof
JP2001520951A (en) Use of glass laminates as substrates for semiconductor devices
WO1996010483A1 (en) Laminated heat-resistant optical plastic sheet and process for producing the same
JP2014522325A (en) Multilayer structure for semiconductor devices
JPH08166849A (en) Plastic laminated sheet for touch panel and plastic substrate touch panel
EP3951454A1 (en) Optical film
CN111276052A (en) Flexible display panel and preparation method thereof
JPH1069355A (en) Transparent electrically conductive sheet for inner touch panel
JP2011110757A (en) Substrate for display device
JP2011121347A (en) Gas barrier film
JPH11271736A (en) Substrate for plastic liquid crystal display element and its production
WO2022113652A1 (en) Multi-layer structure
JP2003157149A (en) Touch panel having high durability
US20220219440A1 (en) Layered film production method
JPH1153118A (en) Stack sheet for polarizing plate-integrated inner touch panel
JPH07287218A (en) Transparent conductive substrate and display device using the same
US20210138762A1 (en) (glass film)-resin complex
JPH03230946A (en) Laminated film
JP2008070685A (en) Reflection sheet and reflector using the same
JPH1029261A (en) Transparent conductive sheet for inner touch panel
JP6364285B2 (en) Transparent electrode film
JP2000082337A (en) Transparent conductive film, transparent touch panel, and liquid crystal display element
JP2005183310A (en) Transparent conductive film and touch panel using this, and manufacturing method of these