JPH11271246A - Electron probe microanalyzer - Google Patents
Electron probe microanalyzerInfo
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- JPH11271246A JPH11271246A JP10076918A JP7691898A JPH11271246A JP H11271246 A JPH11271246 A JP H11271246A JP 10076918 A JP10076918 A JP 10076918A JP 7691898 A JP7691898 A JP 7691898A JP H11271246 A JPH11271246 A JP H11271246A
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- line
- measurement position
- background measurement
- search range
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- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、電子プローブマイクロ
アナライザ（ＥＰＭＡ）に係り、特に定量分析を行う場
合のバックグラウンド位置を決定する際の処理に関す
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electronic probe microanalyzer (EPMA), and more particularly to a process for determining a background position in performing a quantitative analysis.
【０００２】[0002]
【従来の技術】ＥＰＭＡで行う分析の一つに定量分析が
ある。ある試料（以下、測定対象試料と称す）中のある
元素について定量分析を行う場合には、当該元素の濃度
が既知の標準試料の当該元素のＸ線強度と、測定対象試
料の当該元素のＸ線強度とに基づいて、補正計算等を行
って、試料中の当該元素の濃度を求めるのが一般的であ
る。2. Description of the Related Art One of the analyzes performed by EPMA is quantitative analysis. When quantitative analysis is performed on an element in a sample (hereinafter referred to as a sample to be measured), the X-ray intensity of the element in a standard sample having a known concentration of the element and the X-ray intensity of the element in the sample to be measured are determined. In general, correction calculation or the like is performed based on the line intensity to determine the concentration of the element in the sample.
【０００３】ここで、元素のＸ線強度として、スペクト
ルのピークの頂点位置での強度をそのまま用いることは
できない。スペクトルにはバックグラウンドが存在する
からである。そこで、元素の真のＸ線強度を求めること
が必要となるが、この真のＸ線強度は、スペクトルのピ
ークの頂点位置での見かけ上のＸ線強度からバックグラ
ウンドのＸ線強度を減算することによって行われるのが
通常である。Here, the intensity at the peak position of the spectrum peak cannot be used as it is as the X-ray intensity of the element. This is because the spectrum has a background. Therefore, it is necessary to determine the true X-ray intensity of the element. The true X-ray intensity is obtained by subtracting the background X-ray intensity from the apparent X-ray intensity at the peak position of the spectrum peak. This is usually done by
【０００４】その手法を具体的に説明すると次のようで
ある。いま、定量分析を行う元素のスペクトルが図７に
示すようであったとし、当該元素のピークＰの頂点位置
における見かけ上のＸ線強度はＩP であるとする。この
とき、図７の黒点で示すようにピークＰの頂点の両側に
バックグラウンド測定位置Ｅ1 ，Ｅ2 を定める。ピーク
Ｐの頂点の左側のバックグラウンド測定位置Ｅ1 はＸ線
強度が徐々に大きくなり始めるような位置に定められ、
右側のバックグラウンド測定位置Ｅ2 はＸ線強度の変化
が小さくなって略一定になるような位置に定められる。[0004] The method will be described in detail as follows. Now, the spectrum of elements to perform a quantitative analysis was as shown in FIG. 7, X-ray intensity apparent at the apex position of the peak P of the element is assumed to be I P. At this time, the background measurement positions E 1 and E 2 are determined on both sides of the peak P as shown by the black dots in FIG. The background measurement position E 1 on the left side of the peak P is set at a position where the X-ray intensity starts to increase gradually.
Background measurement position E 2 of the right side is set at the position such that a substantially constant change in X-ray intensity is decreased.
【０００５】そして、ピークＰの頂点の位置ＥP は自動
的に認識できるから、二つのバックグラウンド測定位置
Ｅ1 ，Ｅ2 を結ぶ直線のピークＰの頂点位置におけるＸ
線強度ＩB をバックグラウンドのＸ線強度として、（Ｉ
P−ＩB）により当該ピークＰにおける真のＸ線強度を求
めるのである。なお、ここではバックグラウンド測定位
置Ｅ1 ，Ｅ2 を結ぶことによってバックグラウンドを直
線近似するとしたが、バックグラウンド測定位置Ｅ1 ，
Ｅ2 を曲線で結んでバックグラウンドを曲線近似しても
よいものである。[0007] Since the position E P of the apex of the peak P can be recognized automatically, X at the apex position of the peak P of the straight line connecting the two background measurement position E 1, E 2
The line strength I B as X-ray intensity of the background, (I
The P -I B) is to determine the true X-ray intensity at the peak P. Note that, although a linear approximation of the background by connecting the background measurement position E 1, E 2 are background measurement position E 1,
One in which the background may be curve approximation by connecting the E 2 in the curve.
【０００６】[0006]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、定めら
れたバックグラウンド測定位置に、他の元素のピーク
や、特異的なピークが存在する場合がある。図８はその
例を示す図であり、図７のバックグラウンド測定位置と
して定められたＥ2 の位置に小さなピークが存在してい
る様子を拡大して示している。However, peaks of other elements or specific peaks may exist at predetermined background measurement positions. Figure 8 is a diagram showing an example thereof, which shows an enlarged manner in which a small peak at a defined E 2 as a background measurement position of FIG. 7 are present.
【０００７】このようにバックグラウンド測定位置に他
の元素のピークや、特異的なピークが存在すると、正し
いバックグラウンドのＸ線強度を求めることができなく
なることは明らかである。以下、このようにバックグラ
ウンド測定位置を定めるに際して妨害となるＸ線を妨害
線と称することにする。It is clear that if the peaks of other elements or specific peaks are present at the background measurement position, it becomes impossible to obtain the correct background X-ray intensity. Hereinafter, the X-rays that disturb the determination of the background measurement position will be referred to as disturbing lines.
【０００８】そこで、従来においては、バックグラウン
ド測定位置を定めるに際しては、オペレータがスペクト
ルを詳細に観察して、バックグラウンド測定位置として
定めようとしている位置に妨害線があるか否かを確認
し、当該位置に妨害線が存在する場合にはその位置を避
けてバックグラウンド測定位置を定めている。Therefore, conventionally, when determining the background measurement position, the operator observes the spectrum in detail and confirms whether or not there is an interference line at the position to be determined as the background measurement position. If there is an interference line at the position, the background measurement position is determined avoiding the position.
【０００９】しかし、このような方法では、オペレータ
の負担が大きく、それは定量分析を行う元素数が多くな
ればなる程大きくなってしまう。[0009] However, such a method imposes a heavy burden on the operator, which becomes larger as the number of elements to be subjected to quantitative analysis increases.
【００１０】そこで、本発明は、定量分析を行うに際し
て、バックグラウンド測定位置を定める場合のオペレー
タの負担を従来より軽減することができる電子プローブ
マイクロアナライザを提供することを目的とするもので
ある。Accordingly, an object of the present invention is to provide an electronic probe microanalyzer capable of reducing the burden on an operator when determining a background measurement position when performing quantitative analysis.
【００１１】[0011]
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、請求項１記載の電子プローブマイクロアナライザ
は、定量分析の対象となる元素のＸ線についてバックグ
ラウンド測定位置を定める際に妨害線となる可能性のあ
るＸ線を書き込んだ妨害線テーブルと、あるＸ線のスペ
クトルに対してバックグラウンド測定位置が指示された
場合、妨害線テーブルを参照して当該指示されたバック
グラウンド測定位置の近傍に妨害線があるか否かを探索
し、その結果を表示する制御部とを備えることを特徴と
する。In order to achieve the above object, an electron probe microanalyzer according to the first aspect of the present invention provides an electronic probe microanalyzer that determines a background measurement position for an X-ray of an element to be quantitatively analyzed. When a background measurement position is specified for a certain X-ray spectrum and an interference line table in which X-rays that may be written are written, the specified background measurement position is referred to with reference to the interference line table. A control unit that searches for a disturbing line in the vicinity and displays the result.
【００１２】請求項２記載の電子プローブマイクロアナ
ライザは、定量分析の対象となる元素のＸ線についてバ
ックグラウンド測定位置を定める際に妨害線となる可能
性のあるＸ線を書き込んだ妨害線テーブルと、あるＸ線
のスペクトルに対して全探索範囲が指示された場合に、
当該全探索範囲内に所定のエネルギー幅で探索範囲を設
定して、妨害線テーブルを参照して当該探索範囲内に妨
害線があるか否かを判断し、妨害線がない場合には当該
探索範囲内にバックグラウンド測定位置を定める制御部
とを備えることを特徴とする。According to a second aspect of the present invention, there is provided an electron probe microanalyzer comprising: a disturbing line table in which X-rays that may be disturbing lines are written when determining a background measurement position for an X-ray of an element to be quantitatively analyzed; When the entire search range is designated for a certain X-ray spectrum,
A search range is set with a predetermined energy width in the entire search range, and it is determined whether or not there is an interference line in the search range by referring to the interference line table. A control unit that determines a background measurement position within the range.
【００１３】請求項３記載の電子プローブマイクロアナ
ライザは、請求項２記載の電子プローブマイクロアナラ
イザにおいて、制御部は、妨害線の有無を判断する際
に、当該妨害線の相対強度をも参照することを特徴とす
る。The electronic probe microanalyzer according to claim 3 is the electronic probe microanalyzer according to claim 2, wherein the control unit also refers to the relative intensity of the interference line when determining the presence or absence of the interference line. It is characterized by.
【００１４】[0014]
【発明の実施の形態】以下、図面を参照しつつ発明の実
施の形態について説明する。図１は本発明に係る電子プ
ローブマイクロアナライザの第１の実施形態を示す図で
あり、図中、１は鏡筒、２は検出器、３は信号処理部、
４は制御部、５は入力部、６はモニタ、７は妨害線テー
ブルを示す。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a diagram showing a first embodiment of an electronic probe microanalyzer according to the present invention, wherein 1 is a lens barrel, 2 is a detector, 3 is a signal processing unit,
Reference numeral 4 denotes a control unit, 5 denotes an input unit, 6 denotes a monitor, and 7 denotes a disturbance line table.
【００１５】鏡筒１はＥＰＭＡの本体であり、電子銃、
レンズ系、試料ステージ、分光結晶（いずれも図示せ
ず）、及び検出器２等を備えている。なお、試料ステー
ジ上に配置された試料の電子線が照射される位置と、分
光結晶と、検出器２はローランド円上にあるように制御
されることは当然である。The lens barrel 1 is the main body of the EPMA, and includes an electron gun,
It includes a lens system, a sample stage, a spectral crystal (none is shown), a detector 2 and the like. It should be noted that the position of the sample placed on the sample stage where the electron beam is irradiated, the spectral crystal, and the detector 2 are naturally controlled to be on the Rowland circle.
【００１６】検出器２は試料から放射され、分光結晶に
よって回折された特性Ｘ線（以下、単にＸ線と称す）を
検出するものであり、この検出器２からの出力信号は、
信号処理部３において波形成形、Ａ／Ｄ変換等の所定の
処理が施され、制御部４に取り込まれる。The detector 2 detects characteristic X-rays (hereinafter simply referred to as X-rays) emitted from the sample and diffracted by the dispersive crystal. The output signal from the detector 2 is
Predetermined processes such as waveform shaping and A / D conversion are performed in the signal processing unit 3 and are taken into the control unit 4.
【００１７】制御部４は、当該ＥＰＭＡの動作を統括し
て行うものであり、また信号処理部３から取り込んだデ
ータの分析をも行う機能をも有している。入力部５は、
マウスやキーボード等の入力装置で構成されている。モ
ニタ６はカラーＣＲＴ等の表示装置である。なお、制御
部４、入力部５、及びモニタ６はパーソナルコンピュー
タあるいはワークステーションを用いて構成されること
は明らかである。The control section 4 controls the operation of the EPMA, and also has a function of analyzing the data fetched from the signal processing section 3. The input unit 5
It is composed of input devices such as a mouse and a keyboard. The monitor 6 is a display device such as a color CRT. It is clear that the control unit 4, the input unit 5, and the monitor 6 are configured using a personal computer or a workstation.
【００１８】図１に示す構成は、ＥＰＭＡの構成として
従来周知の構成であるが、このＥＰＭＡの制御部４が妨
害線テーブル７を管理している点で従来のものとは異な
っている。この妨害線テーブル７は、定量分析の対象に
なる可能性がある元素のＸ線にそれぞれついて、バック
グラウンド測定位置を定める際に妨害線となる可能性の
あるＸ線を書き込んだものである。図２はその例を示す
図であり、鉄のＫα線（Ｆｅ−Ｋα）に対する妨害線テ
ーブルの例を示している。従って、図２に示す妨害線テ
ーブルに書き込まれているＸ線は、Ｆｅ−Ｋαについて
定量分析を行う場合において、バックグラウンド測定位
置を定める際に妨害線となる可能性があることになる。The configuration shown in FIG. 1 is a conventionally known configuration of the EPMA, but differs from the conventional configuration in that the control unit 4 of the EPMA manages the disturbance line table 7. The disturbing line table 7 is a table in which X-rays which may be disturbing lines when determining the background measurement position are written for each of the X-rays of the elements which may be subjected to the quantitative analysis. FIG. 2 is a diagram showing an example of this, and shows an example of an interference line table for the Kα line (Fe-Kα) of iron. Therefore, the X-rays written in the disturbing line table shown in FIG. 2 may be disturbing lines when determining the background measurement position when performing quantitative analysis on Fe-Kα.
【００１９】なお、図２において、「Ｚ」の欄は原子番
号、「ＥＬ」の欄は元素名、「ＬＩＮＥ」の欄はＸ線の
種類、「Ｎ」の欄は反射次数、「Ｉ」の欄は相対強度、
「ＫＥＶ」の欄はエネルギー（単位はｋｅＶ）、「Ｎ−
ＬＡＭＢＤＡ」の欄は波長（単位はオングストローム）
を示している。そして、元素名の欄においては本来アル
ファベットの小文字で表記すべきものをも大文字で表記
している。従って、「ＫＲ」はクリプトンを示し、「Ｐ
Ｂ」は鉛を示している。その他についても同様である。
また、Ｘ線の種類の欄においては本来ギリシャ文字で表
記すべきものをもアルファベットの大文字で表記してい
る。従って、「ＫＡ１，２」はＫα１線とＫα２線とが
分離されずに存在することを示している。同様に「ＬＢ
１」はＬβ１線であることを示し、「ＬＧ１」はＬγ１
線であることを示している。「ＬＮ」はそのままＬＮ線
を示している。その他についても同様である。反射次数
Ｎについては本発明においては関係ないので説明は省略
するが、当業者において反射次数の意味は周知である。In FIG. 2, the column "Z" is an atomic number, the column "EL" is an element name, the column "LINE" is an X-ray type, the column "N" is a reflection order, and the column "I". Is the relative intensity,
The column of “KEV” is energy (unit is keV), “N−
The LAMBDA column is wavelength (unit: Angstroms)
Is shown. In the column of element names, those which should be written in lowercase alphabets are also written in uppercase. Therefore, "KR" indicates krypton and "P
"B" indicates lead. The same applies to other cases.
In the column of the type of X-rays, what should be originally written in Greek letters are also written in uppercase letters of the alphabet. Therefore, “KA1,2” indicates that the Kα1 line and the Kα2 line exist without being separated. Similarly, "LB
"1" indicates an Lβ1 line, and "LG1" indicates Lγ1.
Indicates a line. “LN” indicates the LN line as it is. The same applies to other cases. The reflection order N is not relevant to the present invention and will not be described, but those skilled in the art are well aware of the meaning of the reflection order.
【００２０】相対強度は、Ｋ系列のＸ線についてはＫα
１線の強度を１００としたときの相対強度を示し、Ｌ系
列のＸ線についてはＬα１線の強度を１００としたとき
の相対強度を示している。その他の系列のＸ線について
も同様である。従って、図２の上から２番目の鉛のＬＢ
１線の相対強度が２０であるということは、鉛のＬα１
線の強度が１００としたとき、Ｌβ１線の強度は２０で
あることを示している。また、図２の一番上のクリプト
ンのＫＡ１，２の相対強度が１５０であるということ
は、クリプトンのＫα１線の強度を１００としたときＫ
α２線の相対強度は５０であり、これらの二つの線が分
離されずにあるために、相対強度は二つの線を合わせて
１５０であるということを示している。なお、このよう
な妨害線テーブルは、種々の実験により作成することが
できる。The relative intensity is Kα for K-series X-rays.
The relative intensity when the intensity of one line is set to 100 is shown, and the relative intensity when the intensity of the Lα1 line is set to 100 is shown for the L-series X-rays. The same applies to the other series of X-rays. Therefore, the LB of the second lead from the top in FIG.
The fact that the relative intensity of one line is 20 means that Lα1 of lead
Assuming that the intensity of the line is 100, the intensity of the Lβ1 line is 20. Further, the fact that the relative intensity of krypton KA1 and KA2 at the top of FIG. 2 is 150 means that the intensity of krypton Kα1 line is 100
The relative intensity of the α2 line is 50, which indicates that the relative intensity of the two lines is 150 because these two lines are not separated. Note that such an interference line table can be created by various experiments.
【００２１】また、図１には図示していないが、制御部
４には、全ての元素について、そのＸ線のエネルギー及
び波長が書き込まれたＸ線テーブルが備えられている。Although not shown in FIG. 1, the control unit 4 is provided with an X-ray table in which the energy and wavelength of the X-rays are written for all the elements.
【００２２】さて、制御部４の動作について、図３のフ
ローチャートを参照して説明する。なお、ここでは測定
対象試料についてのスペクトルは既に得られているもの
とする。まず、オペレータは初期設定を行う（ステップ
Ｓ１）。この初期設定では、定量分析を行う元素を入力
部５から入力する。初期設定が終了すると、制御部４は
初期設定で入力された一つの元素に注目し、Ｘ線テーブ
ルを参照して、当該元素のＸ線のエネルギーを求め、測
定されているスペクトルの中から当該Ｘ線の部分のスペ
クトルをモニタ６に表示する（ステップＳ２）。Now, the operation of the control unit 4 will be described with reference to the flowchart of FIG. Here, it is assumed that the spectrum of the sample to be measured has already been obtained. First, the operator performs initial setting (step S1). In this initial setting, an element to be subjected to quantitative analysis is input from the input unit 5. When the initial setting is completed, the control unit 4 looks at one element input in the initial setting, refers to the X-ray table, obtains the X-ray energy of the element, and determines the X-ray energy from the measured spectrum. The spectrum of the X-ray part is displayed on the monitor 6 (step S2).
【００２３】この状態において、オペレータはバックグ
ラウンド測定位置を入力部５により指示する（ステップ
Ｓ３）。ここでは図４のスペクトルに対して、黒点で示
す位置をバックグラウンド測定位置として指示したとす
る。In this state, the operator designates a background measurement position through the input unit 5 (step S3). Here, it is assumed that a position indicated by a black point is designated as a background measurement position in the spectrum of FIG.
【００２４】バックグラウンド測定位置が指示される
と、制御部４は指示された位置のエネルギー、図ではＥ
3 、を求め、そのエネルギー位置を中心として±δの範
囲について妨害線の有無を探索する。この妨害線の探索
は、この場合には、当該元素の当該Ｘ線についての妨害
線テーブルの中に、エネルギーがＥ3−δからＥ3＋δの
範囲内にあるものを探すことによって行う。そして、制
御部４は、妨害線の探索の結果妨害線がない場合には妨
害線がない旨をモニタ６に表示する。また、妨害線があ
る場合には、適宜な表示を行って、指示されたバックグ
ラウンド測定位置の近傍に妨害線があることを示す。こ
の場合の表示としては、例えば、指示されたバックグラ
ウンド測定位置の表示色を変化させる、当該妨害線に関
する情報を妨害線テーブルから読み出して表示する、当
該妨害線の位置に所定の色で縦線をバー表示する等の手
法を採用すればよい。When the background measurement position is designated, the control unit 4 controls the energy of the designated position, E in the figure.
3) , and search for the presence or absence of an obstruction line within a range of ± δ around the energy position. In this case, the search for the disturbing line is performed by searching the disturbing line table of the element for the X-ray whose energy is in the range of E 3 −δ to E 3 + δ. If there is no obstruction line as a result of the search for the obstruction line, the control unit 4 displays on the monitor 6 that there is no obstruction line. If there is a disturbing line, an appropriate display is performed to indicate that there is a disturbing line near the designated background measurement position. Examples of the display in this case include changing the display color of the designated background measurement position, reading and displaying information on the disturbing line from the disturbing line table, and displaying a vertical line in a predetermined color at the position of the disturbing line. May be adopted as a bar display method.
【００２５】オペレータは妨害線がない場合には指示し
た位置をバックグラウンド測定位置として決定し、当該
ピークについてもう一方のバックグラウンド測定位置を
指示することになる。そして、バックグラウンド測定位
置が指示されると、制御部４はステップＳ２以下の処理
を実行する。If there is no obstruction line, the operator determines the designated position as the background measurement position, and designates another background measurement position for the peak. Then, when the background measurement position is specified, the control unit 4 executes the processing of step S2 and subsequent steps.
【００２６】また、妨害線がある場合には、オペレータ
は他の位置にバックグラウンド測定位置を再指示するこ
とになり、バックグラウンド測定位置が指示されると、
制御部４はステップＳ２以下の処理を実行する。以上の
動作を初期設定で入力された全ての元素について行えば
処理は終了となる。When there is an obstruction line, the operator re-points the background measurement position to another position.
The control unit 4 executes the processing of step S2 and subsequent steps. When the above operation is performed for all the elements input in the initial setting, the process is completed.
【００２７】以上のようであるので、このＥＰＭＡによ
れば、オペレータは指示したバックグラウンド測定位置
の近傍に妨害線があるか否かを容易に認識することがで
きるので、バックグラウンド測定位置を定める場合のオ
ペレータの負担は従来より軽減される。As described above, according to the EPMA, the operator can easily recognize whether or not there is an obstruction line near the designated background measurement position, so that the background measurement position is determined. In this case, the burden on the operator is reduced.
【００２８】なお、上記の説明では、妨害線の有無を探
索する範囲±δは制御部４に固定的に定められているも
のとしたが、ステップＳ１の初期設定において設定でき
るようになされていてもよい。また、上記の説明では、
バックグラウンド測定位置はオペレータが指示するもの
としたが、Ｘ線が特定されればどのような位置にバック
グラウンド測定位置を定めればよいかは経験的に知られ
ているから、最初のバックグラウンド測定位置は自動的
に定めることができる。そのためには各元素の各Ｘ線に
ついて最初のバックグラウンド測定位置を書き込んだテ
ーブルを用意しておけばよい。そして、その近傍に妨害
線がある場合にはオペレータが手作業によってバックグ
ラウンド測定位置を指示するようにすればよい。In the above description, the range. +-.. delta. For searching for the presence or absence of a disturbing line is fixedly set in the control unit 4, but can be set in the initial setting in step S1. Is also good. Also, in the above description,
Although the background measurement position was designated by the operator, it is empirically known where the background measurement position should be set if the X-ray is specified. The measurement position can be determined automatically. For this purpose, a table in which the first background measurement position is written for each X-ray of each element may be prepared. Then, when there is an interference line in the vicinity, the operator may manually indicate the background measurement position.
【００２９】以上、第１の実施形態について説明した
が、次に第２の実施形態について説明する。第２の実施
形態の構成は図１に示すと同じであるが、制御部４の動
作が異なっている。以下、動作について図５に示すフロ
ーチャートを参照して説明する。なお、ここでは測定対
象試料についてのスペクトルは既に得られているものと
する。まず、オペレータは初期設定を行う（ステップＳ
１１）。この初期設定では、定量分析を行う元素を入力
部５から入力する。初期設定が終了すると、制御部４は
初期設定で入力された一つの元素に注目し、Ｘ線テーブ
ルを参照して、当該元素のＸ線のエネルギーを求め、測
定されているスペクトルの中から当該Ｘ線の部分のスペ
クトルをモニタ６に表示する（ステップＳ１２）。The first embodiment has been described above. Next, the second embodiment will be described. The configuration of the second embodiment is the same as that shown in FIG. 1, but the operation of the control unit 4 is different. Hereinafter, the operation will be described with reference to the flowchart shown in FIG. Here, it is assumed that the spectrum of the sample to be measured has already been obtained. First, the operator performs initial settings (step S
11). In this initial setting, an element to be subjected to quantitative analysis is input from the input unit 5. When the initial setting is completed, the control unit 4 looks at one element input in the initial setting, refers to the X-ray table, obtains the X-ray energy of the element, and determines the X-ray energy from the measured spectrum. The spectrum of the X-ray portion is displayed on the monitor 6 (step S12).
【００３０】この状態において、オペレータはバックグ
ラウンド測定位置の全探索範囲Ｌ及び探索方向を入力部
５により指示する（ステップＳ１３）。ここでは図５の
スペクトルに対して、全探索範囲としてＬで示す範囲を
指示し、探索方向として矢印で示すようにエネルギーの
高くなる方向を指示したとする。In this state, the operator specifies the entire search range L and the search direction of the background measurement position using the input unit 5 (step S13). Here, it is assumed that a range indicated by L is designated as the entire search range and a direction in which the energy increases as indicated by an arrow is designated as the search direction with respect to the spectrum of FIG.
【００３１】バックグラウンド測定位置の全探索範囲Ｌ
及び探索方向が指示されると、制御部４は、まず指示さ
れた全探索範囲Ｌの左端からエネルギー幅がδの範囲の
図中Ｌ1 で示す範囲について妨害線の有無を探索し（ス
テップＳ１４）、妨害線の有無を判断する（ステップＳ
１５）。ステップＳ１４の妨害線の探索は上述した第１
の実施形態における妨害線の探索と同じあるが、ステッ
プＳ１５の妨害線の有無の判断の際には制御部４は、妨
害線の相対強度を参照し、相対強度が閾値以下である場
合には当該妨害線を無視する。相対強度が小さいＸ線に
ついては妨害となる程度は小さいと考えられるからであ
る。従って、例えば、妨害線が一つだけ探索され、その
妨害線の相対強度が閾値以下であれば当該妨害線は無視
し、探索した範囲には妨害線がないと判断するのであ
る。The entire search range L of the background measurement position
And the search direction is instructed, the control section 4 first searches the presence or absence of interference lines for a range shown in the figure L 1 in the range from the left end of the traverse range L which is indicated energy width of [delta] (step S14 ), It is determined whether there is an obstruction line (step S).
15). The search for the disturbing line in step S14 is performed by the first
However, when determining whether or not there is a disturbing line in step S15, the control unit 4 refers to the relative intensity of the disturbing line. Ignore the disturbing line. This is because it is considered that the degree of interference with X-rays having a small relative intensity is small. Therefore, for example, only one disturbing line is searched, and if the relative intensity of the disturbing line is equal to or less than the threshold, the disturbing line is ignored, and it is determined that there is no disturbing line in the searched range.
【００３２】そして、妨害線がある場合には、制御部４
は指示された探索範囲に基づいて次の探索範囲を設定す
る（ステップＳ１６）。図６に示す場合には、Ｌ2 で示
すように、Ｌ1 に隣接してエネルギー幅がδの探索範囲
を設定する。If there is an interference line, the control unit 4
Sets the next search range based on the instructed search range (step S16). In the case shown in FIG. 6, as shown by L 2, the energy width adjacent to L 1 sets the search range of [delta].
【００３３】そして、ステップＳ１６で設定した探索範
囲がステップＳ１３で指示された全探索範囲Ｌの範囲内
か否かを判断し（ステップＳ１７）、探索範囲が全探索
範囲Ｌからはみ出している場合には、妨害線のない範囲
はないと判断してモニタ６にエラー表示を行う（ステッ
プＳ１８）。しかし、ステップＳ１６で設定した探索範
囲が全探索範囲Ｌの範囲内であれば、制御部４はステッ
プＳ１４以下の処理を繰り返す。Then, it is determined whether or not the search range set in step S16 is within the range of the entire search range L specified in step S13 (step S17). Determines that there is no range without an obstruction line and displays an error on the monitor 6 (step S18). However, if the search range set in step S16 is within the entire search range L, the control unit 4 repeats the processing from step S14.
【００３４】そして、ステップＳ１５の判断で妨害線が
ないと判断された場合には、制御部４は当該探索範囲の
所定の位置にバックグラウンド測定位置を自動的に決定
する（ステップＳ１９）。どのような位置に決定するか
は任意であるが、例えば当該探索範囲の中央の位置に決
定するようにすればよい。従って、この場合、図６のＬ
1 で示す探索範囲内に妨害線がない場合にはバックグラ
ウンド測定位置は探索範囲Ｌ1 の中央の位置に決定され
ることになる。If it is determined in step S15 that there is no obstruction line, the control unit 4 automatically determines a background measurement position at a predetermined position in the search range (step S19). The position to be determined is arbitrary, but may be determined, for example, at the center of the search range. Therefore, in this case, L in FIG.
Background measurement position when there is no interference lines within the search range indicated by 1 will be determined in the central position of the search range L 1.
【００３５】なお、ステップＳ１８でエラー表示がなさ
れた場合には、オペレータは手作業でバックグラウンド
測定位置を定めることになるが、その際には上述した第
１の実施形態を用いることができる。If an error is displayed in step S18, the operator manually determines the background measurement position. In this case, the first embodiment described above can be used.
【００３６】以上の動作によって図６の全探索範囲Ｌの
範囲内にバックグラウンド測定位置が定められたら、当
該ピークについてもう一方の側に全探索範囲及び探索方
向を指示して、上述した動作を繰り返す。以上の動作を
初期設定で入力された全ての元素について行えば処理は
終了となる。When the background measurement position is determined within the entire search range L of FIG. 6 by the above operation, the entire search range and the search direction are instructed on the other side of the peak, and the above operation is performed. repeat. When the above operation is performed for all the elements input in the initial setting, the process is completed.
【００３７】以上のようであるので、このＥＰＭＡによ
れば、全探索範囲Ｌ及び探索方向を指示するだけで自動
的にバックグラウンド測定位置が決定されるので、従来
に比較してオペレータの負担を軽減することができる。
また、バックグラウンド測定位置は妨害線のない範囲内
に自動的に定められるので、測定の効率、精度を向上さ
せることができる。As described above, according to the EPMA, the background measurement position is automatically determined only by designating the entire search range L and the search direction. Can be reduced.
Further, since the background measurement position is automatically determined within a range where there is no interference line, measurement efficiency and accuracy can be improved.
【００３８】なお、上記の説明では、全探索範囲Ｌ内に
設定される探索範囲のエネルギー幅δは制御部４に固定
的に定められているものとしたが、ステップＳ１１ある
いはステップＳ１３においてオペレータが任意に設定で
きるようになされていてもよい。また、いくつかのエネ
ルギー幅を定めておき、まず最初は一番エネルギー幅の
大きな値を用いて探索範囲を設定して探索し、その場合
に全探索範囲Ｌ内に妨害線がない探索範囲を見い出せな
かった場合には、次にエネルギー幅の大きい値を用いて
探索するようにしてもよい。In the above description, the energy width δ of the search range set in the entire search range L is fixedly set in the control unit 4. However, in step S11 or step S13, the operator sets Arbitrary settings may be made. In addition, several energy widths are determined. First, a search range is set using a value having the largest energy width to perform a search. In this case, a search range having no obstruction line in the entire search range L is set. If not found, the search may be performed using the next largest value of the energy width.
【００３９】また、上記の説明では、全探索範囲Ｌはオ
ペレータが指示するものとしたが、Ｘ線が特定されれば
どのようなエネルギー範囲内で妨害線の有無を探索すれ
ばよいかは経験的に知られているから、各元素の各Ｘ線
に対して全探索範囲Ｌを予め制御部４に登録しておくよ
うにすることも可能である。In the above description, the entire search range L is specified by the operator. However, if an X-ray is specified, the energy range within which the search for the presence or absence of a disturbing line should be performed is empirical. It is also possible to register the entire search range L in the control unit 4 for each X-ray of each element in advance.
【図１】 本発明に係る電子プローブマイクロアナライ
ザの第１の実施形態を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing a first embodiment of an electron probe microanalyzer according to the present invention.
【図２】 妨害線テーブルの構造例を示す図である。FIG. 2 is a diagram illustrating a configuration example of a disturbance line table.
【図３】 第１の実施形態の動作を説明するためのフロ
ーチャートである。FIG. 3 is a flowchart for explaining the operation of the first embodiment.
【図４】 第１の実施形態の動作を説明するための図で
ある。FIG. 4 is a diagram for explaining the operation of the first embodiment.
【図５】 本発明に係る電子プローブマイクロアナライ
ザの第２の実施形態における動作を説明するためのフロ
ーチャートである。FIG. 5 is a flowchart for explaining the operation of the electronic probe microanalyzer according to the second embodiment of the present invention.
【図６】 第２の実施形態の動作を説明するための図で
ある。FIG. 6 is a diagram for explaining the operation of the second embodiment.
【図７】 定量分析を行う場合にピークの真のＸ線強度
を求めるための手法を説明するための図である。FIG. 7 is a diagram for explaining a method for obtaining a true X-ray intensity of a peak when performing quantitative analysis.
【図８】 発明が解決しようとする課題を説明するため
の図である。FIG. 8 is a diagram for explaining a problem to be solved by the invention.
１…鏡筒、２…検出器、３…信号処理部、４…制御部、
５…入力部、６…モニタ、７…妨害線テーブル。DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... lens barrel, 2 ... detector, 3 ... signal processing part, 4 ... control part,
5: Input unit, 6: Monitor, 7: Disturbance line table.
Claims (3)
バックグラウンド測定位置を定める際に妨害線となる可
能性のあるＸ線を書き込んだ妨害線テーブルと、 あるＸ線のスペクトルに対してバックグラウンド測定位
置が指示された場合、妨害線テーブルを参照して当該指
示されたバックグラウンド測定位置の近傍に妨害線があ
るか否かを探索し、その結果を表示する制御部とを備え
ることを特徴とする電子プローブマイクロアナライザ。1. A disturbing line table in which X-rays which may be disturbing lines are determined when a background measurement position is determined for an X-ray of an element to be quantitatively analyzed, When a background measurement position is specified, a control unit that searches for an interference line near the specified background measurement position with reference to the interference line table and displays the result is provided. An electronic probe microanalyzer characterized by the above.
バックグラウンド測定位置を定める際に妨害線となる可
能性のあるＸ線を書き込んだ妨害線テーブルと、 あるＸ線のスペクトルに対して全探索範囲が指示された
場合に、当該全探索範囲内に所定のエネルギー幅で探索
範囲を設定して、妨害線テーブルを参照して当該探索範
囲内に妨害線があるか否かを判断し、妨害線がない場合
には当該探索範囲内にバックグラウンド測定位置を定め
る制御部とを備えることを特徴とする電子プローブマイ
クロアナライザ。2. A disturbing line table in which X-rays which may be disturbing lines are determined when a background measurement position is determined for an X-ray of an element to be subjected to quantitative analysis, and for a certain X-ray spectrum, When the entire search range is instructed, a search range is set with a predetermined energy width within the entire search range, and it is determined whether or not there is an interference line within the search range with reference to the interference line table. A control unit for determining a background measurement position within the search range when there is no interference line.
当該妨害線の相対強度をも参照することを特徴とする請
求項２記載の電子プローブマイクロアナライザ。3. The control unit according to claim 1, further comprising:
3. The electronic probe microanalyzer according to claim 2, wherein the relative intensity of the interference line is also referred to.
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP07691898A JP3547310B2 (en) | 1998-03-25 | 1998-03-25 | Electronic probe micro analyzer |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07691898A JP3547310B2 (en) | 1998-03-25 | 1998-03-25 | Electronic probe micro analyzer |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11271246A true JPH11271246A (en) | 1999-10-05 |
| JP3547310B2 JP3547310B2 (en) | 2004-07-28 |
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Family Applications (1)
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| JP07691898A Expired - Fee Related JP3547310B2 (en) | 1998-03-25 | 1998-03-25 | Electronic probe micro analyzer |
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| JP (1) | JP3547310B2 (en) |
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1998
- 1998-03-25 JP JP07691898A patent/JP3547310B2/en not_active Expired - Fee Related
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3547310B2 (en) | 2004-07-28 |
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