JPH11271243A - X-ray analyzer - Google Patents

X-ray analyzer

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JPH11271243A
JPH11271243A JP10091059A JP9105998A JPH11271243A JP H11271243 A JPH11271243 A JP H11271243A JP 10091059 A JP10091059 A JP 10091059A JP 9105998 A JP9105998 A JP 9105998A JP H11271243 A JPH11271243 A JP H11271243A
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Japan
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slit
sample
ray
control means
width
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Masami Amamiya
宮 將 美 雨
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Jeol Engineering Co Ltd
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Jeol Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an unmanned X-ray analyzer capable of continuously providing a pole point figure. SOLUTION: In analysis by a reflection method, a slit width control means 15 adjusts the slit width d1 so that a first slit 3 may be a divergence X-ray width slit, and also it adjusts the second slit width d2 to the most suitable slit width. In analysis by a transmission method, a rotary stage rotating means 13 rotates a rotary stage 11 clockwise by 90 deg. from the state as shown in the Fig. 2. A third slit 14 is retreated from between the first slit 3 and a sample 2 by the rotation of the rotational stage 11. In the rotation of the rotary stage 11, a rotational table rotating means 9 rotates a rotational table 8 clockwise by 90 deg.. Moreover, the slit width control means 15 adjusts the slit width d1 so that the first slit 3 may be a parallel X-ray width slit, and it adjusts the second slit width d2 to the most suitable slit width.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】 本発明は、極点図形を得る
ためのX線分析装置に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to an X-ray analyzer for obtaining a pole figure.

【0002】[0002]

【従来の技術】 多結晶集合体の各結晶粒は、通常その
隣接結晶粒の配向と異なった配向をもっている。この各
結晶粒の配向はX線回折装置により測定され、各結晶粒
の配向の様子を表したのが極点図形である。図1はその
極点図形の一例を示したものである。
2. Description of the Related Art Each crystal grain of a polycrystalline aggregate usually has a different orientation from that of its adjacent crystal grains. The orientation of each crystal grain is measured by an X-ray diffractometer, and a pole figure shows the orientation of each crystal grain. FIG. 1 shows an example of the pole figure.

【0003】図1に示した極点図形の中心部はSchu
lzによる反射法(Schulz法)によって求めら
れ、その周辺部はDecker,Asp,Harker
らによる透過法(Decker−Asp−Harker
法)によって求められる。
The central part of the pole figure shown in FIG.
It is obtained by a reflection method (Schulz method) using Iz, and its periphery is Decker, Asp, and Harker.
Et al. (Decker-Asp-Haker)
Law).

【発明が解決しようとする課題】 前記反射法は発散X
線束を用いた光学系であり、一方、前記透過法は平行X
線束を用いた光学系である。この2つの方法を併用する
と光学系が異なるので、1つの極点図形の測定の途中で
測定を中断し、前記発散X線束スリットを平行X線束ス
リットに交換しなければならない。また、反射法による
分析の際には、前記発散X線束スリットと試料間に長さ
制限スリットを配置しなければならない。このようなス
リットの交換作業は、オペレーターにとって非常に煩わ
しい作業である。
The reflection method has a divergence X
An optical system using a ray bundle, while the transmission method uses a parallel X
This is an optical system using a ray bundle. Since the optical system is different when these two methods are used in combination, the measurement must be interrupted during the measurement of one pole figure, and the divergent X-ray flux slit must be replaced with a parallel X-ray flux slit. In the analysis by the reflection method, a length limiting slit must be arranged between the divergent X-ray flux slit and the sample. Such slit replacement work is very troublesome for the operator.

【0004】本発明はこのような点に鑑みて成されたも
ので、その目的は、無人で連続的に極点図形を得ること
ができるX線分析装置を提供することにある。
The present invention has been made in view of the above points, and an object of the present invention is to provide an X-ray analyzer capable of obtaining an unmanned and continuous pole figure continuously.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】 この目的を達成する本
発明のX線分析装置は、試料にX線を照射するためのX
線源と、前記試料からの回折X線を検出するX線検出器
と、前記X線源と試料間に配置された第1のスリット
と、前記試料とX線検出器の間に配置された第2のスリ
ットと、前記第1のスリットと第2のスリットのスリッ
ト幅を制御するスリット幅制御手段と、第3のスリット
と、該第3のスリットを前記第1のスリットと試料間に
配置及びその位置から退避させる第3スリット制御手段
と、前記試料を載置する試料台と、反射法と透過法で試
料を分析するために、前記試料台の位置を制御する試料
制御手段と、前記X線検出器の出力に基づいて試料の極
点図形を作成する極点図形作成手段を備えたX線分析装
置であって、前記スリット幅制御手段は、前記試料の分
析法に応じて前記第1のスリットと第2のスリットのス
リット幅を制御し、前記第3スリット制御手段は、前記
試料を反射法で分析するときは前記第3のスリットを前
記第1のスリットと試料間に配置する一方、前記試料を
透過法で分析するときは前記第3のスリットをその位置
から退避させることを特徴とする。
An X-ray analyzer according to the present invention that achieves this object is an X-ray analyzer for irradiating a sample with X-rays.
A source, an X-ray detector for detecting diffracted X-rays from the sample, a first slit disposed between the X-ray source and the sample, and a first slit disposed between the sample and the X-ray detector. A second slit, slit width control means for controlling a slit width of the first slit and the second slit, a third slit, and the third slit arranged between the first slit and the sample; And third slit control means for retreating from the position, a sample table on which the sample is placed, sample control means for controlling the position of the sample table for analyzing the sample by a reflection method and a transmission method, and An X-ray analysis apparatus comprising: a pole figure creating unit that creates a pole figure of a sample based on an output of an X-ray detector, wherein the slit width control unit is configured to control the first figure according to a method of analyzing the sample. Controlling the slit width of the slit and the second slit, The third slit control means arranges the third slit between the first slit and the sample when the sample is analyzed by the reflection method, and the third slit when the sample is analyzed by the transmission method. The slit is retracted from the position.

【0006】[0006]

【発明の実施の形態】 以下、図面を用いて本発明の実
施の形態について説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0007】図2及び図3は、本発明のX線分析装置を
説明するために示した図であり、図2は試料を反射法に
より分析する場合を、そして、図3は試料を透過法によ
り分析する場合を示した図である。図2及び図3に示す
各構成は、いずれもX線分析装置の試料室内に配置され
ている。図2、図3において、1は試料室壁に取り付け
られたX線源であり、2は試料である。X線源1と試料
2間には第1のスリット3が配置されており、また、試
料からの回折X線を検出するX線検出器4と前記試料2
間には第2のスリット5が配置されている。前記X線検
出器4は試料室壁に取り付けられており、図示しないが
前記第1のスリット3と第2のスリット5はベース6に
取り付けられている。
FIGS. 2 and 3 are views for explaining the X-ray analyzer of the present invention. FIG. 2 shows a case in which a sample is analyzed by a reflection method, and FIG. FIG. 6 is a diagram showing a case where analysis is performed by using FIG. Each of the configurations shown in FIGS. 2 and 3 is disposed in a sample chamber of the X-ray analyzer. 2 and 3, reference numeral 1 denotes an X-ray source attached to a sample chamber wall, and reference numeral 2 denotes a sample. A first slit 3 is arranged between the X-ray source 1 and the sample 2, and an X-ray detector 4 for detecting diffracted X-rays from the sample and the sample 2
A second slit 5 is arranged between them. The X-ray detector 4 is mounted on the wall of the sample chamber. Although not shown, the first slit 3 and the second slit 5 are mounted on a base 6.

【0008】前記試料2は試料台7上に置かれており、
そして、この試料台7は、試料台7の中心を通り試料面
に垂直な軸Bを中心として回転可能な回転台8上に置か
れている。回転台8の回転は、回転台回転手段9により
行われる。
[0008] The sample 2 is placed on a sample stage 7,
The sample table 7 is placed on a rotary table 8 that can rotate about an axis B passing through the center of the sample table 7 and perpendicular to the sample surface. The rotation of the turntable 8 is performed by a turntable rotating means 9.

【0009】前記回転台8は傾斜ステージ10上に置か
れており、傾斜ステージ10は、傾斜軸Aを中心として
傾斜可能に回転ステージ11に取り付けられている。傾
斜ステージ10の傾斜は傾斜手段12により行われる。
前記回転ステージ11はZ軸を中心として回転可能であ
り、回転ステージ11の回転は回転ステージ回転手段1
3により行われる。なお、回転ステージ11は前記ベー
ス6に取り付けられている。
The turntable 8 is placed on a tilt stage 10, and the tilt stage 10 is attached to a rotary stage 11 so as to be tiltable about a tilt axis A. The tilt of the tilt stage 10 is performed by tilt means 12.
The rotary stage 11 is rotatable about the Z axis.
3 is performed. The rotation stage 11 is attached to the base 6.

【0010】14は、長さ制限スリットである第3のス
リットである。この第3のスリット14は前記回転ステ
ージ11に取り付けられており、第3のスリット14
は、反射法による分析の際には前記第1のスリット3と
試料2間に配置される。
Reference numeral 14 denotes a third slit which is a length limiting slit. The third slit 14 is attached to the rotary stage 11, and the third slit 14
Is arranged between the first slit 3 and the sample 2 at the time of analysis by the reflection method.

【0011】15はスリット幅制御手段であり、スリッ
ト幅制御手段15は、前記第1のスリット3のスリット
幅d1と前記第2のスリット5のスリット幅d2を制御
する。また、16は極点図形作成手段であり、極点図形
作成手段16は、前記X線検出器4の出力に基づいて図
1に示したような極点図形を作成する。
Reference numeral 15 denotes a slit width control means. The slit width control means 15 controls a slit width d1 of the first slit 3 and a slit width d2 of the second slit 5. Reference numeral 16 denotes an extreme figure creating means. The extreme figure creating means 16 creates an extreme figure as shown in FIG. 1 based on the output of the X-ray detector 4.

【0012】以上、図2と図3に示した装置の構成を説
明したが、前記構成7〜12により試料制御手段が構成
され、また、前記回転ステージ11と回転ステージ回転
手段13により第3スリット制御手段が構成される。ま
た、図示していないが、前記回転台回転手段9、傾斜手
段12、回転ステージ回転手段13及びスリット幅制御
手段15は、それぞれ図示しない中央制御装置(CP
U)により制御される。
The configuration of the apparatus shown in FIGS. 2 and 3 has been described above. A sample control means is constituted by the constitutions 7 to 12, and a third slit is constituted by the rotating stage 11 and the rotating stage rotating means 13. Control means is configured. Although not shown, the turntable rotating means 9, the tilting means 12, the rotating stage rotating means 13 and the slit width control means 15 are respectively provided with a central control device (CP
U).

【0013】次に、このような構成の装置の動作を説明
する。
Next, the operation of the device having such a configuration will be described.

【0014】まず、図2を用いて、試料を反射法により
分析する場合について説明する。
First, a case where a sample is analyzed by a reflection method will be described with reference to FIG.

【0015】図2に示すように、反射法による光学系
は、2θを回折角として、入射角と回折角がそれぞれθ
になっている等角度反射の光学系である。また、この反
射法による光学系は、第1のスリット3と第3のスリッ
ト14を通過したX線を試料2に照射し、第2のスリッ
ト5を通過した回折X線をX線検出器4で検出する光学
系である。
As shown in FIG. 2, in the optical system using the reflection method, the incident angle and the diffraction angle are each set to θ, where 2θ is the diffraction angle.
This is an optical system of equiangular reflection. The optical system based on the reflection method irradiates the sample 2 with X-rays passing through the first slit 3 and the third slit 14, and converts the diffracted X-rays passing through the second slit 5 into an X-ray detector 4. Is an optical system to detect.

【0016】このような光学系において、前記スリット
幅制御手段15は、前記第1のスリット3が発散X線幅
スリットとなるようにスリット幅d1を調整する。ま
た、スリット幅制御手段15は、前記第2のスリット幅
d2を最適なスリット幅に調整する。
In such an optical system, the slit width control means 15 adjusts the slit width d1 so that the first slit 3 becomes a divergent X-ray width slit. Further, the slit width control means 15 adjusts the second slit width d2 to an optimum slit width.

【0017】このようなスリット幅の調整が終わると、
試料にX線が照射される。そして、前記傾斜手段12
は、前記B軸が入射X線と回折X線で決まる平面上にあ
るときをα=90゜と定義する時、αが90゜から例え
ば30゜になるように、前記傾斜ステージ10を時計回
りに所定角度づつ回転させる。この時、前記回転台回転
手段9は、前記傾斜ステージ10の所定角度の回転が行
われる毎に前記回転台8を360゜回転させる。
When the adjustment of the slit width is completed,
The sample is irradiated with X-rays. And the inclining means 12
Is defined as α = 90 ° when the B axis is on a plane determined by the incident X-ray and the diffracted X-ray, and the tilt stage 10 is rotated clockwise so that α becomes 90 ° to, for example, 30 °. At a predetermined angle. At this time, the turntable rotating means 9 rotates the turntable 8 by 360 ° every time the tilt stage 10 is rotated by a predetermined angle.

【0018】前述したように、試料上の各結晶粒はいろ
んな方向を向いているが、このような試料面内のA軸を
中心とするα回転と、試料面法線B軸を中心とするβ回
転が行われたときに、結晶粒が回折条件を満足する位置
に来ると、その結晶粒からの回折X線は前記X線検出器
4に検出される。試料の中には、各結晶粒がある特定の
方向を向いているものがあるが、そのような場合には、
ある位置において多くの回折X線が検出される。前記極
点図形作成手段16は、X線検出器4の出力に基づき、
極の密度に比例した数値を極点図形のそれに対応した位
置に対して与える。
As described above, each crystal grain on the sample is oriented in various directions. Such an α rotation around the A axis in the sample plane and the B axis along the normal line of the sample plane are centered. When the crystal grain comes to a position satisfying the diffraction condition when the β rotation is performed, the X-ray diffracted from the crystal grain is detected by the X-ray detector 4. In some samples, each crystal grain is oriented in a specific direction.
Many diffracted X-rays are detected at a certain position. The pole figure creating means 16 is based on the output of the X-ray detector 4,
A numerical value proportional to the pole density is given to the position corresponding to the pole figure.

【0019】以上、図2を用いて反射法による試料分析
について説明したが、上述したように、前記傾斜ステー
ジ10の回転をα=30゜までとしたのは、それ以上回
転させると試料台7の枠が回折X線をさえぎるためであ
る。この残りの角度0゜〜30゜についての測定は、以
下に説明する透過法により行われる。
Although the sample analysis by the reflection method has been described with reference to FIG. 2, as described above, the rotation of the tilt stage 10 is limited to α = 30 °. Is to block diffraction X-rays. The measurement at the remaining angles of 0 ° to 30 ° is performed by the transmission method described below.

【0020】次に、図3を用いて透過法による試料分析
について説明する。
Next, the sample analysis by the transmission method will be described with reference to FIG.

【0021】透過法により試料を分析する場合、前記回
転ステージ回転手段13は、前記回転ステージ11を図
2の状態から時計回りに90゜回転させる。この回転ス
テージ11の回転により、前記第3のスリット14は、
前記第1のスリット3と試料2間から退避される。ま
た、この回転ステージ11の回転の際、前記回転台回転
手段9は、前記回転台8を時計回りに90゜回転させ
る。この回転台8の回転により、反射法でβ=0゜の試
料位置が透過法でもβ=0゜と同じになる。
When a sample is analyzed by the transmission method, the rotating stage rotating means 13 rotates the rotating stage 11 90 ° clockwise from the state shown in FIG. Due to the rotation of the rotary stage 11, the third slit 14
It is retracted from between the first slit 3 and the sample 2. When the rotary stage 11 rotates, the turntable rotating means 9 rotates the turntable 8 clockwise by 90 °. Due to the rotation of the turntable 8, the sample position of β = 0 ° in the reflection method becomes the same as β = 0 ° in the transmission method.

【0022】上述した回転ステージ11の回転により、
光学系は図3に示すような透過法による光学系となり、
この透過法による光学系は、第1のスリット3を通過し
たX線を試料2に照射し、試料を透過して第2のスリッ
ト5を通過した回折X線をX線検出器4で検出する光学
系である。このような光学系において、前記スリット幅
制御手段15は、前記第1のスリット3が平行X線幅ス
リットとなるようにスリット幅d1を調整する。また、
スリット幅制御手段15は、前記第2のスリット幅d2
を最適なスリット幅に調整する。
By the rotation of the rotary stage 11 described above,
The optical system is an optical system based on a transmission method as shown in FIG.
The optical system based on this transmission method irradiates the sample 2 with X-rays passing through the first slit 3, and detects the diffracted X-rays passing through the sample and passing through the second slit 5 with the X-ray detector 4. It is an optical system. In such an optical system, the slit width control means 15 adjusts the slit width d1 such that the first slit 3 becomes a parallel X-ray width slit. Also,
The slit width control means 15 calculates the second slit width d2
Is adjusted to the optimum slit width.

【0023】このようなスリット幅の調整が終わると、
試料にX線が照射される。そして、前記傾斜手段12
は、入射X線と回折X線が試料面に対称になる試料位置
をα=90゜と定義する時、αが30゜から0゜になる
ように、前記傾斜ステージ10を所定角度づつ回転させ
る。この時、前記回転台回転手段9は、前記傾斜ステー
ジ10の所定角度の回転が行われる毎に前記回転台8を
360゜回転させる。
When the adjustment of the slit width is completed,
The sample is irradiated with X-rays. And the inclining means 12
Defines the sample position at which the incident X-ray and the diffracted X-ray are symmetric with respect to the sample plane as α = 90 °, and rotates the tilt stage 10 by a predetermined angle so that α changes from 30 ° to 0 °. . At this time, the turntable rotating means 9 rotates the turntable 8 by 360 ° every time the tilt stage 10 is rotated by a predetermined angle.

【0024】このような試料面内のA軸を中心とするα
回転と、試料面法線B軸を中心とするβ回転が行われた
ときに、結晶粒が回折条件を満足する位置に来ると、そ
の結晶粒からの回折X線は前記X線検出器4に検出され
る。前記極点図形作成手段16は、X線検出器4の出力
に基づき、極の密度に比例した数値を極点図形のそれに
対応した位置に対して与えており、極点図形作成手段1
6は、前記反射法による分析と透過法による分析の結果
を、図1に示したような極点図形として表す。
The α around the A-axis in the sample plane as described above
When the crystal grains come to a position that satisfies the diffraction conditions when the rotation and the β rotation about the normal B axis of the sample surface are performed, the diffracted X-rays from the crystal grains are output from the X-ray detector 4. Is detected. The pole figure creating means 16 gives a numerical value proportional to the density of the pole to the position corresponding to the pole figure based on the output of the X-ray detector 4.
Numeral 6 shows the results of the analysis by the reflection method and the analysis by the transmission method as pole figure as shown in FIG.

【0025】以上、図2と図3を用いて本発明のX線分
析装置について説明したが、このようなX線分析装置に
おいては、第1と第2のスリットのスリット幅が分析法
に応じて自動的に制御され、また、第3のスリットは透
過法の際には自動的に退避されるので、無人で連続的に
極点図形を得ることができる。
The X-ray analyzer of the present invention has been described above with reference to FIGS. 2 and 3. In such an X-ray analyzer, the width of the first and second slits depends on the analysis method. Automatically controlled, and the third slit is automatically retracted during the transmission method, so that a pole figure can be obtained continuously and unmanned.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 極点図形の一例を示した図である。FIG. 1 is a diagram showing an example of a pole figure.

【図2】 本発明のX線分析装置を説明するために示し
た図であり、反射法による試料分析を説明するために示
した図である。
FIG. 2 is a view for explaining an X-ray analyzer of the present invention, and is a view for explaining sample analysis by a reflection method.

【図3】 本発明のX線分析装置を説明するために示し
た図であり、透過法による試料分析を説明するために示
した図である。
FIG. 3 is a view for explaining an X-ray analyzer of the present invention, and is a view for explaining sample analysis by a transmission method.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…X線源、2…試料、3…第1のスリット、4…X線
検出器、5…第2のスリット、6…ベース、7…試料
台、8…回転台、9…回転台回転手段、10…傾斜ステ
ージ、11…回転ステージ、12…傾斜手段、13…回
転ステージ回転手段、14…第3のスリット、15…ス
リット幅制御手段、16…極点図形作成手段
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... X-ray source, 2 ... sample, 3 ... 1st slit, 4 ... X-ray detector, 5 ... 2nd slit, 6 ... Base, 7 ... Sample stage, 8 ... Rotating table, 9 ... Rotating table rotation Means, 10: tilt stage, 11: rotary stage, 12: tilt means, 13: rotary stage rotating means, 14: third slit, 15: slit width control means, 16: pole figure creating means

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 試料にX線を照射するためのX線源と、
前記試料からの回折X線を検出するX線検出器と、前記
X線源と試料間に配置された第1のスリットと、前記試
料とX線検出器の間に配置された第2のスリットと、前
記第1のスリットと第2のスリットのスリット幅を制御
するスリット幅制御手段と、第3のスリットと、該第3
のスリットを前記第1のスリットと試料間に配置及びそ
の位置から退避させる第3スリット制御手段と、前記試
料を載置する試料台と、反射法と透過法で試料を分析す
るために、前記試料台の位置を制御する試料制御手段
と、前記X線検出器の出力に基づいて試料の極点図形を
作成する極点図形作成手段を備えたX線分析装置であっ
て、前記スリット幅制御手段は、前記試料の分析法に応
じて前記第1のスリットと第2のスリットのスリット幅
を制御し、前記第3スリット制御手段は、前記試料を反
射法で分析するときは前記第3のスリットを前記第1の
スリットと試料間に配置する一方、前記試料を透過法で
分析するときは前記第3のスリットをその位置から退避
させることを特徴とするX線分析装置。
An X-ray source for irradiating a sample with X-rays,
An X-ray detector for detecting diffracted X-rays from the sample, a first slit disposed between the X-ray source and the sample, and a second slit disposed between the sample and the X-ray detector A slit width control means for controlling a slit width of the first slit and the second slit; a third slit;
Third slit control means for disposing the slit between the first slit and the sample and retreating from the position thereof, a sample table on which the sample is mounted, and analyzing the sample by a reflection method and a transmission method. An X-ray analysis apparatus comprising: sample control means for controlling a position of a sample stage; and a pole figure creating means for creating a pole figure of a sample based on an output of the X-ray detector, wherein the slit width control means comprises: Controlling the slit width of the first slit and the second slit in accordance with the sample analysis method, wherein the third slit control means controls the third slit when the sample is analyzed by the reflection method. An X-ray analyzer, wherein the third slit is retracted from its position when the sample is analyzed by a transmission method while being disposed between the first slit and the sample.
【請求項2】 前記試料を反射法から透過法に切り換え
て分析する際、前記試料制御手段は、前記試料台を試料
面に垂直な軸のまわりに90度回転させることを特徴と
する請求項1記載のX線分析装置。
2. The method according to claim 1, wherein when the sample is switched from the reflection method to the transmission method for analysis, the sample control means rotates the sample stage by 90 degrees around an axis perpendicular to the sample surface. 2. The X-ray analyzer according to 1.
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JP2008249605A (en) * 2007-03-30 2008-10-16 Rigaku Corp Crystal grain pole figure measuring method and device therefor

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