JPH1126689A - Semiconductor device - Google Patents

Semiconductor device

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JPH1126689A
JPH1126689A JP17434597A JP17434597A JPH1126689A JP H1126689 A JPH1126689 A JP H1126689A JP 17434597 A JP17434597 A JP 17434597A JP 17434597 A JP17434597 A JP 17434597A JP H1126689 A JPH1126689 A JP H1126689A
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island
semiconductor chip
semiconductor
resin
tie bar
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Sanyo Electric Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To make it possible to densely mount a plurality of semiconductor chips in lamination in one package without making it thick, by exposing the reverse side of an island to the surface of a resin. SOLUTION: A first semiconductor chip 50 is stuck on an island 53, and a second semiconductor chip 51 is further stuck on the first semiconductor chip 50. Each of bonding pads 52 of the semiconductor chips 50, 51, respectively, is wire-bonded to the tip of a lead terminal 57 by using a wire 56. Further, the island 53 is lowered so that the reverse side of the island 53 is exposed to the surface of a resin 58, followed by molding a main portion thereof including the semiconductor chips, with the use of a resin. Furthermore, a filler 61 is mingled to an insulative bonding material 54 between the island 53 and the semiconductor chip 50.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体チップより
もサイズの小さいアイランドを有した外形寸法の薄型化
が可能な半導体装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device having an island smaller in size than a semiconductor chip and capable of thinning external dimensions.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体装置の封止技術として最も普及し
ているのが、図3(A)に示したような、半導体チップ
1の周囲を熱硬化性のエポキシ樹脂2で封止するトラン
スファーモールド技術である。半導体チップ1の支持素
材としてシードフレームを用いており、リードフレーム
のアイランド3に半導体チップ1をダイボンドし、半導
体チップ1のボンディングパッドとリード4をワイヤ5
でワイヤボンドし、所望の外形形状を具備する金型内に
リードフレームをセットし、金型内にエポキシ樹脂を注
入、これを硬化させることにより製造される。
2. Description of the Related Art A transfer molding method for sealing a semiconductor chip 1 with a thermosetting epoxy resin 2 as shown in FIG. Technology. A seed frame is used as a support material for the semiconductor chip 1. The semiconductor chip 1 is die-bonded to the island 3 of the lead frame, and the bonding pads and the leads 4 of the semiconductor chip 1 are connected to the wires 5.
It is manufactured by setting a lead frame in a mold having a desired outer shape, injecting an epoxy resin into the mold, and curing the lead frame.

【0003】一方、各種電子機器に対する小型、軽量化
の波はとどまるところを知らず、これらに組み込まれる
半導体装置にも、一層の大容量、高機能、高集積化が望
まれている。そこで、以前から発想としては存在してい
た(例えば、特開昭55ー1111517号)、1つの
パッケージ内に複数の半導体チップを封止する技術が注
目され、実現化する動きが出てきた。つまり図3(B)
に示すように、アイランド3上に第1の半導体チップ1
aを固着し、第1の半導体チップ1aの上に第2の半導
体チップ1bを固着し、対応するボンディングパッドと
リード4とをボンディングワイヤ5で接続し、樹脂2で
封止したものである。
On the other hand, the wave of miniaturization and weight reduction of various electronic devices is unavoidable, and semiconductor devices incorporated therein are desired to have higher capacity, higher function, and higher integration. Therefore, a technique for sealing a plurality of semiconductor chips in a single package, which has existed as an idea (for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 55-1111517), has been attracting attention, and a move toward realization has emerged. That is, FIG.
As shown in FIG. 1, the first semiconductor chip 1
a, the second semiconductor chip 1b is fixed on the first semiconductor chip 1a, the corresponding bonding pad and the lead 4 are connected with the bonding wire 5, and sealed with the resin 2.

【0004】この構造は、コストアップになるにも関わ
らず、複数のチップを一体化させることにより、軽薄短
小化が実現できる。故に外形寸法に余裕のあるDIP型
パッケージよりは、表面実装型の、しかも薄型のパッケ
ージに収納したい意向が強く、その方が全体としてのメ
リットが大きい。しかしながら、半導体チップ1には、
その表面に形成した回路素子の支持基板としてある程度
の機械的強度を持たせる必要性から、最低でも約200
μ程度の厚みが必須となり、樹脂2には、半導体装置の
耐湿性の点、およびボンディングワイヤ5のループ高さ
等の点で、半導体チップ1の上方に最低でも約200μ
程度の肉厚を確保したい。これら製造上から要求される
厚みを全て取り込み、且つ2つ以上のチップを重ね合わ
せることは、結局樹脂2の外形寸法、特に厚さ(図3
(B)の図示X)を大型化させることになり、従来より
準備されているパッケージの外形寸法に収まらないと言
う欠点があった。更に、金型や試験測定装置等、後工程
で使用する製造装置の殆どを別設計にしなければなら
ず、設備投資によりコストアップが極めて大きくなると
言う欠点があった。
[0004] Although this structure increases the cost, it is possible to reduce the size and weight by integrating a plurality of chips. Therefore, there is a strong desire to store the package in a surface-mounted and thin package rather than a DIP-type package having a sufficient external dimension, and this has a greater merit as a whole. However, the semiconductor chip 1 has
Since it is necessary to have a certain level of mechanical strength as a support substrate for circuit elements formed on the surface, at least about 200
The resin 2 has a thickness of about 200 μm above the semiconductor chip 1 in terms of the moisture resistance of the semiconductor device and the loop height of the bonding wires 5.
I want to secure a certain thickness. Taking in all the thicknesses required from the manufacturing and superimposing two or more chips results in the outer dimensions of the resin 2, especially the thickness (FIG. 3).
There is a drawback that the size of X) shown in (B) is increased, so that it does not fit in the external dimensions of a conventionally prepared package. Further, most of the manufacturing devices used in the post-process, such as a mold and a test and measurement device, have to be designed separately, and there is a disadvantage that the cost is greatly increased by capital investment.

【0005】そのため、特願平9−55174号(平成
9年3月10日の出願)、図5のように、半導体チップ
20、21を搭載するアイランド22の裏面が樹脂23
の表面に露出するようにリードとアイランドとの段付け
を行い、このアイランド上に複数の半導体チップを積層
する事により、樹脂の高さを低減した。またアイランド
22と樹脂23との熱膨張係数の違いからパッケージの
反りが発生するために、アイランドサイズを小さくして
いた。
For this reason, as shown in FIG. 5 of Japanese Patent Application No. 9-55174 (filed on Mar. 10, 1997), the back surface of the island 22 on which the semiconductor chips 20 and 21 are mounted is made of resin 23.
The leads and islands were stepped so as to be exposed on the surface of the substrate, and a plurality of semiconductor chips were stacked on the islands to reduce the height of the resin. In addition, since the package is warped due to a difference in thermal expansion coefficient between the island 22 and the resin 23, the island size is reduced.

【0006】つまり図4がその平面図であり、アイラン
ド22の上には、第1のチップ20が、その上には第2
のチップ21が設けられ、この第1、第2のチップ2
0、21は、チップの周囲に延在されたリード端子24
・・・と金属細線25を介して電気的に接続されてい
る。またアイランド22の各コーナーからタイバー26
a、26b、27aおよび27bを延在させ、これをリ
ードフレームと一体化させることで、アイランドの支
持、モールド時のねじれを防止している。
That is, FIG. 4 is a plan view of the first chip 20 on the island 22 and the second chip 20 on the island 22.
Of the first and second chips 2 are provided.
0 and 21 are lead terminals 24 extended around the chip.
.. Are electrically connected to each other via thin metal wires 25. Also, from each corner of the island 22, tie bars 26
By extending a, 26b, 27a and 27b and integrating them with the lead frame, the support of the island and the twisting during molding are prevented.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】ここでアイランド22
に第1の半導体チップ20を絶縁接着剤28で固着する
場合、接着剤をアイランド22に塗布し、半導体チップ
を載せて押圧して固着する。しかし、タイバー26a〜
27bは、アイランドと比べるとその幅が小さいため、
接着剤28は、図4の点で示したハッチング部分のよう
に広がるが、タイバー26a〜27bと第1の半導体チ
ップ20の間(×印の領域)に行き渡らない問題があっ
た。
Here, the island 22
When the first semiconductor chip 20 is fixed with the insulating adhesive 28, the adhesive is applied to the island 22, and the semiconductor chip is placed and pressed to fix. However, tie bars 26a-
27b is smaller in width than the island,
Although the adhesive 28 spreads like the hatched portion shown in FIG. 4, there was a problem that it did not spread between the tie bars 26a to 27b and the first semiconductor chip 20 (the area marked with x).

【0008】この断面図を示したものが図5であり、半
導体チップ20は固着されているが少し斜めに固着され
ている。所がアイランドIDには接着剤があるが、タイ
バーTBの部分は、接着剤がないため、タイバーと半導
体チップが近接又は接触する傾向に配置されやすい。そ
のため、樹脂23から露出しているアイランドまたはタ
イバーに不慮の事故等で高電圧が印加可され半導体チッ
プが破壊する問題があった。
FIG. 5 shows this cross-sectional view. The semiconductor chip 20 is fixed but slightly obliquely fixed. Although there is an adhesive in the island ID, the tie bar TB does not have an adhesive, so that the tie bar and the semiconductor chip are likely to be arranged so as to be close to or in contact with each other. Therefore, there is a problem that a high voltage is applied to an island or a tie bar exposed from the resin 23 due to an accident or the like and the semiconductor chip is broken.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明は、前述の課題に
鑑みてなされ、第1に、アイランドと半導体チップとの
間に接着性絶縁材料を設け、中に実質同一粒径の絶縁フ
ィラーを分散することで解決するものである。この絶縁
フィラーがスペーサとなり、半導体チップの斜め固着を
防止できる。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems. First, an adhesive insulating material is provided between an island and a semiconductor chip, and an insulating filler having substantially the same particle size is provided therein. This is solved by dispersing. This insulating filler serves as a spacer, which can prevent the semiconductor chip from being obliquely fixed.

【0010】第2に、保持用タイバーに於いて、半導体
チップ側辺と平行な一方の側辺から幅広部を設け、幅広
部を含むアイランドと前記半導体チップとの間に、接着
性絶縁材料を設けるとともに、前記幅広部から延在され
る前記保持用タイバーと前記半導体チップの間にも前記
接着性絶縁材料を設けることで解決するものである。幅
広部に樹脂が塗布されれば、チップを上から押圧して固
着するとき、幅の狭いタイバーにも樹脂が押し出され、
タイバーと半導体チップとの絶縁がより以上向上する。
Second, in the holding tie bar, a wide portion is provided from one side parallel to the side of the semiconductor chip, and an adhesive insulating material is provided between the island including the wide portion and the semiconductor chip. This problem is solved by providing the adhesive insulating material also between the semiconductor chip and the holding tie bar extending from the wide portion. If the resin is applied to the wide part, when pressing and fixing the chip from above, the resin is also extruded to the narrow tie bar,
The insulation between the tie bar and the semiconductor chip is further improved.

【0011】第3に、保持用タイバーを、アイランドの
4コーナーから延在することで、アイランドの回転が抑
制され、更にはアイランドと半導体チップを平行に配置
することができる。第4に、幅広部を接着性絶縁材料が
塗布できる幅にすることで、タイバーのそばに樹脂を配
置できる。
Third, by extending the holding tie bars from the four corners of the island, the rotation of the island can be suppressed, and the island and the semiconductor chip can be arranged in parallel. Fourth, by setting the wide portion to have a width to which the adhesive insulating material can be applied, the resin can be arranged near the tie bar.

【0012】第5に、半導体チップの上に、別の半導体
チップを載置することで解決するものである。
Fifth, the problem is solved by mounting another semiconductor chip on the semiconductor chip.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】以下に本発明の一実施の形態を図
1を参照しながら詳細に説明する。図中、50、51は
各々第1と第2の半導体チップを示している。第1と第
2の半導体チップ50、51のシリコン表面には、前工
程において各種の能動、受動回路素子が形成され、更に
はチップの周辺部分に外部接続用のボンディングパッド
52が形成されている。そのボンディングパッド52を
被覆するようにシリコン窒化膜、シリコン酸化膜、ポリ
イミド系絶縁膜などのパッシベーション皮膜が形成さ
れ、ボンディングパッド52の上部は電気接続のために
開口されている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One embodiment of the present invention will be described below in detail with reference to FIG. In the figure, reference numerals 50 and 51 denote first and second semiconductor chips, respectively. On the silicon surfaces of the first and second semiconductor chips 50 and 51, various active and passive circuit elements are formed in a previous step, and further, bonding pads 52 for external connection are formed on peripheral portions of the chips. . A passivation film such as a silicon nitride film, a silicon oxide film, or a polyimide-based insulating film is formed so as to cover the bonding pad 52, and an upper portion of the bonding pad 52 is opened for electrical connection.

【0014】第1の半導体チップ50はリードフレーム
のアイランド53上に接着性絶縁材料54によりダイボ
ンドされ、更に第2の半導体チップ51は第1の半導体
チップ50の前記パッシベーション皮膜上に絶縁性のエ
ポキシ系接着剤により固着されている。半導体チップ5
0、51表面のボンディングパッド52には、金線等の
ボンディングワイヤ56の一端がワイヤボンドされてお
り、ボンディングワイヤ56の他端は外部導出用のリー
ド端子57の先端部57aにワイヤボンドされている。
これで、各々のボンディングパッド52と各リード57
とを電気的に接続している。
The first semiconductor chip 50 is die-bonded on the island 53 of the lead frame with an adhesive insulating material 54, and the second semiconductor chip 51 is further provided with an insulating epoxy on the passivation film of the first semiconductor chip 50. It is fixed by a system adhesive. Semiconductor chip 5
One end of a bonding wire 56 such as a gold wire is wire-bonded to the bonding pads 52 on the surfaces 0 and 51, and the other end of the bonding wire 56 is wire-bonded to the tip 57a of a lead terminal 57 for external lead-out. I have.
Thus, each bonding pad 52 and each lead 57
And are electrically connected.

【0015】半導体チップ50、51、リード端子の先
端部57a、およびワイヤ56を含む主要部は、周囲を
エポキシ系の熱硬化樹脂58でモールドされ、パッケー
ジ化される。リード端子57は、図5に示した従来図面
と同様に、パッケージ側壁の、樹脂58の厚みの約半分
の位置から外部に導出される。また樹脂58の外部に導
出されたリード端子57は一端下方に曲げられ、再度曲
げられてZ字型にフォーミングされている。このフォー
ミング形状は、リード端子57の裏面側固着部分をプリ
ント基板に形成した導電パターンに対向接着する、表面
実装用途の為の形状である。
The main parts including the semiconductor chips 50 and 51, the tip 57a of the lead terminal, and the wire 56 are molded around with an epoxy-based thermosetting resin 58 and packaged. The lead terminal 57 is led out from a position on the side wall of the package, which is about half the thickness of the resin 58, as in the conventional drawing shown in FIG. The lead terminal 57 led out of the resin 58 is bent downward at one end, bent again, and formed into a Z-shape. This forming shape is a shape for surface mounting use in which the fixed portion on the back side of the lead terminal 57 is opposed to the conductive pattern formed on the printed circuit board.

【0016】また図5で説明したように、半導体チップ
50、51を搭載するアイランド53の裏面が樹脂58
の表面に露出するようにリード57とアイランド53と
の段付けを行い、このアイランド53上に複数の半導体
チップ50、51を積層する事により、樹脂の高さを低
減した。またアイランド53と樹脂58との熱膨張係数
の違いからパッケージの反りが発生するために、アイラ
ンドサイズを小さくしている。
As described with reference to FIG. 5, the back surface of the island 53 on which the semiconductor chips 50 and 51 are mounted
The leads 57 and the islands 53 are stepped so as to be exposed on the surface of the semiconductor device, and a plurality of semiconductor chips 50 and 51 are stacked on the islands 53 to reduce the height of the resin. In addition, since the package warps due to the difference in thermal expansion coefficient between the island 53 and the resin 58, the island size is reduced.

【0017】つまり図1のように、アイランド53の各
コーナーから保持用タイバー59a〜60bを延在さ
せ、これをリードフレームと一体化させることで、アイ
ランドの支持、モールド時のねじれを防止をしている。
ここでアイランドのねじれを問題としなければ、保持用
タイバー59a、59bを1本にし、保持用タイバー6
0a、60bを1本にしても良い。
That is, as shown in FIG. 1, the holding tie bars 59a to 60b extend from each corner of the island 53 and are integrated with the lead frame, thereby supporting the island and preventing twisting during molding. ing.
Here, if the twist of the island is not a problem, the holding tie bars 59a and 59b are reduced to one, and
0a and 60b may be one.

【0018】本発明の特徴は、接着性絶縁材料54にあ
る。この絶縁材料54は、粒径の実質均一な絶縁フィラ
ー61が分散され、アイランド53と半導体チップ50
とを平行に配置させるスペーサの働きを持たせている。
つまり粘性のある接着性絶縁材料をアイランド53の上
に塗布し、この上に半導体チップ50を載置して押圧し
ながら絶縁材料を図1のように広げても、フィラー61
が分散されているため、アイランド53と半導体チップ
50は、一定の間隔を保持し、図5のような斜め配置を
防止することができる。
A feature of the present invention resides in the adhesive insulating material 54. The insulating material 54 includes an insulating filler 61 having a substantially uniform particle size dispersed therein, and the island 53 and the semiconductor chip 50.
Are arranged in parallel to each other.
In other words, even if a viscous adhesive insulating material is applied on the island 53 and the insulating material is spread as shown in FIG.
Are dispersed, the island 53 and the semiconductor chip 50 can be maintained at a constant distance, and the oblique arrangement as shown in FIG. 5 can be prevented.

【0019】製法を簡単に説明すると、まずリードフレ
ームの状態でアイランド53の4隅に設けた保持用タイ
バー59a〜60bに段付け加工を施すことにより、ア
イランド53の高さとリード端子先端部57aとの高さ
を異ならしめておき、アイランド53に第1と第2の半
導体チップ10、11を接着性絶縁材料でダイボンド
し、ボンディングパッド52とリード端子の先端部57
aとをワイヤボンドする。
The manufacturing method will be briefly described. First, the holding tie bars 59a to 60b provided at the four corners of the island 53 are stepped in the state of a lead frame, so that the height of the island 53 and the lead terminal tip 57a are reduced. The first and second semiconductor chips 10 and 11 are die-bonded to the island 53 with an adhesive insulating material, and the bonding pad 52 and the tip 57 of the lead terminal are formed.
a is wire-bonded.

【0020】次いでアイランド53部分が上下金型に設
けたキャビティ内に位置するように、リードフレームの
枠体とリード端子57を上下金型で挟み固定し、斯る状
態で樹脂を注入、硬化させることにより得ることができ
る。前記リードフレームは、板厚が150〜200μの
銅系または鉄系の板状素材をエッチング加工又はパンチ
ング加工することによりアイランド53、リード端子5
7等の各パーツを成形したもので、モールド工程後に切
断されるまでは各パーツはリードフレームの枠体に保持
されている。保持された状態でリード端子の先端部57
aと前記枠体とは高さが一致しており、アイランド53
だけが段付け加工されて高さが異なる。その為完成後の
装置ではアイランド53を保持するタイバー59a〜6
0bは樹脂58内部で上方に折り曲げられ、リード14
の高さと一致する位置で再びほぼ水平に延在し、そして
樹脂58表面に切断面が露出して終端する。
Next, the frame of the lead frame and the lead terminal 57 are sandwiched and fixed between the upper and lower molds so that the island 53 is located in the cavity provided in the upper and lower molds, and the resin is injected and cured in such a state. Can be obtained. The lead frame is formed by etching or punching a copper-based or iron-based plate-like material having a thickness of 150 to 200 μ to form an island 53 and a lead terminal 5.
Each part such as 7 is molded, and each part is held by the lead frame until it is cut after the molding step. While being held, the tip 57 of the lead terminal
a and the frame have the same height, and the island 53
Only the steps are stepped and the heights are different. Therefore, in the completed device, the tie bars 59a to 59a-6
0b is bent upward inside the resin 58,
At a position corresponding to the height of the resin 58, and the cut surface is exposed and terminated at the surface of the resin 58.

【0021】各半導体チップ50、51は、組立工程直
前にバックグラインド工程により裏面を研磨して250
〜300μの厚みにしている。リード端子57の板厚は
約130μである。板状材料から同時に形成するのでア
イランド53の板厚も同じ値であり、この値は各パーツ
の機械的強度を保つほぼ限界の値である。本発明では、
アイランド53の高さを限界まで下げ、アイランド53
の裏面を樹脂58の表面に露出させるようにモールドす
る事で樹脂の肉厚に余裕を持たせた。アイランドの裏面
は樹脂58の表面と平坦面を構成し、これはキャビティ
内にリードフレームをセットするときに、アイランド裏
面が下金型のキャビティ表面に当接するように設置し、
樹脂封止する事で得ることができる。アイランド53の
位置を下げたので、アイランド53の板厚と、第1と第
2の半導体チップ50、51の厚み、および接着剤5
4、55の厚み(各々30〜40μは必要である)を差
し引いても、第2の半導体チップ51の上方に240〜
300μの樹脂18の厚みを残すことが可能になった。
この値は、ワイヤボンド工程におけるワイヤ56のルー
プ高さの点をも解決できる値である。
Each of the semiconductor chips 50 and 51 is polished on the back surface by a back grinding process immediately before the assembly process to obtain
The thickness is about 300 μm. The thickness of the lead terminal 57 is about 130 μm. Since the islands 53 are formed simultaneously from the plate-like material, the plate thickness of the island 53 is also the same value, which is almost the limit value for maintaining the mechanical strength of each part. In the present invention,
Lower the height of the island 53 to the limit, and
Is molded so that the back surface of the resin is exposed to the surface of the resin 58, so that the resin has a sufficient thickness. The back surface of the island constitutes a flat surface with the surface of the resin 58, which is installed so that the back surface of the island comes into contact with the surface of the cavity of the lower mold when setting the lead frame in the cavity,
It can be obtained by resin sealing. Since the position of the island 53 has been lowered, the plate thickness of the island 53, the thicknesses of the first and second semiconductor chips 50 and 51, and the adhesive 5
Even if the thicknesses of 4 and 55 (each having a thickness of 30 to 40 μm) are subtracted, 240 to 55
It is possible to leave a thickness of the resin 18 of 300 μm.
This value is a value that can solve the problem of the loop height of the wire 56 in the wire bonding step.

【0022】このように、アイランド53の裏面が樹脂
58の下面に露出するようにその位置を配置したことに
より、樹脂58の肉厚に余裕を持たせることができ、樹
脂の外形寸法を薄型化できるものである。これにより、
1パッケージ内に複数の半導体チップ50、51を積層
しても外形寸法の厚みを押し上げることのない半導体装
置を提供することができる。
As described above, by arranging the position so that the back surface of the island 53 is exposed to the lower surface of the resin 58, a margin can be given to the thickness of the resin 58 and the external dimensions of the resin can be reduced. You can do it. This allows
It is possible to provide a semiconductor device that does not increase the thickness of the external dimensions even when a plurality of semiconductor chips 50 and 51 are stacked in one package.

【0023】従って、リードフレームの変更だけで金型
や試験測定装置などの従来設備をそのまま利用すること
ができ、新たな設備投資が必要ないので製品のコストダ
ウンが可能である。しかも半導体チップ50、51の厚
みを必要以上に薄くせずに済み、シリコンウェハの機械
的強度を保てるので、バックグラインド工程以降のウェ
ハの取り扱い性にも優れる。
Therefore, the conventional equipment such as a mold and a test and measurement device can be used as it is only by changing the lead frame, and new equipment investment is not required, so that the cost of the product can be reduced. In addition, since the thickness of the semiconductor chips 50 and 51 does not need to be reduced more than necessary, and the mechanical strength of the silicon wafer can be maintained, the handleability of the wafer after the back grinding process is excellent.

【0024】続いて、第2の実施の形態について図2を
参照しながら簡単に説明する。殆どが同じ構成であるの
で、異なる部分のみを説明する。第1の部分は、アイラ
ンド53である。半導体チップ50の側辺と平行な主た
る側辺SDと保持用タイバー59a〜60bの交差部近
傍に幅広部HBを設け、ここに接着性絶縁材料54が塗
布できるようにしたものである。アイランドや保持用タ
ーバーの幅広部も含めてその上にディスペンサーで前記
絶縁材料54が塗布でき、この上に半導体チップ50を
載せて押圧すれば、幅広部HBからタイバーの上にも絶
縁材料が延在される。従って保持用タイバーと半導体チ
ップの間には絶縁材料が配置されるため、前記斜め配置
を抑制する。また斜め配置にされても、保持用タイバー
に絶縁材料が被着されているので、アイランドと半導体
チップの耐圧が向上する。
Next, a second embodiment will be briefly described with reference to FIG. Since most of them have the same configuration, only different portions will be described. The first part is an island 53. A wide portion HB is provided near the intersection of the main side SD parallel to the side of the semiconductor chip 50 and the holding tie bars 59a to 60b, so that the adhesive insulating material 54 can be applied thereto. The insulating material 54 can be applied to the island and the wide portion of the holding bar by using a dispenser, and if the semiconductor chip 50 is placed on this and pressed, the insulating material extends from the wide portion HB onto the tie bar. Be present. Therefore, since the insulating material is disposed between the holding tie bar and the semiconductor chip, the oblique arrangement is suppressed. Further, even if the holding tie bar is disposed obliquely, since the insulating material is applied to the holding tie bar, the withstand voltage between the island and the semiconductor chip is improved.

【0025】また第1の実施の形態と同様に、実質粒径
の均一なフィラーを分散させれば、更に絶縁性は向上す
る。
Further, as in the first embodiment, if a filler having a substantially uniform particle size is dispersed, the insulating property is further improved.

【0026】[0026]

【発明の効果】以上に説明した通り、本発明によれば、
1つのパッケージ内に複数の半導体チップを積層する事
により、電子機器の軽薄短小化の要求に沿った高密度実
装の製品を提供できる利点を有する。更に、アイランド
と半導体チップとの間に接着性絶縁材料を設け、中に実
質同一粒径の絶縁フィラーを分散させることで、アイラ
ンドと半導体チップが平行に配置でき、従来のような斜
め配置による耐圧低下を抑制することができる。
As described above, according to the present invention,
By laminating a plurality of semiconductor chips in one package, there is an advantage that a high-density packaged product can be provided in accordance with a demand for reduction in the size and weight of electronic devices. Furthermore, by providing an adhesive insulating material between the island and the semiconductor chip and dispersing an insulating filler having substantially the same particle size therein, the island and the semiconductor chip can be arranged in parallel, and the withstand voltage due to the oblique arrangement as in the related art can be achieved. The decrease can be suppressed.

【0027】幅広部から延在される前記保持用タイバー
と前記半導体チップの間にも、幅広部から流れ出る接着
性絶縁材料を設けることで、耐圧を向上させることがで
きる。保持用タイバーを、アイランドの4コーナーから
延在させることで、アイランドを水平に強固に保持する
ことができ、アイランドと半導体チップを更に平行に配
置することができる。
The pressure resistance can be improved by providing an adhesive insulating material flowing out of the wide portion also between the holding tie bar extending from the wide portion and the semiconductor chip. By extending the holding tie bars from the four corners of the island, the island can be firmly held horizontally, and the island and the semiconductor chip can be further arranged in parallel.

【0028】幅広部を接着性絶縁材料が塗布できる幅に
することで、ディスペンサー等の機器でタイバーのそば
に樹脂を配置でき、チップの押圧による流れでタイバー
上にも絶縁材料を載せることができる。
By setting the wide portion to a width that allows the adhesive insulating material to be applied, the resin can be placed near the tie bar by a device such as a dispenser, and the insulating material can be placed on the tie bar by the flow of the chip pressing. .

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明を説明するための半導体装置の平面図で
ある。
FIG. 1 is a plan view of a semiconductor device for describing the present invention.

【図2】本発明を説明するための半導体装置の平面図で
ある。
FIG. 2 is a plan view of a semiconductor device for describing the present invention.

【図3】従来例を説明するための断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view for explaining a conventional example.

【図4】従来例を説明するための平面図である。FIG. 4 is a plan view for explaining a conventional example.

【図5】従来例を説明するための断面図である。FIG. 5 is a sectional view for explaining a conventional example.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 アイランドの相対向する一方の側辺対か
ら外に延在された保持用タイバーと、 前記アイランドサイズよりも大きいサイズで、前記保持
用タイバーの一部にまで載置される半導体チップと、 少なくとも相対向する他方の側辺対に位置する前記半導
体チップの近傍まで延在されるリード端子と、 前記リード端子と前記半導体チップとを電気的に接続す
る接続手段と、 前記半導体チップの周囲まで封止する樹脂とを備え、 前記アイランドと前記半導体チップとの間には、接着性
絶縁材料が設けられ、中に実質同一粒径の絶縁フィラー
が分散されている事を特徴とした半導体装置。
1. A holding tie bar extending outward from one of a pair of opposite sides of an island, and a semiconductor having a size larger than the island size and mounted on a part of the holding tie bar. A chip, a lead terminal extending to at least the vicinity of the semiconductor chip located on the other side pair facing each other, a connecting means for electrically connecting the lead terminal and the semiconductor chip, and the semiconductor chip And a resin for sealing up to the periphery of the semiconductor chip, wherein an adhesive insulating material is provided between the island and the semiconductor chip, and an insulating filler having substantially the same particle size is dispersed therein. Semiconductor device.
【請求項2】 アイランドの相対向する一方の側辺対か
ら外に延在された保持用タイバーと、 前記アイランドサイズよりも大きいサイズで、前記保持
用タイバーの一部にまで載置される半導体チップと、 少なくとも相対向する他方の側辺対に位置する前記半導
体チップの近傍まで延在されるリード端子と、 前記リード端子と前記半導体チップとを電気的に接続す
る接続手段と、 前記半導体チップの周囲まで封止する樹脂とを備え、 前記保持用タイバーは、前記半導体チップ側辺と平行な
前記一方の側辺から幅広部が設けられて延在され、前記
幅広部を含むアイランドと前記半導体チップとの間に
は、接着性絶縁材料が設けられ、前記幅広部から延在さ
れる前記保持用タイバーと前記半導体チップの間にも前
記接着性絶縁材料が設けられる事を特徴とした半導体装
置。
2. A holding tie bar extending outward from one of a pair of opposite sides of an island, and a semiconductor having a size larger than the island size and mounted on a part of the holding tie bar. A chip, a lead terminal extending to at least the vicinity of the semiconductor chip located on the other side pair facing each other, a connecting means for electrically connecting the lead terminal and the semiconductor chip, and the semiconductor chip The holding tie bar extends from the one side parallel to the side of the semiconductor chip with a wide portion provided, and the island including the wide portion and the semiconductor An adhesive insulating material is provided between the chip and the semiconductor chip, and the adhesive insulating material is also provided between the holding tie bar extending from the wide portion and the semiconductor chip. Semiconductor device with the features.
【請求項3】 前記保持用タイバーは、アイランドの4
コーナーから延在される請求項1または2記載の半導体
装置。
3. The holding tie bar is provided on an island 4
The semiconductor device according to claim 1, wherein the semiconductor device extends from the corner.
【請求項4】 前記幅広部は、前記接着性絶縁材料が塗
布できる幅を有した請求項2または請求項3記載の半導
体装置。
4. The semiconductor device according to claim 2, wherein the wide portion has a width to which the adhesive insulating material can be applied.
【請求項5】 前記半導体チップの上には、別の半導体
チップが載置される請求項1、請求項2、請求項3また
は請求項4記載の半導体装置。
5. The semiconductor device according to claim 1, wherein another semiconductor chip is mounted on said semiconductor chip.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2011077277A (en) * 2009-09-30 2011-04-14 Sanyo Electric Co Ltd Semiconductor device
JP2012253390A (en) * 2012-09-24 2012-12-20 Renesas Electronics Corp Manufacturing method of semiconductor device

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